JP2000019312A - 反射ミラー - Google Patents
反射ミラーInfo
- Publication number
- JP2000019312A JP2000019312A JP10186306A JP18630698A JP2000019312A JP 2000019312 A JP2000019312 A JP 2000019312A JP 10186306 A JP10186306 A JP 10186306A JP 18630698 A JP18630698 A JP 18630698A JP 2000019312 A JP2000019312 A JP 2000019312A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- surface layer
- thickness
- intermediate layer
- metal
- front surface
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 表面反射率と裏面反射率の双方が高く、耐久
性の高い反射ミラーを実現する。 【解決手段】 プラスチック基材の表面に、フッ化マグ
ネシュームからなる下地層、金属からなる中間層、及び
酸化シリコンからなる表面層を少なくとも有する光反射
積層体を設けたこと。
性の高い反射ミラーを実現する。 【解決手段】 プラスチック基材の表面に、フッ化マグ
ネシュームからなる下地層、金属からなる中間層、及び
酸化シリコンからなる表面層を少なくとも有する光反射
積層体を設けたこと。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はプラスチック基材を
用いた反射ミラーに関するものであり、表面反射率及び
裏面反射率を共に高く維持し、耐久性の高い反射ミラー
を実現するものである。
用いた反射ミラーに関するものであり、表面反射率及び
裏面反射率を共に高く維持し、耐久性の高い反射ミラー
を実現するものである。
【０００２】
【従来の技術】プラスチック基材を用いた反射ミラーに
おいて、従来より反射率の向上、膜付着性の向上、及び
耐環境性の向上が望まれており、各種の対策が成されて
きた。
おいて、従来より反射率の向上、膜付着性の向上、及び
耐環境性の向上が望まれており、各種の対策が成されて
きた。
【０００３】例えば第１の従来技術として、プラスチッ
ク基材上に酸化シリコン層、アルミニューム金属層、及
び酸化シリコン層を積層し、アルミニューム金属層の耐
環境性を向上させたものがある。
ク基材上に酸化シリコン層、アルミニューム金属層、及
び酸化シリコン層を積層し、アルミニューム金属層の耐
環境性を向上させたものがある。
【０００４】また、第２の従来技術として、プラスチッ
ク基材上にクロム金属層、アルミニューム金属層、及び
酸化シリコン層を積層し、クロム金属層により膜付着性
を向上させ、表面の酸化シリコン層によって耐環境性を
向上させたものがある。
ク基材上にクロム金属層、アルミニューム金属層、及び
酸化シリコン層を積層し、クロム金属層により膜付着性
を向上させ、表面の酸化シリコン層によって耐環境性を
向上させたものがある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の技術に
おいて、図１の断面図に示すような反射ミラーの場合
に、金属層の両面の反射率を高く維持し、且つ耐久性も
高く維持することは困難であった。特に、裏面反射率が
高く、耐久性の高い反射ミラーを得るためには、金属層
の下地層は透明性が高く、且つ基材に対して膜付着性が
高くなければならない。
おいて、図１の断面図に示すような反射ミラーの場合
に、金属層の両面の反射率を高く維持し、且つ耐久性も
高く維持することは困難であった。特に、裏面反射率が
高く、耐久性の高い反射ミラーを得るためには、金属層
の下地層は透明性が高く、且つ基材に対して膜付着性が
高くなければならない。
【０００６】前述の第１の従来技術の場合は、下地層に
二酸化シリコンを用いたときは透明性が高いが、基材を
プラスチック、特にアクリル樹脂にした場合、アクリル
樹脂に対する膜付着性が低いため、高温高湿放置におい
て光反射積層体が基材より剥離する欠点があった。ま
た、下地層に一酸化シリコンを用いたときは、基材に対
して膜付着性は高いが透明性が劣るため、裏面反射率が
劣る欠点があった。
二酸化シリコンを用いたときは透明性が高いが、基材を
プラスチック、特にアクリル樹脂にした場合、アクリル
樹脂に対する膜付着性が低いため、高温高湿放置におい
て光反射積層体が基材より剥離する欠点があった。ま
た、下地層に一酸化シリコンを用いたときは、基材に対
して膜付着性は高いが透明性が劣るため、裏面反射率が
劣る欠点があった。
【０００７】前述の第２の従来技術の場合は、下地層に
クロム金属層を用いたときは、膜付着性は高いが、クロ
ム金属の反射率が低いため、裏面反射率が低下してしま
う問題がある。
クロム金属層を用いたときは、膜付着性は高いが、クロ
ム金属の反射率が低いため、裏面反射率が低下してしま
う問題がある。
【０００８】本発明はかかる問題に鑑みてなされたもの
であり、プラスチック基材を用いた反射ミラーにおい
て、表面反射率及び裏面反射率を共に可視光領域（３５
０ｎｍ〜７５０ｎｍ）にて８５％以上の高反射率を維持
すると共に、耐久性の高い反射ミラーを提案することを
課題とするものである。
であり、プラスチック基材を用いた反射ミラーにおい
て、表面反射率及び裏面反射率を共に可視光領域（３５
０ｎｍ〜７５０ｎｍ）にて８５％以上の高反射率を維持
すると共に、耐久性の高い反射ミラーを提案することを
課題とするものである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記課題は、プラスチッ
ク基材の表面に、フッ化マグネシュームからなる下地
層、金属からなる中間層、及び酸化シリコンからなる表
面層を少なくとも有する光反射積層体を設けたことを特
徴とする反射ミラーにより解決される。
ク基材の表面に、フッ化マグネシュームからなる下地
層、金属からなる中間層、及び酸化シリコンからなる表
面層を少なくとも有する光反射積層体を設けたことを特
徴とする反射ミラーにより解決される。
【００１０】
【発明の実施の形態】本発明の反射ミラーの実施の形態
を以下に説明する。また、反射ミラーの断面図を図２に
示す。
を以下に説明する。また、反射ミラーの断面図を図２に
示す。
【００１１】基材はプラスチックであり、ポリスチレ
ン、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、ア
クリルニトリルスチレン共重合体、ポリオレフィン等の
有機高分子材料を用い、キャスティング若しくはインジ
ェクション等の成型方法により精密に成型された部材で
ある。
ン、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、ア
クリルニトリルスチレン共重合体、ポリオレフィン等の
有機高分子材料を用い、キャスティング若しくはインジ
ェクション等の成型方法により精密に成型された部材で
ある。
【００１２】下地層はフッ化マグネシュームからなり、
真空蒸着法、スパッタ法、イオンプレーティング法等に
よって製膜される。
真空蒸着法、スパッタ法、イオンプレーティング法等に
よって製膜される。
【００１３】なお、フッ化マグネシュームの下地層は透
明性が高く、５０ｎｍ〜３００ｎｍの範囲の膜厚におい
て、可視光領域で８８％と高い裏面反射率が得られた。
明性が高く、５０ｎｍ〜３００ｎｍの範囲の膜厚におい
て、可視光領域で８８％と高い裏面反射率が得られた。
【００１４】中間層は金属からなり、アルミニューム、
金、銀、銅、白金等を主成分とした金属が用いられ、特
にアルミニューム、若しくはアルミニューム合金は生産
性が良く安価であるため好ましい。製膜法としては真空
蒸着法、スパッタ法、イオンプレーティング法がある。
金、銀、銅、白金等を主成分とした金属が用いられ、特
にアルミニューム、若しくはアルミニューム合金は生産
性が良く安価であるため好ましい。製膜法としては真空
蒸着法、スパッタ法、イオンプレーティング法がある。
【００１５】なお、膜厚は１５ｎｍ〜１５０ｎｍの範囲
が望ましい。
が望ましい。
【００１６】表面層は一酸化シリコン、若しくは二酸化
シリコンを主成分とした酸化シリコンからなり、製膜法
はフッ化マグネシュームからなる下地層と同様である。
シリコンを主成分とした酸化シリコンからなり、製膜法
はフッ化マグネシュームからなる下地層と同様である。
【００１７】なお、膜厚を５ｎｍ〜４５ｎｍと薄くする
ことにより、可視光領域で９０％と高い表面反射率が得
られた。
ことにより、可視光領域で９０％と高い表面反射率が得
られた。
【００１８】また、フッ化マグネシュームからなる下地
層の膜厚を、金属からなる中間層の膜厚と、酸化シリコ
ンからなる表面層の膜厚の和より大きくすることによ
り、クロスカットテープ剥離で、剥離面積０％の高い付
着性が得られた。
層の膜厚を、金属からなる中間層の膜厚と、酸化シリコ
ンからなる表面層の膜厚の和より大きくすることによ
り、クロスカットテープ剥離で、剥離面積０％の高い付
着性が得られた。
【００１９】以上の反射ミラーを６０℃，９０％の高温
高湿環境に１週間放置した後においても、膜の剥がれや
曇りは発生せず、７０℃の乾燥環境に１週間放置した後
においても、膜の剥がれや割れ等が発生せず、光学性
能、及び耐久性の点で非常に優れていた。
高湿環境に１週間放置した後においても、膜の剥がれや
曇りは発生せず、７０℃の乾燥環境に１週間放置した後
においても、膜の剥がれや割れ等が発生せず、光学性
能、及び耐久性の点で非常に優れていた。
【００２０】なお、下地層と中間層との間、又は中間層
と表面層との間に、更に透明性の高い酸化物を第２の中
間層として積層してもよい。
と表面層との間に、更に透明性の高い酸化物を第２の中
間層として積層してもよい。
【００２１】
【実施例】本発明の反射ミラーの３種の実施例と６種の
比較例を以下に示す。なお、実施例３と比較例６を除い
て各データを表１にまとめた。
比較例を以下に示す。なお、実施例３と比較例６を除い
て各データを表１にまとめた。
【００２２】
【表１】
【００２３】なお、表面反射率（Ｒ1）及び裏面反射率
（Ｒ2）の評価に関しては、波長４００ｎｍの光の反射
率を測定し、８０％以上を○とし、８０％未満を×とし
た。
（Ｒ2）の評価に関しては、波長４００ｎｍの光の反射
率を測定し、８０％以上を○とし、８０％未満を×とし
た。
【００２４】膜付着性の評価に関しては、クロスカット
テープ剥離テストを行い、剥離面積なしを○、剥離面積
２０％未満を△、２０％以上を×とした。
テープ剥離テストを行い、剥離面積なしを○、剥離面積
２０％未満を△、２０％以上を×とした。
【００２５】耐環境性の評価に関しては、表２による。
【００２６】
【表２】
【００２７】 ［実施例１］ 基材 アクリル樹脂射出成型板 下地層 フッ化マグネシューム 空蒸着（基板温度：３０℃〜７０℃） 膜厚：５０ｎｍ〜２００ｎｍ 中間層 アルミニューム金属又はアルミニューム合金 真空蒸着（基板温度：３０℃〜７０℃、真空度：１×１０-3Ｐａｓ） 膜厚：１５ｎｍ〜３０ｎｍ 表面層 一酸化シリコン 真空蒸着（酸素ガス導入：２×１０-2Ｐａｓ） 膜厚：１５ｎｍ〜１０ｎｍ 評価光反射率：表１及び図３のグラフに示す如く表面反
射率と裏面反射率とも良好である。
射率と裏面反射率とも良好である。
【００２８】耐久性 ：表１に示す如く膜付着性、耐環
境性とも良好である。
境性とも良好である。
【００２９】 ［実施例２］ 基材 ポリカーボネート樹脂射出成型湾曲板 下地層 フッ化マグネシューム 真空蒸着（基板温度：２５℃〜５０℃） 四フッ化炭素ガスを真空槽に導入しながら、蒸着 （１×１０-2Ｐａｓの真空度まで） 膜厚：１８０ｎｍ〜３００ｎｍ 中間層 アルミニューム金属 真空蒸着（基板温度：３０℃〜７０℃、真空度：１×１０-3Ｐａｓ） 膜厚：３０ｎｍ〜１５０ｎｍ 表面層 二酸化シリコン 真空蒸着（基板温度：３０℃〜７０℃、真空度：２×１０-3Ｐａｓ） 膜厚：５ｎｍ〜１８ｎｍ 評価 表１に示す如く良好である。
【００３０】［実施例３］実施例２の構成において、下
地層と中間層との間に厚さ５ｎｍ〜１０ｎｍの酸化チタ
ン層を設け、中間層と表面層との間に厚さ３ｎｍ〜８ｎ
ｍの酸化チタン層を設た。
地層と中間層との間に厚さ５ｎｍ〜１０ｎｍの酸化チタ
ン層を設け、中間層と表面層との間に厚さ３ｎｍ〜８ｎ
ｍの酸化チタン層を設た。
【００３１】この結果、表面反射率、及び裏面反射率の
双方が８２％以上となって良好であり、また、膜付着性
及び耐環境性も良好であった。
双方が８２％以上となって良好であり、また、膜付着性
及び耐環境性も良好であった。
【００３２】 ［比較例１］ 基材 アクリル樹脂射出成型平板 下地層 二酸化シリコン 真空蒸着、酸素ガス導入（圧力：１．５×１０-2Ｐａｓ） 膜厚：８０ｎｍ〜２００ｎｍ 中間層 アルミニューム金属 真空蒸着、真空度：１〜２×１０-3Ｐａｓ 膜厚：１５ｎｍ〜３０ｎｍ 表面層 一酸化シリコン 真空蒸着、真空度：２〜３×１０-3Ｐａｓ 膜厚：５ｎｍ〜１０ｎｍ 評価 表１に示すように、膜付着性は△である。また、下地層
の膜厚が中間層と表面層との膜厚の和より大きくても、
膜付着性が良くなかった。なお、他の性能は良好であ
る。
の膜厚が中間層と表面層との膜厚の和より大きくても、
膜付着性が良くなかった。なお、他の性能は良好であ
る。
【００３３】［比較例２］本例は実施例２と同様な構成
であるが、膜厚が異なる。
であるが、膜厚が異なる。
【００３４】 基材 アクリル樹脂射出成型平板 下地層 フッ化マグネシューム 真空蒸着（基板温度：３０℃〜７０℃、真空度１．５〜２×１０-3Ｐａ ｓ） 膜厚：３０ｎｍ〜７０ｎｍ 中間層 アルミニューム金属 真空蒸着（真空度：１〜１．５×１０-3Ｐａｓ） 膜厚：８０ｎｍ〜１００ｎｍ 表面層 二酸化シリコン 真空蒸着（真空度：２〜３×１０-3Ｐａｓ） 膜厚：１６ｎｍ〜１８ｎｍ 評価 下地層の膜厚が中間層と表面層との膜厚の和より小さい
ので、表１に示すように膜付着性は劣る。
ので、表１に示すように膜付着性は劣る。
【００３５】［比較例３］本例は実施例２と同様な構成
であるが、中間層の膜厚が薄い。
であるが、中間層の膜厚が薄い。
【００３６】基材 ポリカーボネート樹脂 中間層 アルミニューム金属、膜厚１０ｎｍ以下 評価 膜付着性良好。しかし、光反射率が７０％以下と劣る。
【００３７】なお、中間層の膜厚を約１５ｎｍ以上にす
れば、反射率は略一定の８０〜９０％となって良好であ
るが、１６０ｎｍ〜２００ｎｍ以上に厚くすると、コス
トアップになってしまう。
れば、反射率は略一定の８０〜９０％となって良好であ
るが、１６０ｎｍ〜２００ｎｍ以上に厚くすると、コス
トアップになってしまう。
【００３８】［比較例４］本例は実施例１と同様な構成
である。
である。
【００３９】 評価 一酸化シリコンの吸収が増す光波長４００ｎｍ付近の透
過率が７８％と劣化した。また、下地層の膜厚が薄いた
め膜付着性が劣る。
過率が７８％と劣化した。また、下地層の膜厚が薄いた
め膜付着性が劣る。
【００４０】［比較例５］本例は実施例２と同様な構成
である。
である。
【００４１】 評価 表面反射率は７９％と劣り、膜付着性も劣る。
【００４２】［比較例６］実施例２の構成において、表
面層の二酸化シリコンの膜厚を２ｎｍ〜３ｎｍにしたと
き、耐環境性、特に耐高温高湿特性が劣化した。
面層の二酸化シリコンの膜厚を２ｎｍ〜３ｎｍにしたと
き、耐環境性、特に耐高温高湿特性が劣化した。
【００４３】以上の如く、下地層をフッ化マグネシュー
ムとし、下地層の膜厚を中間層と表面層の膜厚より厚く
し、中間層を金属として膜厚を１５ｎｍ以上にし、更に
表面層に酸化シリコンを用いて膜厚を５ｎｍ〜４５ｎｍ
にすると、下地層と中間層の間、中間層と表面層の間に
更に極めて薄い層を追加した場合でも、耐環境性、反射
率とも良好な反射ミラーが得られる。
ムとし、下地層の膜厚を中間層と表面層の膜厚より厚く
し、中間層を金属として膜厚を１５ｎｍ以上にし、更に
表面層に酸化シリコンを用いて膜厚を５ｎｍ〜４５ｎｍ
にすると、下地層と中間層の間、中間層と表面層の間に
更に極めて薄い層を追加した場合でも、耐環境性、反射
率とも良好な反射ミラーが得られる。
【００４４】
【発明の効果】請求項１、３に記載の反射ミラーによれ
ば、表面反射率と裏面反射率の双方が高く、耐久性の高
い反射ミラーが実現できる。
ば、表面反射率と裏面反射率の双方が高く、耐久性の高
い反射ミラーが実現できる。
【００４５】請求項２に記載の反射ミラーによれば、剥
離強度の大きい反射ミラーが実現できる。
離強度の大きい反射ミラーが実現できる。
【００４６】請求項４に記載の反射ミラーによれば、反
射率の割には生産性が良く、安価な反射ミラーが実現で
きる。
射率の割には生産性が良く、安価な反射ミラーが実現で
きる。
【図１】従来の技術を説明する反射ミラーの断面図であ
る。
る。
【図２】本発明の反射ミラーの断面図である。
【図３】実施例１における表面反射率と裏面反射率の波
長に対するグラフである。
長に対するグラフである。
Claims (4)
- 【請求項１】 プラスチック基材の表面に、フッ化マグ
ネシュームからなる下地層、金属からなる中間層、及び
酸化シリコンからなる表面層を少なくとも有する光反射
積層体を設けたことを特徴とする反射ミラー。 - 【請求項２】 前記フッ化マグネシュームからなる下地
層の膜厚を、前記金属からなる中間層の膜厚と、酸化シ
リコンからなる表面層の膜厚の和より大きくしたことを
特徴とする請求項１に記載の反射ミラー。 - 【請求項３】 前記フッ化マグネシュームからなる下地
層の膜厚をｔ1としたとき、５０ｎｍ≦ｔ1≦３００ｎｍ
を満足し、 前記金属からなる中間層の膜厚をｔ2としたとき、１５
ｎｍ≦ｔ2≦１５０ｎｍを満足し、 前記酸化シリコンからなる表面層の膜厚をｔ3としたと
き、５ｎｍ≦ｔ3≦４５ｎｍを満足することを特徴とす
る請求項１又は請求項２に記載の反射ミラー。 - 【請求項４】 前記金属からなる中間層はアルミニュー
ム金属、若しくはアルミニュームを主成分とした金属層
であることを特徴とする請求項１〜３の何れか１項に記
載の反射ミラー。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10186306A JP2000019312A (ja) | 1998-07-01 | 1998-07-01 | 反射ミラー |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10186306A JP2000019312A (ja) | 1998-07-01 | 1998-07-01 | 反射ミラー |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000019312A true JP2000019312A (ja) | 2000-01-21 |
Family
ID=16186027
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10186306A Pending JP2000019312A (ja) | 1998-07-01 | 1998-07-01 | 反射ミラー |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000019312A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006518883A (ja) * | 2003-02-24 | 2006-08-17 | レイセオン・カンパニー | 高精密度のミラーおよびその製造方法 |
| JP2010058111A (ja) * | 2008-08-06 | 2010-03-18 | 憲一 ▲高▼木 | コーティング方法及び該コーティング方法で表面処理したプラスティック製品 |
-
1998
- 1998-07-01 JP JP10186306A patent/JP2000019312A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006518883A (ja) * | 2003-02-24 | 2006-08-17 | レイセオン・カンパニー | 高精密度のミラーおよびその製造方法 |
| JP4664277B2 (ja) * | 2003-02-24 | 2011-04-06 | レイセオン カンパニー | 高精密度のミラーおよびその製造方法 |
| JP2010058111A (ja) * | 2008-08-06 | 2010-03-18 | 憲一 ▲高▼木 | コーティング方法及び該コーティング方法で表面処理したプラスティック製品 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4944581A (en) | Rear face reflection mirror of multilayer film for synthetic resin optical parts | |
| US5725959A (en) | Antireflection film for plastic optical element | |
| WO2011062084A1 (ja) | 赤外線反射基板 | |
| WO2004005210A3 (fr) | Substrat transparent comportant un revetement antireflet | |
| KR20080031174A (ko) | 반사막용 적층체 | |
| US20020140885A1 (en) | Heat-resistant reflecting layer, laminate formed of the reflecting layer, and liquid crystal display device having the reflecting layer or the laminate | |
| JP2838525B2 (ja) | 反射鏡 | |
| JP3438738B2 (ja) | 光学部材、及び光学部品 | |
| JPH0446401B2 (ja) | ||
| JP2000019312A (ja) | 反射ミラー | |
| US6532119B1 (en) | Laminated film for thin film mirrors | |
| JPH0462363B2 (ja) | ||
| JP2000241612A (ja) | 反射鏡 | |
| TWI238268B (en) | Reflection mirror and optical equipment using the same | |
| JP3221764B2 (ja) | 合成樹脂製光学部品の反射防止膜 | |
| JP2001319384A (ja) | スタンパ形成用電極材料およびスタンパ形成用薄膜 | |
| JPH08327809A (ja) | プラスチック製反射ミラー | |
| JP3206957B2 (ja) | 表面反射鏡 | |
| JP2001319381A (ja) | 光ディスクの製造方法 | |
| US20080174895A1 (en) | High reflection mirror and process for its production | |
| JPH07168008A (ja) | Ａｇ表面鏡 | |
| JP3120882B2 (ja) | 表面高反射鏡 | |
| CN101151557A (zh) | 高反射镜及其制造方法 | |
| JP2724260B2 (ja) | 反射防止膜を有する光学部材 | |
| JPH11149005A (ja) | 内面反射ミラーおよびその製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050524 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20080215 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080304 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20080701 |