JP2022511740A - 改善された表面及び縁部品質を有するヘッドアップディスプレイミラー、及びその成形方法 - Google Patents

Abstract

凹形状を有する第１の大面；上記第１の大面の反対側の、凸形状を有する第２の大面；及び上記第１の大面と上記第２の大面とを接続する小面を備えたミラー基板を含む、ヘッドアップディスプレイ（ＨＵＤ）ミラー。上記ＨＵＤミラーはまた、上記第１の大面上に配置された反射層を含む。上記第１の大面は、３ｎｍ以下の第１の表面粗度Ｒａ、及び３０ｎｍ未満の最大（ＰＶ）粗度を有し、また上記ミラー基板はガラス又はガラスセラミック材料である。

Description

本出願は、２０１８年１１月２７日出願の米国仮特許出願第６２／７７１，８７７号に対する優先権の利益を主張するものであり、その内容は依拠され、参照によりその全体が本出願に援用される。

ヘッドアップディスプレイ（Ｈｅａｄ‐Ｕｐ Ｄｉｓｐｌａｙ：ＨＵＤ）システムは、視覚情報を透明な表面に投影し、これによりユーザは、主要なビューから視線をそらすことなくこの情報を見ることができる。ＨＵＤシステムは輸送の分野において配備が増加しており、これは、自動車、航空機、船舶、及び他の車両での使用を含む。例えばＨＵＤシステムを車両において使用でき、これにより該車両の操縦者又はドライバーは、前方視線を維持したまま、ディスプレイスクリーンへと視線を下げる、又はそらすことなく、車両の操縦に関連する情報を見ることができる。よってＨＵＤシステムは、車両の操縦者が安全な操縦視点から視線をそらす必要を最小限に抑えることにより、安全性を改善すると考えられる。

しかしながら、ＨＵＤシステムには、投影された画像の光学的品質が低いという問題があることが多く、これは投影された画像にとって望ましくない審美的品質をもたらす場合がある。光学的品質が低いと、ＨＵＤシステムの安全性が低下する場合さえある。というのは、投影された画像がぼやけている、又は不鮮明であることにより、ユーザにとって、投影された情報の読み取り又は理解が比較的困難になる可能性があり、これにより、ユーザが情報を処理する時間が増大し、該情報に基づくユーザの反応時間が遅れ、ユーザの注意がより散漫になるためである。ＨＵＤシステムは典型的には、ミラーを用いて画像を反射して、透明な表面に投影しており、光学的品質の低下は、ＨＵＤシステムで使用されるミラーの不備に起因する場合がある。例えば、ミラーの表面又は形状精度の不備は、光学性能を低下させる場合がある。これらの不備は、ミラーの成形及び／若しくは曲げの間に生じる、ミラーの湾曲の形状の不正確さ、並びに／又はミラー若しくはミラー基板の縁部の切断、成形、及び／又は研磨に由来する表面及び／若しくは縁部の不備を含む。

よって、改善された光学品質を有するＨＵＤシステム、特にＨＵＤシステム用の改良されたミラーに対する需要が存在し続けている。

本開示のいくつかの実施形態では、ヘッドアップディスプレイ（ＨＵＤ）ミラー基板が提供される。上記ミラー基板は：凹形状を有する第１の大面；上記第１の大面の反対側の、凸形状を有する第２の大面；及び上記第１の大面と上記第２の大面とを接続する小面を有する。上記ミラー基板はガラス又はガラスセラミック材料を含み、上記第１の大面は、３ｎｍ以下である第１の表面粗度Ｒａ、及び３０ｎｍ未満である最大（ｐｅａｋ ｔｏ ｖａｌｌｅｙ：ＰＶ）粗度を有する。いくつかの実施形態の複数の態様では、上記ミラー基板は、上記ミラー基板が湾曲状態である間は切断、成形、面取り加工、又は研磨されない、縁部を有する。上記小面は、面取り部を含む断面縁部プロファイルを有することができ、上記面取り部はＣ面取り部又はＲ面取り部を含む。上記Ｃ面取り部は、０．１ｍｍ以上、又は０．３ｍｍ以上の長さを有してよい。上記Ｒ面取り部は、０．５ｍｍ以上の長さを有してよい。ある実施形態のある態様では、上記ミラー基板は平面図において丸みを帯びた隅を有し、上記丸みを帯びた隅は、上記ミラー基板が湾曲状態である間は成形又は研磨されない。いくつかの実施形態によると、上記ミラー基板の上記凹面は非球面形状を有する。

本明細書中の実施形態の上記ＨＵＤミラー基板は、：約２００ｍｍ～約４００ｍｍの長さ、及び約１００ｍｍ～約２５０ｍｍの幅；約２５０ｍｍ～約３５０ｍｍの長さ、及び約１００ｍｍ～約２００ｍｍの幅；約３００ｍｍ～約３５０ｍｍの長さ、及び約１５０ｍｍ～約２００ｍｍの幅；又は約２９０ｍｍ～約２９５ｍｍの長さ、及び約１３０ｍｍ～約１３５ｍｍの幅を有することができる。いくつかの実施形態のある態様として、上記ミラー基板は、上記凹面上において１００μｍ未満、又は５０μｍ未満の輪郭最大（ＰＶ）形状精度、及び上記凹面上において１０ｍｍあたり１μｍ未満の算術平均うねりＷａを有し、上記凸面は、３０ｎｍ未満の表面粗度Ｒａ、及び１μｍ未満の最大（ＰＶ）粗度；又は２０ｎｍ未満の表面粗度Ｒａ、及び３００ｎｍ未満の最大（ＰＶ）粗度を有する。いくつかの実施形態のある態様として、上記ミラー基板は、上記第１の大面と上記第２の大面との間の距離として定義される厚さを有し、上記厚さは、約３．０ｍｍ以下であるか、約０．５ｍｍ～約３．０ｍｍであるか、約０．５ｍｍ～約１．０ｍｍであるか、又は約１．０ｍｍ～約３．０ｍｍである。上記ガラス又はガラスセラミック材料は、ソーダライムガラス、アルミノシリケート、ボロアルミノシリケート、又はアルカリアルミノシリケートガラスを含んでよく、強化又は化学強化ガラス材料であってよい。

本開示のいくつかの実施形態では、３次元ＨＵＤミラーが提供される。上記ＨＵＤミラーは、本明細書で開示される実施形態のＨＵＤミラー基板と、上記ミラー基板の第１の大面上に配置された反射層とを含む。

本開示の他の実施形態では、３次元ミラーの成形方法が提供される。上記方法は、第１の大面、上記第１の大面の反対側の第２の大面、及び上記第１の大面と上記第２の大面とを接続する小面を有する、ミラープリフォームを提供するステップを含む。上記ミラープリフォームはガラス又はガラスセラミック材料であり、上記第１の大面及び上記第２の大面は２次元である。上記方法は更に：湾曲支持面を有する成形装置上に、上記第２の大面が上記湾曲支持面に対面するように、上記ミラープリフォームを配置するステップ；及び上記ミラープリフォームを上記湾曲支持面に形状一致させることにより、上記第２の大面に対応する凸面と、上記第１の大面に対応する凹面であって、上記凹面は第１の曲率半径を有する、凹面とを有する、湾曲ミラー基板を形成するステップを含む。形状一致させる上記ステップの後、上記凹面は、３ｎｍ未満の粗度Ｒａ、及び３０ｎｍ未満の最大（ＰＶ）粗度を有する。いくつかの実施形態のある態様として、上記湾曲ミラー基板は、形状一致させる上記ステップの間又は後には切断、成形、面取り加工、又は研磨されない、縁部を有する。特に、いくつかの実施形態によると、上記小面は、上記湾曲ミラー基板の断面縁部プロファイルと同一の断面縁部プロファイルを有する。

いくつかの実施形態の複数の態様では、上記方法は更に、上記２次元ミラープリフォームの上記小面を加工して、上記湾曲ミラー基板の所定の縁部プロファイルを達成するステップを含み、上記加工は、切断、面取り加工、及び研磨のうちの少なくとも１つを含む。

本開示のいくつかの実施形態では、３次元ミラーの成形方法が提供される。上記方法は、本明細書で開示される方法に従って３次元ミラー基板を成形するステップ、及び上記基板の第１の大面上に反射層を配置するステップを含む。

請求対象の主題の更なる特徴及び利点は、以下の「発明を実施するための形態」に記載され、またその一部は、「発明を実施するための形態」から、又は以下の「発明を実施するための形態」、特許請求の範囲、及び添付の図面を含む本明細書に記載された請求対象の主題を実践することによって、当業者には理解されるだろう。

上述の「発明の概要」及び以下の「発明を実施するための形態」は、本開示の実施形態を提示しており、請求対象の主題の性質及び特徴を理解するための概観又は枠組みを提供することを意図したものであることを理解されたい。添付の図面は、本開示の更なる理解を提供するために含まれており、本明細書に組み込まれて本明細書の一部を構成する。これらの図面は様々な実施形態を図示し、本記載と合わせて、請求対象の主題の原理及び動作を説明する役割を果たす。

例示を目的として、現在好ましいとされている形態が図面に図示されているが、本明細書で開示及び説明される実施形態は、図示されている構成及び手段そのものに限定されないことを理解されたい。

本開示のいくつかの実施形態による、車両内のＨＵＤシステムの概略図 いくつかの実施形態による、図１のＨＵＤシステムの使用時の自動車のドライバー視点の絵 いくつかの実施形態による、コンバイナを備えるＨＵＤシステムの使用時の、自動車のドライバー視点の絵 いくつかの実施形態による、ＨＵＤシステムのための非球面ミラーの図 ＨＵＤミラー又はミラー基板を成形する従来の方法の複数のステップ ＨＵＤミラー基板が切り出されるシート材料の平面図 面取り加工された隅を有する縁部プロファイルを有する、切断済みのＨＵＤミラー基板の断面 従来の方法に従って成形されたミラー基板の縁部の写真 図８のミラー基板の凸面の拡大図 図８のミラー基板の凹面の拡大図 従来の方法に従って成形されたミラー基板の粗い縁部の顕微鏡画像 従来の方法に従って成形されたミラー基板の粗い縁部の顕微鏡画像 従来の方法に従って成形されたミラー基板の粗い縁部の顕微鏡画像 従来の方法に従って成形されたミラー基板の粗い縁部の顕微鏡画像 本開示の実施形態による、ＨＵＤミラー又はミラー基板の成形方法の複数のステップ 本開示の実施形態によるＨＵＤミラープリフォームの平面図 本開示の実施形態によるＨＵＤミラープリフォームの平面図 線１３’‐１３’における、図１２Ｂのミラープリフォームの縁部の断面図 本開示の実施形態の方法に従って成形されたＨＵＤミラー基板の縁部の顕微鏡画像 本開示の方法に従って成形されたＨＵＤミラー基板の縁部の顕微鏡画像 本開示の方法に従って成形されたＨＵＤミラー基板の縁部の顕微鏡画像 本開示の方法に従って成形されたＨＵＤミラー基板の縁部の顕微鏡画像 本開示のいくつかの実施形態による、２次元基板を３次元基板に成形するための真空ベースの成形面の平面図

ＨＵＤシステムは、ＨＵＤユーザの安全及び利便性を改善する様々な情報を提供するために使用できる。例えば輸送においては、車両のゲージ又はナビゲーションといった車両の操縦に関連する情報を、ドライバーの前方の領域に投影できる。このような情報としては、車両速度、燃料レベル、気候制御設定、娯楽に関する設定、ターン・バイ・ターン方式のナビゲーションインジケータ、到着予定時刻、及び速度、交通状況又は危険な条件に関する警告を挙げることができる。情報は、テキスト、シンボル、写真、ビデオ、アニメーション、及び１つ以上の色として提示できる。また、車両の現在の外部環境に関する情報を提示する拡張現実（ＡＲ）機能を備えたＨＵＤシステムを得ることも望まれており、このような情報は、ユーザの視点から、関連する外部環境要素をオーバレイさせる、又は他の様式で相互作用させることができる。例えば、ＡＲ ＨＵＤ画像は、関心対象の地点にユーザが近づくにつれて、上記地点を強調してよい。ＡＲ ＨＵＤは、ユーザが見ているものにオーバレイされた、又はユーザが見ているものと相互作用している情報を表示できるため、投影画像が大きいと有益である。しかしながら、大きなＡＲ ＨＵＤ画像の投影に必要なサイズで適切な品質のミラー又は光学部品を製造するのが困難であるため、画像が大きいほどその生成は困難になり得る。これらのＨＵＤシステムは、車両が更にコネクテッドカー化され、インテリジェントになるにつれて、その使用頻度及び用途が増大すると考えられる。従って、以上はＨＵＤシステムの使用の単なる例であり、本開示の実施形態はこれらの例に限定されることを意図したものではない。

図１に示されているように、ＨＵＤシステム１００を、例えばドライバーＤが操縦する自動車であってよい車両Ｖ内に設けることができる。ＨＵＤシステム１００は車両自体に組み込むことができ、例えば図１に示されているように、全体又は一部分が車両Ｖのダッシュボード１１０に組み込まれる。ＨＵＤシステム１００はピクチャ生成ユニット（ｐｉｃｔｕｒｅ ｇｅｎｅｒａｔｉｎｇ ｕｎｉｔ：ＰＧＵ）１０２を含み、これは、ＰＧＵ１０２からの信号に基づいて画像を生成するよう構成されたディスプレイ１０３に接続される。上記画像はその後、何らかの方法で、ディスプレイ１０３からユーザが視認可能な領域、例えばフロントガラス１０８又は他の何らかの表面のある領域へと配向される。図１では、上記画像は平面ミラー１０４によって、湾曲ミラー１０６へと反射される。画像は湾曲ミラー１０６からフロントガラス１０８に向かって、そしてフロントガラス１０８の投影領域１１２上へと投影される。ＨＵＤシステム１００は、投影領域１１２が車両Ｖの走行中にドライバーＤの通常の視線内にある、又は車両Ｖの操縦中に観るのに適した所定の領域に対したものとなるように、構成できる。例えば投影領域１１２は、ドライバーの視点から見たときに投影画像が道路に重なるように、位置決めできる。このシナリオの例が図２の図に示されており、ここでは、破線は視認できない投影領域１１２を画定しており、この中において画像がフロントガラス１０８上に投影される。

ディスプレイとしては、ブラウン管（ｃａｔｈｏｄｅ ｒａｙ ｔｕｂｅ：ＣＲＴ）ディスプレイ、発光ダイオード（ｌｉｇｈｔ‐ｅｍｉｔｔｉｎｇ ｄｉｏｄｅ：ＬＥＤ）ディスプレイ、液晶ディスプレイ（ｌｉｑｕｉｄ ｃｒｙｓｔａｌ ｄｉｓｐｌａｙ：ＬＣＤ）組立体、レーザ投影システム、導波管ディスプレイ、又は当業者に公知の他のタイプのディスプレイを挙げることができる。ＰＧＵは、ディスプレイによって得られる画像を生成又は加工するためのコンピュータ又はプロセッサを含んでよい。光学部品は、例えばレンズ、ビームスプリッタ、ミラー、及びコンバイナのうちのいくつかの組み合わせを含んでよく、構成部品及びＨＵＤシステムの設計は、図１に示されている例に限定されない。ＨＵＤシステムの構成部品の組み合わせは、コリメートされた光を生成するように構成できる。コリメートされた光を、ユーザの視野内にある表面又はコンバイナに投影することにより、ユーザは、投影画像と通常の視野とを同時に見ることができる。例えば車両用途では、コンバイナはフロントガラスとすることができる。あるいはコンバイナは、車両に組み込まれた別個の構成部品、又はドライバー若しくは乗客がコンバイナの透明な表面上の投影画像を見ることができるような車両内の位置に設置できる、携帯型構成部品とすることができる。

図１及び２では、投影領域１１２はフロントガラス１０８上にあるが、図３は、投影領域２１２のために使用されるコンバイナ２０８がフロントガラスから離れ、フロントガラスとドライバーとの間に位置決めされる代替実施形態を示す。コンバイナ２０８は、車両のダッシュボード２１０に組み込むことができ、又はダッシュボード２１０の上に位置決めされる携帯型若しくは分離型構成部品とすることができる。当業者であれば、ＨＵＤシステムの構成部品の基本的な配置を理解することになるため、本開示の実施形態は、いずれの１つ以上のＨＵＤシステム、又はＨＵＤシステムの光学部品の１つ以上の特定の配置に限定されない。本開示は主に、ＨＵＤシステムで使用される湾曲若しくは３次元ミラー、又は３次元ＨＵＤミラーの形成に使用されるミラー基板、及びこれらの形成及び成形方法を対象とする。ＨＵＤシステム中の３次元（３Ｄ）ミラー、例えば図１の湾曲ミラー１０６は、従来はプラスチック材料製であったいくつかのタイプのミラー基板からなる本開示の実施形態は主にガラス又はガラスセラミック材料製のミラー基板を対象とするが、いくつかの実施形態の態様は、他の様々な材料のミラー基板に関連する。３Ｄミラーは、基板の凹面上に反射性コーティングを有してよい。湾曲基板は、球面、非球面、フレネル形状、及び／又は回折形状であってよい。好ましい一実施形態では、反射面又はコーティングは、凹状の非球面表面上に設けられる。非球面表面は、複数の曲率半径を有する。例えば、４面非球面ミラーの場合、非球面表面は、４つの縁部それぞれに沿って異なる曲率半径を有してよい。よって図４に示すように、ミラー３００は、第１の縁部に沿った曲率半径Ｒ_１、第２の縁部に沿った曲率半径Ｒ_２、第３の縁部に沿った曲率半径Ｒ_３、及び第４の縁部に沿った曲率半径Ｒ_４を有する非球面形状の反射面３０８を有する。面３０８は非球面形状であるため、Ｒ_１≠Ｒ_２≠Ｒ_３≠Ｒ_４である。図４はまた、湾曲面３０８上の異なる複数の点が、ミラー３００の四隅を結ぶ２次元平面に対して、様々な量ａ～ｅだけ変位されている様子を示す。この平面は、図示されている３次元形状へと成形される前の２次元ミラー基板を表す基準平面であってよい。いくつかの実施形態では、ａ≠ｂ≠ｃ≠ｄであるＨＵＤミラーが提供される。

しかしながら、ＨＵＤシステムで使用される湾曲ミラー及びこれらのミラーの成形方法は、得られる形状精度、並びにミラーの表面及び縁部品質に関して、改善できる。例えば、画像が湾曲ミラーによって反射される際の画像品質の劣化を防止するために、ミラーが高いレベルの形状精度及び表面粗度を有している必要がある。本開示の実施形態では、５０μｍ未満の形状精度及び３ｎｍ未満の表面粗度（Ｒａ）が達成される。ＨＵＤシステムのためのミラーで発生する特定のタイプの光学的歪みは、縁部歪みと呼ばれ、これはミラーの縁部又はその付近で反射する光の光学的歪みである。既存のＨＵＤシステムでは、ミラーの製造中又は成形中に、光学的に影響のある不備がミラーに導入される場合がある。これは、３Ｄ形状ミラー又はミラー基板を成形するための最も一般的な方法を含み、上記方法は２つのカテゴリ、即ちプレス成形法及び真空成形法に分けることができる。しかしながら、プレス成形法及び真空成形法はいずれも欠点を有し得る。

プレス成形法では、上側金型及び下側金型を用いて、物理的な力によってガラス基板等の基板をプレスする。例えば、２Ｄガラスプリフォームを上側金型と下側金型との間に配置した状態で、上側金型を下側金型の中へとプレスしてよく、ガラスプリフォームは、これらの金型のうちの一方又は両方の表面の形状に従って成形される。その結果、成形済みのガラス基板の凹面及び凸面の両方に金型の押し跡が残る場合があり、これは研磨を必要とする。更に、上側及び下側金型の輪郭の狂いにより、上側及び下側金型の輪郭を正確に一致させることが困難である場合があり、従って成形済みのガラス基板に関して正確な形状を達成することが困難となる場合がある。例えば、非球面ミラーの輪郭に関する仕様は、±２５μｍ未満であり得るが、機械加工後の金型の輪郭の狂いは通常３０～５０μｍである。

真空成形法では、単一の金型（例えば下側金型）を使用でき、真空孔が金型の表面に成形される。平坦な又は２次元（２Ｄ）ガラスシートを金型の表面に置き、真空孔を介して真空圧を供給することにより、ガラスを金型の湾曲又は３次元（３Ｄ）表面に形状一致させる。多くの場合、成形面全体にわたって、孔を有するセラミック材料から真空面が形成される。しかしながら、成形済みのガラス基板の表面上に真空孔の跡が形成されるのを回避することは困難である。これらの真空孔の跡、即ち製造アーティファクトは、基板又は完成品のミラーの光学性能を損なう可能性がある。更に、典型的な真空成形法は、プレス法に比べて高い成形温度を必要とする場合がある。成形温度が高いと、表面品質に影響する恐れがあり、波打ち、くぼみ、及び押し跡といった欠陥が形成される恐れがある。

図５及び６を参照すると、従来の方法は、３Ｄ成形プロセス（プレス成形又は真空成形湾曲形成プロセス）のステップＳ１で提供される、オーバーサイズ２次元基板３５０を使用する。本明細書中で使用される場合、「オーバーサイズ（ｏｖｅｒｓｉｚｅｄ）」は、２Ｄ基板材料の長さ及び／又は幅が、完成品の３Ｄ ＨＵＤミラーに必要なものより大きいことを意味する。以下に記載されるように、オーバーサイズ基板の使用は、完成品の３Ｄミラーの成形のために、後で上記オーバーサイズ基板をより小さなサイズに切断しなければならなくなることを意味する。ステップＳ２では、オーバーサイズ２Ｄ基板３５０が３次元形状に成形される。得られたオーバーサイズ湾曲基板材料を、ステップＳ３において、所定の経路３５２に沿って切断し、所望のサイズの３Ｄミラー基板３５４を得て、外側の廃ガラス３５６を廃棄できる。更に切断後、ステップＳ４において、成形、面取り部加工、及び／又は研磨を含む追加の表面及び縁部処理を実施してよい。切断後縁部処理は、切断自体によって形成された欠陥を修復する若しくは最小限に抑えるため、又は切断済みの縁部を所望のプロファイルの形状に成形するために、必要となり得る。図７は、３Ｄ ＨＵＤミラー３６０の縁部における典型的な面取り加工の一例を示し、これは、３Ｄ ＨＵＤミラー３６０の第１の大面３６３上の面取り部３６２及び第２の大面３６５上の面取り部３６４を有する。

しかしながら、オーバーサイズ基板を３Ｄミラーのサイズに切断するのは極めて困難である。というのは、切断を行うときにはオーバーサイズ基板が既に３Ｄ形状に成形されているためである。よって、３Ｄ表面の切断の困難さを理由として、完成品の製品に関して望ましい正確な形状及び寸法への切断は困難になり得る。これにより、完成品の製品の製品寸法には、比較的大きなばらつきが発生する。更に、非球面ミラーの３Ｄ形状を理由として、縁部は、標準的なホイール研磨法を用いて容易には研磨又は面取り加工できず、その代わり、複雑で時間及びコストがかかる、コンピュータ数値制御（ｃｏｍｐｕｔｅｒ ｎｕｍｅｒｉｃａｌ ｃｏｎｔｒｏｌ ：ＣＮＣ）面取り加工に頼らなければならない。また、面取り加工を３Ｄ湾曲縁部に沿って実施するため、一定の面取り部品質を維持することも困難である。ミラーの隅の仕上げも同じ理由で困難である。例えば、審美的目的、又は耐久性及び取り扱いやすさの改善のために、（平面図で見た場合の）３Ｄミラーの隅３５８の形状を、丸みを帯びた隅の形状に成形することが望ましい場合がある。しかしながら、３Ｄ基板の隅の仕上げが困難であるため、通常は代わりに直線状に切断された隅又は面取り部が適用される。

図８は、側方から見たガラスシート４００の顕微鏡写真である。ガラスシート４００は、凸状側部４０２、凹状側部４０４、及び縁部表面４０６を有する３Ｄ形状に成形されている。上記ガラスシートは、１．７１ｍｍの厚さｔ_１を有し、縁部研磨後、上記凸状側部及び上記凹状側部の両方は、図９Ａ及び９Ｂに示されているように、それぞれ面取り部Ｃ_ｘ及びＣ_ｙを有する。面取り部Ｃ_ｘ及びＣ_ｙは、粗い縁部の研削によって形成される。この例では、面取り部Ｃ_ｘ及びＣ_ｙは厚さｔ_２及びｔ_３を有し、これらは図示されている試料ではいずれも０．０６ｍｍである。粗い縁部の研削は３Ｄ成形済みの基板に対して実施されるため、面取り加工の品質は視認できる程度に粗く不均一であり、縁部におけるガラスの欠けをもたらす。また、従来の方法に従って０．１ｍｍ以上のＣ面取り部を達成するのは極めて困難である。このような欠陥は、ガラスシート４００の性能を損ない、またガラスシート４００の構造的完全性を低下させる可能性がある。

この従来の成形方法の縁部の品質の粗さは、図１０Ａ～１０Ｄの顕微鏡画像において更に明瞭に確認できる。特に図１０Ａは、オーバーサイズ３Ｄシートからの切断による粗い縁部４１２を備えた、ガラスシート４１０の側面図を示す。図１０Ｂは、ガラスシートの縁部の別の部分を示し、縁部には視認可能な欠け４１４が存在する。図１０Ｃでは、縁部付近におけるガラスシートの表面の平面図は、縁部４１６の暗い領域及び明るい領域のばらつきによって証明されるような、縁部品質の不均質性を示している。図１０Ｄに示されているように、制御された丸みを帯びた隅を３Ｄガラス基板に形成するのは困難であるため、ガラスシート４１０の隅は直線状の隅切り４１８によって切断されている。

しかしながら、本開示の実施形態によると、面取り加工、研磨、及び／又は縁部成形は、２Ｄミラープリフォームに対して行われる。本明細書中で使用される場合、「プリフォーム（ｐｒｅｆｏｒｍ）」は、３Ｄ成形（例えば真空成形）前の略２次元のミラー基板を指し、このプリフォームは、３Ｄ成形後の３Ｄミラーにとって望ましいサイズをもたらすことになるサイズへと、事前切断又は成形されている。よって、プリフォームが２Ｄ状態である間に、プリフォームの縁部を、容易かつ効率的に面取り加工、研磨、又は成形できる。これらの縁部仕上げステップの後で、真空成形をミラープリフォームに対して実施できる。その結果、ミラー基板が３Ｄ状態となった後、縁部仕上げ（面取り加工、研磨、又は成形）は必要ない。更に、２Ｄプリフォームの長さ及び幅は、基板を３Ｄ基板に成形する際の基板のある程度の収縮を考慮してサイズ設定してよい。

よって、オーバーサイズガラス基板を用いた成形は：成形後にガラスを切断する追加のステップを必要とし；成形後にトリミングされるガラス又は廃棄されるガラスにより、ガラスの利用率が低くなり；切断後に、困難であり比較的非効率的である縁部研磨及び／又は面取り加工を必要とし；また、最終的な完成製品が、プリフォームベースの成形で形成されるものと同一のサイズとなり得る場合であっても、比較的大型の設備を必要とする。一方、本開示の実施形態のミラープリフォームを用いた３Ｄ成形では、真空成形後にミラー基板を切断する必要はなく、廃棄されるガラス又はカレットガラスの生成が削減される。更に、プリフォームベースの成形は、より簡単なプロセスとすることができ、コスト効率がより高いものとすることができ、また特に表面縁部品質、粗度、及び寸法安定性に関して優れた品質を有する３Ｄミラーを製造できる。

図１１は、本開示の１つ以上の実施形態による、上述の方法の複数のステップを示す。ステップＳ１１では、基板材料（例えばガラスシート）を提供する。３Ｄ成形によるプリフォームの横方向寸法のわずかな収縮を考慮して、この２Ｄ基板材料を、概ね完成品の３Ｄミラーのサイズへと切断又はサイズ設定することにより、２Ｄミラープリフォームを形成する。ステップＳ１２では、縁部成形、面取り加工、及び／又は研磨といったいずれの表面又は縁部処理を、３Ｄミラー基板への成形（例えば真空成形）前に、２Ｄミラープリフォームに対して実施する。ステップＳ１３では、表面及び／又は縁部処理の終了後、２Ｄミラープリフォームを３Ｄミラー基板へと成形する。ステップＳ１３の後には、縁部成形、面取り加工、隅の成形、又は研磨といった追加の縁部処理は実施されない。３Ｄ成形前又は後に、凹面上に反射性コーティングを堆積させてよい。

上述のように、２Ｄプリフォームを用いて３Ｄミラー基板を作成することにより、得られる３Ｄミラーの、精度が極めて高くばらつきが小さな寸法が達成される。１つ以上の実施形態では、３Ｄミラーの湾曲の複雑さ又は製品サイズに関係なく、±０．１ｍｍの寸法公差が可能である。例えば、長さ寸法及び幅寸法の両方に関するばらつきが０．０５ｍｍ未満の、大型のミラー基板が製造され、基板の長さはおよそ２９１ｍｍであり、幅はおよそ１３０．５ｍｍであった。１つ以上の実施形態では、輪郭ＰＶ又は輪郭の偏差に関して測定される形状精度は、約２５０ｍｍ未満の水平寸法を有するＨＵＤミラー基板に関して５０μｍ以下であり、約３５０ｍｍ未満の水平寸法を有するＨＵＤミラー基板に関して約１００μｍ以下である。このように、２Ｄプリフォームの縁部品質を維持しながら、大型のＨＵＤミラーについてさえ、寸法の一貫性を実現できる。例えば、本開示の実施形態は、約２００ｍｍ以上、約２５０ｍｍ以上、約３００ｍｍ以上、又は約３５０ｍｍ以上の長さを有するＨＵＤミラー基板を含む。ＨＵＤミラー基板の幅は、約１００ｍｍ以上、約１５０ｍｍ以上、又は約２００ｍｍ以上であってよい。いくつかの特定の実施形態では、ＨＵＤミラー基板は、約３５０ｍｍ以上の長さ、及び約２００ｍｍ以上の幅を有することができる。

図１２Ａ及び１２Ｂは、本開示のいくつかの実施形態による、２Ｄミラープリフォームの平面図を示す。図１２Ａに示されているように、ミラープリフォーム５００は丸みを帯びた隅５０１を有し、これは上述のように、３Ｄミラー基板に比べて、２Ｄプリフォームにおいて容易に達成される。図１２Ｂは、直線状でなく丸みを帯びた１ペアの対向する縁部５０３を備える、同様のミラープリフォーム５０２を示す。これらの丸みを帯びた縁部５０３は、２Ｄミラープリフォームを真空成形する方法において有利となり得、この場合、丸みを帯びた縁部５０３が真空金型の湾曲に対応することにより、丸みを帯びた縁部５０３と真空金型の表面との間で真空圧が漏れない。

図１３は、図１２Ａの線１３’‐１３’において得られた、ミラープリフォーム５００の部分断面図である。図１３に示されているように、ＨＵＤミラープリフォーム５００は：プリフォームのミラー側である第１の大面５０４；第１の大面５０４の反対側の第２の大面５０６；及び第１の大面５０４と第２の大面５０６との間の小面５０８を有する。ミラープリフォーム５００の厚さｔは、第１の大面５０４と第２の大面５０６との間の距離として定義される。第１の大面５０４及び第２の大面５０６の縁部は、それぞれ第１の面取り部５１０及び第２の面取り部５１２を有する。本開示の様々な実施形態によると、第１の面取り部５１０及び第２の面取り部５１２は、対称、即ち同一の長さを有するものとすることができ、又はこれらは非対称とすることができ、この場合、一方の面取り部が他方より長い。

第１の面取り部５１０及び第２の面取り部５１２のジオメトリは、面取り加工された表面のｘ成分及びｙ成分で記述できる。本明細書中で使用される場合、ｘ成分は、２次元プリフォームの第１又は第２の大面に対して平行な方向で測定した距離を指す。ｙ成分は、２次元プリフォームの第１又は第２の大面に対して垂直な、即ち２次元プリフォームの小面に対して平行な方向で測定した距離を指す。例えば、第１の面取り部５１０はｘ成分ｘ_１及びｙ成分ｙ_１を有してよく、第２の面取り部５１２はｘ成分ｘ_２及びｙ成分ｙ_２を有してよい。ｘ_１、ｙ_１、ｘ_２、及びｙ_２の寸法は例えば約０．２～約０．３ｍｍとすることができ、ここでｘ_１はｘ_２と同一であり、ｙ_１はｙ_２と同一であり、これらは対称な面取り加工をもたらす。しかしながら面取り部は非対称とすることもできる。例えば、面取り部５１０及び５１２のうちの一方は、より大きなｘ又はｙ成分を有する、より大きな面取り部であってよい。

いくつかの実施形態によると、基板縁部の非対称な面取り加工により、成形性が改善され、ミラーの縁部によって反射された歪みを有する画像の視認性が改善される。縁部歪みの場合、ディスプレイ画像の反射の角度は、面取り加工された表面の傾斜によって変化し、これにより、歪んだ画像をユーザが見るのを防止できる。これにより、知覚される縁部歪みを有しない投影画像を得ることができる。縁部の成形性は、面取り部が大きいために縁部領域が薄くなり、縁部領域がより成形しやすくなることによって改善されると考えられる。例えば、同一の真空圧を使用する場合、非対称でない縁部に比べて、非対称な縁部に関して、コンピュータ支援設計（ｃｏｍｐｕｔｅｒ‐ａｉｄｅｄ ｄｅｓｉｇｎ：ＣＡＤ）モデルに対する縁部の輪郭の狂いは減少し、輪郭の精度が上昇する。このような輪郭の精度の改善により、画像の歪みが減少する。更に、非対称な面取り加工により、望ましくない又は危険な光がガラス縁部に入り、ＨＵＤシステムのユーザの眼に向かって配向されることを防止できる。このような望ましくない光としては、例えば太陽光を挙げることができ、これはドライバーの注意をそらしたり、ドライバーの視力を妨げたりする恐れがある。しかしながら、いくつかの実施形態では対称な面取り部が好ましい場合がある。

図１４は、本開示のある実施形態による、３Ｄミラー基板６００の側面の顕微鏡画像を示す。３Ｄミラー基板６００は：凹面と、この面の縁部のＣ面取り部Ｃ_１とを有する、第１の主面６０２；凸面と、この面の縁部のＣ面取り部Ｃ_２とを有する、第２の主面６０４；及び第１の主面６０２と第２の主面６０４とを隔てる小面６０３を有する。図１４では、縁部成形、プロファイル形成、及び面取り加工が、３Ｄ成形前に２Ｄミラープリフォームに対して実施され、これにより、図１０Ａのものに比べて一貫した、欠陥が比較的少ない縁部品質が得られた。図１４の試料は、２．０ｍｍの厚さｔ_Ｔを有するガラスシートから作製されたものであり、厚さｔ_Ｃ１及びｔ_Ｃ２の対称なＣ面取り部を有し、上記厚さｔ_Ｃ１及びｔ_Ｃ２はそれぞれ０．４２４ｍｍである。よって、本開示のミラープリフォーム法を用いると、極めて大きなＣ面取り部を実現できる。縁部研磨は２Ｄプリフォームに対して実施されたため、凹状側部の面取り部Ｃ_１及び凸状側部の面取り部Ｃ_２に対して極めて細密な研磨を達成でき、また縁部の小面６０３も細密に研磨された。

図１５Ａは、３Ｄミラー基板６００の四隅のうちの１つの付近における、図１４の３Ｄミラー基板６００の側面図を示し、図１０Ｂに比べて、縁部に欠けが少ない、又は欠けがないことを示す。図１５Ｂでは、縁部の均一な灰色の影によって証明されるように、縁部の一貫性は、図１０Ｃに示されているものより高い。図１５Ｃは、丸みを帯びた隅の形状を容易に達成できることを示している。丸みを帯びた隅は２Ｄプリフォームに形成されたものであり、２Ｄプリフォームに丸みを帯びた隅を形成するのは比較的容易であり、図１０Ｄの直線状の隅を回避できる。

図１４～１５Ｃを、オーバーサイズ３Ｄ基板の切断をベースとした従来の方法を用いる上述の例と比較することによって分かるように、本開示のミラー基板及び方法は、従来の方法では不可能な縁部品質をもたらす。これにより、２Ｄプリフォームの細密な研削、成形、及び研磨によって可能である、極めて細密な粗度及び正確な縁部成形の達成によって、極めて細密な表面粗度及び縁部プロファイルを有する３Ｄミラー基板又はＨＵＤミラーを達成できる。

上述のように、本開示の実施形態は、真空成形法を用いて湾曲又は３Ｄミラー基板を成形するステップを含む。一態様では、真空成形法は、図１６に示すような金型７００を使用する。金型７００は、３Ｄミラー又はミラー基板の所望の形状に成形された成形面７０２を有する。金型７００は任意にハウジング７０６を含むことができ、これは成形面７０２の外周を取り囲み、ミラープリフォームが成形のために配置される空間を少なくとも部分的に取り囲んで画定する。ミラー基板（図示せず）を成形面７０２に対して形状一致させるために、１つ以上の真空孔を通して真空圧を供給する。しかしながら上述のように、真空孔は、基板が真空孔に接触した場所である不備の形態の、製造アーティファクトを残す場合がある。よって金型７００は、ミラー基板の有効領域に接触する領域には真空孔を含まない。その代わり、金型７００は成形面７０２の外周に溝型の真空孔７０４を有する。比較的大きな面取り部に対する溝型の真空孔７０４の位置により、溝型の真空孔７０４に起因するいずれの不備又はアーティファクトは、ＨＵＤシステムのユーザには明らかでなくなる。というのは、これらの不備はミラーの有効領域内に位置しないためである。いくつかの実施形態によると、溝型の真空孔７０４は、プリフォームを成形面７０２上に配置した場合に、２Ｄミラープリフォームの縁部の内側約２．０ｍｍ以下に位置決めされることになる。本明細書中で使用される場合、「有効領域（ｅｆｆｅｃｔｉｖｅ ａｒｅａ）」は、ミラー又はミラー基板の、投影されてユーザに視聴されることになる画像を反射する部分であり、ミラー又はミラー基板の面取り加工された縁部領域内に位置する。

３Ｄ ＨＵＤミラーの第１の大面の少なくとも一部分は、反射面である。上記反射面は、第１の大面に適用されたコーティング又は他の層を含み、また、例えば１つ以上の金属酸化物、セラミック酸化物、又は金属‐セラミック合金を含むことができる。特定の実施形態では、反射性コーティングはアルミニウム又は銀製である。反射面は、スパッタリング、蒸着（例えばＣＶＤ、ＰＶＤ）、めっき、又は反射面をコーティング又は供給する他の当業者に公知の方法によって、形成できる。反射面は、基板を湾曲又は非球面形状へと成形した後で、３Ｄ成形済み基板上に生成される。しかしながら、実施形態はこの順序に限定されず、３Ｄミラーを、反射面を有する２Ｄプリフォームから成形することも考えることができる。特に、本明細書で開示される真空ベースの３Ｄ成形方法は、反射面を有する２Ｄミラープリフォームから、第１の大面上の反射面を劣化させることなく、３Ｄミラーを形成できる。更に本開示の実施形態は、低温３Ｄ成形が可能であり、これにより、ガラスプリフォームを湾曲させる間、反射面の保存を補助できる。

本開示の１つ以上の実施形態によると：凹形状を有する第１の大面；上記第１の大面の反対側の、凸形状を有する第２の大面；及び上記第１の大面と上記第２の大面とを接続する小面を有する、ヘッドアップディスプレイ（ＨＵＤ）ミラー基板が提供される。上記ミラー基板はガラス又はガラスセラミック材料で構成され、上記第１の大面は、３ｎｍ以下である第１の表面粗度Ｒａ、及び３０ｎｍ未満である最大（ＰＶ）粗度を示す。上述のように、上記ＨＵＤミラー基板は、上記ミラー基板が湾曲状態である間に切断、成形、面取り加工、又は研磨されない、縁部を有する。具体的には、２Ｄミラープリフォームに対して、このプリフォームをＨＵＤミラー基板の３Ｄ形状に成形する前には、いかなる切断、成形、面取り加工、又は研磨も適用されず、またＨＵＤミラー基板の３Ｄ成形後に、縁部の更なる切断、成形、面取り加工、又は研磨が実施されることはない。

１つ以上の実施形態のある態様として、上記小面は、例えばＣ面取り部又はＲ面取り部として成形できる面取り部を備える断面縁部プロファイルを有する。しかしながら、上記断面縁部プロファイルは、本明細書に記載されたもの以外の方法で成形できる。というのは、２Ｄミラープリフォームの成形及び研磨が容易であることにより、様々な仕上げステップを容易に実施できるためである。Ｃ面取り部の場合、上記面取り部の長さは０．１ｍｍ以上、又は０．３ｍｍ以上とすることができる。Ｒ面取り部の場合、上記面取り部の長さは０．５ｍｍ以上とすることができる。更に上記ミラー基板は、丸みを帯びた隅を有してよい。具体的には、上記ミラー基板を平面図で見た場合、上記第１の大面及び／又は上記第２の大面の隅は丸みを帯びている。更に、上記ミラー基板の丸みを帯びた隅は、上記ミラー基板が湾曲状態又は３Ｄ状態である間は成形又は研磨されない。

ＨＵＤミラー基板の凹面は、１つ以上の特定の実施形態では非球面形状を有する。湾曲の特定の形状又は複雑さに関係なく、上記凸面及び上記凹面は対称な面取り部を有することができる。更に上記ミラー基板は、いわゆるＡＲ ＨＵＤ用途に十分な大きさのものとすることができる。例えば上記ミラー基板は：約２００ｍｍ～約４００ｍｍの長さ、及び約１００ｍｍ～約２５０ｍｍの幅；約２５０ｍｍ～約３５０ｍｍの長さ、及び約１００ｍｍ～約２００ｍｍの幅；約３００ｍｍ～約３５０ｍｍの長さ、及び約１５０ｍｍ～約２００ｍｍの幅；又は約２９０ｍｍ～約２９５ｍｍの長さ、及び約１３０ｍｍ～約１３５ｍｍの幅を有することができる。

大きなサイズが達成可能であるにもかかわらず、形状精度、並びに表面及び／又は縁部の品質若しくは粗度を、所望のレベルに維持できる。１つ以上の実施形態のある態様として、上記ミラー基板は、上記凹面において、１００μｍ未満、又は５０μｍ未満の輪郭最大（ＰＶ）形状精度を有する。上記ミラー基板は、上記凹面において、１０ｍｍあたり１μｍ未満の算術平均うねりＷａを有する。実施形態の更なる態様として、上記凸面は、３０ｎｍ未満の表面粗度Ｒａ、及び１μｍ未満の最大（ＰＶ）粗度を有する。上記凸面は、２０ｎｍ未満の表面粗度Ｒａ、及び３００ｎｍ未満の最大（ＰＶ）粗度を有してよい。上記凸面は更に、上記凸面の縁部から２ｍｍ以内に、溝型の真空孔の痕跡を含んでよい。上記溝型の真空孔の痕跡は、いくつかの実施形態によると、１μｍ未満の深さを有することができる。更に上記凸面は、上記溝型の真空孔の痕跡以外のいかなる真空孔の痕跡も有しない。１つ以上の実施形態の更なる態様として、上記凹面は、２ｎｍ未満、又は１ｎｍ未満の粗度Ｒａ、及び２０ｎｍ未満、１５ｎｍ未満、又は１２ｎｍ未満の最大（ＰＶ）粗度を有する。

１つ以上の実施形態では、上記ミラー基板は、上記第１の大面と上記第２の大面との間の距離として定義される厚さを有し、上記厚さは、約３．０ｍｍ以下であるか、約０．５ｍｍ～約３．０ｍｍであるか、約０．５ｍｍ～約１．０ｍｍであるか、又は約１．０ｍｍ～約３．０ｍｍである。上記ミラー基板に使用される上記ガラス又はガラスセラミック材料は、ソーダライムガラス、アルミノシリケート、ボロアルミノシリケート、又はアルカリアルミノシリケートガラスを含んでよい。更に、上記ガラス又はガラスセラミック材料は、強化ガラス材料とすることができ、例えば化学強化できる。

１つ以上の実施形態によると、上述のＨＵＤミラー基板と、上記ミラー基板の第１の大面上に配置された反射層とを含む、３次元ＨＵＤミラーが提供される。

更なる実施形態では、３次元ミラーの成形方法が提供される。上記方法は、第１の大面、上記第１の大面の反対側の第２の大面、及び上記第１の大面と上記第２の大面とを接続する小面を有する、ミラープリフォームを提供するステップを含む。上記ミラープリフォームはガラス又はガラスセラミック材料を含み、上記プリフォームの上記第１の大面及び上記第２の大面は２次元である。上記方法は更に：湾曲支持面を有する成形装置上に、上記第２の大面が上記湾曲支持面に対面するように、上記ミラープリフォームを配置するステップ；及び上記ミラープリフォームを上記湾曲支持面に形状一致させることにより、上記第２の大面に対応する凸面と、上記第１の大面に対応する凹面であって、上記凹面は第１の曲率半径を有する、凹面とを有する、湾曲ミラー基板を形成するステップを含む。形状一致させる上記ステップの後、上記凹面は、３ｎｍ未満の粗度Ｒａ、及び３０ｎｍ未満の最大（ＰＶ）粗度を有する。

上記方法の１つ以上の実施形態のある態様として、上記湾曲ミラー基板は、形状一致させる上記ステップの間又は後には切断、成形、面取り加工、又は研磨されない、縁部を有する。上記小面は、上記湾曲ミラー基板の断面縁部プロファイルと同一の断面縁部プロファイルを有する。上記ミラープリフォームの縁部プロファイルは、上記小面の第１の大面側、及び上記小面の第２の大面側のうちの少なくとも一方に、面取り部を含むことができ、上記面取り部はＣ面取り部又はＲ面取り部とすることができる。Ｃ面取り部の場合、上記Ｃ面取り部の長さは０．１ｍｍ以上、又は０．３ｍｍ以上である。Ｒ面取り部の場合、上記Ｒ面取り部の長さは０．５ｍｍ以上である。

いくつかの実施形態の更なる態様では、形状一致させる上記ステップの後の上記小面の表面粗度は、形状一致させる上記ステップの前の上記小面の表面粗度の２％以内である。形状一致させる上記ステップの後の上記小面の表面粗度は、形状一致させる上記ステップの前の上記小面の表面粗度と同一であってよい。上記ミラープリフォームは、平面図で見た場合、丸みを帯びた隅を有する。上記丸みを帯びた隅は、上記ミラー基板の上記丸みを帯びた隅と同一であってよく、形状一致させる上記ステップの間又は後には成形又は研磨されない。１つ以上の実施形態では、上記方法は、上記２次元ミラープリフォームの上記小面を加工して、上記湾曲ミラー基板の所定の縁部プロファイルを達成するステップを含み、上記加工は、切断、面取り加工、及び研磨のうちの少なくとも１つを含む。

いくつかの実施形態のある態様として、上記湾曲ミラー基板は：約２００ｍｍ～約４００ｍｍの長さ、及び約１００ｍｍ～約２５０ｍｍの幅；約２５０ｍｍ～約３５０ｍｍの長さ、及び約１００ｍｍ～約２００ｍｍの幅；約３００ｍｍ～約３５０ｍｍの長さ、及び約１５０ｍｍ～約２００ｍｍの幅；又は約２９０ｍｍ～約２９５ｍｍの長さ、及び約１３０ｍｍ～約１３５ｍｍの幅を有する。上記ミラー基板は、上記凹面において、１００μｍ未満、又は５０μｍ未満の輪郭最大（ＰＶ）形状精度を有する。上記ミラー基板は更に、上記凹面において、１０ｍｍあたり１μｍ未満の算術平均うねりＷａを有することができる。更に上記湾曲ミラー基板は、上記凹面において、３０ｎｍ未満の最大粗度深さＲ_ｍａｘを有してよい。上記凸面は：３０ｎｍ未満の表面粗度Ｒａ、及び１μｍ未満の最大（ＰＶ）粗度；又は２０ｎｍ未満の表面粗度Ｒａ、及び３００ｎｍ未満の最大（ＰＶ）粗度を有する。

いくつかの実施形態のある態様では、上記湾曲支持面は溝型の真空孔を備える。特に、上記ミラープリフォームを上記成形装置上に配置したとき、上記溝型の真空孔は上記大面の縁部の２ｍｍ以内である。形状一致させる上記ステップの後、上記凸面は、上記縁部全体に沿って、上記凸面の縁部から２ｍｍ以内に、溝型の真空孔の痕跡を有する。上記溝型の真空孔の痕跡は、１μｍ未満の深さを有してよい。上記凸面は、上記溝型の真空孔の痕跡以外のいかなる真空孔の痕跡も有しない。１つ以上の実施形態の更なる態様として、上記凹面は、２ｎｍ未満、又は１ｎｍ未満の粗度Ｒａ、及び２０ｎｍ未満、１５ｎｍ未満、又は１２ｎｍ未満の最大（ＰＶ）粗度を有する。１つ以上の実施形態では、上記ミラープリフォームは、上記第１の大面と上記第２の大面との間の距離として定義される厚さを有し、上記厚さは、約３．０ｍｍ以下であるか、約０．５ｍｍ～約３．０ｍｍであるか、約０．５ｍｍ～約１．０ｍｍであるか、又は約１．０ｍｍ～約３．０ｍｍである。

上記方法の１つ以上の実施形態の更なる態様として、形状一致させる上記ステップは、上記ミラープリフォームのガラス転移温度未満の温度で実施される。上記ミラープリフォーム又は上記湾曲ミラー基板の温度は、上記形状一致させる上記ステップの間又は後に、上記ミラープリフォームのガラス転移温度を超えて上昇しない。上記ガラス又はガラスセラミック材料は、ソーダライムガラス、アルミノシリケート、ボロアルミノシリケート、又はアルカリアルミノシリケートガラスを含んでよい。上記ガラス又はガラスセラミック材料は強化ガラス材料であってよく、強化は化学強化によって実施できる。

１つ以上の実施形態では、３次元ミラーの成形方法が提供され、上記方法は：本明細書に記載の実施形態による３次元ミラー基板を成形するステップ；及び第１の大面上に反射層を配置するステップを含む。

本開示の１つ以上の実施形態によると、３Ｄミラー基板を形成するために本明細書に記載のガラス系プリフォームを用いる、ＨＵＤシステムのためのミラーが提供される。上記ミラーは、上記３Ｄミラー基板の第１の大面上に反射層を含む。上記３Ｄミラー基板は、上記第１の大面が凹形状を有し、第２の大面が凸形状を有するような、第１の曲率半径を有し、この第１の曲率半径は、第１の湾曲の軸に関して測定される。上記３Ｄミラー基板は、上記第１の湾曲の軸とは異なる第２の湾曲の軸に関して測定された第２の曲率半径を有し、上記第１の湾曲の軸は上記第２の湾曲の軸に対して垂直である。いくつかの実施形態では、上記第１の大面は非球面形状を有する。

別の実施形態では、３次元（３Ｄ）ミラーの成形方法が提供され、上記方法は：第１の面取り部を有する縁部を有する第１の大面、上記第１の大面の反対側の、第２の面取り部を有する縁部を有する第２の大面、及び上記第１の大面と上記第２の大面とを接続する小面を含む、２次元（２Ｄ）ミラープリフォームを提供するステップであって、上記第２の面取り部は上記第１の面取り部と異なるサイズ又は形状を有する、ステップを含む。上記２Ｄミラープリフォームは、湾曲支持面を有する成形装置上に、上記第２の大面が上記湾曲支持面に対面した状態で配置され、上記２Ｄミラープリフォームを上記湾曲支持面に形状一致させることにより、第１の曲率半径を有する湾曲又は３Ｄミラー基板が形成される。

１つ以上の実施形態では、上記２Ｄミラープリフォームを湾曲支持面に形状一致させる上記ステップは、上記プリフォームのガラス転移温度未満の温度で実施される。上記ミラー基板の温度は、形状一致させる上記ステップの間又は後には、ガラス系基板材料のガラス転移温度を超えて上昇させなくてよい。

ＨＵＤシステムの実施形態の複数の態様では、ディスプレイユニットは、ＬＣＤ、ＬＥＤ、ＯＬＥＤ、若しくはμＬＥＤディスプレイパネルを備え、プロジェクタを含むことができる。

ガラス系基板は：３．０ｍｍ以下；約０．５ｍｍ～約３．０ｍｍ；約０．５ｍｍ～約１．０ｍｍ；約１．０ｍｍ～約３．０ｍｍ；又は約２．０ｍｍの厚さを有する。

いくつかの実施形態のある態様として、上記第１の大面の面取り加工は、投影画像の縁部歪みを低減するよう構成される。上記第１の大面の上記面取り加工は、ユーザに向かって反射される望ましくない光の量を低減するよう構成できる。投影面は、車両のフロントガラス、又は車両の内装に設置されるように構成されたコンバイナとすることができる。

上記ミラーは、上記第１の大面が凹形状を有しかつ上記第２の大面が凸形状を有するような、第１の曲率半径を有し、この第１の曲率半径は、第１の湾曲の軸に関するものである。上記ミラーはまた、上記第１の湾曲の軸とは異なる第２の湾曲の軸に関するものである第２の曲率半径を有することができ、上記第１の湾曲の軸は上記第２の湾曲の軸に対して垂直とすることができる。いくつかの好ましい実施形態では、上記第１の大面は非球面形状を有する。

反射性である上記第１の大面は、上記ガラス系基板上に反射性コーティングを備え、この反射性コーティングは、金属、金属酸化物、セラミック酸化物、又は金属‐セラミック合金を含み、またアルミニウム又は銀を含むことができる。上記ディスプレイユニットは、ＬＣＤ、ＬＥＤ、ＯＬＥＤ、若しくはμＬＥＤディスプレイパネル、及び／又はプロジェクタを含むことができる。上記ＨＵＤシステムは更に、投影画像を上記ＨＵＤシステムのユーザが視聴するための投影面を含むことができ、上記ディスプレイユニットは画像を生成するよう構成され、上記ミラーは上記画像を反射して、上記投影面上に上記投影画像を形成するよう構成される。上記投影面は、上記ミラーの形状と略同一の形状を有し、上記投影面は、フロントガラス又はコンバイナであり、また上記投影面は、非球面形状を有することができる。

上記ガラス系基板は：３．０ｍｍ以下；約０．５ｍｍ～約３．０ｍｍ；約０．５ｍｍ～約１．０ｍｍ；約１．０ｍｍ～約３．０ｍｍ；又は約２．０ｍｍの厚さを有する。

基板材料
ＨＵＤシステムのミラーのための好適なガラス基板は、非強化ガラスシートであっても、強化ガラスシートであってもよい。（強化されているかいないかにかかわらず）ガラスシートとしては、ソーダライムガラス、アルミノシリケートガラス、ボロアルミノシリケートガラス、又はアルカリアルミノシリケートガラスが挙げられる。任意に、ガラスシートは熱強化されていてよい。

好適なガラス基板は、イオン交換プロセスによって化学強化されていてよい。このプロセスでは、典型的には所定の期間にわたってガラスシートを溶融塩浴中に浸漬することにより、ガラスシートの表面又は表面付近のイオンを、塩浴中のより大きな金属イオンに交換する。一実施形態では、溶融塩浴の温度は約４３０℃であり、所定の期間は約８時間である。ガラスに上述のようなより大きなイオンを取り込むことにより、表面付近領域に圧縮応力が生成されることで、シートが強化される。対応する引張応力がガラスの中央領域に誘発されることで、上記圧縮応力との平衡が取られる。

ガラス基板の形成に好適な例示的なイオン交換性ガラスは、ソーダライムガラス、アルカリアルミノシリケートガラス、又はアルカリアルミノボロシリケートガラスであるが、他のガラス組成物も考えられる。本明細書中で使用される場合、「イオン交換性（ｉｏｎ ｅｘｃｈａｎｇｅａｂｌｅ）」は、ガラスが、そのガラスの表面又は表面付近に位置するカチオンを、それよりサイズが大きな又は小さな同価のカチオンで交換できるものであることを意味している。ある例示的なガラス組成物は、ＳｉＯ_２、Ｂ_２Ｏ_３、及びＮａ_２Ｏを含み、ここで（ＳｉＯ_２＋Ｂ_２Ｏ_３）≧６６モル％であり、Ｎａ_２Ｏ≧９モル％である。ある実施形態では、ガラスシートは、少なくとも６重量％の酸化アルミニウムを含む。更なる実施形態では、ガラスシートは、１つ以上のアルカリ土類酸化物を、アルカリ土類酸化物の含有量が少なくとも５重量％となるように含む。いくつかの実施形態では、好適なガラス組成物は更に、Ｋ_２Ｏ、ＭｇＯ、及びＣａＯのうちの少なくとも１つを含む。ある特定の実施形態では、ガラスは：６１～７５モル％のＳｉＯ_２；７～１５モル％のＡｌ_２Ｏ_３；０～１２モル％のＢ_２Ｏ_３；９～２１モル％のＮａ_２Ｏ；０～４モル％のＫ_２Ｏ；０～７モル％のＭｇＯ；及び０～３モル％のＣａＯを含むことができる。

ガラス基板の形成に好適な、更なる例示的なガラス組成物は：６０～７０モル％のＳｉＯ_２；６～１４モル％のＡｌ_２Ｏ_３；０～１５モル％のＢ_２Ｏ_３；０～１５モル％のＬｉ_２Ｏ；０～２０モル％のＮａ_２Ｏ；０～１０モル％のＫ_２Ｏ；０～８モル％のＭｇＯ；０～１０モル％のＣａＯ；０～５モル％のＺｒＯ_２；０～１モル％のＳｎＯ_２；０～１モル％のＣｅＯ_２；５０ｐｐｍ未満のＡｓ_２Ｏ_３；及び５０ｐｐｍ未満のＳｂ_２Ｏ_３を含み、ここで１２モル％≦（Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）≦２０モル％であり、０モル％≦（ＭｇＯ＋ＣａＯ）≦１０モル％である。

また更なる例示的なガラス組成物は：６３．５～６６．５モル％のＳｉＯ_２；８～１２モル％のＡｌ_２Ｏ_３；０～３モル％のＢ_２Ｏ_３；０～５モル％のＬｉ_２Ｏ；８～１８モル％のＮａ_２Ｏ；０～５モル％のＫ_２Ｏ；１～７モル％のＭｇＯ；０～２．５モル％のＣａＯ；０～３モル％のＺｒＯ_２；０．０５～０．２５モル％のＳｎＯ_２；０．０５～０．５モル％のＣｅＯ_２；５０ｐｐｍ未満のＡｓ_２Ｏ_３；及び５０ｐｐｍ未満のＳｂ_２Ｏ_３を含み、ここで１４モル％≦（Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）≦１８モル％であり、２モル％≦（ＭｇＯ＋ＣａＯ）≦７モル％である。

ある特定の実施形態では、アルカリアルミノシリケートガラスは、アルミナ、少なくとも１つのアルカリ金属、及びいくつかの実施形態では５０モル％超のＳｉＯ_２、他の実施形態では少なくとも５８モル％のＳｉＯ_２、及び更に他の実施形態では少なくとも６０モル％のＳｉＯ_２を含み、ここで、比：

であり、この比において、成分はモル％で表されており、「改質剤（ｍｏｄｉｆｉｅｒｓ）」はアルカリ金属酸化物である。このガラスは、特定の実施形態において：５８～７２モル％のＳｉＯ_２；９～１７モル％のＡｌ_２Ｏ_３；２～１２モル％のＢ_２Ｏ_３；８～１６モル％のＮａ_２Ｏ；及び０～４モル％のＫ_２Ｏを含むか、これらから本質的になるか、又はこれらからなり、ここで比：

である。

別の実施形態では、アルカリアルミノシリケートガラスは：６１～７５モル％のＳｉＯ_２；７～１５モル％のＡｌ_２Ｏ_３；０～１２モル％のＢ_２Ｏ_３；９～２１モル％のＮａ_２Ｏ；０～４モル％のＫ_２Ｏ；０～７モル％のＭｇＯ；及び０～３モル％のＣａＯを含むか、これらから本質的になるか、又はこれらからなる。

更に別の実施形態では、アルカリアルミノシリケートガラス基板は：６０～７０モル％のＳｉＯ_２；６～１４モル％のＡｌ_２Ｏ_３；０～１５モル％のＢ_２Ｏ_３；０～１５モル％のＬｉ_２Ｏ；０～２０モル％のＮａ_２Ｏ；０～１０モル％のＫ_２Ｏ；０～８モル％のＭｇＯ；０～１０モル％のＣａＯ；０～５モル％のＺｒＯ_２；０～１モル％のＳｎＯ_２；０～１モル％のＣｅＯ_２；５０ｐｐｍ未満のＡｓ_２Ｏ_３；及び５０ｐｐｍ未満のＳｂ_２Ｏ_３を含むか、これらから本質的になるか、又はこれらからなり、ここで１２モル％≦Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ≦２０モル％であり、０モル％≦ＭｇＯ＋ＣａＯ≦１０モル％である。

更に別の実施形態では、アルカリアルミノシリケートガラスは：６４～６８モル％のＳｉＯ_２；１２～１６モル％のＮａ_２Ｏ；８～１２モル％のＡｌ_２Ｏ_３；０～３モル％のＢ_２Ｏ_３；２～５モル％のＫ_２Ｏ；４～６モル％のＭｇＯ；及び０～５モル％のＣａＯを含むか、これらから本質的になるか、又はこれらからなり、ここで６６モル％≦ＳｉＯ_２＋Ｂ_２Ｏ_３＋ＣａＯ≦６９モル％；Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ＋Ｂ_２Ｏ_３＋ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＞１０モル％；５モル％≦ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ≦８モル％；（Ｎａ_２Ｏ＋Ｂ_２Ｏ_３）－Ａｌ_２Ｏ_３≦２モル％；２モル％≦Ｎａ_２Ｏ－Ａｌ_２Ｏ_３≦６モル％；及び４モル％≦（Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）－Ａｌ_２Ｏ_３≦１０モル％である。

いくつかの実施形態では、化学強化及び非化学強化ガラスは、０～２モル％の、Ｎａ_２ＳＯ_４、ＮａＣｌ、ＮａＦ、ＮａＢｒ、Ｋ_２ＳＯ_４、ＫＣｌ、ＫＦ、ＫＢｒ、及びＳｎＯ_２を含む群から選択された少なくとも１つの清澄剤と共に、バッチ化できる。

ある例示的な実施形態では、化学強化ガラス中のナトリウムイオンを、溶融塩浴由来のカリウムイオンで置換できるが、ルビジウム又はセシウム等の、原子半径が比較的大きな他のアルカリ金属イオンで、ガラス中の比較的小さなアルカリ金属イオンを置換することもできる。特定の実施形態によると、ガラス中の比較的小さなアルカリ金属イオンを、Ａｇ^＋イオンで置換できる。同様に、限定するものではないが硫酸塩、ハロゲン化物といった他のアルカリ金属塩を、イオン交換プロセスで使用してよい。

比較的小さなイオンを、ガラスネットワークを弛緩させることができる温度未満の温度で、比較的大きなイオンで置換することにより、ガラスの表面にわたるイオンの分布を生成し、これが応力プロファイルをもたらす。入ってくるイオンの体積が大きいことにより、表面に圧縮応力（ＣＳ）が生成され、ガラスの中央に張力（中央張力、又はＣＴ）が生成される。圧縮応力は、以下の関係式：

によって中央張力と関連付けられ、ここでｔはガラスシートの合計厚さであり、ＤＯＬは交換の深さであり、これは層深さとも呼ばれる。

様々な実施形態によると、イオン交換済みガラスを含むガラス基板は、低い重量、高い耐衝撃性、及び改善された音響減衰を含む、一連の望ましい特性を有することができる。一実施形態では、化学強化ガラスシートは：少なくとも３００ＭＰａ、例えば少なくとも４００、４５０、５００、５５０、６００、６５０、７００、７５０、若しくは８００ＭＰａの圧縮応力；少なくとも約２０μｍ（例えば少なくとも約２０、２５、３０、３５、４０、４５、若しくは５０μｍ）の層深さ；及び／又は４０ＭＰａ超（例えば４０、４５、若しくは５０ＭＰａ超）かつ１００ＭＰａ未満（例えば１００、９５、９０、８５、８０、７５、７０、６５、６０、若しくは５５ＭＰａ未満）の中央張力を有することができる。

好適なガラス基板は、熱強化プロセス又はアニーリングプロセスによって熱強化してよい。熱強化ガラスシートの厚さは、約２ｍｍ未満、又は約１ｍｍ未満であってよい。

例示的なガラスシート成形方法としては、フュージョンドロープロセス及びスロットドロープロセスが挙げられ、これらはそれぞれ、ダウンドロープロセス、及びフローロプロセスの例である。これらの方法は、強化ガラスシート及び非強化ガラスシートの両方を形成するために使用できる。フュージョンドロープロセスは、溶融したガラス原材料を受け入れるためのチャネルを有するドロータンクを使用する。チャネルは、チャネルの両側に、チャネルの長さに沿って、上部が開放された堰を有する。チャネルに溶融材料が満たされると、溶融ガラスが堰を越えてあふれる。溶融ガラスは重力によって、ドロータンクの外側表面を流れ落ちる。これらの外側表面は下側へ向かって内向きに延在し、これにより、これらはドロータンクの下方において、縁部で接合される。流れるガラスの２つの表面は、この縁部において接合されて融合し、単一の流れるシートを形成する。フュージョンドロー法は、チャネル上を流れる２つのガラスフィルムが一体に融合することにより、得られるガラスシートのいずれの外側表面も、装置のいずれの部分に接触しないという利点を提供する。よって、フュージョンドロー加工されたガラスシートの表面特性は、このような接触に影響されない。

スロットドロー法はフュージョンドロー法とは別個のものである。ここでは、溶融された原材料ガラスがドロータンクに供給される。ドロータンクの底部は開放スロットを有し、これは、該スロットの長さだけ延在するノズルを有する。溶融ガラスはスロット／ノズルを通って流れ、連続したシートとして下向きに、アニーリング領域内へとドロー加工される。スロットドロープロセスは、２つのシートを一体に融合するのではなく、単一のシートのみを、スロットを通してドロー加工するため、フュージョンドロープロセスよりも薄いシートを提供できる。

ダウンドロープロセスは、比較的無傷の表面を有する均一な厚さのガラスシートを形成する。ガラス表面の強度は、表面の傷の量及びサイズによって制御されるため、接触が最小限であった無傷の表面は、比較的高い初期強度を有する。この高い強度のガラスを化学強化すると、得られる強度は、ラッピング及び研磨を施された表面の強度より高くなり得る。ダウンドロー加工されるガラスは約２ｍｍ未満の厚さまでドロー加工してよい。更に、ダウンドロー加工されたガラスは極めて平坦かつ平滑な表面を有し、これは、コストのかかる研削及び研磨を行うことなく、その最終的な用途に使用できる。

フロートガラス法では、典型的にはスズである溶融金属のベッド上に溶融ガラスを浮かせながら流すことによって、平滑な表面及び均一な厚さを特徴とし得るガラスのシートが作製される。ある例示的なプロセスでは、溶融スズベッドの表面上に供給された溶融ガラスは、浮動するリボンを形成する。このガラスリボンがスズベッドに沿って流れると、固体ガラスシートをスズからローラ上に持ち上げることができるようになるまで、温度が徐々に低下する。ベッドを離れた後、ガラスシートを更に冷却し、アニーリングして、内部応力を低減できる。

上のいくつかの段落に記載されているように、例示的なガラス基板は、化学強化ガラス、例えばＧｏｒｉｌｌａ（登録商標）ガラスのガラスシートを含むことができる。このガラスシートは、熱処理、イオン交換、及び／又はアニーリングを経ていてよい。積層構造では、強化ガラスシートを内層としてよく、外層を、従来のソーダライムガラス、アニーリングされたガラス等といった非強化ガラスシートとしてよい。積層構造は、外側ガラス層と内側ガラス層との間に介在するポリマー中間層も含むことができる。強化ガラスシートは、１．０ｍｍ以下の厚さを有することができ、また約２５０ＭＰａ～約３５０ＭＰａの残留表面ＣＳレベル、及び６０マイクロメートル超のＤＯＬを有する。別の実施形態では、強化ガラスシートのＣＳレベルは、好ましくは約３００ＭＰａである。ガラスシートの例示的な厚さは、約０．３ｍｍ～約１．５ｍｍ、０．５ｍｍ～１．５ｍｍ～２．０ｍｍ以上である。

ある好ましい実施形態では、薄い化学強化ガラスシートは、約２５０ＭＰａ～９００ＭＰａの表面応力を有してよく、厚さは約０．３ｍｍ～約１．０ｍｍとすることができる。この強化ガラスシートが積層構造に含まれる実施形態では、外層は、厚さ約１．５ｍｍ～約３．０ｍｍ以上のアニーリング済み（非化学強化）ガラスとすることができる。当然のことながら、外層及び内層の厚さは、積層構造毎に異なり得る。例示的な積層構造の別の好ましい実施形態は、０．７ｍｍの化学強化ガラスの内層と、厚さ約０．７６ｍｍのポリビニルブチラール層と、２．１ｍｍのアニーリング済みガラスの外層とを含んでよい。

いくつかの実施形態では、本明細書に記載の実施形態の例示的なガラス基板を、ヘッドアップディスプレイ（ＨＵＤ）システムを有する車両（自動車、船舶等）に採用できる。いくつかの実施形態によるフュージョン成形されたガラスの透明性は、フロートプロセスによって形成されたガラスよりも優れたものとすることができ、これにより、情報をより読み取りやすく、また注意をそらすことのないものとすることができるため、より良好な運転体験を提供でき、また安全性を改善できる。非限定的なＨＵＤシステムは、投影ユニット、コンバイナ、及びビデオ生成コンピュータを含むことができる。例示的なＨＵＤの投影ユニットとしては、限定するものではないが、凸レンズ又は凹面鏡と、その焦点にあるディスプレイ（光導波路、走査レーザ、ＬＥＤ、ＣＲＴ、ビデオ画像等）とを有する、光コリメータが挙げられる。投影ユニットを採用することにより、所望の画像を生成できる。いくつかの実施形態では、ＨＵＤシステムは、投影ユニットからの投影画像を再配向することによって、視野及び投影画像を変化させる又は変更する、コンバイナ又はビームスプリッタも含むことができる。いくつかのコンバイナは、その上に投影された単色光を反射しながら他の波長の光を通過させる、特別なコーティングを含むことができる。更なる実施形態では、コンバイナは、投影ユニットからの画像を再結像させるために、湾曲させることもできる。いずれの例示的なＨＵＤシステムは、投影ユニットと、適用可能な車両システム（そこからデータを受信、操作、モニタリング、及び／又は表示できる）との間のインタフェースを提供するための、処理システムも含むことができる。いくつかの処理システムは、投影ユニットによって表示される画像及び記号を生成するためにも利用できる。

このような例示的なＨＵＤシステムを使用して、ＨＵＤシステムからの画像をガラス系ミラー基板の内向きの表面に投影することによって、情報（例えば数字、画像、方向、言語表現、又はその他）の表示を生成できる。続いてミラーはこの画像を、ドライバーの視野内となるように再配向できる。

よって、いくつかの実施形態による例示的なガラス基板は、ミラー用の薄く無傷の表面を提供できる。いくつかの実施形態では、フュージョンドロー加工されたＧｏｒｉｌｌａガラスをガラス基板として使用できる。このようなガラスは、フロートプロセスを用いて製造された従来のガラス（例えばソーダライムガラス）において典型的な、いずれのフロート線を含まない。

本開示の実施形態によるＨＵＤは、本明細書に記載の例示的なガラス基板を利用する、自動車両、船舶、合成視覚システム、及び／又はマスクディスプレイ（例えばゴーグル、マスク、ヘルメット等の、ヘッドマウントディスプレイ）において採用できる。このようなＨＵＤシステムは、重要な情報（速度、燃料、温度、方向指示信号、ナビゲーション、警告メッセージ等）を、ガラス積層構造を通してドライバーの前に投影できる。

いくつかの実施形態によると、本明細書に記載のＨＵＤシステムは、曲率半径、屈折率、及び入射角に関して、公称ＨＵＤシステムパラメータ（例えば曲率半径Ｒ_ｃ＝８３０１ｍｍ、ソースまでの距離：Ｒ_ｉ＝１０００ｍｍ、屈折率ｎ＝１．５２、及び入射角θ＝６２．０８°）を使用できる。

出願人は、本明細書で開示されているガラス基板及び積層構造が、優れた耐久性、耐衝撃性、靭性、及び耐引っかき性を有することを示した。当業者には公知であるように、ガラスシート又は積層体の強度及び機械的衝撃性能は、ガラスの、表面欠陥及び内部欠陥の両方を含む欠陥によって制限される。ガラスシート又は積層体が衝突を受けると、衝突点は圧縮される一方で、衝突点の周りのリング又は「フープ（ｈｏｏｐ）」、及び衝突を受けたシートの反対側の面が張力を受ける。典型的には、破損の始点は、最高張力の点又はその付近における、通常はガラス表面上にある傷である。これは、上記反対側の面に発生し得るが、リング内にも発生できる。衝突イベント中にガラスの傷が張力を受けると、傷が伝播しやすくなり、ガラスは典型的には破壊されることになる。よって、圧縮応力の強さ及び深さ（層深さ）が大きいことが好ましい。

強化により、本明細書で開示されている強化ガラスシートの一方又は両方の表面は、圧縮下にある。ガラスの表面付近領域に圧縮応力が組み込まれることにより、割れの伝播、及びガラスシートの破損を阻止できる。傷が伝播して破損が発生するためには、傷の先端において、衝突に起因する引張応力が、表面圧縮応力を超えなければならない。実施形態では、強化ガラスシートの高い圧縮応力及び大きな層深さにより、非化学強化ガラスの場合よりも薄いガラスの使用が可能となる。

以下の本開示の説明は、本開示の実施可能な教示、及び本開示の現在分かっている最良の実施形態として提供される。本開示の有益な結果を依然として得られる状態で、本明細書に記載の実施形態に対して多くの変更を実施できることは、当業者には認識されるだろう。また、本開示の望ましい利益の一部は、本開示の特徴のうちのいくつかを選択し、他の特徴を利用しなくても得ることができることも明らかであろう。従って、本開示の多数の修正形態及び適合形態が可能であり、特定の状況ではそれらが望ましい場合さえあり得、またそれらが本開示の一部であることは、当業者には認識されるだろう。よって以上の説明は、本開示の原理の限定ではなく、本開示の原理の例示として提供される。

本明細書に記載の例示的実施形態に対して、本開示の精神及び範囲から逸脱することなく、多数の修正が可能であることは、当業者には理解されるだろう。よって本説明は、与えられている実施例への限定を意図したものではなく、また限定として解釈してはならず、添付の請求項及びその均等物によって提供される保護の範囲が付与されるものとする。更に、本開示の特徴のうちのいくつかを、それに対応して他の特徴を使用することなく、使用できる。従って以上の例示的又は説明的実施形態の説明は、本開示の原理の限定ではなく、本開示の原理を説明することを目的として提供され、それに対する修正及びその並び替えを含むことができる。

以上の記載では、同様の参照記号は、図面において示す複数の図を通して、同様の又は対応する部分を指す。特段明記されていない限り、「上部（ｔｏｐ）」、「底部（ｂｏｔｔｏｍ）」、「外向き（ｏｕｔｗａｒｄ）」、「内向き（ｉｎｗａｒｄ）」等の用語は、利便性のための単語であり、限定的な用語として解釈してはならないことも理解される。更に、ある群が、複数の要素の少なくとも１つの群及びその組み合わせを含むものとして記載されている場合は常に、上記群は、列記されている要素のうちのいずれの個数のもの（個別に又は互いに組み合わせて）を含むか、これらから本質的になるか、又はこれらからなることが理解される。

同様に、ある群が、複数の要素の少なくとも１つの群及びその組み合わせからなるものとして記載されている場合は常に、上記群は、列記されている要素のうちのいずれの個数のもの（個別に又は互いに組み合わせて）からなってよいことが理解される。特段明記されていない限り、値の範囲が記載されている場合、これは上記範囲の上限及び下限を含む。本明細書中で使用される場合、不定冠詞「ａ」及び「ａｎ」、並びにこれに対応する定冠詞「ｔｈｅ」は、特段明記されていない限り、「少なくとも１つの（ａｔ ｌｅａｓｔ ｏｎｅ）」又は「１つ以上の（ｏｎｅ ｏｒ ｍｏｒｅ）」を意味する。

本説明は多くの詳細を含み得るが、これらは本開示の範囲に対する限定として解釈されるべきではなく、むしろ特定の実施形態に固有であり得る特徴の説明として解釈されるべきである。別個の複数の実施形態に関連してこれまでに説明した特定の複数の特徴は、ある単一の実施形態において組み合わせて実装してもよい。反対に、ある単一の実施形態に関連して説明されている様々な複数の特徴を、複数の実施形態に別個に又はいずれの適切な部分的組み合わせにおいて実装してもよい。更に、上では複数の特徴が特定の組み合わせで説明され、更には初めにはこれらの組み合わせ自体が請求されているものの、場合によっては請求されている組み合わせからの１つ又は複数の特徴をこの組み合わせから実行してよく、請求されている組み合わせは部分的組み合わせ又は部分的組み合わせの変形も対象とし得る。

同様に、図面においては複数の操作が特定の順序で示されているものの、これは、所望の結果を達成するために、これらの操作を図示した特定の順序若しくはある順序で実施すること、又は全ての図示した操作を実施することが要求されるものと解釈されるべきではない。特定の状況において、マルチタスク動作及び並列処理が有利となり得る。

本開示では、範囲は「約（ａｂｏｕｔ）」ある特定の値から、及び／又は「約」別の特定の値まで、として表現できる。このような範囲が表現されている場合、例は、上記ある特定の値から及び／又は上記別の特定の値までを含む。同様に、先行詞「約（ａｂｏｕｔ）」を用いて値を近似値として表現している場合、特定の値が別の態様を形成するものと理解されることになる。更に、各範囲の終端は、他の終端との相関においても他の終端とは独立しても重要であることが理解されるだろう。

また、本開示の詳細な記載は、本開示の構成要素が特定の様式で機能するよう「構成（ｃｏｎｆｉｇｕｒｅｄ）」又は「適合（ａｄａｐｔｅｄ）」されていることを意味するものであることにも留意されたい。これに関して、上記詳細な説明が使用目的の詳述ではなく構造に関する詳述である場合、上述のような構成要素は、特定の特性を具現化するよう、又は特定の様式で機能するよう、「構成」又は「適合」されている。より具体的には、構成要素が「構成」又は「適合」されている様式に関する本開示での言及は、構成要素の既存の物理的条件を示しており、それ自体が構成要素の構造的特徴の厳密な詳述として理解されるべきものである。

図示した様々な構成及び実施形態によって示されているように、ヘッドアップディスプレイ用の様々なガラス系構造について説明した。

本開示の態様（１）によると、凹形状を有する第１の大面；上記第１の大面の反対側の、凸形状を有する第２の大面；及び上記第１の大面と上記第２の大面とを接続する小面を備える、ヘッドアップディスプレイ（ＨＵＤ）ミラー基板が提供され、上記第１の大面は、３ｎｍ以下である第１の表面粗度Ｒａ、及び３０ｎｍ未満である最大（ＰＶ）粗度を示し、上記ミラー基板はガラス又はガラスセラミック材料で構成される。

本開示の態様（２）によると、上記ミラー基板が、上記ミラー基板が湾曲状態である間に切断、成形、面取り加工、又は研磨されない、縁部を有する、態様（１）に記載のＨＵＤミラー基板が提供される。

本開示の態様（３）によると、上記小面が、面取り部を備える断面縁部プロファイルを備える、態様（１）又は（２）に記載のＨＵＤミラー基板が提供される。

本開示の態様（４）によると、上記面取り部がＣ面取り部又はＲ面取り部である、態様（３）に記載のＨＵＤミラー基板が提供される。

本開示の態様（５）によると、上記Ｃ面取り部が０．１ｍｍ以上、又は０．３ｍｍ以上である、態様（４）に記載のＨＵＤミラー基板が提供される。

本開示の態様（６）によると、上記Ｒ面取り部が０．５ｍｍ以上である、態様（４）又は（５）に記載のＨＵＤミラー基板が提供される。

本開示の態様（７）によると、上記ミラー基板が、平面図において、丸みを帯びた隅を備える、態様（１）～（６）のいずれかに記載のＨＵＤミラー基板が提供される。

本開示の態様（８）によると、上記ミラー基板の上記丸みを帯びた隅が、上記ミラー基板が湾曲状態である間は成形又は研磨されない、態様（７）に記載のＨＵＤミラー基板が提供される。

本開示の態様（９）によると、上記凹面が非球面形状を有する、態様（１）～（８）のいずれかに記載のＨＵＤミラー基板が提供される。

本開示の態様（１０）によると、上記凸面及び上記凹面が対称な上記面取り部を備える、態様（１）～（９）のいずれかに記載のＨＵＤミラー基板が提供される。

本開示の態様（１１）によると、上記ミラー基板が：約２００ｍｍ～約４００ｍｍの長さ、及び約１００ｍｍ～約２５０ｍｍの幅；約２５０ｍｍ～約３５０ｍｍの長さ、及び約１００ｍｍ～約２００ｍｍの幅；約３００ｍｍ～約３５０ｍｍの長さ、及び約１５０ｍｍ～約２００ｍｍの幅；又は約２９０ｍｍ～約２９５ｍｍの長さ、及び約１３０ｍｍ～約１３５ｍｍの幅を有する、態様（１）～（１０）のいずれかに記載のＨＵＤミラー基板が提供される。

本開示の態様（１２）によると、上記ミラー基板が、上記凹面において、１００μｍ未満、又は５０μｍ未満の輪郭最大（ＰＶ）形状精度を有する、態様（１）～（１１）のいずれかに記載のＨＵＤミラー基板が提供される。

本開示の態様（１３）によると、上記ミラー基板が、上記凹面において、１０ｍｍあたり１μｍ未満の算術平均うねりＷａを有する、態様（１）～（１２）のいずれかに記載のＨＵＤミラー基板が提供される。

本開示の態様（１４）によると、上記凸面が、３０ｎｍ未満の表面粗度Ｒａ、及び１μｍ未満の最大（ＰＶ）粗度を有する、態様（１）～（１３）のいずれかに記載のＨＵＤミラー基板が提供される。

本開示の態様（１５）によると、上記凸面が、２０ｎｍ未満の表面粗度Ｒａ、及び３００ｎｍ未満の最大（ＰＶ）粗度を有する、態様（１４）に記載のＨＵＤミラー基板が提供される。

本開示の態様（１６）によると、上記凸面が、上記凸面の縁部から２ｍｍ以内に、溝型の真空孔の痕跡を備える、態様（１）～（１５）のいずれかに記載のＨＵＤミラー基板が提供される。

本開示の態様（１７）によると、上記溝型の真空孔の痕跡が１μｍ未満の深さを有する、態様（１６）に記載のＨＵＤミラー基板が提供される。

本開示の態様（１８）によると、上記凸面が、上記溝型の真空孔の痕跡以外のいかなる真空孔の痕跡も有しない、態様（１６）に記載のＨＵＤミラー基板が提供される。

本開示の態様（１９）によると、上記凹面が、２ｎｍ未満、又は１ｎｍ未満の粗度Ｒａ、及び２０ｎｍ未満、１５ｎｍ未満、又は１２ｎｍ未満の最大（ＰＶ）粗度を有する、態様（１）～（１８）のいずれかに記載のＨＵＤミラー基板が提供される。

本開示の態様（２０）によると、上記ミラー基板が、上記第１の大面と上記第２の大面との間の距離として定義される厚さを備え、上記厚さは、約３．０ｍｍ以下であるか、約０．５ｍｍ～約３．０ｍｍであるか、約０．５ｍｍ～約１．０ｍｍであるか、又は約１．０ｍｍ～約３．０ｍｍである、態様（１）～（１９）のいずれかに記載のＨＵＤミラー基板が提供される。

本開示の態様（２１）によると、上記ガラス又はガラスセラミック材料が、ソーダライムガラス、アルミノシリケート、ボロアルミノシリケート、又はアルカリアルミノシリケートガラスを含む、態様（１）～（２０）のいずれかに記載のＨＵＤミラー基板が提供される。

本開示の態様（２２）によると、上記ガラス又はガラスセラミック材料が強化ガラス材料である、態様（１）～（２１）のいずれかに記載のＨＵＤミラー基板が提供される。

本開示の態様（２３）によると、上記ガラス又はガラスセラミック材料が化学強化されている、態様（２２）に記載のＨＵＤミラー基板が提供される。

本開示の態様（２４）によると、態様（１）～（２３）のいずれかに記載のＨＵＤミラー基板、及び上記ミラー基板の第１の大面上に配置された反射層を備える、３次元ＨＵＤミラーが提供される。

本開示の態様（２５）によると、３次元ミラーの成形方法が提供される。上記方法は、第１の大面、上記第１の大面の反対側の第２の大面、及び上記第１の大面と上記第２の大面とを接続する小面を備える、ミラープリフォームを提供するステップであって、上記ミラープリフォームはガラス又はガラスセラミック材料を含み、上記プリフォームの上記第１の大面及び上記第２の大面は２次元である、ステップ；湾曲支持面を有する成形装置上に、上記第２の大面が上記湾曲支持面に対面するように、上記ミラープリフォームを配置するステップ；並びに上記ミラープリフォームを上記湾曲支持面に形状一致させることにより、上記第２の大面に対応する凸面と、上記第１の大面に対応する凹面であって、上記凹面は第１の曲率半径を有する、凹面とを有する、湾曲ミラー基板を形成するステップを含み、形状一致させる上記ステップの後、上記凹面は、３ｎｍ未満の粗度Ｒａ、及び３０ｎｍ未満の最大（ＰＶ）粗度を有する。

本開示の態様（２６）によると、上記湾曲ミラー基板が、形状一致させる上記ステップの間又は後には切断、成形、面取り加工、又は研磨されない、縁部を有する、態様（２５）に記載の方法が提供される。

本開示の態様（２７）によると、上記小面が、上記湾曲ミラー基板の断面縁部プロファイルと同一の断面縁部プロファイルを備える、態様（２５）又は（２６）に記載の方法が提供される。

本開示の態様（２８）によると、上記ミラープリフォームの縁部プロファイルが、上記小面の第１の大面側、及び上記小面の第２の大面側のうちの少なくとも一方に、面取り部を備える、態様（２５）～（２７）のいずれかに記載の方法が提供される。

本開示の態様（２９）によると、上記面取り部がＣ面取り部又はＲ面取り部である、態様（２８）に記載の方法が提供される。

本開示の態様（３０）によると、上記Ｃ面取り部が０．１ｍｍ以上、又は０．３ｍｍ以上である、態様（２９）に記載の方法が提供される。

本開示の態様（３１）によると、上記Ｒ面取り部が０．５ｍｍ以上である、態様（２５）～（３０）のいずれかに記載の方法が提供される。

本開示の態様（３２）によると、形状一致させる上記ステップの後の上記小面の表面粗度が、形状一致させる上記ステップの前の上記小面の表面粗度の２％以内である、態様（２５）～（３１）のいずれかに記載の方法が提供される。

本開示の態様（３３）によると、形状一致させる上記ステップの後の上記小面の表面粗度が、形状一致させる上記ステップの前の上記小面の表面粗度と同一である、態様（３２）に記載の方法が提供される。

本開示の態様（３４）によると、上記ミラープリフォームが、平面図で見た場合、丸みを帯びた隅を備える、態様（２５）～（３３）のいずれかに記載の方法が提供される。

本開示の態様（３５）によると、上記湾曲ミラー基板が、上記ミラープリフォームの上記丸みを帯びた隅と同一である、丸みを帯びた隅を備える、態様（３４）に記載の方法が提供される。

本開示の態様（３６）によると、上記湾曲ミラー基板の上記丸みを帯びた隅が、形状一致させる上記ステップの間又は後には成形又は研磨されない、態様（３５）に記載の方法が提供される。

本開示の態様（３７）によると、上記２次元ミラープリフォームの上記小面を加工して、上記湾曲ミラー基板の所定の縁部プロファイルを達成するステップであって、上記加工は、切断、面取り加工、及び研磨のうちの少なくとも１つを含む、ステップを更に含む、態様（２５）～（３６）のいずれかに記載の方法が提供される。

本開示の態様（３８）によると、上記凹面が非球面形状を有する、態様（２５）～（３７）のいずれかに記載の方法が提供される。

本開示の態様（３９）によると、上記凸面及び上記凹面が、対称な上記面取り部を備える、態様（２５）～（３８）のいずれかに記載の方法が提供される。

本開示の態様（４０）によると、上記湾曲ミラー基板が：約２００ｍｍ～約４００ｍｍの長さ、及び約１００ｍｍ～約２５０ｍｍの幅；約２５０ｍｍ～約３５０ｍｍの長さ、及び約１００ｍｍ～約２００ｍｍの幅；約３００ｍｍ～約３５０ｍｍの長さ、及び約１５０ｍｍ～約２００ｍｍの幅；又は約２９０ｍｍ～約２９５ｍｍの長さ、及び約１３０ｍｍ～約１３５ｍｍの幅を有する、態様（２５）～（３９）のいずれかに記載の方法が提供される。

本開示の態様（４１）によると、上記湾曲ミラー基板が、上記凹面において、１００μｍ未満、又は５０μｍ未満の輪郭最大（ＰＶ）形状精度を有する、態様（２５）～（４０）のいずれかに記載の方法が提供される。

本開示の態様（４２）によると、上記湾曲ミラー基板が、上記凹面において、１０ｍｍあたり１μｍ未満の算術平均うねりＷａを有する、態様（２５）～（４１）のいずれかに記載の方法が提供される。

本開示の態様（４３）によると、上記湾曲ミラー基板が、上記凹面において、３０ｎｍ未満の最大粗度深さＲ_ｍａｘを有する、態様（２５）～（４２）のいずれかに記載の方法が提供される。

本開示の態様（４４）によると、上記凸面が、３０ｎｍ未満の表面粗度Ｒａ、及び１μｍ未満の最大（ＰＶ）粗度を有する、態様（２５）～（４３）のいずれかに記載の方法が提供される。

本開示の態様（４５）によると、上記凸面が、２０ｎｍ未満の表面粗度Ｒａ、及び３００ｎｍ未満の最大（ＰＶ）粗度を有する、態様（４４）に記載の方法が提供される。

本開示の態様（４６）によると、上記湾曲支持面が溝型の真空孔を備える、態様（２５）～（４５）のいずれかに記載の方法が提供される。

本開示の態様（４７）によると、上記ミラープリフォームを上記成形装置上に配置したとき、上記溝型の真空孔が上記大面の縁部の２ｍｍ以内である、態様（４６）に記載の方法が提供される。

本開示の態様（４８）によると、形状一致させる上記ステップの後、上記凸面は、上記縁部全体に沿って、上記凸面の縁部から２ｍｍ以内に、溝型の真空孔の痕跡を備える、態様（２５）～（４７）のいずれかに記載の方法が提供される。

本開示の態様（４９）によると、上記溝型の真空孔の痕跡が、１μｍ未満の深さを有する、態様（４８）に記載の方法が提供される。

本開示の態様（５０）によると、上記凸面が、上記溝型の真空孔の痕跡以外のいかなる真空孔の痕跡も有しない、態様（４８）又は（４９）に記載の方法が提供される。

本開示の態様（５１）によると、上記凹面が、２ｎｍ未満、又は１ｎｍ未満の粗度Ｒａ、及び２０ｎｍ未満、１５ｎｍ未満、又は１２ｎｍ未満の最大（ＰＶ）粗度を有する、態様（２５）～（５０）のいずれかに記載の方法が提供される。

本開示の態様（５２）によると、上記ミラープリフォームが、上記第１の大面と上記第２の大面との間の距離として定義される厚さを備え、上記厚さは、約３．０ｍｍ以下であるか、約０．５ｍｍ～約３．０ｍｍであるか、約０．５ｍｍ～約１．０ｍｍであるか、又は約１．０ｍｍ～約３．０ｍｍである、態様（２５）～（５１）のいずれかに記載の方法が提供される。

本開示の態様（５３）によると、形状一致させる上記ステップが、上記ミラープリフォームのガラス転移温度未満の温度で実施される、態様（２５）～（５２）のいずれかに記載の方法が提供される。

本開示の態様（５４）によると、上記ミラープリフォーム又は上記湾曲ミラー基板の温度が、上記形状一致させる上記ステップの間又は後に、上記ミラープリフォームのガラス転移温度を超えて上昇しない、態様（２５）～（５３）のいずれかに記載の方法が提供される。

本開示の態様（５５）によると、上記ガラス又はガラスセラミック材料が、ソーダライムガラス、アルミノシリケート、ボロアルミノシリケート、又はアルカリアルミノシリケートガラスを含む、態様（２５）～（５４）のいずれかに記載の方法が提供される。

本開示の態様（５６）によると、上記ガラス又はガラスセラミック材料が強化ガラス材料である、態様（２５）～（５５）のいずれかに記載の方法が提供される。

本開示の態様（５７）によると、上記ガラス又はガラスセラミック材料が化学強化されている、態様（５６）に記載の方法が提供される。

本開示の態様（５８）によると、３次元ミラーの成形方法が提供され、上記方法は：態様（２５）～（５７）のいずれかに記載の方法に従って３次元ミラー基板を成形するステップ；及び第１の大面上に反射層を配置するステップを含む。

本開示の好ましい実施形態について説明したが、説明した実施形態は単なる例示であること、並びに本開示の範囲は、当業者が本開示を熟読した場合に当然発生することになる均等物、多数の変形例及び修正例の全範囲が与えられた場合に、添付の請求項によってのみ定義されることになることを理解するべきである。

以下、本発明の好ましい実施形態を項分け記載する。

実施形態１
凹形状を有する第１の大面；上記第１の大面の反対側の、凸形状を有する第２の大面；及び上記第１の大面と上記第２の大面とを接続する小面を備える、ヘッドアップディスプレイ（ＨＵＤ）ミラー基板であって、
上記第１の大面は、３ｎｍ以下である第１の表面粗度Ｒａ、及び３０ｎｍ未満である最大（ＰＶ）粗度を示し、上記ミラー基板はガラス又はガラスセラミック材料で構成される、ヘッドアップディスプレイ（ＨＵＤ）ミラー基板。

実施形態２
上記ミラー基板は、上記ミラー基板が湾曲状態である間に切断、成形、面取り加工、又は研磨されない、縁部を有する、実施形態１に記載のＨＵＤミラー基板。

実施形態３
上記小面は、面取り部を備える断面縁部プロファイルを備える、実施形態１又は２に記載のＨＵＤミラー基板。

実施形態４
上記面取り部はＣ面取り部又はＲ面取り部である、実施形態３に記載のＨＵＤミラー基板。

実施形態５
上記Ｃ面取り部は０．１ｍｍ以上、又は０．３ｍｍ以上である、実施形態４に記載のＨＵＤミラー基板。

実施形態６
上記Ｒ面取り部は０．５ｍｍ以上である、実施形態４又は５に記載のＨＵＤミラー基板。

実施形態７
上記ミラー基板は、平面図において、丸みを帯びた隅を備える、実施形態１～６のいずれか１つに記載のＨＵＤミラー基板。

実施形態８
上記ミラー基板の上記丸みを帯びた隅は、上記ミラー基板が湾曲状態である間は成形又は研磨されない、実施形態７に記載のＨＵＤミラー基板。

実施形態９
上記凹面は非球面形状を有する、実施形態１～８のいずれか１つに記載のＨＵＤミラー基板。

実施形態１０
上記凸面及び上記凹面は対称な上記面取り部を備える、実施形態１～９のいずれか１つに記載のＨＵＤミラー基板。

実施形態１１
上記ミラー基板は：約２００ｍｍ～約４００ｍｍの長さ、及び約１００ｍｍ～約２５０ｍｍの幅；約２５０ｍｍ～約３５０ｍｍの長さ、及び約１００ｍｍ～約２００ｍｍの幅；約３００ｍｍ～約３５０ｍｍの長さ、及び約１５０ｍｍ～約２００ｍｍの幅；又は約２９０ｍｍ～約２９５ｍｍの長さ、及び約１３０ｍｍ～約１３５ｍｍの幅を有する、実施形態１～１０のいずれか１つに記載のＨＵＤミラー基板。

実施形態１２
上記ミラー基板は、上記凹面において、１００μｍ未満、又は５０μｍ未満の輪郭最大（ＰＶ）形状精度を有する、実施形態１～１１のいずれか１つに記載のＨＵＤミラー基板。

実施形態１３
上記ミラー基板は、上記凹面において、１０ｍｍあたり１μｍ未満の算術平均うねりＷａを有する、実施形態１～１２のいずれか１つに記載のＨＵＤミラー基板。

実施形態１４
上記凸面は、３０ｎｍ未満の表面粗度Ｒａ、及び１μｍ未満の最大（ＰＶ）粗度を有する、実施形態１～１３のいずれか１つに記載のＨＵＤミラー基板。

実施形態１５
上記凸面は、２０ｎｍ未満の表面粗度Ｒａ、及び３００ｎｍ未満の最大（ＰＶ）粗度を有する、実施形態１４に記載のＨＵＤミラー基板。

実施形態１６
上記凸面は、上記凸面の縁部から２ｍｍ以内に、溝型の真空孔の痕跡を備える、実施形態１～１５のいずれか１つに記載のＨＵＤミラー基板。

実施形態１７
上記溝型の真空孔の痕跡は１μｍ未満の深さを有する、実施形態１６に記載のＨＵＤミラー基板。

実施形態１８
上記凸面は、上記溝型の真空孔の痕跡以外のいかなる真空孔の痕跡も有しない、実施形態１６に記載のＨＵＤミラー基板。

実施形態１９
上記凹面は、２ｎｍ未満、又は１ｎｍ未満の粗度Ｒａ、及び２０ｎｍ未満、１５ｎｍ未満、又は１２ｎｍ未満の最大（ＰＶ）粗度を有する、実施形態１～１８のいずれか１つに記載のＨＵＤミラー基板。

実施形態２０
上記ミラー基板は、上記第１の大面と上記第２の大面との間の距離として定義される厚さを備え、上記厚さは、約３．０ｍｍ以下であるか、約０．５ｍｍ～約３．０ｍｍであるか、約０．５ｍｍ～約１．０ｍｍであるか、又は約１．０ｍｍ～約３．０ｍｍである、実施形態１～１９のいずれか１つに記載のＨＵＤミラー基板。

実施形態２１
上記ガラス又はガラスセラミック材料は、ソーダライムガラス、アルミノシリケート、ボロアルミノシリケート、又はアルカリアルミノシリケートガラスを含む、実施形態１～２０のいずれか１つに記載のＨＵＤミラー基板。

実施形態２２
上記ガラス又はガラスセラミック材料は強化ガラス材料である、実施形態１～２１のいずれか１つに記載のＨＵＤミラー基板。

実施形態２３
上記ガラス又はガラスセラミック材料は化学強化されている、実施形態２２に記載のＨＵＤミラー基板。

実施形態２４
実施形態１～２３のいずれか１つに記載のＨＵＤミラー基板；及び
上記ミラー基板の第１の大面上に配置された反射層
を備える、３次元ＨＵＤミラー。

実施形態２５
３次元ミラーの成形方法であって、
上記方法は：
第１の大面、上記第１の大面の反対側の第２の大面、及び上記第１の大面と上記第２の大面とを接続する小面を備える、ミラープリフォームを提供するステップであって、上記ミラープリフォームはガラス又はガラスセラミック材料を含み、上記プリフォームの上記第１の大面及び上記第２の大面は２次元である、ステップ；
湾曲支持面を有する成形装置上に、上記第２の大面が上記湾曲支持面に対面するように、上記ミラープリフォームを配置するステップ；並びに
上記ミラープリフォームを上記湾曲支持面に形状一致させることにより、上記第２の大面に対応する凸面と、上記第１の大面に対応する凹面であって、上記凹面は第１の曲率半径を有する、凹面とを有する、湾曲ミラー基板を形成するステップ
を含み、
形状一致させる上記ステップの後、上記凹面は、３ｎｍ未満の粗度Ｒａ、及び３０ｎｍ未満の最大（ＰＶ）粗度を有する、方法。

実施形態２６
上記湾曲ミラー基板は、形状一致させる上記ステップの間又は後には切断、成形、面取り加工、又は研磨されない、縁部を有する、実施形態２５に記載の方法。

実施形態２７
上記小面は、上記湾曲ミラー基板の断面縁部プロファイルと同一の断面縁部プロファイルを備える、実施形態２５又は２６に記載の方法。

実施形態２８
上記ミラープリフォームの縁部プロファイルは、上記小面の第１の大面側、及び上記小面の第２の大面側のうちの少なくとも一方に、面取り部を備える、実施形態２５～２７のいずれか１つに記載の方法。

実施形態２９
上記面取り部はＣ面取り部又はＲ面取り部である、実施形態２８に記載の方法。

実施形態３０
上記Ｃ面取り部は０．１ｍｍ以上、又は０．３ｍｍ以上である、実施形態２９に記載の方法。

実施形態３１
上記Ｒ面取り部は０．５ｍｍ以上である、実施形態２９又は３０のいずれか１つに記載の方法。

実施形態３２
形状一致させる上記ステップの後の上記小面の表面粗度は、形状一致させる上記ステップの前の上記小面の表面粗度の２％以内である、実施形態２５～３１のいずれか１つに記載の方法。

実施形態３３
形状一致させる上記ステップの後の上記小面の表面粗度は、形状一致させる上記ステップの前の上記小面の表面粗度と同一である、実施形態３２に記載の方法。

実施形態３４
上記ミラープリフォームは、平面図で見た場合、丸みを帯びた隅を備える、実施形態２５～３３のいずれか１つに記載の方法。

実施形態３５
上記湾曲ミラー基板は、上記ミラープリフォームの上記丸みを帯びた隅と同一である、丸みを帯びた隅を備える、実施形態３４に記載の方法。

実施形態３６
上記湾曲ミラー基板の上記丸みを帯びた隅は、形状一致させる上記ステップの間又は後には成形又は研磨されない、実施形態３５に記載の方法。

実施形態３７
上記２次元ミラープリフォームの上記小面を加工して、上記湾曲ミラー基板の所定の縁部プロファイルを達成するステップであって、上記加工は、切断、面取り加工、及び研磨のうちの少なくとも１つを含む、ステップを更に含む、実施形態２５～３６のいずれか１つに記載の方法。

実施形態３８
上記凹面は非球面形状を有する、実施形態２５～３７のいずれか１つに記載の方法。

実施形態３９
上記凸面及び上記凹面は、対称な上記面取り部を備える、実施形態２５～３８のいずれか１つに記載の方法。

実施形態４０
上記湾曲ミラー基板は：約２００ｍｍ～約４００ｍｍの長さ、及び約１００ｍｍ～約２５０ｍｍの幅；約２５０ｍｍ～約３５０ｍｍの長さ、及び約１００ｍｍ～約２００ｍｍの幅；約３００ｍｍ～約３５０ｍｍの長さ、及び約１５０ｍｍ～約２００ｍｍの幅；又は約２９０ｍｍ～約２９５ｍｍの長さ、及び約１３０ｍｍ～約１３５ｍｍの幅を有する、実施形態２５～３９のいずれか１つに記載の方法。

実施形態４１
上記湾曲ミラー基板は、上記凹面において、１００μｍ未満、又は５０μｍ未満の輪郭最大（ＰＶ）形状精度を有する、実施形態２５～４０のいずれか１つに記載の方法。

実施形態４２
上記湾曲ミラー基板は、上記凹面において、１０ｍｍあたり１μｍ未満の算術平均うねりＷａを有する、実施形態２５～４１のいずれか１つに記載の方法。

実施形態４３
上記湾曲ミラー基板は、上記凹面において、３０ｎｍ未満の最大粗度深さＲ_ｍａｘを有する、実施形態２５～４２のいずれか１つに記載の方法。

実施形態４４
上記凸面は、３０ｎｍ未満の表面粗度Ｒａ、及び１μｍ未満の最大（ＰＶ）粗度を有する、実施形態２５～４３のいずれか１つに記載の方法。

実施形態４５
上記凸面は、２０ｎｍ未満の表面粗度Ｒａ、及び３００ｎｍ未満の最大（ＰＶ）粗度を有する、実施形態４４に記載の方法。

実施形態４６
上記湾曲支持面は溝型の真空孔を備える、実施形態２５～４５のいずれか１つに記載の方法。

実施形態４７
上記ミラープリフォームを上記成形装置上に配置したとき、上記溝型の真空孔は上記大面の縁部の２ｍｍ以内である、実施形態４６に記載の方法。

実施形態４８
形状一致させる上記ステップの後、上記凸面は、上記縁部全体に沿って、上記凸面の縁部から２ｍｍ以内に、溝型の真空孔の痕跡を備える、実施形態２５～４７のいずれか１つに記載の方法。

実施形態４９
上記溝型の真空孔の痕跡は、１μｍ未満の深さを有する、実施形態４８に記載の方法。

実施形態５０
上記凸面は、上記溝型の真空孔の痕跡以外のいかなる真空孔の痕跡も有しない、実施形態４８又は４９に記載の方法。

実施形態５１
上記凹面は、２ｎｍ未満、又は１ｎｍ未満の粗度Ｒａ、及び２０ｎｍ未満、１５ｎｍ未満、又は１２ｎｍ未満の最大（ＰＶ）粗度を有する、実施形態２５～５０のいずれか１つに記載の方法。

実施形態５２
上記ミラープリフォームは、上記第１の大面と上記第２の大面との間の距離として定義される厚さを備え、上記厚さは、約３．０ｍｍ以下であるか、約０．５ｍｍ～約３．０ｍｍであるか、約０．５ｍｍ～約１．０ｍｍであるか、又は約１．０ｍｍ～約３．０ｍｍである、実施形態２５～５１のいずれか１つに記載の方法。

実施形態５３
形状一致させる上記ステップは、上記ミラープリフォームのガラス転移温度未満の温度で実施される、実施形態２５～５２のいずれか１つに記載の方法。

実施形態５４
上記ミラープリフォーム又は上記湾曲ミラー基板の温度は、上記形状一致させる上記ステップの間又は後に、上記ミラープリフォームのガラス転移温度を超えて上昇しない、実施形態２５～５３のいずれか１つに記載の方法。

実施形態５５
上記ガラス又はガラスセラミック材料は、ソーダライムガラス、アルミノシリケート、ボロアルミノシリケート、又はアルカリアルミノシリケートガラスを含む、実施形態２５～５４のいずれか１つに記載の方法。

実施形態５６
上記ガラス又はガラスセラミック材料は強化ガラス材料である、実施形態２５～５５のいずれか１つに記載の方法。

実施形態５７
上記ガラス又はガラスセラミック材料は化学強化されている、実施形態５６に記載の方法。

実施形態５８
３次元ミラーの成形方法であって、
上記方法は：
実施形態２５～５７のいずれか１つに記載の方法に従って３次元ミラー基板を成形するステップ；及び
第１の大面上に反射層を配置するステップ
を含む、方法。

１００ ＨＵＤシステム
１０２ ピクチャ生成ユニット（ＰＧＵ）
１０３ ディスプレイ
１０４ 平面ミラー
１０６ 湾曲ミラー
１０８ フロントガラス
１１０、２１０ ダッシュボード
１１２ 投影領域
２０８ コンバイナ
３００ ミラー
３０８ 反射面
３５０ オーバーサイズ２Ｄ基板
３５２ 経路
３５４、６００ ３Ｄミラー基板
３５６ 外側の廃ガラス
３５８、５０１ 隅
３６０ ３Ｄ ＨＵＤミラー
３６２ 第１の大面上の面取り部
３６３、５０４ 第１の大面
３６４ 第２の大面上の面取り部
３６５、５０６ 第２の大面
４００、４１０ ガラスシート
４０２ 凸状側部
４０４ 凹状側部
４０６ 縁部表面
４１２ 粗い縁部
４１４ 欠け
４１６、５０３ 縁部
４１８ 隅切り
５００、５０２ ミラープリフォーム
５０８、６０３ 小面
５１０ 第１の面取り部
５１２ 第２の面取り部
６０２ 第１の主面
６０４ 第２の主面
７００ 金型
７０２ 成形面
７０４ 溝型の真空孔
７０６ ハウジング

Claims (10)

1. 凹形状を有する第１の大面；前記第１の大面の反対側の、凸形状を有する第２の大面；及び前記第１の大面と前記第２の大面とを接続する小面を備える、ヘッドアップディスプレイ（ＨＵＤ）ミラー基板であって、
   前記第１の大面は、３ｎｍ以下である第１の表面粗度Ｒａ、及び３０ｎｍ未満である最大（ＰＶ）粗度を示し、前記ミラー基板はガラス又はガラスセラミック材料で構成される、ヘッドアップディスプレイ（ＨＵＤ）ミラー基板。
2. 前記ミラー基板は、前記ミラー基板が湾曲状態である間に切断、成形、面取り加工、又は研磨されない、縁部を有する、請求項１に記載のＨＵＤミラー基板。
3. 前記小面は、面取り部を備える断面縁部プロファイルを備える、請求項１又は２に記載のＨＵＤミラー基板。
4. 前記凹面は非球面形状を有する、請求項１～３のいずれか１項に記載のＨＵＤミラー基板。
5. 前記凸面及び前記凹面は対称な前記面取り部を備える、請求項１～４のいずれか１項に記載のＨＵＤミラー基板。
6. 前記ミラー基板は、約２００ｍｍ～約４００ｍｍの長さ、及び約１００ｍｍ～約２５０ｍｍの幅を有し、
   前記ミラー基板は、前記第１の大面と前記第２の大面との間の距離として定義された厚さを有し、前記厚さは約０．５ｍｍ～約３．０ｍｍである、請求項１～５のいずれか１項に記載のＨＵＤミラー基板。
7. 前記ミラー基板は：
   前記凹面において、１００μｍ未満、又は５０μｍ未満の輪郭最大（ＰＶ）形状精度；
   前記凹面において、１０ｍｍあたり１μｍ未満の算術平均うねりＷａ；
   ３０ｎｍ未満の表面粗度Ｒａ、及び１μｍ未満の最大（ＰＶ）粗度
   のうちの少なくとも１つを有する、請求項１～６のいずれか１項に記載のＨＵＤミラー基板。
8. 前記凸面は、前記凸面の縁部から２ｍｍ以内に、溝型の真空孔の痕跡を備える、請求項１～７のいずれか１項に記載のＨＵＤミラー基板。
9. 前記溝型の真空孔の痕跡は１μｍ未満の深さを有する、請求項８に記載のＨＵＤミラー基板。
10. 請求項１～９のいずれか１項に記載のＨＵＤミラー基板；及び
    前記ミラー基板の第１の大面上に配置された反射層
    を備える、３次元ＨＵＤミラー。

Images