TWI598227B - 光學薄膜、影像顯示裝置及影像顯示裝置之製造方法 - Google Patents

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Description

光學薄膜、影像顯示裝置及影像顯示裝置之製造方法 發明領域
本發明係提供光學薄膜、影像顯示裝置以及影像顯示裝置之製造方法。
發明背景
以往，例如在液晶顯示裝置(LCD)等影像顯示裝置中，從防止顯示器表面的劃傷(機械強度提高)、防止外光的拍入等觀點出發，在顯示器表面上配置有硬塗覆薄膜、防眩薄膜等光學薄膜。另外，近年來，從顯示器表面的機械強度提高和外觀設計性等觀點出發，在顯示器的最表面上搭載有由透明的塑膠和玻璃等構成的前面板的顯示器已經上市。在顯示器最表面上搭載前面板的情況下，在顯示器表面的前述光學薄膜與前面板之間會產生空隙，因此為了填埋前述空隙，而在前面板與表面的光學薄膜的層間填充有樹脂(層間填充劑)(例如專利文獻1等)。前述專利文獻1中，作為上述層間填充劑，係使用光固化性樹脂等活性能量射線固化性樹脂。
現有技術文獻 專利文獻
專利文獻1：日本特開2008-241728號公報
但是，為了在前面板與表面的光學薄膜的層間填充層間填充劑，而在前述光學薄膜的表面上塗布前述層間填充劑的情況下，在前述光學薄膜的表面上前述層間填充劑會凹陷，無法均勻地塗布，而會引起步驟成品率降低的問題。
因此，本發明的目的在於提供一種在顯示器表面的光學薄膜上能夠均勻地塗布層間填充劑、也能夠用於前面板搭載型號的光學薄膜。
為了實現前述目的，本發明的光學薄膜是用於影像顯示裝置者，其特徵在於：將在前述光學薄膜上隔著層間填充劑貼合前面板時之前述層間填充劑的黏度(Pa‧s)設為a，且將前述光學薄膜表面之矽原子所占的原子比率(atm%)設為b時，滿足下述式(1)的關係，並且前述光學薄膜表面之氧原子所占的原子比率為26atm%以上：
本發明的影像顯示裝置是具備前面板者，其特徵在於：在前述影像顯示裝置的表面上配置有光學薄膜，且前述光學薄膜與前述前面板係隔著層間填充劑而貼合；前述光學薄膜為前述本發明的光學薄膜。
本發明的影像顯示裝置的製造方法是製造具備前面板以及光學薄膜的影像顯示裝置者，其特徵在於包括下述步驟：在前述光學薄膜表面上塗布層間填充劑之塗布步驟；以及將塗布有前述層間填充劑的光學薄膜與前述前面板貼合之貼合步驟；前述光學薄膜為前述本發明的光學薄膜。
根據本發明，層間填充劑的黏度與薄膜表面的矽(Si)原子比率具有特定的關係，並且薄膜表面的氧(O)原子比率為26atm%以上，因此可以提供一種能夠均勻地塗布層間填充劑、也能夠用於前面板搭載型號的光學薄膜。
100‧‧‧硬塗覆薄膜
110‧‧‧樹脂薄膜
120‧‧‧硬塗覆層
200‧‧‧影像顯示裝置
210‧‧‧影像顯示裝置主體
220‧‧‧前面板
230‧‧‧層間填充劑
圖1是表示本發明光學薄膜(硬塗覆薄膜)的構成的一個例子之示意截面圖。
圖2是表示本發明影像顯示裝置的構成的一個例子之示意截面圖。
圖3(a)是表示實施例1~14、比較例1~3、5以及8中，光學薄膜表面的Si原子比率與層間填充劑的黏度的關係的圖。圖3(b)是表示由圖3(a)所示的關，藉由Box Wilson法計算出光學薄膜表面的Si原子比率與層間填充劑的黏度的關係式的結果的圖。
具體實施方式
本發明的光學薄膜中，前述光學薄膜的表面是表示於前述光學薄膜中隔著前述層間填充劑貼合前面板側的面(貼合面)的表面。具體而言，例如，是表示從前述貼合面的表面到垂直深度方向上20nm以下的部分。前述前面板例如可以列舉出玻璃板、樹脂板，也可以為帶感測器的觸控面板等具備光學功能者。
本發明的光學薄膜宜為形成有硬塗覆層的薄膜。
前述硬塗覆層宜在氧濃度為500~50000ppm的氣體環境中形成。
前述硬塗覆層宜含有調平劑。
前述調平劑宜為非反應性調平劑。
適宜的是，前述光學薄膜係其表面經進行了表面改性者；前述表面改性是藉由選自由溶劑處理、鹼處理、電漿照射處理以及電暈照射處理所構成群組中之至少一種處理而進行。
本發明的影像顯示裝置中，藉由層間填充劑與前面板貼合時，前述層間填充劑的黏度是在與前述光學薄膜表面之矽原子所占的原子比率的關係方面滿足前述式(1)的關係的範圍內。前述層間填充劑宜為活性能量射線固化性樹脂。前述活性能量射線固化性樹脂例如是能夠藉由紫外線、電子射線等固化的樹脂，具體而言，例如可以列舉出丙烯酸類樹脂(丙烯酸酯、氨基甲酸酯丙烯酸酯)、環氧類樹脂、矽氧烷類樹脂、橡膠類樹脂、二甲苯類樹脂等。前述二甲苯類樹脂例如可以列舉出烷基苯酚改性類型、甲階酚醛、多元醇等親水性的二甲苯類樹脂或疏水性的二甲苯類樹脂等。另外，前述層間填充劑不限於活性能量射線固化性樹脂，例如可以為熱固性樹脂。
下面，將對本發明詳細地進行說明。但是，本發明並不受以下記載的限制。
本發明的光學薄膜是用於影像顯示裝置者，如前所述，其特徵在於，層間填充劑的黏度與薄膜表面之矽原子 所占的原子比率(Si原子比率)具有前述式(1)的關係，並且薄膜表面之氧原子所占的原子比率(O原子比率)被設定為26atm%以上。作為本發明的光學薄膜，例如可以列舉出形成有為光學功能層的硬塗覆層之薄膜(硬塗覆薄膜)。以下，對於本發明的光學薄膜，係以硬塗覆薄膜為例進行說明。此外，本發明的光學薄膜並不限定於硬塗覆薄膜。
本發明的硬塗覆薄膜在樹脂薄膜表面上具有硬塗覆層，例如，可以列舉圖1所示的構成的薄膜。圖1是本發明硬塗覆薄膜的構成的一個例子之示意截面圖。如圖1所示，該硬塗覆薄膜100係在樹脂薄膜110上具有硬塗覆層120。
前述樹脂薄膜沒有特別限制，但宜為可見光的光線透射率優良(宜光線透射率為90%以上)、透明性優良的樹脂薄膜(宜霧度值為1%以下者)，例如，可以列舉出日本特開2008-90263號公報中記載的透明塑膠薄膜基材。作為前述樹脂薄膜，宜使用光學上雙折射少的樹脂薄膜。本發明的硬塗覆薄膜，例如也能夠作為保護薄膜用於偏光板，在該情況下，作為前述樹脂薄膜，宜為由三乙醯基纖維素(TAC)、聚碳酸酯、丙烯酸系聚合物、具有環狀或降冰片烯結構的聚烯烴等形成的薄膜。另外，本發明中，如後所述，前述樹脂薄膜也可以為偏光件自身。如果為所述的構成，則不需要由TAC等構成的保護層，而能夠使偏光板的結構簡單化，因此可使偏光板或影像顯示裝置的製造步驟數減少，實現生產效率的提高。另外，如果為所述的構成，則能夠使偏光板進一步薄層化。並且，前述樹脂薄膜為偏光 件的情況下，硬塗覆層會發揮作為以往的保護層所起的作用。另外，如果為所述的構成，則例如在液晶單元表面上沒有設置前面板的情況下，藉由例如在液晶單元表面上安裝硬塗覆薄膜，則兼具有作為蓋板的功能。
前述樹脂薄膜的厚度沒有特別限制，例如，如果考慮強度、處理性等作業性以及薄層性等方面，則宜為10~500μm的範圍，更宜為20~300μm的範圍，最佳為30~200μm的範圍。前述樹脂薄膜的折射率沒有特別限制。前述折射率例如為1.30~1.80的範圍，宜為1.40~1.70的範圍。
前述硬塗覆層係例如使用包含紫外線反應性樹脂以及溶劑的硬塗覆層形成材料而形成。作為前述紫外線反應性樹脂，例如可以列舉出藉由紫外線固化的紫外線固化性樹脂，也能夠使用市售的紫外線固化型樹脂等。
作為前述紫外線固化型樹脂，例如，可以使用藉由光(紫外線)固化的具有丙烯酸酯基以及甲基丙烯酸酯基中之至少一種基團的固化型化合物，例如可以列舉出：矽氧烷樹脂、聚酯樹脂、聚醚樹脂、環氧樹脂、氨基甲酸酯樹脂、醇酸樹脂、螺縮醛樹脂、聚丁二烯樹脂、聚硫醇多烯樹脂、多元醇等多官能化合物的丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯等低聚物或預聚物等。該等可以單獨使用一種，也可以並用二種以上。
在前述紫外線反應性樹脂中，例如，也可以使用具有丙烯酸酯基以及甲基丙烯酸酯基中的之少一種基團的反應性稀釋劑。前述反應性稀釋劑例如可以使用日本特開 2008-88309號公報中記載的反應性稀釋劑，例如，包括單官能丙烯酸酯、單官能甲基丙烯酸酯、多官能丙烯酸酯、多官能甲基丙烯酸酯等。作為前述反應性稀釋劑，宜為三官能以上的丙烯酸酯、三官能以上的甲基丙烯酸酯。這是因為能夠使硬塗覆層的硬度優良。作為前述反應性稀釋劑，例如也可以列舉出：丁二醇甘油醚二丙烯酸酯、異氰脲酸的丙烯酸酯、異氰脲酸的甲基丙烯酸酯等。該等可以單獨使用一種，也可以並用二種以上。
另外，前述硬塗覆層形成材料還可以含有反應起始劑，前述反應起始劑宜為紫外線反應型自由基產生起始劑。作為前述紫外線反應型自由基產生起始劑樹脂，例如可以列舉出：苯乙酮類、苯偶姻類、二苯甲酮類、氧化膦類、縮酮類、蒽醌類、硫噻噸酮類、偶氮化合物、過氧化物類、2,3-烷基二酮化合物類、二硫化物化合物類、氟代胺化合物類、芳香族鋶類等。作為前述苯乙酮類，例如可以列舉出：2,2-乙氧基苯乙酮、對甲基苯乙酮、1-羥基二甲基苯基酮、1-羥基環己基苯基酮、2-甲基-4-甲硫基-2-嗎啉代苯丙酮、2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-嗎啉代苯基)-丁酮等。作為前述苯偶姻類，例如可以列舉出：苯偶姻苯磺酸酯、苯偶姻甲苯磺酸酯、苯偶姻甲基醚、苯偶姻乙基醚、苯偶姻異丙基醚等。作為前述二苯甲酮類，例如可以列舉出：二苯甲酮、2,4-氯二苯甲酮、4,4-二氯二苯甲酮、對氯二苯甲酮等。作為前述氧化膦類，例如可以列舉出：2,4,6-三甲基苯甲醯基二苯基氧化膦等。該等之中，能夠特別適宜地 使用汽巴精化公司製造的商品名“IRGACURE 184”或“IRGACURE907”。該等可以單獨使用一種，也可以並用二種以上。
前述溶劑沒有特別限制，可以使用各種溶劑，且可以單獨使用一種，也可以並用二種以上。作為溶劑，沒有特別限定，例如可以列舉出：甲醇、乙醇、異丙醇、丁醇、2-甲氧基乙醇等醇類；丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環戊酮等酮類；乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯等酯類；二異丙基醚、丙二醇單甲基醚等醚類；乙二醇、丙二醇等二醇類；乙基溶纖劑、丁基溶纖劑等溶纖劑類；己烷、庚烷、辛烷等脂肪族烴類；苯、甲苯、二甲苯等芳香族烴類等。
在前述硬塗覆層形成材料中可以添加各種調平劑，由此能夠使硬塗覆薄膜的外觀變良好。作為前述調平劑，為了防止塗布不均(塗布面的均勻化)，例如，可以使用非反應性調平劑或反應性調平劑。兩者中，宜為前述非反應性調平劑。在使用前述非反應性調平劑的情況下，藉由後述的表面改性，例如可容易降低前述硬塗覆層表面的Si原子比率。作為前述非反應性調平劑，沒有特別限定，例如可以列舉出：氟類調平劑以及矽氧烷類調平劑。作為前述反應性調平劑，沒有特別限定，可以列舉出：例如具有氟類或矽氧烷類骨架、例如具有反應性聚合基的調平劑。本發明的硬塗覆薄膜中，例如根據在前述硬塗覆層上形成防反射層(低折射率層)等的情況等，可以適當選定調平劑。
前述調平劑的配合量是相對於前述紫外線反應性樹脂100重量份，例如為0.05~2重量份的範圍。藉由使前述調平劑在前述範圍內，例如能夠進一步防止前述硬塗覆層形成材料的塗布不均。宜為0.1~1.5重量份的範圍，更宜為0.5~1.25重量份的範圍。
如前所述，前述硬塗覆層例如是在氧濃度為500~50000ppm的氣體環境中形成。藉由在所述的氧濃度氣體環境中形成前述硬塗覆層，例如在塗膜固化後進行鹼處理等表面改性時，在本發明的硬塗覆薄膜表面上，會變得容易除去矽原子(以及氟原子)，而因硬塗覆層表面上的O原子比率的提高、以及Si原子比率(以及F原子比率)的降低，可以使Si原子比率在適當的範圍內，從而能夠提高濕潤性。據推測前述硬塗覆層表面中O原子比率的提高是因為，例如藉由前述表面改性除去前述硬塗覆層表面中的Si原子以及F原子，而在該部分中出現了來自於硬塗覆層形成材料中含有的紫外線反應性樹脂等的O原子、或藉由前述表面改性引入前述硬塗覆層的O原子。但是，本發明不受該推測的任何限制以及限定。前述硬塗覆層宜在氧濃度為500~50000ppm的氣體環境中形成，更宜在氧濃度為2500~15000ppm的氣體環境中形成。
如前所述，適宜的是本發明硬塗覆薄膜係其表面經進行了表面改性者。藉由對本發明的硬塗覆薄膜的表面進行前述表面改性，例如能夠提高前述層間填充劑的濕潤性。前述表面改性的方法例如可以列舉出：鹼處理(皂化處理)、 電漿照射處理、電暈照射處理、溶劑處理等，該等中，宜為鹼處理。該等表面改性的方法可以單獨進行一種，也可以組合進行多種。
作為前述溶劑處理，例如可以列舉出：在前述硬塗覆層表面上使前述溶劑接觸並清洗前述表面的方法。藉由前述溶劑處理，例如能夠沖洗前述硬塗覆層表面的附著物(例如包含矽原子的附著物)。前述溶劑處理中使用的溶劑沒有特別限制，例如可以列舉出：水、有機溶劑、無機溶劑、或該等混合溶劑。作為前述有機溶劑，例如可以列舉出：甲醇、乙醇等醇等。
作為前述鹼處理，例如可以列舉出：在前述硬塗覆層表面上使氫氧化鈉水溶液、氫氧化鉀水溶液等鹼水溶液接觸的方法，具體而言，例如可以列舉出：在前述鹼水溶液中浸漬前述硬塗覆薄膜的方法。前述浸漬中的鹼水溶液的濃度、浸漬時間、溫度等，例如可以適當設定。
作為前述電漿照射處理，例如可以列舉出N2、大氣氣體環境下的電漿放電處理。可以適當選擇照射時間、放電電壓等。由此，例如能夠在不損害薄膜的外觀的情況下除去硬塗覆層表面中會妨礙潤濕的成分的矽原子(以及氟原子等)，並且能夠使表面中的O原子比率提高，且引起濕潤性的提高。
作為前述電暈照射處理，例如可以列舉出N2、大氣氣體環境下的電暈放電處理。照射時間、放電電壓等可以適當選擇。由此，例如能夠在不損害薄膜的外觀的情況下除 去硬塗覆層表面中會妨礙潤濕的成分的矽原子(以及氟原子等)，並且能夠使表面中的O原子比率提高，且引起濕潤性的提高。
在將本發明的硬塗覆薄膜與前面板藉由前述層間填充劑貼合的情況下，例如，本發明的硬塗覆薄膜的前述硬塗覆層側的面會成為與前述前面板的貼合面。因此，本發明的硬塗覆薄膜中，「光學薄膜的表面」是表示前述硬塗覆層表面(與前述樹脂薄膜側為相反側的面)，具體而言，例如是表示在從前上述硬塗覆層表面到垂直深度方向上20nm以下的部分(表面部分)。
本發明的硬塗覆薄膜中，前述表面部分中的Si原子比率(atm%)與前述層間填充劑的黏度係滿足下述式(1)的關係。除此之外，前述表面部分中的O原子比率為26atm%以上。因此，本發明的硬塗覆薄膜是在前述硬塗覆層表面上能夠均勻地塗布前述層間填充劑。由此，本發明的硬塗覆薄膜可以適宜用於前面板搭載型號的影像顯示裝置。如前所述，在液晶電視等影像顯示裝置的顯示器表面上，通常配置有硬塗覆薄膜或防眩薄膜等光學薄膜，從市場整體來看，前面板搭載型號的影像顯示裝置僅為一部分。因此，從由前述市場的構件共通化帶來的生產率提高的觀點出發，期待開發能夠與前面板搭載型號的影像顯示裝置、以及沒有搭載前面板的型號的影像顯示裝置之二者對應的硬塗覆薄膜、防眩薄膜等光學薄膜。在此，如前所述的硬塗覆薄膜、防眩薄膜等光學薄膜，在其表面上能夠均勻地塗 布層間填充劑是有利的，但如前所述，在前述光學薄膜的表面上塗布前述層間填充劑的情況下，前述層間填充劑會凹陷，而產生無法均勻地塗布這樣的課題。而本發明解決了上述課題，由此例如能夠實現由前述市場的構件共通化帶來的生產率提高。此外，本發明中，前述層間填充劑的均勻的塗布是指，例如在常溫下從前述層間填充劑的塗布開始直到經過預定時間的期間，使在前述硬塗覆層上前述層間填充劑凹陷的速度慢、潤濕擴大的狀態得以保持。如此一來，能夠保持預定時間的潤濕擴大的狀態，由此例如能夠確保前面板與本發明的硬塗覆薄膜藉由前述層間填充劑貼合時的成品率。
a：層間填充劑的黏度(Pa‧s)
b：硬塗覆層表面的Si原子比率(atm%)
據推測本發明的硬塗覆薄膜可發揮前述效果是基於以下的機制。但是，本發明不受該推測的任何限制以及限定。通常來說，在硬塗覆薄膜中，硬塗覆層表面的Si原子比率高、硬塗覆層表面的O原子比率低的情況下，在該硬塗覆層表面上進一步再塗覆形成其他層的形成材料時，前述形成材料在上述硬塗覆層表面上會凹陷。因此，本發明中，例如，藉由在前述預定的氧濃度的氣體環境中形成硬塗覆層，並進行前述表面改性，從而使前述硬塗覆層表面的前述O原子比率為26atm%以上，並且將具有相對於前述硬塗覆層表面的前述Si原子比率滿足前述式(1)的關係的黏度之 層間填充劑再塗覆在前述硬塗覆層表面上，由此能夠均勻地塗布前述層間填充劑。在此，本發明中，形成前述硬塗覆層時，宜提高前述硬塗覆層形成材料中的Si原子比率。這是因為，以降低硬塗覆層表面之矽(Si)的原子比率的方式將硬塗覆層形成材料塗布在上述樹脂薄膜上的情況下，在塗布膜(硬塗覆層)上會發生塗布不均，而硬塗覆薄膜的外觀變差。藉由提高前述硬塗覆層形成材料中的Si原子比率，能夠防止塗布不均。硬塗覆薄膜中，在硬塗覆層上形成其他層的形成材料的再塗性與硬塗覆薄膜的外觀性係處於折衷選擇的關係，藉由進行如前所述的操作，本發明的硬塗覆薄膜能夠得到再塗性優良、並且例如外觀性優良的硬塗覆薄膜。
對於本發明的硬塗覆薄膜來說，如前所述，藉由將前述硬塗覆層進行例如前述表面改性，則能夠使前述硬塗覆層表面的Si原子比率降低，並且使O原子比率增加。因此，例如，在前述式(1)的關係中，可以使用更低黏度的層間填充劑，從而可以擴大能夠應用的層間填充劑的範圍。本發明中，宜藉由前述表面改性，使前述硬塗覆層表面的O原子比率為26atm%以上。藉由進行所述的操作，例如，可以使前述Si原子比率充分地降低。另外，藉由前述表面改性，不僅能夠除去矽，而且還能夠除去例如氟等表面自由能量低的成分(元素)。
作為控制前述硬塗覆層表面的Si原子比率以及O原子比率的方法，例如可以列舉出：使下述化學式(1)~(3)所示 結構的化合物在前述硬塗覆層表面上存在的方法。作為使前述化合物在前述硬塗覆層表面上存在的方法，例如可以列舉出如下方法：在硬塗覆層形成材料中添加前述化合物，將該硬塗覆層形成材料塗布在前述樹脂薄膜上，並將該塗膜乾燥、固化。
前述化學式(1)中，R例如為環氧基、脂環式環氧基、氨基、聚醚基、甲基丙烯酸基、羧基、苯酚基、苯基、巰基、羥基，n1例如為10~2000。前述化學式(2)以及前述化學式(3)中的n2以及n3為任意的正整數。
前述硬塗覆層表面的O原子比率為26atm%以上，宜為30atm%以上。
前述硬塗覆層表面的矽原子比率係以滿足前述式(1)的 關係的方式設定，宜為2.4atm%以下，更宜為1.8atm%以下。
前述層間填充劑的黏度係以滿足前述式(1)的關係的方式設定，前述黏度例如為0.5~15Pa‧s的範圍。在前述硬塗覆層上產生之層間填充劑的凹陷，通常是由前述層間填充劑與前述硬塗覆層之間的表面自由能量差大引起的。在此，如果前述黏度為0.5Pa‧s以上，則例如前述層間填充劑在硬塗覆層上不會活動，且前述層間填充劑彼此之間也不會發生聚集，因此不會促進前述凹陷的情況發生。另外，如果前述黏度為15Pa‧s以下，則例如能夠在前述硬塗覆層上更均勻的塗布。前述黏度宜為1~10Pa‧s的範圍，更宜為3~8.5Pa‧s的範圍。
在前述硬塗覆層中可以包含粒子。前述粒子可使所形成的硬塗覆層表面成為凹凸形狀而賦予防眩性，並且為了控制前述硬塗覆層的霧度值，還可以添加到前述硬塗覆層形成材料中。前述硬塗覆層的霧度值可以藉由控制前述粒子與前述紫外線反應性樹脂的折射率差來進行設計。作為前述粒子，例如有：無機粒子和有機粒子。前述無機粒子沒有特別限制，例如可以列舉出：氧化矽粒子、氧化鈦粒子、氧化鋁粒子、氧化鋅粒子、氧化錫粒子、碳酸鈣粒子、硫酸鋇粒子、滑石粒子、高嶺土粒子、硫酸鈣粒子等。另外，前述有機粒子沒有特別限制，例如可以列舉出：聚甲基丙烯酸甲酯樹脂粉末(PMMA微粒)、矽氧烷樹脂粉末、聚苯乙烯樹脂粉末、聚碳酸酯樹脂粉末、丙烯酸苯乙烯樹脂粉末、苯並胍胺樹脂粉末、三聚氰胺樹脂粉末、聚烯烴樹 脂粉末、聚酯樹脂粉末、聚醯胺樹脂粉末、聚醯亞胺樹脂粉末、聚氟乙烯樹脂粉末等。該等無機粒子以及有機粒子可以單獨使用一種，也可以並用二種以上。
前述粒子的重量平均粒徑宜為0.5~10μm的範圍內。藉由將前述粒子的重量平均粒徑設定在前述範圍內，例如能夠得到防眩性更優良、並且可防止白點的硬塗覆薄膜。前述粒子的重量平均粒徑更宜為2~8μm的範圍內。此外，前述粒子的重量平均粒徑例如可以藉由庫爾特計數器法測定。例如，使用利用小孔電阻法的細微性分佈測定裝置(商品名：COULTERMULTISIZER，Beckmancoulter公司製造)，測定與粒子通過前述小孔時的粒子的體積相當之電解液的電阻，由此測定前述粒子的數目和體積，計算出重量平均粒徑。
前述粒子的形狀沒有特別限制，例如，可以為微球狀的大致球形，也可以為粉末等不定形，宜為大致球形，更宜為長徑比為1.5以下的大致球形的粒子，最宜為球形的粒子。
前述硬塗覆層中的前述粒子的比例是相對於前述紫外線反應性樹脂100重量份，宜為0.5~20重量份的範圍，更宜為3~10重量份的範圍。藉由設定為前述範圍，例如能夠得到防眩性更優良、並且可防止白點的硬塗覆薄膜。
在前述硬塗覆層形成材料中，根據需要，可在不損害性能的範圍內，添加顏料、填充劑、分散劑、增塑劑、表面活性劑、防汙劑、抗氧化劑、觸變化劑等。該等添加劑 可以單獨使用一種，也可以並用二種以上。
前述硬塗覆層的厚度是藉由測定本發明的硬塗覆薄膜的總厚度，從前述總厚度中減去前述樹脂薄膜的厚度來計算之前述硬塗覆層的厚度。前述總厚度以及前述樹脂薄膜的厚度，例如可以藉由微表(microgauge)式厚度計測定。
前述硬塗覆層的厚度沒有特別限制，宜為1~20μm的範圍。藉由將前述硬塗覆層的厚度設定為前述範圍，例如可以防止硬塗覆薄膜中捲曲的發生，從而能夠避免搬運性不良等生產率低下的問題。前述硬塗覆層的厚度更宜為2~15μm的範圍，進一步宜為3~10μm的範圍。
在對本發明的硬塗覆薄膜賦予防眩性的情況下，本發明的硬塗覆薄膜中的霧度值沒有特別限制，例如可以根據安裝其之顯示器的用途等適當設定。
本發明的硬塗覆薄膜例如是按照如下的方法來形成：首先，準備包含前述紫外線反應性樹脂以及前述溶劑的硬塗覆層形成材料，將前述硬塗覆層形成材料塗布在前述樹脂薄膜的至少一個面上而形成塗膜，並照射紫外線使前述塗膜固化，從而形成前述硬塗覆層。另外，亦可在前述形成的硬塗覆層表面進行前述表面改性。本發明的硬塗覆薄膜的製造中，也可以併用以利用模具進行的轉印方式、噴砂、壓花輥等適當的方式賦予凹凸形狀的方法等。
作為前述塗布方法，例如可以使用噴塗法、模塗法、旋塗法、噴霧塗布法、凹版塗布法、輥塗法、刮棒塗布法等塗布法。
在前述塗膜的前述固化之前，宜使前述塗膜乾燥。前述乾燥例如可以為自然乾燥，可以為吹風的風乾，也可以為加熱乾燥，也可以為將該等組合而成的方法。乾燥溫度、乾燥時間等可以適當選擇。
如前所述，前述塗膜的固化宜在氧濃度為500~50000ppm的氣體環境中進行。藉由在所述的條件下使塗膜固化而形成硬塗覆層，例如在塗膜固化後進行鹼處理等表面改性時，在本發明的硬塗覆薄膜表面中會變得容易除去矽原子(以及氟原子)，而硬塗覆層表面中之O原子比率的提高以及Si原子比率(以及F原子比率)的降低，能夠使Si原子比率在適當的範圍內，從而能夠提高濕潤性。據推測前述硬塗覆層表面中的O原子比率的提高是因為，例如藉由前述表面改性除去前述硬塗覆層表面中的Si原子以及F原子，而在該部分中出現了來自於硬塗覆層形成材料中所含有的紫外線反應性樹脂等的O原子、或藉由前述表面改性引入上述硬塗覆層中的O原子。但是，本發明不受該推測的任何限制以及限定。
前述紫外線照射的照射量以紫外線波長365nm處的累積曝光量計宜為50~500mJ/cm2。如果前述照射量為50mJ/cm2以上，則固化會變得更充分，且所形成的硬塗覆層的硬度也會更加充分。另外，如果前述照射量為500mJ/cm2以下，則能夠防止所形成的硬塗覆層的著色。
本發明中，如前所述，在形成前述硬塗覆層時，例如，係藉由提高前述硬塗覆層形成材料中的Si原子比率，從而 防止塗布不均，製造具有優良的外觀的硬塗覆薄膜。前述硬塗覆層形成材料的固體成分中Si原子比率宜為1~7atm%的範圍，更宜為1.5~7atm%的範圍。如此一來，調節前述硬塗覆層形成材料的固體成分中的Si原子比率的方法，例如也可以稱為硬塗覆薄膜的外觀提高方法。
如前所述，前述表面改性宜為前述鹼處理。鹼處理的具體例如前所述。
如上所述，藉由在前述樹脂薄膜的至少一個面上形成前述硬塗覆層，能夠製造本發明的硬塗覆薄膜。此外，本發明的硬塗覆薄膜也可以藉由前述方法以外的製造方法來製造。關於本發明硬塗覆薄膜的硬度，就鉛筆硬度而言，也會受到層的厚度的影響，但宜具有2H以上的硬度。另外，該例的硬塗覆層為單層，但本發明的硬塗覆薄膜不限定於此，前述硬塗覆層也可以為層疊有二層以上的多層結構。前述硬塗覆層為多層結構的情況下，前述表面改性例如是對最外層的層實施即可。
本發明的硬塗覆薄膜中，係可以在前述硬塗覆層上配置防反射層(低折射率層)。例如，在影像顯示裝置中安裝硬塗覆薄膜的情況下，會使影像的視認性降低的要素之一可以列舉出：在空氣與硬塗覆層介面上的光的反射。防反射層可使其表面反射降低。此外，硬塗覆層以及防反射層可以在樹脂薄膜的雙面上形成。在該情況下，在本發明硬塗覆薄膜的表面中，位於與前述前面板貼合側的表面之硬塗覆層表面的Si原子比率以及O原子比率為如前所述即可。另 外，硬塗覆層以及防反射層也可以分別為層疊有二層以上的多層結構。在前述硬塗覆層上配置前述防反射層的情況下，前述表面改性是例如對最外層的防反射層實施即可。
本發明中，前述防反射層是將經嚴格地控制厚度以及折射率後的光學薄膜或前述光學薄膜層疊二層以上而得者。前述防反射層利用光的干渉效應將入射光與反射光之反向的相位彼此抵消，藉此顯示出防反射功能。顯示出防反射功能的可見光線的波長區域例如為380~780nm，特別是視感度高的波長區域為450~650nm的範圍，宜以使作為其中心波長的550nm的反射率達到最小的方式來設計防反射層。
在基於光的干渉效應的前述防反射層的設計中，作為使其干渉效應提高的方法，例如有：增大前述防反射層與前述硬塗覆層的折射率差的方法。通常，在層疊有二層至五層光學薄層(經嚴格地控制厚度以及折射率後的薄膜)的結構的多層防反射層中，藉由將折射率不同的成分僅以預定的厚度形成多層，防反射層的光學設計的自由度會提高，從而能夠使防反射效果進一步提高，且可以使分光反射特性在可見光區域內也是均勻(平坦)的。對於前述光學薄膜而言，由於要求高厚度精度，因此通常來說，各層的形成係藉由乾式的真空蒸鍍、濺射、CVD等來實施。
在前述樹脂薄膜的一個面上形成有前述硬塗覆層的硬塗覆薄膜中，為了防止捲曲發生，可以對另一個面進行溶劑處理。另外，在前述樹脂薄膜的一個面上形成有前述硬 塗覆層的硬塗覆薄膜中，為了防止捲曲發生，可以在另一個面上形成透明樹脂層。
如前所述，關於本發明的光學薄膜，係以硬塗覆薄膜為例進行了說明，但本發明的光學薄膜並不限於硬塗覆薄膜。本發明的光學薄膜例如也可以為在前述樹脂薄膜上形成有前述硬塗覆層以外的光學功能層的薄膜。作為前述硬塗覆層以外的光學功能層，例如可以列舉出防眩層、防反射層、光學補償層等。在所述的光學薄膜的情況下，係將與前述前面板貼合的面作為形成前述光學功能層的面，而前述光學功能層的表面係與前述硬塗覆薄膜中說明的同樣。
本發明的光學薄膜也可以為沒有形成前述光學功能層的薄膜。在所述的光學薄膜的情況下，光學薄膜之與前述前面板貼合面的表面係與在前述硬塗覆薄膜中所說明的一樣。用於該光學薄膜的樹脂薄膜例如可以列舉出與前述同樣的樹脂薄膜。另外，該光學薄膜也可以為偏光板。即，在前述偏光件的單面或雙面上設置有透明保護膜的偏光板的情況下，可以將設置有前述透明保護膜的面作為與前述前面板的貼合面，也可以將沒有設置前述透明保護膜的面(前述偏光件的面)作為與前述前面板的貼合面。前述貼合面的表面係與前述硬塗覆薄膜中所說明的一樣。如前所述，該偏光板中的前述保護膜或偏光件宜進行前述表面改性。作為前述透明保護膜形成材料，例如可以列舉出與前述樹脂薄膜同樣的材料。
本發明的硬塗覆薄膜通常可以將前述樹脂薄膜側(與前面板貼合面為相反側)藉由黏合劑或黏接劑貼合在用於LCD等的光學構件上。此外，於該貼合時，對於前述樹脂薄膜表面(與前面板貼合面為相反側的表面)，可以進行如上之各種表面處理。
作為前述光學構件，例如可以列舉出偏光件或偏光板。偏光板通常為在偏光件的單側或兩側具有透明保護膜的構成。而在偏光件的雙面上設置有透明保護膜的情況下，表面和背面的透明保護膜可以為相同材料，也可以為不同的材料。偏光板通常係配置在液晶單元的兩側。另外，偏光板係以2片偏光板的吸收軸為彼此大致垂直相交的方式而配置。
下面，關於層疊有本發明硬塗覆薄膜的光學構件，係以偏光板為例進行說明。藉由將本發明的硬塗覆薄膜使用黏接劑或黏合劑等與偏光件或偏光板層疊，可以得到具有本發明功能的偏光板。
作為前述偏光件，沒有特別限定，可以使用各種者。作為前述偏光件，例如可以列舉出：使聚乙烯醇類薄膜、部分縮甲醛化聚乙烯醇類薄膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物類部分皂化薄膜等親水性高分子薄膜吸附碘或二色性染料等二色性物質、進行單向拉伸而成的偏光件、聚乙烯醇的脫水處理物或聚氯乙烯的脫鹽酸處理物等多烯類取向薄膜等。
作為在前述偏光件的單面或雙面上設置的透明保護 膜，宜透明性、機械強度、熱穩定性、水分遮蔽性、相位差值的穩定性等優良的保護膜。作為前述透明保護膜形成材料，例如可以列舉出與前述樹脂薄膜同樣的材料。
作為前述透明保護膜，可以列舉出日本特開2001-343529號公報(WO01/37007)中記載的高分子薄膜。前述高分子薄膜可以藉由將樹脂組合物擠出成型為薄膜狀來製造。前述高分子薄膜的相位差小，光彈性係數小，因此在應用於偏光板等保護膜的情況下，能夠消除由變形引起的不均等不良情況，另外，由於透濕度小，因此加濕耐久性優良。
從偏光特性和耐久性等觀點出發，前述透明保護膜宜為三乙醯基纖維素等纖維素類樹脂制的薄膜以及降冰片烯類樹脂製的薄膜。作為前述透明保護膜的市售品，例如可以列舉出商品名「Fujitac」(富士膠片株式會社製造)、商品名「Zeonor」(日本Zeon公司製造)、商品名「Arton」(JSR公司製造)等。前述透明保護膜的厚度沒有特別限制，從強度、處理性等作業性、薄層性等觀點出發，例如為1~500μm的範圍。
層疊有前述硬塗覆薄膜的偏光板的構成沒有特別限制，例如，可以為在前述硬塗覆薄膜上依次層疊有透明保護膜、前述偏光件以及前述透明保護膜的構成，也可以為在前述硬塗覆薄膜上依次層疊有前述偏光件、前述透明保護膜的構成。
圖2中示出了本發明影像顯示裝置的構成的一個例 子。圖2是本發明影像顯示裝置的構成的一個例子之示意截面圖。如圖2所示，該影像顯示裝置200具備：影像顯示裝置主體210、硬塗覆薄膜100和前面板220。在影像顯示裝置主體210的視認側表面上係配置有硬塗覆薄膜100。該硬塗覆薄膜100為前述本發明的硬塗覆薄膜。硬塗覆薄膜100與前面板220係藉由層間填充劑230而貼合。
前述影像顯示裝置主體例如可以列舉出LCD、PDP、ELD、CRT等。前述LCD的情況下，藉由將液晶單元、偏光板等光學構件、以及根據需要使用的照明系統(背光等)等各構成部件適當地組裝並組入驅動電路等，能夠製造前述影像顯示裝置主體。
前述前面板沒有特別限制，可以使用以往公知的前面板。前述前面板的材質、厚度等例如可以根據前述影像顯示裝置的用途等適當選擇。
作為前述層間填充劑，例如可以使用前述層間填充劑，可以單獨使用一種，也可以並用多種。前述層間填充劑宜為無溶劑層間填充劑。
前述本發明的硬塗覆薄膜與前述前面板的貼合例如係按照如下的方法來進行。即，首先，準備前述層間填充劑。此時，以滿足與前述本發明硬塗覆薄膜的前述硬塗覆層表面的Si原子比率的關係(前述式(1)的關係)的方式，將前述層間填充劑的黏度設定成所期望的值。如此一來，將前述層間填充劑的黏度設定成所期望的值的方法例如也可以稱為層間填充劑凹陷的防止方法。接著，在前述硬塗覆層表面 上塗布前述層間填充劑，並在前述層間填充劑的塗膜上疊合前述前面板。於該狀態下，藉由前述層間填充劑的固化等，將前述本發明的硬塗覆薄膜與前述前面板貼合。本發明中，在前述硬塗覆層表面上塗布前述層間填充劑時，在前述硬塗覆層表面中，前述層間填充劑不會凹陷，前述層間填充劑能夠保持均勻地潤濕擴大的狀態。
關於本發明的影像顯示裝置，不僅限於配置在前述影像顯示裝置主體的表面上的光學薄膜為本發明的硬塗覆薄膜的情況。關於本發明的影像顯示裝置，除了本發明的硬塗覆薄膜之外，形成有前述硬塗覆層以外的光學功能層的光學薄膜、沒有形成前述光學功能層的光學薄膜、前述偏光板等也可以配置在上述影像顯示裝置主體的表面上。
本發明的影像顯示裝置可以用於任意適當的用途。其用途例如為個人電腦顯示器、筆記型電腦、影印機等OA設備、手機、鐘錶、數碼相機、便攜資訊終端(PDA)、便攜遊戲機等可攜式裝置、攝像機、電視、微波爐等家庭用電器設備、後監視器、汽車導航系統用顯示器、汽車音響等車載用設備、商業店鋪用資訊用顯示器等展示設備、監視用顯示器等警備設備、護理用顯示器、醫療用顯示器等護理‧醫療設備等。
實施例
下面，關於本發明的實施例係與比較例一起進行說明。但是，本發明不受以下的實施例以及比較例限制。另外，下述實施例以及比較例中的各種特性係藉由下述的方 法進行評價或測定。
(層間填充劑的凹陷性評價)
將在藉由實施例以及比較例記載的方法製作之光學薄膜沒有塗布塗布液的面(樹脂薄膜側)上轉印形成黏合劑而得者貼附在8×8cm的玻璃上，由此製成試樣。在前述光學薄膜上滴加各黏度的無溶劑樹脂(層間填充劑)，並使用旋塗機，以2000rpm、15秒的條件對前述光學薄膜的整個面均勻地進行塗布。靜置30分鐘後，在從前述光學薄膜的各邊部朝向內側，於具有由前述層間填充劑的凹陷所引起的塗膜收縮的情況下，測定該凹陷寬度。即，在塗膜發生收縮的情況下，從前述光學薄膜4個邊的各邊部沿垂直方向朝向內側，將用遊標卡尺分別在各邊對到前述層間填充劑的凹陷量達到最大之部位處的距離(前述光學薄膜中，凹陷的結果是，沒有被前述層間填充劑被覆的部分與前述光學薄膜各邊之間最長的垂直距離)進行測定，將其作為凹陷寬度(n=4)。另外，以從這4個邊得到的凹陷寬度的平均值作為測定值(平均凹陷寬度)。
(利用ESCA(化學分析用電子能譜法，Electron Spectroscopy for Chemical Analysis)進行的原子比率測定)
將前述光學薄膜切割成5mm見方左右而得到的試樣片(試樣)配置在鉬(Mo)板上，並將各個Mo板分別固定到試樣臺上。使用ULVAC-PHI(股)製「Quantum 2000」，進行原子强度的测定。X射線源為單色AlKα、X射線功率為30W(15kV)、測定區域為200μmφ、光電子出射角相對於試 樣表面為45°。鍵合能量的補正是藉由將由C1s光譜的C-C鍵引起的峰補正為285.0eV來進行。中和條件係藉由將中和槍和Ar離子槍(中和模式)併用來進行。根據前述條件，能夠對從試樣的最表面到深度約5~10nm的區域的各原子強度比進行測定。為了將試樣表面預先除去污染物，係以不破壞試樣表面的程度擦拭試樣表面來進行清洗。另外，以C60離子槍進行蝕刻除去，藉此進行污染物的除去。
(薄膜的外觀評價)
在所得到的光學薄膜之沒有塗布塗布液的面上，將黑色PET薄膜(Lintec股份有限公司製、厚度為75μm)用黏合劑貼合，而製作消除了背面的反射的試樣。用螢光燈(三波長光源)照射塗布液塗布面一側並進行目視檢查，用下述的基準進行判定。前述目視檢査係根據在樹脂薄膜上形成的防眩性硬塗覆層的有無來進行劃分，用各自的評價基準進行判定(判定基準1以及2)。
判定基準1(有防眩性硬塗覆層)
G：沒有觀察到不均(沒有黑白的深淺，賦予均勻的防眩性)。
NG：不均顯著(明顯可見黑白的深淺狀態)。
判定基準2(無防眩性硬塗覆層)
G：沒有觀察到不均(沒有發生干渉不均)。
NG：不均顯著(發生干渉不均，明顯可見虹彩色的圖樣)。
[實施例1]
作為透明支撐體(樹脂薄膜)，係準備80μm厚度的三乙醯基纖維素膜(富士膠片(股)製、商品名「TAC-TD80U」)。將多官能氨基甲酸酯丙烯酸酯(DIC(股)製、商品名「UNIDIC 17-806」)100重量份、光聚合起始劑(汽巴精化公司製、商品名「IRGACURE907」)5.0重量份、光擴散性粒子(積水化成品工業(股)製聚苯乙烯/聚甲基丙烯酸甲酯共聚粒子、商品名「SSX103DXE」、重量平均粒徑為3.0μm)5.0重量份、作為溶劑的異丙醇(IPA)79.2重量份以及環戊酮(CPN)34.0重量份、氟類調平劑(DIC(股)製、商品名「MEGAFAC F556」)1.0重量份混合，並製備塗布液(硬塗覆劑)。使用繞線棒#7塗布該塗布液，並用乾燥烘箱在60℃的氣體環境下乾燥1分鐘，使溶劑揮發，而形成塗布膜。然後，在氧濃度為5000ppm的氣體環境下使用160W/cm2的空冷水銀燈(iGrafx(股)製)，照射照度為40mW/cm2、照射量為250mJ/cm2的紫外線，使前述塗布膜固化。如此一來，在前述樹脂薄膜上形成防眩性硬塗覆層(防眩性硬塗覆薄膜)。將前述防眩性硬塗覆薄膜在已調節為10重量%濃度的NaOH水溶液中(55℃)浸漬20秒，然後，用乾燥烘箱在65℃的氣體環境下使其乾燥30秒，而得到實施例1的光學薄膜。使用丙烯酸類單體(新中村化學(股)製、商品名「DPHA」、黏度為5.5Pa‧s/25℃)作為層間填充劑，進行凹陷性評價。
[實施例2]
除了將塗布膜固化時的氧濃度設定為10000ppm氣體環境以外，以與實施例1同樣的方法製作實施例2的光學薄 膜，並使用與實施例1同樣的丙烯酸類單體(黏度為5.5Pa‧s/25℃)作為層間填充劑，進行凹陷性評價。
[實施例3]
除了將塗布膜固化時的氧濃度設定為7500ppm氣體環境以外，以與實施例1同樣的方法製作實施例3的光學薄膜，並使用與實施例1同樣的丙烯酸類單體(黏度為5.5Pa‧s/25℃)作為層間填充劑，進行凹陷性評價。
[實施例4]
以與實施例1同樣的方法製作實施例4的光學薄膜，並使用UV固化型黏接劑(SONY CHEMICAL(股)製、無溶劑型UV反應型黏接劑、黏度為8.5Pa‧s/25℃)作為層間填充劑，進行層間填充劑的凹陷性評價。
[實施例5]
除了將塗布膜固化時的氧濃度設定為7500ppm氣體環境以外，以與實施例1同樣的方法製作實施例5的光學薄膜，並使用無溶劑丙烯酸酯樹脂(日本合成(股)製、商品名「Rushifuraru12」、黏度為1.0Pa‧s/25℃)作為層間填充劑，並進行層間填充劑的凹陷性評價。
[實施例6]
以與實施例2同樣的方法製作實施例6的光學薄膜，並使用與實施例5同樣的無溶劑丙烯酸酯樹脂(黏度為1.0Pa‧s/25℃)作為層間填充劑，進行層間填充劑的凹陷性評價。
[實施例7]
以與實施例2同樣的方法製作實施例7的光學薄膜，並 使用與實施例4同樣的UV固化型黏接劑(黏度為8.5Pa‧s/25℃)作為層間填充劑，進行層間填充劑的凹陷性評價。
[實施例8]
以與實施例3同樣的方法製作實施例8的光學薄膜，並使用與實施例4同樣的UV固化型黏接劑(黏度為8.5Pa‧s/25℃)作為層間填充劑，進行層間填充劑的凹陷性評價。
[實施例9]
除了將實施例1中的氟類調平劑設為DIC(股)製、商品名「MEGAFAC F477」，並將塗布膜固化時的氧濃度設為150ppm氣體環境以外，以過與實施例1同樣的方法製作實施例9的光學薄膜，並使用與實施例5同樣的無溶劑丙烯酸酯樹脂(黏度為1.0Pa‧s/25℃)作為層間填充劑，進行層間填充劑的凹陷性評價。
[實施例10]
以與實施例9同樣的方法製作實施例10的光學薄膜，並使用與實施例1同樣的丙烯酸類單體(黏度為5.5Pa‧s/25℃)作為層間填充劑，進行層間填充劑的凹陷性評價。
[實施例11]
以與實施例9同樣的方法製作實施例11的光學薄膜，並使用與實施例4同樣的UV固化型黏接劑(黏度為8.5Pa‧s/25℃)作為層間填充劑，進行層間填充劑的凹陷性評價。
[實施例12]
除了將塗布膜固化時的氧濃度設定為2500ppm氣體環境以外，以與實施例1同樣的方法製作實施例12的光學薄 膜，並使用與實施例1同樣的丙烯酸類單體(黏度為5.5Pa‧s/25℃)作為層間填充劑，進行層間填充劑的凹陷性評價。
[實施例13]
除了將塗布膜固化時的氧濃度設為2500ppm氣體環境以外，以與實施例1同樣的方法製作實施例13的光學薄膜，並使用與實施例4同樣的UV固化型黏接劑(黏度為8.5Pa‧s/25℃)作為層間填充劑，進行層間填充劑的凹陷評價。
[實施例14]
作為樹脂薄膜，係準備與實施例1同樣的三乙醯基纖維素膜，並將該樹脂薄膜在已調節為10重量%濃度的NaOH水溶液中(55℃)浸漬20秒後，用乾燥烘箱在65℃的氣體環境下乾燥30秒，而製作實施例14的光學薄膜，並使用與實施例1同樣的丙烯酸類單體(黏度為5.5Pa‧s/25℃)作為層間填充劑，進行凹陷性評價。
[比較例1]
作為調平劑，除了添加矽氧烷類反應性調平劑(DIC(股)製、商品名「GRANDIC PC4100」)代替氟類調平劑以外，係與實施例1同樣地製備塗布液(硬塗覆劑)。除了使用該塗布液以外，以與實施例1同樣的方法製作比較例1的光學薄膜，並使用與實施例1同樣的丙烯酸類單體(黏度為5.5Pa‧s/25℃)作為層間填充劑，進行凹陷性評價。
[比較例2]
以與比較例1同樣的方法製作比較例2的光學薄膜，並使用與實施例5同樣的無溶劑丙烯酸酯樹脂(黏度為1.0Pa‧ s/25℃)，進行層間填充劑的凹陷性評價。
[比較例3]
以與比較例1同樣的方法製作比較例3的光學薄膜，並使用與實施例4同樣的UV固化型黏接劑(黏度為8.5Pa‧s/25℃)作為層間填充劑，進行層間填充劑的凹陷性評價。
[比較例4]
除了將塗布膜固化時的氧濃度設為150ppm氣體環境以外，以與實施例1同樣的方法製作比較例4的光學薄膜，並使用與實施例5同樣的無溶劑丙烯酸酯樹脂(黏度為1.0Pa‧s/25℃)作為層間填充劑，進行層間填充劑的凹陷性評價。
[比較例5]
以與實施例1同樣的方法製作比較例5的光學薄膜，並使用與實施例5同樣的無溶劑丙烯酸酯樹脂(黏度為1.0Pa‧s/25℃)作為層間填充劑，進行層間填充劑的凹陷性評價。
[比較例6]
除了將塗布膜固化時的氧濃度設為150ppm氣體環境以外，以與實施例1同樣的方法製作比較例6的光學薄膜，並使用與實施例1同樣的丙烯酸類單體(黏度為5.5Pa‧s/25℃)作為層間填充劑，進行層間填充劑的凹陷性評價。
[比較例7]
以與比較例6同樣的方法製作比較例7的光學薄膜，並使用與實施例4同樣的UV固化型黏接劑(黏度為8.5Pa‧s/25℃)作為層間填充劑，進行層間填充劑的凹陷性評價。
[比較例8]
除了將塗布膜固化時的氧濃度設為2500ppm氣體環境以外，以與實施例1同樣的方法製作比較例8的光學薄膜，並使用與實施例5同樣的無溶劑丙烯酸酯樹脂(黏度為1.0Pa‧s/25℃)作為層間填充劑，進行層間填充劑的凹陷性評價。
將有關上述所得到的實施例1~14、比較例1~8的各光學薄膜的各種特性的測定或評價結果示於下述表1中。
如前述表1所示，關於形成有防眩性硬塗覆層的實施例1~13的光學薄膜，層間填充劑的凹陷寬度為14mm以下，係顯示良好的均勻塗布性；另外，實施例1~4、6~8、10~13的光學薄膜中，層間填充劑的凹陷寬度為10mm以下，係顯示更良好的均勻塗布性。另外，關於沒有形成防眩性硬塗覆層的實施例14的光學薄膜，Si原子比率與層間填充劑黏度的關係也滿足前述式(1)，由此而沒有使層間填充劑凹陷(層間填充劑的凹陷寬度：0mm)。另外，關於實施例1~14的光學薄膜，層間填充劑塗布前的光學薄膜係外觀良好。另一方面，關於比較例1~5以及8，表面改性後的Si原子比率與層間填充劑黏度的關係不滿足前述式(1)，前述凹陷寬度為大於15mm的值。另外，關於比較例6以及7，光學薄膜表面的O原子比率係低於26atm%，前述凹陷寬度為大於15mm的值。表面改性後的Si原子比率高的比較例1~3中，係使用了反應性調平劑，據認為在該條件下的表面改性係不能使Si原子比率降低。
圖3(a)的圖表中，示出了實施例1~14、比較例1~3、5以及8中光學薄膜表面的矽原子所占的原子比率與層間填充劑的黏度的關係。圖3(a)中，橫坐標係展示層間填充劑的黏度(Pa‧s)，縱坐標係表示光學薄膜表面的Si原子比率(atm%)。由各實施例以及各比較例的繪製圖，藉由Box Wilson法，如圖3(b)所示，計算出b=0.2a+1.8(a：層間填充劑的黏度(Pa‧s)、b：光學薄膜表面的Si原子比率(atm%)、 R2=0.9527)。
產業上之可利用性
根據本發明，能夠提供一種在顯示器表面的光學薄膜上能夠均勻地塗布層間填充劑、並且能夠用於前面板搭載型號的光學薄膜。因此，本發明光學薄膜的用途不受限制，可以應用在廣泛的領域中。例如，可以適宜地用於偏光板等光學構件、液晶面板、以及LCD(液晶顯示器)和OLED(有機EL顯示器)等影像顯示裝置等中。
本發明的光學薄膜是用於影像顯示裝置者，其特徵在於：將在前述光學薄膜上藉由層間填充劑貼合前面板時之前述層間填充劑的黏度(Pa‧s)除去測定單位而得到的無量綱數設為a，且將前述光學薄膜表面之矽原子所占的原子比率(atm%)除去測定單位而得到的無量綱數設為b時，滿足下述式(1)的關係，並且前述光學薄膜表面之氧原子所占的原子比率為26atm%以上：
100‧‧‧硬塗覆薄膜
110‧‧‧樹脂薄膜
120‧‧‧硬塗覆層

Claims (11)

  1. 一種光學薄膜，是用於影像顯示裝置者，其特徵在於：將在前述光學薄膜上藉由層間填充劑貼合前面板時之前述層間填充劑的黏度(Pa‧s)設為a，且將前述光學薄膜表面之矽原子所占的原子比率(atm%)設為b時，滿足下述式(1)的關係，並且前述光學薄膜表面之氧原子所占的原子比率為26atm%以上；
  2. 如申請專利範圍第1項之光學薄膜，其中前述光學薄膜是形成有硬塗覆層的薄膜。
  3. 如申請專利範圍第2項之光學薄膜，其中前述硬塗覆層是在氧濃度為500~50000ppm的氣體環境中形成者。
  4. 如申請專利範圍第2項之光學薄膜，其中前述硬塗覆層含有調平劑。
  5. 如申請專利範圍第4項之光學薄膜，其中前述調平劑為非反應性調平劑。
  6. 如申請專利範圍第1項之光學薄膜，其中前述光學薄膜係其表面經進行了表面改性者；前述表面改性是藉由選自由溶劑處理、鹼處理、電漿照射處理以及電暈照射處理所構成群組中之至少一種處理而進行。
  7. 一種影像顯示裝置，是具備前面板者，其特徵在於：在前述影像顯示裝置的表面上配置有光學薄膜，且前述光學薄膜與前述前面板係藉由層間填充劑而貼合； 前述光學薄膜為如申請專利範圍第1項之光學薄膜。
  8. 如申請專利範圍第7項之影像顯示裝置，其中前述層間填充劑為活性能量射線固化性樹脂。
  9. 一種影像顯示裝置的製造方法，是製造具備前面板以及光學薄膜的影像顯示裝置者，其特徵在於包括下述步驟：在前述光學薄膜表面上塗布層間填充劑之塗布步驟；以及將塗布有前述層間填充劑的光學薄膜與前述前面板貼合之貼合步驟；前述光學薄膜為如申請專利範圍第1項之光學薄膜。
  10. 如申請專利範圍第9項之製造方法，其中前述光學薄膜為形成有硬塗覆層的硬塗覆薄膜；於前述塗布步驟中，係於前述硬塗覆層表面上塗布前述層間填充劑。
  11. 如申請專利範圍第9項之製造方法，其進一步在前述塗布步驟之前，還包括將前述光學薄膜的表面進行表面改性之表面改性步驟；前述表面改性步驟中，前述表面改性是藉由選自由溶劑處理、鹼處理、電漿照射處理以及電暈照射處理所構成群組中之至少一種處理而進行。
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