JP2000235347A - プラズマディスプレイ用前面フィルター - Google Patents
プラズマディスプレイ用前面フィルターInfo
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- JP2000235347A JP2000235347A JP11035476A JP3547699A JP2000235347A JP 2000235347 A JP2000235347 A JP 2000235347A JP 11035476 A JP11035476 A JP 11035476A JP 3547699 A JP3547699 A JP 3547699A JP 2000235347 A JP2000235347 A JP 2000235347A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】電磁波、近赤外線の漏洩が少なく、色彩、明る
さ、反射防止性においても優れた性能を示し、かつ低コ
ストのプラズマディスプレイ用前面フィルターを提供す
る。 【解決手段】基板上に、少なくとも色素および／または
近赤外線吸収剤を含む膜と導電性無機質膜が設けられて
いることを特徴とするプラズマディスプレイ用前面フィ
ルターによって達成される。
さ、反射防止性においても優れた性能を示し、かつ低コ
ストのプラズマディスプレイ用前面フィルターを提供す
る。 【解決手段】基板上に、少なくとも色素および／または
近赤外線吸収剤を含む膜と導電性無機質膜が設けられて
いることを特徴とするプラズマディスプレイ用前面フィ
ルターによって達成される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】プラズマディスプレイから発
せられる電磁波、近赤外線などを遮蔽する、プラズマデ
ィスプレイの前面フィルターに関わる。
せられる電磁波、近赤外線などを遮蔽する、プラズマデ
ィスプレイの前面フィルターに関わる。
【０００２】
【従来の技術】プラズマディスプレイは、大型平板、薄
型のディスプレイとして、壁掛けテレビなどで大いなる
発展が期待されている。
型のディスプレイとして、壁掛けテレビなどで大いなる
発展が期待されている。
【０００３】現在同ディスプレイは、パネルなど本体部
分の性能向上努力とともに、それを補う目的で前面フィ
ルターの使用が考えられている。同フィルターの使用目
的は例えば下記のようなものである。 (1)プラズマディスプレイ前面から漏洩する電磁波を遮
蔽し、所定の安全基準値以下まで下げる。 (2)プラズマディスプレイ前面から漏洩する近赤外線
（およそ８００〜１０００ｎｍ）を遮蔽し、リモートコ
ントローラ等の電子機器の誤動作源にならないようにす
る。 (3)プラズマディスプレイに混入する不要色を補正し
て、色質の適正化を図る。 (4)反射防止性を付与し、画面を見やすくする。 (5)パネルを破損から保護する。
分の性能向上努力とともに、それを補う目的で前面フィ
ルターの使用が考えられている。同フィルターの使用目
的は例えば下記のようなものである。 (1)プラズマディスプレイ前面から漏洩する電磁波を遮
蔽し、所定の安全基準値以下まで下げる。 (2)プラズマディスプレイ前面から漏洩する近赤外線
（およそ８００〜１０００ｎｍ）を遮蔽し、リモートコ
ントローラ等の電子機器の誤動作源にならないようにす
る。 (3)プラズマディスプレイに混入する不要色を補正し
て、色質の適正化を図る。 (4)反射防止性を付与し、画面を見やすくする。 (5)パネルを破損から保護する。
【０００４】電磁波遮蔽機能付与技術については、特開
平９−２９１３５６号公報、特開平１０−１１９１６４
号公報、特開平１０−２１７３８０号公報などで開示す
る銀やＩＴＯの積層透明導電膜が知られている。
平９−２９１３５６号公報、特開平１０−１１９１６４
号公報、特開平１０−２１７３８０号公報などで開示す
る銀やＩＴＯの積層透明導電膜が知られている。
【０００５】近赤外線の遮蔽機能付与技術については、
上記透明導電膜自体が近赤外線を反射することが知られ
ている。また、特開平１０−２３０１３４号公報、特開
平１０−２８２３３５号公報、特開平１０−７８５０９
号公報、特開平１０−１８６１２７号公報などで開示す
る近赤外線吸収剤を用いる方法が知られている。
上記透明導電膜自体が近赤外線を反射することが知られ
ている。また、特開平１０−２３０１３４号公報、特開
平１０−２８２３３５号公報、特開平１０−７８５０９
号公報、特開平１０−１８６１２７号公報などで開示す
る近赤外線吸収剤を用いる方法が知られている。
【０００６】プラズマディスプレイに混入する不要色と
は、蛍光体固有の発光色、封入ガス固有の発色光および
上記近赤外線吸収剤使用による色彩の濁りを挙げること
ができ、必要性に応じてそれらを補色する色素を使用す
る方法が特開平９−１４５９１８号公報で知られてい
る。
は、蛍光体固有の発光色、封入ガス固有の発色光および
上記近赤外線吸収剤使用による色彩の濁りを挙げること
ができ、必要性に応じてそれらを補色する色素を使用す
る方法が特開平９−１４５９１８号公報で知られてい
る。
【０００７】そして、反射防止技術については、特開平
９−１４５９１８号公報、特開平９−３０６３６６号公
報などが知られている。
９−１４５９１８号公報、特開平９−３０６３６６号公
報などが知られている。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】プラズマディスプレイ
の普及を妨げる最大の理由は高価格にある。収率向上も
さることながら、ディスプレイを構成する個々の部材の
価格低下が実現して初めて全体のコストを低下できる。
プラズマディスプレイの一部材である前面フィルターに
必要とされる機能付与方法と低コスト化の関係について
鋭意検討し、本発明に至った。
の普及を妨げる最大の理由は高価格にある。収率向上も
さることながら、ディスプレイを構成する個々の部材の
価格低下が実現して初めて全体のコストを低下できる。
プラズマディスプレイの一部材である前面フィルターに
必要とされる機能付与方法と低コスト化の関係について
鋭意検討し、本発明に至った。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明の目的は、基板上
に、少なくとも色素および／または近赤外線吸収剤を含
む膜と導電性無機質膜が設けられていることを特徴とす
るプラズマディスプレイ用前面フィルターによって達成
される。
に、少なくとも色素および／または近赤外線吸収剤を含
む膜と導電性無機質膜が設けられていることを特徴とす
るプラズマディスプレイ用前面フィルターによって達成
される。
【００１０】
【発明の実施の形態】本発明に用いられるプラズマディ
スプレイ用前面フィルターの基板は、ガラス基板、樹脂
基板のいずれでもよい。ガラス基板は、ソーダガラス、
強化ガラスなど一般に入手できるガラス板ならいずれの
ものでも使用可能である。通常は、２〜４ｍｍ程度のも
のが使用される。ガラス基板は、ＰＭＭＡのようなプラ
スチック基板に比べ一般に安価である。
スプレイ用前面フィルターの基板は、ガラス基板、樹脂
基板のいずれでもよい。ガラス基板は、ソーダガラス、
強化ガラスなど一般に入手できるガラス板ならいずれの
ものでも使用可能である。通常は、２〜４ｍｍ程度のも
のが使用される。ガラス基板は、ＰＭＭＡのようなプラ
スチック基板に比べ一般に安価である。
【００１１】また、樹脂基板は、ＰＭＭＡ、ポリカーボ
ネート、ポリエチレンテレフタレート、ジエチレングリ
コールビスアリルカーボネート樹脂、ポリ４−メチルペ
ンテン−１、ポリスチレン、塩化ビニル樹脂、アクリロ
ニトリルスチレン樹脂など透明性のある樹脂基板である
ならいずれでも使用可能である。通常は、２〜６ｍｍ程
度のものが使用される。樹脂基板はガラス基板に比べ一
般に強靱であり、外部からの打撃に対し、プラズマディ
スプレイパネルを保護する機能が高い。またガラス基板
に比べ軽量である。
ネート、ポリエチレンテレフタレート、ジエチレングリ
コールビスアリルカーボネート樹脂、ポリ４−メチルペ
ンテン−１、ポリスチレン、塩化ビニル樹脂、アクリロ
ニトリルスチレン樹脂など透明性のある樹脂基板である
ならいずれでも使用可能である。通常は、２〜６ｍｍ程
度のものが使用される。樹脂基板はガラス基板に比べ一
般に強靱であり、外部からの打撃に対し、プラズマディ
スプレイパネルを保護する機能が高い。またガラス基板
に比べ軽量である。
【００１２】本発明においては、基板上に、少なくとも
色素および／または近赤外線吸収剤を含む膜と導電性無
機質膜を設ける。
色素および／または近赤外線吸収剤を含む膜と導電性無
機質膜を設ける。
【００１３】色素および／または近赤外線吸収剤を含む
膜は、基板の片面に設けても両面に設けても良いが、基
板の保護という点から、色素および／または近赤外線吸
収剤を含む膜を基板の両面に設けるか、または、色素お
よび／または近赤外線吸収剤を含む膜を基板の片面に設
け、導電性無機質膜を反対面に設けることが好ましい。
膜は、基板の片面に設けても両面に設けても良いが、基
板の保護という点から、色素および／または近赤外線吸
収剤を含む膜を基板の両面に設けるか、または、色素お
よび／または近赤外線吸収剤を含む膜を基板の片面に設
け、導電性無機質膜を反対面に設けることが好ましい。
【００１４】色素および／または近赤外線吸収剤を含む
膜は、基板上に、スピンコート法、ダイコート法、浸漬
法などのウエットコーティング法によって形成すること
が好ましい。基板の両面へ設ける場合は、基板を塗料槽
に浸漬して引き上げる浸漬法（ディッピング法）が、簡
便かつ再現性が高く、コスト的に有利であるので好まし
い。基板の片面へ設ける場合は、スピンコート法やダイ
コート法が好ましい。
膜は、基板上に、スピンコート法、ダイコート法、浸漬
法などのウエットコーティング法によって形成すること
が好ましい。基板の両面へ設ける場合は、基板を塗料槽
に浸漬して引き上げる浸漬法（ディッピング法）が、簡
便かつ再現性が高く、コスト的に有利であるので好まし
い。基板の片面へ設ける場合は、スピンコート法やダイ
コート法が好ましい。
【００１５】色素および／または近赤外線吸収剤を含む
膜としては、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、スチレ
ン樹脂などの熱可塑性樹脂か、エポキシ樹脂、ポリウレ
タン樹脂のような熱硬化性樹脂、エポキシアクリレー
ト、ウレタンアクリレートなどの多官能性架橋性モノマ
ー、オリゴマー、テトラアルキルシランのようなシラン
系化合物またはその加水分解物のような硬化性化合物の
硬化体などをマトリックス成分とする薄膜を用いること
ができる。硬度向上や帯電防止性能付与の目的でシリカ
のような１００ｎｍ以下の超微粒子を含むことも可能で
ある。
膜としては、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、スチレ
ン樹脂などの熱可塑性樹脂か、エポキシ樹脂、ポリウレ
タン樹脂のような熱硬化性樹脂、エポキシアクリレー
ト、ウレタンアクリレートなどの多官能性架橋性モノマ
ー、オリゴマー、テトラアルキルシランのようなシラン
系化合物またはその加水分解物のような硬化性化合物の
硬化体などをマトリックス成分とする薄膜を用いること
ができる。硬度向上や帯電防止性能付与の目的でシリカ
のような１００ｎｍ以下の超微粒子を含むことも可能で
ある。
【００１６】本発明において、色素は、プラズマディス
プレイに混入する不要色を補正して、色質の適正化を図
る機能を有する。例えば青色を発光する蛍光体が同時に
赤色を発光する特性を持つ場合は、赤色は不要光であ
り、プラズマディスプレイ本来の色彩の質を低下させる
ことがある。そこで、場合に応じて青ないし緑系統の染
料または顔料からなる補色用の色素を加え、補色するの
である。
プレイに混入する不要色を補正して、色質の適正化を図
る機能を有する。例えば青色を発光する蛍光体が同時に
赤色を発光する特性を持つ場合は、赤色は不要光であ
り、プラズマディスプレイ本来の色彩の質を低下させる
ことがある。そこで、場合に応じて青ないし緑系統の染
料または顔料からなる補色用の色素を加え、補色するの
である。
【００１７】また、近赤外線吸収剤は、プラズマディス
プレイ前面から漏洩する近赤外線（およそ８００〜１０
００ｎｍ）を遮蔽し、リモートコントローラ等の電子機
器の誤動作源にならないようにする機能を有する。近赤
外線吸収剤としては、ポリメチン系、フタロシアニン
系、アントラキノン系、ジイモニウム系などの近赤外線
吸収剤を用いることができる。なお、後述する導電性無
機質膜自体が近赤外線遮蔽効果を持つ場合があるが、そ
のような場合であっても近赤外線吸収剤を含ませること
により、近赤外線遮蔽効果をよりいっそう高めることが
できるので好ましい。
プレイ前面から漏洩する近赤外線（およそ８００〜１０
００ｎｍ）を遮蔽し、リモートコントローラ等の電子機
器の誤動作源にならないようにする機能を有する。近赤
外線吸収剤としては、ポリメチン系、フタロシアニン
系、アントラキノン系、ジイモニウム系などの近赤外線
吸収剤を用いることができる。なお、後述する導電性無
機質膜自体が近赤外線遮蔽効果を持つ場合があるが、そ
のような場合であっても近赤外線吸収剤を含ませること
により、近赤外線遮蔽効果をよりいっそう高めることが
できるので好ましい。
【００１８】色素を添加する場合は、膜中に０．０００
０１〜２ｗｔ％、近赤外線吸収剤を添加する場合は、膜
中に０．１〜１５ｗｔ％の範囲で添加することが好まし
い。
０１〜２ｗｔ％、近赤外線吸収剤を添加する場合は、膜
中に０．１〜１５ｗｔ％の範囲で添加することが好まし
い。
【００１９】色素や近赤外線吸収剤を紫外線から保護す
る目的のため、色素および／または近赤外線吸収剤を含
む膜に、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系など
の紫外線吸収剤を含ませることが好ましい。紫外線吸収
剤の通常の配合量は、膜中に０．１〜１０ｗｔ％であ
る。
る目的のため、色素および／または近赤外線吸収剤を含
む膜に、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系など
の紫外線吸収剤を含ませることが好ましい。紫外線吸収
剤の通常の配合量は、膜中に０．１〜１０ｗｔ％であ
る。
【００２０】色素および／または近赤外線吸収剤を含む
膜は、硬度が鉛筆硬度で２Ｈ以上のハードコート膜であ
ることが、傷つきにくく好ましい。特に、基板が樹脂基
板である場合には、基板保護の観点から好ましい。この
ためには、下記一般式（１）で表される有機ケイ素化合
物またはその加水分解物を含む塗料を用いる方法があ
る。
膜は、硬度が鉛筆硬度で２Ｈ以上のハードコート膜であ
ることが、傷つきにくく好ましい。特に、基板が樹脂基
板である場合には、基板保護の観点から好ましい。この
ためには、下記一般式（１）で表される有機ケイ素化合
物またはその加水分解物を含む塗料を用いる方法があ
る。
【００２１】 Ｒ1 aＲ2 bＳｉ（ＯＲ3）4-a-b （１） （式中Ｒ1，Ｒ2は各々アルキル基、アルケニル基、アリ
ール基、またはハロゲン、エポキシ基、グリシドキシ
基、アミノ基、メルカプト基、メタクリロイル基、アク
リロイル基を有する炭化水素基、Ｒ3は炭素数が１〜８
のアルキル基、アルコキシアルキル基、アシル基、フェ
ニル基であり、ａおよびｂは０または１である） 一般式（１）で表される化合物の具体例としては、メチ
ルトリアルコキシシラン、ビニルトリアルコキシシラ
ン、フェニルトリアルコキシシラン、ビニルトリアセト
キシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリアルコキシ
シラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジアルコキシ
シラン、γ−メタクリロイルプロピルトリアルコキシシ
ラン、γ−クロロプロピルトリアルコキシシランが挙げ
られる。
ール基、またはハロゲン、エポキシ基、グリシドキシ
基、アミノ基、メルカプト基、メタクリロイル基、アク
リロイル基を有する炭化水素基、Ｒ3は炭素数が１〜８
のアルキル基、アルコキシアルキル基、アシル基、フェ
ニル基であり、ａおよびｂは０または１である） 一般式（１）で表される化合物の具体例としては、メチ
ルトリアルコキシシラン、ビニルトリアルコキシシラ
ン、フェニルトリアルコキシシラン、ビニルトリアセト
キシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリアルコキシ
シラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジアルコキシ
シラン、γ−メタクリロイルプロピルトリアルコキシシ
ラン、γ−クロロプロピルトリアルコキシシランが挙げ
られる。
【００２２】色素、近赤外線吸収剤、紫外線吸収剤など
を添加する方法は、上記マトリックス成分を含む塗料
に、それらを配合して基板に塗布し、脱溶媒や硬化を行
って色素および／または近赤外線吸収剤を含む膜を形成
する方法、あるいは、成膜後の膜をそれらで染色する方
法などを用いることができる。
を添加する方法は、上記マトリックス成分を含む塗料
に、それらを配合して基板に塗布し、脱溶媒や硬化を行
って色素および／または近赤外線吸収剤を含む膜を形成
する方法、あるいは、成膜後の膜をそれらで染色する方
法などを用いることができる。
【００２３】なお、基板が樹脂基板である場合には、樹
脂基板自体に色素、近赤外線吸収剤、紫外線吸収剤など
を配合することにより、不要色を補正する機能、近赤外
線遮蔽機能、紫外線吸収機能などを持たせることができ
る。それらは一般に基板成形時に、色素、近赤外線吸収
剤、紫外線吸収剤を配合する方法で付与できる。
脂基板自体に色素、近赤外線吸収剤、紫外線吸収剤など
を配合することにより、不要色を補正する機能、近赤外
線遮蔽機能、紫外線吸収機能などを持たせることができ
る。それらは一般に基板成形時に、色素、近赤外線吸収
剤、紫外線吸収剤を配合する方法で付与できる。
【００２４】導電性無機質膜は、プラズマディスプレイ
前面から漏洩する電磁波を遮蔽し、所定の安全基準値以
下まで下げる機能を有する。
前面から漏洩する電磁波を遮蔽し、所定の安全基準値以
下まで下げる機能を有する。
【００２５】電磁波は、通常３０〜１０００ＭＨｚの電
磁波を対象にする。中でも３００ＭＨｚ以下のものが主
要対象になる。電磁波発生源の強度により、遮蔽機能の
要求値が変化するのは当然であるが、通常は産業用途で
表面抵抗率（シート抵抗）が１０Ω／□以下、民生用途
で１Ω／□以下であるとされている。
磁波を対象にする。中でも３００ＭＨｚ以下のものが主
要対象になる。電磁波発生源の強度により、遮蔽機能の
要求値が変化するのは当然であるが、通常は産業用途で
表面抵抗率（シート抵抗）が１０Ω／□以下、民生用途
で１Ω／□以下であるとされている。
【００２６】これらの導電性を実現し、かつ透明性を保
持する技術として、銀、金など金属薄膜やＩＴＯ、酸化
錫系などの透明性半導体膜を使用する技術を用いること
ができる。５０％以上、好ましくは６５％以上の可視光
透過率を得るために、金属系膜では厚くても１層１００
ｎｍ以下、半導体膜では１層７００ｎｍ以下にコントロ
ールすることが好ましい。これらの薄膜は、導電性、透
明性、コスト的要求を満足させるために、スパッタリン
グ法、真空蒸着法、イオンプレーティング法などを用
い、通常は何層かを積層する方法が取られる。
持する技術として、銀、金など金属薄膜やＩＴＯ、酸化
錫系などの透明性半導体膜を使用する技術を用いること
ができる。５０％以上、好ましくは６５％以上の可視光
透過率を得るために、金属系膜では厚くても１層１００
ｎｍ以下、半導体膜では１層７００ｎｍ以下にコントロ
ールすることが好ましい。これらの薄膜は、導電性、透
明性、コスト的要求を満足させるために、スパッタリン
グ法、真空蒸着法、イオンプレーティング法などを用
い、通常は何層かを積層する方法が取られる。
【００２７】また、種類により程度の差はあるものの、
上記した金属薄膜や半導体薄膜自体が近赤外線領域遮蔽
効果を持つことがある。
上記した金属薄膜や半導体薄膜自体が近赤外線領域遮蔽
効果を持つことがある。
【００２８】さらに好ましくは、外光映りを減じ、見や
すくするために、反射防止膜を設ける。反射防止膜は、
ウエットコーティング法による有機質膜または真空蒸着
法などのＰＶＤ法やＣＶＤ法による無機質膜もしくは有
機質膜として形成する。いずれの場合でも、最外層を低
屈折率膜にする。ウェットコーティング法の場合は、フ
ッ素を含有する、屈折率１．４３以下の、膜厚５０〜１
５０ｎｍ程度の光学薄膜であることが好ましい。
すくするために、反射防止膜を設ける。反射防止膜は、
ウエットコーティング法による有機質膜または真空蒸着
法などのＰＶＤ法やＣＶＤ法による無機質膜もしくは有
機質膜として形成する。いずれの場合でも、最外層を低
屈折率膜にする。ウェットコーティング法の場合は、フ
ッ素を含有する、屈折率１．４３以下の、膜厚５０〜１
５０ｎｍ程度の光学薄膜であることが好ましい。
【００２９】ＰＶＤ法による無機質膜の場合は、ＴｉＯ
2、ＺｒＯ2、ＩＴＯなど高屈折率膜とＳｉＯ2、ＭｇＦ2
などの低屈折率膜とを光学薄膜レベルの膜厚で付与す
る。低屈折率膜１層だけの場合のほか、高屈折率膜、低
屈折率膜とを交互に２〜１６層程度付与する場合などが
ある。
2、ＺｒＯ2、ＩＴＯなど高屈折率膜とＳｉＯ2、ＭｇＦ2
などの低屈折率膜とを光学薄膜レベルの膜厚で付与す
る。低屈折率膜１層だけの場合のほか、高屈折率膜、低
屈折率膜とを交互に２〜１６層程度付与する場合などが
ある。
【００３０】本発明の実施にあたっては、色素および／
または近赤外線吸収剤を含む膜に関し、基板の両面へ設
けるか、片面へ設けるかの２態様がある。導電性無機質
膜は片面に設けるのがコスト的に有利である。
または近赤外線吸収剤を含む膜に関し、基板の両面へ設
けるか、片面へ設けるかの２態様がある。導電性無機質
膜は片面に設けるのがコスト的に有利である。
【００３１】性能、コストの観点から本発明の好ましい
態様の一つは、色素および／または近赤外線吸収剤を含
む膜を基板の両面に設け、導電性無機質膜を片面に設け
る場合である。また、本発明の好ましい別の態様の一つ
は、色素および／または近赤外線吸収剤を含む膜を基板
の片面に設け、導電性無機質膜を反対面に設ける場合で
ある。
態様の一つは、色素および／または近赤外線吸収剤を含
む膜を基板の両面に設け、導電性無機質膜を片面に設け
る場合である。また、本発明の好ましい別の態様の一つ
は、色素および／または近赤外線吸収剤を含む膜を基板
の片面に設け、導電性無機質膜を反対面に設ける場合で
ある。
【００３２】さらに、本発明の好ましい態様として反射
防止膜を設ける。反射防止膜は、いずれの面に設けても
良い。また、基板上に直接形成しても、色素および／ま
たは近赤外線吸収剤を含む膜あるいは導電性無機質膜の
上に形成しても良い。色素および／または近赤外線吸収
剤を含む膜の上に形成する場合は、導電性無機質膜の反
対の面に設けると、色素および／または近赤外線吸収剤
を含む膜の保護の点から好ましい。また、導電性無機質
膜の上に形成することは、導電性無機質膜の最外層に反
射防止膜の高屈折率膜を兼ねさせることが可能であり好
ましい。
防止膜を設ける。反射防止膜は、いずれの面に設けても
良い。また、基板上に直接形成しても、色素および／ま
たは近赤外線吸収剤を含む膜あるいは導電性無機質膜の
上に形成しても良い。色素および／または近赤外線吸収
剤を含む膜の上に形成する場合は、導電性無機質膜の反
対の面に設けると、色素および／または近赤外線吸収剤
を含む膜の保護の点から好ましい。また、導電性無機質
膜の上に形成することは、導電性無機質膜の最外層に反
射防止膜の高屈折率膜を兼ねさせることが可能であり好
ましい。
【００３３】導電性無機質膜が電磁波遮蔽機能を的確に
発揮するためには、使用に際して、導電性無機質膜がア
ース取りされていることが好ましい。従って、本発明の
プラズマディスプレイ用前面フィルターは、導電性無機
質膜と接触または導電性無機質膜を貫通するアース取り
用の導電性端子を備えていることが好ましい。ここで、
導電性無機質膜と接触する導電性端子とは、平面状ない
し針状、または突起状の導電性端子のことであり、少な
くとも１箇所で導電性無機質膜と接触する。好ましくは
複数箇所で接触する場合、高い効果が得られる。また、
導電性無機質膜を貫通する導電性端子とは、導電性の針
状、丸頭状、棒状の端子であり、導電性無機質膜を貫通
する。この場合も、貫通部分は少なくとも１箇所、好ま
しくは複数箇所で貫通する場合、高い効果が得られる。
発揮するためには、使用に際して、導電性無機質膜がア
ース取りされていることが好ましい。従って、本発明の
プラズマディスプレイ用前面フィルターは、導電性無機
質膜と接触または導電性無機質膜を貫通するアース取り
用の導電性端子を備えていることが好ましい。ここで、
導電性無機質膜と接触する導電性端子とは、平面状ない
し針状、または突起状の導電性端子のことであり、少な
くとも１箇所で導電性無機質膜と接触する。好ましくは
複数箇所で接触する場合、高い効果が得られる。また、
導電性無機質膜を貫通する導電性端子とは、導電性の針
状、丸頭状、棒状の端子であり、導電性無機質膜を貫通
する。この場合も、貫通部分は少なくとも１箇所、好ま
しくは複数箇所で貫通する場合、高い効果が得られる。
【００３４】
【実施例】実施例１ 厚さ３ｍｍの強化ガラス板の両面に、浸漬法を用い、γ
−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン加水分解物
とビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（油化シェルエポキ
シ社製 商品名”エピコート”８２７）を主成分とし、
近赤外線吸収剤（日本触媒社製 商品名”イーエクスカ
ラー”ＩＲ−４）５ｗｔ％、色素（三井化学社製 商品
名”ＰＳブルーＢＮ”）０．０１ｗｔ％、紫外線吸収剤
（チバガイギー社製 商品名”チヌビン”３２６）５ｗ
ｔ％を含む、膜厚３．５μｍ、鉛筆硬度８Ｈのハードコ
ート膜を形成した。
−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン加水分解物
とビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（油化シェルエポキ
シ社製 商品名”エピコート”８２７）を主成分とし、
近赤外線吸収剤（日本触媒社製 商品名”イーエクスカ
ラー”ＩＲ−４）５ｗｔ％、色素（三井化学社製 商品
名”ＰＳブルーＢＮ”）０．０１ｗｔ％、紫外線吸収剤
（チバガイギー社製 商品名”チヌビン”３２６）５ｗ
ｔ％を含む、膜厚３．５μｍ、鉛筆硬度８Ｈのハードコ
ート膜を形成した。
【００３５】ハードコート膜の片面に、真空蒸着法で膜
厚１５ｎｍの銀膜、膜厚５０ｎｍのＩＴＯ膜、膜厚１５
ｎｍの銀膜、膜厚５０ｎｍのＩＴＯ膜、膜厚１５ｎｍの
銀膜、膜厚５０ｎｍのＩＴＯ膜の順に積層し、電磁波遮
蔽兼近赤外線遮蔽機能を持つ導電性無機質膜を形成し
た。
厚１５ｎｍの銀膜、膜厚５０ｎｍのＩＴＯ膜、膜厚１５
ｎｍの銀膜、膜厚５０ｎｍのＩＴＯ膜、膜厚１５ｎｍの
銀膜、膜厚５０ｎｍのＩＴＯ膜の順に積層し、電磁波遮
蔽兼近赤外線遮蔽機能を持つ導電性無機質膜を形成し
た。
【００３６】さらに、導電性無機質膜の上に、真空蒸着
法により膜厚１８ｎｍのＴｉＯ2膜、膜厚１５ｎｍのＳ
ｉＯ2膜、膜厚２０ｎｍのＴｉＯ2膜、膜厚８０ｎｍのＳ
ｉＯ 2膜からなる反射防止膜を形成した。
法により膜厚１８ｎｍのＴｉＯ2膜、膜厚１５ｎｍのＳ
ｉＯ2膜、膜厚２０ｎｍのＴｉＯ2膜、膜厚８０ｎｍのＳ
ｉＯ 2膜からなる反射防止膜を形成した。
【００３７】ハードコート膜、導電性無機質膜、反射防
止膜が形成されている側の表面外周部に、導電性無機質
膜を貫通するように径２ｍｍの丸頭状のステンレス棒３
０本を圧入固定し、アース線を取った。このものをプラ
ズマディスプレイの前面フィルターとした。
止膜が形成されている側の表面外周部に、導電性無機質
膜を貫通するように径２ｍｍの丸頭状のステンレス棒３
０本を圧入固定し、アース線を取った。このものをプラ
ズマディスプレイの前面フィルターとした。
【００３８】本前面フィルターの電磁波遮蔽能は、２０
０ＭＨｚの電界波に対し４５ｄＢ、近赤外線遮蔽能は９
２％であった。また、色彩、明るさ、反射防止性におい
ても優れた性能を示した。 実施例２ 厚さ４ｍｍのＰＭＭＡ基板の両面に、ディッピング法を
用い、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン加
水分解物とビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（油化シェ
ルエポキシ社製 商品名”エピコート”８２７）を主成
分とし、近赤外線吸収剤（日本触媒社製 商品名”イー
エクスカラー”ＩＲ−４）５ｗｔ％、色素（三井化学社
製 商品名”ＰＳブルーＢＮ”）０．０１ｗｔ％、紫外
線吸収剤（チバガイギー社製 商品名”チヌビン”３２
６）５ｗｔ％含む、膜厚３．５μｍ、鉛筆硬度４Ｈのハ
ードコート膜を形成した。
０ＭＨｚの電界波に対し４５ｄＢ、近赤外線遮蔽能は９
２％であった。また、色彩、明るさ、反射防止性におい
ても優れた性能を示した。 実施例２ 厚さ４ｍｍのＰＭＭＡ基板の両面に、ディッピング法を
用い、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン加
水分解物とビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（油化シェ
ルエポキシ社製 商品名”エピコート”８２７）を主成
分とし、近赤外線吸収剤（日本触媒社製 商品名”イー
エクスカラー”ＩＲ−４）５ｗｔ％、色素（三井化学社
製 商品名”ＰＳブルーＢＮ”）０．０１ｗｔ％、紫外
線吸収剤（チバガイギー社製 商品名”チヌビン”３２
６）５ｗｔ％含む、膜厚３．５μｍ、鉛筆硬度４Ｈのハ
ードコート膜を形成した。
【００３９】ハードコート膜の片面に、真空蒸着法で膜
厚１５ｎｍの銀膜、膜厚５０ｎｍのＩＴＯ膜、膜厚１５
ｎｍの銀膜、膜厚５０ｎｍのＩＴＯ膜、膜厚１５ｎｍの
銀膜、膜厚５０ｎｍのＩＴＯ膜の順に積層し、電磁波遮
蔽兼近赤外線遮蔽機能を持つ導電性無機質膜を形成し
た。
厚１５ｎｍの銀膜、膜厚５０ｎｍのＩＴＯ膜、膜厚１５
ｎｍの銀膜、膜厚５０ｎｍのＩＴＯ膜、膜厚１５ｎｍの
銀膜、膜厚５０ｎｍのＩＴＯ膜の順に積層し、電磁波遮
蔽兼近赤外線遮蔽機能を持つ導電性無機質膜を形成し
た。
【００４０】さらに、導電性無機質膜の上とその反対面
のハードコート膜の上に、真空蒸着法により膜厚１８ｎ
ｍのＴｉＯ2膜、膜厚１５ｎｍのＳｉＯ2膜、膜厚２０ｎ
ｍのＴｉＯ2膜、膜厚８０ｎｍのＳｉＯ2膜からなる反射
防止膜をそれぞれ形成した。
のハードコート膜の上に、真空蒸着法により膜厚１８ｎ
ｍのＴｉＯ2膜、膜厚１５ｎｍのＳｉＯ2膜、膜厚２０ｎ
ｍのＴｉＯ2膜、膜厚８０ｎｍのＳｉＯ2膜からなる反射
防止膜をそれぞれ形成した。
【００４１】導電性無機質膜が形成されている側の表面
外周部に、導電性無機質膜を貫通するように径２ｍｍの
丸頭状のステンレス棒３０本を圧入固定し、アース線を
取った。このものをプラズマディスプレイの前面フィル
ターとした。
外周部に、導電性無機質膜を貫通するように径２ｍｍの
丸頭状のステンレス棒３０本を圧入固定し、アース線を
取った。このものをプラズマディスプレイの前面フィル
ターとした。
【００４２】本前面フィルターの電磁波遮蔽能は、２０
０ＭＨｚの電界波に対し４５ｄＢ、近赤外線遮蔽能は９
０％であった。また、色彩、明るさ、反射防止性におい
ても優れた性能を示した。
０ＭＨｚの電界波に対し４５ｄＢ、近赤外線遮蔽能は９
０％であった。また、色彩、明るさ、反射防止性におい
ても優れた性能を示した。
【００４３】
【発明の効果】本発明の前面フィルターを装着したプラ
ズマディスプレイは、漏洩する電磁波、近赤外線量が少
なく、色彩、明るさ、反射防止性でも優れた性能を示
し、かつ低コストで製造可能であった。
ズマディスプレイは、漏洩する電磁波、近赤外線量が少
なく、色彩、明るさ、反射防止性でも優れた性能を示
し、かつ低コストで製造可能であった。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4F100 AA00C AA20D AA21D AB24C AB33C AG00A AK53B AR00D AT00A BA03 BA04 BA07 BA10B BA10C BA10D CA07B CA13B CA30B EH46B EH66C EH66D GB56 JD08 JD10 JG01C JK12B JM02C JN06D YY00B 5C040 GH10 JA02 JA07 KA04 KA15 KB03 KB13 KB14 MA08 5G435 BB06 FF14 GG11 GG33
Claims (12)
- 【請求項１】基板上に、少なくとも色素および／または
近赤外線吸収剤を含む膜と導電性無機質膜が設けられて
いることを特徴とするプラズマディスプレイ用前面フィ
ルター。 - 【請求項２】色素および／または近赤外線吸収剤を含む
膜がウエットコーティング法により形成されたものであ
ることを特徴とする請求項１記載のプラズマディスプレ
イ用前面フィルター。 - 【請求項３】色素および／または近赤外線吸収剤を含む
膜が基板の両面に設けられており、導電性無機質膜が片
面に設けられていることを特徴とする請求項１記載のプ
ラズマディスプレイ用前面フィルター。 - 【請求項４】色素および／または近赤外線吸収剤を含む
膜が浸漬法により形成されたものであることを特徴とす
る請求項３記載のプラズマディスプレイ用前面フィルタ
ー。 - 【請求項５】色素および／または近赤外線吸収剤を含む
膜が基板の片面に設けられており、導電性無機質膜が反
対面に設けられていることを特徴とする請求項１記載の
プラズマディスプレイ用前面フィルター。 - 【請求項６】色素および／または近赤外線吸収剤を含む
膜が紫外線吸収剤を含むことを特徴とする請求項１記載
のプラズマディスプレイ用前面フィルター。 - 【請求項７】色素および／または近赤外線吸収剤を含む
膜が鉛筆硬度で２Ｈ以上であることを特徴とする請求項
１記載のプラズマディスプレイ用前面フィルター。 - 【請求項８】反射防止膜がさらに設けられていることを
特徴とする請求項１記載のプラズマディスプレイ用前面
フィルター。 - 【請求項９】反射防止膜が導電性無機質膜の上に設けら
れていることを特徴とする請求項記８記載のプラズマデ
ィスプレイ用前面フィルター。 - 【請求項１０】反射防止膜が色素および／または近赤外
線吸収剤を含む膜の上に設けられていることを特徴とす
る請求項８記載のプラズマディスプレイ用前面フィルタ
ー。 - 【請求項１１】反射防止膜が導電性無機質膜の反対面に
設けられていることを特徴とする請求項１０記載のプラ
ズマディスプレイ用前面フィルター。 - 【請求項１２】導電性無機質膜と接触または導電性無機
質膜を貫通する導電性端子を備えていることを特徴とす
る請求項１記載のプラズマディスプレイ用前面フィルタ
ー。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11035476A JP2000235347A (ja) | 1999-02-15 | 1999-02-15 | プラズマディスプレイ用前面フィルター |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11035476A JP2000235347A (ja) | 1999-02-15 | 1999-02-15 | プラズマディスプレイ用前面フィルター |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000235347A true JP2000235347A (ja) | 2000-08-29 |
Family
ID=12442830
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11035476A Pending JP2000235347A (ja) | 1999-02-15 | 1999-02-15 | プラズマディスプレイ用前面フィルター |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000235347A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002052531A1 (fr) * | 2000-12-19 | 2002-07-04 | Bridgestone Corporation | Film d ecran a plasma et filtre de protection, et ecran a plasma |
| JP2002189422A (ja) * | 2000-12-19 | 2002-07-05 | Bridgestone Corp | プラズマディスプレイ用フィルム及び保護フィルター |
| KR100791833B1 (ko) | 2005-01-20 | 2008-01-04 | (주)티피에스 | 고화소 수를 가진 ir 컷 오프 필터용 기판 제조 방법. |
-
1999
- 1999-02-15 JP JP11035476A patent/JP2000235347A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002052531A1 (fr) * | 2000-12-19 | 2002-07-04 | Bridgestone Corporation | Film d ecran a plasma et filtre de protection, et ecran a plasma |
| JP2002189422A (ja) * | 2000-12-19 | 2002-07-05 | Bridgestone Corp | プラズマディスプレイ用フィルム及び保護フィルター |
| KR100791833B1 (ko) | 2005-01-20 | 2008-01-04 | (주)티피에스 | 고화소 수를 가진 ir 컷 오프 필터용 기판 제조 방법. |
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