JPH0529081B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0529081B2 JPH0529081B2 JP61097000A JP9700086A JPH0529081B2 JP H0529081 B2 JPH0529081 B2 JP H0529081B2 JP 61097000 A JP61097000 A JP 61097000A JP 9700086 A JP9700086 A JP 9700086A JP H0529081 B2 JPH0529081 B2 JP H0529081B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- layer
- refractive index
- thickness
- black
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 58
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 16
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 15
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 13
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 8
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 5
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 claims description 5
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 4
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 claims description 4
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 32
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 10
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 8
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 3
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000737 Duralumin Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000423 chromium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 210000003298 dental enamel Anatomy 0.000 description 1
- 239000002305 electric material Substances 0.000 description 1
- -1 enamel Chemical compound 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
- Optical Filters (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、照明器具に用いられる無熱反射鏡の
製造方法に関するものである。
製造方法に関するものである。
白熱電球、カーボンアークなどの光源に用いた
スタジオ投光器等の高照度照明器具や映写機の光
源部には、金属膜または金属板を用いた反射鏡が
使われることが多いが、この反射鏡は、赤外線も
よく反射するので、被照射面の著しい温度上昇を
招いたり、照射される人に耐え難い暑さを感じさ
せたりするという欠点がある。
スタジオ投光器等の高照度照明器具や映写機の光
源部には、金属膜または金属板を用いた反射鏡が
使われることが多いが、この反射鏡は、赤外線も
よく反射するので、被照射面の著しい温度上昇を
招いたり、照射される人に耐え難い暑さを感じさ
せたりするという欠点がある。
一方、ガラスを基材としその表面に多層反射膜
を設けたいわゆるコールドミラー（冷光鏡）は、
可視光線を反射するが赤外線は透過する性質を持
つので、金属製反射鏡のように被照射面の温度を
上昇させることはないが、金属製のもののように
薄くでくないから、重たくて扱いにくく、また破
損し易いから、安全性の点でも問題がある。
を設けたいわゆるコールドミラー（冷光鏡）は、
可視光線を反射するが赤外線は透過する性質を持
つので、金属製反射鏡のように被照射面の温度を
上昇させることはないが、金属製のもののように
薄くでくないから、重たくて扱いにくく、また破
損し易いから、安全性の点でも問題がある。
而して、実願昭59−145638号（実開昭61−
061501号）には、金属基板の表面を黒色面とし、
その上に赤外線を透過し可視光線を反射させるよ
うな該電体物質による多層コーテイング層を設け
てなる冷光反射鏡が開示されている。然しなが
ら、その黒色面は金属基板に黒色メツキ等を施し
て成るものであるため、基板が金属に限定される
と共に、黒色面と多層コーテイング層との結合力
が充分でなく、温度変化の激しい使用条件下で剥
離等の問題を生じ易かつた。
061501号）には、金属基板の表面を黒色面とし、
その上に赤外線を透過し可視光線を反射させるよ
うな該電体物質による多層コーテイング層を設け
てなる冷光反射鏡が開示されている。然しなが
ら、その黒色面は金属基板に黒色メツキ等を施し
て成るものであるため、基板が金属に限定される
と共に、黒色面と多層コーテイング層との結合力
が充分でなく、温度変化の激しい使用条件下で剥
離等の問題を生じ易かつた。
本発明は、上記の問題点を解決するためなされ
たものであり、その目的とするところは、従来の
金属製反射鏡とコールドミラーの欠点を解消する
と共に、両者の長所を兼備した無熱反射鏡の製造
方法を提供しようとするものである。
たものであり、その目的とするところは、従来の
金属製反射鏡とコールドミラーの欠点を解消する
と共に、両者の長所を兼備した無熱反射鏡の製造
方法を提供しようとするものである。
上記の目的を達成するため、本発明に係る無熱
反射鏡の製造方法は、制限された量の酸素の供給
下における真空蒸着法により、金属またはセラミ
ツクスよりなる基材の表面にケイ素、チタンおよ
びクロムからなる群から選ばれた元素の黒色酸化
物の薄膜を150nmないし400nmの厚さに形成する
ステツプと、上記黒色酸化物の表面に、真空蒸着
法により、厚さ135nmないし140nmの透明な高屈
折率膜と低屈折率膜とを交互に11層ないし23層積
層形成するステツプと、から成ることを特徴とす
る。
反射鏡の製造方法は、制限された量の酸素の供給
下における真空蒸着法により、金属またはセラミ
ツクスよりなる基材の表面にケイ素、チタンおよ
びクロムからなる群から選ばれた元素の黒色酸化
物の薄膜を150nmないし400nmの厚さに形成する
ステツプと、上記黒色酸化物の表面に、真空蒸着
法により、厚さ135nmないし140nmの透明な高屈
折率膜と低屈折率膜とを交互に11層ないし23層積
層形成するステツプと、から成ることを特徴とす
る。
より具体的には、本発明において金属またはセ
ラミツクスよりなる基材の表面に真空蒸着の常法
によりケイ素、チタンもしくはクロムの酸化物の
薄膜を形成させるに当たり、通常の透明酸化物
（SiO2，TiO2またはCr2O3）の薄膜を形成させる
場合よりも酸素供給量を制限して真空蒸着を行な
う。この黒色酸化物の薄膜の微細構造は完全に解
明されてはいないが、漆黒で、光学顕微鏡で観察
する程度では緻密な組織のものであり、従来のメ
ツキ等による薄膜に比べて基材との結合力が強
く、堅固な黒色酸化物層が形成される。その膜厚
は、基材表面が完全に隠蔽される程度（通常150
〜400nm程度）に形成する。
ラミツクスよりなる基材の表面に真空蒸着の常法
によりケイ素、チタンもしくはクロムの酸化物の
薄膜を形成させるに当たり、通常の透明酸化物
（SiO2，TiO2またはCr2O3）の薄膜を形成させる
場合よりも酸素供給量を制限して真空蒸着を行な
う。この黒色酸化物の薄膜の微細構造は完全に解
明されてはいないが、漆黒で、光学顕微鏡で観察
する程度では緻密な組織のものであり、従来のメ
ツキ等による薄膜に比べて基材との結合力が強
く、堅固な黒色酸化物層が形成される。その膜厚
は、基材表面が完全に隠蔽される程度（通常150
〜400nm程度）に形成する。
次いで、赤外線透過性多層反射膜は、通常の真
空蒸着法により上記黒色酸化物の薄膜の表面に直
接形成する。この反射膜は、通常のコールドミラ
ーの表面に形成されている多層反射膜と同じもの
である。即ち、SiO2，TiO2，MgF2，Ge等から
なる透明な薄膜であつて屈折率の異なるもの２種
類を交互に、通常11〜23層程度積層して形成す
る。そして各層の厚さは、最大反射率が波長500
〜600nm、最適には約550nmの光において得られ
るように、且つ多層反射膜全体についてみたとき
の赤外線領域における反射率が約20％以下となる
ように選定する（最大反射率を示す波長λ0と単層
層厚ｄとの間には、周知の如くｄ＝λ0／４という
関係がある）。従つて、多層反射膜の各層の厚さ
は最適には、550／４≒138nm、従つて135nmな
いし140nm程度の範囲に設定するものである。
空蒸着法により上記黒色酸化物の薄膜の表面に直
接形成する。この反射膜は、通常のコールドミラ
ーの表面に形成されている多層反射膜と同じもの
である。即ち、SiO2，TiO2，MgF2，Ge等から
なる透明な薄膜であつて屈折率の異なるもの２種
類を交互に、通常11〜23層程度積層して形成す
る。そして各層の厚さは、最大反射率が波長500
〜600nm、最適には約550nmの光において得られ
るように、且つ多層反射膜全体についてみたとき
の赤外線領域における反射率が約20％以下となる
ように選定する（最大反射率を示す波長λ0と単層
層厚ｄとの間には、周知の如くｄ＝λ0／４という
関係がある）。従つて、多層反射膜の各層の厚さ
は最適には、550／４≒138nm、従つて135nmな
いし140nm程度の範囲に設定するものである。
上述のような黒色酸化物の薄膜および赤外線透
過性多層反射膜を支持する基材としては、金属で
はアルミニウム、銅、鋼、ジユラルミンなど、セ
ラミツクスではホウロウ、アルミナ質セラミツク
ス、ジルコニア質セラミツクスなどの、薄板もし
くは膜を用い、これら同士の、またはこれらと他
の材料との積層物を用いることもできる。基材
は、放物面状のどの反射鏡として必要な形状に成
型されたままのものでもよいが、必要に応じてそ
の背面に、放熱のためのフインまたは水冷機構を
付属させて過度の温度上昇を防ぐことが望まし
い。
過性多層反射膜を支持する基材としては、金属で
はアルミニウム、銅、鋼、ジユラルミンなど、セ
ラミツクスではホウロウ、アルミナ質セラミツク
ス、ジルコニア質セラミツクスなどの、薄板もし
くは膜を用い、これら同士の、またはこれらと他
の材料との積層物を用いることもできる。基材
は、放物面状のどの反射鏡として必要な形状に成
型されたままのものでもよいが、必要に応じてそ
の背面に、放熱のためのフインまたは水冷機構を
付属させて過度の温度上昇を防ぐことが望まし
い。
上記の如き本発明に係る製造方法によるとき
は、金属又はセラミツクスよりなる基材の表面
に、緻密な組織の黒色酸化物層が形成されると共
に、基材と黒色酸化物層、黒色酸化物層と多層反
射膜間の結合力が強く、過酷な使用条件での耐久
性に富んだ無熱反射鏡が得られる。このようにし
て得られた無熱反射鏡においては、赤外線透過性
多層反射膜が実質的に可視光線のみを反射して赤
外線を透過させ、透過した赤外線は、黒色酸化物
の薄膜で吸収されて熱エネルギーに変換され、こ
の熱エネルギーは基材に伝達された後、伝導また
は幅射により基材背面から放散される。
は、金属又はセラミツクスよりなる基材の表面
に、緻密な組織の黒色酸化物層が形成されると共
に、基材と黒色酸化物層、黒色酸化物層と多層反
射膜間の結合力が強く、過酷な使用条件での耐久
性に富んだ無熱反射鏡が得られる。このようにし
て得られた無熱反射鏡においては、赤外線透過性
多層反射膜が実質的に可視光線のみを反射して赤
外線を透過させ、透過した赤外線は、黒色酸化物
の薄膜で吸収されて熱エネルギーに変換され、こ
の熱エネルギーは基材に伝達された後、伝導また
は幅射により基材背面から放散される。
第１図は本発明に係る製造方法により製造され
る無熱反射鏡の一例における積層構造を示す断面
略図である。
る無熱反射鏡の一例における積層構造を示す断面
略図である。
基材１としては、例えば厚さ２mmのアルミニウ
ム板が用いられ、その表面に厚さ約200nmのチタ
ンの黒色酸化物の薄膜２を形成する。これは、制
限された量の酸素を供給しながらチタンを真空蒸
着することにより形成するものである。
ム板が用いられ、その表面に厚さ約200nmのチタ
ンの黒色酸化物の薄膜２を形成する。これは、制
限された量の酸素を供給しながらチタンを真空蒸
着することにより形成するものである。
次いで、黒色酸化物の薄膜２の上に赤外線透過
性多層反射膜３を形成する。この赤外線透過性多
層反射膜３は、屈折率2.3の酸化チタン膜４−１
ないし４−ｎと、屈折率1.38のフツ化マグネシウ
ム膜５−１ないし５−ｎとを交互に合計23層、真
空蒸着による多層反射膜形成の常法に従つて積層
形成するものである。そして酸化チタン膜４−１
ないし４−ｎおよびフツ化マグネシウム膜５−１
ないし５−ｎの各層の厚さは、それらによる光の
反射が波長約400〜700nmにおいて最大になるよ
うに、各単層の膜厚が約550／４≒138nm、即ち
135〜140nmの範囲において選定する。それによ
り、この反射鏡の光線反射率は、第２図に示した
ように、可視光線のほぼ全領域で約80％以上であ
るが、波長700nm以上の赤外線領域では約５％以
下となり、無熱反射鏡として好適な反射特性が得
られる。
性多層反射膜３を形成する。この赤外線透過性多
層反射膜３は、屈折率2.3の酸化チタン膜４−１
ないし４−ｎと、屈折率1.38のフツ化マグネシウ
ム膜５−１ないし５−ｎとを交互に合計23層、真
空蒸着による多層反射膜形成の常法に従つて積層
形成するものである。そして酸化チタン膜４−１
ないし４−ｎおよびフツ化マグネシウム膜５−１
ないし５−ｎの各層の厚さは、それらによる光の
反射が波長約400〜700nmにおいて最大になるよ
うに、各単層の膜厚が約550／４≒138nm、即ち
135〜140nmの範囲において選定する。それによ
り、この反射鏡の光線反射率は、第２図に示した
ように、可視光線のほぼ全領域で約80％以上であ
るが、波長700nm以上の赤外線領域では約５％以
下となり、無熱反射鏡として好適な反射特性が得
られる。
〔発明の効果〕
赤外線透過性多層反射膜を透過した赤外線を吸
収するための黒色膜としては、本発明による黒色
酸化物の薄膜のほかにも、黒色塗料による塗膜や
メツキ膜などが考えられるが、赤外線吸収能や耐
久性が十分でなく、また、その上に多層反射膜を
付けるのが困難であつたり、基材や多層反射膜と
の結合力が不足するという問題がある。
収するための黒色膜としては、本発明による黒色
酸化物の薄膜のほかにも、黒色塗料による塗膜や
メツキ膜などが考えられるが、赤外線吸収能や耐
久性が十分でなく、また、その上に多層反射膜を
付けるのが困難であつたり、基材や多層反射膜と
の結合力が不足するという問題がある。
これに対して本発明に従い、制限された量の酸
素の供給下における真空蒸着法によつて形成され
るケイ素、チタンおよびクロムからなる群から選
ばれた元素の黒色酸化物の薄膜にはそのような問
題がなく、堅固で結合力の高い理想的な赤外線吸
収膜となるから、この膜を利用することにより、
金属またはセラミツクスを基材として耐久性に優
れた実用的な無熱反射鏡が得られるものである。
素の供給下における真空蒸着法によつて形成され
るケイ素、チタンおよびクロムからなる群から選
ばれた元素の黒色酸化物の薄膜にはそのような問
題がなく、堅固で結合力の高い理想的な赤外線吸
収膜となるから、この膜を利用することにより、
金属またはセラミツクスを基材として耐久性に優
れた実用的な無熱反射鏡が得られるものである。
本発明に係る製造方法によつて製造された無熱
反射鏡は、上述のような構成と作用に基づき、コ
ールドミラーと同様に赤外線の反射が最小限度に
抑えられるから、これを用いた照明器具は被照射
面の温度上昇が極めて少なく、照明されるものが
人の場合は暑さを感じさせないものとなる。一
方、基材として金属またはセラミツクスのいずれ
をも使用でき、コールドミラーよりも軽量で扱い
易く、また丈夫で破損のおそれがないという長所
がある。
反射鏡は、上述のような構成と作用に基づき、コ
ールドミラーと同様に赤外線の反射が最小限度に
抑えられるから、これを用いた照明器具は被照射
面の温度上昇が極めて少なく、照明されるものが
人の場合は暑さを感じさせないものとなる。一
方、基材として金属またはセラミツクスのいずれ
をも使用でき、コールドミラーよりも軽量で扱い
易く、また丈夫で破損のおそれがないという長所
がある。
第１図は本発明に係る製造方法により製造され
る無熱反射鏡の一例における積層構造を示す断面
略図である。第２図は第１図に示した無熱反射鏡
の分光反射特性を示すグラフである。 １……基材、２……黒色酸化物の薄膜、３……
赤外線透過性多層反射膜、４−１〜４−ｎ……酸
化チタン膜、５−１〜５−ｎ……フツ化マグネシ
ウム膜。
る無熱反射鏡の一例における積層構造を示す断面
略図である。第２図は第１図に示した無熱反射鏡
の分光反射特性を示すグラフである。 １……基材、２……黒色酸化物の薄膜、３……
赤外線透過性多層反射膜、４−１〜４−ｎ……酸
化チタン膜、５−１〜５−ｎ……フツ化マグネシ
ウム膜。
１ ガラス又はプラスチツクの透明基板の片面に
誘電体多層膜を設け、さらにその上に光吸収膜を
設けてなる多層膜裏面反射鏡において、前記の誘
電体多層膜は交互に異なる屈折率を有する誘電体
膜を４〜８層順次積層して構成されており、前記
誘電体多層膜を構成する４〜８層の誘電体膜の少
くとも１層はλ0／２（λ0は設計の中心となる光の
波長であり、500nm〜580nmの間に設定する）の
光学膜厚を有し、残りの層がλ0／４の光学膜厚を
有して、かつ前記誘電体多層膜は前記誘電体多層
膜を構成する中心層又は中心層境界に対して基板
側及び空気側に向つて非対象に積層されているこ
とを特徴とする多層膜裏面反射鏡。 ２ 誘電体多層膜を構成する誘電体膜が５又は６
層からなる、特許請求の範囲第１項に記載の多層
膜裏面反射鏡。 ３ 誘電体多層膜を構成する誘電体膜のうち、屈
折率1.9〜2.4の高屈折率物質からなる光学膜厚
λ0／４の高屈折率膜をＨ層、屈折率1.9〜2.4の高
屈折率物質からなる光学膜厚λ0／２の高屈折率膜
を2H層、屈折率1.3〜1.8の低屈折率物質からなる
光学膜厚λ0／４の低屈折率膜をＬ層、屈折率1.3
〜1.8の低屈折率物質からなる光学膜厚λ0／２の
低屈折率膜を2L層とすると、透明基板の片面に
Ｈ層→2L層→Ｈ層→Ｌ層→Ｈ層の順又はＨ層→
Ｌ層→Ｈ層→2L層→Ｈ層の順で誘電体多層膜が
誘電体多層膜を設け、さらにその上に光吸収膜を
設けてなる多層膜裏面反射鏡において、前記の誘
電体多層膜は交互に異なる屈折率を有する誘電体
膜を４〜８層順次積層して構成されており、前記
誘電体多層膜を構成する４〜８層の誘電体膜の少
くとも１層はλ0／２（λ0は設計の中心となる光の
波長であり、500nm〜580nmの間に設定する）の
光学膜厚を有し、残りの層がλ0／４の光学膜厚を
有して、かつ前記誘電体多層膜は前記誘電体多層
膜を構成する中心層又は中心層境界に対して基板
側及び空気側に向つて非対象に積層されているこ
とを特徴とする多層膜裏面反射鏡。 ２ 誘電体多層膜を構成する誘電体膜が５又は６
層からなる、特許請求の範囲第１項に記載の多層
膜裏面反射鏡。 ３ 誘電体多層膜を構成する誘電体膜のうち、屈
折率1.9〜2.4の高屈折率物質からなる光学膜厚
λ0／４の高屈折率膜をＨ層、屈折率1.9〜2.4の高
屈折率物質からなる光学膜厚λ0／２の高屈折率膜
を2H層、屈折率1.3〜1.8の低屈折率物質からなる
光学膜厚λ0／４の低屈折率膜をＬ層、屈折率1.3
〜1.8の低屈折率物質からなる光学膜厚λ0／２の
低屈折率膜を2L層とすると、透明基板の片面に
Ｈ層→2L層→Ｈ層→Ｌ層→Ｈ層の順又はＨ層→
Ｌ層→Ｈ層→2L層→Ｈ層の順で誘電体多層膜が
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 制限された量の酸素の供給下における真空蒸
着法により、金属またはセラミツクスよりなる基
材の表面にケイ素、チタンおよびクロムからなる
群から選ばれた元素の黒色酸化物の薄膜を150nm
ないし400nmの厚さに形成するステツプと、 上記黒色酸化物の表面に、真空蒸着法により、
厚さ135nmないし140nmの透明な高屈折率膜と低
屈折率膜とを交互に11層ないし23層積層形成する
ステツプと、 から成ることを特徴とする無熱反射鏡の製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61097000A JPS62254104A (ja) | 1986-04-28 | 1986-04-28 | 無熱反射鏡の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61097000A JPS62254104A (ja) | 1986-04-28 | 1986-04-28 | 無熱反射鏡の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62254104A JPS62254104A (ja) | 1987-11-05 |
| JPH0529081B2 true JPH0529081B2 (ja) | 1993-04-28 |
Family
ID=14179936
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61097000A Granted JPS62254104A (ja) | 1986-04-28 | 1986-04-28 | 無熱反射鏡の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62254104A (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2714397B2 (ja) * | 1988-06-24 | 1998-02-16 | 紘一郎 筒井 | 無熱反射鏡 |
| JPH0733413Y2 (ja) * | 1988-07-15 | 1995-07-31 | 松下電工株式会社 | スポットライト用ソケット |
| JP2876438B2 (ja) * | 1992-06-18 | 1999-03-31 | 株式会社エクェストリアン | 耐熱反射鏡 |
| JP4608937B2 (ja) * | 2004-05-10 | 2011-01-12 | ウシオ電機株式会社 | 光源装置 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6161501B2 (ja) * | 1980-03-28 | 1986-12-25 | Siemens Ag |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0116081Y2 (ja) * | 1984-09-28 | 1989-05-12 |
-
1986
- 1986-04-28 JP JP61097000A patent/JPS62254104A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6161501B2 (ja) * | 1980-03-28 | 1986-12-25 | Siemens Ag |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62254104A (ja) | 1987-11-05 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2629693B2 (ja) | エキシマレーザ用ミラー | |
| JPH0758355A (ja) | Ｕｖ／ｉｒ反射太陽電池カバー | |
| JP2000225489A5 (ja) | ||
| JPH0529081B2 (ja) | ||
| JPH05127004A (ja) | 反射鏡 | |
| JP2714397B2 (ja) | 無熱反射鏡 | |
| JP3031625B2 (ja) | 熱線吸収反射鏡 | |
| US6471376B1 (en) | Increased life reflector lamps | |
| JPS6348123B2 (ja) | ||
| JPH0116081Y2 (ja) | ||
| JPH01250903A (ja) | 紫外線反射鏡 | |
| JPH01321403A (ja) | 無熱反射鏡 | |
| JPS63269102A (ja) | 反射体 | |
| JPS62240903A (ja) | 多層膜反射鏡 | |
| JPS63269104A (ja) | 反射体 | |
| JP2687243B2 (ja) | 多層光干渉膜 | |
| JPH1073704A (ja) | 高エネルギ光線の反射鏡 | |
| JPH116906A (ja) | 誘電体薄膜付き反射鏡 | |
| JPS62165601A (ja) | レ−ザビ−ム用反射鏡 | |
| JPS63269103A (ja) | 反射体 | |
| JP3276182B2 (ja) | 表面反射鏡 | |
| JP3266335B2 (ja) | 裏面反射鏡 | |
| JPH0486704A (ja) | メタルダイクロイックミラーの製造方法 | |
| JP3054663B2 (ja) | 多層膜反射鏡 | |
| JPS63271803A (ja) | 照明器具 |