JP2012022460A - 透明電極つき基板 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 透明基板上に屈折率の異なる層が少なくとも3層積層されており、さらにその上に透明導電性薄膜が形成されている透明電極つき基板において、上記屈折率の異なる層は、550nmの波長での屈折率が1.35〜1.55である低屈折率化合物と、550nmの波長での屈折率が2.00〜2.35である高屈折率化合物からなり、且つ透明導電性薄膜は高屈折率層上に形成されており、透明導電性薄膜の屈折率(n1)とその直下の高屈折率層の屈折率(n2)の比n1/n2が0.75〜1.05の範囲であることを特徴とする透明電極つき基板。
【選択図】 図1
Description
1)透明基板上に屈折率の異なる層が少なくとも3層積層されており、さらにその上に透明導電性薄膜が形成されている透明電極つき基板において、上記屈折率の異なる層は、550nmの波長での屈折率が1.35〜1.55である低屈折率化合物と、550nmの波長での屈折率が2.00〜2.35である高屈折率化合物からなり、且つ透明導電性薄膜は高屈折率層に接して形成されており、透明導電性薄膜の屈折率(n1)とその直下の高屈折率層の屈折率(n2)の比n1/n2が0.75〜1.05の範囲であることを特徴とする透明電極つき基板。
2)上記1に記載の低屈折率層が酸化珪素を主成分とする化合物からなり、前記高屈折率層がニオブ、ジルコニウム、ハフニウム、チタン、及び亜鉛からなる群から選ばれる少なくとも1種の金属の酸化物からなることを特徴とする、上記1に記載の透明電極つき基板
3)透明導電性薄膜が形成されている面と、該層がウェットまたは/及びドライプロセスによりエッチングされ、透明導電性薄膜が除去された面とに入射した550nmの波長の光の反射率の差が2%以下であることを特徴とする、上記1〜2に記載の透明電極つき基板。
透明基板1には、フィラーを含むポリアクリル樹脂のコーティング処理、即ち、ハードコート処理が施されたポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムを用いた。
2 高屈折率層
3 低屈折率層
4 高屈折率層
5 透明導電性薄膜
Claims (3)
- 透明基板上に屈折率の異なる層が少なくとも3層積層されており、さらにその上に透明導電性薄膜が形成されている透明電極つき基板において、上記屈折率の異なる層は、550nmの波長での屈折率が1.35〜1.55である低屈折率化合物と、550nmの波長での屈折率が2.00〜2.35である高屈折率化合物からなり、且つ透明導電性薄膜は高屈折率層に接して形成されており、透明導電性薄膜の屈折率(n1)とその直下の高屈折率層の屈折率(n2)の比n1/n2が0.75〜1.05の範囲であることを特徴とする透明電極つき基板。
- 前記低屈折率層が酸化珪素を主成分とする化合物からなり、前記高屈折率層がニオブ、ジルコニウム、ハフニウム、チタン、及び亜鉛からなる群から選ばれる少なくとも1種の金属の酸化物からなることを特徴とする、請求項1に記載の透明電極つき基板
- 透明導電性薄膜が形成されている面と、該層がウェットまたは/及びドライプロセスによりエッチングされ、透明導電性薄膜が除去された面とに入射した550nmの波長の光の反射率の差が2%以下であることを特徴とする、請求項1〜2に記載の透明電極つき基板。
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