KR100681493B1 - 오염 제거가 용이한 디스플레이 반사 방지용 코팅 조성물 - Google Patents

오염 제거가 용이한 디스플레이 반사 방지용 코팅 조성물 Download PDF

Info

Publication number
KR100681493B1
KR100681493B1 KR1020050030995A KR20050030995A KR100681493B1 KR 100681493 B1 KR100681493 B1 KR 100681493B1 KR 1020050030995 A KR1020050030995 A KR 1020050030995A KR 20050030995 A KR20050030995 A KR 20050030995A KR 100681493 B1 KR100681493 B1 KR 100681493B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
coating composition
weight
parts
solvent
conductive polymer
Prior art date
Application number
KR1020050030995A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20060045700A (ko
Inventor
이영은
한미영
장영래
홍정진
장성훈
Original Assignee
주식회사 엘지화학
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 엘지화학 filed Critical 주식회사 엘지화학
Publication of KR20060045700A publication Critical patent/KR20060045700A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100681493B1 publication Critical patent/KR100681493B1/ko

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D183/00Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D183/04Polysiloxanes
    • C09D183/08Polysiloxanes containing silicon bound to organic groups containing atoms other than carbon, hydrogen, and oxygen
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01QANTENNAS, i.e. RADIO AERIALS
    • H01Q1/00Details of, or arrangements associated with, antennas
    • H01Q1/12Supports; Mounting means
    • H01Q1/22Supports; Mounting means by structural association with other equipment or articles
    • H01Q1/24Supports; Mounting means by structural association with other equipment or articles with receiving set
    • H01Q1/241Supports; Mounting means by structural association with other equipment or articles with receiving set used in mobile communications, e.g. GSM
    • H01Q1/242Supports; Mounting means by structural association with other equipment or articles with receiving set used in mobile communications, e.g. GSM specially adapted for hand-held use
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D165/00Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01QANTENNAS, i.e. RADIO AERIALS
    • H01Q1/00Details of, or arrangements associated with, antennas
    • H01Q1/08Means for collapsing antennas or parts thereof
    • H01Q1/084Pivotable antennas
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01QANTENNAS, i.e. RADIO AERIALS
    • H01Q1/00Details of, or arrangements associated with, antennas
    • H01Q1/08Means for collapsing antennas or parts thereof
    • H01Q1/10Telescopic elements
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01RELECTRICALLY-CONDUCTIVE CONNECTIONS; STRUCTURAL ASSOCIATIONS OF A PLURALITY OF MUTUALLY-INSULATED ELECTRICAL CONNECTING ELEMENTS; COUPLING DEVICES; CURRENT COLLECTORS
    • H01R24/00Two-part coupling devices, or either of their cooperating parts, characterised by their overall structure
    • H01R24/38Two-part coupling devices, or either of their cooperating parts, characterised by their overall structure having concentrically or coaxially arranged contacts
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/04Polysiloxanes
    • C08G77/22Polysiloxanes containing silicon bound to organic groups containing atoms other than carbon, hydrogen and oxygen
    • C08G77/24Polysiloxanes containing silicon bound to organic groups containing atoms other than carbon, hydrogen and oxygen halogen-containing groups
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/54Silicon-containing compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L83/00Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L83/00Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L83/04Polysiloxanes
    • C08L83/08Polysiloxanes containing silicon bound to organic groups containing atoms other than carbon, hydrogen and oxygen
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11Anti-reflection coatings
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B2207/00Coding scheme for general features or characteristics of optical elements and systems of subclass G02B, but not including elements and systems which would be classified in G02B6/00 and subgroups
    • G02B2207/109Sols, gels, sol-gel materials
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01RELECTRICALLY-CONDUCTIVE CONNECTIONS; STRUCTURAL ASSOCIATIONS OF A PLURALITY OF MUTUALLY-INSULATED ELECTRICAL CONNECTING ELEMENTS; COUPLING DEVICES; CURRENT COLLECTORS
    • H01R2103/00Two poles
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01RELECTRICALLY-CONDUCTIVE CONNECTIONS; STRUCTURAL ASSOCIATIONS OF A PLURALITY OF MUTUALLY-INSULATED ELECTRICAL CONNECTING ELEMENTS; COUPLING DEVICES; CURRENT COLLECTORS
    • H01R2201/00Connectors or connections adapted for particular applications
    • H01R2201/02Connectors or connections adapted for particular applications for antennas

Abstract

본 발명은 오염 제거가 용이하고, 반사 방지 기능을 가지는 코팅층을 형성하기 위한 코팅 조성물에 관한 것으로, 알콕시실란, 불소계 실란, 촉매, 물, 및 유기 용매로부터 제조되는 졸-겔 반응물, 및 전도성 고분자를 포함하는 디스플레이 반사방지용 코팅 조성물에 관한 것이다.
본 발명의 코팅 조성물은 코팅층의 굴절률, 표면에너지, 전도성을 제어하여 반사방지특성과 지문 등의 액성 오염물질에 대한 지움성, 및 먼지제거성을 동시에 발휘할 수 있기 때문에 디스플레이 반사 방지용 코팅기재로 유용하게 사용할 수 있다.
반사방지, 코팅 조성물, 불소계 실란, 전도성 고분자

Description

오염 제거가 용이한 디스플레이 반사 방지용 코팅 조성물{Antireflective Coating Composition with Excellent Stain Resistance}
[산업상 이용분야]
본 발명은 오염 제거가 용이하고, 반사 방지 기능을 가지는 코팅층을 형성하기 위한 코팅 조성물에 관한 것으로, 보다 상세하게는 표면 장력이 낮은 불소계 실란, 대전 방지 특성을 지닌 전도성 고분자 및 용매를 포함하는 코팅 조성물에 관한 것이다.
[종래기술]
모니터용 CRT, TV용 CPT와 같은 브라운관, TFT-LCD 편광판, PDP 필터, RPTS 필터, 휴대폰 액정으로부터 시계, 사진, 액자 등에 이르기까지 다양한 디스플레이들이 우리 생활에서 접해지고 있다. 이러한 디스플레이가 자연광 등의 빛에 노출되는 경우 반사광에 의해 눈이 피로감을 느끼거나 두통을 유발하게 되며, 디스플레이 내부에서 만들어지는 이미지가 눈에 선명하게 맺히지 못하여 컨트라스트(contrast)의 저하가 발생한다.
이를 해결하기 위하여, 소멸간섭을 유도하여 반사율을 감소시키는 저반사 코 팅층을 개발하고자 하는 연구들이 있었다. 일본공개특허 제97-208898호, 일본공개특허 제96-122501호 등에서는 굴절률 1.28~1.38의 저반사층을 규산화합물과 마그네슘 플로라이드(MgF2, Magnesium Fluoride)의 금속불화물을 이용하여 제조하였고, 유럽특허 제776925호에서는 불소계 실란과 불소계 알킬기를 갖는 화합물을 이용하여 저반사 기능 및 표면에너지 저하에 따른 내오염 기능을 갖는 코팅액의 제조에 관하여 개시하고 있다.
그러나, 금속불화물이나 불소가 도입된 저반사층은 마찰 등의 대전에 의하여 표면에 쉽게 전하를 띠게 되어 먼지가 잘 붙고, 한번 붙은 먼지는 쉽게 떨어지지 않는 단점을 가지고 있다. 특히, 저반사층은 보통 디스플레이의 최외곽에 위치하므로 지문, 먼지 등의 오염원에 대하여 내성을 가져야 한다. 이때 내성을 가진다는 것은 표면에너지가 낮아 지문 등이 쉽게 묻지 않고, 표면의 전하가 상쇄되거나 머무르지 않고 흐르게 되어 정전기적 인력에 의하여 먼지가 붙지 않도록 하는 것을 의미한다.
따라서, 표면에 정전하를 띠지 않게 하여 먼지 등이 부착되는 것을 방지하기 위한 방법들이 보고된 바 있다. 일본공개특허 제94-65529호에서는 주석이 도핑된 산화 인듐(Tin-doped indium oxide, ITO), 안티몬이 도핑된 산화 주석(Antimony-doped tin oxide, ATO), 안티몬이 도핑된 산화 아연(Antimony-doped zinc oxide, AZO) 등의 전도성 산화금속 필러를 이용하였으나, 전도성 산화금속을 이용할 경우 대체적으로 굴절률이 높아 반사 방지 효과를 기대할 수 없고 지문 등의 액성 오염 원에 대한 제거 능력이 구현되지 않는다.
또한, 일본공개특허 제2003-215306호에서는 양전하와 음전하가 공존하는 관능기와 불소화합물을 도입하여 먼지 등의 고상 오염원과 지문 등의 액상 오염원의 제거 능력을 향상시키고자 하였으나, 계절적 환경에 민감한 특성을 보이며 액상 오염원에 대한 제거성이 저하되는 단점이 있다.
따라서, 코팅층의 굴절률, 표면에너지, 전도성을 제어하여 반사 방지 특성과 지문 등의 액성 오염 물질에 대한 지움성, 먼지 제거성을 동시에 발휘할 수 있는 디스플레이 반사 방지용 코팅 조성물의 개발이 절실히 요구되어 왔다.
상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여, 본 발명은 낮은 굴절률로 인한 반사방지기능을 부여하면서 동시에 낮은 표면에너지와 대전방지를 통한 오염제거가 용이하며, 디스플레이 전면에 적합하게 적용할 수 있는 코팅층을 형성하기 위한 디스플레이 반사방지용 코팅조성물을 제공하는데 그 목적이 있다.
상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 (a) (i) 알콕시실란 0.3 내지 15 중량부, (ii) 불소계 실란 0.1 내지 10 중량부, (iii) 촉매 0.001 내지 0.5 중량부, (iv) 물 0.01 내지 10 중량부, 및 (v) 유기용매 20 내지 99.5 중량부로부터 제조되는 졸-겔 반응물, 및 (b) 전도성 고분자 0.02 내지 50 중량부를 포함하는 디스플레이 반사반지용 코팅 조성물을 제공한다.
이하, 본 발명에 대하여 상세히 설명한다.
본 발명자들은 낮은 굴절률로 인한 반사방지기능을 부여하면서 동시에 낮은 표면에너지와 대전방지를 통한 오염제거가 용이하여 디스플레이 전면에 적합하게 적용할 수 있는 코팅 조성물을 개발하던 중, 기본적인 코팅 필름의 기계적 물성을 구현하기 위한 알콕시실란, 굴절률이 낮으면서 액상 오염원의 제거 용이성이 우수한 불소계 실란 및 먼지 등의 고상 오염원의 제거 기능을 부여하기 위해서 필름의 표면에 대전방지 효과를 지니도록 하는 전도성 고분자를 포함하는 코팅 조성물을 개발하여 본 발명을 완성하게 되었다.
본 발명의 디스플레이 반사 방지용 코팅 조성물은 (a) (i) 알콕시실란 0.3 내지 15 중량부, (ii) 불소계 실란 0.1 내지 10 중량부, (iii) 촉매 0.001 내지 0.5 중량부, (iv) 물 0.01 내지 10 중량부, 및 (v) 유기용매 20 내지 99.5 중량부로부터 제조되는 졸-겔 반응물, 및 (b) 전도성 고분자 0.02 내지 50 중량부를 포함한다.
상기 알콕시실란은 디스플레이 최외각에 사용될 수 있는 수준의 필름 강도를 제공하기 위한 성분으로, 4관능 규소화합물인 테트라메톡시실란, 테트라에톡시실란, 3관능 규소화합물인 메틸트리메톡시실란, 메틸트리에톡시실란, 글리시독시프로필 트리메톡시실란, 글리시독시프로필 트리에톡시실란 등이 사용될 수 있다.
상기 졸-겔 반응물의 제조에 사용되는 알콕시실란의 함량이 0.3 중량부 미만인 경우에는 디스플레이용 코팅막의 경도를 유지하기 어렵고, 15 중량부를 초과하는 경우에는 코팅막의 경화도가 높아 컬링(curling)이 유발될 수 있으며, 기재와 코팅막의 부착력이 저하될 수 있다.
상기 졸-겔 반응물의 제조에 사용되는 불소계 실란은 굴절률을 낮게 하고 액상 오염원의 제거를 용이하게 하는 성분으로, 트리데카플루오로옥틸트리에톡시실란(상품명: DYNASYLAN F8261, Degussa-Huls사), 헵타데카플루오로데실트리메톡시실란(상품명: TSL8233, Toshiba silicon사; KBM-7803, Shinetsu사), 헵타데카플루오로데실트리이소프로폭시실란(상품명: XC95-A9715, Toshiba Silicone사) 등이 사용될 수 있다.
상기 졸-겔 반응물의 제조에 사용되는 불소계 실란의 함량이 0.1 중량부 미만인 경우에는 코팅막의 굴절률 제어 및 내오염성의 효과가 미미하고, 10 중량부를 초과인 경우에는 필름의 강도가 저하될 수 있다..
또한, 상기 불소계 실란은 알콕시실란과 불소계 실란을 합한 전체 실란 대비 10 내지 50 중량%로 사용되는 것이 바람직한데, 10 중량% 미만을 사용하는 경우에는 굴절률 제어 및 액상 오염원의 제거 효과가 미미하고, 50 중량%를 초과하여 사용하는 경우에는 졸-겔 반응에 의한 적정 분자량의 제어가 어렵고 필름의 강도가 저하될 수 있다.
또한, 상기 유기용매의 함량이 20 중량부 미만이거나, 99.5 중량부를 초과하는 경우에는 코팅성이 저하될 수 있다.
상기 유기용매는 알코올류, 셀로솔브류, 케톤류, 또는 이들 중에서 선택되는 둘 이상의 혼합용매인 것이 바람직하다. 상기 알코올류 용매의 바람직한 예로는 메탄올, 에탄올, 프로판올 및 부탄올로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상이 있고, 상기 셀로솔브류 용매의 바람직한 예로는 에틸 셀로솔브, 부틸 셀로솔브, 헥실 셀로솔브, 메틸 셀로솔브 및 이소프로폭시 셀로솔브로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상이 있으며, 상기 케톤류 용매의 바람직한 예로는 아세톤, 메틸에틸케톤, 디아세톤알코올 및 메틸이소부틸케톤으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상이 있다.
상기 코팅 조성물의 졸-겔 반응물에 포함되는 불소계 실란과 상기 전도성 고분자는 서로간의 상용성이 좋지 못하여 코팅 조성물 내에서 상 분리를 일으킬 염려가 있다. 따라서, 디스플레이 반사 방지용 코팅 조성물 내에서 상기 불소계 실란과 전도성 고분자의 상분리 현상을 억제하기 위해서는 상기 유기용매가 저비점(약 100 ℃ 이하) 용매인 알코올류 용매를 포함하며, 중비점(약 100 ℃ 내지 150 ℃) 용매인 케톤류 용매, 및 셀로솔브류 용매로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상을 더 포함하는 혼합용매인 것이 바람직하다. 상기 혼합용매에 포함되는 상기 중비점 용매의 함량은 혼합용매의 총중량에 대하여 30 중량% 이하인 것이 바람직하고, 1 내지 20 중량%인 것이 더 바람직하다. 상기 혼합용매의 중비점 용매의 함량이 30 중량%를 초과하는 경우에는 불소계 실란과 전도성 고분자의 상분리가 일어날 수 있으며 용액의 건조시간이 길어져 건조가 안 될 수 있다.
상기 촉매는 질산, 염산, 초산 등의 산, 또는 이들의 염이 사용될 수 있고, 상기 산과 염의 혼합물이 사용될 수 있으며, 이때 사용 가능한 염으로는 지르코늄, 인듐 등의 염산염, 질산염, 황산염, 초산염 등이 있다. 이때, 상기 촉매는 0.001 내지 0.5 중량부로 사용하는 것이 바람직하며, 0.001 중량부 미만을 사용하는 경우에는 졸-겔 반응시간의 제어에 문제가 있고, 0.5 중량부를 초과하여 사용하는 경우 에는 용액의 산도가 높아져 부식의 문제가 있다.
상기 물은 가수분해 반응과 축합 반응을 위해서 필요한 성분으로, 0.01 내지 10 중량%로 사용되는 것이 바람직하다. 0.01 중량부 미만을 사용하는 경우에는 졸-겔 반응시간의 제어에 문제가 있고, 10 중량%를 초과하여 사용하는 경우에는 코팅성에 문제가 있다.
상기 전도성 고분자는 먼지 등의 고상 오염원의 제거 기능을 부여하기 위해서 필름의 표면에 대전방지 효과를 지니도록 하는 성분으로, 폴리에틸렌디옥시티오펜 수지 등과 같은 폴리티오펜계 수지를 사용하는 것이 바람직하다. 특히, 폴리티오펜 수지에 전도성 향상을 위하여 글루타민산, 알킬 술폰산, 폴리스티렌 술폰산 음이온, 스틸렌 술폰산과 스틸렌 술폰산 음이온 공중합체 등과 같은 도핑(doping)제를 첨가할 수 있다. 현재 상업화 되어 널리 사용되고 있는 전도성 고분자로는 폴리에틸렌디옥시티오펜-폴리스티렌설포네이트의 구조를 갖는 바이엘사의 베이트론 P(Baytron P), PH, P HS, P HC, P ET V2 등이 있고, 2종 이상 혼합하여 사용할 수도 있다.
상기 전도성 고분자의 함량이 0.02 중량부 미만인 경우에는 먼지 등의 고상 오염원에 대한 제거 용이성이 저하될 수 있고, 50 중량부를 초과하여 사용하는 경우에는 필름의 강도가 저하될 수 있다.
본 발명의 디스플레이 반사방지용 코팅 조성물을 제조하기 위하여, (a) (i) 알콕시실란 0.3 내지 15 중량부, (ii) 불소계 실란 0.1 내지 10 중량부, (iii) 촉매 0.001 내지 0. 5 중량부, (iv) 물 0.01 내지 10 중량부, 및 (v) 유기 용매 20 내지 99.5 중량부를 포함하는 혼합물을 15 내지 90℃에서 0.5 내지 40시간 동안 pH 1 내지 3에서 졸-겔 반응을 수행한다. 이때, 졸-겔 반응을 수행한 후 최종반응물의 분자량은 2,000 내지 20,000정도로 조정하는 것이 필름의 건조 및 경화에 유리하다. 상기 제조된 졸-겔 반응물에 (b) 전도성 고분자 0.02 내지 50 중량부를 첨가하여 코팅 조성물을 제조한다.
상기 코팅 조성물 전체 중에서 고형분 함량은 0.5 내지 30 중량%인 것이 바람직하며, 건조 및 경화온도를 고려하여 상기 유기용매를 선택적으로 더 첨가할 수 있다.
본 발명은 상기 코팅 조성물을 이용하여 제조된 코팅 필름을 제공한다.
즉, 본 발명의 코팅 조성물은 디스플레이 반사방지용 코팅재로 사용할 수 있고, 기재 또는 기재 위에 하드 코팅층이 도포된 후 도포 가능하거나 또는 기재/하드 코팅/고굴절층 위에 도포 가능하다. 이때, 통상적으로 사용되는 기재는 유리와 플라스틱 기판, 필름 등이 있으며 기재에 따라 코팅 방식은 자유롭게 선택할 수 있다. 하드 코팅층은 자외선 경화형 수지를 사용하고, 내마모성의 개선을 위해서 무기 나노 미립자를 자외선 경화형 수지에 분산하여 사용할 수도 있다.
상기 코팅 조성물은 통상적인 방법에 따라 기재 위에 코팅될 수 있으며, 코팅 후의 건조 및 경화 온도는 70 내지 120℃, 건조 및 경화 시간은 10 내지 40시간인 것이 바람직하다.
일반적으로 반사 방지층의 굴절률은 낮을수록 바람직하며 특히 하층과의 굴절률 차이가 클수록 반사 방지 효과는 커진다. 한편 반사 방지층의 두께는 사용한 재료의 굴절률 및 입사광의 파장에 의하여 결정되어지는데, 예를 들어 기재 위에 하드 코팅층과 방사 방지층을 도포할 경우 하드 코팅 층의 굴절률이 1.51, 반사 방지층의 굴절률이 1.38, 입사광의 설계파장을 550 nm라고 한다면 광학 설계에 의해 반사 방지층의 원하는 두께는 100 nm가 된다. 본 발명에 따른 코팅 필름의 바람직한 두께는 50 내지 200 nm이다.
이하, 본 발명의 이해를 돕기 위하여 바람직한 실시예 및 비교예를 제시한다. 그러나 하기의 실시예들은 본 발명을 보다 쉽게 이해하기 위하여 제공되는 것일 뿐 본 발명이 하기의 실시예에 한정되는 것은 아니다.
<실시예 1>
테트라에톡시실란 10 g, 헵타데카플루오로데실트리메톡시실란 3 g, 물 3 g, 염산 0.12 g, 및 에탄올 58.88 g의 혼합물을 졸-겔 반응시켰다. 반응온도는 78℃이고 pH는 2이며, 반응시간은 3시간이었다. 반응 종료 후, 상온으로 냉각시켜 전도성 고분자 Baytron P ET V2 25 g 을 첨가하였다.
상기 방법으로 제조된 반사방지용 코팅 조성물을 하드 코팅 필름 위에 롤코팅 방식으로 건조 두께 100nm로 도포하였다. 코팅된 필름은 120℃ 오븐에서 10시간 경화하였다.
<실시예 2>
전도성 고분자로서 Baytron P ET V2 대신에 Baytron PH 를 25 g 첨가한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 반사방지용 코팅 조성물이 코팅된 필름을 제조하였다.
<실시예 3>
불소계 실란으로 헵타데카플루오로데실트리이소프로폭시실란을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 반사방지용 코팅 조성물이 코팅된 필름을 제조하였다.
<실시예 4>
에탄올을 83.86 g, Baytron P ET V2을 0.02 g 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 반사방지용 코팅 조성물이 코팅된 필름을 제조하였다.
<실시예 5>
에탄올을 60.88 g, 헵타데카플루오로데실트리메톡시실란을 1 g 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 반사방지용 코팅 조성물이 코팅된 필름을 제조하였다.
<실시예 6>
에탄올을 51.88 g, 헵타데카플루오로데실트리메톡시실란을 10 g 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 반사방지용 코팅 조성물이 코팅된 필름을 제조하였다.
<실시예 7>
에탄올 35.28 g, 디아세톤알코올 11.8 g, 및 부틸셀로솔브 11.8 g을 포함하는 혼합 유기용매를 사용한 것을 제외하고는 실시에 1과 동일하게 반사방지용 코팅 조성물이 코팅된 필름을 제조하였다.
<실시예 8>
에탄올 78.1 g, 디아세톤알코올 0.39 g, 및 부틸셀로솔브 0.39 g을 포함하는 혼합 유기용매를 사용한 것을 제외하고는 실시에 1과 동일하게 반사방지용 코팅 조성물이 코팅된 필름을 제조하였다.
<비교예 1>
실시예 1에서 전도성 고분자 Baytron P ET V2를 사용하지 않은 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 제조하였다.
<비교예 2>
실시예 1에서 헵타데카플루오로데실트리메톡시실란 대신 메틸트리에톡시실란을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 제조하였다.
<비교예 3>
에탄올을 68.88 g, Baytron P ET V2을 15 g 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 반사방지용 코팅 조성물이 코팅된 필름을 제조하였다.
<실험예 1>
상기 실시예 및 비교예에서 제조된 코팅 필름의 접촉각, 펜 지움성, 먼지 제거성 및 반사율을 측정하여 오염 제거 용이성과 광 특성을 평가하였다.
1) 접촉각
코팅 필름의 물에 대한 접촉각을 측정하여 액상 오염원에 대한 제거 용이성을 판단하였다. 이때 접촉각이 90 ˚이상에서 오염 제거성이 구현된다.
2) 펜 지움성
유성펜으로 글씨를 쓴 후 면포로 문지르면서(rubbing) 지움성을 육안 관찰하 여 상, 하로 판단하였다.
3) 먼지 제거성
가로와 세로 길이 각각 10cm 크기의 코팅 필름을 면포로 왕복 20회 문질러 준 다음, 30cm 거리에서 스프레이 파우더를 1 분 간격으로 5회 분사하였다. 파우더가 내려앉은 코팅면을 2기압의 에어로 10초간 블로잉한 후 남아 있는 파우더를 육안으로 관찰하여 파우더가 적은 순서대로 상, 하로 표기하였다.
4) 반사율
코팅 필름의 뒷면을 흑색 처리한 후 N&K사의 분광광도계(spectrophotometer)로 반사율을 측정하여 최소 반사율 값으로 반사 방지 특성을 평가하였다.
접촉각( ˚) 펜 지움성 먼지 제거성 최소반사율 (%) 헤이즈 (%)
실시예 1 102 2.0 0.7
실시예 2 104 1.8 0.6
실시예 3 97 2.2 0.6
실시예 4 100 1.6 0.6
실시예 5 80 2.8 0.7
실시예 6 104 1.2 0.8
실시예 7 104 1.8 0.4
실시예 8 103 2.0 0.6
비교예 1 104 1.5 0.3
비교예 2 70 3.3 0.7
비교예 3 99 2.1 1.0
상기 표 1에서 펜지움성의 '상', '중', 및 '하'는 각각 '90% 이상', '70 내지 90%', 및 '70% 이하'의 제거 성능을 나타낸다.
상기 표 1로부터, 전도성 고분자가 함유된 코팅 조성물로 제조된 코팅 필름의 경우 먼지제거 기능이 우수하다는 것을 확인할 수 있었고, 불소계 실란을 포함하지 않는 경우에는 높은 표면에너지를 가지며, 반사율도 높고 액상 오염 제거 용이성이 저하됨을 알 수 있었다.
본 발명의 디스플레이 반사방지용 코팅 조성물은 표면 장력이 낮은 불소계 실란, 대전 방지 특성을 지닌 전도성 고분자 및 용매를 포함한다. 또한, 본 발명의 코팅 조성물로부터 제조되는 코팅 필름은 굴절률, 표면에너지, 및 전도성을 제어하여 반사 방지 특성과 지문 등의 액성 오염 물질에 대한 지움성, 먼지 제거성이 우수하므로, 브라운관이나 평판 디스플레이 필름 등 기재의 종류, 하드코팅이나 대전방지코팅 또는 눈부심방지 코팅 등의 다른 코팅층의 유무와 상관없이 디스플레이 전면 최외곽에 유용하게 적용될 수 있다

Claims (9)

  1. (a) (i) 알콕시실란 0.3 내지 15 중량부, (ii) 불소계 실란 0.1 내지 10 중량부, (iii) 촉매 0.001 내지 0.5 중량부, (iv) 물 0.01 내지 10 중량부, 및 (v) 알코올류 용매를 포함하며 케톤류 용매 및 셀로솔브류 용매로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 용매를 추가로 포함하는 혼합 유기 용매 20 내지 99.5 중량부로부터 제조되는 졸-겔 반응물; 및
    (b) 전도성 고분자 0.02 내지 50 중량부
    를 포함하는 디스플레이 반사방지용 코팅 조성물.
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 제1항에 있어서, 상기 불소계 실란이 트리데카플루오로옥틸트리에톡시실란, 헵타데카플루오로데실트리메톡시실란, 및 헵타데카플루오로데실트리이소프로폭시실란으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상인 코팅 조성물.
  5. 제1항에 있어서, 상기 전도성 고분자가 폴리티오펜류인 것을 특징으로 하는 코팅 조성물.
  6. 제5항에 있어서, 상기 전도성 고분자가 글루타민산, 알킬 술폰산, 폴리스티렌 술폰산 음이온, 및 스틸렌 술폰산과 스틸렌 술폰산 음이온의 공중합체로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 화합물로 도핑된 것인 코팅 조성물.
  7. 제1항에 있어서, 상기 촉매가 산류, 금속염류, 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상인 코팅 조성물.
  8. 제1항의 코팅 조성물로부터 제조되는 디스플레이 대전방지용 코팅 필름.
  9. 제1항에 있어서, 상기 케톤류 용매 및 셀로솔브류 용매로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 용매의 함량이 상기 혼합용매의 총중량에 대하여 30 중량% 이하인 코팅 조성물.
KR1020050030995A 2004-04-14 2005-04-14 오염 제거가 용이한 디스플레이 반사 방지용 코팅 조성물 KR100681493B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR20040025704 2004-04-14
KR1020040025704 2004-04-14

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20060045700A KR20060045700A (ko) 2006-05-17
KR100681493B1 true KR100681493B1 (ko) 2007-02-12

Family

ID=36751946

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020050030995A KR100681493B1 (ko) 2004-04-14 2005-04-14 오염 제거가 용이한 디스플레이 반사 방지용 코팅 조성물

Country Status (7)

Country Link
US (1) US7204877B2 (ko)
EP (1) EP1735645B1 (ko)
JP (1) JP4347886B2 (ko)
KR (1) KR100681493B1 (ko)
CN (1) CN100345002C (ko)
TW (1) TWI303746B (ko)
WO (1) WO2005101063A1 (ko)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101144932B1 (ko) 2009-09-04 2012-05-11 위더스케미칼 주식회사 하드 코팅 조성물 및 이의 제조 방법 및 상기 하드 코팅 조성물을 이용하여 형성된 하드 코팅 필름
WO2013012252A3 (ko) * 2011-07-18 2013-04-04 주식회사 엘지화학 우수한 내지문성을 갖는 눈부심 방지 코팅 조성물, 이를 이용하여 제조된 눈부심 방지 필름

Families Citing this family (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100800182B1 (ko) * 2005-11-08 2008-02-01 광 석 서 발수 방오 처리된 대전방지 보호 테이프
EP1993971A2 (en) 2006-01-25 2008-11-26 Team Medical, L.L.C. Coating suitable for surgical instruments
KR100981575B1 (ko) 2006-07-10 2010-09-10 주식회사 엘지화학 오염 제거가 용이한 디스플레이 반사 방지용 코팅 조성물
WO2008015426A1 (en) 2006-08-01 2008-02-07 Cambridge Display Technology Limited Opto-electrical devices and methods of manufacturing the same
US8986456B2 (en) * 2006-10-10 2015-03-24 Asm America, Inc. Precursor delivery system
US8137767B2 (en) 2006-11-22 2012-03-20 Fujifilm Corporation Antireflective film, polarizing plate and image display device
KR20080098466A (ko) * 2007-05-05 2008-11-10 엘지디스플레이 주식회사 광학필름과 이를 이용한 편광판 및 디스플레이 장치와 그제조방법
JP5441891B2 (ja) * 2007-05-18 2014-03-12 エシロール アテルナジオナール カンパニー ジェネラーレ デ オプティック 帯電防止性・耐摩耗性コートされた物品を提供する硬化性コーティング組成物
EP2167315B1 (en) * 2007-07-12 2013-01-23 LG Chem, Ltd. Multiple-layer, multiple film having the same and electronic device having the same
KR101042001B1 (ko) * 2007-10-31 2011-06-16 한국전기연구원 전도성 초발수 코팅막 및 그 제조방법
GB2462653B (en) * 2008-08-15 2013-03-20 Cambridge Display Tech Ltd Opto-electrical devices and methods of manufacturing the same
TWI385073B (zh) * 2008-10-28 2013-02-11 Benq Materials Corp 光學薄膜及其製作方法
JP5771967B2 (ja) * 2010-02-17 2015-09-02 日油株式会社 反射防止フィルム
CN102190956B (zh) * 2010-03-11 2013-08-28 财团法人工业技术研究院 抗反射涂布材料及包含其的抗反射涂膜
JP5810504B2 (ja) * 2010-10-18 2015-11-11 Jnc株式会社 積層体およびその製造方法
KR101905852B1 (ko) 2011-04-13 2018-10-08 엘지이노텍 주식회사 광학 시트 및 이를 포함하는 표시장치
KR101523821B1 (ko) * 2012-10-30 2015-05-28 (주)엘지하우시스 실록산 화합물을 포함하는 반사 방지 코팅 조성물, 이를 이용하여 표면 에너지가 조절된 반사 방지 필름
CN102937567B (zh) * 2012-11-07 2015-01-28 奇瑞汽车股份有限公司 一种油漆涂层耐铁粉侵蚀性能试验方法
US10150889B2 (en) 2013-09-16 2018-12-11 Honeywell International Inc. Poly fluorine-containing siloxane coatings
US10213993B2 (en) 2013-12-19 2019-02-26 3M Innovative Properties Company Multilayer composite article
CN103771727A (zh) * 2013-12-31 2014-05-07 河南安彩高科股份有限公司 减反射玻璃基板及其制法和用途
US10082606B2 (en) 2014-06-30 2018-09-25 Lg Display Co., Ltd. Display device
CN106007395A (zh) * 2016-05-11 2016-10-12 刘畅 一种用于厨卫电器的易清洁玻璃的制作方法
KR102296195B1 (ko) * 2016-06-30 2021-08-31 코오롱인더스트리 주식회사 폴리에스테르 다층필름
JP7102118B2 (ja) * 2017-09-29 2022-07-19 マクセル株式会社 透明導電性膜、透明導電性膜を形成するためのコーティング組成物、及び透明導電性膜の製造方法
CN112574629B (zh) * 2020-12-11 2021-11-12 中国科学院兰州化学物理研究所 一种水性防污涂料及其应用

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20000011267A (ko) * 1998-07-24 2000-02-25 김영남 전도성유기고분자의투명대전방지막이형성된화상표시면판및그제조방법과도포용액
KR20020011863A (ko) * 2000-08-04 2002-02-09 카나가와 치히로 코팅 조성물 및 그의 경화 피막을 갖는 물품
KR100333191B1 (ko) * 1999-08-10 2002-04-18 이영관 전도성 고분자의 코팅 용액을 이용한 코팅방법
JP2003344608A (ja) 2002-03-20 2003-12-03 Nitto Denko Corp 反射防止フィルム、光学素子および表示装置

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0665529A (ja) 1992-08-21 1994-03-08 Sekisui Chem Co Ltd 導電性塗料組成物
WO1995016522A1 (en) 1993-12-13 1995-06-22 Ppg Industries, Inc. Durable coating composition, process for producing durable, antireflective coatings, and coated articles
US20010031811A1 (en) * 1993-12-13 2001-10-18 Huawen Li Durable coating composition, process for producing durable, antireflective coatings, and coated articles
JPH08510089A (ja) * 1994-03-03 1996-10-22 フィリップス エレクトロニクス ネムローゼ フェン ノートシャップ 光吸収コーティングを具えた表示画面を含んでいる表示デバイス
JP3635692B2 (ja) 1994-10-20 2005-04-06 日産化学工業株式会社 低屈折率反射防止膜
JP4032185B2 (ja) 1995-12-01 2008-01-16 日産化学工業株式会社 低屈折率及び撥水性を有する被膜
TW376408B (en) * 1995-12-01 1999-12-11 Nissan Chemical Ind Ltd Coating film having water repellency and low refractive index
IT1282387B1 (it) * 1996-04-30 1998-03-20 Videocolor Spa Rivestimento antistatico,antiabbagliante,per una superficie a riflessione-trasmissione
JPH1069865A (ja) 1996-07-31 1998-03-10 Chuka Eikan Kofun Yugenkoshi ビデオディスプレイ装置
TW384303B (en) * 1998-05-08 2000-03-11 Koninkl Philips Electronics Nv Light transmissive substrate carrying a light transmissive low ohmic coating and method for manufacturing the same
KR20000022633A (ko) * 1998-09-22 2000-04-25 김영남 전도성 유기고분자의 대전방지막이 형성된 유리기판 및 그 형성방법과 그 도포용액 및 그 도포용액의 제조방법
KR100315110B1 (ko) * 1999-01-13 2001-12-28 김순택 스프레이막 형성용 조성물 및 그를 이용하여 형성된 스프레이막
JP2003215306A (ja) 2002-01-25 2003-07-30 Nitto Denko Corp 反射防止フィルム、光学素子および画像表示装置

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20000011267A (ko) * 1998-07-24 2000-02-25 김영남 전도성유기고분자의투명대전방지막이형성된화상표시면판및그제조방법과도포용액
KR100333191B1 (ko) * 1999-08-10 2002-04-18 이영관 전도성 고분자의 코팅 용액을 이용한 코팅방법
KR20020011863A (ko) * 2000-08-04 2002-02-09 카나가와 치히로 코팅 조성물 및 그의 경화 피막을 갖는 물품
JP2003344608A (ja) 2002-03-20 2003-12-03 Nitto Denko Corp 反射防止フィルム、光学素子および表示装置

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101144932B1 (ko) 2009-09-04 2012-05-11 위더스케미칼 주식회사 하드 코팅 조성물 및 이의 제조 방법 및 상기 하드 코팅 조성물을 이용하여 형성된 하드 코팅 필름
WO2013012252A3 (ko) * 2011-07-18 2013-04-04 주식회사 엘지화학 우수한 내지문성을 갖는 눈부심 방지 코팅 조성물, 이를 이용하여 제조된 눈부심 방지 필름
US8940805B2 (en) 2011-07-18 2015-01-27 Lg Chem, Ltd. Anti-glare coating composition having improved anti-fingerprint function and anti-glare film prepared therefrom

Also Published As

Publication number Publication date
KR20060045700A (ko) 2006-05-17
CN1771445A (zh) 2006-05-10
TWI303746B (en) 2008-12-01
WO2005101063A1 (en) 2005-10-27
JP2007500374A (ja) 2007-01-11
TW200604729A (en) 2006-02-01
CN100345002C (zh) 2007-10-24
US20050239933A1 (en) 2005-10-27
EP1735645A1 (en) 2006-12-27
EP1735645B1 (en) 2012-08-15
US7204877B2 (en) 2007-04-17
JP4347886B2 (ja) 2009-10-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100681493B1 (ko) 오염 제거가 용이한 디스플레이 반사 방지용 코팅 조성물
KR100981575B1 (ko) 오염 제거가 용이한 디스플레이 반사 방지용 코팅 조성물
JP5064649B2 (ja) 反射防止積層体
JP5081147B2 (ja) 反射防止コーティング組成物及びそのようなコーティングを堆積させる方法
EP1760126A1 (en) Siloxane coating material, optical articles and process for the production of siloxane coating materials
JP2011203745A (ja) 反射防止積層体
JPS5950401A (ja) 表示装置
KR102237333B1 (ko) 저굴절률막 형성용 액 조성물
KR100522832B1 (ko) 내오염성과 저반사성을 갖는 코팅액 조성물 및 그의제조방법
JP2009051045A (ja) 反射防止フィルム
JP4948387B2 (ja) 反射防止フィルム
JP5293180B2 (ja) リン酸エステル化合物を含有する被膜形成用塗布液及び反射防止膜
JPH01309003A (ja) 撥水性を有する帯電防止物品
JPH011527A (ja) 反射防止性物品およびその製造方法
JP2629813B2 (ja) 低反射透明成形体
KR100789403B1 (ko) 반사방지 및 대전방지 필름 및 그 제조방법
JPH11211901A (ja) 反射防止性物品
JPH01261469A (ja) 透明導電性被膜
KR100347666B1 (ko) 투명한 대전방지 내마모성 피복 조성물 및 그의 제조방법
US20060134427A1 (en) Optical laminate
KR20060095442A (ko) 방오막 피복 수지 물품의 제조 방법
JP2001343502A (ja) 反射防止フィルム
KR101764581B1 (ko) 내지문·내반사 필름 코팅제 제조방법
JP2002267802A (ja) 反射防止フィルム
JPH0351733B2 (ko)

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20110110

Year of fee payment: 5

LAPS Lapse due to unpaid annual fee