JPH08286007A - プラスチック基板ミラー - Google Patents
プラスチック基板ミラーInfo
- Publication number
- JPH08286007A JPH08286007A JP11516795A JP11516795A JPH08286007A JP H08286007 A JPH08286007 A JP H08286007A JP 11516795 A JP11516795 A JP 11516795A JP 11516795 A JP11516795 A JP 11516795A JP H08286007 A JPH08286007 A JP H08286007A
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- JP
- Japan
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- film
- dense
- plastic substrate
- mirror
- reflection
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 プラスチック基板１１上に反射膜１５を形成
したプラスチックミラーにおいて、反射膜１５の上下に
アルミナなどの緻密膜２１，２３を形成し、反射率の経
時による低下を防止し、耐環境性を向上させる。 【構成】 ポリカーボネート、アクリル樹脂等のプラス
チック基板１１上に、Ｃｒからなる密着強化膜１３、ア
ルミナからなる緻密膜２１、Ａｌからなる反射膜１５、
緻密膜２３、酸化珪素からなる保護膜１７を順次形成し
たプラスチック基ミラー。
したプラスチックミラーにおいて、反射膜１５の上下に
アルミナなどの緻密膜２１，２３を形成し、反射率の経
時による低下を防止し、耐環境性を向上させる。 【構成】 ポリカーボネート、アクリル樹脂等のプラス
チック基板１１上に、Ｃｒからなる密着強化膜１３、ア
ルミナからなる緻密膜２１、Ａｌからなる反射膜１５、
緻密膜２３、酸化珪素からなる保護膜１７を順次形成し
たプラスチック基ミラー。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、プラスチック基板上に
反射膜を形成したミラーに関する。
反射膜を形成したミラーに関する。
【０００２】
【従来の技術】部品の軽量化などを目的として、プラス
チック基板上に反射膜を形成したミラーが用いてらてお
り、その一例として駆動部品であるポリコンミラーなど
が挙げられる。図４は、従来のプラスチッウ基板ミラー
の膜構成を示す模式図であり、プラスチック基板１１上
に密着強化膜１３を設けた後、反射膜１５を形成し、さ
らにその上側に保護膜１７を形成した３層構成としてい
る。
チック基板上に反射膜を形成したミラーが用いてらてお
り、その一例として駆動部品であるポリコンミラーなど
が挙げられる。図４は、従来のプラスチッウ基板ミラー
の膜構成を示す模式図であり、プラスチック基板１１上
に密着強化膜１３を設けた後、反射膜１５を形成し、さ
らにその上側に保護膜１７を形成した３層構成としてい
る。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな層構成のミラーでは、使用につれて反射率が低下す
るという問題点があった。本発明は、プラスチック基板
を用いたミラーにおいて、耐環境性を改善し、経時によ
る反射率の低下を防止することを目的とする。
うな層構成のミラーでは、使用につれて反射率が低下す
るという問題点があった。本発明は、プラスチック基板
を用いたミラーにおいて、耐環境性を改善し、経時によ
る反射率の低下を防止することを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明のプラスチック基
板ミラーは、プラスチック基板上に反射膜が形成された
プラスチック基板ミラーにおいて、反射膜とプラスチッ
ク基板との間に又は反射膜の上側に緻密膜が形成されて
いることを特徴とする。
板ミラーは、プラスチック基板上に反射膜が形成された
プラスチック基板ミラーにおいて、反射膜とプラスチッ
ク基板との間に又は反射膜の上側に緻密膜が形成されて
いることを特徴とする。
【０００５】
【実施例】図１、図２および図３はいずれも本発明のミ
ラーの膜構成を示す模式図であり、緻密膜２１，２３の
形成位置を除いては同様のタイプのミラーが図示されて
いる。すなわち、緻密層２１，２３は、プラスチック基
板１１と反射膜１５との間に形成してもよく、反射膜１
５よりも上側（表面側、空気側）に形成してもよく、ま
た、プラスチック基板１１と反射膜１５との間と反射膜
１５より上側の両方に形成してもよい。なお、緻密膜２
１，２３は、図示してように反射膜１５と直接的に接し
て形成する必要は必ずしもなく、緻密膜２１，２３と反
射膜１５との間に更に他の機能膜（層）を介在させても
よい。
ラーの膜構成を示す模式図であり、緻密膜２１，２３の
形成位置を除いては同様のタイプのミラーが図示されて
いる。すなわち、緻密層２１，２３は、プラスチック基
板１１と反射膜１５との間に形成してもよく、反射膜１
５よりも上側（表面側、空気側）に形成してもよく、ま
た、プラスチック基板１１と反射膜１５との間と反射膜
１５より上側の両方に形成してもよい。なお、緻密膜２
１，２３は、図示してように反射膜１５と直接的に接し
て形成する必要は必ずしもなく、緻密膜２１，２３と反
射膜１５との間に更に他の機能膜（層）を介在させても
よい。
【０００６】図１に示したミラーは、プラスチック基板
１１上に密着強化膜１３、緻密膜２１、反射膜１５、保
護膜１７が順次積層されている。図２に示したミラー
は、プラスチック基板１１上に密着強化膜１３、反射膜
１５、緻密膜２３、保護膜１７が順次積層されている。
図３に示したミラーは、プラスチック基板１１上に密着
強化膜１３、緻密膜２１、反射膜１５、緻密膜２３、保
護膜１７が順次積層されている。
１１上に密着強化膜１３、緻密膜２１、反射膜１５、保
護膜１７が順次積層されている。図２に示したミラー
は、プラスチック基板１１上に密着強化膜１３、反射膜
１５、緻密膜２３、保護膜１７が順次積層されている。
図３に示したミラーは、プラスチック基板１１上に密着
強化膜１３、緻密膜２１、反射膜１５、緻密膜２３、保
護膜１７が順次積層されている。
【０００７】プラスチック基板１１としては、ポリカー
ボネート、アクリル樹脂などが用いられる。密着強化膜
１３は、形成される多層膜の基板に対する密着性も改善
するものであり、クロムなどが用いられる。反射膜１５
としては、アルミニウム、銀などの通常の反射材料が用
いられる。保護膜１７は、反射膜１５に傷が付くことな
どを防止して表面を保護するためのものであり、酸化ケ
イ素、フッ化マグネシウムなどが用いられる。
ボネート、アクリル樹脂などが用いられる。密着強化膜
１３は、形成される多層膜の基板に対する密着性も改善
するものであり、クロムなどが用いられる。反射膜１５
としては、アルミニウム、銀などの通常の反射材料が用
いられる。保護膜１７は、反射膜１５に傷が付くことな
どを防止して表面を保護するためのものであり、酸化ケ
イ素、フッ化マグネシウムなどが用いられる。
【０００８】緻密膜２１，２３は、反射膜１５の変質を
防止するためのものであり、充填率（ｐａｃｋｉｎｇ
ｄｅｎｓｉｔｙ）が大きい緻密な膜を形成する素材が用
いられ酸化アルミニウム、フッ化マグネシウムなどが用
いられる。本発明のミラーでは基板としてプラスチック
が用いられるため、真空蒸着時に基板を高温に加熱でき
ないことから、低温基板温度で緻密な膜を形成する素材
が好ましく、上述の酸化アルミニウム、フッ化マグネシ
ウムなどは特に好適である。緻密膜２１，２３の充填率
は９５％以上が好適である。
防止するためのものであり、充填率（ｐａｃｋｉｎｇ
ｄｅｎｓｉｔｙ）が大きい緻密な膜を形成する素材が用
いられ酸化アルミニウム、フッ化マグネシウムなどが用
いられる。本発明のミラーでは基板としてプラスチック
が用いられるため、真空蒸着時に基板を高温に加熱でき
ないことから、低温基板温度で緻密な膜を形成する素材
が好ましく、上述の酸化アルミニウム、フッ化マグネシ
ウムなどは特に好適である。緻密膜２１，２３の充填率
は９５％以上が好適である。
【０００９】上側の緻密膜２１は表面側からの反射膜の
変質作用を防止するものであり、一方、下側緻密膜２３
は基板側からの反射膜の変質作用を防止するとともに、
多層膜の基板１１に対する密着性を改善する。この変質
作用は、空気中の水分または基板１１に吸着した水分に
より、反射膜１５が酸化されて反射率が経時的に低下す
るものと考えられる。緻密膜２１，２３の膜厚は、１０
〜４０ｎｍ程度が好適である。
変質作用を防止するものであり、一方、下側緻密膜２３
は基板側からの反射膜の変質作用を防止するとともに、
多層膜の基板１１に対する密着性を改善する。この変質
作用は、空気中の水分または基板１１に吸着した水分に
より、反射膜１５が酸化されて反射率が経時的に低下す
るものと考えられる。緻密膜２１，２３の膜厚は、１０
〜４０ｎｍ程度が好適である。
【００１０】なお、図１，２，３に示した実施例におい
て、密着強化膜１３、保護膜１７は省略することもでき
る。本発明のミラーは、真空蒸着法などの薄膜形成方法
により、プラスチック基板１１上に各膜を形成すること
によって製造することができる。
て、密着強化膜１３、保護膜１７は省略することもでき
る。本発明のミラーは、真空蒸着法などの薄膜形成方法
により、プラスチック基板１１上に各膜を形成すること
によって製造することができる。
【００１１】
【発明の効果】本発明によれば、プラスチック基板を用
いたミラーにおいて、反射膜の上側（表面側）または下
側（基板側）あるいはその双方に緻密膜を設けることに
より、反射率の経時による低下を防止でき、耐環境性が
向上する。
いたミラーにおいて、反射膜の上側（表面側）または下
側（基板側）あるいはその双方に緻密膜を設けることに
より、反射率の経時による低下を防止でき、耐環境性が
向上する。
【００１２】〔実験例〕真空蒸着法により、図１〜３に
示した本発明のミラーと、図４に示した従来例のミラー
とをそれぞれ作成した。基板１１としては、ポリカーボ
ネートを用い、各膜は次の条件で形成した。密着強化膜
１３は、金属Ｃｒを室温で真空蒸着し、膜厚６６ｎｍに
形成した。緻密膜２１，２３は、ともにアルミナを室温
で真空蒸着し、膜厚２７．５ｎｍに形成した。反射膜１
５は、アルミニウムを室温で真空蒸着し、膜厚８８ｎｍ
に形成した。
示した本発明のミラーと、図４に示した従来例のミラー
とをそれぞれ作成した。基板１１としては、ポリカーボ
ネートを用い、各膜は次の条件で形成した。密着強化膜
１３は、金属Ｃｒを室温で真空蒸着し、膜厚６６ｎｍに
形成した。緻密膜２１，２３は、ともにアルミナを室温
で真空蒸着し、膜厚２７．５ｎｍに形成した。反射膜１
５は、アルミニウムを室温で真空蒸着し、膜厚８８ｎｍ
に形成した。
【００１３】保護膜１７は、真空槽内が１．３×１０-4
Ｔｏｒｒとなるように酸素を導入した状態で室温でＳｉ
Ｏを蒸発せしめ、ＳｉＯを酸化させて膜厚２４２ｎｍの
酸化ケイ素膜を形成した。この酸化ケイ素膜は完全に酸
化したＳｉＯ2 膜ではなく、不完全酸化膜（ＳｉＯｘで
ｘが２未満）であった。得られた各ミラーの反射率（測
定波長７８０ｎｍ）を測定して初期値とした。ついで、
温度６０℃、相対湿度９５％の恒温恒湿槽内で１６８時
間保存して強制劣化試験を行なった後に、再び反射率を
測定して保存値とした。
Ｔｏｒｒとなるように酸素を導入した状態で室温でＳｉ
Ｏを蒸発せしめ、ＳｉＯを酸化させて膜厚２４２ｎｍの
酸化ケイ素膜を形成した。この酸化ケイ素膜は完全に酸
化したＳｉＯ2 膜ではなく、不完全酸化膜（ＳｉＯｘで
ｘが２未満）であった。得られた各ミラーの反射率（測
定波長７８０ｎｍ）を測定して初期値とした。ついで、
温度６０℃、相対湿度９５％の恒温恒湿槽内で１６８時
間保存して強制劣化試験を行なった後に、再び反射率を
測定して保存値とした。
【００１４】また、密着性についても保存後に評価し
た。密着性の評価は、セロテープをミラー表面に強く貼
り付け急激に剥す操作を繰り返えし、以下の基準で評価
した。 密着性 ○：図４に示した従来品よりも優れている。 △：従来品と同等 ×：従来品より劣る
た。密着性の評価は、セロテープをミラー表面に強く貼
り付け急激に剥す操作を繰り返えし、以下の基準で評価
した。 密着性 ○：図４に示した従来品よりも優れている。 △：従来品と同等 ×：従来品より劣る
【００１５】
【表１】 表１：ミラーの評価結果 反射率(％) 反射率の 膜構成 初期値 保存値 低下量(%) 密着性 図４ 84.7 77.5 7.2 − 図１ 84.5 80.7 3.8 ○ 図２ 85.2 82.4 2.8 △ 図３ 85.3 84.1 1.2 ○
【図１】本発明の実施例のプラスチック基板ミラーの膜
構成を示す模式図である。
構成を示す模式図である。
【図２】本発明の実施例のプラスチック基板ミラーの膜
構成を示す模式図である。
構成を示す模式図である。
【図３】本発明の実施例のプラスチック基板ミラーの膜
構成を示す模式図である。
構成を示す模式図である。
【図４】従来例のプラスチック基板ミラーの膜構成を示
す模式図である。
す模式図である。
１１ プラスチック基板 １３ 密着強化膜 １５ 反射膜 １７ 保護膜 ２１，２３ 緻密膜
Claims (1)
- 【請求項１】 プラスチック基板上に反射膜が形成され
たプラスチック基板ミラーにおいて、反射膜とプラスチ
ック基板との間に又は反射膜の上側に緻密膜が形成され
ていることを特徴とするプラスチック基板ミラー。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11516795A JPH08286007A (ja) | 1995-04-17 | 1995-04-17 | プラスチック基板ミラー |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11516795A JPH08286007A (ja) | 1995-04-17 | 1995-04-17 | プラスチック基板ミラー |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08286007A true JPH08286007A (ja) | 1996-11-01 |
Family
ID=14656007
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11516795A Pending JPH08286007A (ja) | 1995-04-17 | 1995-04-17 | プラスチック基板ミラー |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08286007A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002267823A (ja) * | 2001-03-13 | 2002-09-18 | Yuka Denshi Co Ltd | 投射ミラー |
| JP2002358810A (ja) * | 2001-05-15 | 2002-12-13 | General Electric Co <Ge> | Ｉｒ反射コーティングを有するリフレクタを備える表示ランプ |
| JP2004503798A (ja) * | 2000-07-07 | 2004-02-05 | ソーラ インターナショナル ホールディングス リミテッド | 表面ミラーコーティングを備える光学エレメントおよびこのコーティングを形成する方法 |
| US6939018B2 (en) | 2002-11-19 | 2005-09-06 | Fujinon Corporatioin | Reflecting mirror |
| CN100403067C (zh) * | 2003-06-27 | 2008-07-16 | 旭硝子株式会社 | 高反射镜 |
| JP2012047861A (ja) * | 2010-08-25 | 2012-03-08 | Konica Minolta Opto Inc | フィルムミラー、その製造方法、及び太陽光集光用フィルムミラー |
| US20120300306A1 (en) * | 2010-02-08 | 2012-11-29 | Sony Corporation | Optical body, method of manufacturing the same, window member, fitting, and solar shading device |
| JP2015121806A (ja) * | 2015-02-03 | 2015-07-02 | コニカミノルタ株式会社 | フィルムミラー、その製造方法、及び太陽光集光用フィルムミラー |
-
1995
- 1995-04-17 JP JP11516795A patent/JPH08286007A/ja active Pending
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004503798A (ja) * | 2000-07-07 | 2004-02-05 | ソーラ インターナショナル ホールディングス リミテッド | 表面ミラーコーティングを備える光学エレメントおよびこのコーティングを形成する方法 |
| JP4796264B2 (ja) * | 2000-07-07 | 2011-10-19 | カール ツァイス ビジョン オーストラリア ホールディングス リミテッド | 表面ミラーコーティングを備える光学エレメントおよびこのコーティングを形成する方法 |
| JP2002267823A (ja) * | 2001-03-13 | 2002-09-18 | Yuka Denshi Co Ltd | 投射ミラー |
| JP2002358810A (ja) * | 2001-05-15 | 2002-12-13 | General Electric Co <Ge> | Ｉｒ反射コーティングを有するリフレクタを備える表示ランプ |
| US6939018B2 (en) | 2002-11-19 | 2005-09-06 | Fujinon Corporatioin | Reflecting mirror |
| CN100403067C (zh) * | 2003-06-27 | 2008-07-16 | 旭硝子株式会社 | 高反射镜 |
| US20120300306A1 (en) * | 2010-02-08 | 2012-11-29 | Sony Corporation | Optical body, method of manufacturing the same, window member, fitting, and solar shading device |
| JP2012047861A (ja) * | 2010-08-25 | 2012-03-08 | Konica Minolta Opto Inc | フィルムミラー、その製造方法、及び太陽光集光用フィルムミラー |
| JP2015121806A (ja) * | 2015-02-03 | 2015-07-02 | コニカミノルタ株式会社 | フィルムミラー、その製造方法、及び太陽光集光用フィルムミラー |
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