JP2668472B2 - 含フッ素有機ケイ素化合物 - Google Patents
含フッ素有機ケイ素化合物Info
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- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 title claims description 20
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 19
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 title claims description 19
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 title claims description 13
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N trichlorosilane Chemical compound Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 claims description 7
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 6
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 5
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 4
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010702 perfluoropolyether Substances 0.000 claims 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 7
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 2
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 2
- -1 for example Substances 0.000 description 2
- 238000002329 infrared spectrum Methods 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L zinc dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Zn+2] JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910021591 Copper(I) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N N,N-dimethylaniline Chemical compound CN(C)C1=CC=CC=C1 JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000013005 condensation curing Methods 0.000 description 1
- OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M copper(I) chloride Chemical compound [Cu]Cl OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229940045803 cuprous chloride Drugs 0.000 description 1
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012776 electronic material Substances 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000000425 proton nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 239000000565 sealant Substances 0.000 description 1
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 1
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 235000005074 zinc chloride Nutrition 0.000 description 1
- 239000011592 zinc chloride Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Materials Applied To Surfaces To Minimize Adherence Of Mist Or Water (AREA)
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は新規な含フッ素有機ケイ
素化合物に関し、特に耐汚染性シーラントなどの縮合型
室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物用の硬化剤と
して好適な含フッ素有機ケイ素化合物に関する。
素化合物に関し、特に耐汚染性シーラントなどの縮合型
室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物用の硬化剤と
して好適な含フッ素有機ケイ素化合物に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、縮合硬化型オルガノポリシロキサ
ン組成物の硬化剤として加水分解性基を有する種々の化
合物が知られている。また、オルガノポリシロキサンに
フッ素原子を導入すると、得られるシリコーンエラスト
マー等の硬化物の撥水性、撥油性、耐薬品性、耐汚染性
等が向上することが知られている。
ン組成物の硬化剤として加水分解性基を有する種々の化
合物が知られている。また、オルガノポリシロキサンに
フッ素原子を導入すると、得られるシリコーンエラスト
マー等の硬化物の撥水性、撥油性、耐薬品性、耐汚染性
等が向上することが知られている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、縮合硬化型
オルガノポリシロキサン組成物の硬化剤として有用であ
り、しかもフッ素を含有しているので得られる硬化物の
撥水性、撥油性、耐薬品性、耐汚染性等を向上に有利な
新規な含フッ素有機ケイ素化合物及びその製造方法を提
供することにある。
オルガノポリシロキサン組成物の硬化剤として有用であ
り、しかもフッ素を含有しているので得られる硬化物の
撥水性、撥油性、耐薬品性、耐汚染性等を向上に有利な
新規な含フッ素有機ケイ素化合物及びその製造方法を提
供することにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】含フッ素有機ケイ素化合
物 本発明は一般式(I):
物 本発明は一般式(I):
【化3】
【0005】
【化4】 (式中、nは1〜5の整数、mは0又は1〜4の整数、
kは1〜12の整数、そして1は1〜7の整数)で表さ
れる化合物からなる群から選ばれる炭素原子数3〜17
のパーフルオロポリエーテル基であり、Rは炭素原子数
1〜6のアルキレン基または一般式−R 2 −O−R 3 −
(ここで、R 2 ,R 3 は同一または異種の炭素原子数1
〜6のアルキレン基)で示される基〕で示される含フッ
素有機ケイ素化合物を提供する。
kは1〜12の整数、そして1は1〜7の整数)で表さ
れる化合物からなる群から選ばれる炭素原子数3〜17
のパーフルオロポリエーテル基であり、Rは炭素原子数
1〜6のアルキレン基または一般式−R 2 −O−R 3 −
(ここで、R 2 ,R 3 は同一または異種の炭素原子数1
〜6のアルキレン基)で示される基〕で示される含フッ
素有機ケイ素化合物を提供する。
【0006】次に本発明の含フッ素有機ケイ素化合物を
例示するが、これらは、いずれも代表例であり、本発明
の含フッ素有機ケイ素化合物はこれらに限定されるもの
ではない。
例示するが、これらは、いずれも代表例であり、本発明
の含フッ素有機ケイ素化合物はこれらに限定されるもの
ではない。
【化5】
【0007】製造方法 本発明の含フッ素有機ケイ素化合物は、例えば、一般式
(II) Rf−R−SiCl3 (II) (Rf及びRは前記と同じ)で示される含フッ素トリクロ
ロシランとアセトンとを、触媒及び脱塩酸剤の存在下、
反応させることにより得られる。この場合、含フッ素ト
リクロロシランとアセトンとは、含フッ素トリクロロシ
ラン1モルに対し、アセトンを 3.0〜15.0モル、特に
6.0〜12.0モルの割合で用いることが好ましい。
(II) Rf−R−SiCl3 (II) (Rf及びRは前記と同じ)で示される含フッ素トリクロ
ロシランとアセトンとを、触媒及び脱塩酸剤の存在下、
反応させることにより得られる。この場合、含フッ素ト
リクロロシランとアセトンとは、含フッ素トリクロロシ
ラン1モルに対し、アセトンを 3.0〜15.0モル、特に
6.0〜12.0モルの割合で用いることが好ましい。
【0008】また、触媒としては、例えば塩化銅、塩化
アルミニウム、塩化亜鉛等の金属ハロゲン化物が有用で
あり、その添加量はいわゆる触媒量でよく、含フッ素ト
リクロロシラン1モルに対し、 0.001〜0.1 モル、特に
0.05〜0.005 モルの割合で用いることが好ましい。
アルミニウム、塩化亜鉛等の金属ハロゲン化物が有用で
あり、その添加量はいわゆる触媒量でよく、含フッ素ト
リクロロシラン1モルに対し、 0.001〜0.1 モル、特に
0.05〜0.005 モルの割合で用いることが好ましい。
【0009】また、脱塩酸剤としては、例えば、トリエ
チルアミン、ピリジン、ジメチルアニリン、ジエチルア
ミン等が有用であり、その添加量は含フッ素トリクロロ
シラン1モルに対し、 3.0〜6.0 モル、特に 3.3〜4.5
モルの割合で用いることが好ましい。反応条件は適宜調
整することが好ましいが、通常、反応温度20〜150 ℃、
特に40〜100 ℃で1〜50時間、特に5〜20時間反応させ
ることが好ましい。
チルアミン、ピリジン、ジメチルアニリン、ジエチルア
ミン等が有用であり、その添加量は含フッ素トリクロロ
シラン1モルに対し、 3.0〜6.0 モル、特に 3.3〜4.5
モルの割合で用いることが好ましい。反応条件は適宜調
整することが好ましいが、通常、反応温度20〜150 ℃、
特に40〜100 ℃で1〜50時間、特に5〜20時間反応させ
ることが好ましい。
【0010】
【実施例】1000ml四ツ口フラスコにアセトン35
0g(6.0モル)、トリエチルアミン167g(1.
65モル)及び塩化第1銅0.8g(8.0ミリモル)
を仕込み、次いで、下記式(II’):
0g(6.0モル)、トリエチルアミン167g(1.
65モル)及び塩化第1銅0.8g(8.0ミリモル)
を仕込み、次いで、下記式(II’):
【化6】 で示される含フッ素トリクロロシラン307g(0.5
モル)を滴下ロートから30分かけて滴下した。滴下終
了後、アセトン還流下16時間加熱撹拌した後、濾過に
よりアミン塩酸塩を取り除き、濾液を濃縮、蒸留したと
ころ、沸点128℃/13mmHgの留分が192g
(収率56.5%)得られた。
モル)を滴下ロートから30分かけて滴下した。滴下終
了後、アセトン還流下16時間加熱撹拌した後、濾過に
よりアミン塩酸塩を取り除き、濾液を濃縮、蒸留したと
ころ、沸点128℃/13mmHgの留分が192g
(収率56.5%)得られた。
【0011】この留分のIRスペクトル及びNMRスペ
クトルを測定したところ、下記の様な結果が得られ、下
記式(I’)
クトルを測定したところ、下記の様な結果が得られ、下
記式(I’)
【化7】 で示される含フッ素有機ケイ素化合物であることが確認
された。
された。
【0012】(1)IRスペクトル:第1図に示す。 特性吸収:1650−cm
【化8】
【0013】 (2)1H−NMRスペクトル(溶媒CCI4、内部標
準:CHCI3) 0.8〜1.4 (m,2H,Si−CH2−C) 1.9 (s,9H)
準:CHCI3) 0.8〜1.4 (m,2H,Si−CH2−C) 1.9 (s,9H)
【化9】
【化10】
【0014】
【発明の効果】本発明の含フッ素有機ケイ素化合物は種
々の用途に使用されるが、特には縮合型室温硬化性オル
ガノポリシロキサンの硬化触媒として有用であり、これ
を添加した組成物は含フッ素置換基が導入されることに
より、撥水性、撥油性、耐薬品性、耐汚染性に優れ、高
機能性のシーリング材料、コーティング材料、電気絶縁
材料等に幅広く応用することができる。
々の用途に使用されるが、特には縮合型室温硬化性オル
ガノポリシロキサンの硬化触媒として有用であり、これ
を添加した組成物は含フッ素置換基が導入されることに
より、撥水性、撥油性、耐薬品性、耐汚染性に優れ、高
機能性のシーリング材料、コーティング材料、電気絶縁
材料等に幅広く応用することができる。
【図1】図1は、実施例で得られた本発明の含フッ素有
機ケイ素化合物の赤外線吸収スペクトルを示す。
機ケイ素化合物の赤外線吸収スペクトルを示す。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C09K 3/18 104 C09K 3/18 104 (72)発明者 藤井 秀紀 群馬県碓氷郡松井田町大字人見1番地10 信越化学工業株式会社 シリコーン電 子材料技術研究所内 (72)発明者 菅沼 秀司 群馬県碓氷郡松井田町大字人見1番地10 信越化学工業株式会社 シリコーン電 子材料技術研究所内 (56)参考文献 特開 平4−253985(JP,A) 特開 平2−3472(JP,A) 特開 昭58−77887(JP,A)
Claims (2)
- 【請求項1】 一般式(I): 【化1】 【化2】 (式中、nは1〜5の整数、mは0又は1〜4の整数、
kは1〜12の整数、そして1は1〜7の整数)で表さ
れる化合物からなる群から選ばれる炭素原子数3〜17
のパーフルオロポリエーテル基であり、Rは炭素原子数
1〜6のアルキレン基または一般式−R2−O−R3−
(ここで、R2,R3は同一または異種の炭素原子数1
〜6のアルキレン基)で示される基〕で示される含フッ
素有機ケイ素化合物。 - 【請求項2】 一般式(II): Rf−R−SiCl3 (II) (Rf及びRは前記と同じ)で示される含フッ素トリクロ
ロシランとアセトンとを、触媒及び脱塩酸剤の存在下、
反応させることからなる請求項1に記載の含フッ素有機
ケイ素化合物の製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3298324A JP2668472B2 (ja) | 1991-10-17 | 1991-10-17 | 含フッ素有機ケイ素化合物 |
US07/961,361 US5210253A (en) | 1991-10-17 | 1992-10-15 | Fluorine-containing organosilicon compound |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3298324A JP2668472B2 (ja) | 1991-10-17 | 1991-10-17 | 含フッ素有機ケイ素化合物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07173179A JPH07173179A (ja) | 1995-07-11 |
JP2668472B2 true JP2668472B2 (ja) | 1997-10-27 |
Family
ID=17858185
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3298324A Expired - Fee Related JP2668472B2 (ja) | 1991-10-17 | 1991-10-17 | 含フッ素有機ケイ素化合物 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5210253A (ja) |
JP (1) | JP2668472B2 (ja) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5550184A (en) * | 1994-03-04 | 1996-08-27 | E. I. Du Pont De Nemours & Company | Hydrolyzed silane emulsions and their use as surface coatings |
US6740626B2 (en) * | 1996-04-02 | 2004-05-25 | S.C. Johnson & Son, Inc. | Acidic cleaning formulation containing a surface modification agent and method of applying the same |
US5892086A (en) * | 1998-05-29 | 1999-04-06 | Pcr, Inc. | Perfluorinated ether organo substituted cyclosiloxanes and copolymers prepared from these cyclosiloxanes |
US5914420A (en) * | 1998-05-29 | 1999-06-22 | Pcr, Inc. | Perfluorinated organo substituted cyylosiloxanes and copolymers prepared from these cyclosiloxahes |
US6194734B1 (en) * | 1999-02-19 | 2001-02-27 | Axcelis Technologies, Inc. | Method and system for operating a variable aperture in an ion implanter |
JP3722418B2 (ja) | 2000-12-08 | 2005-11-30 | 信越化学工業株式会社 | 反射防止膜及びこれを利用した光学部材 |
KR100967981B1 (ko) * | 2005-04-01 | 2010-07-07 | 다이킨 고교 가부시키가이샤 | 표면 개질제 |
JP5007812B2 (ja) * | 2007-06-01 | 2012-08-22 | 信越化学工業株式会社 | パーフルオロポリエーテル変性アミノシランを含む表面処理剤並びに該アミノシランの硬化被膜を有する物品 |
JP5376082B2 (ja) * | 2012-05-10 | 2013-12-25 | ダイキン工業株式会社 | フルオロポリエーテル基含有シリコーン化合物 |
JP6264371B2 (ja) * | 2013-04-04 | 2018-01-24 | 旭硝子株式会社 | 含フッ素エーテル化合物、含フッ素エーテル組成物およびコーティング液、ならびに表面層を有する基材およびその製造方法 |
US20220009824A1 (en) | 2020-07-09 | 2022-01-13 | Corning Incorporated | Anti-glare substrate for a display article including a textured region with primary surface features and secondary surface features imparting a surface roughness that increases surface scattering |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0662647B2 (ja) * | 1988-02-12 | 1994-08-17 | 信越化学工業株式会社 | 含フッ素有機ケイ素化合物 |
JPH02115190A (ja) * | 1988-10-21 | 1990-04-27 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 含フッ素有機ケイ素化合物 |
JPH0678345B2 (ja) * | 1989-04-25 | 1994-10-05 | 信越化学工業株式会社 | 含フッ素界面活性剤及びその製造方法 |
JPH02311485A (ja) * | 1989-05-26 | 1990-12-27 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 含フッ素有機ケイ素化合物及びその製造方法 |
-
1991
- 1991-10-17 JP JP3298324A patent/JP2668472B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1992
- 1992-10-15 US US07/961,361 patent/US5210253A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5210253A (en) | 1993-05-11 |
JPH07173179A (ja) | 1995-07-11 |
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