JPH02115190A - 含フッ素有機ケイ素化合物 - Google Patents

含フッ素有機ケイ素化合物

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JPH02115190A
JPH02115190A JP63265634A JP26563488A JPH02115190A JP H02115190 A JPH02115190 A JP H02115190A JP 63265634 A JP63265634 A JP 63265634A JP 26563488 A JP26563488 A JP 26563488A JP H02115190 A JPH02115190 A JP H02115190A
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formula
expressed
fluorine
ppm
analysis
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JP63265634A
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Yasushi Yamamoto
靖 山本
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Shin Etsu Chemical Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Chemical Co Ltd
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/02—Silicon compounds
    • C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/0896—Compounds with a Si-H linkage

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、新規な含フツ素有機ケイ素化合物に関する。
［従来の技術］ 含フツ素有機基を有機化合物中に導入することによって
、これらの有機化合物又は該有機化合物を含む材料の耐
熱性、耐薬品性、界面特性等の種々の特性を改良するこ
とが行われている。従来、含フツ素有機基を有機化合物
中に導入する方法として、エーテル、アミン、スルフィ
ド、ウレタン、エステル等の周知の結合によって、含フ
ツ素有機基を有機化合物と結合させることが行われてい
る。
〔発明が解決しようとする課題〕
しかし、上記方法によって得られる含フツ素有機基を有
する有機化合物は、一般の材料に対する相溶性が悪く、
分離してしまう、またエーテル、アミン結合によって含
フツ素有機基を有機化合物中に導入する場合には、効率
よく結合が形成されず、ウレタン結合によって含フツ素
有機基が結合している有機化合物は、耐熱性が劣るとい
う問題があった。
そこで本発明の目的は、種々の材料の耐熱性、耐薬品性
、界面特性等を改良するための前駆体として有用である
新規な含フツ素有機ケイ素化合物を提供することにある
。
〔発明が解決しようとする課題〕
本発明は、上記課題を解決するものとして、下記一般式
（Ｉ）： （ｊｈ　　　　ＣＬ 〔式中、Ｒ７は式： Ｃ，Ｆ、ｐ、１−　　　　　　（■） （ここで、ｐは４〜１０の整数である）で表されるパー
フルオロアルキル基又は式； （ここで、Ｓは１〜４の整数である） で表される炭素原子数５〜１４のパーフルオロアルキル
エーテル基であり、ｍ及びｎは同一でも異なってもよく
０又は１である〕で表される含フツ素有機ケイ素化合物
を提供するものである。
本発明の含フツ素有機ケイ素化合物は、前記一般式ＣＩ
）で表されるが、一般式（Ｉ）におけるＲｒは式（ｎ）
で表されるパーフルオロアルキル基又は式（ＩＩ［）で
表されるパーフルオロアルキルエーテル基である。式（
ＩＩ）で表されるパーフルオロアルキル基は、直鎖状、
分岐状のものでもよいが各種の工業材料の合成上は直鎖
状が好ましい。
ｐは４〜１０、代表的な値としては４，６．８である。
この式（１１）で表されるパーフルオロアルキル基の代
表的なものとしては、例えば、ノナフルオブチル基、ウ
ンデカフルオロペンチル基、トリデカフルオロオルチル
基、ペンタデカフルオロヘプチル基、ヘプタデカフルオ
ロオクチル基、ノナデカフルオロノニル基、ヘンエイコ
サフルオロデシル基等が挙げられる。また、式（Ｉ［［
）で表されるパーフルオロアルキルエーテル基の代表例
としては、例えば、ヘキサフルオロプロピレンオキシド
のオリゴメリゼーション化によって得られる式二 フッ素有機ケイ素化合物は、例えば、Ｗ、Ｈ，ｌｌｅｂ
ｅｒ−ｇａｌｌ、　０．Ｈ，Ｊｏｈｎｓｏｎ、　Ｊ、Ａ
ｍ、Ｃｈｅｍ、Ｓｏｃ、＋　７１４０２２＜１９４９）
に記載されている方法に準じて、下記反応式（イ）に示
すように、対応するクロロシランを、金属水素化物によ
って還元して製造することができる。
（ここで、Ｓは１〜４の整数である）、で表される基等
が挙げられる。
また、ｍは０又は１であり、Ｒｒが式（ＩＩ）で表され
るパーフルオロアルキル基である場合には、０であるこ
とが好ましく、Ｒｒが式（Ｉ［）で表されるパーフルオ
ロアルキルエーテル基である場合には１であることが工
業的観点から好ましい。　本発明の含フツ素有機ケイ素
化合物の製造は、例えば、以下の方法にしたがって行う
ことができる。
（ａ）前記式（Ｉ）において、ｎが０である場合の含・
　・（イ） この反応において還元剤として用いられる金属水素化物
は、例えば、ＬｉＡｆｆｉＨ４、Ａ　４２　（ＢＩ３）
　３、ＬｉＨ等が挙げられ、反応溶媒としては、例えば
テトラヒドロフラン及びジエチルエーテルが好適なもの
として挙げられ、また必要に応じ、これに、例えばジオ
キサン、ジブチルエーテル、シイプロピルエーテル等の
その他のエーテル系溶媒；Ｎ−ヘキサン、シクロヘキサ
ン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒
を添加した混合溶媒があげられる。金属水素化物の還元
力は使用する溶媒によって制約を受けるため、適宜組み
合わせて用いられ、代表的な還元剤と溶媒の組み合わせ
としては、還元剤としてＬｉＡ１ｔ１４、溶媒としてテ
トラヒドロフラン、ジエチルエーテルを用いる場合であ
る。反応温度は、通常、０〜７０°Ｃが代表的である。
還元剤の使用量は、クロロシラン１モルに対して、ハイ
ドライド量として１〜２モル量が代表的である。
この反応の出発物質であるクロロシランは、例えば、Ｇ
、Ｅ、Ｂｅｒｅｎｄｓｅｎ　ｅｔ　ａｌ“Ａｎａｌ、　
Ｃｈｅｗ、　５２．１９９０（１９８０）　、特願昭６
２−８８３５９号等に記載の方法によって得ることがで
きる。
（ｂ）前記式Ｎ）において、ｎが１である場合の本発明
の有機ケイ素化合物、すなわち、ジシロキサン化合物の
製造は、公知の方法にしたがって、行うことができ、例
えば、下記反応式に示すとおり、１．１，３．３−テト
ラメチルジシロキサンとパーフルオロ基で置換されたオ
レフィンの部分付加反応による方法〔式（ロ）〕又は２
種のジシロキサンの平衡化反応による方法〔式（ハ）〕
によって行うことができる。
これらの（ロ）及び（ハ）の反応において、１゜１．３
．３−テトラメチルジシロキサンは、過剰に用いられ、
通常、上記式（ＩＶ）又は（Ｖ）で表される含フツ素化
合物１モルに対して、１〜１０モル量の割合で用いられ
る。（ロンの反応において用いられる触媒は、ＣＦ、５
ＯｉＨに限られず、例えば硫酸、リン酸、塩酸等が挙げ
られる。反応温度は室温〜８０°Ｃが代表的である。
〔実施例〕
以下、実施例及び比較例を挙げて本発明の詳細な説明す
る。
実施例１ 容１５００　ｍの四つロフラスコに、水素化リチウムア
ルミニウム２．１ｇ　（０，０５５モル）及びテトラヒ
ドロフラン１００雁を仕込み、内部を窒素置換した。
６．９．１２−）リス（トリフルオロメチル）−６゜８
、　８．　９．１１，１１，１２．１４，１４．１５，
１５，１６．１６，１６．−テトラデカフルオロ−４＝
　　７，１０ｔ１３−テ）　７才キサデシルジメチルク
ロルシラン１５７ｇ　（０，２モル）を、室温〜５０°
Ｃで、１時間かけて滴下した後、４０〜５０゛Ｃで２時
間反応させた。その後、酢酸メチル１０／ｄを加え、４
０〜５０°Ｃで３０分間処理して、反応混合物中に残存
している過剰の水素化リチウムアルミニウムを分解させ
た。次に、水１５０　ｍ及び希塩酸（３％）　１５０　
ｄを加えて処理し、有ｍ層を飽和芒硝水で３回洗浄し、
乾燥後、減圧蒸留して９７〜９８°Ｃ／　３　＋ｎｍＨ
ｇの留分１２６ｇが得られた。
得られた留分を元素分析、ＧＣ−ＭＳ分析による分子量
の測定、赤外線吸収スペクトル及びＩＨ−ＮＭＲスペク
トルの測定に供したところ、下記の結果が得られた。
元素分析： ＣＨ 計算値”　　　２７．３　　　２．０ 実測値　　２７．１　　　１．８ （＊　Ｃ＋　？Ｈ１５Ｆｚｓ０４ｓｉとして計算）ＧＣ
＝ＭＳ分析二分子量７４８と測定された。
赤外線吸収スペクトル二図１に示す。波数２１２５ｃｍ
−’に５ｉ−Ｈに由来する特性吸収ピークが認められた
。
’Ｈ−ＮＭＲスペクトル：内部標ｌ：ベンゼンδ：　３
．７４〜４．１７ｐｐｍ（ｄ＋２１１．ＣＦ　　ＣＩ＋
２０）３．３０〜３．６７ｐｐｍ（ｔ、２８．　　ＯＣ
１１ｚ　　Ｃ）１．３０〜１．９７ｐｐｍ（ｍ、２８．
−０−Ｃ−ＣＨｚ−Ｃ）０．４０〜０．８７ｐｐｍ（ｍ
、２１１．−ｃ−ＣＩＩｚＳｉ　−）ｉ ３．８ ３．９ ０．２４〜０．１３ｐｐｍ（ｄ、６Ｈ，５ｉ−ＣＨｉ）
３．７４〜４．１７ｐｐｍ（ｍ、　ＩＨ，５ｔ−Ｈ）以
上の結果より、得られた物質は下記式：％式％ ：１ で表される６、９．１２−トリス（トリフルオロメチル
）　−６，８，８，９，１１，１１，１２，１４，１４
，１５，１５゜１６．１６．１６−テトラデカフルオロ
ー４．７．ＬＯ７１３−テトラオキサヘキサデシルジメ
チルシランであることがわかった。収率８４％。
実施例２ 実施例１と同様にして、６，９．−ビス（トリフルオロ
メチル）　−６，８，８，９，１１，１１，１２，１２
、１３，１３，１３−ウンデカフルオロ−４，７，１０
−トリオキサトリデシルジメチルクロルシラン９３ｇ　
（０，１５モル）を水素化リチウムアルミニウム１．５
２ｇ　（０，０４モル）と反応させて得られた反応混合
物を減圧蒸留して沸点８０〜８１°Ｃ／　６　ｍｍＨｇ
の留分７２ｇを得た。
得られた留分を元素分析、ＧＣ−ＭＳ分析による分子量
の測定、赤外線吸収スペクトル及び’Ｈ−ＮＭＲスペク
トルの測定に供したところ、下記の結果が得られた。
元素分析： ＣＨＳｉ 計算値”　　　２８．９　　　２．６　　　４．８実測
値　　２９．０　　　２．５　　　４．９（＊ＣＩ４旧
ｓＦ＋７（ｈＳｉとして計算）ＧＣ−ＭＳ分析：分子量
５８２と測定された。
赤外線吸収スペクトル：図２に示す。波数２１２５ｃｍ
−’にＳ　ｉ　−Ｈに由来する特性吸収ピークが認めら
れた。
’Ｈ−ＮＭＲスペクトル：内部標準：ベンゼンδ　：　
３．７０〜４．２０ｐｐｍ（ｄ、２Ｈ，ＣＦ　　Ｃｌ１
ｚＯ）３．３０〜３．６６ｐｐｍ（ｔ、２Ｈ，ＯＣ１１
ｚ　　Ｃ）１．３０〜１．９７ｐｐｍ（ｍ、２１１．−
０−Ｃ−Ｃｌｌｚ−Ｃ）０．４０〜０．８７ｐｐｍ（ｍ
、２８．　−Ｃ−ＣＨ２Ｓｉ−）０．２７〜−０．１３
ｐｐｍ（ｄ、６Ｈ，５ｉ−ＣＨ３）３．７０〜４．２０
ｐｐｍ（ｐＡ、　ＩＨ，５ｉ−Ｈ）以上の結果より、得
られた物質は下記式：で表される６、９−ビス（トリフ
ルオロメチル）６、　８．　８．　９．１１，１１，１
２，１２，１３，１３．１３−ウンデカフルオロ−４，
７，１０−１−リオキサトリデシルジメチルシランであ
ることがわかった。収率８２％。
実施例３ ６−ドリフルオロメチルー６．８，８，９，９゜１０、
１０．１０−オクタフルオロ−４，７−シオキサデシル
ジメチルクロルシラン６８ｇ　（０，１５モル）を実施
例１と同様に反応させて６６〜６７°Ｃ／　９　ｍｍｔ
ｌｇの留分４７ｇを得た。
得られた留分を元素分析による原子組成の測定ＧＣ−Ｍ
Ｓ分析による分子量の測定、並びに赤外線吸収スペクト
ル及び’Ｈ−ＮＭＲスペクトルの測定に供したところ、
下記の結果が得られた。
元素分析： ＣＨＳｉ 計算値”　　　３１．７　　　３．６　　　６．８実測
値　　３１．５　　　３．７　　　６．７（＊　Ｃ１Ｉ
Ｈ１５Ｆ１１０□Ｓｔとして計算）ＧＣ−ＭＳ分析二分
子量４１６と測定された。
赤外線吸収スペクトル：図３に示す。波数２１２５Ｃｍ
−’にＳ　ｉ　−ＩＩに由来する特性吸収ピークが認め
られた。
’Ｈ−ＮＭＲスペクトル：内部標準：ベンゼンδ：３．
７２〜４．１８ｐｐｍ（ｄ、２Ｈ，ｃｐ　　Ｃｌｌｚ　
　０）３．２８〜３．７２ｐｐｍ（ｔ、２Ｈ，ＯＣｔｌ
ｚ　　Ｃ）１．３２〜１．９８ｐｐｍ（ｍ、２１１．−
〇−Ｃ−Ｃ１ｌｚ−Ｃ）０．３５〜０．９２ｐｐｍ（ｍ
、２Ｈ，−Ｃ−（ＪＩｚＳｉ−）０．２５〜０．１２ｐ
ｐｍ（ｄ、６１１，５ｉ−ＣＨ：ｉ）３．７２〜４．１
８［’ｐｍ（ｍ、ＬＨ＋５ｉ−１）以上の結果より、得
られた物質は下記式：％式％ で表される６−トリフルオロメチルー６．８，８゜９．
　９，１０．１０．１０−オクタフルオロ−４，７−シ
オキサデシルジメチルシランであることがわかった。収
率７５％。
実施例４ テトラヒドロフランの代わりにジエチルエーテルを用い
た以外は実施例１と同様にして、６，９１２−トリス（
トリフルオロメチル）−６，８，８゜９、１１．ｌＬ１
２．１４，１４，１５．１５，１６，１６．１６−テト
ラデカフルオロ−４，７，１０，１３−テトラオキサヘ
キサデシルジメチルシラン１１２ｇを得た。（収率７５
％） 実施例５ （１）第１工程 ２−へブタデカフルオロオクチルエチルジメチルクロロ
シラン１６２　ｇ　（０，３モル）を、塩酸（１８％）
１００ｄとメタノール５０ｍ１からなる混合液に滴下し
た。８０〜９０°Ｃで攪拌しながら３時間加熱した後、
有機層を分離し、５％ＮａＨＣＯ，水溶液１５０＋＋ｆ
及び飽和芒硝水１５０戚で３回洗浄した。乾燥後、減圧
蒸留して沸点１５８〜１６２°Ｃ／４正１１ｇの留分１
３９ｇを得、これを赤外線吸収スペクトル分析に供した
ところ、１．３−ビス（２−へブタデカフルオロオクチ
ル）エチル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサ
ンであることが確認された。収率は９０％であった。
（２）第２工程 次に、得られた１、１−ビス（２−へブタデカフルオロ
オクチル）エチル−１，１，３，３−テトラメチルジシ
ロキサン５１　ｇ　（０，０５モル）と、１゜１．３．
３−テトラメチルジシロキサン５４ｇ（０，４モル）及
びトリフルオロメタンスルホン酸０．２ｇを、容ｆｆ１
２０１の四つ目フラスコに仕込み、５０〜６０°Ｃで３
時間反応させた後、飽和芒硝水１００成で３回洗浄した
。乾燥後、減圧蒸留して沸点８２〜８３’Ｃ／　４　ｍ
ｍ１１ｇの留分４５ｇを得た。
（３）同定 この留分を元素分析、ＧＣ−ＭＳ分析による分子量の測
定、赤外線吸収スペクトル及び’Ｈ−ＮＭＲスペクトル
の測定に供したところ、下記の結果が得られた。
元素分析： ＣＨ 計算値”　　　２９．０　　　３．０ 実測値　　２８．８　　　３．１ （＊Ｃｚ旧７ＦＩ？０５１２として計算）ＧＣ−ＭＳ分
析；分子量５８０と測定された。
赤外線吸収スペクトル：図４に示す。波数２１４０ｃｒ
ｒＶ’にＳ　ｉ　−Ｉｆに由来する特性吸収ピークが認
められた。
Ｈ−ＮＭＲスペクトル：内部標準：ベンゼンδ：　２．
７０〜１．６０ｐｐｍ（ｍ、２Ｈ，ＣＦｚ　　ＣＨｚ　
　Ｃ）１．１７〜０．６０ｐｐｍ（ｍ、２Ｈ，−０−Ｃ
Ｉ＋２−５ｉ）０．２５〜０．１７ｐｐｍ（ｄ、６）１
．−０−Ｓｔ（ＣＬｌ）ｚ−Ｈ）０　、２０ｐｐｍ　　
　　（ｓ　、　６Ｈ１Ｃ５ｉ（ＣＬ３．）ｚＯ５ｉ）５
．０５〜４．６７ｐｐｍ（ｍ、　ＩＩＩ、５ｉ−ｆｌ）
以上の結果より、得られた物質は下記式：％式％ で表される１−（２−へブタデカフルオロオクチル）エ
チル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンであ
ることがわかった。収率７８％。
実施例６ 実、施例５の第１工程と同様にして、（２−トリデカフ
ルオロへキシル）エチルジメチルクロロシラン１３２　
ｇ　（０，３モル）から、１．３−ビス（２−トリデカ
フルオロへキシル）エチル−１，１゜３．３−テトラメ
チルジシロキサン１１８ｇを、沸点１２９〜１３０°Ｃ
／　４　ｍｍＨｇの留分として得た。（収率９５％） 次に、実施例５の第２工程と同様にして、得られた１、
３−ビス（２−トリデカフルオロヘキシル）エチル−１
，１，３，３−テトラメチルジシロキサン７７　ｇ（０
，０９３モル）及び１，１，３．３−テトラメチルジシ
ロキサン１０７　ｇ　（０，８モル）を、トリフルオロ
メタンスルホン酸０６５ｇの存在下に反応させ、沸点８
１〜８２°Ｃ／１１画Ｈｇの留分６４ｇを得た。
この留分を元素分析、ＧＣ−ＭＳ分析による分子量の測
定、赤外線吸収スペクトル及び’Ｈ−ＮＭＲスペクトル
の測定に供したところ、下記の結果が得られた。
元素分析： ＣＨＳ辷 計算値”　　　３０．０　　　３．６　　　１１．７実
測値　　２９．８　　　３．５　　　１１．６（＊　Ｃ
＋ｚｌｌ＋Ｊ＋３０Ｓｉ２として計算）ＧＣ−ＭＳ分析
二分子量４８０と測定された。
赤外線吸収スペクトル：図５に示す。波数２１４０ｃｌ
’に５ｉ−Ｈに由来する特性吸収ピークが認められた。
Ｈ−ＮＭＲスペクトル：内部標！！：ベンゼンδ：　２
．６８〜１．６５ｐｐｍ（ｒａ、２１１．　　ＣＦ２　
　Ｃ１１２Ｃ）１．１２〜０．６０ｐｐｍ（ｍ、２Ｈ，
−〇−Ｃｔｌｚ−Ｓｉ）０．２３〜０．１７ｐｐｍ（ｄ
、６！ｌ、　　Ｏ５ｉ（Ｃ！Ｌ、）ｚ　　Ｈ）Ｑ、２０
ｐｐｍ　　　　（ｓ、６Ｈ，Ｃ５ｔ（Ｃ！ｊｌ）ｚＯ３
ｉ）５．００〜４．６５ｐｐｍ（ｍ、ＬＨ，５ｔ−Ｈ）
以上の結果より、得られた物質は下記式：で表される１
−（２−トリデカフルオロヘキシル）エチル−１，１，
３，３−テトラメチルジシロキサンであることがわかっ
た。収率７２％。
実施例７ 実施例５の第１工程と同様にして、（２−ノナフルオロ
ブチル）エチルジメチルクロロシラン１３６ｇ　（０，
４モル）から、沸点９６〜９７°（：　／　４　ｍｍＨ
ｇの留分として、１．３−ビス（２−ノナフルオロブチ
ルエチル）−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサ
ン６５ｇを得た。　（収率８５％）次に、得られた１、
３−ビス（２−ノナフルオロブチルエチル）−１，１，
：３．３−テトラメチルジシロキサン６３ｇ　　（０，
１モル）及び１，１，３゜３−テトラメチルジシロキサ
ン１０７　ｇ　（０，８モル）を、実施例５の第２工程
と同様にして、トリフルオロメタンスルホン酸０．３ｇ
の存在下に反応させ、沸点６５°Ｃ／２０ｍｍＨｇの留
分５４ｇを得た。
この留分を元素分析、ＧＣ−ＭＳ分析による分子量の測
定、赤外線吸収スペクトル及び’Ｈ−ＮＭＲスペクトル
の測定に供したところ、下記の結果が得られた。
元素分析： ＣＨＳｉ 計算値”　　　３１．６　　　４．５　　　１４．８実
測値　　３１．６　　　４．３　　　１４．７（＊Ｃ，
ｏＨ，Ｊ、０５ｉ２として計算）ＧＣ−ＭＳ分析二分子
量３８０と測定された。
赤外線吸収スペクトル：図６に示すごとく、波数２１４
０ｃｍ−’にＳ　ｆ　−ＩＩに由来する特性吸収ピーク
が認められた。
’Ｈ−ＮＭＲスペクトル：内部標準：ベンゼンδ：　２
．７０〜１．６５ｐｐｍ（ｍ、２１１．　　ＣＦｚ　　
ＣＩＩＺ　　Ｃ）１．１３〜０．６７ｐｐｍ（ｍ、２Ｈ
，−０−ＣＨｚ−Ｓｉ）０．３０〜０．２３ｐｐｍ（ｄ
、６８．　　ＯＳｉ　（ＣＨ，）　ｚ　　Ｈ）０、２５
ｐｐｍ　　　　（ｓ、　６１１．　　ＣＳｔ　（Ｃ！Ｌ
Ｌ）　ｚＯ５ｉ）５．０２〜４．６８ｐｆ）ＩＩ（ｍ、
ＩＨ，５ｉ−Ｈ）以上の結果より、得られた物質は下記
式：％式％ で表される１−（２−ノナフルオロブチル）エチル−１
，１，３，３−テトラメチルジシロキサンであることが
わかった。収率７１％。
実施例８ 容量３００　ｍｌの四つロフラスコに、６，９．１２−
トリス（トリフルオロメチル）−６，８，８゜９、１１
．１１，１２，１４，１４Ｊ５．１５，１６，１６．１
６−テトラデカフルオロー４．　７．１０．１３−テト
ラオキサへキサデセン−１１０３ｇ　（０，１５モル）
、１，１，３゜３−テトラメチルジシロキサン３４ｇ　
（０，２５モル）及び塩化白金酸のｎ−ブタノール溶液
（白金量：１重量％）Ｉｇを仕込み、２０時間加熱還流
させて反応させた。反応終了後、反応混合物を減圧蒸留
して沸点１１２〜１１５°Ｃ／　３　ｍｍＨｇの留分８
８ｇを得た。
この留分を元素分析、ＧＣ−ＭＳ分析による分子量の測
定、赤外線吸収スペクトル及び’Ｈ−ＮＭＲスペクトル
の測定に供したところ、下記の結果が得られた。
元素分析： ＣＨＳｉ 計算値”　　　２７．８　　　２．６　　　６．８実測
値　　２８．０　　　２．５　　　６．８（”Ｃ＋＋ｄ
ｈ＋ＦｔｓＯｓＳｉ２として計算）ＧＣ−ＭＳ分析：分
子量８２２と測定された。
赤外線吸収スペクトル二図７に示す。波数２１３０ｃｍ
　−’に５ｔ−Ｈに由来する特性吸収ピークが認められ
た。
’Ｈ−ＮＭＲスペクトル：内部標準：ベンゼンδ：　３
．７７〜４．１７ｐｐｍ（ｄ、２Ｈ，ＣＦ　　ＣＨｚＯ
）３．３０〜３．７７ｐｐｍ（ｔ、２Ｈ，ＯＣ）Ｉｚ　
　　Ｃ）１．３５〜１．９６ｐｐｍ（ｍ、２１＋、　−
ｏ−ｃ−ＣＨ２−Ｃ）０．３０〜０．８０ｐｐｍ（ｍ、
２８．−Ｃ−ＣＨｚＳｉ　−）０．１０ｐｐｍ　　　　
（ｓ、６Ｈ，−Ｃ−３ｉ（ＣＩｌｚ）ｚＯｓｉ）０．１
３〜０．１５ｐｐｍ（ｄ、６Ｈ，Ｏ５ｔ（ＣＬ、）ｚ　
　Ｈ）４．５７〜５．０３ｐｐｍ（ｍ、ＩＨ，５ｉｎ（
）以上の結果より、得られた物質は下記式：％式％：１ で表される１−（６，９，１２−１−リス（トリフルオ
ロメチル）　−６，８，８，９，１１，１１，１２，１
４，１４゜１５、１５．１６．１６．１６−テトラデカ
フルオロー４，７゜１０、１３−テトラオキサ〕ヘキサ
デシル−１，１゜３．３−テトラメチルジシロキサンで
あることがわかった。収率７１％。
実施例９ 実施例８と同様にして、６．９−ビス（トリフルオロメ
チル）　　−６，８，８，９，ＬＬｌｌ、１２，１．２
゜１３．１３．１３−ウンデカフルオロ−４，７，１０
−１リオキサトリデセン−１１０４ｇ　（０，２モル）
と、１．１，３．３−テトラメチルジシロキサン４０ｇ
（０，３モル）とから、沸点１００〜１０２°Ｃ１５価
Ｈｇの留分６６ｇを得た。
この留分を元素分析、ＧＣ−ＭＳ分析による分子量の測
定、赤外線吸収スペクトル及び’Ｈ−ＮＭＲスペクトル
の測定に供したところ、下記の結果が得られた。
元素分析： ＣＨ 計算値”　　　２９．３　　　３．２ 実測値　　２６．５　　　３．３ （”Ｃ＋Ｊｚ＋Ｆ＋７０４５１ｇとして計算）ＧＣ−Ｍ
Ｓ分析：分子量６５６と測定された。
赤外線吸収スペクトル二図８に示す。波数２１３０ｃｌ
’に５ｉ−Ｈに由来する特性吸収ピークが認められた。
’Ｈ−ＮＭＲスペクトル：内部標準：ベンゼンδ：３．
７０〜４．１３ｐｐｍ（ｄ、２Ｈ，ＣＦ　　ＣＩＩｚＯ
）３．３０〜３．７３ｐｐｍ（ｔ、２Ｈ，−０−ＣＨ２
−Ｃ）１．３０〜２．ＯＯｐｐｍ（ｍ、２Ｈ，−０−Ｃ
−ＣＨｚ−Ｃ）０．３７〜０．８７ｐｐｍ（ｍ、２８．
−Ｃ−ＣＩＩｚＳｉ−）０．０８ｐｐａ＋　　　　（ｓ
、６８．−Ｃ−５ｉ（ＣＨｚ）ｚＯｓｉ）０．１３〜０
．１８ｐｐｍ（ｄ、６Ｈ，Ｏ５ｉ（ＣＬ）ｚ　　Ｈ）４
．５７〜５．０３ｐｐｍ（ｍ、ＩＩＩ、５ｉ−Ｈ）以上
の結果より、得られた物質は下記式：％式％（３ で表される１−（６，９−ビス（トリフルオロメチル）
　−６，８，８，９，１１，１１，１２，１２，１３，
１３，１３−ウンデカフルオロ−４，７，１０−１−リ
オキサ〕トリデシル−１，１，３，３−テトラメチルジ
シロキサンであることがわかった。収率５０％。
実施例１０ 実施例８と同様にして、６−ドリフルオロメチルー６．
８，８，９，９，１０，１０．１０−オクタフルオロ−
４，７−シオキサデセンー１　１７８　ｇ　（０，５モ
ル）と、１．ｌ、３．３−テトラメチルジシロキサン２
０１　ｇ　（１，５モル）とから、沸点７３〜７５°Ｃ
／　５　ｍｍ１１ｇの留分７４ｇを得た。（収率３０％
）この留分を元素分析、ｃｃ−ＭＳ分析による分子量の
測定、赤外線吸収スペクトル及び’　Ｈ−ＮＭＲスペク
トルの測定に供したところ、下記の結果が得られた。
元素分析： ＣＨ，Ｃ１ｈ ＣＨＳｔ 計算値”　　　３１．８　　　４．３　　　１１．５実
測値　　３１．９　　　４．３　　　１１．６（＊Ｃ＋
３Ｈｚ＋Ｆ＋＋０３５ｉｚとして計算）ＧＣ−ＭＳ分析
二分子量４９０と測定された。
赤外線吸収スペクトル：図９に示す。波数２１３０ｃｍ
”’に５ｉ−Ｈに由来する特性吸収ピークが認められた
。
’Ｈ−ＮＭＲスペクトル：内部標準：ベンゼンδ：　３
．７３〜４．１７ｐｐｍ（ｄ、２Ｈ，−ＣＦ−ＣＨｚＯ
）３．３０〜３．７０ｐｐｍ（ｔ、２Ｈ，−０−ＣＨｚ
−Ｃ）１．３０〜２．００ｐｐｍ（ｍ、２Ｈ，ＯＣＣＨ
ｚ　　Ｃ）０．３３〜０．８３ｐｐｍ（ｍ、２Ｈ，−Ｃ
−ＣＨｚＳｉ　　）０、Ｏ８ｐｐｍ　　　　（ｓ、６１
１．−３ｉ（ＣＨ，）ｚＯｓｉ）０．１２〜０．１７ｐ
ｐｍ（ｄ、６８．−５ｉＯ５ｉ（ＣＩ、ｄｚ　　Ｈ）４
．６０−５．０３ｐｐｍ（ｍ、ＬＨ，５ｉ−Ｈ）以上の
結果より、得られた物質は下記式：で表される１−（６
−）リフルオロメチル−６゜８、　８．　９．　９，１
０，１０．１０−オクタフルオロ−４゜７−ジオキサ〕
デシル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンで
あることがわかった。
〔発明の効果〕
本発明は新規な有機ケイ素化合物を提供するものであり
、この有機ケイ素化合物は、種々の材料に含フツ素有機
基を導入し、これらの材料の耐熱性、耐薬品性、界面特
性等の種々の特性を改良するための前駆体として有用で
ある。
【図面の簡単な説明】
図１〜９は、それぞれ実施例１〜３．５〜１０で得られ
た含フツ素有機化合物の赤外線吸収スペクトルの測定結
果である。 代理人　弁理士　　岩見谷　周志 手続主甫正書（自発） 昭和６３年１２月刀日 事件の表示 昭和６３年特許願第２６５６３４号 発明の名称 含フツ素有機ケイ素化合物 補正をする者 事件との関係　　特許出願人

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 下記一般式（ I ）： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） 〔式中、Ｒ＿ｆは式： Ｃ＿ｐＦ＿２＿ｐ＿＋＿１− （ここで、ｐは４〜１０の整数である） で表されるパーフルオロアルキル基又は 式： ▲数式、化学式、表等があります▼ （ここで、ｓは１〜４の整数である） で表される炭素原子数５〜１４のパーフル オロアルキルエーテル基であり、ｍ及び ｎは同一でも異なってもよく０又は１で ある〕 で表される含フッ素有機ケイ素化合物。
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