WO2009098941A1 - 反射防止フィルム - Google Patents

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WO2009098941A1
WO2009098941A1 PCT/JP2009/050888 JP2009050888W WO2009098941A1 WO 2009098941 A1 WO2009098941 A1 WO 2009098941A1 JP 2009050888 W JP2009050888 W JP 2009050888W WO 2009098941 A1 WO2009098941 A1 WO 2009098941A1
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refractive index
index layer
transparent film
film
antireflection film
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PCT/JP2009/050888
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Inventor
Hiroshi Yakabe
Hiromu Mashima
Kengo Sugisaki
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Zeon Corporation
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    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11—Anti-reflection coatings
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    • G02F2201/00—Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00
    • G02F2201/38—Anti-reflection arrangements

Definitions

  • the present invention relates to an antireflection film. More specifically, the present invention relates to an antireflection film in which color unevenness is suppressed without causing a decrease in contrast and sharpness of a display device.
  • Patent Document 1 Japanese Patent Laid-Open No. 2001-080013
  • Japanese Patent Laid-Open No. 2001-080013 Japanese Patent Laid-Open No. 2001-080013
  • a method is disclosed. According to this method, it is described that a laminate having no interference fringes and having a haze of 1% or less can be obtained.
  • Patent Document 2 Japanese Patent Laid-Open No. 2004-069867
  • a hard coat layer and an antireflection layer are provided on a transparent substrate film having an uneven surface, and the refractive index of the hard coat layer is determined from the refractive index of the antireflection layer.
  • An antireflection film having a high haze and a small haze is disclosed, and here, it is described that the surface roughness of the unevenness is in the range of 0.05 to 0.15 ⁇ m. And it is described that this antireflection film can suppress interference unevenness (color unevenness) and surface glare of the display device.
  • Patent Document 3 Japanese Patent Laid-Open No. 2005-107005, corresponding foreign publication US2005094273 (A1) discloses an optical film in which the contact interface between the first transparent layer and the second transparent layer is a light scattering interface. Here, it is described that the contact interface has a 10-point average roughness of 0.4 ⁇ m or more. And this optical film says that generation
  • Patent Document 1 when the laminate described in Patent Document 1 is applied to a display device, interference unevenness is eliminated by controlling the roughness of the boundary surface, but the average roughness is as large as 0.5 ⁇ m or more, so that the display image The sharpness deteriorates and is not suitable for high-definition display applications.
  • an object of the present invention is to provide an antireflection film that is excellent in productivity, suppresses uneven interference, and does not impair contrast and sharpness when applied to a display device.
  • the present inventor has controlled the average height of the unevenness in addition to the average height / depth of the unevenness among the indices related to the surface shape.
  • the present invention includes the following.
  • An antireflection film comprising a low refractive index layer having a lower refractive index in this order, wherein the irregularities are formed by deforming a transparent substrate, and satisfy the following [1] to [2] .
  • Ra and Sm are the arithmetic average roughness and the average interval of irregularities measured based on JIS B0601: 1994, respectively.
  • Ra and Sm are the arithmetic average roughness and the average interval of irregularities measured based on JIS B0601: 1994, respectively.
  • the high refractive index layer is 1.60 or more and 1.70 or less, an arithmetic mean roughness Ra h of the farther from the transparent film surface of the high refractive index layer is 0.1 ⁇ m or less
  • the minimum value of reflectance measured on the surface on which the low refractive index layer measured at an incident angle of 5 ° at a wavelength of 430 to 700 nm is 1.5% or less is (1) to (6)
  • an antireflection film which is excellent in productivity, suppresses uneven interference, and does not impair contrast and sharpness when applied to a display device.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view showing an antireflection laminate according to the present invention.
  • FIG. 2 is a graph in which (Ra, Sm) of Examples 11 to 27 are plotted on the coordinate axes.
  • FIG. 1 is a configuration diagram of an antireflection film according to the present invention.
  • 5 indicates an antireflection film
  • 1 is a transparent film
  • 2 is a high refractive index layer
  • 3 is a low refractive index layer
  • 4 is uneven.
  • the antireflection film of the present invention comprises a high refractive index layer having a refractive index higher than the refractive index of the transparent substrate on the one surface of the transparent film formed by forming irregularities on one surface of the transparent substrate.
  • Ra and Sm are the arithmetic average roughness and the average interval of irregularities measured based on JIS B0601: 1994, respectively.
  • Ra / Sm of the surface having irregularities of the transparent film When Ra / Sm of the surface having irregularities of the transparent film is not less than the above value, the sharpness of the display image tends to be lowered when the antireflection film is applied to the display device.
  • Ra / Sm of the surface having irregularities of the transparent film is not more than the above value, interference unevenness occurs when a high refractive index layer and a low refractive index layer described later are formed, and the visibility of the display device tends to decrease. There is.
  • the antireflection film of the present invention when the unevenness is formed by deforming a transparent substrate, and Ra and Sm of the unevenness are expressed as (Ra, Sm) on the XY coordinate axis. (Ra and Sm) existing in a region surrounded by three points (0.04, 12), (0.14, 63), and (0.165, 52.5) on the XY coordinate axis. Are the arithmetic average roughness and the average spacing of the irregularities measured in accordance with JIS B0601: 1994, respectively.)
  • the antireflection film is applied to a display device, the brightness and sharpness of the display image are reduced. It can be set as a high antireflection film.
  • the region surrounded by the three points includes a line connecting the three points. That is, Ra and Sm preferably satisfy all of the following formulas (E1) to (E3): Sm ⁇ 324Ra-0.96 (E1) Sm ⁇ 510Ra-8.4 (E2) Sm ⁇ ⁇ 420Ra + 121.8 (E3)
  • Ra of the surface having irregularities of the transparent film is preferably 0.05 ⁇ m or more and 0.2 ⁇ m or less, and Ra / Sm of the surface having irregularities of the transparent film is preferably 0.0012 or more and 0.0045 or less.
  • the method for obtaining the transparent film having the concavo-convex surface is not particularly limited as long as the concavo-convex that satisfies the above conditions can be obtained by deforming the surface of the transparent substrate.
  • a shaping roll having concavo-convex is used.
  • the nip molding method that presses the transparent substrate immediately after extrusion obtained in the melt extrusion molding method to transfer the unevenness, or the transparent substrate is pressed with the release film having the unevenness to form the unevenness of the release film. Examples thereof include a method of peeling the release film after the transfer, and a method of cutting the surface of the transparent substrate by spraying fine particles on the surface of the transparent substrate.
  • a transparent film having uneven transfer unevenness can be obtained in a wide width
  • a nip forming method using a forming roll having unevenness is preferable, and a transparent substrate is formed using a mirror roll and an forming roll having unevenness. It is preferable to pinch.
  • the surface material of each roll include metal, rubber, and resin. Although these are suitably selected so that the target uneven
  • the mirror roll and the shaping roll having irregularities are each capable of adjusting the temperature independently.
  • the temperature of the mirror roll is preferably 40 ° C. or higher and 160 ° C. or lower, and the temperature of the shaping roll having irregularities is preferably 60 ° C. or higher and 200 ° C. or lower.
  • the temperature of the mirror roll is more preferably 60 ° C. or higher and 130 ° C. or lower, and the temperature of the shaping roll having irregularities is more preferably 80 ° C. or higher and 180 ° C. or lower.
  • the transparent film Ra represents the temperature of the transparent substrate and each roll at the time of clamping, the roll speed, the pressure at which the transparent substrate is clamped, and the material of the surface of each roll, which will be described later.
  • the mirror roll and the shaping roll can be adjusted according to the characteristics of the glass transition temperature (Tg-60) to (Tg + 20) with respect to the glass transition temperature (Tg) of the transparent resin described later. ) C. is preferable.
  • a preferable pressure is 5 to 13 kN / m. If the pressure applied to the film exceeds the above value, the film may break. If the pressure applied to the film is not more than the above value, uneven transfer unevenness tends to occur in the width direction of the film.
  • the preferred temperature of the mirror roll and the shaping roll is 60 to 130 ° C. When the temperature of the mirror surface roll or the shaping roll is higher than this, the film may be wound around the roll. If the temperature of the mirror surface roll or the shaping roll is lower than this, uneven transfer unevenness tends to occur in the film surface.
  • the roll speed is preferably 60 m / min or less, and more preferably 20 m / min or less. When the roll speed is higher than this, uneven transfer unevenness tends to occur in the film plane.
  • the minimum of a roll speed is not specifically limited, For example, it can be 5 m / min or more.
  • the Sm of the transparent film can be adjusted by replacing the shaping roll with a shaping roll having a predetermined uneven period.
  • the unevenness may be on both sides of the transparent substrate.
  • Ra and Sm on both sides may be the same or different. From the viewpoint of sharpness, it is preferable that the unevenness is formed only on one surface.
  • the transparent substrate that can be used to obtain the transparent film of the present invention has a thickness of 1 mm and a total light transmittance of 80% or more.
  • the material constituting the transparent substrate include transparent resins.
  • the transparent resin that can be used in the present invention has a thickness of 1 mm and a total light transmittance of 80% or more.
  • resin having alicyclic structure polyester resin, cellulose resin, polycarbonate resin, polysulfone resin, polyethersulfone resin, polystyrene resin, polyolefin resin, polyvinyl alcohol resin, polyvinyl chloride resin, polymethyl methacrylate resin, etc. It is done.
  • the transparent substrate used in the present invention may contain other compounding agents in addition to the transparent resin.
  • the compounding agent is not particularly limited, but inorganic fine particles; antioxidants, heat stabilizers, light stabilizers, weathering stabilizers, UV absorbers, near infrared absorbers and other stabilizers; resins such as lubricants and plasticizers Modifiers; coloring agents such as dyes and pigments; antistatic agents and the like.
  • These compounding agents can be used singly or in combination of two or more, and the compounding amount is appropriately selected within a range not impairing the object of the present invention, and usually 0 to 100 parts by weight of the transparent resin. 5 parts by weight, preferably 0 to 3 parts by weight.
  • the transparent substrate may be a single layer or a laminate composed of a plurality of layers.
  • the total thickness of each layer constituting the transparent substrate is preferably 20 to 300 ⁇ m.
  • the surface of the transparent film having irregularities can be subjected to surface modification treatment.
  • the surface modification treatment include energy beam irradiation treatment and chemical treatment.
  • the energy ray irradiation treatment include corona discharge treatment, plasma treatment, electron beam irradiation treatment, ultraviolet ray irradiation treatment, and the like. From the viewpoint of treatment efficiency, corona discharge treatment and plasma treatment are preferable.
  • the chemical treatment include a method of immersing in an aqueous solution of an oxidizing agent such as potassium dichromate solution or concentrated sulfuric acid and then thoroughly washing with water. It is effective to shake in the immersed state, but there is a problem that the surface will dissolve or the transparency will be lowered if treated for a long time. Depending on the reactivity and concentration of the chemical used, the treatment time etc. It needs to be adjusted.
  • the haze of the transparent film is preferably 40 to 5%, more preferably 30 to 5%, and even more preferably 25 to 10%.
  • the haze of the transparent film is more than this, the transparency when the antireflection film is obtained is lowered, and when it is less than this, interference unevenness tends to occur when the antireflection film is used.
  • the antireflective film in the present invention has a high refractive index layer higher than the refractive index of the layer in which the unevenness of the transparent film is formed on the surface on which the unevenness of the transparent film is formed, and the refractive index of the high refractive index layer. It is obtained by forming a low refractive index layer in this order.
  • a high refractive index layer is a layer which has a refractive index higher than the refractive index of the layer in which the unevenness
  • the refractive index of the high refractive index layer is preferably 1.60 to 1.70.
  • the refractive index is adjusted, for example, by forming the high refractive index layer using a material containing metal oxide fine particles.
  • metal oxide fine particles examples include titanium oxide, zirconium oxide, zinc oxide, cerium oxide, antimony oxide, tin oxide, indium oxide, and tungsten oxide. These metal oxide fine particles can be used singly or in combination of two or more.
  • the refractive index can be obtained by measuring using, for example, a known spectroscopic ellipsometer.
  • the high refractive index layer is not less than “2H” in the pencil hardness test shown in JIS K5600-5-4 (the test is performed with the test sample placed on a glass plate.
  • the load is 500 g). It is preferable to show hardness.
  • the high refractive index layer can also serve as a hard coat layer. In this case, it is not necessary to provide a hard coat layer separately, and as a result, the thickness of the entire antireflection film Can be made thinner.
  • the average thickness of the high refractive index layer is usually 0.3 to 20 ⁇ m, preferably 0.8 to 10 ⁇ m, more preferably 1.0 to 4 ⁇ m, and still more preferably 1.0 to 3 ⁇ m. .
  • an inorganic material, a synthetic resin, or a mixture thereof can be used, but a resin material is preferable from the viewpoint of excellent productivity.
  • a resin material is preferable from the viewpoint of excellent productivity.
  • the synthetic resin what has sufficient intensity
  • the synthetic resin include a thermosetting resin, a thermoplastic resin, and an ionizing radiation curable resin, and a thermosetting resin or an ionizing radiation curable resin is preferable from the viewpoint of the strength and workability of the film.
  • Thermosetting resins include phenolic resin, urea resin, diallyl phthalate resin, melamine resin, guanamine resin, unsaturated polyester resin, polyurethane resin, epoxy resin, aminoalkyd resin, melamine-urea co-condensation resin, silicone resin, polysiloxane Resin. Moreover, you may add a solvent, a catalyst, the microparticles
  • the ionizing radiation curable resin is a resin in which a prepolymer, oligomer or monomer having a polymerizable unsaturated bond or epoxy group in the molecule is cured by irradiation with ionizing radiation.
  • Ionizing radiation refers to electromagnetic waves or charged particle beams having energy quanta that can polymerize or crosslink molecules, and usually use ultraviolet rays.
  • Examples of the ultraviolet curable resin include a photopolymerizable prepolymer or a photopolymerizable monomer and a photopolymerization initiator or a photosensitizer, and examples of the electron beam curable resin include a photopolymerizable prepolymer or a photopolymer. The thing containing a polymerizable monomer is mentioned.
  • Examples of the photopolymerizable prepolymer include polyester acrylate, epoxy acrylate, urethane acrylate, and polyol acrylate. These photopolymerizable prepolymers may be used alone or in combination of two or more.
  • Examples of the photopolymerizable monomer include polymethylolpropane triacrylate, polymethylolpropane trimethacrylate, hexanediol acrylate, hexanediol methacrylate, tripropylene glycol diacrylate, tripropylene glycol dimethacrylate, diethylene glycol diacrylate, diethylene glycol dimethacrylate, Pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, 1,6-hexanedi
  • urethane acrylate as the prepolymer and dipentaerythritol hexaacrylate or dipentaerythritol hexamethacrylate as the monomer.
  • photopolymerization initiator examples include acetophenones, benzophenones, ⁇ -amyloxime esters, tetramethylchuram monosulfide, thioxanthones, and the like.
  • photosensitizer n-butylamine, triethylamine, poly-n-butylphosphine and the like can be used alone or in combination.
  • the high refractive index layer preferably contains conductive fine particles.
  • conductive fine particles By including conductive fine particles in the high refractive index layer, not only a function as a high refractive index layer but also a function as an antistatic layer can be imparted.
  • the conductive fine particles are not particularly limited as long as they are conductive fine particles, but metal oxide fine particles are preferable because of excellent transparency.
  • Examples of the metal oxide constituting the conductive metal oxide fine particles include antimony pentoxide, tin oxide, tin oxide doped with phosphorus (PTO), tin oxide doped with antimony (ATO), and tin doped. Indium oxide (ITO), zinc doped indium oxide (IZO), aluminum doped zinc oxide (AZO), fluorine doped tin oxide (FTO), zinc oxide / aluminum oxide, zinc antimonate Etc. These metal oxide fine particles can be used singly or in combination of two or more. Among these, at least one selected from antimony pentoxide fine particles and tin oxide fine particles doped with phosphorus is preferable because of excellent transparency.
  • fine particles imparted with conductivity by coating conductive metal oxide on fine metal oxide particles having no conductivity can also be used as the conductive metal oxide fine particles.
  • the surface of fine particles of titanium oxide, zirconium oxide, cerium oxide or the like having a high refractive index but no conductivity can be used by coating the conductive metal oxide to impart conductivity.
  • the metal oxide particle which does not have electroconductivity, and electroconductive metal oxide fine particle can also be used together.
  • the number average particle diameter of the conductive fine particles is preferably 200 nm or less, more preferably 50 to 15 nm.
  • the number average particle size is determined by visual observation from a secondary electron emission image photograph obtained by a transmission electron microscope (TEM) or image processing of the image photograph, or a dynamic light scattering method, a static light scattering method, or the like. Can be measured with a particle size distribution meter using TEM or TEM.
  • the content of the conductive fine particles in the high refractive index layer is preferably 30% by volume or more, and more preferably 40 to 60% by volume.
  • the high refractive index layer is a surface on which the unevenness of the transparent film is formed by diluting a composition for forming a high refractive index layer containing the material for forming the high refractive index layer with a solvent as necessary. Directly or transparent film is applied on the other surface formed on the uneven surface, and the obtained coating film is formed by heating and / or irradiating with ionizing radiation as necessary. Can do.
  • a known method such as a spin coating method, a dip method, a spray method, a bar coating method, or a gravure method can be used.
  • the solid concentration in the composition for forming a high refractive index layer can be appropriately adjusted within a range not impairing the solution stability. Usually, it is preferably about 10 to 80% by weight, preferably about 20 to 50% by weight. When the solid content concentration is less than this, convection of the coating solution occurs, and the surface unevenness after the formation of the high refractive index layer increases.
  • a leveling agent or a dispersant may be contained for the purpose of improving the uniformity of the layer thickness or improving the adhesion.
  • the leveling agent include surfactants and compounds that lower the surface tension such as silicone oil, fluorinated polyolefin, and polyacrylate, and examples of the dispersant include silane coupling agents.
  • silicone oil examples include unmodified dimethyl silicone oil and modified silicone oil.
  • modified silicone oil examples include long-chain alkyl-modified dimethyl silicone oil, fluorine-modified dimethyl silicone oil, methacryl-modified dimethyl silicone oil, carbinol-modified dimethyl silicone oil, and methylstyryl-modified dimethyl silicone oil.
  • the surfactant examples include a fluorine-based surfactant and a silicone-based surfactant.
  • Fluorosurfactants include non-ionic perfluoroalkylsulfonic acid amide group-containing nonions such as Fluorard FC-431 manufactured by 3M, MegaFac F-171, F-172, F-173, F Perfluoroalkyl group-containing oligomers such as -176PF, F-470, and F-471.
  • the silicone surfactant include polydimethylsiloxane in which the side chain or the end of the main chain is modified with various substituents such as oligomers such as ethylene glycol and propylene glycol.
  • the content of the surfactant contained in the composition for forming a high refractive index layer is preferably 0.1 to 2.5% by weight, more preferably 0, based on the solid content of the composition for forming a high refractive index layer. .5 to 2.0% by weight.
  • the relationship between the arithmetic average roughness (Ra h ) of the interface on the side far from the transparent film of the high refractive index layer and Ra is Ra h ⁇ Ra.
  • the Ra h is 0.1 ⁇ m or less, and more preferably less 0.07 .mu.m.
  • the surface of the composition for forming a high refractive index layer is used.
  • a method for reducing the tension is mentioned.
  • a method for reducing the surface tension of the composition for forming a high refractive index layer a method for adding a leveling agent described later to the composition for forming a high refractive index layer, or the solid content concentration of the composition for forming a high refractive index layer is used. The method of making it small is mentioned.
  • the surface of the high refractive index layer can be surface treated.
  • Examples of the surface treatment include the same methods as the surface treatment method for the transparent film described above.
  • the contact angle between the surface of the high refractive index layer after formation of the high refractive index layer and water is preferably higher than the contact angle between the surface of the transparent film and water.
  • the antireflection film of the present invention has a low refractive index layer on the high refractive index layer.
  • the low refractive index layer is a layer having a lower refractive index than the above-described high refractive index layer.
  • the refractive index of the low refractive index layer is preferably less than 1.4.
  • the refractive index of the low refractive index layer can be adjusted, for example, by dispersing holes in the low refractive index layer.
  • a method of dispersing pores in the low refractive index layer a method of dispersing fine particles having a hollow structure in which cavities are formed inside an outer shell, which will be described later, or a foamable substance for the low refractive index layer is used.
  • the method of forming using the material containing is mentioned.
  • the refractive index of the low refractive index layer having pores is preferably 1.25 to 1.39, more preferably 1.30 to 1.38.
  • the average thickness of the low refractive index layer is usually 10 to 1000 nm, preferably 20 to 500 nm.
  • the material for forming the low refractive index layer is preferably a material containing a resin that is cured by irradiation with heat or ionizing radiation.
  • Thermosetting resin As a resin that is cured by heat, a general formula, R 1n Si (OR 2 ) m (wherein R 1 is a monovalent hydrocarbon group that may have a substituent, OR 2 is a hydrolyzable group). N, m represents an integer, m is 1 to 4, and m + n is 4.) A silicon compound obtained by hydrolyzing all or part of the silicon compound can be used. .
  • Examples of the monovalent hydrocarbon group R that may have a substituent include an alkyl group, a phenyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, a haloalkyl group; an alkenylcarbonyloxyalkyl group; an alkyl group having an epoxy group, and a mercapto group. And an alkyl group having an amino group, a perfluoroalkyl group, and the like. Among these, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a phenyl group, and a perfluoroalkyl group are preferable because of easy synthesis.
  • R 1 , R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group.
  • an alkoxyl group is preferable because a strong cured product can be obtained.
  • nSi (OR 2 ) m a silicon compound in which n is an integer of 0 to 2 is preferable.
  • Specific examples thereof include alkoxysilanes, acetoxysilanes, oxime silanes, enoxysilanes, aminosilanes, aminoxysilanes, amidosilanes and the like. Among these, alkoxysilanes are more preferable from the viewpoint of obtaining a strong cured product.
  • Examples of the tetraalkoxysilane in which n is 0 include tetramethoxysilane and tetraethoxysilane.
  • Examples of the organotrialkoxysilane in which n is 1 include methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, and methyltriisopropoxysilane.
  • Examples of the diorganodialkoxysilane in which n is 2 include dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, diphenyldiethoxysilane, and methylphenyldimethoxysilane.
  • the silicon compound preferably contains fluorine.
  • fluorine-containing silicon compound include fluorine-containing alkoxysilanes.
  • trifluoropropyltrimethoxysilane, trifluoropropyltriethoxysilane, tridecafluorooctyltrimethoxysilane, tridecafluorooctyltriethoxysilane, heptadecafluorodecyltrimethoxysilane, heptadecafluorodecyltriethoxy Examples include silane. Of these, compounds in which n is 2 to 6 are preferred.
  • the silicon compounds may be used alone or in combination of two or more. Also, the order of mixing and hydrolysis of two or more silicon compounds may be sequential or simultaneous.
  • a monomer or prepolymer having an acryloyl group or a methacryloyl group can be preferably used.
  • Monomers include monofunctional acrylates or monofunctional methacrylates such as glycidyl acrylate and glycidyl methacrylate; polyfunctional acrylates such as pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, and dipentaerythritol hexaacrylate; A polyfunctional methacrylate is mentioned.
  • the prepolymer include polyester acrylate, polyurethane acrylate, epoxy acrylate, polyol acrylate and the like.
  • a filler may be added to the low refractive index layer.
  • the filler is not particularly limited as long as it is fine particles of an inorganic compound.
  • an inorganic oxide is common. Examples of the inorganic oxide include SiO 2 , Al 2 O 3 , B 2 O 3 , TiO 2 , ZrO 2 , SnO 2 , CeO 2 , P 2 O 5 , Sb 2 O 3 , MoO 3 , ZnO 2 and WO 3. 1 type or 2 types or more can be mentioned.
  • the fine particles preferably have a hollow structure in which cavities are formed in the outer shell, and silica-based hollow fine particles are particularly preferable as such a particle.
  • silica-based hollow fine particles are particularly preferable as such a particle.
  • (A) a single layer composed of a single inorganic oxide, (B) a single layer composed of a composite oxide composed of different kinds of inorganic oxides, (C) (A) and (B) above Those containing double layers can be utilized.
  • the average particle diameter of the hollow fine particles is not particularly limited, but is preferably 5 to 2000 nm, and more preferably 20 to 100 nm. If it is smaller than 5 nm, the effect of lowering the refractive index due to hollowness is reduced. When it is larger than 2000 nm, the transparency is lowered and scattering due to diffuse reflection is increased.
  • the average particle diameter is a number average particle diameter by observation with a transmission electron microscope.
  • the blending amount of the hollow fine particles is not particularly limited, but is preferably 10 to 30% by weight with respect to the entire low refractive index layer. Within this range, both low refractive index properties and scratch resistance can be obtained.
  • the composition for forming a low refractive index layer may contain other components.
  • other components include photopolymerization initiators; leveling agents such as surfactants, dispersants such as silane coupling agents, and thickeners.
  • leveling agent and dispersant include the same leveling agent and dispersant as those used in the above-described composition for forming a high refractive index layer.
  • the composition for forming a low refractive index layer preferably contains a surfactant.
  • the content of the surfactant contained in the composition for forming a low refractive index layer is preferably 0.1 to 2.5% by weight, more preferably 0, based on the solid content of the composition for forming a low refractive index layer. .5 to 2.0% by weight.
  • the surfactant include the same surfactant as that used in the above-described composition for forming a high refractive index layer.
  • photopolymerization initiator examples include known photopolymerization initiators. Specifically, aryl ketone photopolymerization initiators (for example, acetophenones, benzophenones, alkylaminobenzophenones, benzyls, benzoins, benzoin ethers) , Benzyldimethyl ketals, benzoylbenzoates, ⁇ -acyloxime esters, etc.); sulfur-containing photopolymerization initiators (eg, sulfides, thioxanthones, etc.); acylphosphine oxide photopolymerization initiators; other light There is a polymerization initiator.
  • aryl ketone photopolymerization initiators for example, acetophenones, benzophenones, alkylaminobenzophenones, benzyls, benzoins, benzoin ethers
  • sulfur-containing photopolymerization initiators eg, sulfides,
  • the photopolymerization initiator can also be used in combination with a photosensitizer such as amines.
  • the content of the photopolymerization initiator is 0.01 to 20 parts by weight, preferably 0.1 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the ionizing radiation curable resin.
  • the low refractive index layer was prepared by adjusting a composition for forming a low refractive index layer obtained by diluting the material constituting the low refractive index layer with a solvent as necessary, and applying the composition on the high refractive index layer. Thereafter, a cured film having a low refractive index layer can be formed by drying and curing.
  • the coating method is not particularly limited, and includes usual methods such as a doctor blade method, a gravure roll coater method, a dipping method, a spin coating method, a brush coating method, a flexographic printing method, and the like.
  • Solvents that can be used to prepare the composition for forming a low refractive index layer include alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol, n-butanol, and isobutanol; ethylene glycol, ethylene glycol monobutyl ether, and ethylene glycol monoethyl ether acetate.
  • Glycols such as toluene; aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; aliphatic hydrocarbons such as n-hexane and n-heptane; esters such as ethyl acetate and butyl acetate; ketones such as methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone; And a combination of two or more of these;
  • the relative evaporation rate when the evaporation rate of n-butyl acetate measured according to ASTM D3539-87 is 1. It is preferable to use a solvent that is 3 or less, and it is more preferable to use a solvent that is 2 or less.
  • examples of such an organic solvent include isopropyl alcohol and methyl isobutyl ketone.
  • the solid concentration in the composition for forming a low refractive index layer can be appropriately adjusted within a range not impairing the solution stability. Since it is preferable to form the low refractive index layer with good thickness accuracy, it is usually preferable to adjust the amount to about 0.1 to 20% by weight, preferably about 0.5 to 10% by weight for ease of handling.
  • Curing can be performed by heating and / or irradiating with ionizing radiation according to the composition for forming a low refractive index layer.
  • the curing conditions can be appropriately determined depending on the boiling point of the solvent used, the saturated vapor pressure, the type of the transparent substrate, etc., but in order to suppress coloring and decomposition of the transparent substrate, the heating is usually performed at 160 ° C. or lower (temperature The lower limit is not particularly limited, but it can be set to room temperature or higher because curing is not promoted at a very low temperature.)
  • UV irradiation it is usually preferably 600 mJ / cm 2 or less (the upper limit of the irradiation dose). Although not particularly limited, it can be 100 mJ / cm 2 or more).
  • the relationship between the low-refractive index layer transparent film from the arithmetic average roughness on the far side of the surface of the (Ra l) and Ra h are preferably the Ra l ⁇ Ra h. Further, Ra l is preferably at most 0.06 .mu.m, more preferably at most 0.04 .mu.m. When ra l is a more, scattering external light due to surface irregularities is large, clearness of the display image tends to decrease.
  • the ra l as a method of the above range, other using a solvent having the evaporation rate of the aforementioned range, and a method of reducing the surface tension of the low refractive index layer-forming composition.
  • Examples of a method for reducing the surface tension of the composition for forming a low refractive index layer include a method for adding the aforementioned surfactant to the composition for forming a low refractive index layer, and a solid content concentration of the composition for forming a low refractive index layer. The method of making small is mentioned.
  • the contact angle with water on the surface of the low refractive index layer is preferably higher than the contact angle with water on the surface of the high refractive index layer.
  • an antifouling layer may be provided on the low refractive index layer.
  • the antifouling layer is provided for protecting the low refractive index layer and enhancing the antifouling performance.
  • the material for forming the antifouling layer is not particularly limited as long as the function of the low refractive index layer is not inhibited and the required performance as the antifouling layer is satisfied.
  • a compound having a hydrophobic group can be preferably used.
  • a perfluoroalkylsilane compound, a perfluoropolyethersilane compound, or a fluorine-containing silicone compound can be used.
  • the antifouling layer for example, a physical vapor deposition method such as vapor deposition or sputtering; a chemical vapor deposition (CVD) method; a wet coating method;
  • the thickness of the antifouling layer is not particularly limited, but is usually preferably 20 nm or less, more preferably 1 to 10 nm.
  • the minimum value measured at an incident angle of 5 ° at a wavelength of 430 to 700 nm is preferably 1.5% or less. By setting the minimum reflectance to 1.5% or less, the interference unevenness is further suppressed.
  • the haze of the antireflection film of the present invention is preferably 2% or less, and more preferably 1.5% or less. If the haze is higher than this, the display image tends to be whitish and visibility is lowered.
  • the antireflection film having a haze of 2% or less can be obtained by forming the high refractive index layer and / or the low refractive index layer using the material containing the leveling agent described above.
  • the antireflection film of the present invention includes a liquid crystal display (LCD), a plasma display panel (PDP), an electroluminescence display (ELD), a cathode tube display (CRT), a field emission display (FED), electronic paper, a touch panel, and the like. It can be used by directly bonding to the display device or by replacing with a surface member incorporated in the display device such as a polarizing plate protective film or a front plate.
  • LCD liquid crystal display
  • PDP plasma display panel
  • ELD electroluminescence display
  • CRT cathode tube display
  • FED field emission display
  • Sm average interval of irregularities
  • Sm is a contour curve (roughness curve) obtained by cutting a long wavelength component with a high-pass filter having a cutoff value ⁇ c from the measured cross-sectional curve, and the roughness curve
  • the reference length (L) is extracted from the average line, and the average value of the lengths (Xsi) of adjacent peaks and valleys on the reference length.
  • Ra (arithmetic mean roughness) is the average value of the absolute value of the height (distance from the average line to the measurement curve) at the reference length of the curve obtained by the method as described above. is there.
  • Interference unevenness (clearness) According to JIS K 7105, measurement was performed with an optical comb having a width of 0.5 mm using a image clarity measuring device (manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.). Higher values mean higher clarity. The image clarity is measured through an optical comb that moves the transmitted light from the sample, and the value is obtained by calculation.
  • the slit image formed on the optical comb becomes thick due to the blur. Therefore, both ends of the slit image are applied to the opaque part at the position of the transmissive part, and the light amount is 100%. Decrease. Further, at the position of the opaque portion, light leaks from the opaque portion at both ends of the slit image, and the amount of light of 0% increases.
  • the sharpness value is defined by the following equation from the maximum value M of the transmitted light of the transparent portion of the optical comb and the minimum value m of the opaque portion.
  • Clarity value C (%) [(M ⁇ m) / (M + m)] ⁇ 100 (contrast)
  • the antireflection film was removed from the commercially available liquid crystal display device to obtain a test device.
  • the side of the antireflection film on which the antireflection layer is not formed is brought into intimate contact with the display device through glycerin (refractive index 1.49) to display black and white on the display device.
  • the brightness of the central portion of the antireflection film was measured under the name “BM-5”), and the contrast ratio was calculated as brightness at white display / brightness at black display.
  • BM-5 brightness of the central portion of the antireflection film
  • the antireflection film was removed from the commercially available liquid crystal display device to obtain a test device.
  • the side of the antireflection film on which the antireflection layer is not formed is brought into close contact with the display device via glycerin (refractive index 1.49) to display the display device in white, and a luminance meter (product name “BM” manufactured by Topcon Corporation).
  • glycerin reffractive index 1.419
  • BM luminance meter
  • each layer constituting the transparent film S1 is such that the thickness of the surface layer (surface layer 1) on which unevenness is formed is 40 ⁇ m, the intermediate layer is 40 ⁇ m, and the surface layer on which unevenness is not formed (surface layer 2). Was 40 ⁇ m, and the total thickness of the transparent film 1 was 120 ⁇ m.
  • Ra of the surface of the transparent film S1 with the unevenness is 0.08 ⁇ m
  • Sm is 25 ⁇ m
  • the refractive index of the surface layer 1 is 1.49
  • the contact angle of the surface with the unevenness of the transparent film S1 is 80 °. Met.
  • Production of transparent film S2 In Production Example 1, the temperature of the mirror roll and the shaping roll was set to 70 ° C, and a shaping roll having irregularities with Sm of 90 ⁇ m was used. Thus, a transparent film S2 was obtained. Ra of the surface of the transparent film S2 on which the irregularities were formed was 0.11 ⁇ m, Sm was 90 ⁇ m, and Ra / Sm was 0.0012.
  • Production Example 3 Production of Transparent Film S3 A transparent film S3 was obtained in the same manner as in Production Example 2 except that the temperature of the mirror roll and the shaping roll was 90 ° C. in Production Example 2. Ra of the surface of the transparent film S3 on which the irregularities were formed was 0.14 ⁇ m, Sm was 90 ⁇ m, and Ra / Sm was 0.0016.
  • Production Example 4 Production of transparent film S4
  • a transparent film was produced in the same manner as in Production Example 1 except that the linear pressure was 12 kN / m, the roll speed was 10 m / min, and the temperature of the shaping roll was 120 ° C. S4 was obtained. Ra of the surface of the transparent film S4 on which the irregularities were formed was 0.18 ⁇ m, Sm was 90 ⁇ m, and Ra / Sm was 0.002.
  • Production Example 5 Production of transparent film S5 In Production Example 1, a linear pressure of 13 kN / m, a roll speed of 10 m / min, and a shaping roll having irregularities with Sm of 165 ⁇ m were used. Thus, a transparent film S5 was obtained. Ra of the surface of the transparent film S5 on which the irregularities were formed was 0.18 ⁇ m, Sm was 165 ⁇ m, and Ra / Sm was 0.0011.
  • Production Example 6 Production of transparent film S6
  • a linear pressure of 14 kN / m, a roll speed of 10 m / min, and a shaping roll having irregularities with Sm of 180 ⁇ m were used.
  • a transparent film S6 was obtained.
  • Ra of the surface of the transparent film S6 on which the irregularities were formed was 0.3 ⁇ m
  • Sm was 180 ⁇ m
  • Ra / Sm was 0.0017.
  • Production Example 7 Production of transparent film S7
  • a linear pressure of 7 kN / m, a roll speed of 30 m / min, and a shaping roll having irregularities with Sm of 20 ⁇ m were used.
  • a transparent film S7 was obtained.
  • Ra of the surface of the transparent film S7 where the irregularities were formed was 0.03 ⁇ m
  • Sm was 20 ⁇ m
  • Ra / Sm was 0.0015.
  • Production Example 8 Production of Transparent Film S8 A transparent film S8 was obtained in the same manner as in Production Example 1 except that the linear pressure was 12 kN / m in Production Example 1. Ra of the surface of the transparent film S8 on which the irregularities were formed was 0.15 ⁇ m, Sm was 25 ⁇ m, and Ra / Sm was 0.006.
  • Production Example 9 Production of Transparent Film S9 A transparent film S9 was obtained in the same manner as in Production Example 1 except that a shaping roll having irregularities with Sm of 120 ⁇ m was used in Production Example 2. Ra of the surface of the transparent film S9 on which the irregularities were formed was 0.1 ⁇ m, Sm was 120 ⁇ m, and Ra / Sm was 0.0008.
  • Production Example 10 Production of Transparent Film S10 Polymethylmethacrylate resin (trade name “Sumipex HT20Y” manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) constituting both surface layers using a two-kind / three-layer multilayer coextrusion apparatus, intermediate layer Highly heat-resistant polymethylmethacrylate resin (trade name “Sumipex MH”, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) constituting each is discharged from a T-type die at an extrusion rate of 20 kg / hr and 10 kg / hr, respectively, and this is immediately followed by a wire A nip was formed between a forming roll having irregularities with an Sm of 32 ⁇ m heated to a surface temperature of 90 ° C.
  • the thickness of each layer constituting the transparent film S10 the thickness of the surface layer (surface layer 1) on which the unevenness is formed is 40 ⁇ m, the intermediate layer is 40 ⁇ m, and the surface layer on the side where the unevenness is not formed (surface layer 2).
  • the total thickness of the transparent film S10 was 120 ⁇ m.
  • Ra of the surface of the transparent film S10 on which the irregularities were formed was 0.09 ⁇ m, Sm was 32 ⁇ m, and the refractive index of the surface layer 1 was 1.49.
  • Production Example 12 Production of Transparent Film S12
  • a linear pressure was set to 9 kN / m
  • a shaped roll having irregularities with Sm of 18 ⁇ m was used, and the surface temperature of the shaped roll was set to 90 ° C.
  • a transparent film S12 was obtained in the same manner as in Production Example 10. Ra of the surface of the transparent film S12 on which the irregularities were formed was 0.052 ⁇ m, and Sm was 18 ⁇ m.
  • Production Example 13 Production of Transparent Film S13
  • a roll speed was set to 12 m / min, a shaped roll having irregularities with an Sm of 35 ⁇ m was used, and the surface temperature of the shaped roll was set to 120 ° C.
  • a transparent film S13 was obtained in the same manner as in Production Example 10. Ra of the surface of the transparent film S13 on which the irregularities were formed was 0.105 ⁇ m, and Sm was 35 ⁇ m.
  • Production Example 14 Production of Transparent Film S14
  • a roll speed was set to 18 m / min, a shaped roll having irregularities with Sm of 42 ⁇ m was used, and the surface temperature of the shaped roll was set to 120 ° C.
  • a transparent film S14 was obtained in the same manner as in Production Example 10. Ra of the surface of the transparent film S14 on which the irregularities were formed was 0.105 ⁇ m, and Sm was 42 ⁇ m.
  • Production Example 20 Production of Transparent Film S20 A transparent film S20 was obtained in the same manner as in Production Example 10 except that a shaping roll having irregularities with Sm of 17 ⁇ m was used in Production Example 10. Ra of the surface of the transparent film S20 on which the irregularities were formed was 0.075 ⁇ m and Sm was 17 ⁇ m.
  • Production Example 21 Production of Transparent Film S21 A transparent film S21 was obtained in the same manner as in Production Example 10 except that a shaping roll having irregularities with an Sm of 35 ⁇ m was used in Production Example 10. Ra of the surface of the transparent film S21 where the irregularities were formed was 0.15 ⁇ m, and Sm was 35 ⁇ m.
  • Production Example 22 Production of Transparent Film S22 A transparent film S22 was obtained in the same manner as in Production Example 10 except that a shaping roll having irregularities with an Sm of 65 ⁇ m was used in Production Example 10. Ra of the surface of the transparent film S22 on which the irregularities were formed was 0.115 ⁇ m, and Sm was 65 ⁇ m.
  • Production Example 23 Production of Transparent Film S23 A transparent film S23 was obtained in the same manner as in Production Example 10 except that a shaping roll having irregularities with an Sm of 52.5 ⁇ m was used in Production Example 10. Ra of the surface of the transparent film S23 where the irregularities were formed was 0.225 ⁇ m, and Sm was 52.5 ⁇ m.
  • Production Example 25 Production of Transparent Film S25 A transparent film S25 was obtained in the same manner as in Production Example 10 except that a shaping roll having irregularities with Sm of 75 ⁇ m was used in Production Example 10. Ra of the surface of the transparent film S25 on which the irregularities were formed was 0.14 ⁇ m, and Sm was 75 ⁇ m.
  • composition H1 for forming a high refractive index layer Sb 2 O 5 particles (catalyst) were added to 100 parts of an acryloyl group-containing oligomer (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry, trade name “UV-1700B”). 200 parts by Kasei Kogyo Co., Ltd., average particle size 30 nm) and 2 parts by photopolymerization initiator (Ciba Specialty Chemicals, trade name “IRGACURE 184”) are added, and methacryl-modified dimethyl silicone oil (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) is added. 1 part of the product name “X-22-164A”) was added, and the mixture was stirred with a stirrer at 2000 rpm for 5 minutes to obtain a composition H1 for forming a high refractive index layer.
  • composition L1 for forming a low refractive index layer By adding 200 parts of ethanol to a four-necked reaction flask equipped with a reflux tube and adding 120 parts of oxalic acid to this ethanol in small amounts. An ethanol solution of oxalic acid was prepared. The solution was then heated to the reflux temperature, and a mixture of 20 parts tetraethoxysilane and 4 parts tridecafluorooctyltrimethoxysilane (GE Toshiba Silicone, trade name “TSL8257”) was added dropwise to the refluxed solution. did.
  • composition L3 for forming a low refractive index layer In Production Example 30, instead of 150 parts of hollow silica fine particles, 100 parts of hollow silica fine particles were used. A layer forming composition L3 was obtained.
  • composition L4 for low refractive index layer formation Preparation of composition L4 for low refractive index layer formation
  • the composition L4 for low bending layer formation was obtained like manufacture example 30 except not adding methacryl modified dimethyl silicone oil. It was.
  • Example 1 After applying the high refractive index layer forming composition H1 obtained in Production Example 26 to the surface of the transparent film S1 obtained in Production Example 1 with a bar coater, the wavelength is measured using an ultraviolet irradiator. Irradiation with ultraviolet rays was performed so that the integrated light amount was 200 mJ / cm 2 in the range of 300 to 390 nm, and a term refractive index layer having a thickness of 3 ⁇ m was formed to obtain a laminate of transparent film / high refractive index layer.
  • the refractive index of the high refractive index layer was 1.62, and the contact angle of the surface of the high refractive index layer far from the transparent film was 90 °.
  • the low refractive index layer forming composition L1 obtained in Production Example 29 was applied with a bar coater, and the obtained coating film was dried and cured at 60 ° C. for 1 minute, A low refractive index layer having a thickness of 100 nm was formed to obtain the antireflection film 1 of the present invention.
  • the refractive index of the low refractive index layer was 1.37, and the contact angle of the surface of the low refractive index layer far from the transparent film was 110 °.
  • the obtained antireflection film 1 was evaluated according to the above evaluation method. Interference unevenness was evaluated according to inspection method 1 out of inspection method 1 and inspection method 2 described above. The evaluation results of the antireflection film 1 are shown in Table 1.
  • Example 2 In Example 1, the antireflection film 2 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the transparent film S2 was used instead of the transparent film S1. The antireflection film 2 was evaluated in the same manner as in Example 1. The evaluation results are shown in Table 1.
  • Example 3 In Example 1, the antireflection film 3 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the transparent film S3 was used instead of the transparent film S1. The antireflection film 3 was evaluated in the same manner as in Example 1. The evaluation results are shown in Table 1.
  • Example 4 In Example 1, the antireflection film 4 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the transparent film S4 was used instead of the transparent film S1. The antireflection film 4 was evaluated in the same manner as in Example 1. The evaluation results are shown in Table 1.
  • Example 5 In Example 1, the antireflection film 5 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the transparent film S5 was used instead of the transparent film S1. The antireflection film 5 was evaluated in the same manner as in Example 1. The evaluation results are shown in Table 1.
  • Example 6 In Example 1, the low refractive index layer forming composition L2 obtained in Production Example 30 was used instead of the low refractive index layer forming composition L1, and the low refractive index layer forming layer was formed on the high refractive index layer.
  • Forming composition L2 was applied with a bar coater, and the resulting coating film was dried at 60 ° C. for 1 minute, and then cured by irradiating with ultraviolet rays so as to obtain an integrated light amount of 100 mJ / cm 2 in the wavelength range of 300 to 390 nm. Obtained an antireflection film 6 in the same manner as in Example 1.
  • the refractive index of the low refractive index layer was 1.37, and the contact angle of the surface of the low refractive index layer far from the transparent film was 110 °.
  • the antireflection film 6 was evaluated in the same manner as in Example 1. The evaluation results are shown in Table 1.
  • Example 7 In Example 1, instead of the low refractive index layer forming composition L1, the antireflective film 7 was prepared in the same manner as in Example 1 except that the low refractive index layer forming composition L3 obtained in Production Example 31 was used. Got. The refractive index of the low refractive index layer was 1.42, and the contact angle of the surface of the low refractive index layer far from the transparent film was 110 °. The antireflection film 7 was evaluated in the same manner as in Example 1. The evaluation results are shown in Table 1.
  • Example 8 In Example 1, in place of the low refractive index layer forming composition L1, the antireflective film 8 was prepared in the same manner as in Example 1 except that the low refractive index layer forming composition L4 obtained in Production Example 32 was used. Got. The refractive index of the low refractive index layer was 1.37, and the contact angle of the surface of the low refractive index layer far from the transparent film was 60 °. The antireflection film 8 was evaluated in the same manner as in Example 1. The evaluation results are shown in Table 2.
  • Example 9 In Example 6, instead of the high refractive index layer forming composition H1, the antireflective film 9 was used in the same manner as in Example 6 except that the high refractive index layer forming composition H2 obtained in Production Example 27 was used. Got. The refractive index of the high refractive index layer was 1.55, and the contact angle of the surface far from the transparent film of the high refractive index layer was 90 °. The antireflection film 9 was evaluated in the same manner as in Example 1. The evaluation results are shown in Table 2.
  • Example 10 the antireflection film 10 was prepared in the same manner as in Example 6 except that the high refractive index layer forming composition H3 obtained in Production Example 28 was used instead of the high refractive index layer forming composition H1. Got.
  • the refractive index of the high refractive index layer was 1.62, and the contact angle of the surface of the high refractive index layer far from the transparent film was 60 °.
  • the antireflection film 10 was evaluated in the same manner as in Example 1. The evaluation results are shown in Table 2.
  • Example 11 After applying the high refractive index layer-forming composition H1 obtained in Production Example 26 to the surface of the transparent film S10 obtained in Production Example 10 with a bar coater, the wavelength is measured using an ultraviolet irradiator. Ultraviolet irradiation was performed so that the integrated light amount was 200 mJ / cm 2 in the range of 300 to 390 nm, and a high refractive index layer having a thickness of 3 ⁇ m was formed to obtain a laminate of transparent film / high refractive index layer. The refractive index of the high refractive index layer was 1.62.
  • the low refractive index layer forming composition L1 obtained in Production Example 29 was applied with a bar coater, and the obtained coating film was dried and cured at 60 ° C. for 1 minute, A low refractive index layer having a thickness of 100 nm was formed to obtain the antireflection film 1 of the present invention.
  • the refractive index of the low refractive index layer was 1.37.
  • the obtained antireflection film 11 was evaluated according to the above evaluation method. Interference unevenness was evaluated according to inspection method 2 out of inspection method 1 and inspection method 2 described above. The evaluation results of the antireflection film 11 are shown in Table 3.
  • Example 12 In Example 11, the low refractive index layer forming composition L2 obtained in Production Example 30 was used instead of the low refractive index layer forming composition L1, and the low refractive index layer forming layer was formed on the high refractive index layer.
  • Forming composition L2 was applied with a bar coater, and the resulting coating film was dried at 60 ° C. for 1 minute, and then cured by irradiating with ultraviolet rays so as to obtain an integrated light amount of 100 mJ / cm 2 in the wavelength range of 300 to 390 nm. Obtained an antireflection film 12 in the same manner as in Example 11.
  • the refractive index of the low refractive index layer was 1.37.
  • the antireflection film 12 was evaluated in the same manner as in Example 11. The evaluation results are shown in Table 3.
  • Example 13 In Example 11, an antireflection film 13 was obtained in the same manner as in Example 11 except that the transparent film S11 was used instead of the transparent film S10. The antireflection film 13 was evaluated in the same manner as in Example 11. The evaluation results are shown in Table 3.
  • Example 14 In Example 11, an antireflection film 14 was obtained in the same manner as in Example 11 except that the transparent film S12 was used instead of the transparent film S10. The antireflection film 14 was evaluated in the same manner as in Example 11. The evaluation results are shown in Table 3.
  • Example 15 In Example 11, the antireflection film 15 was obtained in the same manner as in Example 11 except that the transparent film S13 was used instead of the transparent film S10. The antireflection film 15 was evaluated in the same manner as in Example 11. The evaluation results are shown in Table 3.
  • Example 16 In Example 11, the antireflection film 16 was obtained in the same manner as in Example 11 except that the transparent film S14 was used instead of the transparent film S10. The antireflection film 16 was evaluated in the same manner as in Example 11. The evaluation results are shown in Table 3.
  • Example 17 In Example 11, the antireflection film 17 was obtained in the same manner as in Example 11 except that the transparent film S15 was used instead of the transparent film S10. The antireflection film 17 was evaluated in the same manner as in Example 11. The evaluation results are shown in Table 3.
  • Example 18 In Example 11, the antireflection film 18 was obtained in the same manner as in Example 11 except that the transparent film S16 was used instead of the transparent film S10. The antireflection film 18 was evaluated in the same manner as in Example 11. The evaluation results are shown in Table 3.
  • Example 19 In Example 11, an antireflection film 19 was obtained in the same manner as in Example 11 except that the transparent film S17 was used instead of the transparent film S10. The antireflection film 19 was evaluated in the same manner as in Example 11. The evaluation results are shown in Table 3.
  • Example 20 In Example 11, the antireflection film 20 was obtained in the same manner as in Example 11 except that the transparent film S18 was used instead of the transparent film S10. The antireflection film 20 was evaluated in the same manner as in Example 11. The evaluation results are shown in Table 3.
  • Example 21 In Example 11, the antireflection film 21 was obtained in the same manner as in Example 11 except that the transparent film S19 was used instead of the transparent film S10. The antireflection film 21 was evaluated in the same manner as in Example 11. The evaluation results are shown in Table 4.
  • Example 22 In Example 11, an antireflection film 22 was obtained in the same manner as in Example 11 except that the transparent film S20 was used instead of the transparent film S10. The antireflection film 22 was evaluated in the same manner as in Example 11. The evaluation results are shown in Table 4.
  • Example 23 In Example 11, an antireflection film 23 was obtained in the same manner as in Example 11 except that the transparent film S21 was used instead of the transparent film S10. The antireflection film 23 was evaluated in the same manner as in Example 11. The evaluation results are shown in Table 4.
  • Example 24 In Example 1, the antireflection film 24 was obtained in the same manner as in Example 11 except that the transparent film S22 was used instead of the transparent film S10. The antireflection film 24 was evaluated in the same manner as in Example 11. The evaluation results are shown in Table 4.
  • Example 25 In Example 11, the antireflection film 25 was obtained in the same manner as in Example 11 except that the transparent film S23 was used instead of the transparent film S10. The antireflection film 25 was evaluated in the same manner as in Example 11. The evaluation results are shown in Table 4.
  • Example 26 In Example 11, the antireflection film 26 was obtained in the same manner as in Example 11 except that the transparent film S24 was used instead of the transparent film S10. The antireflection film 26 was evaluated in the same manner as in Example 11. The evaluation results are shown in Table 4.
  • Example 27 In Example 11, the antireflection film 27 was obtained in the same manner as in Example 11 except that the transparent film S25 was used instead of the transparent film S10. The antireflection film 27 was evaluated in the same manner as in Example 11. The evaluation results are shown in Table 4.
  • Example 1 Comparative Example 1
  • the antireflection film 28 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the transparent film S6 was used instead of the transparent film S1.
  • the antireflection film 28 was evaluated in the same manner as in Example 1. The evaluation results are shown in Table 2.
  • Example 2 In Example 1, the antireflection film 29 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the transparent film S7 was used instead of the transparent film S1. The antireflection film 29 was evaluated in the same manner as in Example 1. The evaluation results are shown in Table 2.
  • Example 3 (Comparative Example 3)
  • the antireflection film 30 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the transparent film S8 was used instead of the transparent film S1.
  • the antireflection film 30 was evaluated in the same manner as in Example 1. The evaluation results are shown in Table 2.
  • Example 4 (Comparative Example 4)
  • the antireflection film 31 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the transparent film S9 was used instead of the transparent film S1.
  • the antireflection film 31 was evaluated in the same manner as in Example 1. The evaluation results are shown in Table 2.
  • the antireflection laminates of Examples 1 to 10 and Comparative Examples 1 to 4 prepared above were evaluated for scratch resistance, minimum reflectance, and interference unevenness (inspection method 1), and the results are shown in Tables 1 to It is shown in Table 2. Further, the antireflection laminates of Examples 11 to 25 were evaluated for scratch resistance, minimum reflectance, and interference unevenness (inspection method 2), and the results are shown in Tables 3 and 4. Moreover, what showed (Ra, Sm) of the transparent film used by the present Example on the XY coordinate axis was shown in FIG.
  • the antireflection film obtained by using the transparent films S1 to S5 having irregularities defined in the present application has no color unevenness and high sharpness, so that the visibility when used in a display device is high. It turns out that it is hard to reduce.
  • the antireflection film of Comparative Example 1 obtained using a transparent film having an Ra value exceeding the upper limit of the range specified by the present application, and the Ra / Sm value exceeding the upper limit of the range specified by the present application In Comparative Example 3 obtained using the transparent film having, the interference unevenness was suppressed, but the sharpness was inferior.
  • the antireflection film of Comparative Example 2 obtained by using a transparent film having a Ra value not more than the lower limit of the range specified by the present application, and a transparent having a Ra / Sm value not more than the lower limit of the range specified by the present application.
  • the antireflection film of Comparative Example 4 obtained using the film had high clarity, interference unevenness occurred.
  • the antireflection film obtained using the transparent films S10 to S20 having irregularities defined in the present application has no color unevenness and high brightness and sharpness, so that the visibility is lowered when used in a display device. It can be seen that it is difficult to do. From the range existing in the region surrounded by three points of (0.04, 12), (0.14, 63), and (0.165, 52.5) on the XY coordinate axis shown in Table 4
  • the antireflection films of Examples 21 to 27 obtained using a transparent film having a deviation (Ra, Sm) are examples obtained using a transparent film having irregularities located in the region A in FIG. In the antireflection films of 21 Example 24 and Example 27, the interference unevenness occurred in the inspection method 2. Moreover, in FIG.

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Abstract

　透明基材の一方の面に凹凸を形成してなる透明フィルムの当該一方の面に、前記透明基材の屈折率よりも高い屈折率を有する高屈折率層と、高屈折率層の屈折率よりも低い屈折率を有する低屈折率層とをこの順に備えてなり、前記凹凸が透明基材を変形する事により形成されたものであり、Ｒａ及びＳｍが所定の範囲である反射防止フィルム（ＲａおよびＳｍは、それぞれＪＩＳ　Ｂ０６０１：１９９４に基づいて測定される算術平均粗さおよび凹凸の平均間隔である。）。

Description

反射防止フィルム
　本発明は、反射防止フィルムに関する。より具体的には、表示装置のコントラストおよび鮮明性の低下を伴うことなく色ムラが抑制された反射防止フィルムに関するものである。
　従来、透明基材上に透明薄膜層を形成させた積層フィルムにおいて、透明基材表面で反射した光と積層フィルム表面で反射した光とが干渉することにより、干渉縞と呼ばれる模様（干渉ムラ）が視認されて、表示ムラとなる問題があった。
　そこで、上記問題を解決するために様々な提案がなされてきた。
　例えば、特許文献１（特開２００１－０８００１３号公報）には、積層フィルムを得る際に、干渉縞を防止するための手段として、屈折率の差がある２層の境界面の粗さを制御する方法が開示されている。この方法によれば、干渉縞の無くヘイズが１％以下の積層体が得られることが記載されている。
　特許文献２（特開２００４－０６９８６７号公報）には、凹凸面を有する透明基材フィルム上にハードコート層と反射防止層とを設け、ハードコート層の屈折率を反射防止層の屈折率よりも高くしたヘイズの小さい反射防止フィルムが開示されており、ここでは、その凸凹の表面粗さを０．０５～０．１５μｍの範囲とすることが記載されている。そして、この反射防止フィルムは、表示装置の干渉ムラ（色ムラ）や面のギラツキを抑制することができると記載されている。
　また、特許文献３（特開２００５－１０７００５号公報、対応外国公報ＵＳ２００５０９４２７３　（Ａ１））には、第一の透明層と第二の透明層との接触界面を光散乱性界面とした光学フィルムが開示されており、ここでは、その接触界面を１０点平均粗さで０．４μｍ以上とすることが記載されている。そして、この光学フィルムは、干渉縞の発生を抑制できるとあり、好ましい態様として反射防止層を備えることが記載されている。
　しかしながら、特許文献１に記載の積層体を表示装置に適用すると、境界面の粗さを制御する事により干渉ムラは解消されるものの、平均粗さが０．５μｍ以上と大きい為に表示画像の鮮明性が低下し、高精細のディスプレイ用途としては不向きなものであった。
　また、特許文献２や特許文献３に記載の反射防止フィルムにおいては、凹凸は、微粒子を含む層を支持体上に塗布することで付与されるものとなっている。従って、特許文献２や特許文献３に開示された方法では、少なくとも支持体上に干渉縞を防止する為の層を塗布・硬化する工程を別途設ける必要があり、また、支持体の性状によっては防止層の剥離を防止するための表面処理等の手段を施すことが必要になる等、製造工程はより複雑となり、生産性の低下を招く恐れがある。
　従って、本発明の目的は、生産性に優れ、干渉ムラが抑制され、表示装置に適用した際にコントラストおよび鮮明性を損なう事のない反射防止フィルムを提供することにある。
　そこで、本発明者は、上記目的を達成するために検討した結果、表面形状に関する指標の内、凹凸の平均の高さ／深さに加え、凹凸の平均間隔を制御し、更にこの二つの指標が一定の関係を満たすような凹凸を、透明基材を変形することによって透明フィルムに付与し、この透明フィルムに設けられた凹凸上に反射防止層を積層することによって、生産性に優れ、干渉ムラが抑制され、表示装置に適用した際にコントラストおよび鮮明性を損なう事のないディスプレイに好適な反射防止フィルムが得られることを見出し、本発明を完成するに至った。
　かくして本発明は以下のものを含む。
　透明基材の一方の面に凹凸を形成してなる透明フィルムの当該一方の面に、前記透明基材の屈折率よりも高い屈折率を有する高屈折率層と、高屈折率層の屈折率よりも低い屈折率を有する低屈折率層とをこの順に備えてなり、前記凹凸が透明基材を変形する事により形成されたものであり、下記［１］～［２］を満たす反射防止フィルム。
［１］０．０４≦Ｒａ≦０．２５μｍ
［２］０．００１≦Ｒａ／Ｓｍ≦０．００５
（ＲａおよびＳｍは、それぞれＪＩＳ　Ｂ０６０１：１９９４に基づいて測定される算術平均粗さおよび凹凸の平均間隔である。）
（２）前記凹凸が透明基材を変形する事により形成されたものであり、且つ前記凹凸のＲａおよびＳｍが、ＸＹ座標軸上で（Ｒａ，Ｓｍ）と表記した際に、該ＸＹ座標軸上の（０．０４，１２）と、（０．１４，６３）と、（０．１６５，５２．５）との３点で囲まれる領域に存在する（１）に記載の反射防止フィルム。
　（ＲａおよびＳｍは、それぞれＪＩＳ　Ｂ０６０１：１９９４に基づいて測定される算術平均粗さおよび凹凸の平均間隔である。）
（３）前記高屈折率層の前記透明フィルムから遠い側の面と水との接触角が、前記透明フィルム表面と水との接触角よりも高く、且つ、前記低屈折率層の前記透明フィルムから遠い側の面と水との接触角が、前記高屈折率層の前記透明フィルムから遠い側の面と水との接触角よりも高い、（１）または（２）に記載の反射防止フィルム。
（４）前記高屈折率層の屈折率が１．６０以上、１．７０以下であり、高屈折率層の前記透明フィルムから遠い側の面の算術平均粗さＲａｈが０．１μｍ以下である、（１）～（３）のいずれかにに記載の反射防止フィルム。
（５）前記低屈折率層の屈折率が１．４０未満である（１）～（４）のいずれかに記載の反射防止フィルム。
（６）前記低屈折率層の前記透明フィルムから遠い側の面の算術平均粗さＲａｌが０．０６μｍ以下である、（１）～（５）のいずれかに記載の反射防止フィルム。
（７）波長４３０～７００ｎｍにおける入射角５°で測定した前記低屈折率層が積層された面で測定した反射率の最小値が１．５％以下である、（１）～（６）のいずれかに記載の反射防止フィルム。
　本発明によれば、生産性に優れ、干渉ムラが抑制され、表示装置に適用した際にコントラストおよび鮮明性を損なう事のない反射防止フィルムが得られる。
図１は、本発明にかかる反射防止積層体を示す断面図である。 図２は、実施例１１～２７の（Ｒａ，Ｓｍ）を座標軸上にプロットしたグラフである。
　上記の本発明について、図面等を用いて以下に詳述する。
図１は本発明にかかる反射防止フィルムの構成図である。図中の５は反射防止フィルムを示し、１は透明フィルム、２は高屈折率層、３は低屈折率層、４は凹凸をそれぞれ示す。
　本発明の反射防止フィルムは、透明基材の一方の面に凹凸を形成してなる透明フィルムの当該一方の面に、前記透明基材の屈折率よりも高い屈折率を有する高屈折率層と、高屈折率層の屈折率よりも低い屈折率を有する低屈折率層とをこの順に備えてなり、前記凹凸が透明基材を変形する事により形成されたものであり、［１］～［２］を満たすものである。
［１］０．０４≦Ｒａ≦０．２５μｍ
［２］０．００１≦Ｒａ／Ｓｍ≦０．００５
（ＲａおよびＳｍは、それぞれＪＩＳ　Ｂ０６０１：１９９４に基づいて測定される算術平均粗さおよび凹凸の平均間隔である。）
　透明フィルムの凹凸を有する面のＲａが上記値以上であると、反射防止フィルムを表示装置に適用した際、表示画像の鮮明性が低下する傾向がある。透明フィルムの凹凸を有する面のＲａが上記値以下であると、後述する高屈折率層および低屈折率層を形成した際に干渉ムラが発生し、表示装置の視認性が低下する傾向がある。
　透明フィルムの凹凸を有する面のＲａ／Ｓｍが上記値以上であると、反射防止フィルムを表示装置に適用した際、表示画像の鮮明性が低下する傾向がある。透明フィルムの凹凸を有する面のＲａ／Ｓｍが上記値以下であると、後述する高屈折率層および低屈折率層を形成した際に干渉ムラが発生し、表示装置の視認性が低下する傾向がある。
　また、本発明の反射防止フィルムで、前記凹凸が透明基材を変形する事により形成されたものであり、且つ前記凹凸のＲａおよびＳｍが、ＸＹ座標軸上で（Ｒａ，Ｓｍ）と表記した際に、該ＸＹ座標軸上の（０．０４，１２）と、（０．１４，６３）と、（０．１６５，５２．５）との３点で囲まれる領域に存在するもの（ＲａおよびＳｍは、それぞれＪＩＳ　Ｂ０６０１：１９９４に基づいて測定される算術平均粗さおよび凹凸の平均間隔である。）である場合、反射防止フィルムを表示装置に適用した際に、表示画像の輝度および鮮明性を高い反射防止フィルムとすることができる。
　上記３点で囲まれる領域は、上記３点を結ぶ線上を含む。即ち、Ｒａ及びＳｍは、下記式（Ｅ１）～（Ｅ３）の全てを満たすことが好ましい：
　Ｓｍ≧３２４Ｒａ－０．９６　　　（Ｅ１）
　Ｓｍ≦５１０Ｒａ－８．４　　　　（Ｅ２）
　Ｓｍ≦－４２０Ｒａ＋１２１．８　（Ｅ３）
　透明フィルムの凹凸を有する面のＲａは０．０５μｍ以上、０．２μｍ以下が好ましく、透明フィルムの凹凸を有する面のＲａ／Ｓｍは０．００１２以上、０．００４５以下が好ましい。
　前記凹凸面を有する透明フィルムを得る方法としては、透明基材の表面を変形することにより前記条件を満たす凹凸が得られる方法であれば特に制限が無く、例えば、凹凸を有する賦型ロールを用いて、溶融押出成形法において得られた押出直後の透明基材を押圧して凹凸を転写するニップ成形法や、透明基材を、凹凸を有する離型フィルムで挟圧して離型フィルムの凹凸を転写した後、離型フィルムを剥離する方法、透明基材の表面に微粒子を噴射して透明基材の表面を切削する方法などが挙げられる。
　中でも、凹凸の転写ムラのない透明フィルムを広幅で得られる事から、凹凸を有する賦型ロールを用いたニップ成形法が好ましく、鏡面ロールと凹凸を有する賦型ロールを用いて、透明基材を挟圧することが好ましい。
　それぞれのロールの表面材質は、金属、ゴム、樹脂などが挙げられる。これらは透明基材に目的とする凹凸形状が転写できるように適宜選ばれるが、賦型ロールの硬さは、鏡面ロールの硬さ以上であることが好ましい。また、前記条件を満たすために、例えば、鏡面ロールと同等の表面性を持ち、賦型ロールより軟らかい樹脂フィルムなどを介して狭圧させても良い。
　上記鏡面ロールと凹凸を有する賦型ロールは、それぞれ独立に温度調節ができるものであるのが好ましい。鏡面ロールの温度は、４０℃以上１６０℃以下あることが好ましく、かつ、凹凸を有する賦型ロールの温度は、６０℃以上２００℃以下であることが好ましい。鏡面ロールの温度は、６０℃以上１３０℃以下がさらに好ましく、凹凸を有する賦型ロールの温度は、８０℃以上１８０℃以下がさらに好ましい。
　ニップ形成法において、透明フィルムのＲａは、挟圧時における透明基材および各ロールの温度、ロール速度、透明基材を挟圧する際の圧力、それぞれのロールの表面の材質を、後述する透明樹脂の特性に合わせて、適宜選定することで調整することができるが、鏡面ロールおよび賦形ロール温度は、後述する透明樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）に対して、（Ｔｇ－６０）～（Ｔｇ＋２０）℃とするのが好ましい。
　例えば、アクリル樹脂を透明基材として用いる場合、好ましい圧力は、５～１３ｋＮ／ｍである。フィルムに加える圧力が上記値を超えると、フィルムが破断する恐れがある。フィルムに加える圧力が上記値以下であると、フィルムの幅方向において凹凸の転写ムラが発生する傾向がある。
　鏡面ロールおよび賦形ロールの好ましい温度は、６０～１３０℃である。鏡面ロールまたは賦形ロールの温度がこれ以上であると、フィルムがロールに巻きつく恐れがある。鏡面ロールまたは賦形ロールの温度がこれ以下であるとフィルム面内で凹凸の転写ムラが生じる傾向がある。
　ロール速度は６０ｍ／ｍｉｎ以下であることが好ましく、２０ｍ／ｍｉｎ以下であることがより好ましい。ロール速度がこれ以上であると、フィルム面内で凹凸の転写ムラが生じる傾向がある。ロール速度の下限は、特に限定されないが、たとえば５ｍ／ｍｉｎ以上とすることができる。
　透明フィルムのＳｍは、賦形ロールを所定の凹凸周期を有する賦形ロールに交換する事で調整することができる。
　前記凹凸は透明基材の両面にあってもよい。両面のＲａ及びＳｍは同じであっても異なっていてもよい。鮮明性の観点から、凹凸は一方の面のみに形成されている事が好ましい。
　本発明の透明フィルムを得る為に用いることのできる透明基材は、１ｍｍ厚で全光線透過率が８０％以上のものである。透明基材を構成する材料としては、透明樹脂があげられる。
　本発明で用いることのできる透明樹脂は、１ｍｍ厚で全光線透過率が８０％以上のものである。例えば、脂環式構造を有する樹脂、ポリエステル樹脂、セルロース樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂等が挙げられる。
　本発明に用いる透明基材は、透明樹脂の他に、他の配合剤を含んでいてもよい。配合剤としては、格別限定はないが、無機微粒子；酸化防止剤、熱安定剤、光安定剤、耐候安定剤、紫外線吸収剤、近赤外線吸収剤等の安定剤；滑剤、可塑剤等の樹脂改質剤；染料や顔料等の着色剤；帯電防止剤等が挙げられる。これらの配合剤は、単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができ、その配合量は本発明の目的を損なわない範囲で適宜選択され、透明樹脂１００重量部に対して、通常０～５重量部、好ましくは０～３重量部である。
　透明基材は単層であっても複数の層からなる積層体であっても良い。透明基材を構成する各層の合計の厚みは、好ましくは２０～３００μｍである。
　透明フィルムの凹凸を有する面には表面改質処理をすることもできる。表面改質処理としては、エネルギー線照射処理や薬品処理などが挙げられる。
　エネルギー線照射処理としては、コロナ放電処理、プラズマ処理、電子線照射処理、紫外線照射処理などが挙げられ、処理効率の点等から、コロナ放電処理、プラズマ処理が好ましい。
　薬品処理としては、重クロム酸カリウム溶液、濃硫酸などの酸化剤水溶液中に、浸漬し、その後充分に水で洗浄する方法が挙げられる。浸漬した状態で振盪すると効果的であるが、長期間処理すると表面が溶解したり、透明性が低下したりするといった問題があり、用いる薬品の反応性、濃度などに応じて、処理時間などを調整する必要がある。
　透明フィルムのヘイズは４０～５％であることが好ましく、３０～５％であることがより好ましく、２５～１０％であることがさらにより好ましい。透明フィルムのヘイズがこれ以上であると、反射防止フィルムとした時の透明性が低下し、これ以下であると反射防止フィルムにした時に干渉ムラが発生する傾向がある。
　本発明における反射防止フィルムは、前述の透明フィルムの凹凸が形成された面に透明フィルムの凹凸が形成された層の屈折率よりも高い高屈折率層と、高屈折率層の屈折率よりも低い低屈折率層とを、この順に形成することによって得られるものである。
（高屈折率層）
　高屈折率層は、前述の透明フィルムの凹凸が形成された層の屈折率よりも高い屈折率を有する層である。本発明においては、高屈折率層の屈折率は１．６０～１．７０であることが好ましい。高屈折率層の屈折率がこの範囲にあると、高屈折率層上に後述する低屈折率層を積層した場合に、外光の反射を抑制し、映り込みを防止することができる。
　屈折率の調整は、例えば、前記高屈折率層を金属酸化物微粒子を含む材料を用いて形成する事で行う。
　金属酸化物微粒子としては、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化アンチモン、酸化スズ、酸化インジウム、酸化タングステン等が挙げられる。これらの金属酸化物微粒子は一種単独で、あるいは二種以上を組み合わせて用いることができる。
　屈折率は、例えば、公知の分光エリプソメータを用いて測定して求めることができる。
　本発明においては、高屈折率層は、ＪＩＳ　Ｋ５６００－５－４で示す鉛筆硬度試験（試験は、試験試料をガラス板に乗せた状態で測定する。荷重は５００ｇ。）で「２Ｈ」以上の硬度を示すことが好ましい。高屈折率層の鉛筆硬度が前記範囲であることにより、高屈折率層がハードコート層を兼ねることができ、この場合、ハードコート層を別途設ける必要がなくなり、その結果反射防止フィルム全体の厚みを薄くすることができる。
　また、高屈折率層の平均厚みは、通常０．３～２０μｍ、好ましくは０．８～１０μｍであり、より好ましくは１．０～４μｍであり、さらにより好ましくは１．０～３μｍである。
　前記高屈折率層を形成する材料としては、無機材料、合成樹脂またはこれらの混合物を用いることができるが、生産性に優れるという観点から樹脂材料が好ましい。
　前記合成樹脂としては、高屈折率層形成後の皮膜として十分な強度を持ち、さらに透明性のあるものを特に制限なく使用できる。前記合成樹脂としては熱硬化型樹脂、熱可塑性樹脂、電離放射線硬化型樹脂が挙げられるが、皮膜の強度、加工性の点で、熱硬化型樹脂又は電離放射線硬化型樹脂が好ましい。
　熱硬化型樹脂としては、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン-尿素共縮合樹脂、シリコーン樹脂、ポリシロキサン樹脂が挙げられる。
　また、これらの熱硬化性樹脂には、溶剤、触媒、前述した微粒子等を必要に応じて加えてもよい。
　電離放射線硬化型樹脂は、分子中に重合性不飽和結合またはエポキシ基を有するプレポリマー、オリゴマーまたはモノマーが、電離放射線の照射により硬化する樹脂である。電離放射線は、電磁波又は荷電粒子線のうち分子を重合又は架橋し得るエネルギー量子を有するものを指し、通常は紫外線を用いる。
　紫外線または電子線により硬化する樹脂としては特に制限はなく、従来から使用されているものの中から、適宜選択して用いることができる。紫外線硬化型樹脂としては、光重合性プレポリマー、又は光重合性モノマーと光重合開始剤や光増感剤を含有するもの、また、電子線硬化型樹脂としては、光重合性プレポリマー又は光重合性モノマーを含有するものが挙げられる。
　前記光重合性プレポリマーとしては、例えばポリエステルアクリレート系、エポキシアクリレート系、ウレタンアクリレート系、ポリオールアクリレート系等が挙げられる。これらの光重合性プレポリマーは１種用いても良いし、２種以上を組み合わせて用いても良い。また，光重合性モノマーとしては、例えばポリメチロールプロパントリアクリレート、ポリメチロールプロパントリメタクリレート、ヘキサンジオールアクリレート、ヘキサンジオールメタクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート、１，６－ヘキサンジオールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート等が挙げられる。
　本発明においては、プレポリマーとしてウレタンアクリレート系、モノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート若しくはジペンタエリスリトールヘキサメタクリレートを用いることが好ましい。
　光重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、α－アミロキシムエステル、テトラメチルチュウラムモノサルファイド、チオキサントン類等が挙げられる。また、光増感剤としては、ｎ－ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ－ｎ－ブチルホスフィン等を単独又は混合して用いることができる。
　本発明においては、高屈折率層は、導電性微粒子を含むことが好ましい。高屈折率層を導電性微粒子を含むものとすることにより、高屈折率層としての機能だけでなく、帯電防止層としての機能を付与することができる。
　導電性微粒子は、導電性を有する微粒子であれば特に制約はないが、透明性に優れることから、金属酸化物の微粒子が好ましい。
　導電性の金属酸化物微粒子を構成する金属酸化物としては、例えば、五酸化アンチモン、酸化スズ、リンがドープされた酸化スズ（ＰＴＯ）、アンチモンがドープされた酸化スズ（ＡＴＯ）、スズがドープされた酸化インジウム（ＩＴＯ）、亜鉛がドープされた酸化インジウム（ＩＺＯ）、アルミニウムがドープされた酸化亜鉛（ＡＺＯ）、フッ素がドープされた酸化スズ（ＦＴＯ）、酸化亜鉛／酸化アルミニウム、アンチモン酸亜鉛等が挙げられる。これらの金属酸化物微粒子は一種単独で、あるいは二種以上を組み合わせて用いることができる。これらの中でも、透明性に優れること等から、五酸化アンチモン微粒子及びリンがドープされた酸化スズ微粒子から選ばれる少なくとも一種が好ましい。
　また本発明においては、導電性の金属酸化物微粒子として、導電性を持たない金属酸化物微粒子に、導電性金属酸化物を被覆することによって、導電性が付与された微粒子も使用することもできる。例えば、屈折率は高いが導電性を有しない酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化セリウム等の微粒子の表面に、前記導電性金属酸化物を被覆して導電性を付与して用いることができる。
また、導電性を持たない金属酸化物粒子と導電性金属酸化物微粒子を併用することもできる。
　導電性微粒子の数平均粒子径は、２００ｎｍ以下であることが好ましく、より好ましくは５０～１５ｎｍである。数平均粒子径は、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）等により得られる二次電子放出のイメージ写真からの目視やイメージ写真を画像処理することにより、又は動的光散乱法、静的光散乱法等を利用する粒度分布計等により計測することができる
　本発明においては、高屈折率層における導電性微粒子の含有量は、３０体積％以上であることが好ましく、４０～６０体積％であることがさらに好ましい。
　本発明において、高屈折率層は、前述の高屈折率層を形成する材料を含む高屈折率層形成用組成物を必要に応じて溶媒で希釈し、透明フィルムの前記凹凸が施された面に直接又は透明フィルム前記凹凸が施された面に形成されたその他の層の上に塗布し、得られた塗膜に、必要に応じて加熱及び／又は電離放射線を照射することで形成することができる。透明フィルムに高屈折率層形成用組成物を塗布する手段としては、スピンコート法、ディップ法、スプレー法、バーコート法、グラビア法など公知の方法を用いることができる。
　高屈折率層形成用組成物中の固形分濃度は、溶液安定性を損なわない範囲で適宜調整することができる。通常、１０～８０重量％、好ましくは２０～５０重量％の程度とするのが好ましい。固形分濃度がこれ以下になると、塗布液の対流が発生し、高屈折率層形成後の表面凹凸が大きくなる。
　高屈折率層形成用組成物には、層厚の均一性や密着性向上等を目的としてレベリング剤や分散剤を含有させてもよい。レベリング剤としては、界面活性剤や、シリコーンオイル、フッ素化ポリオレフィン、ポリアクリル酸エステル等の表面張力を低下させる化合物が挙げられ、分散剤としては、シランカップリング剤等が挙げられる。
　シリコーンオイルとしては、未変性のジメチルシリコーンオイル、変性シリコーンオイルが挙げられる。変性シリコーンオイルとしては、長鎖アルキル変性ジメチルシリコーンオイル、フッ素変性ジメチルシリコーンオイル、メタクリル変性ジメチルシリコーンオイル、カルビノール変性ジメチルシリコーンオイル、及びメチルスチリル変性ジメチルシリコーンオイルが挙げられる。
　界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤やシリコーン系界面活性剤が挙げられる。フッ素系の界面活性剤としては、スリーエム社製のフロラードＦＣ-４３１等のパーフルオロアルキルスルホン酸アミド基含有ノニオン、大日本インキ社製のメガファックＦ-１７１、Ｆ-１７２、Ｆ-１７３、Ｆ-１７６ＰＦ、Ｆ-４７０、Ｆ-４７１等のパーフルオロアルキル基含有オリゴマー等が挙げられる。シリコーン系界面活性剤としては、エチレングリコール、プロピレングリコール等のオリゴマー等の各種の置換基で側鎖や主鎖の末端が変性されたポリジメチルシロキサン等が挙げられる。
　高屈折率層形成用組成物中に含まれる界面活性剤の含有量は、高屈折率層形成用組成物の固形分に対して０．1～２．５重量％が好ましく、より好ましくは０．５～２．０重量％である。
　本発明においては、高屈折率層の前記透明フィルムから遠い側の界面の算術平均粗さ（Ｒａｈ）とＲａとの関係が、Ｒａｈ＜Ｒａとなることが好ましい。更に、Ｒａｈは０．１μｍ以下であることが好ましく、０．０７μｍ以下であることがより好ましい。Ｒａｈが上記数値よりも大きくなると、後述する低屈折率層を形成した後の凹凸が大きくなり、反射防止フィルムを表示装置に取り付けた際に、表示装置の鮮明性が低下する傾向がある。
　高屈折率層の前記透明フィルムから遠い側の界面の算術平均粗さを前記範囲にする方法としては、前述した蒸発速度の小さい溶媒を用いる方法の他、高屈折率層形成用組成物の表面張力を小さくする方法が挙げられる。
　高屈折率層形成用組成物の表面張力を小さくする方法としては、高屈折率層形成用組成物に後述のレベリング剤を添加する方法や、高屈折率層形成用組成物の固形分濃度を小さくする方法が挙げられる。
　高屈折率層の表面には、表面処理を施すことができる。表面処理の手段としては、前述した透明フィルムの表面処理方法と同様の方法が挙げられる。
　高屈折率層形成後の高屈折率層表面と水との接触角は、透明フィルム表面と水との接触角よりも高いことが好ましい。
［低屈折率層］
　本発明の反射防止フィルムは、前記高屈折率層上に低屈折率層を有する。低屈折率層は前述の高屈折率層よりも低い屈折率を有する層である。低屈折率層の屈折率は、１．４未満であることが好ましい。
　低屈折率層の屈折率の調整は、例えば、前記低屈折率層中に空孔を分散する事で行うことができる。
　前記低屈折率層中に空孔を分散する方法としては、後述する外殻の内部に空洞が形成された中空の構造を有する微粒子を分散させる方法や、低屈折率層を発泡性の物質を含む材料を用いて形成する方法が挙げられる。
　空孔を有する低屈折率層の屈折率は好ましくは１．２５～１．３９、さらに好ましくは１．３０～１．３８である。低屈折率層の屈折率を前記範囲にすることにより、反射防止性に加えて、耐擦傷性を付与することができる。
　低屈折率層の平均厚みは、通常１０～１０００ｎｍ、好ましくは２０～５００ｎｍである。
　低屈折率層を形成する材料は、熱または電離放射線の照射により硬化する樹脂を含む材料であることが好ましい。
（熱硬化樹脂）
　熱により硬化する樹脂としては、一般式、Ｒ１ｎＳｉ（ＯＲ２）ｍ（式中、Ｒ１は置換基を有していてもよい一価の炭化水素基、ＯＲ２は加水分解性基を表し、ｎ、ｍは整数を表し、ｍは１～４であり、ｍ＋ｎは４である。）で表されるケイ素化合物を、全部又は部分的に加水分解して得られるものを用いることができる。
　置換基を有してもよい一価の炭化水素基Ｒとしては、アルキル基、フェニル基、シクロアルキル基、アリール基、ハロアルキル基；アルケニルカルボニルオキシアルキル基；エポキシ基を有するアルキル基、メルカプト基を有するアルキル基、アミノ基を有するアルキル基、パーフルオロアルキル基等を挙げることができる。この中でも、合成の容易性から、炭素数１～４のアルキル基、フェニル基、パーフルオロアルキル基が好ましい。
　加水分解性基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等のアルコキシル基；アセトキシ基、プロピオニルオキシ基等のアシルオキシ基；オキシム基（－Ｏ－Ｎ＝Ｃ－Ｒ１（Ｒ２））、エノキシ基（－Ｏ－Ｃ（Ｒ１）＝Ｃ（Ｒ２）Ｒ３）、アミノ基、アミノキシ基（－Ｏ－Ｎ（Ｒ１）Ｒ２）、アミド基（－Ｎ（Ｒ１）－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒ２）等を挙げることができる。これらの基において、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３は、それぞれ独立して水素原子または一価の炭化水素基を表す。これらの中でも、ＯＲ２としては、強固な硬化物が得られる点からアルコキシル基が好ましい。
　Ｒ１ｎＳｉ（ＯＲ２）ｍで表されるケイ素化合物としては、ｎが０～２の整数である珪素化合物が好ましい。その具体例としては、アルコキシシラン類、アセトキシシラン類、オキシムシラン類、エノキシシラン類、アミノシラン類、アミノキシシラン類、アミドシラン類等を挙げることができる。これらの中でも、強固な硬化物が得られる点からアルコキシシラン類がより好ましい。
　ｎが０であるテトラアルコキシシランとしては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン等を例示でき、ｎが１であるオルガノトリアルコキシシランとしては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、３，３，３-トリフルオロプロピルトリメトキシシラン等を例示できる。ｎが２であるジオルガノジアルコキシシランとしては、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン等を例示できる。
　前記ケイ素化合物は、フッ素を含有するものであることが好ましい。フッ素を含有するケイ素化合物としては含フッ素アルコキシシランが挙げられ、たとえば、一般式　ＣＦ３（ＣＦ２）ｎＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＲ４）３（式中、Ｒ４は、炭素数１～５個のアルキル基を示し、ｎは０～１２の整数を示す）で表される化合物があげられる。より具体的には、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリエトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリエトキシシランなどがあげられる。これらのなかでも前記ｎが２～６の化合物が好ましい。
　前記ケイ素化合物は、それぞれ単独で、又は２種以上混合して用いることができる。また、２種以上のケイ素化合物の混合および加水分解の順番は、逐次であっても同時であってもよい。
（電離放射線硬化型樹脂）
　電離放射線の照射により硬化する樹脂としては、アクリロイル基若しくはメタクリロイル基を有するモノマー、プレポリマーを好ましく用いる事ができる。
　モノマーとしては、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレートなどの単官能アクリレートもしくは単官能メタクリレート；ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等の多官能アクリレートもしくは多官能メタクリレートが挙げられる。
　プレポリマーとしてはポリエステルアクリレート、ポリウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリオールアクリレート等を挙げることができる。
（フィラー）
　低屈折率層にはフィラーを添加してもよい。フィラーとしては無機化合物の微粒子であれば、特に制限されない。無機化合物としては、無機酸化物が一般的である。無機酸化物としては、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、Ｂ２Ｏ３、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、ＳｎＯ２、ＣｅＯ２、Ｐ２Ｏ５、Ｓｂ２Ｏ３、ＭｏＯ３、ＺｎＯ２、ＷＯ３等の一種または二種以上を挙げることができる。
（中空微粒子）
　微粒子は外殻の内部に空洞が形成された中空の構造を有することが好ましく、このようなものとしては、シリカ系中空微粒子が特に好ましい。低屈折率層に、中空のシリカ微粒子が添加されることにより、低屈折率性に加えて耐擦傷性の向上を図ることができる。
　中空微粒子としては、（Ａ）単一の無機酸化物からなる単一層、（Ｂ）種類の異なる無機酸化物からなる複合酸化物の単一層、（Ｃ）上記（Ａ）と（Ｂ）との二重層を包含するものを利用できる。
　中空微粒子の平均粒子径は、特に限定されないが、５～２０００ｎｍが好ましく、２０～１００ｎｍがより好ましい。５ｎｍよりも小さいと、中空による低屈折率化の効果が小さくなる。２０００ｎｍより大きいと、透明性が低下し、拡散反射による散乱が大きくなってしまう。ここで、平均粒子径は、透過型電子顕微鏡観察による数平均粒子径である。
　中空微粒子の配合量は、特に限定されないが、低屈折率層全体に対して、１０～３０重量％であることが好ましい。この範囲であれば、低屈折率性と耐擦傷性とをともに有することができる。
（その他の成分）
　低屈折率層形成用組成物には、他の成分を含有していてもよい。他の成分としては、光重合開始剤；界面活性剤等のレベリング剤、シランカップリング剤等の分散剤、増粘剤などが挙げられる。レベリング剤、分散剤としては、前述の高屈折率層形成用組成物に用いるのと同様のレベリング剤、分散剤が挙げられる。
　低屈折率層形成用組成物は界面活性剤を含むことが好ましい。低屈折率層形成用組成物中に含まれる界面活性剤の含有量は、低屈折率層形成用組成物の固形分に対して０．1～２．５重量％が好ましく、より好ましくは０．５～２．０重量％である。界面活性剤の含有量が前記範囲よりも少ないと、塗布液の対流が発生し、低屈折率層表面の凹凸を小さくすることができない。
　界面活性剤としては、前述の高屈折率層形成用組成物に用いるのと同様の界面活性剤が挙げられる。
　光重合開始剤としては、公知の光重合開始剤が挙げられ、具体的にはアリールケトン系光重合開始剤（例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、アルキルアミノベンゾフェノン類、ベンジル類、ベンゾイン類、ベンゾインエーテル類、ベンジルジメチルケタール類、ベンゾイルベンゾエート類、α－アシロキシムエステル類など）；含硫黄系光重合開始剤（例えば、スルフィド類、チオキサントン類など）；アシルホスフィンオキシド系光重合開始剤；その他の光重合開始剤がある。また、光重合開始剤はアミン類などの光増感剤と組み合わせても使用できる。
　光重合開始剤の含有量は、電離放射線硬化樹脂１００重量部に対して０．０１～２０重量部、好ましくは０．１～１０重量部である。
　本発明において、低屈折率層は、前述の低屈折率層を構成する材料を必要に応じて溶媒で希釈した低屈折率層形成用組成物を調整し、高屈折率層上に塗工した後、乾燥、硬化することにより低屈折率層の硬化膜を形成することができる。
　塗工方法は特に制限されず、通常の方法、例えば、ドクターブレード法、グラビアロールコーター法、ディッピング法、スピンコート法、刷毛塗り法フレキソ印刷法などがあげられる。
　低屈折率層形成用組成物の調製に用いることのできる溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｎ－ブタノール、イソブタノール等のアルコール類；エチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、酢酸エチレングリコールモノエチルエーテル等のグリコール類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ｎ－ヘキサン、ｎ－ヘプタン等の脂肪族炭化水素；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類；及びこれらの２種以上からなる組み合わせ；等が挙げられる。
　これらの中でも、塗布液の対流を抑制し、得られる低屈折率層の表面凹凸を低減する目的から、ＡＳＴＭ　Ｄ３５３９－８７に従い測定した酢酸ｎ-ブチルの蒸発速度を１とした場合の相対蒸発速度で３以下である溶媒を用いることが好ましく、２以下である溶媒を用いることがより好ましい。このような有機溶剤としては、イソプロピルアルコール、メチルイソブチルケトンが挙げられる。
　低屈折率層形成用組成物中の固形分濃度は、溶液安定性を損なわない範囲で適宜調整することができる。低屈折率層を厚み精度よく形成することが好ましいため、通常、０．１～２０重量％、好ましくは０．５～１０重量％の程度とするのが、取扱い易く好ましい。
　硬化は、低屈折率層形成用組成物に応じて、加熱および／または電離放射線を照射することにより行うことができる。硬化条件は使用する溶媒の沸点や飽和蒸気圧、透明基材の種類等により適宜に決定できるが、透明基材の着色や分解を抑えるため、加熱する場合には、通常１６０℃以下（温度の下限は、特に限定されないが、あまり低温では硬化が促進されないため、室温以上とすることができる。）、ＵＶ照射する場合には通常６００ｍＪ／ｃｍ２以下とするのが好ましい（照射量の上限は、特に限定されないが、100ｍＪ／ｃｍ２以上とすることができる）。
　また、低屈折率層の透明フィルムから遠い側の表面の算術平均粗さ（Ｒａｌ）とＲａｈとの関係が、Ｒａｌ＜Ｒａｈとなることが好ましい。更に、Ｒａｌは０．０６μｍ以下であることが好ましく、０．０４μｍ以下であることがより好ましい。Ｒａｌがこれ以上であると、表面凹凸による外光の散乱が大きなり、表示画像の鮮明性が低下する傾向がある。
　Ｒａｌを上記範囲にする方法としては、前述した範囲の蒸発速度を有する溶媒を用いることの他、低屈折率層形成用組成物の表面張力を小さくする方法が挙げられる。
　低屈折率層形成用組成物の表面張力を小さくする方法としては、低屈折率層形成用組成物に前述の界面活性剤を添加する方法や、低屈折率層形成用組成物の固形分濃度を小さくする方法が挙げられる。
　低屈折率層表面の水との接触角は、高屈折率層表面の水との接触角よりも高いことが好ましい。低屈折率層表面の水との接触角を、高屈折率層表面の水との接触角よりも高くすることによって、防汚性が向上する効果が得られる。
　本発明においては、低屈折率層の上に防汚層を有していても良い。防汚層は、低屈折率層を保護し、かつ、防汚性能を高めるために設けるものである。
　防汚層の形成材料としては、低屈折率層の機能が阻害されず、防汚層としての要求性能が満たされる限り特に制限はない。通常、疎水基を有する化合物を好ましく使用できる。
　具体的な例としてはパーフルオロアルキルシラン化合物、パーフルオロポリエーテルシラン化合物、フッ素含有シリコーン化合物を使用することができる。防汚層の形成方法は、形成する材料に応じて、例えば、蒸着、スパッタリング等の物理的気相成長法；化学的気相成長（ＣＶＤ）法；湿式コーティング法；等を用いることができる。防汚層の厚みは特に制限はないが、通常２０ｎｍ以下が好ましく、１～１０ｎｍであるのがより好ましい。
　本発明の反射防止フィルムの反射率は、波長４３０～７００ｎｍにおける入射角５°で測定した最小値が１．５％以下であることが好ましい。最小反射率を１．５％以下にすることで、干渉ムラが更に抑制される。
　最小反射率が１．５％以下の反射防止フィルムは、Ｒａｌを小さくし、且つ高屈折率層の屈折率ｎHと低屈折率層の屈折率ｎLとを、ｎH 1/2－０．２＜ｎL＜ｎH 1/2＋０．２の関係を有するように、高屈折率層と低屈折率層を積層することで得ることができる。
　本発明の反射防止フィルムのヘイズは２％以下であることが好ましく、１．５％以下であることがより好ましい。ヘイズがこれ以上であると表示画像が白っぽくなる傾向があり視認性が低下する。
　ヘイズが２％以下の反射防止フィルムは、高屈折率層及び／又は低屈折率層を、前述したレベリング剤を含む材料を用いて形成することで得ることができる。
　本発明の反射防止フィルムは、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、陰極管表示装置（ＣＲＴ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）、電子ペーパー，タッチパネルなどの表示装置に、直接に貼合することにより、または偏光板保護フィルム、前面板など表示装置に組み込まれる表面部材と置き換えることにより用いることができる。
　本発明を、実施例を示しながら、さらに詳細に説明するが、本発明は以下の実施例のみに限定されるものではない。なお部及び％は特に断りのない限り重量基準である。
（透明フィルムの膜厚）
　フィルムをエポキシ樹脂に包埋したのち、ミクロトーム（大和工業社製、製品名「ＲＵＢ－２１００」）を用いてスライスし、走査電子顕微鏡を用いて断面を観察し、測定した。
（透明基材の屈折率）
　透明基材の材料を単層で凹凸を設けずにをフィルム状に成形し、プリズムカプラー（Ｍｅｔｒｉｃｏｎ社製、製品名「ｍｏｄｅｌ２０１０」）を用い、波長６３３ｎｍ，温度２０℃±２℃、湿度６０±５％の条件下で測定した。
（高屈折率層および低屈折率層の屈折率）
　高速分光エリプソメトリ(Ｊ．Ａ．Ｗｏｏｌｌａｍ社製、製品名「Ｍ－２０００Ｕ」)を用い,入射角度をそれぞれ５５，６０，６５°、温度２０℃±２℃、湿度６０±５％の条件下で測定した場合の、波長領域４００～１０００ｎｍのスペクトルから算出した。
（耐擦傷性）
　スチールウール＃００００に荷重０．０２５ＭＰａをかけた状態で、反射防止フィルムの低屈折率層の表面を１０往復させ、往復させた後の表面状態を目視で観測した。
Ａ：良好。傷が認められない。
Ｂ：中等度。スジ傷が３本以上ある。
Ｃ：不良。スジ傷が８本以上ある。
（ヘイズ）
　濁度計（日本電色社製、製品名「ＮＤＭ　２０００」）を用いて測定した。
（最小反射率）
　分光光度計（日本分光社製、製品名「Ｖ－５５０」）を用いて、波長４３０～７００ｎｍにおける入射角５°での反射率を測定し（測定波長間隔は１ｎｍ）、前記波長域における最小反射率を算出した。
（Ｒａ、Ｓｍ測定）
　表面粗さ計（ミツトヨ社製、製品名「ＳＪ４００」）を用い、ＪＩＳ　Ｂ　０６０１：１９９４に基づき測定を行った。
　Ｓｍ（凹凸の平均間隔）とは、測定される断面曲線から、カットオフ値λｃの高域フィルタによって長波長成分を遮断して得られた輪郭曲線（粗さ曲線）を求め、粗さ曲線の平均線に対して基準長さ（Ｌ）を抜き取り、基準長さ上の隣り合う山と谷の長さ（Ｘｓｉ）の平均値のことである。Ｒａ（算術平均粗さ）とは、前記したような方法で粗さ曲線を求め、その曲線の基準長さにおける高さ（平均線から測定曲線までの距離）の絶対値の平均値のことである。
（接触角測定）
　接触角測定器（協和界面科学社製、製品名「ＤＭ５００」）にて蒸留水を滴下し、２秒後の接触角を測定した。
（干渉ムラ（検査方法１））
　反射防止フィルムの裏面に黒ビニールテープ（日東電工社製、Ｎｏ．２１）を貼り、暗室内で３波長の光源下に置き、反射防止フィルムの法線方向から方位角０°で観察し、干渉ムラの有り無しを目視検査する。
良：干渉ムラ無
不良：干渉ムラ有
（干渉ムラ（検査方法２））
　反射防止フィルムの裏面に黒ビニールテープ（日東電工社製、Ｎｏ．２１）を貼り、暗室内で３波長の光源下に置き、反射防止フィルムの法線方向から方位角３０～６０°の範囲で観察し、干渉ムラの有り無しを目視検査する。
なし：良好。干渉ムラ無
あり：不良。干渉ムラ有
（鮮明性）
　ＪＩＳ　Ｋ　７１０５に準じ、写像鮮明性測定装置（スガ試験機社製）により、０．５ｍｍ幅の光学くしで測定した。数値が高いほど鮮明性が高いことを意味する。
　写像鮮明性は、試料からの透過光を移動する光学クシを通して測定し、その値を計算によって求めるものである。試料がボケを生じるものの場合、光学クシ上に結像されるスリットの像は、そのボケの影響で太くなるため、透過部の位置ではスリット像の両端が不透明部にかかり、１００％あった光量が減少する。また、不透明部の位置ではスリット像の両端は不透明部から光が漏れて、０％の光量が増加する。
　鮮明性の値は、光学クシの透明部の透過光最大値Ｍと、不透明部の最小値ｍから次式によって定義される。
　鮮明性の値 Ｃ（％）＝[（Ｍ－ｍ）／（Ｍ＋ｍ）] × １００
（コントラスト）
　市販の液晶表示装置から反射防止フィルムを外して試験装置とした。
　反射防止フィルムの反射防止層が形成されていない側をグリセリン（屈折率１．４９）を介して表示装置と密着させ、表示装置の黒表示、白表示を行い、輝度計（トプコン社製、製品名「ＢＭ－５」）にて反射防止フィルムの中心部分の輝度をはかり、コントラスト比＝白表示時の輝度／黒表示時の輝度として算出した。
（輝度）
　市販の液晶表示装置から反射防止フィルムを外して試験装置とした。反射防止フィルムの反射防止層が形成されていない側をグリセリン（屈折率１．４９）を介して表示装置と密着させ、表示装置の白表示を行い、輝度計（トプコン社製、製品名「ＢＭ－５」）にて反射防止フィルムの中心部分の輝度を測定した。
（製造例１）透明フィルムＳ１の作製
　２種３層の多層共押出装置を使用して、両表面層を構成するポリメチルメタクリレート樹脂（住友化学社製、商品名「スミペックスＨＴ２０Ｙ」）、中間層を構成する耐熱性の高いポリメチルメタクリレート樹脂（住友化学社製、商品名「スミペックスＭＨ」）をそれぞれ、２０ｋｇ／ｈｒ、１０ｋｇ／ｈｒの押出量でＴ型ダイスより吐出させ、これを直後に線圧９ｋＮ／ｍ、ロール速度２０ｍ／ｍｉｎで、表面温度９０℃に加熱したＳｍが２５μｍの凹凸を有する賦形ロールと、表面温度９０℃に加熱した鏡面ロールでニップし、凹凸をフィルムに転写したのち、冷却を行い、３層構成の透明フィルム１を得た。
　透明フィルムＳ１を構成する各層の厚みは、凹凸が形成された側の表面層（表面層１）の厚みが４０μｍ、中間層が４０μｍ、凹凸が形成されていない側の表面層（表面層２）が４０μｍであり、透明フィルム１の総厚は１２０μｍであった。
　透明フィルムＳ１の凹凸が形成された面のＲａは０．０８μｍ、Ｓｍは２５μｍであり、表面層１の屈折率は１．４９、透明フィルムＳ１の凹凸が形成された面の接触角は８０°であった。
（製造例２）透明フィルムＳ２の作製
　製造例１において、鏡面ロール及び賦形ロールの温度を７０℃とし、Ｓｍが９０μｍの凹凸を有する賦形ロールを用いた以外は、製造例１と同様にして透明フィルムＳ２を得た。透明フィルムＳ２の凹凸が形成された面のＲａは０．１１μｍ、Ｓｍは９０μｍ、Ｒａ／Ｓｍは０．００１２であった。
（製造例３）透明フィルムＳ３の作製
　製造例２において、鏡面ロール及び賦形ロールの温度を９０℃とした以外は、製造例２と同様にして透明フィルムＳ３を得た。透明フィルムＳ３の凹凸が形成された面のＲａは０．１４μｍ、Ｓｍは９０μｍ、Ｒａ／Ｓｍは０．００１６であった。
（製造例４）透明フィルムＳ４の作製
　製造例２において、線圧１２ｋＮ／ｍ、ロール速度１０ｍ／ｍｉｎとし、賦形ロールの温度を１２０℃とした以外は、製造例１と同様にして透明フィルムＳ４を得た。透明フィルムＳ４の凹凸が形成された面のＲａは０．１８μｍ、Ｓｍは９０μｍ、Ｒａ／Ｓｍは０．００２であった。
（製造例５）透明フィルムＳ５の作製
　製造例１において、線圧１３ｋＮ／ｍ、ロール速度１０ｍ／ｍｉｎとし、Ｓｍが１６５μｍの凹凸を有する賦形ロールを用いた以外は、製造例１と同様にして透明フィルムＳ５を得た。透明フィルムＳ５の凹凸が形成された面のＲａは０．１８μｍ、Ｓｍは１６５μｍ、Ｒａ／Ｓｍは０．００１１であった。
（製造例６）透明フィルムＳ６の作製
　製造例１において、線圧１４ｋＮ／ｍ、ロール速度１０ｍ／ｍｉｎとし、Ｓｍが１８０μｍの凹凸を有する賦形ロールを用いた以外は、製造例１と同様にして透明フィルムＳ６を得た。透明フィルムＳ６の凹凸が形成された面のＲａは０．３μｍ、Ｓｍは１８０μｍ、Ｒａ／Ｓｍは０．００１７であった。
（製造例７）透明フィルムＳ７の作製
　製造例１において、線圧７ｋＮ／ｍ、ロール速度３０ｍ／ｍｉｎとし、Ｓｍが２０μｍの凹凸を有する賦形ロールを用いた以外は、製造例１と同様にして透明フィルムＳ７を得た。透明フィルムＳ７の凹凸が形成された面のＲａは０．０３μｍ、Ｓｍは２０μｍ、Ｒａ／Ｓｍは０．００１５であった。
（製造例８）透明フィルムＳ８の作製
　製造例１において、線圧１２ｋＮ／ｍとした以外は、製造例１と同様にして透明フィルムＳ８を得た。透明フィルムＳ８の凹凸が形成された面のＲａは０．１５μｍ、Ｓｍは２５μｍ、Ｒａ／Ｓｍは０．００６であった。
（製造例９）透明フィルムＳ９の作製
　製造例２において、Ｓｍが１２０μｍの凹凸を有する賦形ロールを用いた以外は、製造例１と同様にして透明フィルムＳ９を得た。透明フィルムＳ９の凹凸が形成された面のＲａは０．１μｍ、Ｓｍは１２０μｍ、Ｒａ／Ｓｍは０．０００８であった。
（製造例１０）透明フィルムＳ１０の作製
　２種３層の多層共押出装置を使用して、両表面層を構成するポリメチルメタクリレート樹脂（住友化学社製、商品名「スミペックスＨＴ２０Ｙ」）、中間層を構成する耐熱性の高いポリメチルメタクリレート樹脂（住友化学社製、商品名「スミペックスＭＨ」）をそれぞれ、２０ｋｇ／ｈｒ、１０ｋｇ／ｈｒの押出量でＴ型ダイスより吐出させ、これを直後に線圧１２ｋＮ／ｍ、ロール速度２０ｍ／ｍｉｎで、表面温度９０℃に加熱したＳｍが３２μｍの凹凸を有する賦形ロールと、表面温度９０℃に加熱した鏡面ロールでニップし、凹凸をフィルムに転写したのち、冷却を行い、３層構成の透明フィルムＳ１０を得た。
　透明フィルムＳ１０を構成する各層の厚みは、凹凸が形成された側の表面層（表面層１）の厚みが４０μｍ、中間層が４０μｍ、凹凸が形成されていない側の表面層（表面層２）が４０μｍであり、透明フィルムＳ１０の総厚は１２０μｍであった。
　透明フィルムＳ１０の凹凸が形成された面のＲａは０．０９μｍ、Ｓｍは３２μｍであり、表面層１の屈折率は１．４９であった。
（製造例１１）透明フィルムＳ１１の作製
　製造例１０において、Ｓｍが５０μｍの凹凸を有する賦形ロールを用いた以外は、製造例１０と同様にして透明フィルムＳ１１を得た。透明フィルムＳ１１の凹凸が形成された面のＲａは０．１３μｍ、Ｓｍは５０μｍであった。
（製造例１２）透明フィルムＳ１２の作製
　製造例１０において、線圧を９ｋＮ／ｍとし、Ｓｍが１８μｍの凹凸を有する賦形ロールを用い、賦形ロールの表面温度を９０℃とした以外は、製造例１０と同様にして透明フィルムＳ１２を得た。透明フィルムＳ１２の凹凸が形成された面のＲａは０．０５２μｍ、Ｓｍは１８μｍであった。
（製造例１３）透明フィルムＳ１３の作製
　製造例１０において、ロール速度を１２ｍ／ｍｉｎとし、Ｓｍが３５μｍの凹凸を有する賦形ロールを用い、賦形ロールの表面温度を１２０℃とした以外は、製造例１０と同様にして透明フィルムＳ１３を得た。透明フィルムＳ１３の凹凸が形成された面のＲａは０．１０５μｍ、Ｓｍは３５μｍであった。
（製造例１４）透明フィルムＳ１４の作製
　製造例１０において、ロール速度を１８ｍ／ｍｉｎとし、Ｓｍが４２μｍの凹凸を有する賦形ロールを用い、賦形ロールの表面温度を１２０℃としとした以外は、製造例１０と同様にして透明フィルムＳ１４を得た。透明フィルムＳ１４の凹凸が形成された面のＲａは０．１０５μｍ、Ｓｍは４２μｍであった。
（製造例１５）透明フィルムＳ１５の作製
　製造例１０において、線圧を１６ｋＮ／ｍ、ロール速度を１８ｍ／ｍｉｎとし、Ｓｍが３９μｍの凹凸を有する賦形ロールを用い、賦形ロールの表面温度を１２０℃とした以外は、製造例１０と同様にして透明フィルムＳ１５を得た。透明フィルムＳ１５の凹凸が形成された面のＲａは０．１１５μｍ、Ｓｍは３９μｍであった。
（製造例１６）透明フィルムＳ１６の作製
　製造例１０において、線圧を１３ｋＮ／ｍ、ロール速度を１６ｍ／ｍｉｎとし、Ｓｍが４７μｍの凹凸を有する賦形ロールを用い、賦形ロールの表面温度を１００℃とした以外は、製造例１０と同様にして透明フィルムＳ１６を得た。透明フィルムＳ１６の凹凸が形成された面のＲａは０．１１５μｍ、Ｓｍは４７μｍであった。
（製造例１７）透明フィルムＳ１７の作製
　製造例１０において、線圧を１６ｋＮ／ｍ、ロール速度を１４ｍ／ｍｉｎとし、Ｓｍが５２μｍの凹凸を有する賦形ロールを用い、賦形ロールの表面温度を１５０℃とし、鏡面ロールの表面温度を１００℃とした以外は、製造例１０と同様にして透明フィルムＳ１７を得た。透明フィルムＳ１７の凹凸が形成された面のＲａは０．１５７μｍ、Ｓｍは５２μｍであった。
（製造例１８）透明フィルムＳ１８の作製
　製造例１０において、線圧を１７ｋＮ／ｍ、ロール速度を１６ｍ／ｍｉｎとし、Ｓｍが６０μｍの凹凸を有する賦形ロールを用い、賦形ロールの表面温度を１４０℃とした以外は、製造例１０と同様にして透明フィルムＳ１８を得た。透明フィルムＳ１８の凹凸が形成された面のＲａは０．１４μｍ、Ｓｍは６０μｍであった。
（製造例１９）透明フィルムＳ１９の作製
　製造例１０において、ロール速度を１４ｍ／ｍｉｎとし、Ｓｍが３５μｍの凹凸を有する賦形ロールを用い、賦形ロールの表面温度を１００℃とした以外は、製造例１０と同様にして透明フィルムＳ１９を得た。透明フィルムＳ１９の凹凸が形成された面のＲａは０．０７５μｍ、Ｓｍは３５μｍであった。
（製造例２０）透明フィルムＳ２０の作製
　製造例１０において、Ｓｍが１７μｍの凹凸を有する賦形ロールを用いた以外は、製造例１０と同様にして透明フィルムＳ２０を得た。透明フィルムＳ２０の凹凸が形成された面のＲａは０．０７５μｍ、Ｓｍは１７μｍであった。
（製造例２１）透明フィルムＳ２１の作製
　製造例１０において、Ｓｍが３５μｍの凹凸を有する賦形ロールを用いた以外は製造例１０と同様にして透明フィルムＳ２１を得た。透明フィルムＳ２１の凹凸が形成された面のＲａは０．１５μｍ、Ｓｍは３５μｍであった。
（製造例２２）透明フィルムＳ２２の作製
　製造例１０において、Ｓｍが６５μｍの凹凸を有する賦形ロールを用いた以外は、製造例１０と同様にして透明フィルムＳ２２を得た。透明フィルムＳ２２の凹凸が形成された面のＲａは０．１１５μｍ、Ｓｍは６５μｍであった。
（製造例２３）透明フィルムＳ２３の作製
　製造例１０において、Ｓｍが５２．５μｍの凹凸を有する賦形ロールを用いた以外は、製造例１０と同様にして透明フィルムＳ２３を得た。透明フィルムＳ２３の凹凸が形成された面のＲａは０．２２５μｍ、Ｓｍは５２．５μｍであった。
（製造例２４）透明フィルムＳ２４の作製
　製造例２２において、線圧を１３ｋＮ／ｍとし、賦形ロールの表面温度を１１０℃とした以外は、製造例２２と同様にして透明フィルムＳ２４を得た。透明フィルムＳ２４の凹凸が形成された面のＲａは０．１７５μｍ、Ｓｍは６５μｍであった。
（製造例２５）透明フィルムＳ２５の作製
　製造例１０において、Ｓｍが７５μｍの凹凸を有する賦形ロールを用いた以外は、製造例１０と同様にして透明フィルムＳ２５を得た。透明フィルムＳ２５の凹凸が形成された面のＲａは０．１４μｍ、Ｓｍは７５μｍであった。
（製造例２６）高屈折率層形成用組成物Ｈ１の調製
　アクリロイル基を含有するオリゴマー（日本合成化学工業社製、商品名「ＵＶ－１７００Ｂ」）の１００部に、Ｓｂ２Ｏ５粒子（触媒化成工業社製、平均粒径３０ｎｍ）２００部と、光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製、商品名「ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４」）２部とを加え、メタクリル変性ジメチルシリコーンオイル（信越化学工業社製、商品名「Ｘ－２２－１６４Ａ」）を１部加え、攪拌機にて２０００ｒｐｍで５分間攪拌することにより、高屈折率層形成用組成物Ｈ１を得た。
（製造例２７）高屈折率層形成用組成物Ｈ２の調製
　製造例２６において、Ｓｂ２Ｏ５粒子２００部に代えて、Ｓｂ２Ｏ５粒子を５０部とした以外は、製造例２６と同様にして高屈折率層形成用組成物Ｈ２を得た。
（製造例２８）高屈折率層形成用組成物Ｈ３の調製
　製造例２６において、メタクリル変性ジメチルシリコーンオイルを加えなかった以外は、製造例２６と同様にして高屈折率層形成用組成物Ｈ３を得た。
（製造例２９）低屈折率層形成用組成物Ｌ１の調製
　還流管を備えつけた４つ口反応フラスコにエタノール２００部を投入し、撹拌下にこのエタノールに蓚酸１２０部を少量づつ添加することにより、蓚酸のエタノール溶液を調製した。次いでこの溶液をその還流温度まで加熱し、還流下のこの溶液中にテトラエトキシシラン２０部とトリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン（ＧＥ東芝シリコーン社製、商品名「ＴＳＬ８２５７」）４部の混合物を滴下した。滴下終了後も、還流下に加熱を５時間続けた後冷却し、メタノールにて固形分が１重量％になるように希釈することにより液１を調製した。
　次に、中空シリカ微粒子（数平均粒子径３０ｎｍ、屈折率１．２９）を前記液１の固形分に対し８０重量％になるように添加し、低屈折率層形成用組成物Ｌ１を調製した。
（製造例３０）低屈折率層形成用組成物Ｌ２の調製
　アクリロイル基を含有するモノマー（旭電化工業社製、商品名「オプトマーＫＲ５６６」）１００部に光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製、商品名「ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４」）２部、中空シリカ微粒子（数平均粒子径３０ｎｍ、屈折率１．２９）１５０部と、メタクリル変性ジメチルシリコーンオイル（信越化学工業社製、商品名「Ｘ－２２－１６４Ａ」）１０部を加え、攪拌機にて２０００ｒｐｍで５分間攪拌することにより、低屈折率層形成用組成物Ｌ２を得た。
（製造例３１）低屈折率層形成用組成物Ｌ３の調製
　製造例３０において、中空シリカ微粒子１５０部に代えて、中空シリカ微粒子を１００部とした以外は、製造例３０と同様にして低屈層形成用組成物Ｌ３を得た。
（製造例３２）低屈折率層形成用組成物Ｌ４の調製
　製造例３０において、メタクリル変性ジメチルシリコーンオイルを加えなかった以外は、製造例３０と同様にして低屈層形成用組成物Ｌ４を得た。
（実施例１）
　製造例１で得られた透明フィルムＳ１の凹凸が形成された面に、製造例２６で得られた高屈折率層形成用組成物Ｈ１をバーコーターで塗布した後、紫外線照射機を用いて波長３００～３９０ｎｍの範囲において積算光量２００ｍＪ／ｃｍ２となるように紫外線照射を行い硬化させ、厚み３μｍの項屈折率層を形成させて、透明フィルム／高屈折率層となる積層体を得た。高屈折率層の屈折率は１．６２であり、高屈折率層の透明フィルムから遠い側の面の接触角は９０°であった。
　次に、高屈折率層の上に、製造例２９で得られた低屈折率層用形成組成物Ｌ１をバーコーターで塗布し、得られた塗膜を６０℃で１分間乾燥・硬化させ、厚み１００ｎｍの低屈折率層を形成し、本発明の反射防止フィルム１を得た。低屈折率層の屈折率は１．３７であり、低屈折率層の透明フィルムから遠い側の面の接触角は１１０°であった。
　得られた反射防止フィルム１を、上記評価方法に従って評価した。干渉ムラは、上記検査方法１及び検査方法２のうち、検査方法１に従って評価した。反射防止フィルム１の評価結果を表１に示す。
（実施例２）
　実施例１において、透明フィルムＳ１の代わりに透明フィルムＳ２を用いた以外は実施例１と同様にして反射防止フィルム２を得た。
　反射防止フィルム２を、実施例１と同様に評価した。評価結果を表１に示す。
（実施例３）
　実施例１において、透明フィルムＳ１の代わりに透明フィルムＳ３を用いた以外は実施例１と同様にして反射防止フィルム３を得た。
　反射防止フィルム３を、実施例１と同様に評価した。評価結果を表１に示す。
（実施例４）
　実施例１において、透明フィルムＳ１の代わりに透明フィルムＳ４を用いた以外は実施例１と同様にして反射防止フィルム４を得た。
　反射防止フィルム４を、実施例１と同様に評価した。評価結果を表１に示す。
（実施例５）
　実施例１において、透明フィルムＳ１の代わりに透明フィルムＳ５を用いた以外は実施例１と同様にして反射防止フィルム５を得た。
　反射防止フィルム５を、実施例１と同様に評価した。評価結果を表１に示す。
（実施例６）
　実施例１において、低屈折率層用形成組成物Ｌ１の代わりに、製造例３０で得られた低屈折率層用形成組成物Ｌ２を用い、高屈折率層の上に、低屈折率層用形成組成物Ｌ２をバーコーターで塗布し、得られた塗膜を６０℃で１分間乾燥させ、波長３００～３９０ｎｍの範囲において積算光量１００ｍＪ／ｃｍ２となるように紫外線照射を行い硬化させた以外は実施例１と同様にして反射防止フィルム６を得た。低屈折率層の屈折率は１．３７であり、低屈折率層の透明フィルムから遠い側の面の接触角は１１０°であった。
　反射防止フィルム６を、実施例１と同様に評価した。評価結果を表１に示す。
（実施例７）
　実施例１において、低屈折率層用形成組成物Ｌ１の代わりに、製造例３１で得られた低屈折率層用形成組成物Ｌ３を用いた以外は実施例１と同様にして反射防止フィルム７を得た。低屈折率層の屈折率は１．４２であり、低屈折率層の透明フィルムから遠い側の面の接触角は１１０°であった。
　反射防止フィルム７を、実施例１と同様に評価した。評価結果を表１に示す。
（実施例８）
　実施例１において、低屈折率層用形成組成物Ｌ１の代わりに、製造例３２で得られた低屈折率層用形成組成物Ｌ４を用いた以外は実施例１と同様にして反射防止フィルム８を得た。低屈折率層の屈折率は１．３７であり、低屈折率層の透明フィルムから遠い側の面の接触角は６０°であった。
　反射防止フィルム８を、実施例１と同様に評価した。評価結果を表２に示す。
（実施例９）
　実施例６において、高屈折率層用形成組成物Ｈ１の代わりに、製造例２７で得られた高屈折率層用形成組成物Ｈ２を用いた以外は実施例６と同様にして反射防止フィルム９を得た。高屈折率層の屈折率は１．５５であり、高屈折率層の透明フィルムから遠い側の面の接触角は９０°であった。
　反射防止フィルム９を、実施例１と同様に評価した。評価結果を表２に示す。
（実施例１０）
　実施例６において、高屈折率層用形成組成物Ｈ１の代わりに、製造例２８で得られた高屈折率層用形成組成物Ｈ３を用いた以外は実施例６と同様にして反射防止フィルム１０を得た。高屈折率層の屈折率は１．６２であり、高屈折率層の透明フィルムから遠い側の面の接触角は６０°であった。
　反射防止フィルム１０を、実施例１と同様に評価した。評価結果を表２に示す。
（実施例１１）
　製造例１０で得られた透明フィルムＳ１０の凹凸が形成された面に、製造例２６で得られた高屈折率層形成用組成物Ｈ１をバーコーターで塗布した後、紫外線照射機を用いて波長３００～３９０ｎｍの範囲において積算光量２００ｍＪ／ｃｍ２となるように紫外線照射を行い硬化させ、厚み３μｍの高屈折率層を形成させて、透明フィルム／高屈折率層となる積層体を得た。高屈折率層の屈折率は１．６２であった。
　次に、高屈折率層の上に、製造例２９で得られた低屈折率層用形成組成物Ｌ１をバーコーターで塗布し、得られた塗膜を６０℃で１分間乾燥・硬化させ、厚み１００ｎｍの低屈折率層を形成し、本発明の反射防止フィルム１を得た。低屈折率層の屈折率は１．３７であった。
　得られた反射防止フィルム１１を、上記評価方法に従って評価した。干渉ムラは、上記検査方法１及び検査方法２のうち、検査方法２に従って評価した。反射防止フィルム１１の評価結果を表３に示す。
（実施例１２）
　実施例１１において、低屈折率層用形成組成物Ｌ１の代わりに、製造例３０で得られた低屈折率層用形成組成物Ｌ２を用い、高屈折率層の上に、低屈折率層用形成組成物Ｌ２をバーコーターで塗布し、得られた塗膜を６０℃で１分間乾燥させ、波長３００～３９０ｎｍの範囲において積算光量１００ｍＪ／ｃｍ２となるように紫外線照射を行い硬化させた以外は実施例１１と同様にして反射防止フィルム１２を得た。低屈折率層の屈折率は１．３７であった。
　反射防止フィルム１２を、実施例１１と同様に評価した。評価結果を表３に示す。
（実施例１３）
　実施例１１において、透明フィルムＳ１０の代わりに透明フィルムＳ１１を用いた以外は実施例１１と同様にして反射防止フィルム１３を得た。
　反射防止フィルム１３を、実施例１１と同様に評価した。評価結果を表３に示す。
（実施例１４）
　実施例１１において、透明フィルムＳ１０の代わりに透明フィルムＳ１２を用いた以外は実施例１１と同様にして反射防止フィルム１４を得た。
　反射防止フィルム１４を、実施例１１と同様に評価した。評価結果を表３に示す。
（実施例１５）
　実施例１１において、透明フィルムＳ１０の代わりに透明フィルムＳ１３を用いた以外は実施例１１と同様にして反射防止フィルム１５を得た。
　反射防止フィルム１５を、実施例１１と同様に評価した。評価結果を表３に示す。
（実施例１６）
　実施例１１において、透明フィルムＳ１０の代わりに透明フィルムＳ１４を用いた以外は実施例１１と同様にして反射防止フィルム１６を得た。
　反射防止フィルム１６を、実施例１１と同様に評価した。評価結果を表３に示す。
（実施例１７）
　実施例１１において、透明フィルムＳ１０の代わりに透明フィルムＳ１５を用いた以外は実施例１１と同様にして反射防止フィルム１７を得た。
　反射防止フィルム１７を、実施例１１と同様に評価した。評価結果を表３に示す。
（実施例１８）
　実施例１１において、透明フィルムＳ１０の代わりに透明フィルムＳ１６を用いた以外は実施例１１と同様にして反射防止フィルム１８を得た。
　反射防止フィルム１８を、実施例１１と同様に評価した。評価結果を表３に示す。
（実施例１９）
　実施例１１において、透明フィルムＳ１０の代わりに透明フィルムＳ１７を用いた以外は実施例１１と同様にして反射防止フィルム１９を得た。
　反射防止フィルム１９を、実施例１１と同様に評価した。評価結果を表３に示す。
（実施例２０）
　実施例１１において、透明フィルムＳ１０の代わりに透明フィルムＳ１８を用いた以外は実施例１１と同様にして反射防止フィルム２０を得た。
　反射防止フィルム２０を、実施例１１と同様に評価した。評価結果を表３に示す。
（実施例２１）
　実施例１１において、透明フィルムＳ１０の代わりに透明フィルムＳ１９を用いた以外は実施例１１と同様にして反射防止フィルム２１を得た。
　反射防止フィルム２１を、実施例１１と同様に評価した。評価結果を表４に示す。
（実施例２２）
　実施例１１において、透明フィルムＳ１０の代わりに透明フィルムＳ２０を用いた以外は実施例１１と同様にして反射防止フィルム２２を得た。
　反射防止フィルム２２を、実施例１１と同様に評価した。評価結果を表４に示す。
（実施例２３）
　実施例１１において、透明フィルムＳ１０の代わりに透明フィルムＳ２１を用いた以外は実施例１１と同様にして反射防止フィルム２３を得た。
　反射防止フィルム２３を、実施例１１と同様に評価した。評価結果を表４に示す。
（実施例２４）
　実施例１において、透明フィルムＳ１０の代わりに透明フィルムＳ２２を用いた以外は実施例１１と同様にして反射防止フィルム２４を得た。
　反射防止フィルム２４を、実施例１１と同様に評価した。評価結果を表４に示す。
（実施例２５）
　実施例１１において、透明フィルムＳ１０の代わりに透明フィルムＳ２３を用いた以外は実施例１１と同様にして反射防止フィルム２５を得た。
　反射防止フィルム２５を、実施例１１と同様に評価した。評価結果を表４に示す。
（実施例２６）
　実施例１１において、透明フィルムＳ１０の代わりに透明フィルムＳ２４を用いた以外は実施例１１と同様にして反射防止フィルム２６を得た。
　反射防止フィルム２６を、実施例１１と同様に評価した。評価結果を表４に示す。
（実施例２７）
　実施例１１において、透明フィルムＳ１０の代わりに透明フィルムＳ２５を用いた以外は実施例１１と同様にして反射防止フィルム２７を得た。
　反射防止フィルム２７を、実施例１１と同様に評価した。評価結果を表４に示す。
（比較例１）
　実施例１において、透明フィルムＳ１の代わりに透明フィルムＳ６を用いた以外は実施例１と同様にして反射防止フィルム２８を得た。
　反射防止フィルム２８を、実施例１と同様に評価した。評価結果を表２に示す。
（比較例２）
　実施例１において、透明フィルムＳ１の代わりに透明フィルムＳ７を用いた以外は実施例１と同様にして反射防止フィルム２９を得た。
　反射防止フィルム２９を、実施例１と同様に評価した。評価結果を表２に示す。
（比較例３）
　実施例１において、透明フィルムＳ１の代わりに透明フィルムＳ８を用いた以外は実施例１と同様にして反射防止フィルム３０を得た。
　反射防止フィルム３０を、実施例１と同様に評価した。評価結果を表２に示す。
（比較例４）
　実施例１において、透明フィルムＳ１の代わりに透明フィルムＳ９を用いた以外は実施例１と同様にして反射防止フィルム３１を得た。
　反射防止フィルム３１を、実施例１と同様に評価した。評価結果を表２に示す。
　上記で作製した実施例１～１０、および、比較例１～４の反射防止積層体について、耐擦傷性、最小反射率、干渉ムラ（検査方法１）を評価して、その結果を表１～表２に示した。また、実施例１１～２５の反射防止積層体について、耐擦傷性、最小反射率、干渉ムラ（検査方法２）を評価して、その結果を表３および表４に示した。また、本実施例で用いた透明フィルムの（Ｒａ，Ｓｍ）をＸＹ座標軸上に示したものを図２に示した。
　表１及び表２から、本願が規定する凹凸を有する透明フィルムＳ１～Ｓ５を用いて得られる反射防止フィルムは、色ムラがなく、鮮明性が高いので、表示装置に用いた際に視認性を低下させにくいことがわかる。これに対し、本願が規定する範囲の上限を超えるＲａの値を有する透明フィルムを用いて得られた比較例１の反射防止フィルム、および、本願の規定する範囲の上限を超えるＲａ／Ｓｍの値を有する透明フィルムを用いて得られた比較例３は干渉ムラが抑制されるものの、鮮明性に劣った。
　一方、本願が規定する範囲の下限以下のＲａの値を有する透明フィルムを用いて得られた比較例２の反射防止フィルム、および本願が規定する範囲の下限以下のＲａ／Ｓｍの値を有する透明フィルムを用いて得られた比較例４の反射防止フィルムは鮮明性が高いものの、干渉ムラが発生した。
　表３から、本願が規定する凹凸を有する透明フィルムＳ１０～Ｓ２０を用いて得られる反射防止フィルムは、色ムラがなく、輝度および鮮明性が高いので、表示装置に用いた際に視認性を低下させにくいことがわかる。表４に記載の該ＸＹ座標軸上の（０．０４，１２）と、（０．１４，６３）と、（０．１６５，５２．５）との３点で囲まれる領域に存在する範囲から外れる（Ｒａ、Ｓｍ）を有する透明フィルムを用いて得られた実施例２１～２７の反射防止フィルムは、図２において、Ａの領域に位置する凹凸を有する透明フィルムを用いて得られた実施例２１実施例２４および実施例２７の反射防止フィルムでは、検査方法２では干渉ムラが発生した。また、図２において、Ｂの領域に位置する凹凸を有する透明フィルムを用いて得られた実施例２２および実施例２３の反射防止フィルムでは、範囲内のものより輝度が小さいことが認められた。Ｃの領域に位置する凹凸を有する透明フィルムを用いて得られた実施例２５～２７の反射防止フィルムは、範囲内のものより鮮明性で劣ることが認められた。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000004

Claims (7)

  1. 　透明基材の一方の面に凹凸を形成してなる透明フィルムの当該一方の面に、前記透明基材の屈折率よりも高い屈折率を有する高屈折率層と、高屈折率層の屈折率よりも低い屈折率を有する低屈折率層とをこの順に備えてなり、前記凹凸が透明基材を変形する事により形成されたものであり、下記［１］～［２］を満たす反射防止フィルム。
    　［１］０．０４≦Ｒａ≦０．２５μｍ
    　［２］０．００１≦Ｒａ／Ｓｍ≦０．００５
    　（ＲａおよびＳｍは、それぞれＪＩＳ　Ｂ０６０１：１９９４に基づいて測定される算術平均粗さおよび凹凸の平均間隔である。）
  2. 　前記凹凸が透明基材を変形する事により形成されたものであり、且つ前記凹凸のＲａおよびＳｍが、ＸＹ座標軸上で（Ｒａ，Ｓｍ）と表記した際に、該ＸＹ座標軸上の（０．０４，１２）と、（０．１４，６３）と、（０．１６５，５２．５）との３点で囲まれる領域に存在する請求項１記載の反射防止フィルム。
    　（ＲａおよびＳｍは、それぞれＪＩＳ　Ｂ０６０１：１９９４に基づいて測定される算術平均粗さおよび凹凸の平均間隔である。）
  3. 　前記高屈折率層の前記透明フィルムから遠い側の面と水との接触角が、前記透明フィルム表面と水との接触角よりも高く、且つ、
    　前記低屈折率層の前記透明フィルムから遠い側の面と水との接触角が、前記高屈折率層の前記透明フィルムから遠い側の面と水との接触角よりも高い、
    　請求項１または２に記載の反射防止フィルム。
  4. 　前記高屈折率層の屈折率が１．６０以上、１．７０以下であり、
    　高屈折率層の前記透明フィルムから遠い側の面の算術平均粗さＲａｈが０．１μｍ以下である、
    　請求項１～３のいずれかの請求項に記載の反射防止フィルム。
  5. 　前記低屈折率層の屈折率が１．４０未満である、請求項１～４のいずれかの請求項に記載の反射防止フィルム。
  6. 　前記低屈折率層の前記透明フィルムから遠い側の面の算術平均粗さＲａｌが０．０６μｍ以下である、
    　請求項１～５のいずれかの請求項に記載の反射防止フィルム。
  7. 　波長４３０～７００ｎｍにおける入射角５°で測定した前記低屈折率層が積層された面で測定した反射率の最小値が１．５％以下である、
    　請求項１～６のいずれかの請求項に記載の反射防止フィルム。
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