JP2002174702A - 反射防止膜及びこれを利用した光学部材 - Google Patents
反射防止膜及びこれを利用した光学部材Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 耐汚染性、易拭取り除去性、耐擦傷性、撥水
性などの性能を有し、これらの性能が長期に持続する反
射防止膜を提供すること、及びこれを支持基材上に有
し、同様の性能を有する光学部材を提供すること。 【解決手段】 二酸化ケイ素系無機層を有する単層構造
又は複層構造の反射防止層と、表面層として設けられた
汚染防止層とからなる反射防止膜であって、前記汚染防
止層が特定の含フッ素シラザン化合物の硬化物からなる
ことを特徴とする反射防止膜、及びこの反射防止膜を支
持基材上に有する光学部材。
性などの性能を有し、これらの性能が長期に持続する反
射防止膜を提供すること、及びこれを支持基材上に有
し、同様の性能を有する光学部材を提供すること。 【解決手段】 二酸化ケイ素系無機層を有する単層構造
又は複層構造の反射防止層と、表面層として設けられた
汚染防止層とからなる反射防止膜であって、前記汚染防
止層が特定の含フッ素シラザン化合物の硬化物からなる
ことを特徴とする反射防止膜、及びこの反射防止膜を支
持基材上に有する光学部材。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、汚染防止能に優れ
た反射防止膜及びその膜を利用した光学部材に関する。
た反射防止膜及びその膜を利用した光学部材に関する。
【０００２】
【従来の技術】視認装置等の表面に設けられることが一
般的な反射防止膜にあっては、手垢や指紋、汗や唾液や
整髪料等が付着しやすく、それらの付着で表面反射率が
変化したり、付着物が白く浮き出て見えて表示内容が不
鮮明になるなど、単なる透明板等の場合に比べて汚染が
目立ちやすいという問題があった。そのため、かかる汚
染物の付着防止性や付着汚染物の除去性に優れる反射防
止膜の提供が久しい課題となっている。
般的な反射防止膜にあっては、手垢や指紋、汗や唾液や
整髪料等が付着しやすく、それらの付着で表面反射率が
変化したり、付着物が白く浮き出て見えて表示内容が不
鮮明になるなど、単なる透明板等の場合に比べて汚染が
目立ちやすいという問題があった。そのため、かかる汚
染物の付着防止性や付着汚染物の除去性に優れる反射防
止膜の提供が久しい課題となっている。
【０００３】耐汚染性の向上等を目的とした反射防止膜
として、特公平6-5324号公報にはPVD(Phisical Vapor D
eposition)法により形成した二酸化ケイ素を主成分とす
る表面層を有する単層又は多層の無機物層からなる反射
防止層の上に、有機ポリシロキサン系重合物又はパーフ
ルオロアルキル基含有重合物からなる硬化物層を設けて
なる反射防止性を有する光学物品が開示されている。
として、特公平6-5324号公報にはPVD(Phisical Vapor D
eposition)法により形成した二酸化ケイ素を主成分とす
る表面層を有する単層又は多層の無機物層からなる反射
防止層の上に、有機ポリシロキサン系重合物又はパーフ
ルオロアルキル基含有重合物からなる硬化物層を設けて
なる反射防止性を有する光学物品が開示されている。
【０００４】しかしながら、この光学物品において、手
垢や指紋等の人体的汚染物が付着した場合に、普通のテ
ィッシュペーパー等で拭取ることが困難で、汚染が薄膜
に押し拡げられたり、強く擦ると反射防止膜が傷つくた
め満足できる除去を達成できない等の問題があった。
垢や指紋等の人体的汚染物が付着した場合に、普通のテ
ィッシュペーパー等で拭取ることが困難で、汚染が薄膜
に押し拡げられたり、強く擦ると反射防止膜が傷つくた
め満足できる除去を達成できない等の問題があった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上記状況に鑑み、本発
明の課題は、耐汚染性、易拭取り除去性、耐擦傷性、撥
水性などの性能を有し、これらの性能が長期に持続する
反射防止膜を提供すること、及びこれを支持基材上に有
し、同様の性能を有する光学部材を提供することにあ
る。
明の課題は、耐汚染性、易拭取り除去性、耐擦傷性、撥
水性などの性能を有し、これらの性能が長期に持続する
反射防止膜を提供すること、及びこれを支持基材上に有
し、同様の性能を有する光学部材を提供することにあ
る。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、種々検討
した結果、後述する特定の含フッ素シラザン化合物の硬
化物よりなる層を反射防止膜の表面層として設けると、
上記課題を達成することができるということを見出し、
本発明に到達した。
した結果、後述する特定の含フッ素シラザン化合物の硬
化物よりなる層を反射防止膜の表面層として設けると、
上記課題を達成することができるということを見出し、
本発明に到達した。
【０００７】すなわち、本発明によれば、第一に、二酸
化ケイ素系無機層を有する単層構造又は複層構造の無機
系反射防止層と、表面層として設けられた汚染防止層と
からなる反射防止膜であって、前記汚染防止層が下記式
(1) [(RfQ)aSi(R1)b(NR2)4-a-b/2]l・[(RfQ)cSi(R1)dO4-c-d/2]m・[(RfQ)eSi(R1)f(N R2)g/2Oh/2]n (1) 〔ここで、R1は、それぞれ同一でも異なっていてもよ
く、水素原子又は非置換若しくは置換の1価炭化水素基
であり；R2は、同一でも異なっていてもよく、水素原子
又はアルキル基であり；Rfは、同一でも異なっていても
よく、炭素原子数1〜20個のパーフルオロアルキル基若
しくは炭素原子数2〜35個のパーフルオロアルキルエー
テル基であり；Qは、炭素原子数2〜5の2価の有機基であ
り；各第1の構成単位において独立に、aは1〜3の整数で
あり、bは0〜2の整数であり、但し、a＋bは1〜3の整数
であり、各第2の構成単位において独立に、cは0〜2の整
数であり、dは1〜3の整数であり、但しc＋dは1〜3の整
数であり、各第3の構成単位において独立に、e及びfは0
〜2の整数であり、g及びhは1又は2の整数であり、但
し、e＋f＋g＋h＝4であり；l，m及びnはそれぞれ1以上
の数である〕で示される含フッ素シラザン化合物の硬化
物からなることを特徴とする反射防止膜が提供される。
第二に、前記反射防止膜を支持基材上に有することを特
徴とする光学部材が提供される。
化ケイ素系無機層を有する単層構造又は複層構造の無機
系反射防止層と、表面層として設けられた汚染防止層と
からなる反射防止膜であって、前記汚染防止層が下記式
(1) [(RfQ)aSi(R1)b(NR2)4-a-b/2]l・[(RfQ)cSi(R1)dO4-c-d/2]m・[(RfQ)eSi(R1)f(N R2)g/2Oh/2]n (1) 〔ここで、R1は、それぞれ同一でも異なっていてもよ
く、水素原子又は非置換若しくは置換の1価炭化水素基
であり；R2は、同一でも異なっていてもよく、水素原子
又はアルキル基であり；Rfは、同一でも異なっていても
よく、炭素原子数1〜20個のパーフルオロアルキル基若
しくは炭素原子数2〜35個のパーフルオロアルキルエー
テル基であり；Qは、炭素原子数2〜5の2価の有機基であ
り；各第1の構成単位において独立に、aは1〜3の整数で
あり、bは0〜2の整数であり、但し、a＋bは1〜3の整数
であり、各第2の構成単位において独立に、cは0〜2の整
数であり、dは1〜3の整数であり、但しc＋dは1〜3の整
数であり、各第3の構成単位において独立に、e及びfは0
〜2の整数であり、g及びhは1又は2の整数であり、但
し、e＋f＋g＋h＝4であり；l，m及びnはそれぞれ1以上
の数である〕で示される含フッ素シラザン化合物の硬化
物からなることを特徴とする反射防止膜が提供される。
第二に、前記反射防止膜を支持基材上に有することを特
徴とする光学部材が提供される。
【０００８】
【発明の実施の形態】本発明の反射防止膜は、二酸化ケ
イ素系無機層を有する単層構造又は複層構造の無機系反
射防止層と、表面層として設けられた汚染防止層とから
なり、前記汚染防止層が式(1)で示される含フッ素シラ
ザン化合物の硬化物からなる。ここで、まず無機系反射
防止層について述べる。
イ素系無機層を有する単層構造又は複層構造の無機系反
射防止層と、表面層として設けられた汚染防止層とから
なり、前記汚染防止層が式(1)で示される含フッ素シラ
ザン化合物の硬化物からなる。ここで、まず無機系反射
防止層について述べる。
【０００９】（無機系反射防止層）反射防止膜における
無機系反射防止層は、実質的な反射防止機能を担う部分
であり、単層構造又は複層構造とすることができる。従
って、例えばA.VASICEK著、「OPTICS OF THIN FILMS」P
159〜283[NORTH-HOLLAND PUBLISHINGCOMPANY,AMSTERDAM
(1960)]、特開昭58-46301号公報、特開昭59-49501号公
報、特開昭59-50401号公報、特開平1-294709号公報及び
特公平6-5324号公報等に開示されている構造の反射防止
層として形成することもできる。
無機系反射防止層は、実質的な反射防止機能を担う部分
であり、単層構造又は複層構造とすることができる。従
って、例えばA.VASICEK著、「OPTICS OF THIN FILMS」P
159〜283[NORTH-HOLLAND PUBLISHINGCOMPANY,AMSTERDAM
(1960)]、特開昭58-46301号公報、特開昭59-49501号公
報、特開昭59-50401号公報、特開平1-294709号公報及び
特公平6-5324号公報等に開示されている構造の反射防止
層として形成することもできる。
【００１０】無機系反射防止層を形成する無機物として
は、無機酸化物、無機ハロゲン化物及びそれらの複合物
等を用いることができ、それらの無機物の具体例として
は、SiO2、ZrO2、Al2O3、Y2O3、TiO2の等の無機酸化
物、MgF2、BaF2、CaF2、LaF2、LiF、NaF、SrF2の等の無
機ハロゲン化物及びそれらの複合物等が挙げられる。
は、無機酸化物、無機ハロゲン化物及びそれらの複合物
等を用いることができ、それらの無機物の具体例として
は、SiO2、ZrO2、Al2O3、Y2O3、TiO2の等の無機酸化
物、MgF2、BaF2、CaF2、LaF2、LiF、NaF、SrF2の等の無
機ハロゲン化物及びそれらの複合物等が挙げられる。
【００１１】無機系反射防止層が単層構造の場合には、
表面硬度の高さや汚染防止層との密着性等の点より、こ
の層を二酸化ケイ素系無機層とすることが好ましく、複
層構造の場合には表面層側の層を二酸化ケイ素系無機層
にすることが好ましい。
表面硬度の高さや汚染防止層との密着性等の点より、こ
の層を二酸化ケイ素系無機層とすることが好ましく、複
層構造の場合には表面層側の層を二酸化ケイ素系無機層
にすることが好ましい。
【００１２】無機系反射防止層は、下記の形成方法等に
よって前記の１種又は２種以上の無機物の層として、あ
るいは前記無機物とバインダ用ポリマー等との混合物の
層として形成される。前記無機物とバインダ用ポリマー
等との混合物の層として形成されている場合、混合物
中、無機物が30重量％以上含有する組成であることが硬
度や面汚染性等の点で好ましい。なお前記のバインダ用
ポリマーとしては、適宜なポリマーを用いることができ
て特に限定されないが、硬度等の点よりはポリオルガノ
シロキサンを形成しうる各種の有機ケイ素化合物やその
加水分解物等が好ましい。
よって前記の１種又は２種以上の無機物の層として、あ
るいは前記無機物とバインダ用ポリマー等との混合物の
層として形成される。前記無機物とバインダ用ポリマー
等との混合物の層として形成されている場合、混合物
中、無機物が30重量％以上含有する組成であることが硬
度や面汚染性等の点で好ましい。なお前記のバインダ用
ポリマーとしては、適宜なポリマーを用いることができ
て特に限定されないが、硬度等の点よりはポリオルガノ
シロキサンを形成しうる各種の有機ケイ素化合物やその
加水分解物等が好ましい。
【００１３】無機系反射防止層の形成方法は、例えば真
空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法
等のPVD法、あるいはスピンコート法、浸漬コート法、
カーテンフローコート法、ロールコート法、スプレーコ
ート法、流し塗り法等の流体塗布法等の適宜な薄膜形成
法にて行うことができる。
空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法
等のPVD法、あるいはスピンコート法、浸漬コート法、
カーテンフローコート法、ロールコート法、スプレーコ
ート法、流し塗り法等の流体塗布法等の適宜な薄膜形成
法にて行うことができる。
【００１４】前記したPVD法には、上記したSiO2等の無
機酸化物やMgF2等の無機ハロゲン化物等が好ましく用い
られ、特に表面層側となる二酸化ケイ素系無機層は、表
面硬度の高さや表面層として設けられる汚染防止層との
密着性等の点より、PVD法により二酸化ケイ素を主成分
として含有する層に形成したものが好ましい。
機酸化物やMgF2等の無機ハロゲン化物等が好ましく用い
られ、特に表面層側となる二酸化ケイ素系無機層は、表
面硬度の高さや表面層として設けられる汚染防止層との
密着性等の点より、PVD法により二酸化ケイ素を主成分
として含有する層に形成したものが好ましい。
【００１５】反射防止層は、反射防止効果等の点より複
層構造とすることが好ましく、中でも、表面層側となる
二酸化ケイ素系無機層よりも高い屈折率の層を1層又は2
層以上内在させた複層構造とすることが好ましい。その
場合、各層の厚さや屈折率の設定等については、上記し
たA.VASICEK著、「OPTICS OF THIN FILMS」等に開示さ
れているようにすることができる。
層構造とすることが好ましく、中でも、表面層側となる
二酸化ケイ素系無機層よりも高い屈折率の層を1層又は2
層以上内在させた複層構造とすることが好ましい。その
場合、各層の厚さや屈折率の設定等については、上記し
たA.VASICEK著、「OPTICS OF THIN FILMS」等に開示さ
れているようにすることができる。
【００１６】また反射防止層には、帯電によるゴミ等の
付着を防止するために静電気の除去効果や電磁波のシー
ルド効果も発揮する導電層を含ませてもよい。かかる導
電層としては、例えば金や銀やアルミニウム等の金属薄
膜層、酸化スズ、酸化インジウム、それらの混合物(IT
O)等の無機酸化物等からなる透明導電薄膜層が挙げられ
る。可視領域では、光の吸収が極めて少ない無機酸化物
系の透明導電薄膜層を用いることが特に好ましい。
付着を防止するために静電気の除去効果や電磁波のシー
ルド効果も発揮する導電層を含ませてもよい。かかる導
電層としては、例えば金や銀やアルミニウム等の金属薄
膜層、酸化スズ、酸化インジウム、それらの混合物(IT
O)等の無機酸化物等からなる透明導電薄膜層が挙げられ
る。可視領域では、光の吸収が極めて少ない無機酸化物
系の透明導電薄膜層を用いることが特に好ましい。
【００１７】（汚染防止層）本発明の反射防止膜におい
て汚染防止層は、上述の無機系反射防止層の上に設けら
れるものである。該汚染防止層は、下記式(1) [(RfQ)aSi(R1)b(NR2)4-a-b/2]l・[(RfQ)cSi(R1)dO4-c-d/2]m・[(RfQ)eSi(R1)f(N R2)g/2Oh/2]n （1） 〔ここで、R1は、それぞれ同一でも異なっていてもよ
く、水素原子又は非置換若しくは置換の1価炭化水素基
であり；R2は、同一でも異なっていてもよく、水素原子
又はアルキル基であり；Rfは、同一でも異なっていても
よく、炭素原子数1〜20個のパーフルオロアルキル基若
しくは炭素原子数2〜35個のパーフルオロアルキルエー
テル基であり；Qは、炭素原子数2〜5の2価の有機基であ
り；各第1の構成単位において独立に、aは1〜3の整数で
あり、bは0〜2の整数であり、但し、a＋bは1〜3の整数
であり、各第2の構成単位において独立に、cは0〜2の整
数であり、dは1〜3の整数であり、但しc＋dは1〜3の整
数であり、各第3の構成単位において独立に、e及びfは0
〜2の整数であり、g及びhは1又は2の整数であり、但
し、e＋f＋g＋h＝4であり；l，m及びnはそれぞれ1以上
の数である〕で示される含フッ素シラザン化合物の硬化
物からなる。
て汚染防止層は、上述の無機系反射防止層の上に設けら
れるものである。該汚染防止層は、下記式(1) [(RfQ)aSi(R1)b(NR2)4-a-b/2]l・[(RfQ)cSi(R1)dO4-c-d/2]m・[(RfQ)eSi(R1)f(N R2)g/2Oh/2]n （1） 〔ここで、R1は、それぞれ同一でも異なっていてもよ
く、水素原子又は非置換若しくは置換の1価炭化水素基
であり；R2は、同一でも異なっていてもよく、水素原子
又はアルキル基であり；Rfは、同一でも異なっていても
よく、炭素原子数1〜20個のパーフルオロアルキル基若
しくは炭素原子数2〜35個のパーフルオロアルキルエー
テル基であり；Qは、炭素原子数2〜5の2価の有機基であ
り；各第1の構成単位において独立に、aは1〜3の整数で
あり、bは0〜2の整数であり、但し、a＋bは1〜3の整数
であり、各第2の構成単位において独立に、cは0〜2の整
数であり、dは1〜3の整数であり、但しc＋dは1〜3の整
数であり、各第3の構成単位において独立に、e及びfは0
〜2の整数であり、g及びhは1又は2の整数であり、但
し、e＋f＋g＋h＝4であり；l，m及びnはそれぞれ1以上
の数である〕で示される含フッ素シラザン化合物の硬化
物からなる。
【００１８】前記式(1)中、R1は、各々、水素原子又は
非置換若しくは置換の1価炭化水素基であり、非置換若
しくは置換の1価炭化水素基としては、例えば、メチ
ル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシル基等のアルキ
ル基、ビニル、アリル基等のアルケニル基、フェニル、
トリル基等のアリール基、シクロヘキシル基等のシクロ
アルキル基、又はこれら基の炭素原子に結合した水素原
子の一部若しくは全部がハロゲン原子で置換されたハロ
ゲン化炭化水素基等であり、好ましくは炭素原子数1〜1
0、より好ましくは炭素原子数1〜6のもの、例えば3,3,3
-トリフルオロプロピル基、CF3CF2CF2CH2CH2基等であ
る；R2は水素原子又はアルキル基、例えば、メチル、エ
チル、プロピル、ブチル、ヘキシル基等であり、好まし
くは水素原子である；Rfは、例えば、式：CiF2i+1-
(ここで、iは1〜20の整数)で表されるパーフルオロアル
キル基、又は例えば、式：
非置換若しくは置換の1価炭化水素基であり、非置換若
しくは置換の1価炭化水素基としては、例えば、メチ
ル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシル基等のアルキ
ル基、ビニル、アリル基等のアルケニル基、フェニル、
トリル基等のアリール基、シクロヘキシル基等のシクロ
アルキル基、又はこれら基の炭素原子に結合した水素原
子の一部若しくは全部がハロゲン原子で置換されたハロ
ゲン化炭化水素基等であり、好ましくは炭素原子数1〜1
0、より好ましくは炭素原子数1〜6のもの、例えば3,3,3
-トリフルオロプロピル基、CF3CF2CF2CH2CH2基等であ
る；R2は水素原子又はアルキル基、例えば、メチル、エ
チル、プロピル、ブチル、ヘキシル基等であり、好まし
くは水素原子である；Rfは、例えば、式：CiF2i+1-
(ここで、iは1〜20の整数)で表されるパーフルオロアル
キル基、又は例えば、式：
【００１９】
【化１】 (ここで、jは1〜50の整数)で示されるパーフルオロアル
キルエーテル基等であり；Qは炭素原子数2〜5の2価の有
機基で、例えば、式：−CH2CH2−基、−CH2CH2CH2−基
等のアルキレン基、式：−CH2OCH2CH2CH2−基等の酸素
置換アルキレン基、-CONHCH2CH2CH2−等のアルキルアミ
ド基等である。
キルエーテル基等であり；Qは炭素原子数2〜5の2価の有
機基で、例えば、式：−CH2CH2−基、−CH2CH2CH2−基
等のアルキレン基、式：−CH2OCH2CH2CH2−基等の酸素
置換アルキレン基、-CONHCH2CH2CH2−等のアルキルアミ
ド基等である。
【００２０】a〜hはそれぞれ前記の整数であり、但し、
a＋b、c＋d及びe＋f＋g＋hは、それぞれ前記の整数であ
り、各構成単位において同一でも異なってもよい。ま
た、l,m及びnはそれぞれ1以上の整数であるが、l＋mは
好ましくは10〜500とされる。l＋mの値が上記範囲より
小さすぎると、得られる硬化被膜の強度が低いものとな
り、一方、l＋mの値が上記範囲より大きすぎると、硬化
性の悪いものとなる。nは、通常、2〜100、より好まし
くは5〜70の整数である。
a＋b、c＋d及びe＋f＋g＋hは、それぞれ前記の整数であ
り、各構成単位において同一でも異なってもよい。ま
た、l,m及びnはそれぞれ1以上の整数であるが、l＋mは
好ましくは10〜500とされる。l＋mの値が上記範囲より
小さすぎると、得られる硬化被膜の強度が低いものとな
り、一方、l＋mの値が上記範囲より大きすぎると、硬化
性の悪いものとなる。nは、通常、2〜100、より好まし
くは5〜70の整数である。
【００２１】さらに、前記式(1)で示されるシラザン化
合物におけるl,mの割合は、得られる硬化物の硬化速
度、硬化により得られる硬化物の層の反射防止層に対す
る接着性、表面特性等の点からm/(l＋m)が0.05〜0.5の
範囲であることが好ましい。
合物におけるl,mの割合は、得られる硬化物の硬化速
度、硬化により得られる硬化物の層の反射防止層に対す
る接着性、表面特性等の点からm/(l＋m)が0.05〜0.5の
範囲であることが好ましい。
【００２２】前記含フッ素シラザン化合物の硬化物より
なる層は、撥水撥油性、防汚性、耐薬品性、潤滑性、離
型性等に優れており、表面層として設けることにより、
汚染防止層として作用し、また、反射防止層のうち表面
側に設けられた二酸化ケイ素系無機層に強固に密着する
ので、その効果を長期間持続させることができる。
なる層は、撥水撥油性、防汚性、耐薬品性、潤滑性、離
型性等に優れており、表面層として設けることにより、
汚染防止層として作用し、また、反射防止層のうち表面
側に設けられた二酸化ケイ素系無機層に強固に密着する
ので、その効果を長期間持続させることができる。
【００２３】含フッ素シラザン化合物の合成：一般式
(1)に示す含フッ素シラザン化合物は、例えば、一般式
(2) (RfQ)aSi(R1)bX4-a-b (2)： 〔ここで、R1、Rf、Q、a、b及びa＋bは前記のとおりで
あり；Xはハロゲン原子、例えば、塩素、臭素である〕
で示されるオルガノシランと、平均組成式(3)： (RfQ)pSi(R1)qXrO4-p-q-r/2 (3) 〔ここで、R1,Rf,Q及びXは前記のとおりであり、p,q及
びrは、それぞれ0≦p＜3、0＜q＜3、0＜r＜3の数であっ
て、但しp＋q＋r＜4である〕で示されるオルガノポリシ
ロキサンとを、アンモニア及び第１アミンから選ばれる
少なくとも１種と反応させることにより製造することが
できる。
(1)に示す含フッ素シラザン化合物は、例えば、一般式
(2) (RfQ)aSi(R1)bX4-a-b (2)： 〔ここで、R1、Rf、Q、a、b及びa＋bは前記のとおりで
あり；Xはハロゲン原子、例えば、塩素、臭素である〕
で示されるオルガノシランと、平均組成式(3)： (RfQ)pSi(R1)qXrO4-p-q-r/2 (3) 〔ここで、R1,Rf,Q及びXは前記のとおりであり、p,q及
びrは、それぞれ0≦p＜3、0＜q＜3、0＜r＜3の数であっ
て、但しp＋q＋r＜4である〕で示されるオルガノポリシ
ロキサンとを、アンモニア及び第１アミンから選ばれる
少なくとも１種と反応させることにより製造することが
できる。
【００２４】汚染防止層の形成：汚染防止層の形成方法
は、上記した反射防止層の場合に準じた方法を採り得る
が、反射防止効果の均一性や反射干渉色の制御等の点に
より、スピンコート法、浸漬コート法、カーテンフロー
トコート法等の流体塗布方法や真空蒸着法等の1種又は2
種以上を適用した形成方法が好ましい。また作業性等の
点から、塗布液を紙や布等に含浸させて塗布流延する方
法が好ましい。
は、上記した反射防止層の場合に準じた方法を採り得る
が、反射防止効果の均一性や反射干渉色の制御等の点に
より、スピンコート法、浸漬コート法、カーテンフロー
トコート法等の流体塗布方法や真空蒸着法等の1種又は2
種以上を適用した形成方法が好ましい。また作業性等の
点から、塗布液を紙や布等に含浸させて塗布流延する方
法が好ましい。
【００２５】前記塗布液は、前記含フッ素シラザン化合
物を揮発性溶媒に溶解又は分散させるなどの方法で調製
することができる。その場合、揮発性溶媒については、
組成物の安定性や溶解性、無機系反射防止層の表面層側
の層、特に二酸化ケイ素系無機層に対する濡れ性や揮発
速度等を考慮して決定することが好ましく、例えば次に
述べる１種又は2種以上の混合溶媒を用いることができ
る。
物を揮発性溶媒に溶解又は分散させるなどの方法で調製
することができる。その場合、揮発性溶媒については、
組成物の安定性や溶解性、無機系反射防止層の表面層側
の層、特に二酸化ケイ素系無機層に対する濡れ性や揮発
速度等を考慮して決定することが好ましく、例えば次に
述べる１種又は2種以上の混合溶媒を用いることができ
る。
【００２６】前記揮発性溶媒としては、例えば、パーフ
ルオロヘプタン、パーフルオロオクタン等のフッ素変性
脂肪族炭化水素系溶剤、ｍ−キシレンヘキサフロライ
ド、ベンゾトリフロライド等のフッ素変性芳香族炭化水
素系溶剤、メチルパーフルオロブチルエーテル、パーフ
ルオロ−2−ブチルテトラヒドロフラン等のフッ素変性
エーテル系溶剤、石油ベンジン、ミネラルスピリッツ、
トルエン、キシレン等の炭化水素系溶剤、アセトン、メ
チルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン
系溶剤等が挙げられる。この中では、溶解性等の点でフ
ッ素変性された溶剤が望ましく、特に、ｍ−キシレンヘ
キサフロライド、パーフルオロ−2−ブチルテトラヒド
ロフランが好ましい。
ルオロヘプタン、パーフルオロオクタン等のフッ素変性
脂肪族炭化水素系溶剤、ｍ−キシレンヘキサフロライ
ド、ベンゾトリフロライド等のフッ素変性芳香族炭化水
素系溶剤、メチルパーフルオロブチルエーテル、パーフ
ルオロ−2−ブチルテトラヒドロフラン等のフッ素変性
エーテル系溶剤、石油ベンジン、ミネラルスピリッツ、
トルエン、キシレン等の炭化水素系溶剤、アセトン、メ
チルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン
系溶剤等が挙げられる。この中では、溶解性等の点でフ
ッ素変性された溶剤が望ましく、特に、ｍ−キシレンヘ
キサフロライド、パーフルオロ−2−ブチルテトラヒド
ロフランが好ましい。
【００２７】また、塗布液には、該含フッ素シラザン化
合物の加水分解・縮合反応を促進する目的で、加水分解
・縮合反応触媒を添加してもよい。その触媒の例として
は、ジブチル錫ジメトキシド、ジラウリン酸ジブチル錫
等の有機錫化合物、テトラ−ｎ−ブチルチタネート等の
有機チタン化合物、酢酸、メタンスルホン酸等の有機
酸、塩酸、硫酸等の無機酸等が挙げられる。中でも、酢
酸、テトラ−ｎ−ブチルチタネート、ジラウリン酸ジブ
チル錫が望ましい。
合物の加水分解・縮合反応を促進する目的で、加水分解
・縮合反応触媒を添加してもよい。その触媒の例として
は、ジブチル錫ジメトキシド、ジラウリン酸ジブチル錫
等の有機錫化合物、テトラ−ｎ−ブチルチタネート等の
有機チタン化合物、酢酸、メタンスルホン酸等の有機
酸、塩酸、硫酸等の無機酸等が挙げられる。中でも、酢
酸、テトラ−ｎ−ブチルチタネート、ジラウリン酸ジブ
チル錫が望ましい。
【００２８】汚染防止層の厚さは、適宜に決定しうる
が、一般的には反射防止性や汚染防止能、表面硬度との
調和性等の点より、0.001〜0.5μmが好ましく、0.01〜
0.1μmがより好ましい。なお汚染防止層の形成に際して
は、反射防止層の表面を清浄に処理しておくことが好ま
しい。その処理方法としては、例えば界面活性剤による
汚れ除去、有機溶剤による脱脂、フッ素系溶剤による蒸
気洗浄等の方法が挙げられる。また密着性や耐久性の向
上等を目的とした前処理を施してもよく、特に活性化ガ
スによる処理や、酸やアルカリ等による薬品洗浄等が好
ましい。
が、一般的には反射防止性や汚染防止能、表面硬度との
調和性等の点より、0.001〜0.5μmが好ましく、0.01〜
0.1μmがより好ましい。なお汚染防止層の形成に際して
は、反射防止層の表面を清浄に処理しておくことが好ま
しい。その処理方法としては、例えば界面活性剤による
汚れ除去、有機溶剤による脱脂、フッ素系溶剤による蒸
気洗浄等の方法が挙げられる。また密着性や耐久性の向
上等を目的とした前処理を施してもよく、特に活性化ガ
スによる処理や、酸やアルカリ等による薬品洗浄等が好
ましい。
【００２９】(反射防止膜)本発明による反射防止膜は、
反射防止効果等の点より表面層である汚染防止層の表面
における全光線の反射率に基づいて、その表面反射率が
3％以下であることが好ましい。従って、後述の光学部
材として支持基材の表裏に反射防止膜を設けた場合に
は、その表裏における合計の表面反射率が6％以下であ
ることが好ましい。なお表裏に反射防止膜を設けた無色
透明の光学部材においては、100％から光学部材の全光
線透過率を引いて、得られた値の半分を片面における表
面反射率と定義することもできる。
反射防止効果等の点より表面層である汚染防止層の表面
における全光線の反射率に基づいて、その表面反射率が
3％以下であることが好ましい。従って、後述の光学部
材として支持基材の表裏に反射防止膜を設けた場合に
は、その表裏における合計の表面反射率が6％以下であ
ることが好ましい。なお表裏に反射防止膜を設けた無色
透明の光学部材においては、100％から光学部材の全光
線透過率を引いて、得られた値の半分を片面における表
面反射率と定義することもできる。
【００３０】汚染防止層表面での表面反射率が高いと、
反射防止効果に乏しくて眼鏡レンズ等ではゴーストやフ
レア等の反射像を生じ、不快感発生の原因となりやす
い。またルッキンググラスやCRT(Cathode Ray Tube)
ディスプレイ用フィルタ等では、面状の反射光で内容物
や表示内容が判然としない状態となりやすい。
反射防止効果に乏しくて眼鏡レンズ等ではゴーストやフ
レア等の反射像を生じ、不快感発生の原因となりやす
い。またルッキンググラスやCRT(Cathode Ray Tube)
ディスプレイ用フィルタ等では、面状の反射光で内容物
や表示内容が判然としない状態となりやすい。
【００３１】なお汚染防止層については、TOF-SIMS(飛
行時間型二次イオン質量スペクトル法)にて表面分析を
行うことができる。この方法は、高真空中においた試料
表面に弱いエネルギをもつイオンを照射し、表面からで
た分子フラグメントを時間分解によりその質量数を検出
することにより行うものである。なお、この方法におけ
る測定装置及び測定条件は次のとおりである。 測定装置；米国Phisical Electronics (PHI EVANS)社製 TFS-2000 測定条件；一次イオン種 ：Ga(＋)イオン 一次イオンエネルギ ：25kV 一次イオン電流(DC) ：〜150pA 試料電位 ：＋3.2kV パルス周波数 ：7.2kHz パルス幅 ：〜10ns ハンチング ：無し 帯電中和 ：有り 時間分解能 ：1.1ns／ch 二次イオン極性 ：正、負 質量範囲(M/z) ：0〜10000 ラスターサイズ ：120μm□ 測定時間 ：20分 エネルギーフィルタ ：無し コントラストダイアフラム：#０ 位置検出器 ：Raster 後段加速 ：5kV 測定真空度 ：〜4×1／108Torr
行時間型二次イオン質量スペクトル法)にて表面分析を
行うことができる。この方法は、高真空中においた試料
表面に弱いエネルギをもつイオンを照射し、表面からで
た分子フラグメントを時間分解によりその質量数を検出
することにより行うものである。なお、この方法におけ
る測定装置及び測定条件は次のとおりである。 測定装置；米国Phisical Electronics (PHI EVANS)社製 TFS-2000 測定条件；一次イオン種 ：Ga(＋)イオン 一次イオンエネルギ ：25kV 一次イオン電流(DC) ：〜150pA 試料電位 ：＋3.2kV パルス周波数 ：7.2kHz パルス幅 ：〜10ns ハンチング ：無し 帯電中和 ：有り 時間分解能 ：1.1ns／ch 二次イオン極性 ：正、負 質量範囲(M/z) ：0〜10000 ラスターサイズ ：120μm□ 測定時間 ：20分 エネルギーフィルタ ：無し コントラストダイアフラム：#０ 位置検出器 ：Raster 後段加速 ：5kV 測定真空度 ：〜4×1／108Torr
【００３２】前記反射防止膜は、例えばLCD(Liqiud Cr
ystal Display)、CRTディスプレイ及びプラズマディス
プレイ等の表示装置ないし視認装置等の内側の面や前
面、偏光板等の光学素子、眼鏡用、カメラ用、双眼鏡用
等のレンズ、防眩ミラー等の鏡、重量計等の計器類等の
表示板等、従来に準じた適宜な物品に適用することがで
きる。すなわち、反射防止膜は、前記物品等の被処理体
に直接設けることができる。
ystal Display)、CRTディスプレイ及びプラズマディス
プレイ等の表示装置ないし視認装置等の内側の面や前
面、偏光板等の光学素子、眼鏡用、カメラ用、双眼鏡用
等のレンズ、防眩ミラー等の鏡、重量計等の計器類等の
表示板等、従来に準じた適宜な物品に適用することがで
きる。すなわち、反射防止膜は、前記物品等の被処理体
に直接設けることができる。
【００３３】（光学部材）上記反射防止膜を支持基材上
に設けて光学部材とする。すなわち、前記反射防止膜
は、ガラス板、プラスチック板、あるいは偏光板や拡散
板等の光学素子等の適宜な支持基材に設けて光学部材と
して適用することもできる。前記反射防止膜は、支持基
材の片面又は両面に設けることができる。その支持基材
としては適宜なものを用いてよく、特に限定されない。
液状コーティング法等で反射防止膜を形成させる場合に
は、ガラスやプラスチックからなる支持基材が好ましく
用いられる。
に設けて光学部材とする。すなわち、前記反射防止膜
は、ガラス板、プラスチック板、あるいは偏光板や拡散
板等の光学素子等の適宜な支持基材に設けて光学部材と
して適用することもできる。前記反射防止膜は、支持基
材の片面又は両面に設けることができる。その支持基材
としては適宜なものを用いてよく、特に限定されない。
液状コーティング法等で反射防止膜を形成させる場合に
は、ガラスやプラスチックからなる支持基材が好ましく
用いられる。
【００３４】支持基材がガラス基材の場合には、反射防
止層にMgF2やCaF2の如き低屈折率を示すものを含ませる
ことが、高い反射効果が得られる点で好ましい。また支
持基材がプラスチック基材の場合には、反射防止層にSi
O2の如き屈折率が比較的低くて硬度の高いものを含ませ
ることが耐久性などの点で好ましい。
止層にMgF2やCaF2の如き低屈折率を示すものを含ませる
ことが、高い反射効果が得られる点で好ましい。また支
持基材がプラスチック基材の場合には、反射防止層にSi
O2の如き屈折率が比較的低くて硬度の高いものを含ませ
ることが耐久性などの点で好ましい。
【００３５】支持基材がプラスチック基材の場合、プラ
スチックの例としては、ポリメチルメタクリレートやメ
チルメタクリレート共重合体等のアクリル系樹脂、ポリ
カーボネートやジエチレングリコールビスアリルカーボ
ネート(CR-39)等のポリカーボネート系樹脂、ポリエチ
レンテレフタレートや不飽和ポリエステル等のポリエス
テル系樹脂、トリアセチルセルース等のアセテート系樹
脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体、スチレン系
樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、エ
ポキシ系樹脂、ポリエーテルサルホン系樹脂、ポリアミ
ド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂等
が挙げられる。
スチックの例としては、ポリメチルメタクリレートやメ
チルメタクリレート共重合体等のアクリル系樹脂、ポリ
カーボネートやジエチレングリコールビスアリルカーボ
ネート(CR-39)等のポリカーボネート系樹脂、ポリエチ
レンテレフタレートや不飽和ポリエステル等のポリエス
テル系樹脂、トリアセチルセルース等のアセテート系樹
脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体、スチレン系
樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、エ
ポキシ系樹脂、ポリエーテルサルホン系樹脂、ポリアミ
ド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂等
が挙げられる。
【００３６】支持基材の形態は、フイルム、シート、板
などの適宜な形態であってよく、その厚さは任意であ
る。また支持基材には、ハードーコート層が設けられて
いてもよく、この場合、ハードコート層は反射防止膜と
支持基材の間に設けられる。
などの適宜な形態であってよく、その厚さは任意であ
る。また支持基材には、ハードーコート層が設けられて
いてもよく、この場合、ハードコート層は反射防止膜と
支持基材の間に設けられる。
【００３７】さらに支持基材は、例えば反射防止膜の密
着性、硬度、耐薬品性、耐久性や染色性等の向上を目的
として、適宜なコート層が設けられていたり、表面処理
されたものなどであってもよい。
着性、硬度、耐薬品性、耐久性や染色性等の向上を目的
として、適宜なコート層が設けられていたり、表面処理
されたものなどであってもよい。
【００３８】硬度の向上には、特公昭50-28092号公報、
特公昭50-28446号公報、特公昭50-39449号公報、特公昭
51-24368号公報、特公昭57-2735号公報及び特開昭52-11
2698号公報等に開示された高硬度化用の材料を用いるこ
とができる。またチタンやアルミニウムやスズ等の金属
又はケイ素からなる酸化物をコーティングしたり、(メ
タ)アクリル酸のペンタエリスリトール等による架橋体
等からなるアクリル系架橋体の層を設けてもよい。
特公昭50-28446号公報、特公昭50-39449号公報、特公昭
51-24368号公報、特公昭57-2735号公報及び特開昭52-11
2698号公報等に開示された高硬度化用の材料を用いるこ
とができる。またチタンやアルミニウムやスズ等の金属
又はケイ素からなる酸化物をコーティングしたり、(メ
タ)アクリル酸のペンタエリスリトール等による架橋体
等からなるアクリル系架橋体の層を設けてもよい。
【００３９】前記ハードーコート層も通常の方法で形成
することができる。ハードーコート層としては、有機ケ
イ素化合物、特に一般式：R4 xR5 ySi(OR6)4-x-yで表され
る有機ケイ素化合物やその加水分解物等の硬化物からな
るハードーコート層が好ましい。なお式中のR4、R5は炭
素原子数が１〜６のアルキル基、アルケニル基、アリー
ル基、又はハロゲン基、エポキシ基、グリシドキシ基、
アミノ基、メルカプト基、メタクリルオキシ基、シアノ
基等を有する炭化水素基等であり、R6は炭素原子数が1
〜8のアルキル基、アルコキシアルキル基、アシル基、
又はアリール基等である。またｘ、ｙは0又は1であり、
従ってｘ＋ｙは、0、1又は2である。
することができる。ハードーコート層としては、有機ケ
イ素化合物、特に一般式：R4 xR5 ySi(OR6)4-x-yで表され
る有機ケイ素化合物やその加水分解物等の硬化物からな
るハードーコート層が好ましい。なお式中のR4、R5は炭
素原子数が１〜６のアルキル基、アルケニル基、アリー
ル基、又はハロゲン基、エポキシ基、グリシドキシ基、
アミノ基、メルカプト基、メタクリルオキシ基、シアノ
基等を有する炭化水素基等であり、R6は炭素原子数が1
〜8のアルキル基、アルコキシアルキル基、アシル基、
又はアリール基等である。またｘ、ｙは0又は1であり、
従ってｘ＋ｙは、0、1又は2である。
【００４０】ハードーコート層には、例えばゾル−ゲル
法などにより得られる平均粒径が0.5〜5μmのシリカや
金属酸化物等からなる微粒子を含有させてもよい。さら
にまた支持基材には、バフやコロナ放電やイオンエッチ
ング等の方法で中心線平均粗さが0.01〜0.5μmのエッチ
ング表面とする方式などにより、きらめき防止機能を有
する層を付設してもよい。
法などにより得られる平均粒径が0.5〜5μmのシリカや
金属酸化物等からなる微粒子を含有させてもよい。さら
にまた支持基材には、バフやコロナ放電やイオンエッチ
ング等の方法で中心線平均粗さが0.01〜0.5μmのエッチ
ング表面とする方式などにより、きらめき防止機能を有
する層を付設してもよい。
【００４１】本発明の反射防止膜及び光学部材は、汚れ
にくく、汚れが目立ちにくくて、その汚れをとりやす
く、表面の滑り性が良好で傷付きにくく、それらの性能
を長期に持続するなどの特長を有している。したがっ
て、例えばLCD等の各種の視認装置類、偏光板等の各種
の光学素子類、眼鏡用等の各種のレンズ類、防眩ミラー
等の各種の鏡類、重量計等の各種の計器類の表示板等の
種々の物品における表面や、内部に配置するフィルタな
どとして好ましく用いることができる。
にくく、汚れが目立ちにくくて、その汚れをとりやす
く、表面の滑り性が良好で傷付きにくく、それらの性能
を長期に持続するなどの特長を有している。したがっ
て、例えばLCD等の各種の視認装置類、偏光板等の各種
の光学素子類、眼鏡用等の各種のレンズ類、防眩ミラー
等の各種の鏡類、重量計等の各種の計器類の表示板等の
種々の物品における表面や、内部に配置するフィルタな
どとして好ましく用いることができる。
【００４２】
【実施例】以下実施例にて本発明を具体的に説明する
が、本発明はこれら実施例に限定されない。 合成例１ 式：C8F17CH2CH2SiCl3で示される含フッ素クロロシラン
92.4重量％と式：
が、本発明はこれら実施例に限定されない。 合成例１ 式：C8F17CH2CH2SiCl3で示される含フッ素クロロシラン
92.4重量％と式：
【００４３】
【化２】 で示されるジメチルポリシロキサン7.6重量％との混合
物60g、及びm−キシレンヘキサフロライド200mlを反応
容器に仕込んだ。これを5℃に冷却した後、液温を20℃
以下に保つようにしながらこれにアンモニアガスを吹込
み、4時間反応させた。そののち、30分間加熱還流させ
て液中に溶解していた過剰のアンモニアを除去し、冷却
後副生した塩化アンモニウムを濾別したところ、無色透
明な含フッ素ポリシラザン溶液が得られた。
物60g、及びm−キシレンヘキサフロライド200mlを反応
容器に仕込んだ。これを5℃に冷却した後、液温を20℃
以下に保つようにしながらこれにアンモニアガスを吹込
み、4時間反応させた。そののち、30分間加熱還流させ
て液中に溶解していた過剰のアンモニアを除去し、冷却
後副生した塩化アンモニウムを濾別したところ、無色透
明な含フッ素ポリシラザン溶液が得られた。
【００４４】合成例２ 式：
【００４５】
【化３】 で示される含フッ素トリクロロシラン93.2重量％と実施
例１で使用したものと同じジメチルポリシロキサン6.8
重量％との混合物60g、及びm−キシレンヘキサフロライ
ド200mlを反応容器に仕込み、実施例１と同様に処理し
たところ、無色透明な含フッ素ポリシラザン溶液が得ら
れた。
例１で使用したものと同じジメチルポリシロキサン6.8
重量％との混合物60g、及びm−キシレンヘキサフロライ
ド200mlを反応容器に仕込み、実施例１と同様に処理し
たところ、無色透明な含フッ素ポリシラザン溶液が得ら
れた。
【００４６】合成例３ 式：
【００４７】
【化４】 で示される含フッ素トリクロロシラン92.4重量％と実施
例１で使用したものと同じジメチルポリシロキサン7.6
重量％との混合物60g、及びm−キシレンヘキサフロライ
ド200mlを反応容器に仕込み、実施例１と同様に処理し
たところ、無色透明な含フッ素ポリシラザン溶液が得ら
れた。
例１で使用したものと同じジメチルポリシロキサン7.6
重量％との混合物60g、及びm−キシレンヘキサフロライ
ド200mlを反応容器に仕込み、実施例１と同様に処理し
たところ、無色透明な含フッ素ポリシラザン溶液が得ら
れた。
【００４８】合成例４ 式：C8F17CH2CH2SiCl3で示される含フッ素クロロシラン
60g及びm−キシレンヘキサフロライド200mlを反応容器
に仕込み、実施例１と同様に処理したところ、無色透明
な含フッ素ポリシラザン溶液が得られた。
60g及びm−キシレンヘキサフロライド200mlを反応容器
に仕込み、実施例１と同様に処理したところ、無色透明
な含フッ素ポリシラザン溶液が得られた。
【００４９】実施例１〜３ ポリエステルフィルム上に設けられた紫外線硬化性のア
クリル樹脂からなるハードコート層の上にスパッタリン
グ方式で、SiO2層、Ti02層、Si02層、Ti02層、Si02層の
5層をそれぞれ光学膜厚λ／4（λは540nm）で順次積層
して反射防止層を形成させた。次に、合成例１〜３で得
られた含フッ素ポリシラザン溶液をノナフロロブチルエ
チルエーテル(商品名HFE-7200：3M社製)で0.3重量％濃
度となるように希釈してコーティング溶液とし、この溶
液に前記ハードコート層及び反射防止層を設けたフィル
ムを浸漬し、20cm/minの速度で引上げてコーティング処
理し、室温下に一昼夜放置してコーティング層を硬化さ
せて汚染防止層を形成させ、反射防止膜を有する光学部
材を得た。
クリル樹脂からなるハードコート層の上にスパッタリン
グ方式で、SiO2層、Ti02層、Si02層、Ti02層、Si02層の
5層をそれぞれ光学膜厚λ／4（λは540nm）で順次積層
して反射防止層を形成させた。次に、合成例１〜３で得
られた含フッ素ポリシラザン溶液をノナフロロブチルエ
チルエーテル(商品名HFE-7200：3M社製)で0.3重量％濃
度となるように希釈してコーティング溶液とし、この溶
液に前記ハードコート層及び反射防止層を設けたフィル
ムを浸漬し、20cm/minの速度で引上げてコーティング処
理し、室温下に一昼夜放置してコーティング層を硬化さ
せて汚染防止層を形成させ、反射防止膜を有する光学部
材を得た。
【００５０】比較例１ 汚染防止層を設けない以外は実施例と同様にして光学部
材を得た。 比較例２ 合成例４で合成した含フッ素ポリシラザン溶液を用いて
コーティング溶液を調製した以外は、実施例と同様にし
て光学部材を得た。
材を得た。 比較例２ 合成例４で合成した含フッ素ポリシラザン溶液を用いて
コーティング溶液を調製した以外は、実施例と同様にし
て光学部材を得た。
【００５１】実施例、比較例で得た光学部材について、
下記評価方法でその特性を調べた。 ・反射防止性 波長500nmの光を15度の入射角で入射させ、分光光度計
(島津製作所製、MPS-2000)にて絶対鏡面反射率を測定し
た。 ・耐汚染性 額に指を2分間押当てて、その指を汚染防止層の表面に5
秒間押当てることにより指紋を付着させ、目視にて指紋
の付き具合を評価し、かつ付着した指紋をティッシュペ
ーパーにて拭取り、その除去性を評価した。なお評価基
準は下記による。 ○：指紋が目立たず、かつ容易に拭取れた場合 △：指紋が目立ち、かつ拭取りにくい場合 ×：指紋が著しく目立ち、かつ拭取れない場合
下記評価方法でその特性を調べた。 ・反射防止性 波長500nmの光を15度の入射角で入射させ、分光光度計
(島津製作所製、MPS-2000)にて絶対鏡面反射率を測定し
た。 ・耐汚染性 額に指を2分間押当てて、その指を汚染防止層の表面に5
秒間押当てることにより指紋を付着させ、目視にて指紋
の付き具合を評価し、かつ付着した指紋をティッシュペ
ーパーにて拭取り、その除去性を評価した。なお評価基
準は下記による。 ○：指紋が目立たず、かつ容易に拭取れた場合 △：指紋が目立ち、かつ拭取りにくい場合 ×：指紋が著しく目立ち、かつ拭取れない場合
【００５２】・オレイン酸に対する静止接触角 直径1.5mmの液滴を針先に形成させ、それを汚染防止層
の表面に接触させて汚染防止層上に液滴を移し、液滴と
面の静止接触角を接触計(協和界面科学社製、CA-D型)に
て測定した。 ・耐久性 イソプロピルアルコールを含浸させたセルロース製不織
布で汚染防止層の表面を20回擦った後、前期と同様にオ
レイン酸に対する静止接触角を測定した。これらの結果
を次表に示した。
の表面に接触させて汚染防止層上に液滴を移し、液滴と
面の静止接触角を接触計(協和界面科学社製、CA-D型)に
て測定した。 ・耐久性 イソプロピルアルコールを含浸させたセルロース製不織
布で汚染防止層の表面を20回擦った後、前期と同様にオ
レイン酸に対する静止接触角を測定した。これらの結果
を次表に示した。
【００５３】
【表１】 表より、実施例では、指紋などの汚れが付着しにくく、
付着した汚染を容易に拭取ることができ、その効果を長
期に持続して撥水撥油性にも優れていることがわかる。
付着した汚染を容易に拭取ることができ、その効果を長
期に持続して撥水撥油性にも優れていることがわかる。
【００５４】
【発明の効果】本発明の反射防止膜は、汚染しにくく、
かつ汚染した場合にもその汚染が目立ちにくいととも
に、手垢や指紋などの人体的汚染も含めて付着した汚染
物をティッシュペーパーなどで容易に拭取り除去するこ
とができる。また、その拭取り操作で傷付きにくくて、
水滴などの付着物を容易に振り落とすことができる。さ
らにかかる耐汚染性、易拭取り除去性、耐擦傷性、撥水
性などの性能が長期に持続する。また、この反射防止膜
を支持基材上に有する光学部材は同様な性能を有する。
かつ汚染した場合にもその汚染が目立ちにくいととも
に、手垢や指紋などの人体的汚染も含めて付着した汚染
物をティッシュペーパーなどで容易に拭取り除去するこ
とができる。また、その拭取り操作で傷付きにくくて、
水滴などの付着物を容易に振り落とすことができる。さ
らにかかる耐汚染性、易拭取り除去性、耐擦傷性、撥水
性などの性能が長期に持続する。また、この反射防止膜
を支持基材上に有する光学部材は同様な性能を有する。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 木下 博文 群馬県碓氷郡松井田町大字人見１番地10 信越化学工業株式会社シリコーン電子材料 技術研究所内 Ｆターム(参考） 2K009 AA08 AA15 BB24 CC03 CC24 CC26 CC42 DD02 DD04 EE05 4F100 AA20 AA20A AA20B AA21 AH05C AH06C AK25 AK41 AR00C AT00D BA02 BA03 BA04 BA07 BA10B BA10C BA10D BA13 EH46 EH66 GB41 JB06 JK14 JL00 JL06 JL06C JN06 JN06A JN06B 4J035 JA03 LB01
Claims (2)
- 【請求項１】 二酸化ケイ素系無機層を有する単層構造
又は複層構造の無機系反射防止層と、表面層として設け
られた汚染防止層とからなる反射防止膜であって、前記
汚染防止層が下記式(1) [(RfQ)aSi(R1)b(NR2)4-a-b/2]l・[(RfQ)cSi(R1)dO4-c-d/2]m・[(RfQ)eSi(R1)f(N R2)g/2Oh/2]n (1) 〔ここで、R1は、それぞれ同一でも異なっていてもよ
く、水素原子又は非置換若しくは置換の1価炭化水素基
であり；R2は、同一でも異なっていてもよく、水素原子
又はアルキル基であり；Rfは、同一でも異なっていても
よく、炭素原子数1〜20個のパーフルオロアルキル基若
しくは炭素原子数2〜35個のパーフルオロアルキルエー
テル基であり；Qは、炭素原子数2〜5の2価の有機基であ
り；各第1の構成単位において独立に、aは1〜3の整数で
あり、bは0〜2の整数であり、但し、a＋bは1〜3の整数
であり、各第2の構成単位において独立に、cは0〜2の整
数であり、dは1〜3の整数であり、但しc＋dは1〜3の整
数であり、各第3の構成単位において独立に、e及びfは0
〜2の整数であり、g及びhは1又は2の整数であり、但
し、e＋f＋g＋h＝4であり；l，m及びnはそれぞれ1以上
の数である〕で示される含フッ素シラザン化合物の硬化
物からなることを特徴とする反射防止膜。 - 【請求項２】 請求項１記載の反射防止膜を支持基材上
に有することを特徴とする光学部材。
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|---|---|---|---|
| JP2000374881A JP3722418B2 (ja) | 2000-12-08 | 2000-12-08 | 反射防止膜及びこれを利用した光学部材 |
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| JP2002174702A true JP2002174702A (ja) | 2002-06-21 |
| JP3722418B2 JP3722418B2 (ja) | 2005-11-30 |
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2001
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