JP2002267802A

JP2002267802A - 反射防止フィルム

Info

Publication number: JP2002267802A
Application number: JP2001064758A
Authority: JP
Inventors: Isao Oguri; 勲小栗
Original assignee: Teijin Ltd
Current assignee: Teijin Ltd
Priority date: 2001-03-08
Filing date: 2001-03-08
Publication date: 2002-09-18

Abstract

(57)【要約】【課題】高い反射防止機能を持った反射防止フィルム
を生産性良く得ることを目的とする。【解決手段】透明フィルム基材の少なくとも片面に、
屈折率の異なる２つ以上の層からなる反射防止層が積層
される反射防止フィルムである。反射防止層のうち少な
くとも１層が、ＴｉまたはＺｒのアルコキシドが加水分
解されてできる金属酸化物膜。かつ金属酸化物膜中には
Ｒ¹ _aＲ² _bＳｉＸ_4-(a+b)で表される有機珪素化合物が含
まれている。ここでＲ¹、Ｒ²はそれぞれ、アルキル基、
アルケニル基、アリル基、ハロゲン基、エポキシ基、ア
ミノ基、メルカプト基、メタクリル基、フロロ基、ある
いはシアノ基を有する炭化水素基。Ｘは、アルコキシル
基、アルコキシアルコキシル基、ハロゲンないしアシル
オキシ基から選ばれた加水分解可能な基。ａ、ｂはそれ
ぞれ０、１又は２であるが、ａ＋ｂは２以下である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は反射防止フィルムに
関し、さらに詳しくはハンドリング性がよく生産性が高
く、かつ高性能な反射防止フィルムに関する。

【０００２】

【従来の技術】透明基材、例えばショウケース、窓、デ
ィスプレイ等を通して展示物、景色等を見る場合、外光
や自身が映り込み、非常に見にくいことがある。このた
め透明基材の上に反射を抑えるような反射防止フィルム
を貼り合わせることが行われている。

【０００３】この反射防止フィルムには、従来、透明プ
ラスチックフィルムの上に、低屈折率層と金属酸化物等
からなる高屈折率層の２層以上の積層構造からなる反射
防止層を、または無機化合物や有機フッ素化合物からな
る低屈折率層を単層で積層した反射防止フィルムが用い
られている。また、これとは別に透明プラスチックフィ
ルムの表面に透明な微粒子を含むコーティング層を形成
してその表面を凹凸状とし、これにより外光を乱反射さ
せて同様の効果を得ようとするものが知られている。こ
れら反射防止フィルムのなかで、光の干渉を利用した反
射防止特性に優れた、低屈折率層と高屈折率層の積層構
造の反射防止層を有する反射防止フィルムを用いること
が多い。

【０００４】反射防止層の形成方法は、スパッタや、蒸
着、ＣＶＤ等の気相法が用いられているが、コストの面
から湿式法による製法も行われているが、性能的に気相
法による物よりも劣ることが多かった。湿式法により、
高性能な反射防止性能を得られなかった背景としては、
屈折率の高い膜形成することが、湿式法では難しかっ
た。

【０００５】そこで、高い屈折率の層を形成する方法と
して、チタンやジルコニウム等、酸化物の屈折率の高い
アルコキシドを加水分解することにより金属酸化物膜を
得る方法や、金属酸化物の微粒子をアクリル等のバイン
ダーにより分散し硬化させる等の方法が取られてきた。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかし、金属酸化物を
バインダーに分散させて硬化した膜は、バインダー成分
が不可欠なことから、高い屈折率を得ることがむずかし
い。また、金属アルコキシドを透明基材にコーティング
して得られる金属酸化物層は、非常に平滑な面となるた
め、連続コーティングによりロール状に巻き取ったと
き、フィルム背面にブロッキングを起こしてしまうとい
う課題がある。また、非常にすべりが悪いということか
ら、ロールの形状が悪く転写跡が残ってしまうなどの課
題があった。

【０００７】一方、反射防止の性能を十分発現するには
屈折率の調整が必要であるという課題もあった。さら
に、金属のアルコキシドは水分を吸収すると加水分解が
進行するため、塗液としてのポットライフが十分ではな
いという課題があった。

【０００８】本発明の目的は、かかる従来技術の問題を
解消し、従来の反射防止フィルムよりも生産性がよく、
高性能な反射防止フィルムの提供である。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明の反射防止フィル
ムは、透明フィルム基材の少なくとも片面に、屈折率の
異なる２つ以上の層からなる反射防止層が積層されてい
る。そして反射防止層のうち少なくとも１層が、チタン
またはジルコニウムのアルコキシドが加水分解されてで
きる金属酸化物膜であり、かつ金属酸化物膜中には下記
式（１）で表される有機珪素化合物が含まれていること
を特徴とする。Ｒ¹ _aＲ² _bＳｉＸ_4-(a+b)・・（１）

【００１０】式（１）中で、Ｒ¹とＲ²はそれぞれ、アル
キル基、アルケニル基、アリル基、ハロゲン基、エポキ
シ基、アミノ基、メルカプト基、メタクリル基、フロロ
基、あるいはシアノ基を有するところの、炭化水素基で
ある。Ｘは、アルコキシル基、アルコキシアルコキシル
基、ハロゲン基、ないしアシルオキシ基から選ばれた加
水分解可能な基である。ａ、ｂはそれぞれ０、１又は２
であるが、ａ＋ｂは２以下である。

【００１１】本発明においてはこうした有機珪素化合物
を添加することにより、屈折率の調整が可能となる。か
つ有機珪素化合物は、チタンやジルコニウムのアルコキ
シドに比べ反応性が弱く塗液のポットライフが延長さ
れ、生産性の優れた反射防止フィルムを得ることができ
る。

【００１２】本発明における透明フィルム基材は、可視
光線の透過率が少なくとも５０％以上、好ましくは７５
％以上であるものであれば何でもよいが、工業生産性に
優れた有機高分子フィルムが好ましい。この有機高分子
としては、ポリエステル（例えば、ポリエチレンテレフ
タレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート等）、
ポリ（メタ）アクリル（例えば、ポリメチルメタクリレ
ート（ＰＭＭＡ）等）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポ
リスチレン、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、
ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビ
ニル共重合体、ポリウレタン、トリアセテート、セロフ
ァン等を例示することができる。これら中、ＰＥＴ、Ｐ
Ｃ、ＰＭＭＡが好ましい。

【００１３】前記透明フィルム基材は、ポリマーの種類
によって無延伸フィルムであったり、延伸フィルムであ
ったりする。例えば、ポリエステルフィルム例えばＰＥ
Ｔフィルムは、通常、二軸延伸フィルムであり、またＰ
Ｃフィルム、トリアセテートフィルム、セロファンフィ
ルム等は、通常、無延伸フィルムである。また、透明フ
ィルム基材の厚さは、反射防止フィルムの用途により適
宜決定されるが、通常１０〜５００μｍである。

【００１４】本発明における反射防止層は、透明フィル
ム基材の少なくとも片面の上に設けられる。そして、こ
の反射防止層は、屈折率の異なる層を積層した構成から
なり、光の干渉性を利用した反射防止層である。そして
反射防止層のうち少なくとも１層は、チタンまたはジル
コニウムのアルコキシドが加水分解されてできる金属酸
化物膜である。こうした金属酸化物膜は、チタンまたは
ジルコニウムのアルコキシドを溶剤で希釈し、塗布、乾
燥工程中に加水分解をさせて形成できる。

【００１５】チタンまたはジルコニウムのアルコキシド
として、具体的にはチタンテトラエトキシド、チタンテ
トラ−ｎ−プロポキシド、チタンテトラ−ｉ−プロポキ
シド、チタンテトラ−ｎ−ブトキシド、チタンテトラ−
ｓｅｃ−ブトキシド、チタンテトラ−ｔｅｒｔ−ブトキ
シド、ジルコニウムテトラエトキシド、ジルコニウムテ
トラ−ｎ−プロポキシド、ジルコニウムテトラ−ｉ−プ
ロポキシド、ジルコニウムテトラ−ｎ−ブトキシド、ジ
ルコニウムテトラ−ｓｅｃ−ブトキシド、ジルコニウム
テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシド、もしくはそれらの２〜
６量体が挙げられ、更にはジエトキシチタニウムビスア
セチルアセトネート、ジプロポキシチタニウムビスアセ
チルアセトネート、ジブトキシチタニウムビスアセチル
アセトネート、ジエトキシジルコニウムビスアセチルア
セトネート、ジプロポキシジルコニウムビスアセチルア
セトネート、ジブトキシジルコニウムビスアセチルアセ
トネート等のキレート化合物も挙げることができる。

【００１６】そして前述の有機珪素化合物を、チタンま
たはジルコニウムのアルコキシドが加水分解されてでき
た金属酸化物膜に添加することで、その屈折率を調整で
きる。この有機珪素化合物は、反応性がチタンやジルコ
ニウムのアルコキシドと比較して低いため、ポットライ
フの延長の効果がある。こうした効果は、有機珪素化合
物がアルコキシド加水分解物に対して重量比で０．１〜
３０％であると、より好ましくなる。

【００１７】この有機珪素化合物の具体例としては、テ
トラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラｎ
−プロポキシシラン、テトラｉ−プロポキシシラン、テ
トラｎ−ブトキシシラン、テトラｓｅｃ−ブトキシシラ
ン、テトラｔ−ブトキシシランなどのテトラアルコキシ
ドシラン類；メチルトリメトキシシラン、メチルトリエ
トキシシラン、メチルトリメトキシエトキシシラン、メ
チルトリアセトキシシラン、メチルトリプロポキシシラ
ン、メチルトリブトキシシラン、エチルトリメトキシシ
ラン、エチルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシ
シラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセト
キシシラン、ビニルトリメトキシエトキシシラン、フェ
ニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラ
ン、フェニルトリアセトキシシラン、デシルトリメトキ
シシラン、デシルトリエトキシシラン、トリフルオロプ
ロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリ
エトキシシラン、ヘプタデカトリフルオロデシルトリメ
トキシシラン、ヘプタデカトリフルオロデシルトリエト
キシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、
γ−クロロプロピルトリエトキシシラン、γ−クロロプ
ロピルトリアセトキシシラン、γ−メタクリルオキシプ
ロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメ
トキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラ
ン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−
メルカプトプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（ア
ミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラ
ン、β−シアノエチルトリエトキシシラン、メチルトリ
フェノキシシラン、クロロメチルトリメトキシシラン、
クロロメチルトリエトキシシラン、グリシドキシメチル
トリメトキシシラン、グリシドキシメチルトリエトキシ
シラン、α−グリシドキシエチルトリメトキシシラン、
α−グリシドキシエチルトリエトキシシラン、β−グリ
シドキシエチルトリメトキシシラン、β−グリシドキシ
エチルトリエトキシシラン、α−グリシドキシプロピル
トリメトキシシラン、α−グリシドキシプロピルトリエ
トキシシラン、β−グリシドキシプロピルトリメトキシ
シラン、β−グリシドキシプロピルトリエトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ
−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリ
シドキシプロピルトリプロポキシシラン、γ−グリシド
キシプロピルトリブトキシシラン、γ−グリシドキシプ
ロピルトリメトキシエトキシシラン、γ−グリシドキシ
プロピルトリフェノキシシラン、α−グリシドキシブチ
ルトリメトキシシラン、α−グリシドキシブチルトリエ
トキシシラン、β−グリシドキシブチルトリメトキシシ
ラン、β−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、γ
−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、γ−グリシ
ドキシブチルトリエトキシシラン、δ−グリキドキシブ
チルトリメトキシシラン、δ−グリキドキシブチルトリ
エトキシシラン、（３，４−エポキシシクロヘキシル）
メチルトリメトキシシラン、（３，４−エポキシシクロ
ヘキシル）メチルトリエトキシシラン、β−（３，４−
エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、
β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリエ
トキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシ
ル）エチルトリプロポキシシラン、β−（３，４−エポ
キシシクロヘキシル）エチルトリブトキシシラン、β−
（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキ
シエトキシシラン、γ−（３，４−エポキシシクロヘキ
シル）プロピルトリメトキシシラン、β−（３，４−エ
ポキシシクロヘキシル）エチルトリフェノキシシラン、
γ−（３，４−エポキシシクロヘキシル）プロピルトリ
メトキシシラン、γ−（３，４−エポキシシクロヘキシ
ル）プロピルトリエトキシシラン、δ−（３，４−エポ
キシシクロヘキシル）ブチルトリメトキシシラン、δ−
（３，４−エポキシシクロヘキシル）ブチルトリメトキ
シシラン、などのトリアルコキシシラン、トリアシルオ
キシシラン、トリフェノキシシラン類；ジメチルジメト
キシシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、ジメチ
ルジエトキシシラン、フェニルメチルジエトキシシラ
ン、γ−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、γ−
クロロプロピルメチルジエトキシシラン、ジメチルジア
セトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピルメチル
ジメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピルメチ
ルジエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジ
メトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジエト
キシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラ
ン、γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、メチ
ルビニルジメトキシシレン、メチルビニルジエトキシシ
ラン、グリシドキシメチルメチルジメトキシシラン、グ
リシドキシメチルメチルジエトキシシラン、α−グリシ
ドキシエチルメチルジメトキシシラン、α−グリシドキ
シエチルメチルジエトキシシラン、β−グリシドキシエ
チルメチルジメトキシシラン、β−グリシドキシエチル
メチルジエトキシシラン、α−グリシドキシプロピルメ
チルジメトキシシラン、α−グリシドキシプロピルメチ
ルジエトキシシラン、β−グリシドキシプロピルメチル
ジメトキシシラン、β−グリシドキシプロピルメチルジ
エトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメ
トキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエト
キシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジプロポ
キシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジブトキ
シエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジ
メトキシエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメ
チルジフェノキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメ
チルジアセトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルエ
チルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルエチ
ルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルビニル
ジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルビニルジ
エトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルフェニルジ
メトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルフェニルジ
エトキシシランなどのジアルコキシシラン、ジフェノキ
シシラン、ジアシルオキシシラン類が挙げられる。

【００１８】これらの珪素化合物は、求められる膜の屈
折率等の光学物性の調整に用いられるが、表面の硬度、
濡れ、密着性、及びクラック防止の目的により２種以上
用いることも可能である。

【００１９】アルコキシドを溶解する溶媒としては、例
えば、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、リグロイン、メ
チルエチルケトン、イソプロピルアルコール、メタノー
ル、エタノール、ブタノール、メチルイソブチルケト
ン、酢酸エチル、酢酸ブチル等の飽和炭化水素、アルコ
ール、ケトン、エステル類、ハロゲン化炭化水素、トル
エン、キシレン等の芳香族炭化水素、或いはこれらの混
合物が挙げられる。塗布方法としては、通常のコーティ
ング作業で用いられる方法を用いることができ、例え
ば、スピンコート法、ディップ法、スプレー法、ロール
コーター法、メニスカスコーター法、フレキソ印刷法、
スクリーン印刷法、ビートコーター法、マイクログラビ
アコーター法等を挙げることができる。

【００２０】塗布後の乾燥条件としては、熱処理は、前
記透明フィルム基材の熱変形温度以下で行う。例えば、
透明フィルム基材がポリエチレンテレフタレートフィル
ムである場合には、通常１２０℃〜１７０℃の温度で３
０秒〜１０分行う。乾燥状態によっては、４０〜９０℃
で１２時間〜１週間程度のエージングを行うことによ
り、膜の屈折率が安定するので好ましい。

【００２１】そして本発明においては、平均粒径が１〜
５００ｎｍの粒子が、アルコキシド加水分解物に対して
重量比０．１％〜２５％で金属酸化物膜中に分散されて
いることが好ましい。こうした粒子が含まれると、金属
酸化物膜の表面に微細な凹凸が形成される。これによ
り、ブロッキングを抑えロール状に巻き取った際きれい
に巻き取れる反射防止フィルムを得ることができる。

【００２２】ここで、分散させる粒子の平均粒径は、２
０〜２００ｎｍであるとより好ましい。なお、粒子の粒
径は、その粒度分布のピークが一つの物でも良いし、２
つ以上でも良い。また、この粒子は、溶媒に分散させた
状態で加えるのが好ましいが、加えた後の分散が十分な
される場合はこの限りではない。

【００２３】また粒子の添加量としては、アルコキシド
加水分解物に対して、重量比０．３〜５％であるとより
好ましい。添加量が多くなりすぎるとヘーズが高くなり
曇りの原因になり好ましくなく、少なすぎると滑りが悪
くなりブロッキングを起こしやすくなり好ましくない。

【００２４】粒子の種類としては、チタン、珪素、錫、
鉄、アルミニウム、銅、マグネシウム、インジウム、ア
ンチモン、マンガン、セリウム、イットリウム、亜鉛お
よびジルコニウムの金属単体またはその酸化物および／
または窒化物からなる群から選ばれる少なくとも１種を
用いることが好ましい。そうした粒子としては、酸化チ
タン、酸化珪素、酸化錫、酸化鉄、酸化アルミニウム、
酸化銅、酸化マグネシウム、インジウム・錫酸化物、ア
ンチモン・錫酸化物、酸化マンガン、酸化セリウム、酸
化イットリウム、酸化亜鉛、酸化ジルコニウムなどが挙
げられる。これら粒子は、その透明性、硬度、そして安
定性の点で優れている。

【００２５】また、透明基材と反射防止層の間にハード
コート層を設けることにより、強度に優れた反射防止フ
ィルムが得られる。このハードコート層としては、透明
性を有し、適度な硬度を有する層を形成することが好ま
しい。その形成材料には特に限定はなく、例えば電離放
射線や紫外線照射による硬化樹脂や熱硬化性樹脂を使用
できる。特に、紫外線照射硬化型のアクリル系や有機珪
素の樹脂や、熱硬化型のポリシロキサン樹脂が好適であ
る。これらの樹脂は公知のものを用いることができる。
さらに、このハードコート層は、透明フィルム基材と屈
折率が同等もしくは近似していることがより好ましい
が、膜厚が３μｍ以上の場合には特にこの点も必要な
い。

【００２６】ハードコート層を形成するにあたり、塗布
方法に制限はないが、表面を平滑に且つ均一に形成する
ことが好ましい。このハードコート層には、平均粒子径
０．０１〜３μｍの透明な無機あるいは有機の微粒子を
混合分散させてもよい。これによりアンチグレアと呼ば
れる光拡散住の処理を施すことができる。そしてこの光
拡散性の処理を施したハードコート層の上に反射防止層
を形成することにより、画像のぼやけが小さくなり、単
なる光拡散性の処理を施した場合よりも画像が明瞭にな
る。この微粒子は、透明であれば特に限定されるもので
はないが、屈折率１．６以下の低屈折率材料からなる微
粒子が好ましく、例えば酸化珪素粒子、弗化マグネシウ
ム粒子等が安定性、耐熱性等の点から好適である。

【００２７】また、反射防止層の上に汚染防止層を形成
することにより、反射防止層の表面を保護し、汚染し難
い反射防止フィルムも提供される。その形成材料として
は、透明性を有し、要求性能が満たされる限り、いかな
る材料でも制限がなく使用することができる。例えば、
疎水基を有する化合物、より具体的には、フルオロカー
ボンやパーフルオロシラン等、またこれらの高分子化合
物等を好ましくは使用することができる。また、指紋拭
き取り汚性向上のためには、メチル基の様な撥油性を有
する高分子化合物が好適である。

【００２８】汚染防止層の形成方法としては、当該形成
材料に応じて真空蒸着法。スパッタリング法、イオンプ
レーティング法。プラズマＣＶＤ法、プラズマ重合法な
どの真空製膜プロセスや、マイクログラビア、スクリー
ン、ディップ等のウエットプロセスの各種コーティング
方法を用いることができる。汚染防止層の厚さは反射防
止層の機能を損なわないよう設定することが必要であ
り、通常、形状膜厚を５０ｎｍ以下とすることが好まし
い。

【００２９】本発明の反射防止フィルムは、従来の反射
防止フィルムと同様に使用することができ、例えば、粘
着剤、接着剤等を用いてガラス板、プラスチック板、偏
光板等と貼り合わせることにより反射防止性を有する光
学部材を得ることができる。こうしたことから、透明フ
ィルム基材の両面もしくは、反射防止層の反対面側に易
接着処理を行うことが好ましい。これにより、密着性に
優れた反射防止フィルムも提供される。こうした易接処
理は、フィルムの製膜時に行ってもよいし、製膜後に行
っても良い。

【００３０】

【実施例】次に実施の形態を挙げて本発明を更に詳細に
説明する。なお、フィルム特性を下記の方法で評価し
た。

【００３１】１．屈折率透明フィルム基板例えばポリエチレンテレフタレート
（ＰＥＴ）フィルムの上に、反射防止層をその分光反射
率のピークが５５０ｎｍ（基材より反射防止の各層の屈
折率ｎが高い場合は山部、低い場合は谷部）となるよう
な厚みで形成し、そのときの反射率Ｒから下記式により
逆算した。反射率は島津製作所製ＵＶ−３１０１ＰＣ型
を使用し測定した。Ｒ＝［（ｎ_S−ｎ²）／（ｎ_S＋ｎ²）］² なお上記式でｎ_SはＰＥＴフィルムの屈折率であり、こ
れはアッベ屈折率計により測定した。

【００３２】２．可視光線の反射率島津製作所製ＵＶ−３１０１ＰＣ型を用い、５５０ｎｍ
の光の反射率を測定した。

【００３３】３．ヘーズ日本電色工業社製のヘーズ測定器（ＮＤＨ−２０）を使
用して測定した。

【００３４】４．巻き取り特性反射防止フィルムを生産する途中工程での、巻き取り特
性に関する従来技術課題に対する本発明効果を確認のた
め、アルコキシドをコーティングした段階のフィルムに
おいて、「ブロッキング」と「巻き形状」そして「アル
コキシドのポットライフ」を、次のようにして評価し
た。

【００３５】（ａ）ブロッキング評価試料にアルコキシドをコーティング後、１０ｃｍ角に切
り取り２枚表と裏を張り合わせて５０℃で５０ｋｇの過
重をかけた条件で１７時間保持した。そして剥離操作を
行い評価した。 ○：問題無く剥離できた。 ×：張り付きが起きた。

【００３６】（ｂ）巻き形状評価フィルムを巻き上げてその形状を目視により観察した。 ○：フィルムの形状がきれいで、張り付き部位も無い。 ×：フィルムの形状を見たとき、張り付き部位が観察さ
れる。アルコキシドをコーティング後、以下のように評価を行
った。

【００３７】（ｃ）アルコキシドのポットライフ湿度５０％の条件で、マイクログラビアでコーティング
を行ったときに ○：５時間以上経過しても液状態および乾燥後の塗面に
変化無し。 ×：５時間以内で液状態または乾燥後の塗面に異常（白
化、ゲル化等）が発生。

【００３８】［実施例１］透明フィルム基材として易接
着処理二軸配向ＰＥＴフィルム（帝人製ＯＰＦＷ−１
８８μｍ）を用い、この片面の上にＵＶ硬化性ハードコ
ート剤（銘柄ＪＳＲ製デソライトＲ７５０１）を厚さ
約５μｍになるよう塗布し、ＵＶ硬化させてハードコー
ト層を形成した。

【００３９】次いでハードコート層の上にテトラブチル
チタネートの４量体（日本曹達製ＴＢＴＢ−４）の
リグロイン／ｎ−ブタノール（３／１）溶液に、ＳｉＯ
₂粒子（日本エアロジル製ＡＥＲＯＳＩＬＲ９７２
平均粒径２０ｎｍ）をアルコキシドに対し０．５重量
％、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランをア
ルコキシドに対し１５重量％添加したものを添加し分散
させたものを、マイクログラビアコーティングにより塗
工、１５０℃２分間乾燥し、厚さ約８０ｎｍになる膜
（屈折率１．７５）を形成した。さらにこの上に、スパ
ッタによりＳｎＯ₂層（屈折率２．０５）を６５ｎｍ形
成した。こうして屈折率の異なる２層からなる反射防止
層を形成した。

【００４０】最後にテトラエチルシリケートをエタノー
ルに溶解し、水および塩酸を加えて加水分解して得られ
たＳｉＯ₂ゾルを塗布し、１００℃で２分間熱処理
し、汚染防止撥水層としてのゲル膜（屈折率１．４５）
を形成した。こうして得られたフィルムの評価結果を表
１に示す。

【００４１】［比較例１］添加した粒子をＡｌ₂Ｏ₃粒子
（日本軽金属アルミナ１μｍ）を０．５重量％に変
更した以外は、実施例１と同様に行った。こうして得ら
れたフィルムの評価結果を表１に示す。

【００４２】［比較例２］テトラブチルチタネートのコ
ーティング液に粒子を添加しなかった以外は、実施例１
と同じに行った。こうして得られたフィルムの評価結果
を表１に示す。

【００４３】［比較例３］加えた粒子の添加量をＳｉＯ
₂粒子４０重量％に変更した以外は、実施例１と同様に
行った。こうして得られたフィルムの評価結果を表１に
示す。

【００４４】［比較例４］テトラブチルチタネートのコ
ーティング液に、γ−グリシドキシプロピルトリメトキ
シシランを加えなかった以外は、実施例１と同様に行っ
た。こうして得られたフィルムの評価結果を表１に示
す。

【００４５】

【表１】

【００４６】

【発明の効果】本発明によれば、生産性を向上すること
により製造コストを抑えることができ、高い反射防止機
能を持った反射防止フィルムを提供することができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続きＦターム(参考） 2K009 AA05 AA06 AA07 AA08 AA09 AA15 BB24 CC03 CC09 CC42 CC45 DD02 DD04 DD05 DD11 EE05 4F100 AA17B AA19B AA19H AA20B AA20H AA21B AA23B AA23H AA27B AA28B AA28C AA28H AB02B AB02H AB09H AB10B AB10H AB11B AB11H AB12B AB12H AB14B AB14H AB17B AB17H AB18B AB18H AB19H AH06B AH06K AR00A AR00B AR00C AR00D AR00E BA03 BA04 BA05 BA07 BA10A BA10C BA10E BA26 CA23B DE01B EH66C GB07 JK12D JL06E JL11E JN01A JN06 JN06B JN06C JN18B JN18C YY00B

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】透明フィルム基材の少なくとも片面に、
屈折率の異なる２つ以上の層からなる反射防止層が積層
されている反射防止フィルムにおいて、反射防止層のう
ち少なくとも１層が、チタンまたはジルコニウムのアル
コキシドが加水分解されてできる金属酸化物膜であり、
かつ金属酸化物膜中には下記式（１）で表される有機珪
素化合物が含まれていることを特徴とする反射防止フィ
ルム。Ｒ¹ _aＲ² _bＳｉＸ_4-(a+b)・・（１）（式（１）中で、Ｒ¹とＲ²はそれぞれ、アルキル基、ア
ルケニル基、アリル基、ハロゲン基、エポキシ基、アミ
ノ基、メルカプト基、メタクリル基、フロロ基、あるい
はシアノ基を有するところの、炭化水素基である。Ｘは
アルコキシル基、アルコキシアルコキシル基、ハロゲン
基、ないしアシルオキシ基から選ばれた加水分解可能な
基である。ａ、ｂはそれぞれ０、１又は２であるが、ａ
＋ｂは２以下である。）
【請求項２】金属酸化物膜中での有機珪素化合物は、
アルコキシド加水分解物に対して重量比で０．１〜３０
％であることを特徴とする請求項１記載の反射防止フィ
ルム。
【請求項３】平均粒径が１〜５００ｎｍの粒子が、ア
ルコキシドに対して重量比０．１％〜２５％で金属酸化
物膜中に分散されていることを特徴とする請求項１〜２
のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【請求項４】粒子が、チタン、珪素、錫、鉄、アルミ
ニウム、銅、マグネシウム、インジウム、アンチモン、
マンガン、セリウム、イットリウム、亜鉛およびジルコ
ニウムの金属単体またはその酸化物および／または窒化
物からなる群から選ばれる少なくとも１種であることを
特徴とする請求項３記載の反射防止フィルム。
【請求項５】ハードコート層が、透明基材と反射防止
層の間に設けられていることを特徴とする請求項１〜４
のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【請求項６】透明フィルム基材の両面もしくは片面
に、易接着処理がなされていることを特徴とする請求項
１〜５のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【請求項７】汚染防止層が、反射防止層の上に形成さ
れていることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記
載の反射防止フィルム。