JPS6032001A - 反射防止膜 - Google Patents
反射防止膜Info
- Publication number
- JPS6032001A JPS6032001A JP58141719A JP14171983A JPS6032001A JP S6032001 A JPS6032001 A JP S6032001A JP 58141719 A JP58141719 A JP 58141719A JP 14171983 A JP14171983 A JP 14171983A JP S6032001 A JPS6032001 A JP S6032001A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- refractive index
- reflection preventing
- reflection
- near infrared
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
- G02B1/113—Anti-reflection coatings using inorganic layer materials only
- G02B1/115—Multilayers
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
技術分野
本発明は、写真レンズなどの光学要素の表面に設けられ
てその透過率を向上させる為の反射防止膜に関する。
てその透過率を向上させる為の反射防止膜に関する。
従来技術
近年、カメラの分野において、撮影レンズの自動無点検
′出装置は種々提案されている。特に、レンス交換が可
能な一眼レフレックスカメラにおいては、種々の交換レ
ンズに対しても自動焦点検出が可能なように、撮影レン
ズを透過した光を受光して焦点検出を行う装置が提案さ
れている。しかしながら、このような装置においても、
焦点が合わせられるべき被写体が低輝度のときには、焦
点検出に充分な光量が得られないので、焦点検出不能も
しくは誤検出となることが考えられる。
′出装置は種々提案されている。特に、レンス交換が可
能な一眼レフレックスカメラにおいては、種々の交換レ
ンズに対しても自動焦点検出が可能なように、撮影レン
ズを透過した光を受光して焦点検出を行う装置が提案さ
れている。しかしながら、このような装置においても、
焦点が合わせられるべき被写体が低輝度のときには、焦
点検出に充分な光量が得られないので、焦点検出不能も
しくは誤検出となることが考えられる。
そこで、予め°カメラ側から被写体に向けて光をて受光
して焦点検出を行う装置が、本願出願人が先に出願した
特願昭58−89716号などによって提案されている
。このような装置においては、被写体からの反射光を他
のものと区別する為に焦点検出に近赤外光を用いている
。
して焦点検出を行う装置が、本願出願人が先に出願した
特願昭58−89716号などによって提案されている
。このような装置においては、被写体からの反射光を他
のものと区別する為に焦点検出に近赤外光を用いている
。
一方、写真レンズ用などの反射防止膜としては従来、特
公昭52−22245号公報や特公昭53−14227
号公報などにおいて4〜5層構成の反射防止膜が提示さ
れているが、いずれも400〜7QQnmの可視波長域
においてのみ充分な反射防止効果があり、その両側は反
射率が急激に増加している。
公昭52−22245号公報や特公昭53−14227
号公報などにおいて4〜5層構成の反射防止膜が提示さ
れているが、いずれも400〜7QQnmの可視波長域
においてのみ充分な反射防止効果があり、その両側は反
射率が急激に増加している。
従って、このような反射防止膜は、上述の如き近赤外光
を用いる焦点検出には適さない。
を用いる焦点検出には適さない。
目 的 。
本発明は上述の如き点に鑑みてなされたものであり、そ
の目的は、波長8Q Q nm近傍の近赤外光を用いる
焦点検出に適し、可視波長域から近赤外域までの入射光
に対し、良好に反射防止を行うことができるとともに、
入射角による分光特性の変化が少ない反射防止膜を提供
することにある。
の目的は、波長8Q Q nm近傍の近赤外光を用いる
焦点検出に適し、可視波長域から近赤外域までの入射光
に対し、良好に反射防止を行うことができるとともに、
入射角による分光特性の変化が少ない反射防止膜を提供
することにある。
発明の要旨
上記目的を達成する為に、本発明に係る反射防止膜は、
空気側から基板側へ順に、第1層、第2層、・・・、第
8層の8層構成からなり、第i層(i−1,2,・・・
、8)の構成物質の屈折率をNi、その光学的膜厚をN
1diとし、設計波長をλ0とするとき、以下の条件を
満足することを特徴とするものである。
空気側から基板側へ順に、第1層、第2層、・・・、第
8層の8層構成からなり、第i層(i−1,2,・・・
、8)の構成物質の屈折率をNi、その光学的膜厚をN
1diとし、設計波長をλ0とするとき、以下の条件を
満足することを特徴とするものである。
130≦Nl≦1.45 、N1d+ #0.25λ0
1.90≦N2≦2.30. N2(12≦025λ0
130≦N3≦1.g □ 、N5d3≦025λ01
90≦N4≦2.30 、N4cL≦050λ0158
≦N5≦180. N5d5≦030λ0130≦N6
≦1,15 、 、 Nade≦040λ0145≦N
7≦1.66、N7d7≦040λ0158≦N8≦1
.80 、N5ds≦030λON6〈N7〈N8゜ 実施例 以下、本発明の実施例について説明する。
1.90≦N2≦2.30. N2(12≦025λ0
130≦N3≦1.g □ 、N5d3≦025λ01
90≦N4≦2.30 、N4cL≦050λ0158
≦N5≦180. N5d5≦030λ0130≦N6
≦1,15 、 、 Nade≦040λ0145≦N
7≦1.66、N7d7≦040λ0158≦N8≦1
.80 、N5ds≦030λON6〈N7〈N8゜ 実施例 以下、本発明の実施例について説明する。
第゛1図は本発明に係る反射防止膜を示す図である。同
図において、(Glはガラスからなる基板、(0はその
上に形成された反射防止膜である。反射防止膜(0は、
空気側から基板(G)側へ順に、第1層(■)。
図において、(Glはガラスからなる基板、(0はその
上に形成された反射防止膜である。反射防止膜(0は、
空気側から基板(G)側へ順に、第1層(■)。
第2層(9)、第3層(至)、第4層■、第5層凹、第
6層(Vll、第7層■及び第8層(ロ)D構成からな
り、各層の屈折率及び光学的膜厚は前述の通りに限定さ
れる0 第1層(I)及び第6層(Vll f−1:、MgF、
Na、AlF6゜及びNa 、Al 3F 1.など
低屈折率誘電体からなる。第2層OD及び第4 NQV
Iは、ZrO2+ Ti0z + Ce0a +HfO
2+ Ta2051及びZrO2とTiO2との混合物
(ZrTiO,)など高屈折率訪電佐からなる。第3層
011)は、MgF 2Na 3AIF s+ Na’
−Aj!jp、4 、S 102 + kl 203
+ NdF s r Mg Oなどによによってイ再1
戊される。第5層(■及び第3層011は、Aj? 2
031 LaF a + NdF s *及びMgOな
ど中屈折率誘宙体からなり、第7層MOけSiO,+
もしくはkl、O,など、同じく中屈折率訪電体からな
る。但し、第7層(9)の屈折率rN7は第8層α・通
の屈折率N8とは異なるので、両層が同−物質からなる
ことは本発明に係る反射防止膜(C)は、基板(G)の
」二に第8層(■)の構成物質、第7層(■)の構成物
質・・・、第1層(I)の構成物質を順に、それぞれ所
定膜厚となるまで真空蒸着することによって製造される
。
6層(Vll、第7層■及び第8層(ロ)D構成からな
り、各層の屈折率及び光学的膜厚は前述の通りに限定さ
れる0 第1層(I)及び第6層(Vll f−1:、MgF、
Na、AlF6゜及びNa 、Al 3F 1.など
低屈折率誘電体からなる。第2層OD及び第4 NQV
Iは、ZrO2+ Ti0z + Ce0a +HfO
2+ Ta2051及びZrO2とTiO2との混合物
(ZrTiO,)など高屈折率訪電佐からなる。第3層
011)は、MgF 2Na 3AIF s+ Na’
−Aj!jp、4 、S 102 + kl 203
+ NdF s r Mg Oなどによによってイ再1
戊される。第5層(■及び第3層011は、Aj? 2
031 LaF a + NdF s *及びMgOな
ど中屈折率誘宙体からなり、第7層MOけSiO,+
もしくはkl、O,など、同じく中屈折率訪電体からな
る。但し、第7層(9)の屈折率rN7は第8層α・通
の屈折率N8とは異なるので、両層が同−物質からなる
ことは本発明に係る反射防止膜(C)は、基板(G)の
」二に第8層(■)の構成物質、第7層(■)の構成物
質・・・、第1層(I)の構成物質を順に、それぞれ所
定膜厚となるまで真空蒸着することによって製造される
。
以下本発明の各実施例の各層の構成物質、屈折率及び光
学的膜厚を基板(G)の屈折率とともに第1表に示す。
学的膜厚を基板(G)の屈折率とともに第1表に示す。
表中λ0は設計波長である。
(以T−糸θ)
第1表に示された実施例1〜7の垂直入射光に対する分
光反射率特性をそれぞれ第2図〜第4図に示す。図から
明らかなように:各実雄側とも、400〜7000mの
可視波長域における反射率はほぼ0.5%以下であり、
充分な反射防止効果か得られるとともに、7000m以
上の近赤外域においても、9 Q Qnmまで2%以下
に抑えることかでき、近赤外光を用いる焦点検出に適し
ている。
光反射率特性をそれぞれ第2図〜第4図に示す。図から
明らかなように:各実雄側とも、400〜7000mの
可視波長域における反射率はほぼ0.5%以下であり、
充分な反射防止効果か得られるとともに、7000m以
上の近赤外域においても、9 Q Qnmまで2%以下
に抑えることかでき、近赤外光を用いる焦点検出に適し
ている。
更に、第1表の実施例3における分光反射率特性の入射
角依存性を第5図に示す。同図の曲線はそれぞれ、反射
防止膜への入射角θが08.10’。
角依存性を第5図に示す。同図の曲線はそれぞれ、反射
防止膜への入射角θが08.10’。
20’及び30’の光に対する分光反射率特性を示して
いる。図から明らかなように、本実施例において、入射
角θが00〜30°の範囲内で変化しても分光反射率特
性の変化はごくわずかであり、カメラの撮影レンズなと
種々の入射角の光か入射するレンズ面に適している。
いる。図から明らかなように、本実施例において、入射
角θが00〜30°の範囲内で変化しても分光反射率特
性の変化はごくわずかであり、カメラの撮影レンズなと
種々の入射角の光か入射するレンズ面に適している。
効 果
以上のよう記、本発明によれは、8層構成において、可
視波長域のみならず9 Q Q nnl程度までの近赤
外域においても充分反射防止効果があり、がっ、入射角
の変化による分光反射率特性の変化もこくわすかで為り
、前述の如き近赤外光を用いる焦点検出を行う装置に適
した反射防止膜を得ることができる。
視波長域のみならず9 Q Q nnl程度までの近赤
外域においても充分反射防止効果があり、がっ、入射角
の変化による分光反射率特性の変化もこくわすかで為り
、前述の如き近赤外光を用いる焦点検出を行う装置に適
した反射防止膜を得ることができる。
第1図は本発明の構成を示す図、第2〜4図はそれぞれ
実施例1の垂直入射光に対する分光反射率特性を示すグ
ラフ、第5図は実施例3の分光反射率特性の入射角依存
性を示すグラフである。 (G);基板、(C);反射防止膜、(I)(n) ・
(%’II);第1層、第2層、・、第8層。 以上 出願人 ミノルタカメラ株式会社 3 図 4図
実施例1の垂直入射光に対する分光反射率特性を示すグ
ラフ、第5図は実施例3の分光反射率特性の入射角依存
性を示すグラフである。 (G);基板、(C);反射防止膜、(I)(n) ・
(%’II);第1層、第2層、・、第8層。 以上 出願人 ミノルタカメラ株式会社 3 図 4図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 空気側から基板ガラス側へ順に第1層、第2層・・・、
第8層の8層’III威からなり、かつ、以下の条件を
満足することを特徴とする反射防止膜:130≦N】≦
1.45 、 N+d+ ′;0,25λ0190≦N
2≦2.30 、 N2d2≦0.25λ0130≦N
3 ≦1,8Q 、 N5d3≦0.25λ0190≦
N4≦230.N4d4≦o5oλ01.58≦Ns≦
1.80 、 N5ds≦0.30λ01.30≦N6
≦1.45 、 N2d2≦0.40λ0145≦N7
≦1.66 、 N7d7≦0,4 Q 、l。 158≦N8≦1.80 、 N5ds≦0.30λO
N6 〈N7 (Ns 但L1ここで Ni、第1層の構成物質の屈折率(i=1.z・・・、
8)λ0;設計波長 である。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58141719A JPS6032001A (ja) | 1983-08-01 | 1983-08-01 | 反射防止膜 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58141719A JPS6032001A (ja) | 1983-08-01 | 1983-08-01 | 反射防止膜 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6032001A true JPS6032001A (ja) | 1985-02-19 |
Family
ID=15298604
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58141719A Pending JPS6032001A (ja) | 1983-08-01 | 1983-08-01 | 反射防止膜 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6032001A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6331226U (ja) * | 1986-08-13 | 1988-02-29 | ||
JP2003043202A (ja) * | 2001-07-31 | 2003-02-13 | Olympus Optical Co Ltd | 反射防止膜及び光学部品 |
JP2009282295A (ja) * | 2008-05-22 | 2009-12-03 | Fujinon Corp | 反射低減膜、光学部材、光学系 |
EP2128658A3 (en) * | 2008-05-22 | 2011-05-11 | Fujinon Corporation | Reflection reducing film, optical member and optical system |
JP2019070756A (ja) * | 2017-10-10 | 2019-05-09 | グンゼ株式会社 | 反射防止フィルム |
WO2022090228A1 (en) * | 2020-10-27 | 2022-05-05 | Essilor International | Optical article to provide vision correction for devices using eye tracking device |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5343408A (en) * | 1976-10-01 | 1978-04-19 | Okura Denki Co Ltd | System for deciding occurrence of trouble in station |
-
1983
- 1983-08-01 JP JP58141719A patent/JPS6032001A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5343408A (en) * | 1976-10-01 | 1978-04-19 | Okura Denki Co Ltd | System for deciding occurrence of trouble in station |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS6331226U (ja) * | 1986-08-13 | 1988-02-29 | ||
JP2003043202A (ja) * | 2001-07-31 | 2003-02-13 | Olympus Optical Co Ltd | 反射防止膜及び光学部品 |
JP2009282295A (ja) * | 2008-05-22 | 2009-12-03 | Fujinon Corp | 反射低減膜、光学部材、光学系 |
EP2128658A3 (en) * | 2008-05-22 | 2011-05-11 | Fujinon Corporation | Reflection reducing film, optical member and optical system |
US8248699B2 (en) | 2008-05-22 | 2012-08-21 | Fujifilm Corporation | Reflection reducing film, optical member and optical system |
JP2019070756A (ja) * | 2017-10-10 | 2019-05-09 | グンゼ株式会社 | 反射防止フィルム |
WO2022090228A1 (en) * | 2020-10-27 | 2022-05-05 | Essilor International | Optical article to provide vision correction for devices using eye tracking device |
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