JP6645012B2 - 蒸着材料 - Google Patents
蒸着材料 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6645012B2 JP6645012B2 JP2015015379A JP2015015379A JP6645012B2 JP 6645012 B2 JP6645012 B2 JP 6645012B2 JP 2015015379 A JP2015015379 A JP 2015015379A JP 2015015379 A JP2015015379 A JP 2015015379A JP 6645012 B2 JP6645012 B2 JP 6645012B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- zro
- tio
- powder
- refractive index
- vapor deposition
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims description 48
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 title claims description 6
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 title claims description 6
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 37
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims description 25
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 15
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 15
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 11
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 9
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 6
- 239000008188 pellet Substances 0.000 claims description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 41
- 239000010408 film Substances 0.000 description 11
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 9
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 9
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 8
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 7
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 5
- 238000000869 ion-assisted deposition Methods 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 3
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 3
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 3
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 3
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
本発明は、被蒸着物の上に光学薄膜を形成するための蒸着材料であって、特に酸化ジルコニウムを含む光学薄膜を形成するための蒸着材料に関する。
光学薄膜は、光の干渉現象を利用し、反射防止や特定の波長のみを透過させるバンドパスフィルター、ビームスプリッター、増反射膜などとして、従来から、眼鏡レンズやデジタルカメラレンズ、光ディスクのピックアップレンズといった光を利用する機器に設けられている。これらの機器に加え、最近では自動車に搭載された近赤外域フィルターや、近紫外域フィルターなど、最新のエレクトロニクスには不可欠の材料として広範に使われている。
このような光学薄膜を形成するためには、真空蒸着法やスパッタ法があるが、蒸着材料によって形成される薄膜の成膜速度が速いこと、比較的低コストであること、曲面を含む被蒸着物への比較的均一な成膜が可能といった点から、真空蒸着法が用いられることが多い。
この真空蒸着法における蒸着材料の加熱の方法として、抵抗加熱法や電子線加熱法があるが、低融点材料に限らず高融点材料にも適用でき、蒸着材料によって形成される薄膜の成膜速度を制御しやすいといった点から、電子線加熱法がよく用いられている。
電子線加熱法を用いた真空蒸着法において従来から用いられている蒸着材料として、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）をベースとする高屈折材料が一般的に利用されている（特許文献１）。また、ＺｒＯ２をベースとする薄膜を形成する蒸着材料としては、例えばＺｒＯ２単独の材料に加え、ＺｒＯ２に酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）を加えた材料（特許文献２）や、ＺｒＯ２に酸化チタン（ＴｉＯ２）を加えたものを混合焼結したもの（特許文献３、４）を用いることが多い。また、酸化ジルコニウムから蒸着中に発生するガスを低減するため、金属タンタル、金属ジルコニウムを加えたもの（特許文献５）も用いられることがある。
しかしながら、ＺｒＯ２単独の材料やＺｒＯ２-ＴｉＯ２混合焼結物においては、室温から１００℃程度の温度で蒸着成膜すると、屈折率が変動するという現象が見受けられる。この現象は、真空蒸着室内に含まれる残留ガス量に依存し、蒸着時に雰囲気ガスを導入して真空蒸着室内の圧力を一定にしたとしても発生する。
屈折率の変動現象が発生すると、屈折率が意図せずに変わってしまうため、多層膜成膜後に、目的とする分光特性を得られないことがある。
被蒸着物となる材料を３００℃程度に加熱すると、屈折率の変動幅は小さくなるが、プラスチックレンズのような低融点の材料を被蒸着物とする場合、１００℃を超えるような高温で加熱するとプラスチックレンズの形状を維持できないため、必然的に加熱温度が通常１００℃未満となる。
加熱温度を１００℃未満としても、イオンアシストデポジション（ＩＡＤ）法により屈折率変動幅の小さい薄膜を成膜できるが、膜密度が上がってしまうため膜応力が引張り方向から圧縮方向に変わってしまう。多層膜の成膜では、交互に膜応力方向の異なる薄膜を成膜することで膜応力を緩和しているため、ＺｒＯ２系薄膜をＩＡＤにより蒸着すると膜剥がれが発生する懸念がある。
屈折率変動幅の小さな材料に置き換えることも可能であるが、例えば、Ａｌ２Ｏ３では屈折率がＺｒＯ２から低下し、高屈折材料として機能しないという問題も考えられる。
そこで、本発明は、屈折率を維持しつつ屈折率変動幅が小さい薄膜を成膜することができる蒸着材料を提供することを目的とする。
以上の目的を達成するために本発明の一形態は、ＺｒＯ２およびＴａ２Ｏ５を含み、Ｔａ２Ｏ５／ＺｒＯ２の質量比が２．５以下であることを特徴とする蒸着材料である。
本発明の一形態における蒸着材料によれば、光学薄膜がＺｒＯ２を基本組成としながらも、真空蒸着室内に含まれる残留ガスに依存する屈折率変動幅を減少でき、屈折率がＺｒＯ２+ＴｉＯ２と同等である光学薄膜を形成することができる蒸着材料が提供される。
本発明を実施するための最良の形態を以下に説明する。ただし、以下に示す形態は、本発明の技術思想を具体化するための蒸着材料を例示するものであって、本発明は蒸着材料を以下に限定するものではない。
（蒸着材料）
（蒸着材料）
本実施形態における蒸着材料は、組成がＺｒＯ２をベースとする蒸着材料であって、Ｔａ２Ｏ５／ＺｒＯ２の質量比が２．５以下である。屈折率を調整するために、ＴｉＯ２／（ＺｒＯ２+Ｔａ２Ｏ５+ＴｉＯ２）の質量比で０．００２以上０．１以下となるＴｉＯ２を添加することができる。
本実施形態における蒸着材料は、真空蒸着において、組成がＺｒＯ２をベースとする蒸着材料であっても、真空蒸着室内に含まれる残留ガスに依存する屈折率変動幅を縮小することができる。すなわち、Ｔａ２Ｏ５／ＺｒＯ２の質量比が２．５以下であることで、真空蒸着室内に含まれる残留ガスに依存する屈折率変動幅が縮小する。なおかつ、屈折率もＺｒＯ２+ＴｉＯ２と同等な光学薄膜を成膜することができる。すなわち、ＴｉＯ２をＴｉＯ２／（ＺｒＯ２+Ｔａ２Ｏ５+ＴｉＯ２）の質量比が０．００２以上０．１以下となるように加えることで、真空蒸着室内に含まれる残留ガスに依存する屈折率変動幅が減少するだけでなく、屈折率もＺｒＯ２+ＴｉＯ２と同等となる光学薄膜を得ることができる。
（蒸着材料の製造方法）
（蒸着材料の製造方法）
本実施形態における蒸着材料の製造方法は、蒸着材料の原料となる、ＺｒＯ２粉末、Ｔａ２Ｏ５粉末およびＴｉＯ２粉末を調整、混合し、プレス成型した。プレス成形した成形体を真空中で焼成し、蒸着材料を得た。Ｔａ２Ｏ５粉末は、Ｔａ２Ｏ５／ＺｒＯ２の質量比が２．５以下とする。Ｔａ２Ｏ５／ＺｒＯ２の質量比は、より好ましくは０．８以上２．５以下の範囲であり、さらに好ましくは１．０以上１.５以下の範囲である。質量比の下限は、真空蒸着室内に含まれる残留ガスの影響による屈折率変動幅減少の効果が得られる程度とし、一方、質量比の上限は、２．５より大きくすると、電子線加熱時に焼結体全体が溶融してしまうので、使用済み蒸着材料を安定して排出できなくなる虞がある。
ＴｉＯ２粉末は、ＴｉＯ２／（ＺｒＯ２+Ｔａ２Ｏ５+ＴｉＯ２）の質量比が０．００２以上０．１以下の範囲であることが好ましく、より好ましくは重量比が０．０１以上０．０７以下の範囲であることが望ましい。重量比が０．００２以下では、屈折率を調整するには不十分であり、重量比が０．１以上では屈折率が上がり過ぎるからである。
原料粉末を調製して混合する工程は、ＺｒＯ２粉末、Ｔａ２Ｏ５粉末およびＴｉＯ２粉末を、所定の比率となるように秤量し、粉体混合機などで混合する。ビニール袋等で凝集物をほぐしながら混合してもよい。粉末が混合したのち、プレス成型して成形体を得る。
この成形体を乾燥した後、真空中で、温度が１５００℃以上１８００℃以下のもと、１〜１０時間の焼成をすることにより蒸着材料を製造する。
以下、本発明に係る実施例について詳述する。なお、本発明は以下に示す実施例のみに限定されないことは言うまでもない。
（実施例１）
（実施例１）
ＺｒＯ２粉末２９０．０ｇ、Ｔａ２Ｏ５粉末２１０．０ｇ（Ｔａ２Ｏ５／ＺｒＯ２＝０．７２）を、１Ｌナイロンポット内に投入し、ともに投入したナイロンボール（粒径２０μｍ）で凝集物をほぐしながら３０分混合し、ポットから取り出した混合物をプレス成形した。この成形体を乾燥した後、真空中１７００℃で２時間焼成することにより実施例１の焼結体を作製した。
（実施例２）
（実施例２）
ＺｒＯ２粉末２７５．０ｇ、Ｔａ２Ｏ５粉末２２５．０ｇ（Ｔａ２Ｏ５／ＺｒＯ２＝０．８１）、に変更しこと、焼成温度を１８００℃に変更したこと以外は実施例１と同じ方法で焼結体を作製することにより実施例２の焼結体を作製した。
（実施例３）
（実施例３）
ＺｒＯ２粉末２００．０ｇ、Ｔａ２Ｏ５粉末３００．０ｇ（Ｔａ２Ｏ５／ＺｒＯ２＝１．５）、に変更したこと以外は実施例１と同じ方法で焼結体を作製することにより実施例３の焼結体を作製した。
（実施例４）
（実施例４）
ＺｒＯ２粉末１５０．０ｇ、Ｔａ２Ｏ５粉末３５０．０ｇ（Ｔａ２Ｏ５／ＺｒＯ２＝２．３３）に変更したこと以外は実施例１と同じ方法で焼結体を作製することにより実施例４の焼結体を作製した。
（実施例５）
（実施例５）
ＺｒＯ２粉末２４９．５ｇ、Ｔａ２Ｏ５粉末２４９．５ｇ（Ｔａ２Ｏ５／ＺｒＯ２＝１．０）に変更したこと、ＴｉＯ２粉末１．０ｇ（ＴｉＯ２／（ＺｒＯ２+Ｔａ２Ｏ５+ＴｉＯ２）＝０．００２）を追加したこと以外は実施例１と同じ方法で焼結体を作製することにより実施例５の焼結体を作製した。
（実施例６）
（実施例６）
ＺｒＯ２粉末２７２．３ｇ、Ｔａ２Ｏ５粉末２２２．７ｇ（Ｔａ２Ｏ５／ＺｒＯ２＝０．８２）に変更したこと、ＴｉＯ２粉末５．０ｇ（ＴｉＯ２／（ＺｒＯ２+Ｔａ２Ｏ５+ＴｉＯ２）＝０．０１）を追加したこと、焼成温度を１６５０℃に変更したこと以外は実施例１と同じ方法で焼結体を作製することにより実施例６の焼結体を作製した。
（実施例７）
（実施例７）
ＺｒＯ２粉末２６４．０ｇ、Ｔａ２Ｏ５粉末２１６．０ｇ（Ｔａ２Ｏ５／ＺｒＯ２＝０．８２）に変更したこと、ＴｉＯ２粉末２０．０ｇ（ＴｉＯ２／（ＺｒＯ２+Ｔａ２Ｏ５+ＴｉＯ２）＝０．０４）を追加したこと、焼成温度を１６５０℃に変更したこと以外は実施例１と同じ方法で焼結体を作製することにより実施例７の焼結体を作製した。
（実施例８）
（実施例８）
ＺｒＯ２粉末２４７．５ｇ、Ｔａ２Ｏ５粉末２０２．５ｇ（Ｔａ２Ｏ５／ＺｒＯ２＝０．８２）に変更したこと、ＴｉＯ２粉末５０．０ｇ（ＴｉＯ２／（ＺｒＯ２+Ｔａ２Ｏ５+ＴｉＯ２）＝０．１）を追加したこと、焼成温度を１５５０℃に変更したこと以外は実施例１と同じ方法で焼結体を作製することにより実施例８の焼結体を作製した。
（実施例９）
（実施例９）
ＺｒＯ２粉末１９２．０ｇ、Ｔａ２Ｏ５粉末２８８．０ｇ（Ｔａ２Ｏ５／ＺｒＯ２＝１.５）に変更したこと、ＴｉＯ２粉末２０．０ｇ（ＴｉＯ２／（ＺｒＯ２+Ｔａ２Ｏ５+ＴｉＯ２）＝０．１）を追加したこと、焼成温度を１６００℃に変更したこと以外は実施例１と同じ方法で焼結体を作製することにより実施例９の焼結体を作製した。
（実施例１０）
（実施例１０）
ＺｒＯ２粉末１４４．０ｇ、Ｔａ２Ｏ５粉末３３６．０ｇ（Ｔａ２Ｏ５／ＺｒＯ２＝２．３）に変更したこと、ＴｉＯ２粉末２０．０ｇ（ＴｉＯ２／（ＺｒＯ２+Ｔａ２Ｏ５+ＴｉＯ２）＝０．１）に変更したこと、焼成温度を１６５０℃に変更したこと以外は実施例１と同じ方法で焼結体を作製することにより実施例１０の焼結体を作製した。
（比較例１）
（比較例１）
ＺｒＯ２粉末２７０．０ｇ、ＴｉＯ２粉末３０．０ｇに変更したこと、焼成温度を１９００℃に変更したこと以外は実施例１と同じ方法で焼結体を作製することにより比較例１の焼結体を作製した。
（比較例２）
（比較例２）
ＺｒＯ２粉末１２５．０ｇ、Ｔａ２Ｏ５粉末３７５．０ｇ（Ｔａ２Ｏ５／ＺｒＯ２＝３．０）に変更したこと、焼成温度を１５５０℃に変更したこと以外は実施例１と同じ方法で焼結体を作製することにより比較例２の焼結体を作製した。
（評価）
（評価）
実施例１〜１０及び比較例１、２で作製した焼結体について、電子線加熱方式の蒸着装置を用いて、比較例及び比較例の蒸着評価を行った。被蒸着物の温度を８０℃、装置真空度２．０×１０−４Ｐａとし、同一材料を１/４λ（制御波長＝５５０ｎｍ）ずつ合計１０回蒸着し、その最小値を当該材料の屈折率とした。また、最大値と最小値の屈折率差から変動幅を求めた。電子線照射後に、ペレット形状を維持するものを○、溶融などで形状を維持できないものを×とした。
表１からわかるように、実施例１〜１０の蒸着材料はいずれも、屈折率変動幅が小さく、真空蒸着室内に含まれる残留ガスの影響を受けにくいことが判る。
屈折率は、実施例５〜１０のようにＴｉＯ２を添加することで容易に調整できる。比較例２のようにＴａ２Ｏ５を重量比Ｔａ２Ｏ５／ＺｒＯ２で３．００以上含むと、焼結体上部が溶融してしまい、使用済み蒸着材料を安定して排出できなくなるため、連続蒸着には不向きである。
本発明は、反射防止膜を有するレンズの製造に蒸着材料として好適に用いることができる。
Claims (3)
- ＺｒＯ２、Ｔａ２Ｏ５およびＴｉＯ２からなり、
Ｔａ２Ｏ５／ＺｒＯ２の質量比が、０．８以上２．３３以下であり、
ＴｉＯ２／（ＺｒＯ２+Ｔａ２Ｏ５+ＴｉＯ２）の質量比が、０．０１以上０．０７以下であることを特徴とする蒸着材料。 - ペレット形状を有する請求項１に記載の蒸着材料。
- 電子線加熱方式により蒸着材料を使って光学薄膜を成膜したとき、その光学薄膜における屈折率の最大値と最小値の差から求めた屈折率変動幅が、０．０３２未満である請求項１または２に記載の蒸着材料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2015015379A JP6645012B2 (ja) | 2015-01-29 | 2015-01-29 | 蒸着材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2015015379A JP6645012B2 (ja) | 2015-01-29 | 2015-01-29 | 蒸着材料 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2016138327A JP2016138327A (ja) | 2016-08-04 |
| JP6645012B2 true JP6645012B2 (ja) | 2020-02-12 |
Family
ID=56558978
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2015015379A Active JP6645012B2 (ja) | 2015-01-29 | 2015-01-29 | 蒸着材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP6645012B2 (ja) |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CH527916A (de) * | 1970-04-13 | 1972-09-15 | Balzers Patent Beteilig Ag | Verfahren zur Herstellung einer hochbrechenden lichtdurchlässigen Oxidschicht |
| JPH04110918A (ja) * | 1990-08-31 | 1992-04-13 | Hoya Corp | 光学部品 |
| JP3438738B2 (ja) * | 1993-03-31 | 2003-08-18 | 日本ゼオン株式会社 | 光学部材、及び光学部品 |
| JP4043686B2 (ja) * | 2000-03-30 | 2008-02-06 | オリンパス株式会社 | 反射防止膜付きレンズ及び内視鏡 |
| JP2002082208A (ja) * | 2000-09-08 | 2002-03-22 | Olympus Optical Co Ltd | 反射防止膜およびこれを有する光学部品 |
| FR2860790B1 (fr) * | 2003-10-09 | 2006-07-28 | Snecma Moteurs | Cible destinee a etre evaporee sous faisceau d'electrons, son procede de fabrication, barriere thermique et revetement obtenus a partir d'une cible, et piece mecanique comportant un tel revetement |
| JP2006284778A (ja) * | 2005-03-31 | 2006-10-19 | Hoya Corp | スプラッシュ抑制方法およびプラスチックレンズの製造方法 |
-
2015
- 2015-01-29 JP JP2015015379A patent/JP6645012B2/ja active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2016138327A (ja) | 2016-08-04 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5029365B2 (ja) | 透光性セラミックおよびその製造方法、ならびに光学部品および光学装置 | |
| KR101256659B1 (ko) | 고 굴절률의 층을 제조하기 위한 증착 물질 | |
| JP6179731B2 (ja) | スピネルオプトセラミックスを用いた光学素子および製造方法 | |
| JP6681683B2 (ja) | 光学膜及びその製造方法 | |
| JP4245047B2 (ja) | 透光性セラミックおよびその製造方法、ならびに光学部品および光学装置 | |
| JP6645012B2 (ja) | 蒸着材料 | |
| JP4548422B2 (ja) | 透光性セラミックおよびその製造方法、ならびに光学部品および光学装置 | |
| KR101350768B1 (ko) | 비구면 렌즈 제작용 소결 초경합금 금형 | |
| JP6443222B2 (ja) | 蒸着材料およびその成形体 | |
| JP2008013411A (ja) | 誘電体磁器 | |
| JPWO2006080173A1 (ja) | 透光性セラミックおよびその製造方法、ならびに光学部品および光学装置 | |
| US20140072469A1 (en) | Inert high hardness material for tool lens production | |
| JP7056625B2 (ja) | 焼結用セラミックス成形体の作製方法及びセラミックス焼結体の製造方法 | |
| JP2018104247A (ja) | シリカ焼結体とその製造方法 | |
| JP5358430B2 (ja) | 蒸着材料及びそれより得られる光学薄膜 | |
| JP5295421B1 (ja) | 光学素子用無機材料 | |
| JP7020123B2 (ja) | スパッタリングターゲット | |
| JPWO2019187269A1 (ja) | 酸化物焼結体、スパッタリングターゲットおよび透明導電膜 | |
| JP4363168B2 (ja) | 酸化チタン焼結体およびその製造方法 | |
| JP6413944B2 (ja) | 二酸化バナジウム微粒子の製造方法 | |
| JP2009046320A5 (ja) | ||
| JP6800446B2 (ja) | 光学膜及びその製造方法 | |
| JP5284822B2 (ja) | 酸化タンタル蒸着材、その製造方法、および酸化タンタル蒸着膜の製造方法 | |
| JP2012218973A (ja) | ＬａＡｌＯ３セラミックスの製造方法 | |
| JP2017014551A (ja) | スパッタリングターゲット |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20170804 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20180723 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180905 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20181011 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20190402 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190515 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20191105 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20191108 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20191210 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20191223 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6645012 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |