JP3438738B2

JP3438738B2 - 光学部材、及び光学部品

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Publication number: JP3438738B2
Application number: JP09496793A
Authority: JP
Inventors: 好太郎畠
Original assignee: Zeon Corp
Current assignee: Zeon Corp
Priority date: 1993-03-31
Filing date: 1993-03-31
Publication date: 2003-08-18
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Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は光学部材、及び光学部品
に関し、さらに詳しくは、熱可塑性ノルボルネン系樹脂
から成り光学膜を密着して積層できる光学部材、及び該
光学部材に光学膜を積層した光学部品に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来から各種の光学部品にはガラス製品
が使用されてきたが、量産性、価格等の観点からアクリ
ル樹脂、ポリカーボネート樹脂等の熱可塑性樹脂光学材
料製品に変わりつつある。これは、ガラス成形品に比べ
て熱可塑性樹脂光学材料成形品は軽量、且つ、非球面形
状等の複雑な形状の成形品を容易に成形することが出来
るからである。

【０００３】これらの光学部品の表面には光学膜として
誘電体多層膜を形成して用いることがあった。例えば、
レンズのように光を透過させる光学部品の場合には、誘
電体多層膜である反射防止膜を形成して使用される事が
多い。これは、基材の屈折率と光の入射媒質である空気
との屈折率の差に起因して、基材表面で入射光が一部反
射し、さらに、基材からの出射界面で反射しやすいた
め、光の透過性を高められないためであり、反射防止膜
を設けることにより、入射、出射界面での反射損失を低
減させることができる。

【０００４】しかし、熱可塑性光学材料樹脂成形品は、
一般的に、誘電体多層膜を形成する際に基材に熱をかけ
ると変形しやすいため、誘電体多層膜と基材が密着でき
なかったり、また、基材が積層する金属材料に比較して
熱膨張率が大きいために温度変化のある環境下では誘電
体多層膜にマイクロクラックが発生したり、さらには誘
電体多層膜が基材から剥離を起こすなど、誘電体多層膜
と基材の密着性の点で問題があった。

【０００５】また、光学部品の内、光学膜として金属膜
を有する光学部品の場合にも、同様に反射層と基材の密
着性の問題がある。

【０００６】誘電体多層膜においては、シリコン系樹脂
によるアンダーコート処理を行ったり、基材上の第一層
（基材と接する層）の材料をＳｉＯ、ＳｉＯ₂、Ｃｅ
Ｏ₂、Ｔａ₂Ｏ₅等を使用することにより、これらの問題
が改善されることが知られている（特開平１−２８０７
０１号公報、特開昭５０−３５２１１号公報、特開昭６
３−５７２３号公報、特開昭６３−８１４０２号公報、
特開昭６３−８１４０３号公報、特開昭６３−８１４０
４号公報等）。

【０００７】近時、熱可塑性ノルボルネン系樹脂が耐湿
性、耐水性、耐熱性などに優れた光学材料として注目さ
れている。しかし、熱可塑性ノルボルネン系樹脂成形品
においては、従来用いられているシリコン系樹脂による
アンダーコート処理をしてもアンダーコートが剥離しや
すく、さらに非球面レンズ等の精密成形した光学部品で
はアンダーコートにより形状が変化してしまうという問
題があった。また、熱可塑性ノルボルネン系樹脂成形品
にＳｉＯ、ＳｉＯ₂、ＣｅＯ₂を真空蒸着させても密着性
が不十分であり、温度変化のある環境下で使用すると積
層した光学膜にマイクロクラックが生じたりするという
問題があった。その結果、熱可塑性ノルボルネン系樹脂
から成る基材上に光学膜を密着性よく形成した光学部品
を得ることは困難であった。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、熱可塑
性飽和ノルボルンネン系樹脂成形品を基材として密着性
よく光学膜を積層した光学部品を開発すべく鋭意研究の
結果、Ｔａ₂Ｏ₅を主成分とする層を基材上に形成するこ
とにより、基材と光学膜の密着性に優れた光学部品が得
られることを見いだし、本発明を完成させた。

【０００９】

【課題を解決するための手段】かくして本発明による
と、熱可塑性ノルボルネン系樹脂から成る基材表面上に
Ｔａ₂Ｏ₅を主成分とする層を有する光学部材、該光学部
材に光学膜を積層して成る光学部品が提供される。

【００１０】（熱可塑性ノルボルネン系樹脂）本発明で
用いる熱可塑性ノルボルネン系樹脂は、特開平３−１４
８８２号や特開平３−１２２１３７号、特開平４−６３
８０７号などで公知の樹脂であり、具体的には、ノルボ
ルネン系単量体の開環重合体、その水素添加物、ノルボ
ルネン系単量体の付加型重合体、ノルボルネン系単量体
とオレフィンの付加型重合体、これらの重合体の変性物
などが挙げられる。

【００１１】ノルボルネン系単量体も、上記公報や特開
平２−２２７４２４号、特開平２−２７６８４２号など
で公知の単量体であって、例えば、ノルボルネン、その
アルキル、アルキリデン、芳香族置換誘導体およびこれ
ら置換または非置換のオレフィンのハロゲン、水酸基、
エステル基、アルコキシ基、シアノ基、アミド基、イミ
ド基、シリル基等の極性基置換体、例えば、２−ノルボ
ルネン、５−メチル−２−ノルボルネン、５，５−ジメ
チル−２−ノルボルネン、５−エチル−２−ノルボルネ
ン、５−ブチル−２−ノルボルネン、５−エチリデン−
２−ノルボルネン、５−メトキシカルボニル−２−ノル
ボルネン、５−シアノ−２−ノルボルネン、５−メチル
−５−メトキシカルボニル−２−ノルボルネン、５−フ
ェニル−２−ノルボルネン、５−フェニル−５−メチル
−２−ノルボルネン等；シクロペンタジエンの多量
体、その上記と同様の誘導体や置換体、例えば、ジシク
ロペンタジエン、２，３−ジヒドロジシクロペンタジエ
ン、１，４：５，８−ジメタノ−１，２，３，４，４
ａ，５，８，８ａ−２，３−シクロペンタジエノナフタ
レン、６−メチル−１，４：５，８−ジメタノ−１，
４，４ａ，５，６，７，８，８ａ−オクタヒドロナフタ
レン、６−エチル−１，４：５，８−ジメタノ−１，
４，４ａ，５，６，７，８，８ａ−オクタヒドロナフタ
レン、１，４：５，１０：６，９−トリメタノ−１，
２，３，４，４ａ，５，５ａ，６，９，９ａ，１０，１
０ａ−ドデカヒドロ−２，３−シクロペンタジエノアン
トラセン等；シクロペンタジエンとテトラヒドロイン
デン等との付加物、その上記と同様の誘導体や置換体、
例えば、１，４−メタノ−１，４，４ａ，４ｂ，５，
８，８ａ，９ａ−オクタヒドロフルオレン、５，８−メ
タノ−１，２，３，４，４ａ，５，８，８ａ−オクタヒ
ドロ−２，３−シクロペンタジエノナフタレン等；等
が挙げられる。

【００１２】ノルボルネン系単量体の重合は公知の方法
でよく、必要に応じて、他の共重合可能な単量体と共重
合したり、水素添加することにより熱可塑性飽和ノルボ
ルネン系樹脂である熱可塑性ノルボルネン系重合体水素
添加物とすることができる。また、重合体や重合体水素
添加物を特開平３−９５２３５号などで公知の方法によ
り、α，β−不飽和カルボン酸および／またはその誘導
体、スチレン系炭化水素、オレフィン系不飽和結合およ
び加水分解可能な基を持つ有機ケイ素化合物、不飽和エ
ポキシ単量体を用いて変性させてもよい。なお、耐湿
性、耐薬品性に優れたものを得るためには、極性基を含
有しない熱可塑性ノルボルネン系樹脂が好ましい。

【００１３】分子量はシクロヘキサンを溶媒とするＧＰ
Ｃ（ゲル・パーミエション・クロマトグラフィー）分析
により測定した数平均分子量で１〜２０万が適当であ
る。また、水素添加する場合、耐光劣化性や耐候劣化性
を向上させるために、水素添加率は９０％以上、好まし
くは９５％以上、より好ましくは９９％以上である。

【００１４】本発明で用いる熱可塑性飽和ノルボルネン
系樹脂には、所望により、フェノール系やリン系などの
老化防止剤；フェノール系などの熱劣化防止剤；ベ
ンゾフェノン系などの紫外線安定剤；アミン系などの
帯電防止剤；脂肪族アルコールのエステル、多価アル
コールの部分エステル及び部分エーテルなどの滑剤；な
どの各種添加剤を添加してもよい。また、本発明の目的
を損なわない範囲で、他の樹脂などを混合して用いるこ
ともできる。

【００１５】（成形品）Ｔａ₂Ｏ₅を主成分とする層を積
層して本発明の光学部材とする基材は、熱可塑性ノルボ
ルネン系樹脂の成形品であり、それ自体、レンズ、プリ
ズム等の光学部品として使用できるものや、液晶基板、
各種フィルター、鏡、光学ディスク等の光学部品の基板
となるものである。熱可塑性ノルボルネン系樹脂を成形
する方法は、特に限定されない。射出成形、溶融押し出
し、熱プレス、溶剤キャスト、インフレーション等の熱
可塑性樹脂の一般の成形方法を用いることができる。

【００１６】（光学部材の製造方法）本発明において
は、熱可塑性ノルボルネン系樹脂成形品である基材上
に、Ｔａ₂Ｏ₅を主成分とする層を形成して光学部材を製
造する。形成する方法は、真空蒸着法、反射蒸着法、イ
オンプレーティング法、スパッタリング法、イオンビー
ムアシステッド法等が用いられ、一般に真空蒸着法が用
いられる。蒸着の条件は蒸着時の基材温度以外は特に限
定されない。蒸着時の基材温度は、使用する熱可塑性ノ
ルボルネン系樹脂の熱変形温度以下であることが必要で
あり、一般に１２０℃以下、好ましくは８０℃以下、さ
らにより好ましくは６０℃以下である。

【００１７】また、基材上にＴａ₂Ｏ₅を主成分とする層
を形成する場合に、表面に付着している汚れや塵を除去
するために前処理として洗浄することが好ましい。基材
の洗浄方法は、公知の方法がよく、例えば、界面活性剤
を使用した水系洗浄を行い、純水での濯ぎ、温純水での
引き上げ、最後に温風乾燥する方法、イソプロピルアル
コール、フロン１１３、有機珪素化合物等の有機化合物
での水切り後、最後にフロン１１３またはポリフルオロ
カーボン等の溶剤での蒸気乾燥する方法がある。また、
蒸着前の基材の前処理として、イオンビームを利用して
活性ガスイオン、あるいは不活性ガスイオンでスパッタ
クリーニングを行うことが好ましい。これらの前処理に
より、Ｔａ₂Ｏ₅を主成分とする層と基材の密着性は向上
する。

【００１８】形成される層はＴａ₂Ｏ₅を５０重量％以
上、好ましくは７０重量％以上、より好ましくは９０重
量％以上、特に好ましくは９５重量％以上含有する。含
有量が低いと密着性が低下する。光学部品の目的によっ
ては、Ｔａ₂Ｏ₅を主成分とする層は透明であることが必
要であり、そのためからも、Ｔａ₂Ｏ₅以外の成分の含量
は低いことが好ましい。また、Ｔａ₂Ｏ₅以外の成分とし
ては、ＺｒＯ₂、ＣｅＯ₂ 、Ｙ₂Ｏ₃、ＴｉＯ₂、Ｔｉ
₃Ｏ₅、ＳｉＯ、Ｎｂ₂Ｏ₅等が好ましい。また、後述の製
造法に由来する着色防止の理由により、Ｚｒ₂Ｏ₅が特に
好ましい。

【００１９】真空蒸着法においては、Ｔａ₂Ｏ₅を含有す
る蒸発源を電子銃や抵抗加熱等で蒸発させて、基材表面
に蒸着させる。蒸着の諸条件は、特に限定されず、一般
の蒸着の際に用いられる方法でよい。ただし、Ｔａ₂Ｏ₅
のみを蒸発源として電子銃や抵抗加熱等で蒸発させた場
合には、蒸発したＴａ₂Ｏ₅中に酸素原子が不足したもの
も生じる場合があり、そのため、蒸着により形成された
層は着色し、光を吸収することがある。前述のようにこ
の層が透明であることが必要な場合は、着色したものは
用いることができない。このような不良品の発生は、蒸
発時に酸素を付加して２×１０^-5〜５×１０^-3Ｔｏｒｒ
程度の圧力で蒸着させることにより、ある程度低下する
こともできる。

【００２０】さらに好ましくは、蒸発源として、ＺｒＯ
₂含量が３〜５０重量％、より好ましくは１０〜４０重
量％、特に好ましくは２０〜３５重量％のＴａ₂Ｏ₅とＺ
_rＯ₂ の混合物を用いると、蒸着膜が着色することがな
く、透明なものが安定して得られる。なお、この際、蒸
着膜中のＺｒＯ₂の含量は蒸発源中の含量より大きく低
下し、Ｚｒ含量も極微量であり、通常Ｔａ₂Ｏ₅含量が９
０重量％以上、好ましくは９５重量％以上のものを容易
に得ることができる。

【００２１】（光学部材）本発明の光学部材は、熱可塑
性ノルボルネン系樹脂成形品である基材上にＴａ₂Ｏ₅を
主成分とする層が形成されている。この層の厚さは、こ
の層を多層膜の一部として使用するかどうかによっても
異なるが、一般には、４００〜１０００ｎｍの波長の光
線を対象とする光学部品に用いる場合、１ｎｍ〜６００
ｎｍ程度、好ましくは２ｎｍ〜５００ｎｍ程度である。
薄すぎるとＴａ₂Ｏ₅を主成分とする層に積層される層と
基板との密着性に劣り、厚すぎると、光学膜の光学特性
を調整することが困難である。

【００２２】（光学部品）本発明の光学部品は、本発明
の光学部材に光学膜を積層して成り、具体的には、反射
防止多層膜を形成して成るレンズ、光ディスク基板、位
相差板、回折格子板等；半透明多層膜を形成して成る
ビームスプリッター等；単色フィルター多層膜を積層
して成る単色フィルター等；帯域フィルター多層膜を
積層して成る帯域フィルター等；多層反射膜を形成し
て成る光ディスク基板等；金属反射膜を形成して成る
自動車用ルームミラー、光ディスク基板、ポリゴンミラ
ー等；金属反透明膜を形成して成るハーフミラー等；
等が例示される。

【００２３】（誘電体多層膜）本発明の光学部品で形成
される誘電体多層膜としては、反射防止多層膜、半透明
多層膜、単色フィルター多層膜、帯域フィルター多層
膜、反射多層膜などがある。

【００２４】反射防止多層膜の構成は、基板側の第１層
として、高屈折率誘電体層である光学部材のＴａ₂Ｏ₅を
主成分とする層を用いる以外は、特開昭６３−８１４０
２号公報、特開昭６３−８１４０３号公報、特開昭６３
−８１４０４号公報、特開平１−２７３００１号公報、
特開平４−１３７２３４号公報等で公知の反射防止多層
膜と同じである。反射防止多層膜はＶコート膜（特定波
長反射防止膜）、マルチコート膜（広帯域反射防止膜）
でもよい。２層構造のもの、３層構造のもの、４層構造
のものでもよい。また、光学部材のＴａ₂Ｏ₅を主成分と
する層の厚みを薄くすることにより、実質的に反射多層
膜の一部として機能させずに、その層の上に形成する他
の層を反射防止多層膜の第１層として機能させることも
できる。

【００２５】半透明多層膜は「光・薄膜技術マニュアル
増補改訂版」（オプトロニクス社、編集部編、平成４
年８月発行、第２９８〜３０１頁）、「光学薄膜」
（Ｈ．Ａ．Ｍａｃｌｅｏｄ著、日刊工業新聞社、１９８
９年１１月発行、原題『ＴＨＩＮＦＩＬＭＯＰＴＩＣ
ＡＬＦＩＬＴＥＲＳ』、第１７６〜１８０頁）等で公
知のものであり、特定波長の光線を一部を透過し、一部
を反射する。その構成は、目的波長、目的波長での透過
率、反射率等の設計に応じて各層に用いる誘電体、各層
の厚さなどが決まる。半透明多層膜は、本発明の光学部
材上に第１層を積層して形成しても、光学部材上のＴａ
₂Ｏ₅を主成分とする層を第１層として形成してもよい。

【００２６】多層反射膜は、特開平３−１２８３５号等
で公知のものであり、目的波長付近の光線のみを反射
し、その他の光線を透過する。多層反射膜は目的波長の
１／４の厚さで、高屈折率誘電体層と低屈折率誘電体層
を交互に積層して構成される。多層反射膜も本発明の光
学部材上に第１層を積層して形成しても、光学部材上の
Ｔａ₂Ｏ₅を主成分とする層を第１層として形成してもよ
い。

【００２７】単色フィルター多層膜、帯域フィルターは
「光・薄膜技術マニュアル」（前述、第２８４〜２８９
頁）、「光学薄膜」（藤原史郎編、共立出版、１９８５
年２月発行、第１１０〜１２３頁）等で公知のものであ
り、単色フィルター多層膜は特定波長付近の光線のみを
透過し、帯域フィルターは特定領域の光線を透過する。
これらのフィルター多層膜の構成も公知のものであり、
本発明の光学部材上に第１層を積層して形成しても、光
学部材上のＴａ₂Ｏ₅を主成分とする層を第１層として形
成してもよい。

【００２８】誘電体多層膜を形成するには、光学部材の
Ｔａ₂Ｏ₅を主成分とする層の上に、誘電体から成る各層
を順番に積層する。積層する方法としては、一般に、真
空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法
等の方法が適用できる。また、各層の厚さは、反射防止
の目的の光線の波長、用いる材料の屈折率などに応じて
決定する。

【００２９】通常、誘電多層膜の形成に多く使用される
真空蒸着法は、油回転ポンプ、油拡散ポンプあるいはク
ライオポンプ等を使用して真空チャンバー内を１０^-6〜
１０_-4Ｔｏｒｒ程度まで真空排気した後、必要に応じて
酸素ガスを２×１０^-5〜５×１０^-3Ｔｏｒｒ程度真空チ
ャンバー内に導入して酸素雰囲気で蒸着を実施する。

【００３０】蒸発方法は電子ビーム加熱法、抵抗加熱法
のいずれの方法も採用することができる。蒸着時の温度
は、基材の熱変形温度以下であることが必要で、１２０
℃以下、好ましくは８０℃以下、さらにより好ましくは
６０℃以下である。

【００３１】例えば、反射防止多層膜の場合、第１層目
以外に使用する高屈折率の蒸着材料である誘電体として
は、ＺｒＯ₂、ＴｉＯ₂、Ｔｉ₃Ｏ₅、ＳｉＯ、Ｔａ₂Ｏ₅、
Ｙ₂Ｏ₃、ＰｒＯ₂、ＺｎＳ、Ｎｂ₂Ｏ₅等、あるいはこれ
らの蒸着材料から選ばれる混合物も使用される。中間屈
折率物質である誘電体としてはＡｌ₂Ｏ₃、ＣｅＦ₃等が
使用でき、低屈折率物質である誘電体としてはＭｇ
Ｆ₂、Ａｌ₂Ｏ₃等が使用できる。

【００３２】（金属膜）本発明の光学部品で形成される
金属膜は、金、白金、銀、銅、アルミニウム、ロジウ
ム、クロム、等の全光線反射性の金属反射膜や、その厚
さを調節することにより得られる半透明膜等である。こ
れらは、「光学薄膜」（前述の日刊工業新聞社刊のも
の、第１５９〜１７２頁）、「光学薄膜ユーザーズ・ハ
ンドブック」（Ｊ．Ｄ．Ｒａｎｃｏｕｒｔ著、日刊工業
新聞社、１９９１年１０月刊、原題『ＯＰＴＩＣＡＬ
ＴＨＩＮＦＩＬＭＳＵＳＥＲＳ’ ＨＡＮＤＢＯＯ
Ｋ』、第１１１〜１１８頁）などで公知のものである。

【００３３】これらの金属反射膜の形成方法も特に限定
されず、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレー
ティング法等をはじめ、公知の方法が用いられる。ま
た、この金属表面に保護膜を設けて、金属膜を傷つきに
くくしてもよい。

【００３４】なお、反射膜を形成した光学部品において
は、光学部品の表面で光線を反射し、基材を光線が通過
する必要がない場合がある。そのような場合は、前述の
ようにＴａ₂Ｏ₅を主成分とする層が着色した光学部材で
あっても、反射膜を有する本発明の光学部品の材料とし
て使用することができる。その場合、金属膜上に増反射
膜を形成することもできる。

【００３５】

【実施例】以下に、参考令、実施例、比較例をあげて、
本発明を具体的に説明する。なお、反射率、透過率は分
光光度計（Ｕ−４０００型、日立製）を用いて、光学膜
側から光を当てて測定し、測定した光線の波長は特に記
載がない限り５５０ｎｍである。膜密着性は基材成形品
に形成された多層膜の上からカッターにより１ｍｍ間隔
で縦横互いに直角に交わる各１１本の切れ目を入れ、１
ｍｍ四方の碁盤目を１００個作り、セロハン粘着テープ
（積水化学製）を貼り、粘着テープを表面に対して垂直
芳香に引っ張ってはがし、１００目中の剥離しなかった
目の数で表した。高温試験は得られた光学部品を８０℃
のオーブン中に９６時間放置した後、室温に戻して積層
した膜の状態を目視観察し、ヒートサイクル試験は、得
られた光学部品を−３０℃３０分、８０℃３０分、昇
温、降温は１定速度で各３０分の１サイクル２時間のヒ
ートサイクル試験を２４サイクル（２日間）実施後の積
層された膜のマイクロクラックの発生の有無を光学顕微
鏡で観察した。

【００３６】参考例１熱可塑性ノルボルネン系樹脂（ＺＥＯＮＥＸ２８０、
日本ゼオン製、分子量約２８，０００、ガラス転移温度
１４０℃、水素添加率９９．７％以上）を樹脂温度３０
０℃、金型温度１００℃で射出成形して、厚さ２ｍｍ、
５０ｍｍ四方の平板を作製した。この平板を、アルカリ
性洗剤（ＳＥ−１０、ソニックフェロー社製）３％水溶
液中で、１２００Ｗ、２６ｋＨｚの超音波洗浄を６０秒
行い、純水中で６００Ｗ、２６ｋＨｚの超音波洗浄によ
り６０秒間すすぎ、再度アルカリ性洗剤（ＳＥ−１０）
３％水溶液中で、１２００Ｗ、２６ｋＨｚの超音波洗浄
を６０秒行った後、純水中で６００Ｗ、２６ｋＨｚの超
音波洗浄による６０秒間のすすぎを４回繰り返した後、
２回純水中に漬けてすすぎ、さらに温純水中に漬けてす
すいだ後、温風で乾燥させた。

【００３７】実施例１参考例１で得た平板に、蒸着材料としてＴａ₂Ｏ₅７５重
量％、ＺｒＯ₂２５重量％から成る混合物を使用し、酸
素ガスを導入してチャンバー内の圧力６×１０^-5Ｔｏｒ
ｒにし、真空蒸着法により蒸着膜を形成して本発明の光
学部材を得た。蒸着膜の屈折率は２．０４、厚さは約２
７．５ｎｍ、すなわち、波長５５０ｎｍ（以下、λ₀と
する）の光線に対する光学的膜厚は約０．１０λ₀であ
った。この蒸着膜をＸ線マイクロアナライザーにより分
析した（分析精度約１％）が、ＺｒＯ₅は検出できなか
った。

【００３８】この光学部材のＴａ₂Ｏ₅上に、第２層とし
て、屈折率１．４６、光学的膜厚０．０８λ₀のＳｉＯ₂
の層を蒸着により形成し、第３層として、屈折率２．０
４、光学的膜厚０．２０λ₀のＴａ₂Ｏ₅の層を蒸着によ
り形成し、第４層として、屈折率２．０４、光学的膜厚
０．２５λ₀のＳｉＯ₂の層を蒸着により形成して、４層
から成る反射防止膜を有する本発明の光学部品を得た。

【００３９】反射率は０．５％、膜密着性は９９／１０
０、高温試験で異常は認められず、ヒートサイクル試験
でもマイクロクラックの発生は認められなかった。

【００４０】比較例１第１層目の材料としてＴｉＯ₂（蒸着後の屈折率２．０
６）を用いる以外は実施例１と同様にして反射防止膜を
有する光学部品を得た。反射率は０．４％、膜密着性は
１４／１００、高温試験では一部が剥離し、ヒートサイ
クル試験でもマイクロクラックの発生が認められた。

【００４１】実施例２Ｔａ₂Ｏ₅の層の光学的膜厚が０．０５λ₀になるように
する以外は、実施例１と同様にして、本発明の光学部材
を得た。このＴａ₂Ｏ₅の層の上にアルミニウムを１００
ｎｍの厚さに蒸着し、さらに、その上にＣｅＦ₃（蒸着
後の屈折率１．５６）を光学的膜厚が０．２５λ₀にな
るように蒸着し、金属反射膜を有する本発明の光学部品
を得た。反射率は９５．９％、膜密着性は９８／１００
であった。

【００４２】比較例２Ｔａ₂Ｏ₅の代わりにＣｅＯ₂（蒸着後の屈折率１．９
５）を用いる以外は実施例１と同様にして反射防止膜を
有する光学部品を得た。反射率は９５．８％、膜密着性
は８／１００であった。

【００４３】実施例３実施例１で得た光学部材のＴａ₂Ｏ₅上に、第２層とし
て、屈折率１．４５、光学的膜厚０．２９λ₀のＳｉＯ₂
の層を蒸着により形成し、第３層として、屈折率１．９
５、光学的膜厚０．２２５λ₀のＣｅＯ₂の層を蒸着によ
り形成し、第４層として、光学的膜厚０．２５λ₀のＳ
ｉＯ₂の層を蒸着により形成して、第５層として、光学
的膜厚０．１５８λ₀のＣｅＯ₂の層を蒸着により形成し
て、第６層として、光学的膜厚０．２５λ₀のＳｉＯ₂の
層を蒸着により形成して、６層からなる半透明多層膜を
有する本発明の光学部品を得た。

【００４４】反射率は２６％、透過性は７４％、膜密着
性は９５／１００であった。

【００４５】比較例３第１層目の材料としてＣｅＯ₂（蒸着後の屈折率１．９
５）を用いる以外は実施例１と同様にして反射防止膜を
有する光学部品を得た。反射率は２８％、透過率７２
％、膜密着性は８／１００であった。

【００４６】実施例４Ｔａ₂Ｏ₅の層の光学的膜厚が０．１２５λ₀になるよう
にする以外は、実施例１と同様にして、本発明の光学部
材を得た。このＴａ₂Ｏ₅の層の上に実施例１で得た光学
部材のＴａ₂Ｏ₅上に、第２層として、屈折率１．４５、
光学的膜厚０．２９λ₀のＳｉＯ₂の層を蒸着により形成
し、第３層として、屈折率１．９５、光学的膜厚０．２
５λ₀のＣｅＯ₂の層を蒸着により形成し、第４層とし
て、光学的膜厚０．２５λ₀のＳｉＯ₂の層を蒸着により
形成して、第５層として、光学的膜厚０．２５λ₀のＣ
ｅＯ₂の層を蒸着により形成して、第６層として、光学
的膜厚０．２５λ₀のＳｉＯ₂の層を蒸着により形成し
て、第７層として、光学的膜厚０．２５λ₀のＣｅＯ₂の
層を蒸着により形成して、７層からなる帯域フィルター
多層膜を有する本発明の光学部品を得た。

【００４７】５５０ｎｍの透過率は３９％、６５０ｎｍ
の透過率は９５％、膜密着性は９３／１００であった。

【００４８】比較例４第１層目の材料としてＣｅＯ₂（蒸着後の屈折率１．９
５）を用いる以外は実施例１と同様にして反射防止膜を
有する光学部品を得た。５５０ｎｍの透過率は４１％、
６５０ｎｍの透過率は９４％、膜密着性は７／１００で
あった。

【００４９】

【発明の効果】本発明の光学部材を用いて製造された光
学膜を有する光学部品は、熱可塑性ノルボルネン系樹脂
から成る成形品基材と光学膜との密着性に優れ、光学膜
が剥離し難く、温度変化のある環境下での使用などにお
いても、マイクロクラック等が発生しにくい。

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】熱可塑性ノルボルネン系樹脂から成る基
材表面上にＴａ_２Ｏ_５を９０重量％以上含有する層を有
する光学部材。
【請求項２】Ｔａ _２Ｏ _５を含有する層が、Ｔａ _２Ｏ _５
とＺｒＯ _２との混合物を蒸発源として真空蒸着してなる
ものである請求項１記載の光学部材。
【請求項３】Ｔａ _２Ｏ _５を含有する層が、酸素を付加
して真空蒸着してなるものである請求項１記載の光学部
材。
【請求項４】請求項１記載の光学部材に光学膜を積層
して成る光学部品。
【請求項５】光学膜が誘電体多層膜である請求項４記
載の光学部品。
【請求項６】光学膜が金属膜である請求項４記載の光
学部品。