JP2010541204A - 研磨組成物およびアミノシランを用いて処理された研削剤粒子の使用方法 - Google Patents
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Abstract
Description
この例は、アミノシラン化合物を用いて処理されたコロイドシリカ粒子を含む研磨組成物のpHによる酸化ケイ素および窒化ケイ素の除去速度への効果を示す。
この例は、酸およびアミノシラン化合物を用いて処理されたコロイドシリカ粒子を含む研磨組成物のpHによる酸化ケイ素および窒化ケイ素の除去速度への効果を示す。
この例は、アミノシラン化合物を用いて処理されたコロイドシリカ粒子を含む研磨組成物のpHおよび酸濃度による、酸化ケイ素および窒化ケイ素の除去速度への効果を示す。
この例は、アミノシラン化合物を用いて処理されたコロイドシリカ粒子およびリンを含む酸を含む研磨組成物による酸化ケイ素および窒化ケイ素の除去速度への効果を示す。
この例は、アミノシラン化合物を用いて処理されたコロイドシリカ粒子を含む研磨組成物による、酸化ケイ素および窒化ケイ素の除去速度への効果を示す。
この例は、アミノシラン化合物を用いて処理されたシリカ粒子を含む研磨組成物による酸化ケイ素および窒化ケイ素の除去速度への効果を示す。
この例は、アミノシラン化合物を用いて処理されたシリカ粒子を含む研磨組成物による酸化ケイ素の除去速度への効果を示す。
この例は、種々の量のアミノシラン化合物を用いて処理されたコロイドシリカ粒子を含む研磨組成物における平均粒径および処理された粒子上の利用できるシラノールの表面被覆率を示す。
この例は、種々の量のアミノシラン化合物を用いて処理されたコロイドシリカ粒子を含む研磨組成物における、処理された粒径および粒子の表面上のシラノールの数で割った加えられたシランの値による、酸化ケイ素の除去速度への影響を示す。
Claims (25)
- 基材を化学的機械的に研磨する方法、該方法は、
(i)(a)液体キャリアー、
(b)該液体キャリアー中に懸濁された研削剤、
ここで、該研削剤は、アミノシラン化合物、ホスホニウムシラン化合物、およびスル
ホニウムシラン化合物から成る群から選択された化合物を用いて処理された表面を有
する金属酸化物粒子を含む、および、
(c)ホスホン酸およびホウ素を含む酸からなる群から選択された酸、
を含む化学的機械的研磨組成物と、基材とを接触させる工程、
(ii)該基材に対して該研磨組成物を動かす工程、ならびに、
(iii)該基材を磨くために、該基材の少なくとも一部分を摩耗させる工程、
を含んで成る。 - 該研削剤が、コロイドシリカ粒子である、請求項1の方法。
- 該研削剤の表面が、アミノプロピル基を含むアミノシラン化合物を用いて処理されている、請求項1の方法。
- 該基材が、該基材を磨くために、該基材から除去される窒化ケイ素の少なくとも1つの層を含む、請求項1の方法。
- 該研磨組成物が、1.5〜5のpHを有する。請求項4の方法。
- 該酸が、アミノトリ(メチレンホスホン酸)および1−ヒドロキシエチリデン−1,1−ジホスホン酸から成る群から選択される、請求項4の方法。
- 該基材が、該基材を磨くために該基材から除去される酸化ケイ素の少なくとも1つの層を含む、請求項1の方法。
- 該基材が、窒化ケイ素をさらに含み、そして該酸化ケイ素が、該窒化ケイ素に比較して、該基材から選択的に除去される、請求項7の方法。
- 該研磨組成物が、3.5〜6のpHを有する、請求項7の方法。
- 基材を化学的機械的に研磨する方法、該方法は、
(i)(a)液体キャリアー、および、
(b)該液体キャリアー中に懸濁された研削剤、
ここで該研削剤は、第四級アミノシラン化合物、ダイポーダルアミノシラン化合物、
およびそれらの組み合わせから成る群から選択された化合物を用いて処理された表面
を有する金属酸化物粒子を含む、
を含む化学的機械的研磨組成物と、基材とを接触させる工程、
(ii)該基材に対して該研磨組成物を動かす工程、ならびに、
(iii)該基材を磨くために、該基材の少なくとも一部分を摩耗させる工程、
を含んで成る。 - 該研削剤が、コロイドシリカ粒子である、請求項10の方法。
- 該研磨組成物が、7〜9のpHを有する、請求項10の方法。
- 該基材が、該基材を磨くために該基材から除去される酸化ケイ素の少なくとも1つの層を含む、請求項10の方法。
- (i)液体キャリアー、
(ii)該液体キャリアー中に懸濁された研削剤、
ここで、該研削剤は、アミノシラン化合物、ホスホニウムシラン化合物、およびスル
ホニウムシラン化合物から成る群から選択された化合物を用いて処理された表面を有
する金属酸化物粒子を含む、および、
(iii)ホスホン酸およびホウ素を含む酸からなる群から選択された酸、
を含んで成る、基材を研磨するための化学的機械的研磨組成物。 - 該研削剤の表面が、アミノプロピル基を含むアミノシラン化合物を用いて処理されている、請求項14の研磨組成物。
- 該研磨組成物が、4〜7のpHを有する、請求項14の研磨組成物。
- 該ホスホン酸が、アミノトリ(メチレンホスホン酸)および1−ヒドロキシエチリデン−1、1−ジホスホン酸からなる群から選択される、請求項14の研磨組成物。
- 該研磨組成物が、1.5〜5のpHを有する、請求項14の研磨組成物。
- (i)液体キャリアー、および、
(ii)該液体キャリアー中に懸濁された研削剤、
ここで該研削剤は、第四級アミノシラン化合物、ダイポーダルアミノシラン化合物、
およびそれらの組み合わせから成る群から選択された化合物を用いて処理された表面
を有する金属酸化物粒子を含む、
を含んで成る、基材を研磨するための化学的機械的研磨組成物。 - 該研削剤が、コロイドシリカである、請求項19の研磨組成物。
- 該研磨組成物が、1500μS/cm以下の伝導度を有する、請求項19の研磨組成物。
- (i)液体キャリアー、および、
(ii)該液体キャリアー中に懸濁された研削剤、
ここで該研削剤は、アミノシラン化合物、ホスホニウムシラン化合物、およびスルホ
ニウムシラン化合物から成る群から選択された化合物を用いて処理された表面を有す
る金属酸化物を含み、そして該処理された研削剤粒子は、2%〜50%である利用可
能なシラノールの表面被覆率を有する、
を含んで成る、基材を研磨するための化学的機械的研磨組成物。 - 該研磨組成物が、4〜7のpHを有する、請求項22の研磨組成物。
- 該研磨組成物のpHを緩衝できる化合物をさらに含む、請求項22の研磨組成物。
- 該金属酸化物粒子が、コロイドシリカ粒子である、請求項22の研磨組成物。
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