JP2002107505A - 反射防止膜 - Google Patents
反射防止膜Info
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- JP2002107505A JP2002107505A JP2000294290A JP2000294290A JP2002107505A JP 2002107505 A JP2002107505 A JP 2002107505A JP 2000294290 A JP2000294290 A JP 2000294290A JP 2000294290 A JP2000294290 A JP 2000294290A JP 2002107505 A JP2002107505 A JP 2002107505A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 プラスチック基板への反射防止膜であり、広
い範囲の可視光領域で反射防止効果に優れ、また曲率の
強いプラスチックレンズ基板であっても、その周辺部で
の反射防止機能に優れたプラスチック光学部品の反射防
止膜を提供すること。 【解決手段】 プラスチック基板への反射防止膜であっ
て、基板側から数えてｉ番目の層の屈折率をｎi、設計
主波長をλ0としたときに下記の条件を満足することを
特徴とする6層構成の反射防止膜： 基板の屈折率ｎs；1.45≦ｎs≦1.85； 1.40≦ｎ1≦1.55； 1.60≦ｎ2≦1.80； 1.80≦ｎ3≦2.40； 1.40≦ｎ4≦1.55； 1.80≦ｎ5≦2.40； 1.40≦ｎ6≦1.55。
い範囲の可視光領域で反射防止効果に優れ、また曲率の
強いプラスチックレンズ基板であっても、その周辺部で
の反射防止機能に優れたプラスチック光学部品の反射防
止膜を提供すること。 【解決手段】 プラスチック基板への反射防止膜であっ
て、基板側から数えてｉ番目の層の屈折率をｎi、設計
主波長をλ0としたときに下記の条件を満足することを
特徴とする6層構成の反射防止膜： 基板の屈折率ｎs；1.45≦ｎs≦1.85； 1.40≦ｎ1≦1.55； 1.60≦ｎ2≦1.80； 1.80≦ｎ3≦2.40； 1.40≦ｎ4≦1.55； 1.80≦ｎ5≦2.40； 1.40≦ｎ6≦1.55。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、プラスチック基板
の反射防止膜に関する。
の反射防止膜に関する。
【０００２】
【従来の技術】最近、プラスチック材料の信頼性が向上
するとともに、光学ユニットの軽量コンパクト化の要求
と相俟って、プロジェクターの投影レンズなどの光学部
品にプラスチック材料が用いられることが多くなってき
ている。
するとともに、光学ユニットの軽量コンパクト化の要求
と相俟って、プロジェクターの投影レンズなどの光学部
品にプラスチック材料が用いられることが多くなってき
ている。
【０００３】例えば、特公平6-85002号公報には、プラ
スチック基板＋SiO＋ZrO2＋ZrTiO4＋SiO2＋空気で構成
された4層構成の反射防止膜が知られており、400〜700n
mの可視域で反射率1〜2％以下の反射防止膜が提案され
ている。
スチック基板＋SiO＋ZrO2＋ZrTiO4＋SiO2＋空気で構成
された4層構成の反射防止膜が知られており、400〜700n
mの可視域で反射率1〜2％以下の反射防止膜が提案され
ている。
【０００４】しかしながら、プロジェクターに用いられ
る投影レンズのようにプラスチック基板を用いた光学部
品は曲率の強い光学部品が用いられることが多い。一般
に、プラスチック基板上に反射防止膜を形成する場合、
各種無機物質を蒸着により形成するが、曲率の強いプラ
スチックレンズ基板への成膜においてはレンズ周辺部で
の膜厚がレンズ中心部に比較して薄くなり、反射防止性
能が十分でなく、また反射防止能にもバラツキが生じや
すい。このことは、上記公報に開示された反射防止膜に
ついても例外ではない。
る投影レンズのようにプラスチック基板を用いた光学部
品は曲率の強い光学部品が用いられることが多い。一般
に、プラスチック基板上に反射防止膜を形成する場合、
各種無機物質を蒸着により形成するが、曲率の強いプラ
スチックレンズ基板への成膜においてはレンズ周辺部で
の膜厚がレンズ中心部に比較して薄くなり、反射防止性
能が十分でなく、また反射防止能にもバラツキが生じや
すい。このことは、上記公報に開示された反射防止膜に
ついても例外ではない。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記事情に鑑
みなされたもので、プラスチック基板への反射防止膜で
あり、広い範囲の可視光領域で反射防止効果に優れ、ま
た曲率の強いプラスチックレンズ基板であっても、その
周辺部での反射防止機能に優れたプラスチック光学部品
の反射防止膜を提供することを目的とする。
みなされたもので、プラスチック基板への反射防止膜で
あり、広い範囲の可視光領域で反射防止効果に優れ、ま
た曲率の強いプラスチックレンズ基板であっても、その
周辺部での反射防止機能に優れたプラスチック光学部品
の反射防止膜を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】即ち、本発明は、プラス
チック基板への反射防止膜であって、基板側から数えて
ｉ番目の層の屈折率をｎi、設計主波長をλ0としたとき
に下記の条件を満足することを特徴とする5層構成の反
射防止膜： 基板の屈折率ｎs；1.45≦ｎs≦1.85； 1.40≦ｎ1≦1.55； 1.60≦ｎ2≦1.80； 1.80≦ｎ3≦2.40； 1.40≦ｎ4≦1.55； 1.80≦ｎ5≦2.40； 1.40≦ｎ6≦1.55に関する。
チック基板への反射防止膜であって、基板側から数えて
ｉ番目の層の屈折率をｎi、設計主波長をλ0としたとき
に下記の条件を満足することを特徴とする5層構成の反
射防止膜： 基板の屈折率ｎs；1.45≦ｎs≦1.85； 1.40≦ｎ1≦1.55； 1.60≦ｎ2≦1.80； 1.80≦ｎ3≦2.40； 1.40≦ｎ4≦1.55； 1.80≦ｎ5≦2.40； 1.40≦ｎ6≦1.55に関する。
【０００７】ここで言う屈折率とは、使用波長域もしく
は使用波長域の代表波長（設計主波長）における屈折率
を表す。普通、常温すなわち25℃における屈折率の値を
意味している。
は使用波長域の代表波長（設計主波長）における屈折率
を表す。普通、常温すなわち25℃における屈折率の値を
意味している。
【０００８】本発明の反射防止膜の形成に用いられるプ
ラスチック基板としては、屈折率が1.45〜1.85の間にあ
るものを使用する。そのような特性を満たすことのでき
る材料としては、例えば、ポリメタクリレート樹脂、ポ
リカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、ジエチレング
リコールビスアリルカーボネート樹脂など種々のものを
利用することができる。特にポリメタクリレート樹脂は
透明性が高く、成形精度が良好で、化学的も安定なこと
から、光学素子として広く用いられている。
ラスチック基板としては、屈折率が1.45〜1.85の間にあ
るものを使用する。そのような特性を満たすことのでき
る材料としては、例えば、ポリメタクリレート樹脂、ポ
リカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、ジエチレング
リコールビスアリルカーボネート樹脂など種々のものを
利用することができる。特にポリメタクリレート樹脂は
透明性が高く、成形精度が良好で、化学的も安定なこと
から、光学素子として広く用いられている。
【０００９】本発明においては、上記基板上に、屈折率
1.40〜1.55の層（以下、本発明において「低屈折率層」
という）、屈折率1.60〜1.80の層（以下、本発明におい
て「中屈折率層」という）および屈折率1.80〜2.40の層
（以下、本発明において「高屈折率層」という）を下記
のように順次6層形成された構成の反射防止膜となって
いる。
1.40〜1.55の層（以下、本発明において「低屈折率層」
という）、屈折率1.60〜1.80の層（以下、本発明におい
て「中屈折率層」という）および屈折率1.80〜2.40の層
（以下、本発明において「高屈折率層」という）を下記
のように順次6層形成された構成の反射防止膜となって
いる。
【００１０】基板上に構成される第1層は、低屈折率層
であり、コート膜厚（物理的膜厚）をｄ1としたとき、
0.500λ0≦ｎ1ｄ1≦2.000λ0（ｎ1は第1層の屈折率、λ
0は設計主波長）の光学的膜厚を有するように第1層を形
成することが望ましい。その際、第1層は、SiO、SiO2ま
たはそれらの混合物、好ましくはSiOで形成することが
より望ましい。
であり、コート膜厚（物理的膜厚）をｄ1としたとき、
0.500λ0≦ｎ1ｄ1≦2.000λ0（ｎ1は第1層の屈折率、λ
0は設計主波長）の光学的膜厚を有するように第1層を形
成することが望ましい。その際、第1層は、SiO、SiO2ま
たはそれらの混合物、好ましくはSiOで形成することが
より望ましい。
【００１１】第1層の上に形成される第2層は、中屈折率
層である。その物理的膜厚をｄ2としたとき、0.010λ0
≦ｎ2ｄ2≦0.750λ0（ｎ2は第2層の屈折率、λ0は設計
主波長）の光学的膜厚を有するように第2層を形成する
ことが望ましい。その際、第2層は、Al2O3＋TiO2または
Al2O3で形成することがより望ましい。より好ましくはA
l2O3＋TiO2で形成する。
層である。その物理的膜厚をｄ2としたとき、0.010λ0
≦ｎ2ｄ2≦0.750λ0（ｎ2は第2層の屈折率、λ0は設計
主波長）の光学的膜厚を有するように第2層を形成する
ことが望ましい。その際、第2層は、Al2O3＋TiO2または
Al2O3で形成することがより望ましい。より好ましくはA
l2O3＋TiO2で形成する。
【００１２】第2層の上に形成される第3層は、高屈折率
層である。その物理的膜厚をｄ3としたとき、0.050λ0
≦ｎ3ｄ3≦0.750λ0（ｎ3は第3層の屈折率、λ0は設計
主波長）の光学的膜厚を有するように第3層を形成する
ことが望ましい。その際、第3層は、ZrTiO4、La2O3＋Ti
O2、ZrO2またはTiO2で形成することがより望ましい。よ
り好ましくはZrTiO4で形成する。
層である。その物理的膜厚をｄ3としたとき、0.050λ0
≦ｎ3ｄ3≦0.750λ0（ｎ3は第3層の屈折率、λ0は設計
主波長）の光学的膜厚を有するように第3層を形成する
ことが望ましい。その際、第3層は、ZrTiO4、La2O3＋Ti
O2、ZrO2またはTiO2で形成することがより望ましい。よ
り好ましくはZrTiO4で形成する。
【００１３】第3層の上に形成される第4層は、低屈折率
層である。その物理的膜厚をｄ4としたとき、0.020λ0
≦ｎ4ｄ4≦0.250λ0（ｎ4は第4層の屈折率、λ0は設計
主波長）の光学的膜厚を有するように第4層を形成する
ことが望ましい。その際、第4層は、SiOまたはSiO2で形
成することがより望ましい。より好ましくはSiO2で形成
する。
層である。その物理的膜厚をｄ4としたとき、0.020λ0
≦ｎ4ｄ4≦0.250λ0（ｎ4は第4層の屈折率、λ0は設計
主波長）の光学的膜厚を有するように第4層を形成する
ことが望ましい。その際、第4層は、SiOまたはSiO2で形
成することがより望ましい。より好ましくはSiO2で形成
する。
【００１４】第4層の上に形成される第5層は、高屈折率
層である。その物理的膜厚をｄ5としたとき、0.035λ0
≦ｎ5ｄ5≦0.250λ0（ｎ5は第5層の屈折率、λ0は設計
主波長）の光学的膜厚を有するように第5層を形成する
ことが望ましい。その際、第5層は、ZrTiO4、La2O3＋Ti
O2、Al2O3＋TiO2、ZrO2またはTiO2で形成することがよ
り望ましい。より好ましくはZrTiO4で形成する。
層である。その物理的膜厚をｄ5としたとき、0.035λ0
≦ｎ5ｄ5≦0.250λ0（ｎ5は第5層の屈折率、λ0は設計
主波長）の光学的膜厚を有するように第5層を形成する
ことが望ましい。その際、第5層は、ZrTiO4、La2O3＋Ti
O2、Al2O3＋TiO2、ZrO2またはTiO2で形成することがよ
り望ましい。より好ましくはZrTiO4で形成する。
【００１５】第5層の上に形成される第6層は、低屈折率
層である。その物理的膜厚をｄ6としたとき、0.075λ0
≦ｎ6ｄ6≦0.300λ0（ｎ6は第6層の屈折率、λ0は設計
主波長）の光学的膜厚を有するように第6層を形成する
ことが望ましい。その際、第6層は、SiO2で形成するこ
とがより望ましい。
層である。その物理的膜厚をｄ6としたとき、0.075λ0
≦ｎ6ｄ6≦0.300λ0（ｎ6は第6層の屈折率、λ0は設計
主波長）の光学的膜厚を有するように第6層を形成する
ことが望ましい。その際、第6層は、SiO2で形成するこ
とがより望ましい。
【００１６】本発明において、好ましい6層反射防止膜
を下記する。 基板：屈折率ｎs；1.45≦ｎs≦1.85、 第1層： 1.40≦ｎ1≦1.55、 0.500λ0≦ｎ1ｄ1≦2.000λ0、 第2層： 1.60≦ｎ2≦1.80、 0.010λ0≦ｎ2ｄ2≦0.750λ0、 第3層： 1.80≦ｎ3≦2.40、 0.050λ0≦ｎ3ｄ3≦0.750λ0、 第4層： 1.40≦ｎ4≦1.55、 0.020λ0≦ｎ4ｄ4≦0.250λ0、 第5層： 1.80≦ｎ5≦2.40、 0.035λ0≦ｎ5ｄ5≦0.250λ0、 第6層： 1.40≦ｎ6≦1.55、 0.075λ0≦ｎ6ｄ6≦0.300λ0。
を下記する。 基板：屈折率ｎs；1.45≦ｎs≦1.85、 第1層： 1.40≦ｎ1≦1.55、 0.500λ0≦ｎ1ｄ1≦2.000λ0、 第2層： 1.60≦ｎ2≦1.80、 0.010λ0≦ｎ2ｄ2≦0.750λ0、 第3層： 1.80≦ｎ3≦2.40、 0.050λ0≦ｎ3ｄ3≦0.750λ0、 第4層： 1.40≦ｎ4≦1.55、 0.020λ0≦ｎ4ｄ4≦0.250λ0、 第5層： 1.80≦ｎ5≦2.40、 0.035λ0≦ｎ5ｄ5≦0.250λ0、 第6層： 1.40≦ｎ6≦1.55、 0.075λ0≦ｎ6ｄ6≦0.300λ0。
【００１７】本発明において、より好ましい6層反射防
止膜を下記する。 基板：屈折率ｎs；1.45≦ｎs≦1.85、 第1層： 1.40≦ｎ1≦1.55、 0.500λ0≦ｎ1ｄ1≦2.000λ0、 SiOまたはSiO2で形成されてなる、 第2層： 1.60≦ｎ2≦1.80、 0.010λ0≦ｎ2ｄ2≦0.750λ0、 Al2O3＋TiO2またはAl2O3で形成されてなる、 第3層： 1.80≦ｎ3≦2.40、 0.050λ0≦ｎ3ｄ3≦0.750λ0、 ZrTiO4、La2O3＋TiO2、ZrO2またはTiO2で形成されてな
る、 第4層： 1.40≦ｎ4≦1.55、 0.020λ0≦ｎ4ｄ4≦0.250λ0、 SiOまたはSiO2で形成されてなる、 第5層： 1.80≦ｎ5≦2.40、 0.035λ0≦ｎ5ｄ5≦0.250λ0、 ZrTiO4、La2O3＋TiO2、Al2O3＋TiO2、ZrO2またはTiO2で
形成されてなる、 第6層： 1.40≦ｎ6≦1.55、 0.075λ0≦ｎ6ｄ6≦0.300λ0、 SiO2で形成されてなる。
止膜を下記する。 基板：屈折率ｎs；1.45≦ｎs≦1.85、 第1層： 1.40≦ｎ1≦1.55、 0.500λ0≦ｎ1ｄ1≦2.000λ0、 SiOまたはSiO2で形成されてなる、 第2層： 1.60≦ｎ2≦1.80、 0.010λ0≦ｎ2ｄ2≦0.750λ0、 Al2O3＋TiO2またはAl2O3で形成されてなる、 第3層： 1.80≦ｎ3≦2.40、 0.050λ0≦ｎ3ｄ3≦0.750λ0、 ZrTiO4、La2O3＋TiO2、ZrO2またはTiO2で形成されてな
る、 第4層： 1.40≦ｎ4≦1.55、 0.020λ0≦ｎ4ｄ4≦0.250λ0、 SiOまたはSiO2で形成されてなる、 第5層： 1.80≦ｎ5≦2.40、 0.035λ0≦ｎ5ｄ5≦0.250λ0、 ZrTiO4、La2O3＋TiO2、Al2O3＋TiO2、ZrO2またはTiO2で
形成されてなる、 第6層： 1.40≦ｎ6≦1.55、 0.075λ0≦ｎ6ｄ6≦0.300λ0、 SiO2で形成されてなる。
【００１８】本発明の6層構成の反射防止膜は、約400〜
約850nmの従来には達成されていない広範囲の可視光に
わたって反射率1.5％以下という優れた反射防止能を有
しており、また可視光の広範囲にわたって入射角の変化
による反射防止能の変化が小さい。
約850nmの従来には達成されていない広範囲の可視光に
わたって反射率1.5％以下という優れた反射防止能を有
しており、また可視光の広範囲にわたって入射角の変化
による反射防止能の変化が小さい。
【００１９】本発明の6層構成の反射防止膜は、曲率の
強いレンズ周辺であっても広範囲の可視光の反射防止能
を有する。特に、約400〜約780nmの範囲の可視光の反射
を1.5％以下に防止することができる。なお、本発明に
おいて「曲率の強いレンズ」とは、図5において、曲率
半径をR、有効光路径をAとした場合に、R≦A/1.2を満た
すRを有するレンズを意味している。ここで言う「有効
光路径」とは、要求仕様を満たすことが求められている
領域の最も外側を通って、かつレンズ中心を中心とした
円の直径を意味している。
強いレンズ周辺であっても広範囲の可視光の反射防止能
を有する。特に、約400〜約780nmの範囲の可視光の反射
を1.5％以下に防止することができる。なお、本発明に
おいて「曲率の強いレンズ」とは、図5において、曲率
半径をR、有効光路径をAとした場合に、R≦A/1.2を満た
すRを有するレンズを意味している。ここで言う「有効
光路径」とは、要求仕様を満たすことが求められている
領域の最も外側を通って、かつレンズ中心を中心とした
円の直径を意味している。
【００２０】第1層から第6層の製造方法としては、公知
の方法、例えばイオンプレーティング法、スパッタリン
グ法等の真空蒸着法を使用することができる。
の方法、例えばイオンプレーティング法、スパッタリン
グ法等の真空蒸着法を使用することができる。
【００２１】真空蒸着法で反射防止膜を形成する場合、
曲面を有するレンズは、レンズ中心部と周辺部ではレン
ズ中心部でのコート膜厚（ｄ1）とレンズ周辺部でのコ
ート膜厚（ｄ2）がｄ2≒ｄ1cosθ（θはレンズ周辺上で
の中心軸とコート膜上の法線のなす角度）の関係で膜が
形成されるため、周辺部の方が薄い膜が形成される。そ
のため、レンズ中心部と周辺部では反射防止に有効な波
長域が異なってくるのであり、用途によって差はあるも
のの、通常ｄ2が0.8ｄ1程度になると光学特性上不都合
が生じる。
曲面を有するレンズは、レンズ中心部と周辺部ではレン
ズ中心部でのコート膜厚（ｄ1）とレンズ周辺部でのコ
ート膜厚（ｄ2）がｄ2≒ｄ1cosθ（θはレンズ周辺上で
の中心軸とコート膜上の法線のなす角度）の関係で膜が
形成されるため、周辺部の方が薄い膜が形成される。そ
のため、レンズ中心部と周辺部では反射防止に有効な波
長域が異なってくるのであり、用途によって差はあるも
のの、通常ｄ2が0.8ｄ1程度になると光学特性上不都合
が生じる。
【００２２】しかしながら、本発明の反射防止膜は非常
に広い可視波長領域（約400〜約850nm）で反射防止効果
があり、上記のような曲率の高いレンズ周辺部であって
も約400〜約780nmの広い可視光領域で優れた反射防止効
果を有している。
に広い可視波長領域（約400〜約850nm）で反射防止効果
があり、上記のような曲率の高いレンズ周辺部であって
も約400〜約780nmの広い可視光領域で優れた反射防止効
果を有している。
【００２３】実施例および比較例 レンズ基板（ポリメチルメタクリレート（PMMA))上に、
表1〜表2に示した膜構成の反射防止膜を作製した。各層
は真空蒸着法により成膜を行なった。なお、得られたレ
ンズの有効光路径は50mmであり、曲率半径は30mmを有す
る曲率の高いレンズである。
表1〜表2に示した膜構成の反射防止膜を作製した。各層
は真空蒸着法により成膜を行なった。なお、得られたレ
ンズの有効光路径は50mmであり、曲率半径は30mmを有す
る曲率の高いレンズである。
【００２４】得られたレンズの反射防止特性を図1〜図4
に示した。なお、図1、図3における反射率は、レンズの
中心部で測定したものである。図2、図4における反射率
は、レンズ中心部と中心角30°の位置で測定したもので
ある。中心角30°の位置とは、レンズ中心部と曲率中心
を結んだ直線に対して30°の角度をなすレンズ表面上の
位置である。
に示した。なお、図1、図3における反射率は、レンズの
中心部で測定したものである。図2、図4における反射率
は、レンズ中心部と中心角30°の位置で測定したもので
ある。中心角30°の位置とは、レンズ中心部と曲率中心
を結んだ直線に対して30°の角度をなすレンズ表面上の
位置である。
【００２５】
【表１】
【００２６】
【表２】
【００２７】
【発明の効果】本発明の反射防止膜は広い可視光領域で
反射防止効果が得られる。本発明の反射防止膜は、曲率
の強いレンズ周辺部でも広い可視光領域で反射防止効果
が得られる。
反射防止効果が得られる。本発明の反射防止膜は、曲率
の強いレンズ周辺部でも広い可視光領域で反射防止効果
が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 反射防止特性を示す図。
【図２】 反射防止特性を示す図。
【図３】 反射防止特性を示す図。
【図４】 反射防止特性を示す図。
【図５】 曲率を説明するための図。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H048 GA04 GA09 GA14 GA46 GA52 GA53 2K009 AA08 AA09 BB13 BB14 BB24 CC03 DD03 DD04 DD07 4F100 AA17D AA17E AA19C AA19E AA20B AA20E AA21C AA21D AA21E AA27D AA27E AA33D AA33E AK01A AK25 AT00A BA05 BA07 BA10E BA26 EH66 GB41 JN06 JN18B JN18C JN18D JN18E YY00B YY00C YY00D YY00E
Claims (3)
- 【請求項１】 プラスチック基板への反射防止膜であっ
て、基板側から数えてｉ番目の層の屈折率をｎi、設計
主波長をλ0としたときに下記の条件を満足することを
特徴とする6層構成の反射防止膜： 基板の屈折率ｎs；1.45≦ｎs≦1.85； 1.40≦ｎ1≦1.55； 1.60≦ｎ2≦1.80； 1.80≦ｎ3≦2.40； 1.40≦ｎ4≦1.55； 1.80≦ｎ5≦2.40； 1.40≦ｎ6≦1.55。 - 【請求項２】 基板側から数えてｉ番目の層の物理的膜
厚をｄiとしたときに、下記の条件を満足する請求項1記
載の反射防止膜： 0.500λ0≦ｎ1ｄ1≦2.000λ0； 0.010λ0≦ｎ2ｄ2≦0.750λ0； 0.050λ0≦ｎ3ｄ3≦0.75λ0； 0.020λ0≦ｎ4ｄ4≦0.250λ0； 0.035λ0≦ｎ5ｄ5≦0.250λ0； 0.075λ0≦ｎ6ｄ6≦0.300λ0。 - 【請求項３】 それぞれの層が下記のグループから選ば
れる材料を主成分として構成される請求項1記載の反射
防止膜： 第1層目の材料グループ：SiOおよびSiO2； 第2層目の材料グループ：Al2O3＋TiO2およびAl2O3； 第3層目の材料グループ：ZrTiO4、La2O3＋TiO2、ZrO2お
よびTiO2； 第4層目の材料グループ：SiOおよびSiO2； 第5層目の材料グループ：ZrTiO4、La2O3＋TiO2、Al2O3
＋TiO2、ZrO2およびTiO2； 第6層目の材料グループ：SiO2。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000294290A JP2002107505A (ja) | 2000-09-27 | 2000-09-27 | 反射防止膜 |
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