CN103105631B - 光学薄膜、图像显示装置以及图像显示装置的制造方法 - Google Patents

光学薄膜、图像显示装置以及图像显示装置的制造方法 Download PDF

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Abstract

本发明提供在显示器表面的光学薄膜上能够均匀地涂布层间填充剂、并且能够用于前面板搭载型号的光学薄膜。该光学薄膜是用于图像显示装置的光学薄膜，其特征在于，将在所述光学薄膜上隔着层间填充剂贴合前面板时的所述层间填充剂的粘度(Pa·s)设为a，将所述光学薄膜表面的硅原子所占的原子比率(atm%)设为b时，满足下述式(1)的关系，并且所述光学薄膜表面的氧原子所占的原子比率为26atm%以上。b≤0.2a+1.8？？？？(1)。

Description

光学薄膜、图像显示装置以及图像显示装置的制造方法
技术领域
本发明涉及光学薄膜、图像显示装置以及图像显示装置的制造方法。
背景技术
以往，例如在液晶显示装置(LCD)等图像显示装置中，从防止显示器表面的划伤(机械强度提高)、防止外光的拍入等观点出发，在显示器表面上配置有硬涂薄膜、防眩薄膜等光学薄膜。另外，近年来，从显示器表面的机械强度提高和外观设计性等观点出发，在显示器的最表面上搭载有由透明的塑料和玻璃等构成的前面板的显示器已经上市。在显示器最表面上搭载前面板的情况下，在显示器表面的上述光学薄膜与前面板之间产生空隙，因此为了填埋上述空隙，在前面板与表面的光学薄膜的层间填充有树脂(层间填充剂)(例如专利文献1等)。上述专利文献1中，作为上述层间填充剂，使用光固化性树脂等活性能量射线固化性树脂。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2008-241728号公报
发明内容
发明所要解决的问题
但是，为了在前面板与表面的光学薄膜的层间填充层间填充剂而在上述光学薄膜的表面上涂布上述层间填充剂的情况下，在上述光学薄膜的表面上上述层间填充剂被排斥而收缩形成凹陷，无法均匀地涂布，可引起工序成品率降低的问题。
因此，本发明的目的在于，提供一种在显示器表面的光学薄膜上能够均匀地涂布层间填充剂、也能够用于前面板搭载型号的光学薄膜。
用于解决问题的手段
为了实现上述目的，本发明的光学薄膜是用于图像显示装置的光学薄膜，其特征在于，将在上述光学薄膜上隔着层间填充剂贴合前面板时的上述层间填充剂的粘度(Pa·s)设为a，将上述光学薄膜表面的硅原子所占的原子比率(atm%)设为b时，满足下述式(1)的关系，并且上述光学薄膜表面的氧原子所占的原子比率为26atm%以上，
b≤0.2a+1.8(1)。
本发明的图像显示装置是具备前面板的图像显示装置，其特征在于，在上述图像显示装置的表面上配置有光学薄膜，上述光学薄膜与上述前面板隔着层间填充剂贴合，上述光学薄膜为上述本发明的光学薄膜。
本发明的图像显示装置的制造方法是具备前面板以及光学薄膜的图像显示装置的制造方法，其特征在于，包括：在上述光学薄膜表面上涂布层间填充剂的涂布工序、以及将涂布有上述层间填充剂的光学薄膜与上述前面板贴合的贴合工序，其中，上述光学薄膜为上述本发明的光学薄膜。
发明效果
根据本发明，层间填充剂的粘度与薄膜表面的硅(Si)原子比率具有特定的关系，并且薄膜表面的氧(O)原子比率为26atm%以上，因此可以提供能够均匀地涂布层间填充剂、也能够用于前面板搭载型号的光学薄膜。
附图说明
图1是表示本发明的光学薄膜(硬涂薄膜)的构成的一个例子的示意截面图。
图2是表示本发明的图像显示装置的构成的一个例子的示意截面图。
图3(a)是表示实施例1~14、比较例1~3、5以及8中的光学薄膜表面的Si原子比率与层间填充剂的粘度的关系的图。图3(b)是表示由图3(a)所示的关系通过BoxWilson法计算出光学薄膜表面的Si原子比率与层间填充剂的粘度的关系式的结果的图。
标号说明
100硬涂薄膜
110树脂薄膜
120硬涂层
200图像显示装置
210图像显示装置主体
220前面板
230层间填充剂
具体实施方式
本发明的光学薄膜中，上述光学薄膜的表面是表示上述光学薄膜中的隔着上述层间填充剂贴合前面板的一侧的面(贴合面)的表面。具体而言，例如，是表示从上述贴合面的表面到垂直深度方向上20nm以下的部分。上述前面板例如可以列举出玻璃板、树脂板，也可以为带传感器的触摸面板等具备光学功能的面板。
本发明的光学薄膜优选为形成有硬涂层的薄膜。
上述硬涂层优选是在氧浓度为500~50000ppm的气氛中形成的。
上述硬涂层优选含有流平剂。
上述流平剂优选为非反应性流平剂。
优选的是，上述光学薄膜的表面进行了表面改性，上述表面改性是通过选自溶剂处理、碱处理、等离子体照射处理以及电晕照射处理中的至少一种处理来进行的。
本发明的图像显示装置中，隔着层间填充剂与前面板贴合时的上述层间填充剂的粘度是在与上述光学薄膜表面的硅原子所占的原子比率的关系方面满足上述式(1)的关系的范围内。上述层间填充剂优选为活性能量射线固化性树脂。上述活性能量射线固化性树脂例如是能够通过紫外线、电子射线等固化的树脂，具体而言，例如可以列举出丙烯酸类树脂(丙烯酸酯、氨基甲酸酯丙烯酸酯)、环氧类树脂、硅氧烷类树脂、橡胶类树脂、二甲苯类树脂等。上述二甲苯类树脂例如可以列举出烷基苯酚改性类型、甲阶酚醛、多元醇等亲水性的二甲苯类树脂或疏水性的二甲苯类树脂等。另外，上述层间填充剂不限于活性能量射线固化性树脂，例如可以为热固性树脂。
下面，对本发明详细地进行说明。但是，本发明并不受以下的记载的限制。
本发明的光学薄膜是用于图像显示装置的光学薄膜，如上所述，其特征在于，层间填充剂的粘度与薄膜表面的硅原子所占的原子比率(Si原子比率)具有上述式(1)的关系，并且薄膜表面的氧原子所占的原子比率(O原子比率)被设定为26atm%以上。作为本发明的光学薄膜，例如可以列举出形成有作为光学功能层的硬涂层的薄膜(硬涂薄膜)。以下，对于本发明的光学薄膜，以硬涂薄膜为例进行说明。需要说明的是，本发明的光学薄膜并不限定于硬涂薄膜。
本发明的硬涂薄膜在树脂薄膜表面上具有硬涂层，例如，可以列举图1所示的构成的薄膜。图1是本发明的硬涂薄膜的构成的一个例子的示意截面图。如图1所示，该硬涂薄膜100在树脂薄膜110上具有硬涂层120。
上述树脂薄膜没有特别限制，但优选为可见光的光线透射率优良(优选光线透射率为90%以上)、透明性优良的树脂薄膜(优选雾度值为1%以下的树脂薄膜)，例如，可以列举出日本特开2008-90263号公报中记载的透明塑料薄膜基材。作为上述树脂薄膜，优选使用光学上双折射少的树脂薄膜。本发明的硬涂薄膜例如也能够作为保护膜用于偏振片，在该情况下，作为上述树脂薄膜，优选为由三乙酰基纤维素(TAC)、聚碳酸酯、丙烯酸系聚合物、具有环状或降冰片烯结构的聚烯烃等形成的薄膜。另外，本发明中，如后所述，上述树脂薄膜也可以为起偏器自身。如果为这样的构成，则不需要由TAC等构成的保护层，能够使偏振片的结构简单化，因此使偏振片或图像显示装置的制造工序数减少，实现生产效率的提高。另外，如果为这样的构成，则能够使偏振片进一步薄层化。需要说明的是，上述树脂薄膜为起偏器的情况下，硬涂层发挥作为以往的保护层所起的作用。另外，如果为这样的构成，则例如在液晶单元表面上没有设置前面板的情况下，通过例如在液晶单元表面上安装硬涂薄膜，兼具有作为防护玻璃的功能。
上述树脂薄膜的厚度没有特别限制，例如，如果考虑强度、处理性等作业性以及薄层性等方面，则优选为10~500μm的范围，更优选为20~300μm的范围，最佳为30~200μm的范围。上述树脂薄膜的折射率没有特别限制。上述折射率例如为1.30~1.80的范围，优选为1.40~1.70的范围。
上述硬涂层例如使用包含紫外线反应性树脂以及溶剂的硬涂层形成材料来形成。作为上述紫外线反应性树脂，例如可以列举出通过紫外线固化的紫外线固化性树脂，也能够使用市售的紫外线固化型树脂等。
作为上述紫外线固化型树脂，例如，可以使用通过光(紫外线)固化的具有丙烯酸酯基以及甲基丙烯酸酯基中的至少一种基团的固化型化合物，例如可以列举出：硅氧烷树脂、聚酯树脂、聚醚树脂、环氧树脂、氨基甲酸酯树脂、醇酸树脂、螺缩醛树脂、聚丁二烯树脂、聚硫醇多烯树脂、多元醇等多官能化合物的丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯等低聚物或预聚物等。这些物质可以单独使用一种，也可以并用二种以上。
在上述紫外线反应性树脂中，例如，也可以使用具有丙烯酸酯基以及甲基丙烯酸酯基中的至少一种基团的反应性稀释剂。上述反应性稀释剂例如可以使用日本特开2008-88309号公报中记载的反应性稀释剂，例如，包括单官能丙烯酸酯、单官能甲基丙烯酸酯、多官能丙烯酸酯、多官能甲基丙烯酸酯等。作为上述反应性稀释剂，优选为三官能以上的丙烯酸酯、三官能以上的甲基丙烯酸酯。这是因为，能够使硬涂层的硬度优良。作为上述反应性稀释剂，例如也可以列举出：丁二醇甘油醚二丙烯酸酯、异氰脲酸的丙烯酸酯、异氰脲酸的甲基丙烯酸酯等。这些可以单独使用一种，也可以并用二种以上。
另外，上述硬涂层形成材料还可以含有反应引发剂，上述反应引发剂优选为紫外线反应型自由基产生引发剂。作为上述紫外线反应型自由基产生引发剂树脂，例如可以列举出：苯乙酮类、苯偶姻类、二苯甲酮类、氧化膦类、缩酮类、蒽醌类、硫噻吨酮类、偶氮化合物、过氧化物类、2,3-烷基二酮化合物类、二硫化物化合物类、氟代胺化合物类、芳香族锍类等。作为上述苯乙酮类，例如可以列举出：2,2-乙氧基苯乙酮、对甲基苯乙酮、1-羟基二甲基苯基酮、1-羟基环己基苯基酮、2-甲基-4-甲硫基-2-吗啉代苯丙酮、2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉代苯基)-丁酮等。作为上述苯偶姻类，例如可以列举出：苯偶姻苯磺酸酯、苯偶姻甲苯磺酸酯、苯偶姻甲基醚、苯偶姻乙基醚、苯偶姻异丙基醚等。作为上述二苯甲酮类，例如可以列举出：二苯甲酮、2,4-氯二苯甲酮、4,4-二氯二苯甲酮、对氯二苯甲酮等。作为上述氧化膦类，例如可以列举出：2,4,6-三甲基苯甲酰基二苯基氧化膦等。这些物质中，能够特别优选地使用汽巴精化公司制造的商品名“IRGACURE184”或“IRGACURE907”。这些物质可以单独使用一种，也可以并用二种以上。
上述溶剂没有特别限制，可以使用各种溶剂，可以单独使用一种，也可以并用二种以上。作为溶剂，没有特别限定，例如可以列举出：甲醇、乙醇、异丙醇、丁醇、2-甲氧基乙醇等醇类；丙酮、甲基乙基酮、甲基异丁基酮、环戊酮等酮类；乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯等酯类；二异丙基醚、丙二醇单甲基醚等醚类；乙二醇、丙二醇等二醇类；乙基溶纤剂、丁基溶纤剂等溶纤剂类；己烷、庚烷、辛烷等脂肪族烃类；苯、甲苯、二甲苯等芳香族烃类等。
在上述硬涂层形成材料中可以添加各种流平剂，由此能够使硬涂薄膜的外观变良好。作为上述流平剂，为了防止涂布不均(涂布面的均匀化)，例如，可以使用非反应性流平剂或反应性流平剂。两者中，优选为上述非反应性流平剂。在使用上述非反应性流平剂的情况下，通过后述的表面改性，例如容易降低上述硬涂层表面的Si原子比率。作为上述非反应性流平剂，没有特别限定，例如可以列举出：氟类流平剂以及硅氧烷类流平剂。作为上述反应性流平剂，没有特别限定，可以列举出：例如具有氟类或硅氧烷类骨架、例如具有反应性聚合基的流平剂。本发明的硬涂薄膜中，例如，根据在上述硬涂层上形成防反射层(低折射率层)等的情况等，可以适当选定流平剂。
上述流平剂的配合量是相对于上述紫外线反应性树脂100重量份例如为0.05~2重量份的范围。通过使上述流平剂在上述范围内，例如能够进一步防止上述硬涂层形成材料的涂布不均。优选为0.1~1.5重量份的范围，更优选为0.5~1.25重量份的范围。
如上所述，上述硬涂层例如是在氧浓度为500~50000ppm的气氛中形成的。通过在这样的氧浓度气氛中形成上述硬涂层，例如，在涂膜固化后进行碱处理等表面改性时，在本发明的硬涂薄膜表面上，容易除去硅原子(以及氟原子)，通过硬涂层表面上的O原子比率的提高、以及Si原子比率(以及F原子比率)的降低，可以使Si原子比率在适当的范围内，从而能够提高湿润性。据推测上述硬涂层表面中的O原子比率的提高是因为，例如，通过上述表面改性除去上述硬涂层表面中的Si原子以及F原子，在该部分中出现了来自于硬涂层形成材料中含有的紫外线反应性树脂等的O原子、或通过上述表面改性引入上述硬涂层的O原子。但是，本发明不受该推测的任何限制以及限定。上述硬涂层优选是在氧浓度为500~50000ppm的气氛中形成的，更优选是在氧浓度为2500~15000ppm的气氛中形成的。
如上所述，优选本发明的硬涂薄膜的表面进行了表面改性。通过对本发明的硬涂薄膜的表面进行上述表面改性，例如能够提高上述层间填充剂的湿润性。上述表面改性的方法例如可以列举出：碱处理(皂化处理)、等离子体照射处理、电晕照射处理、溶剂处理等，这些处理中，优选为碱处理。这些表面改性的方法可以单独进行一种，也可以组合进行多种。
作为上述溶剂处理，例如可以列举出：在上述硬涂层表面上使上述溶剂接触、清洗上述表面的方法。通过上述溶剂处理，例如能够冲洗上述硬涂层表面的附着物(例如包含硅原子的附着物)。上述溶剂处理中使用的溶剂没有特别限制，例如可以列举出：水、有机溶剂、无机溶剂、或它们的混合溶剂。作为上述有机溶剂，例如可以列举出：甲醇、乙醇等醇等。
作为上述碱处理，例如可以列举出：在上述硬涂层表面上使氢氧化钠水溶液、氢氧化钾水溶液等碱水溶液接触的方法，具体而言，例如可以列举出：在上述碱水溶液中浸渍上述硬涂薄膜的方法。上述浸渍中的碱水溶液的浓度、浸渍时间、温度等，例如可以适当设定。
作为上述等离子体照射处理，例如可以列举出N2、大气气氛下的等离子体放电处理。可以适当选择照射时间、放电电压等。由此，例如能够在不损害薄膜的外观的情况下除去硬涂层表面中的作为妨碍润湿的成分的硅原子(以及氟原子等)，并且能够使表面中的O原子比率提高，引起湿润性的提高。
作为上述电晕照射处理，例如可以列举出N2、大气气氛下的电晕放电处理。照射时间、放电电压等可以适当选择。由此，例如能够在不损害薄膜的外观的情况下除去硬涂层表面中的作为妨碍润湿的成分的硅原子(以及氟原子等)，并且能够使表面中的O原子比率提高，引起湿润性的提高。
在将本发明的硬涂薄膜与前面板隔着上述层间填充剂贴合的情况下，例如，本发明的硬涂薄膜的上述硬涂层侧的面成为与上述前面板的贴合面。因此，本发明的硬涂薄膜中，“光学薄膜的表面”是表示上述硬涂层表面(与上述树脂薄膜侧相反的一侧的面)，具体而言，例如是表示在从上述硬涂层表面到垂直深度方向上20nm以下的部分(表面部分)。
本发明的硬涂薄膜中，上述表面部分中的Si原子比率(atm%)与上述层间填充剂的粘度满足下述式(1)的关系。除此之外，上述表面部分中的O原子比率为26atm%以上。因此，本发明的硬涂薄膜是在上述硬涂层表面上能够均匀地涂布上述层间填充剂。由此，本发明的硬涂薄膜可以适宜用于前面板搭载型号的图像显示装置。如上所述，在液晶电视等图像显示装置的显示器表面上，通常配置有硬涂薄膜或防眩薄膜等光学薄膜，从市场整体来看，前面板搭载型号的图像显示装置仅为一部分。因此，从由上述市场的构件共通化带来的生产率提高的观点出发，期待开发能够与前面板搭载型号的图像显示装置、以及没有搭载前面板的型号的图像显示装置二者对应的硬涂薄膜、防眩薄膜等光学薄膜。在此，如上所述的硬涂薄膜、防眩薄膜等光学薄膜，在其表面上能够均匀地涂布层间填充剂是有利的，但如上所述，在上述光学薄膜的表面上涂布上述层间填充剂的情况下，上述层间填充剂被排斥而收缩形成凹陷，产生无法均匀地涂布这样的课题。本发明解决了上述课题，由此例如能够实现由上述市场的构件共通化带来的生产率提高。需要说明的是，本发明中，上述层间填充剂的均匀的涂布是指，例如，在常温下从上述层间填充剂的涂布开始直到经过预定时间的期间，使在上述硬涂层上上述层间填充剂的被排斥而收缩形成凹陷的速度慢、润湿扩大的状态得以保持。这样，能够保持预定时间的润湿扩大的状态，由此例如能够确保前面板与本发明的硬涂薄膜隔着上述层间填充剂贴合时的成品率。
b≤0.2a+1.8(1)
a：层间填充剂的粘度(Pa·s)
b：硬涂层表面的Si原子比率(atm%)
据推测本发明的硬涂薄膜发挥上述效果是基于以下的机理。但是，本发明不受该推测的任何限制以及限定。通常来说，在硬涂薄膜中，硬涂层表面的Si原子比率高、硬涂层表面的O原子比率低的情况下，在该硬涂层表面上进一步再涂形成其他层的形成材料时，上述形成材料在上述硬涂层表面上被排斥而收缩形成凹陷。因此，本发明中，例如，通过在上述预定的氧浓度的气氛中形成硬涂层，进行上述表面改性，从而使上述硬涂层表面的上述O原子比率为26atm%以上，并且将具有相对于上述硬涂层表面的上述Si原子比率满足上述式(1)的关系的粘度的层间填充剂再涂在上述硬涂层表面上，由此能够均匀地涂布上述层间填充剂。在此，本发明中，形成上述硬涂层时，优选提高上述硬涂层形成材料中的Si原子比率。这是因为，以降低硬涂层表面的硅(Si)的原子比率的方式将硬涂层形成材料涂布在上述树脂薄膜上的情况下，在涂布膜(硬涂层)上发生涂布不均，硬涂薄膜的外观变差。通过提高上述硬涂层形成材料中的Si原子比率，能够防止涂布不均。硬涂薄膜中，在硬涂层上形成其他层的形成材料的再涂性与硬涂薄膜的外观性处于折衷选择的关系，通过进行如上所述的操作，本发明的硬涂薄膜能够得到再涂性优良、并且例如外观性优良的硬涂薄膜。
对于本发明的硬涂薄膜来说，如上所述，通过将上述硬涂层进行例如上述表面改性，能够使上述硬涂层表面的Si原子比率降低，并且使O原子比率增加。因此，例如，在上述式(1)的关系中，可以使用更低粘度的层间填充剂，从而可以扩大能够应用的层间填充剂的范围。本发明中，通过上述表面改性，优选使上述硬涂层表面的O原子比率为26atm%以上。通过进行这样的操作，例如，可以使上述Si原子比率充分地降低。另外，通过上述表面改性，不仅能够除去硅，而且还能够除去例如氟等表面自由能量低的成分(元素)。
作为控制上述硬涂层表面的Si原子比率以及O原子比率的方法，例如可以列举出：使下述化学式(1)~(3)所示的结构的化合物在上述硬涂层表面上存在的方法。作为使上述化合物在上述硬涂层表面上存在的方法，例如可以列举出如下方法：在硬涂层形成材料中添加上述化合物，将该硬涂层形成材料在上述树脂薄膜上涂布，将该涂膜干燥、固化。
上述化学式(1)中，R例如为环氧基、脂环式环氧基、氨基、聚醚基、甲基丙烯酸基、羧基、苯酚基、苯基、巯基、羟基，n1例如为10~2000。上述化学式(2)以及上述化学式(3)中的n2以及n3为任意的正整数。
上述硬涂层表面的O原子比率为26atm%以上，优选为30atm%以上。
上述硬涂层表面的硅原子比率以满足上述式(1)的关系的方式设定，优选为2.4atm%以下，更优选为1.8atm%以下。
上述层间填充剂的粘度以满足上述式(1)的关系的方式设定，上述粘度例如为0.5~15Pa·s的范围。在上述硬涂层上产生的层间填充剂的被排斥而收缩形成凹陷通常是由上述层间填充剂与上述硬涂层之间的表面自由能量差大引起的。在此，如果上述粘度为0.5Pa·s以上，则例如上述层间填充剂在硬涂层上不会活动(发挥作用)，上述层间填充剂彼此之间也不会发生聚集，因此不会促进上述被排斥而收缩形成凹陷的情况发生。另外，如果上述粘度为15Pa·s以下，则例如在上述硬涂层上能够更均匀的涂布。上述粘度优选为1~10Pa·s的范围，更优选为3~8.5Pa·s的范围。
在上述硬涂层中可以包含粒子。上述粒子使所形成的硬涂层表面成为凹凸形状，赋予防眩性，而且控制上述硬涂层的雾度值，因此可以添加到上述硬涂层形成材料中。上述硬涂层的雾度值可以通过控制上述粒子与上述紫外线反应性树脂的折射率差来进行设计。作为上述粒子，例如有：无机粒子和有机粒子。上述无机粒子没有特别限制，例如可以列举出：氧化硅粒子、氧化钛粒子、氧化铝粒子、氧化锌粒子、氧化锡粒子、碳酸钙粒子、硫酸钡粒子、滑石粒子、高岭土粒子、硫酸钙粒子等。另外，上述有机粒子没有特别限制，例如可以列举出：聚甲基丙烯酸甲酯树脂粉末(PMMA微粒)、硅氧烷树脂粉末、聚苯乙烯树脂粉末、聚碳酸酯树脂粉末、丙烯酸苯乙烯树脂粉末、苯并胍胺树脂粉末、三聚氰胺树脂粉末、聚烯烃树脂粉末、聚酯树脂粉末、聚酰胺树脂粉末、聚酰亚胺树脂粉末、聚氟乙烯树脂粉末等。这些无机粒子以及有机粒子可以单独使用一种，也可以并用二种以上。
上述粒子的重量平均粒径优选为0.5~10μm的范围内。通过将上述粒子的重量平均粒径设定在上述范围内，例如能够得到防眩性更优良、并且可防止白点的硬涂薄膜。上述粒子的重量平均粒径更优选为2~8μm的范围内。需要说明的是，上述粒子的重量平均粒径例如可以通过库尔特计数器法测定。例如，使用利用小孔电阻法的粒度分布测定装置(商品名：COULTERMULTISIZER，Beckmancoulter公司制造)，测定与粒子通过上述小孔时的粒子的体积相当的电解液的电阻，由此测定上述粒子的数目和体积，计算出重量平均粒径。
上述粒子的形状没有特别限制，例如，可以为微球状的大致球形，也可以为粉末等不定形，优选为大致球形，更优选长径比为1.5以下的大致球形的粒子，最优选为球形的粒子。
上述硬涂层中的上述粒子的比例是相对于上述紫外线反应性树脂100重量份，优选为0.5~20重量份的范围，更优选为3~10重量份的范围。通过设定为上述范围，例如能够得到防眩性更优良、并且可防止白点的硬涂薄膜。
在上述硬涂层形成材料中，根据需要，在不损害性能的范围内，可以添加颜料、填充剂、分散剂、增塑剂、表面活性剂、防污剂、抗氧化剂、触变化剂等。这些添加剂可以单独使用一种，也可以并用二种以上。
上述硬涂层的厚度是通过测定本发明的硬涂薄膜的总厚度，从上述总厚度中减去上述树脂薄膜的厚度来计算的上述硬涂层的厚度。上述总厚度以及上述树脂薄膜的厚度例如可以通过微表（microgauge）式厚度计测定。
上述硬涂层的厚度没有特别限制，优选为1~20μm的范围。通过将上述硬涂层的厚度设定为上述范围，例如可以防止硬涂薄膜中的卷曲的发生，从而能够避免搬运性不良等生产率低下的问题。上述硬涂层的厚度更优选为2~15μm的范围，进一步优选为3~10μm的范围。
在对本发明的硬涂薄膜赋予防眩性的情况下，本发明的硬涂薄膜中的雾度值没有特别限制，例如可以根据安装该硬涂薄膜的显示器的用途等适当设定。
本发明的硬涂薄膜例如是按照如下的方法来形成：首先，准备包含上述紫外线反应性树脂以及上述溶剂的硬涂层形成材料，将上述硬涂层形成材料在上述树脂薄膜的至少一个面上涂布而形成涂膜，照射紫外线而使上述涂膜固化，从而形成上述硬涂层。另外，在上述形成的硬涂层表面可以进行上述表面改性。本发明的硬涂薄膜的制造中，也可以并用通过利用模具进行的转印方式、喷砂、压花辊等适当的方式赋予凹凸形状的方法等。
作为上述涂布方法，例如，可以使用喷涂法、模涂法、旋涂法、喷雾涂布法、凹版涂布法、辊涂法、刮棒涂布法等涂布法。
在上述涂膜的上述固化之前，优选使上述涂膜干燥。上述干燥例如可以为自然干燥，可以为吹风的风干，也可以为加热干燥，也可以为将这些方法组合而成的方法。干燥温度、干燥时间等可以适当选择。
如上所述，上述涂膜的固化优选在氧浓度为500~50000ppm的气氛中进行。通过在这样的条件下使涂膜固化而形成硬涂层，例如，在涂膜固化后进行碱处理等表面改性时，在本发明的硬涂薄膜表面中容易除去硅原子(以及氟原子)，通过硬涂层表面中的O原子比率的提高以及Si原子比率(以及F原子比率)的降低，能够使Si原子比率在适当的范围内，从而能够提高湿润性。据推测上述硬涂层表面中的O原子比率的提高是因为，例如通过上述表面改性除去上述硬涂层表面中的Si原子以及F原子，在该部分中出现了来自于硬涂层形成材料中所含有的紫外线反应性树脂等的O原子、或通过上述表面改性引入上述硬涂层中的O原子。但是，本发明不受该推测的任何限制以及限定。
上述紫外线照射的照射量以紫外线波长365nm处的累积曝光量计优选为50~500mJ/cm2。如果上述照射量为50mJ/cm2以上，则固化变得更充分，所形成的硬涂层的硬度也更加充分。另外，如果上述照射量为500mJ/cm2以下，则能够防止所形成的硬涂层的着色。
本发明中，如上所述，在形成上述硬涂层时，例如，通过提高上述硬涂层形成材料中的Si原子比率，从而防止涂布不均，制造具有优良的外观的硬涂薄膜。上述硬涂层形成材料的固体成分中的Si原子比率优选为1~7atm%的范围，更优选为1.5~7atm%的范围。这样，调节上述硬涂层形成材料的固体成分中的Si原子比率的方法例如也可以称为硬涂薄膜的外观提高方法。
如上所述，上述表面改性优选上述碱处理。碱处理的具体例如上所述。
如上所述，通过在上述树脂薄膜的至少一个面上形成上述硬涂层，能够制造本发明的硬涂薄膜。需要说明的是，本发明的硬涂薄膜也可以通过上述方法以外的制造方法来制造。关于本发明的硬涂薄膜的硬度，就铅笔硬度而言，也受到层的厚度的影响，但优选具有2H以上的硬度。另外，该例子的硬涂层为单层，但本发明的硬涂薄膜不限定于此，上述硬涂层也可以为层叠有二层以上的多层结构。上述硬涂层为多层结构的情况下，上述表面改性例如是对最外层的层实施即可。
本发明的硬涂薄膜中，可以在上述硬涂层上配置防反射层(低折射率层)。例如，在图像显示装置中安装硬涂薄膜的情况下，使图像的视认性降低的要素之一可以列举出：在空气与硬涂层界面上的光的反射。防反射层使其表面反射降低。需要说明的是，硬涂层以及防反射层可以在树脂薄膜的双面上形成。在该情况下，在本发明的硬涂薄膜的表面中，位于与上述前面板贴合的一侧的表面的硬涂层表面的Si原子比率以及O原子比率为如上所述即可。另外，硬涂层以及防反射层也可以分别为层叠有二层以上的多层结构。在上述硬涂层上配置上述防反射层的情况下，上述表面改性是例如对最外层的防反射层实施即可。
本发明中，上述防反射层是将严格地控制厚度以及折射率后的光学薄膜或上述光学薄膜层叠二层以上而得到的层。上述防反射层利用光的干渉效应将入射光与反射光的反向的相位彼此抵消，由此显示出防反射功能。显示出防反射功能的可见光线的波长区域例如为380~780nm，特别是视感度高的波长区域为450~650nm的范围，优选以使作为其中心波长的550nm的反射率达到最小的方式设计防反射层。
在基于光的干渉效应的上述防反射层的设计中，作为使其干渉效应提高的方法，例如有：增大上述防反射层与上述硬涂层的折射率差的方法。通常，在层叠有二层至五层的光学薄层(严格地控制厚度以及折射率后的薄膜)的结构的多层防反射层中，通过将折射率不同的成分仅以预定的厚度形成多层，防反射层的光学设计的自由度提高，从而能够使防反射效果进一步提高，可以使分光反射特性在可见光区域内也是均匀(平坦)的。对于上述光学薄膜而言，由于要求高厚度精度，因此通常来说，各层的形成通过干式的真空蒸镀、溅射、CVD等实施。
在上述树脂薄膜的一个面上形成有上述硬涂层的硬涂薄膜中，为了防止卷曲发生，可以对另一个面进行溶剂处理。另外，在上述树脂薄膜的一个面上形成有上述硬涂层的硬涂薄膜中，为了防止卷曲发生，可以在另一个面上形成透明树脂层。
如上所述，关于本发明的光学薄膜，以硬涂薄膜为例进行了说明，但本发明的光学薄膜并不限于硬涂薄膜。本发明的光学薄膜例如也可以为在上述树脂薄膜上形成有上述硬涂层以外的光学功能层的薄膜。作为上述硬涂层以外的光学功能层，例如可以列举出防眩层、防反射层、光学补偿层等。在这样的光学薄膜的情况下，将与上述前面板贴合的面作为形成上述光学功能层的面，上述光学功能层的表面与上述硬涂薄膜中说明的同样。
本发明的光学薄膜也可以为没有形成上述光学功能层的薄膜。在这样的光学薄膜的情况下，光学薄膜的与上述前面板贴合的面的表面与在上述硬涂薄膜中所说明的同样。用于该光学薄膜的树脂薄膜例如可以列举出与上述同样的树脂薄膜。另外，该光学薄膜也可以为偏振片。即，在上述起偏器的单面或双面上设置有透明保护膜的偏振片的情况下，可以将设置有上述透明保护膜的面作为与上述前面板的贴合面，也可以将没有设置上述透明保护膜的面(上述起偏器的面)作为与上述前面板的贴合面。上述贴合面的表面与上述硬涂薄膜中所说明的同样。如上所述，该偏振片中的上述保护膜或起偏器优选进行了上述表面改性。作为上述透明保护膜形成材料，例如可以列举出与上述树脂薄膜同样的材料。
本发明的硬涂薄膜通常可以将上述树脂薄膜侧(与前面板贴合面相反的一侧)通过粘合剂或粘接剂贴合在用于LCD等的光学构件上。需要说明的是，该贴合时，对于上述树脂薄膜表面(与前面板贴合面相反的一侧的表面)，可以进行如上所述的各种表面处理。
作为上述光学构件，例如可以列举出起偏器或偏振片。偏振片通常为在起偏器的单侧或两侧具有透明保护膜的构成。在起偏器的双面上设置有透明保护膜的情况下，表面和背面的透明保护膜可以为相同材料，也可以为不同的材料。偏振片通常配置在液晶单元的两侧。另外，偏振片以2片偏振片的吸收轴彼此大致垂直相交的方式配置。
下面，关于层叠有本发明的硬涂薄膜的光学构件，以偏振片为例进行说明。通过将本发明的硬涂薄膜使用粘接剂或粘合剂等与起偏器或偏振片层叠，可以得到具有本发明的功能的偏振片。
作为上述起偏器，没有特别限定，可以使用各种起偏器。作为上述起偏器，例如可以列举出：使聚乙烯醇类薄膜、部分缩甲醛化聚乙烯醇类薄膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物类部分皂化薄膜等亲水性高分子薄膜吸附碘或二色性染料等二色性物质、进行单向拉伸而成的起偏器、聚乙烯醇的脱水处理物或聚氯乙烯的脱盐酸处理物等多烯类取向薄膜等。
作为在上述起偏器的单面或双面上设置的透明保护膜，优选透明性、机械强度、热稳定性、水分遮蔽性、相位差值的稳定性等优良的保护膜。作为上述透明保护膜形成材料，例如可以列举出与上述树脂薄膜同样的材料。
作为上述透明保护膜，可以列举出日本特开2001-343529号公报(W001/37007)中记载的高分子膜。上述高分子膜可以通过将树脂组合物挤出成型为薄膜状来制造。上述高分子膜的相位差小，光弹性系数小，因此在应用于偏振片等保护膜的情况下，能够消除由变形引起的不均等不良情况，另外，由于透湿度小，因此加湿耐久性优良。
从偏振特性和耐久性等观点出发，上述透明保护膜优选为三乙酰基纤维素等纤维素类树脂制的薄膜以及降冰片烯类树脂制的薄膜。作为上述透明保护膜的市售品，例如可以列举出商品名“Fujitac”（富士胶片株式会社制造）、商品名“Zeonor”（日本Zeon公司制造）、商品名“Arton”（JSR公司制造）等。上述透明保护膜的厚度没有特别限制，从强度、处理性等作业性、薄层性等观点出发，例如为1~500μm的范围。
层叠有上述硬涂薄膜的偏振片的构成没有特别限制，例如，可以为在上述硬涂薄膜上依次层叠有透明保护膜、上述起偏器以及上述透明保护膜的构成，也可以为在上述硬涂薄膜上依次层叠有上述起偏器、上述透明保护膜的构成。
图2中示出了本发明的图像显示装置的构成的一个例子。图2是本发明的图像显示装置的构成的一个例子的示意截面图。如图2所示，该图像显示装置200具备：图像显示装置主体210、硬涂薄膜100和前面板220。在图像显示装置主体210的视认侧表面上配置有硬涂薄膜100。该硬涂薄膜100为上述本发明的硬涂薄膜。硬涂薄膜100与前面板220隔着层间填充剂230贴合。
上述图像显示装置主体例如可以列举出LCD、PDP、ELD、CRT等。上述LCD的情况下，通过将液晶单元、偏振片等光学构件、以及根据需要使用的照明系统(背光等)等各构成部件适当地组装，组入驱动电路等，能够制造上述图像显示装置主体。
上述前面板没有特别限制，可以使用以往公知的前面板。上述前面板的材质、厚度等例如可以根据上述图像显示装置的用途等适当选择。
作为上述层间填充剂，例如可以使用上述层间填充剂，可以单独使用一种，也可以并用多种。上述层间填充剂优选为无溶剂层间填充剂。
上述本发明的硬涂薄膜与上述前面板的贴合例如按照如下的方法来进行。即，首先，准备上述层间填充剂。此时，以满足与上述本发明的硬涂薄膜的上述硬涂层表面的Si原子比率的关系(上述式(1)的关系)的方式，将上述层间填充剂的粘度设定成期望的值。这样，将上述层间填充剂的粘度设定成期望的值的方法例如也可以称为层间填充剂被排斥而收缩形成凹陷的防止方法。接着，在上述硬涂层表面上涂布上述层间填充剂，在上述层间填充剂的涂膜上重合上述前面板。该状态下，通过上述层间填充剂的固化等，将上述本发明的硬涂薄膜与上述前面板贴合。本发明中，在上述硬涂层表面上涂布上述层间填充剂时，在上述硬涂层表面中，上述层间填充剂不会被排斥而收缩形成凹陷，上述层间填充剂能够保持均匀地润湿扩大的状态。
关于本发明的图像显示装置，不仅限于在上述图像显示装置主体的表面上配置的光学薄膜为本发明的硬涂薄膜的情况。关于本发明的图像显示装置，除了本发明的硬涂薄膜之外，形成有上述硬涂层以外的光学功能层的光学薄膜、没有形成上述光学功能层的光学薄膜、上述偏振片等也可以配置在上述图像显示装置主体的表面上。
本发明的图像显示装置可以用于任意适当的用途。其用途例如为个人电脑显示屏、笔记本电脑、复印机等OA设备、手机、钟表、数码相机、便携信息终端(PDA)、便携游戏机等便携设备、摄像机、电视、微波炉等家庭用电器设备、后监视器、汽车导航系统用显示屏、汽车音响等车载用设备、商业店铺用信息用显示屏等展示设备、监视用显示屏等警备设备、护理用显示屏、医疗用显示屏等护理·医疗设备等。
实施例
下面，关于本发明的实施例，与比较例一起进行说明。但是，本发明不受以下的实施例以及比较例限制。另外，下述实施例以及比较例中的各种特性通过下述的方法进行评价或测定。
(层间填充剂的被排斥而收缩形成的凹陷性评价)
将在通过实施例以及比较例记载的方法制作的光学薄膜的没有涂布涂布液的面(树脂薄膜侧)上转印形成粘合剂而得到的薄膜贴附在8×8cm的玻璃上，由此制成试样。在上述光学薄膜上滴加各粘度的无溶剂树脂(层间填充剂)，使用旋涂机，以2000rpm、15秒的条件对上述光学薄膜的整个面均匀地进行涂布。静置30分钟后，在从上述光学薄膜的各边部朝向内侧，具有由上述层间填充剂的被排斥而收缩形成凹陷所引起的涂膜收缩的情况下，测定该凹陷宽度。即，在涂膜发生收缩的情况下，从上述光学薄膜的4个边的各边部沿垂直方向朝向内侧，将用游标卡尺分别在各边对直到上述层间填充剂的凹陷量达到最大的部位处的距离(上述光学薄膜中，凹陷的结果是，没有被上述层间填充剂被覆的部分与上述光学薄膜的各边之间的最长的垂直距离)进行测定，将其作为凹陷宽度(n=4)。另外，以从这4个边得到的凹陷宽度的平均值作为测定值(平均凹陷宽度)。
(利用ESCA(化学分析用电子能谱法，ElectronSpectroscopyforChemicalAnalysis)进行的原子比率测定)
将上述光学薄膜切割成约5mm见方而得到的试样片(试样)配置在钼(Mo)板上，将各个Mo板分别固定到试样台上。使用ULVAC-PHI株式会社制“Quantum2000”，进行原子强度的测定。X射线源为单色AlKα、X射线功率为30W(15kV)、测定区域为200μmφ、光电子出射角相对于试样表面为45°。键合能量的补正是通过将由C1s光谱的C-C键引起的峰补正为285.0eV来进行。中和条件通过将中和枪和Ar离子枪(中和模式)并用来进行。根据上述条件，能够对从试样的最表面到深度约5~10nm的区域的各原子强度比进行测定。为了将试样表面预先除去污染物，通过以不破坏试样表面的程度擦拭试样表面来进行清洗。另外，通过C60离子枪进行蚀刻除去，进行污染物的除去。
(薄膜的外观评价)
在所得到的光学薄膜的没有涂布涂布液的面上，将黑色PET薄膜(Lintec株式会社制造、厚度为75μm)用粘合剂贴合，制作消除了背面的反射的试样。用荧光灯(三波长光源)照射涂布液涂布面一侧并进行目视检查，用下述的基准进行判定。上述目视检査根据在树脂薄膜上形成的防眩性硬涂层的有无来进行划分，用各自的评价基准进行判定(判定基准1以及2)。
判定基准1(有防眩性硬涂层)
G：没有观察到不均(没有黑白的深浅，赋予均匀的防眩性)。
NG：不均显著(明显可见黑白的深浅状态)。
判定基准2(无防眩性硬涂层)
G：没有观察到不均(没有发生干渉不均)。
NG：不均显著(发生干渉不均，明显可见虹彩色的图样)。
[实施例1]
作为透明支撑体(树脂薄膜)，准备80μm的厚度的三乙酰基纤维素膜(富士胶片株式会社制、商品名“TAC-TD80U”)。将多官能氨基甲酸酯丙烯酸酯(DIC株式会社制、商品名“UNIDIC17-806”)100重量份、光聚合引发剂(汽巴精化公司制造、商品名“IRGACURE907”)5.0重量份、光扩散性粒子(积水化成品工业株式会社制聚苯乙烯/聚甲基丙烯酸甲酯共聚粒子、商品名“SSX103DXE”、重量平均粒径为3.0μm)5.0重量份、作为溶剂的异丙醇(IPA)79.2重量份以及环戊酮(CPN)34.0重量份、氟类流平剂(DIC株式会社制、商品名“MEGAFACF556”)1.0重量份混合，制备涂布液(硬涂剂)。使用绕线棒#7涂布该涂布液，用干燥烘箱在60℃的气氛下干燥1分钟，使溶剂挥发，形成涂布膜。然后，在氧浓度为5000ppm的气氛下使用160W/cm2的空冷水银灯(iGrafx株式会社制)，照射照度为40mW/cm2、照射量为250mJ/cm2的紫外线，使上述涂布膜固化。这样，在上述树脂薄膜上形成防眩性硬涂层(防眩性硬涂薄膜)。将上述防眩性硬涂薄膜在调节为10重量%浓度的NaOH水溶液中(55℃)浸渍20秒，然后，用干燥烘箱在65℃的气氛下使其干燥30秒，得到实施例1的光学薄膜。使用丙烯酸类单体(新中村化学株式会社制、商品名“DPHA”、粘度为5.5Pa·s/25℃)作为层间填充剂，进行凹陷性评价。
[实施例2]
除了将涂布膜固化时的氧浓度设定为10000ppm气氛以外，通过与实施例1同样的方法制作实施例2的光学薄膜，使用与实施例1同样的丙烯酸类单体(粘度为5.5Pa·s/25℃)作为层间填充剂，进行凹陷性评价。
[实施例3]
除了将涂布膜固化时的氧浓度设定为7500ppm气氛以外，通过与实施例1同样的方法制作实施例3的光学薄膜，使用与实施例1同样的丙烯酸类单体(粘度为5.5Pa·s/25℃)作为层间填充剂，进行凹陷性评价。
[实施例4]
通过与实施例1同样的方法制作实施例4的光学薄膜，使用UV固化型粘接剂(SONYCHEMICAL株式会社制、无溶剂型UV反应型粘接剂、粘度为8.5Pa·s/25℃)作为层间填充剂，进行层间填充剂的凹陷性评价。
[实施例5]
除了将涂布膜固化时的氧浓度设定为7500ppm气氛以外，通过与实施例1同样的方法制作实施例5的光学薄膜，使用无溶剂丙烯酸酯树脂(日本合成株式会社制、商品名“ルシフラ一ル12”、粘度为1.0Pa·s/25℃)作为层间填充剂，进行层间填充剂的凹陷性评价。
[实施例6]
通过与实施例2同样的方法制作实施例6的光学薄膜，使用与实施例5同样的无溶剂丙烯酸酯树脂(粘度为1.0Pa·s/25℃)作为层间填充剂，进行层间填充剂的凹陷性评价。
[实施例7]
通过与实施例2同样的方法制作实施例7的光学薄膜，使用与实施例4同样的UV固化型粘接剂(粘度为8.5Pa·s/25℃)作为层间填充剂，进行层间填充剂的凹陷性评价。
[实施例8]
通过与实施例3同样的方法制作实施例8的光学薄膜，使用与实施例4同样的UV固化型粘接剂(粘度为8.5Pa·s/25℃)作为层间填充剂，进行层间填充剂的凹陷性评价。
[实施例9]
除了将实施例1中的氟类流平剂设为DIC株式会社制、商品名“MEGAFACF477”，将涂布膜固化时的氧浓度设为150ppm气氛以外，通过与实施例1同样的方法制作实施例9的光学薄膜，使用与实施例5同样的无溶剂丙烯酸酯树脂(粘度为1.0Pa·s/25℃)作为层间填充剂，进行层间填充剂的凹陷性评价。
[实施例10]
通过与实施例9同样的方法制作实施例10的光学薄膜，使用与实施例1同样的丙烯酸类单体(粘度为5.5Pa·s/25℃)作为层间填充剂，进行层间填充剂的凹陷性评价。
[实施例11]
通过与实施例9同样的方法制作实施例11的光学薄膜，使用与实施例4同样的UV固化型粘接剂(粘度为8.5Pa·s/25℃)作为层间填充剂，进行层间填充剂的凹陷性评价。
[实施例12]
除了将涂布膜固化时的氧浓度设定为2500ppm气氛以外，通过与实施例1同样的方法制作实施例12的光学薄膜，使用与实施例1同样的丙烯酸类单体(粘度为5.5Pa·s/25℃)作为层间填充剂，进行层间填充剂的凹陷性评价。
[实施例13]
除了将涂布膜固化时的氧浓度设为2500ppm气氛以外，通过与实施例1同样的方法制作实施例13的光学薄膜，使用与实施例4同样的UV固化型粘接剂(粘度为8.5Pa·s/25℃)作为层间填充剂，进行层间填充剂的凹陷评价。
[实施例14]
作为树脂薄膜，准备与实施例1同样的三乙酰基纤维素膜，将该树脂薄膜在调节为10重量%浓度的NaOH水溶液中(55℃)浸渍20秒后，用干燥烘箱在65℃的气氛下干燥30秒，制作实施例14的光学薄膜，使用与实施例1同样的丙烯酸类单体(粘度为5.5Pa·s/25℃)作为层间填充剂，进行凹陷性评价。
[比较例1]
作为流平剂，除了添加硅氧烷类反应性流平剂(DIC株式会社制、商品名“GRANDICPC4100”)代替氟类流平剂以外，与实施例1同样地制备涂布液(硬涂剂)。除了使用该涂布液以外，通过与实施例1同样的方法制作比较例1的光学薄膜，使用与实施例1同样的丙烯酸类单体(粘度为5.5Pa·s/25℃)作为层间填充剂，进行凹陷性评价。
[比较例2]
通过与比较例1同样的方法制作比较例2的光学薄膜，使用与实施例5同样的无溶剂丙烯酸酯树脂(粘度为1.0Pa·s/25℃)，进行层间填充剂的凹陷性评价。
[比较例3]
通过与比较例1同样的方法制作比较例3的光学薄膜，使用与实施例4同样的UV固化型粘接剂(粘度为8.5Pa·s/25℃)作为层间填充剂，进行层间填充剂的凹陷性评价。
[比较例4]
除了将涂布膜固化时的氧浓度设为150ppm气氛以外，通过与实施例1同样的方法制作比较例4的光学薄膜，使用与实施例5同样的无溶剂丙烯酸酯树脂(粘度为1.0Pa·s/25℃)作为层间填充剂，进行层间填充剂的凹陷性评价。
[比较例5]
通过与实施例1同样的方法制作比较例5的光学薄膜，使用与实施例5同样的无溶剂丙烯酸酯树脂(粘度为1.0Pa·s/25℃)作为层间填充剂，进行层间填充剂的凹陷性评价。
[比较例6]
除了将涂布膜固化时的氧浓度设为150ppm气氛以外，通过与实施例1同样的方法制作比较例6的光学薄膜，使用与实施例1同样的丙烯酸类单体(粘度为5.5Pa·s/25℃)作为层间填充剂，进行层间填充剂的凹陷性评价。
[比较例7]
通过与比较例6同样的方法制作比较例7的光学薄膜，使用与实施例4同样的UV固化型粘接剂(粘度为8.5Pa·s/25℃)作为层间填充剂，进行层间填充剂的凹陷性评价。
[比较例8]
除了将涂布膜固化时的氧浓度设为2500ppm气氛以外，通过与实施例1同样的方法制作比较例8的光学薄膜，使用与实施例5同样的无溶剂丙烯酸酯树脂(粘度为1.0Pa·s/25℃)作为层间填充剂，进行层间填充剂的凹陷性评价。
将有关上述得到的实施例1~14、比较例1~8的各光学薄膜的各种特性的测定或评价结果示于下述表1中。
表1
如上述表1所示，关于形成有防眩性硬涂层的实施例1~13的光学薄膜，层间填充剂的凹陷宽度为14mm以下，显示良好的均匀涂布性，另外，实施例1~4、6~8、10~13的光学薄膜中，层间填充剂的凹陷宽度为10mm以下，显示更良好的均匀涂布性。另外，关于没有形成防眩性硬涂层的实施例14的光学薄膜，Si原子比率与层间填充剂粘度的关系也满足上述式(1)，由此没有使层间填充剂凹陷(层间填充剂的凹陷宽度：0mm)。另外，关于实施例1~14的光学薄膜，层间填充剂涂布前的光学薄膜外观良好。另一方面，关于比较例1~5以及8，表面改性后的Si原子比率与层间填充剂粘度的关系不满足上述式(1)，上述凹陷宽度为大于15mm的值。另外，关于比较例6以及7，光学薄膜表面的O原子比率低于26atm%，上述凹陷宽度为大于15mm的值。表面改性后的Si原子比率高的比较例1~3中，使用了反应性流平剂，据认为该条件下的表面改性不能使Si原子比率降低。
图3(a)的图中，示出了实施例1~14、比较例1~3、5以及8中的光学薄膜表面的硅原子所占的原子比率与层间填充剂的粘度的关系。图3(a)中，横坐标表示层间填充剂的粘度(Pa·s)，纵坐标表示光学薄膜表面的Si原子比率(atm%)。由各实施例以及各比较例的绘制图，通过BoxWilson法，如图3(b)所示，计算出b=0.2a+1.8(a：层间填充剂的粘度(Pa·s)、b：光学薄膜表面的Si原子比率(atm%)、R2=0.9527)。
工业实用性
根据本发明，能够提供在显示器表面的光学薄膜上能够均匀地涂布层间填充剂、并且能够用于前面板搭载型号的光学薄膜。因此，本发明的光学薄膜的用途不受限制，可以应用在广泛的领域中。例如，可以适宜地用于偏振片等光学构件、液晶面板、以及LCD(液晶显示器)和OLED(有机EL显示器)等图像显示装置等中。
本发明的光学薄膜是用于图像显示装置的光学薄膜，其特征在于，将在上述光学薄膜上隔着层间填充剂贴合前面板时的上述层间填充剂的粘度(Pa·s)除去测定单位而得到的无量纲的数（准数）设为a，将上述光学薄膜表面的硅原子所占的原子比率(atm%)除去测定单位而得到的无量纲的数（准数）设为b时，满足下述式(1)的关系，并且上述光学薄膜表面的氧原子所占的原子比率为26atm%以上，
b≤0.2a+1.8(1)。

Claims (13)

1.一种光学薄膜，其是用于图像显示装置的光学薄膜，其特征在于，
将在所述光学薄膜上隔着层间填充剂贴合前面板时的所述层间填充剂的以单位Pa·s表示的粘度设为a，将所述光学薄膜表面的硅原子所占的以单位atm％表示的原子比率设为b时，满足下述式(1)的关系，并且所述光学薄膜表面的氧原子所占的原子比率为26atm％以上，
b≤0.2a+1.8(1)。
2.根据权利要求1所述的光学薄膜，其特征在于，所述光学薄膜是形成有硬涂层的薄膜。
3.根据权利要求2所述的光学薄膜，其特征在于，所述硬涂层是在氧浓度为500～50000ppm的气氛中形成的。
4.根据权利要求2所述的光学薄膜，其特征在于，所述硬涂层含有流平剂。
5.根据权利要求4所述的光学薄膜，其特征在于，所述流平剂为非反应性流平剂。
6.根据权利要求1所述的光学薄膜，其特征在于，所述光学薄膜的表面进行了表面改性，
所述表面改性是通过选自溶剂处理、等离子体照射处理以及电晕照射处理中的至少一种处理来进行的。
7.根据权利要求1所述的光学薄膜，其特征在于，所述光学薄膜的表面进行了表面改性，
所述表面改性是通过碱处理来进行的。
8.一种图像显示装置，其是具备前面板的图像显示装置，其特征在于，
在所述图像显示装置的表面上配置有光学薄膜，所述光学薄膜与所述前面板隔着层间填充剂贴合，
所述光学薄膜为权利要求1所述的光学薄膜。
9.根据权利要求8所述的图像显示装置，其特征在于，所述层间填充剂为活性能量射线固化性树脂。
10.一种图像显示装置的制造方法，其是具备前面板以及光学薄膜的图像显示装置的制造方法，其特征在于，包括：
在所述光学薄膜表面上涂布层间填充剂的涂布工序、以及
将涂布有所述层间填充剂的光学薄膜与所述前面板贴合的贴合工序，
其中，所述光学薄膜为权利要求1所述的光学薄膜。
11.根据权利要求10所述的制造方法，其特征在于，
所述光学薄膜为形成有硬涂层的硬涂薄膜，
所述涂布工序中，在所述硬涂层表面上涂布所述层间填充剂。
12.根据权利要求10所述的制造方法，其特征在于，在所述涂布工序之前，还包括对所述光学薄膜的表面进行表面改性的表面改性工序，
所述表面改性工序中，所述表面改性是通过选自溶剂处理、等离子体照射处理以及电晕照射处理中的至少一种处理来进行的。
13.根据权利要求10所述的制造方法，其特征在于，在所述涂布工序之前，还包括对所述光学薄膜的表面进行表面改性的表面改性工序，
所述表面改性工序中，所述表面改性是通过碱处理来进行的。
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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015098685A1 (ja) * 2013-12-27 2015-07-02 コニカミノルタ株式会社 光学フィルム、偏光板および画像表示装置
JP6348745B2 (ja) * 2014-03-26 2018-06-27 リンテック株式会社 ハードコートフィルム、透明導電性フィルム、および静電容量タッチパネル
CN104109843A (zh) * 2014-08-01 2014-10-22 苏州普京真空技术有限公司 一种蒸发镀膜白点消除方法
IT201800000730A1 (it) * 2018-01-11 2019-07-11 Coerent Srl Strato di rivestimento per lenti

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101148542A (zh) * 2006-09-22 2008-03-26 信越化学工业株式会社 热固性硅树脂组合物及使用其的发光二极管元件
CN101432894A (zh) * 2004-08-04 2009-05-13 瓦克化学股份公司 树脂封装的发光二极管以及封装发光二极管的方法

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6168296A (ja) * 1984-09-13 1986-04-08 Matsushita Electric Ind Co Ltd 光学情報記緑部材
US5506059A (en) * 1993-05-14 1996-04-09 Minnesota Mining And Manufacturing Company Metallic films and articles using same
DE4445386C1 (de) * 1994-12-20 1996-05-02 Ibm Verfahren und Vorrichtung zur Trennung einer Vordergrundinformation von einer Hintergrundinformation in einer Vorlage
JPH11205898A (ja) * 1998-01-16 1999-07-30 Mitsubishi Electric Corp 誘電体薄膜素子用電極およびその製造方法とそれを用いた超音波振動子
KR100793129B1 (ko) * 2002-02-04 2008-01-10 아사히 가세이 케미칼즈 가부시키가이샤 박리성 재료 및 박리제
JP2003326649A (ja) * 2002-05-13 2003-11-19 Nitto Denko Corp ハードコートフィルム、光学素子、及び画像表示装置
JP2005288286A (ja) * 2004-03-31 2005-10-20 Nippon Paper Industries Co Ltd ハードコートフィルムの製造方法及びハードコートフィルム
JP5148088B2 (ja) 2006-08-25 2013-02-20 東レ・ダウコーニング株式会社 硬化性オルガノポリシロキサン組成物および半導体装置
JP5233098B2 (ja) * 2006-08-30 2013-07-10 凸版印刷株式会社 ハードコート膜の表面改質方法、光学フィルムの製造方法
JP5295533B2 (ja) * 2006-10-31 2013-09-18 日東電工株式会社 表面保護フィルムおよび表面保護フィルム付き光学フィルム
JP5057137B2 (ja) * 2006-11-17 2012-10-24 日立化成工業株式会社 保護板付き画像表示装置の製造方法
WO2008156136A1 (ja) * 2007-06-19 2008-12-24 Hitachi Chemical Co., Ltd. 光学用樹脂組成物及びそれを用いた光学用樹脂材料
US20100104879A1 (en) 2007-06-26 2010-04-29 Satoshi Okano Clear hard coat film, anti-reflection film, polarizing plate and display device employing the same
JP2009157339A (ja) * 2007-12-05 2009-07-16 Nitto Denko Corp 偏光板、液晶パネルおよび液晶表示装置
JP5186926B2 (ja) 2008-01-16 2013-04-24 Ｊｓｒ株式会社 積層光学フィルムの製造方法、積層光学フィルムならびにその用途
JP5251214B2 (ja) 2008-04-01 2013-07-31 Ｊｓｒ株式会社 積層光学フィルムの製造方法、積層光学フィルムおよびその用途
JP4333820B1 (ja) * 2009-01-19 2009-09-16 住友電気工業株式会社 化合物半導体基板
KR101913870B1 (ko) * 2010-07-02 2018-10-31 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 배리어 조립체
JP5698018B2 (ja) * 2011-02-02 2015-04-08 日東電工株式会社 貼付剤および貼付製剤
US20140037887A1 (en) * 2012-08-06 2014-02-06 Eric W. Bender Printable Polypropylene Slip Film and Laminate Packaging

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101432894A (zh) * 2004-08-04 2009-05-13 瓦克化学股份公司 树脂封装的发光二极管以及封装发光二极管的方法
CN101148542A (zh) * 2006-09-22 2008-03-26 信越化学工业株式会社 热固性硅树脂组合物及使用其的发光二极管元件

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Publication number Publication date
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