JPH1062603A - 導電性を有する反射防止板およびこれを付与してなる光学部品 - Google Patents
導電性を有する反射防止板およびこれを付与してなる光学部品Info
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- JPH1062603A JPH1062603A JP9089828A JP8982897A JPH1062603A JP H1062603 A JPH1062603 A JP H1062603A JP 9089828 A JP9089828 A JP 9089828A JP 8982897 A JP8982897 A JP 8982897A JP H1062603 A JPH1062603 A JP H1062603A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 単純な層構成で、優れた反射防止性能を有
し、耐擦傷性、耐久性に優れた導電性を有する反射防止
板を提供する。 【解決手段】 透光性基板表面に、該基板表面側から順
に、体積固有抵抗が１０ -1（Ω・ｃｍ）以下である透光
性導電層、酸化チタンを主成分とする層、二酸化ケイ素
を主成分とする層を形成することによって、優れた反射
防止性能を有し、耐擦傷性、耐久性に優れた導電性を有
する反射防止板を低コストで得ることができる。
し、耐擦傷性、耐久性に優れた導電性を有する反射防止
板を提供する。 【解決手段】 透光性基板表面に、該基板表面側から順
に、体積固有抵抗が１０ -1（Ω・ｃｍ）以下である透光
性導電層、酸化チタンを主成分とする層、二酸化ケイ素
を主成分とする層を形成することによって、優れた反射
防止性能を有し、耐擦傷性、耐久性に優れた導電性を有
する反射防止板を低コストで得ることができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は導電性、すなわち帯
電防止性、電磁波シールド性を有する反射防止板に関す
る。詳しくは単純な層構成により工業的量産性に優れた
導電性を有する反射防止板に関する。
電防止性、電磁波シールド性を有する反射防止板に関す
る。詳しくは単純な層構成により工業的量産性に優れた
導電性を有する反射防止板に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、オフィスにおいて、また各種測定
時にディスプレイ画面を使用した作業が非常に多くなっ
ている。液晶ディスプレイやブラウン管等の表示画面を
見る場合、窓からの外光や室内照明が画面上で反射し、
表示が見難くなるとともに、ディスプレイ作業における
疲労の原因ともなっている。
時にディスプレイ画面を使用した作業が非常に多くなっ
ている。液晶ディスプレイやブラウン管等の表示画面を
見る場合、窓からの外光や室内照明が画面上で反射し、
表示が見難くなるとともに、ディスプレイ作業における
疲労の原因ともなっている。
【０００３】この問題に対する対策の一手法として、表
示画面の表面に反射防止層を設け、表示画質を向上させ
ることが行われている。ガラスから成るレンズ等の光学
部品には、従来より反射防止層として二酸化ケイ素、酸
化チタン、酸化ジルコニウム、弗化マグネシウム等の透
明誘電体層を付与することが行われており、この技術の
表示画面への応用が活発となってきた。
示画面の表面に反射防止層を設け、表示画質を向上させ
ることが行われている。ガラスから成るレンズ等の光学
部品には、従来より反射防止層として二酸化ケイ素、酸
化チタン、酸化ジルコニウム、弗化マグネシウム等の透
明誘電体層を付与することが行われており、この技術の
表示画面への応用が活発となってきた。
【０００４】更に近年においては、ＯＡ化が進むにつれ
ディスプレイ画面から発生する有害な電磁波から人体を
守る工夫が施されたものが求められ、さらに今後普及す
るとみられるプラズマディスプレイ等の新しいディスプ
レイデバイスにおいても電磁波の放射による種々の弊害
が懸念されている。これらの状況からディスプレイ表面
機能においても反射防止に加えてこれらの電磁波をシー
ルドする機能が必要となってきた。
ディスプレイ画面から発生する有害な電磁波から人体を
守る工夫が施されたものが求められ、さらに今後普及す
るとみられるプラズマディスプレイ等の新しいディスプ
レイデバイスにおいても電磁波の放射による種々の弊害
が懸念されている。これらの状況からディスプレイ表面
機能においても反射防止に加えてこれらの電磁波をシー
ルドする機能が必要となってきた。
【０００５】従来、これらの電磁波をシールドする方法
として、薄い金属薄膜をコーティングする方法や、導電
性のメッシュを用いることが行われてきが、この様な方
法では電磁波のシールド性は確保されるものの光の透過
率が低くなるため、ディスプレイ用途に使用した場合、
画面の輝度が低下し画質の低下を招くものであった。特
にメッシュを使用した場合は、シールド性は優れたもの
が得られるが、画面にメッシュパターンの干渉によるモ
アレが発生し、画面が非常に見難くなるという欠点があ
った。
として、薄い金属薄膜をコーティングする方法や、導電
性のメッシュを用いることが行われてきが、この様な方
法では電磁波のシールド性は確保されるものの光の透過
率が低くなるため、ディスプレイ用途に使用した場合、
画面の輝度が低下し画質の低下を招くものであった。特
にメッシュを使用した場合は、シールド性は優れたもの
が得られるが、画面にメッシュパターンの干渉によるモ
アレが発生し、画面が非常に見難くなるという欠点があ
った。
【０００６】これらの欠点を解決する手段として、透明
導電層をコートし、さらにこれと他の誘電体層を積層す
ることによって、反射防止機能と電磁波シールド機能を
両立させる技術が開示されている。この例として、特開
昭６１−２４５４４９号公報には、プラスチック透明基
材上にハードコート層を設け、その表面に導電層を設
け、更にその表面に前記導電層の屈折率よりも低い屈折
率の層を設けた電磁波シールド性を有する光透過板が提
案されている。また特開平６−１３０２０４号公報に
は、多層の導電体層からなる反射防止光透過板が開示さ
れている。
導電層をコートし、さらにこれと他の誘電体層を積層す
ることによって、反射防止機能と電磁波シールド機能を
両立させる技術が開示されている。この例として、特開
昭６１−２４５４４９号公報には、プラスチック透明基
材上にハードコート層を設け、その表面に導電層を設
け、更にその表面に前記導電層の屈折率よりも低い屈折
率の層を設けた電磁波シールド性を有する光透過板が提
案されている。また特開平６−１３０２０４号公報に
は、多層の導電体層からなる反射防止光透過板が開示さ
れている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特開昭
６１−２４５４４９号公報に記載の光透過板は、電磁波
シールド性は良好なものの、反射防止性能は不十分であ
り、広い波長帯域にわたる反射防止機能を有していな
い。また、特開平６−１３０２０４号公報に記載の光透
過板は、３層構成のものでは十分な反射防止性能が得ら
れておらず、また４層構成のものでは層構成が複雑であ
り安定的な作製が難しく、また反射防止膜トータルとし
ての厚みが厚いため低コストでの作製ができないと言っ
た欠点を有する。
６１−２４５４４９号公報に記載の光透過板は、電磁波
シールド性は良好なものの、反射防止性能は不十分であ
り、広い波長帯域にわたる反射防止機能を有していな
い。また、特開平６−１３０２０４号公報に記載の光透
過板は、３層構成のものでは十分な反射防止性能が得ら
れておらず、また４層構成のものでは層構成が複雑であ
り安定的な作製が難しく、また反射防止膜トータルとし
ての厚みが厚いため低コストでの作製ができないと言っ
た欠点を有する。
【０００８】このように、透明導電物質はそれぞれ固有
の屈折率を有すること、またある値以下の表面抵抗値を
有するためにはある厚み以上の膜厚が必要であることな
どから、反射防止性能を重視したものでは４層以上の多
層構成が採られていた。しかし、これらの４層以上の層
構成においては、それぞれの層の厚み、屈折率を厳密に
作製する必要があり、また反射防止層としてのトータル
の厚みが２５００〜３０００Å程度と厚くなることか
ら、生産性が悪く、低価格化が困難であるという問題が
あった。
の屈折率を有すること、またある値以下の表面抵抗値を
有するためにはある厚み以上の膜厚が必要であることな
どから、反射防止性能を重視したものでは４層以上の多
層構成が採られていた。しかし、これらの４層以上の層
構成においては、それぞれの層の厚み、屈折率を厳密に
作製する必要があり、また反射防止層としてのトータル
の厚みが２５００〜３０００Å程度と厚くなることか
ら、生産性が悪く、低価格化が困難であるという問題が
あった。
【０００９】かかる事情に鑑み、本発明者らは優れた導
電性を有する反射防止板について鋭意検討した結果、Ｉ
ＴＯ層を含む従来の反射防止層に関する前述の問題点
は、ＩＴＯ層表面にＩＴＯ層より屈折率に低い層を付与
することにより構成されていたためであり、ＩＴＯ層表
面にＩＴＯ層より屈折率の高い層を付与することによ
り、すなわち、透光性基板表面に、順にＩＴＯ層などの
体積固有抵抗が１０-1（Ω・ｃｍ）以下である透光性導
電層、酸化チタンを主成分とする層、酸化ケイ素を主成
分とする層の３層を形成することにより、優れた導電性
を有する反射防止板を容易に低コストで製造できること
を見出し、本発明を完成するに至った。
電性を有する反射防止板について鋭意検討した結果、Ｉ
ＴＯ層を含む従来の反射防止層に関する前述の問題点
は、ＩＴＯ層表面にＩＴＯ層より屈折率に低い層を付与
することにより構成されていたためであり、ＩＴＯ層表
面にＩＴＯ層より屈折率の高い層を付与することによ
り、すなわち、透光性基板表面に、順にＩＴＯ層などの
体積固有抵抗が１０-1（Ω・ｃｍ）以下である透光性導
電層、酸化チタンを主成分とする層、酸化ケイ素を主成
分とする層の３層を形成することにより、優れた導電性
を有する反射防止板を容易に低コストで製造できること
を見出し、本発明を完成するに至った。
【００１０】
【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、透光
性基板表面に、該基板表面側から順に、体積固有抵抗が
１０-1（Ω・ｃｍ）以下である透光性導電層、酸化チタ
ンを主成分とする層、酸化ケイ素を主成分とする層を形
成してなる導電性を有する反射防止板を提供するもので
ある。
性基板表面に、該基板表面側から順に、体積固有抵抗が
１０-1（Ω・ｃｍ）以下である透光性導電層、酸化チタ
ンを主成分とする層、酸化ケイ素を主成分とする層を形
成してなる導電性を有する反射防止板を提供するもので
ある。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の反射防止板は、フィルム状、シート状または板
状のもの（以下、板と称する）であり、通常、光学部品
の表面に貼合して用いられる。また表示装置の前面に配
置する光学フィルターなどの場合には、メタクリル樹脂
板などに透光性導電層、酸化チタンを主成分とする層、
酸化ケイ素を主成分とする層を形成し、これを他の部材
に貼合することなく、そのまま光学フィルターなどとし
て用いることもできる。従って、透光性基板としてはフ
ィルム状、シート状または板状のものが用いられる。基
板としては透光性で、真空プロセスに使用できるもので
あれば特に限定されるものではなく、その屈折率は通常
１．４５〜１．６５の範囲である。かかる透光性の基板
としては、例えばポリエチレン、ポリプロピレンなどの
ポリオレフィン、ポリカーボネート、ポリメチルメタク
リレート（ＰＭＭＡ）、ポリエチレンテレフタレート
（ＰＥＴ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等のプ
ラスチックからなる合成樹脂基板やガラス板等が挙げら
れる。
本発明の反射防止板は、フィルム状、シート状または板
状のもの（以下、板と称する）であり、通常、光学部品
の表面に貼合して用いられる。また表示装置の前面に配
置する光学フィルターなどの場合には、メタクリル樹脂
板などに透光性導電層、酸化チタンを主成分とする層、
酸化ケイ素を主成分とする層を形成し、これを他の部材
に貼合することなく、そのまま光学フィルターなどとし
て用いることもできる。従って、透光性基板としてはフ
ィルム状、シート状または板状のものが用いられる。基
板としては透光性で、真空プロセスに使用できるもので
あれば特に限定されるものではなく、その屈折率は通常
１．４５〜１．６５の範囲である。かかる透光性の基板
としては、例えばポリエチレン、ポリプロピレンなどの
ポリオレフィン、ポリカーボネート、ポリメチルメタク
リレート（ＰＭＭＡ）、ポリエチレンテレフタレート
（ＰＥＴ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等のプ
ラスチックからなる合成樹脂基板やガラス板等が挙げら
れる。
【００１２】合成樹脂基板を用いる場合、反射防止層の
耐擦傷性や反射防止層と基板との密着性を向上させる目
的でハードコート（ＨＣ）層を設けたものを使用するこ
とも有効である。ハードコート層は特に限定されるもの
ではなく、シリコン系、アクリル系、アクリルウレタン
系等の樹脂材料や、金属酸化物を主成分とするコーティ
ング層が例示できる。これらのハードコート層はスピン
コート法、浸漬法など公知の方法で設けられる。ハード
コート層の厚みとしては１μｍ〜２０μｍ、好ましくは
３μｍ〜１０μｍであり、その屈折率は通常１．６５以
下、好ましくは１．４５〜１．６５の範囲である。
耐擦傷性や反射防止層と基板との密着性を向上させる目
的でハードコート（ＨＣ）層を設けたものを使用するこ
とも有効である。ハードコート層は特に限定されるもの
ではなく、シリコン系、アクリル系、アクリルウレタン
系等の樹脂材料や、金属酸化物を主成分とするコーティ
ング層が例示できる。これらのハードコート層はスピン
コート法、浸漬法など公知の方法で設けられる。ハード
コート層の厚みとしては１μｍ〜２０μｍ、好ましくは
３μｍ〜１０μｍであり、その屈折率は通常１．６５以
下、好ましくは１．４５〜１．６５の範囲である。
【００１３】透光性導電層（第１層）、酸化チタンを主
成分とする層（第２層）、酸化ケイ素を主成分とする層
（第３層）の形成方法は特に限定されるものではなく、
抵抗加熱蒸着法、電子ビーム（ＥＢ）蒸着法などの真空
蒸着法、スパッタ法、イオンプレーティング法などの公
知の方法により形成することができる。
成分とする層（第２層）、酸化ケイ素を主成分とする層
（第３層）の形成方法は特に限定されるものではなく、
抵抗加熱蒸着法、電子ビーム（ＥＢ）蒸着法などの真空
蒸着法、スパッタ法、イオンプレーティング法などの公
知の方法により形成することができる。
【００１４】第１層の透光性導電層としては、透光性で
ありかつ体積固有抵抗率が１０-1（Ω・ｃｍ）以下、好
ましくは１０-2（Ω・ｃｍ）以下であればどの様なもの
でもよく、例えば酸化インジウムを主成分とし、酸化ス
ズが添加されたＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などに代表
される酸化インジウムおよび／または酸化スズを含む層
などが例示できる。体積固有抵抗値が１０-1（Ω・ｃ
ｍ）より大きいものでは、光学膜程度の厚さにおいては
シート抵抗値が大きく、十分な電磁シールド性が確保で
きない。体積固有抵抗値は小さいほど好ましいが、通常
は２×１０-4（Ω・ｃｍ）以上である。
ありかつ体積固有抵抗率が１０-1（Ω・ｃｍ）以下、好
ましくは１０-2（Ω・ｃｍ）以下であればどの様なもの
でもよく、例えば酸化インジウムを主成分とし、酸化ス
ズが添加されたＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などに代表
される酸化インジウムおよび／または酸化スズを含む層
などが例示できる。体積固有抵抗値が１０-1（Ω・ｃ
ｍ）より大きいものでは、光学膜程度の厚さにおいては
シート抵抗値が大きく、十分な電磁シールド性が確保で
きない。体積固有抵抗値は小さいほど好ましいが、通常
は２×１０-4（Ω・ｃｍ）以上である。
【００１５】この導電層の膜厚ｄ1 は屈折率をｎ1 、反
射防止の目的とする光の波長をλとして、ｎ1 ×ｄ1 が
０．１０λ〜０．２３λ、さらには０．１５λ〜０．２
２λとなるようにに設定されることが望ましい。０．１
０λより小さい場合は膜質の変動により体積抵抗値が大
きくなった場合、目的とするシート抵抗値が得られなく
なる可能性あり、また０．２３λより大きい膜厚では十
分な反射防止性能を有するものが得難くなる可能性があ
る。なお、ｎ1 は通常１．９６〜２．１０の範囲であ
る。具体的には、λを視感度が最もよいとされる５５０
ｎｍとし、第１層としてＩＴＯからなる層を使用した場
合には、設定膜厚ｄ1 としては約２６０Å〜約６５０
Å、さらには約３９０Å〜約６２０Åであることが望ま
しい。
射防止の目的とする光の波長をλとして、ｎ1 ×ｄ1 が
０．１０λ〜０．２３λ、さらには０．１５λ〜０．２
２λとなるようにに設定されることが望ましい。０．１
０λより小さい場合は膜質の変動により体積抵抗値が大
きくなった場合、目的とするシート抵抗値が得られなく
なる可能性あり、また０．２３λより大きい膜厚では十
分な反射防止性能を有するものが得難くなる可能性があ
る。なお、ｎ1 は通常１．９６〜２．１０の範囲であ
る。具体的には、λを視感度が最もよいとされる５５０
ｎｍとし、第１層としてＩＴＯからなる層を使用した場
合には、設定膜厚ｄ1 としては約２６０Å〜約６５０
Å、さらには約３９０Å〜約６２０Åであることが望ま
しい。
【００１６】この透光性導電層を付与する方法として
は、抵抗加熱蒸着法、ＥＢ蒸着法などの真空蒸着法、直
流放電スパッタ法（ＤＣ−スパッタ法）、高周波スパッ
タ法（ＲＦスパッタ法）などのスパッタ法、イオンプレ
ーティング法等、どの様な方法でもよく、特に限定する
ものではないが、得られる膜がより低抵抗である必要が
ある場合はスパッタ法、イオンプレーティング法が適当
である。
は、抵抗加熱蒸着法、ＥＢ蒸着法などの真空蒸着法、直
流放電スパッタ法（ＤＣ−スパッタ法）、高周波スパッ
タ法（ＲＦスパッタ法）などのスパッタ法、イオンプレ
ーティング法等、どの様な方法でもよく、特に限定する
ものではないが、得られる膜がより低抵抗である必要が
ある場合はスパッタ法、イオンプレーティング法が適当
である。
【００１７】第２層の酸化チタンを主成分とする層の膜
厚ｄ2 は、屈折率をｎ2 、反射防止の目的とする光の波
長をλとして、ｎ2 ×ｄ2 が０．２５λ〜０．３２λ、
さらには０．２７λ〜０．３１λとなるように設定され
ることが望ましい。なお、ｎ 2 は通常２．２０〜２．３
５の範囲である。具体的には、λが５５０ｎｍである場
合、設定膜厚ｄ2 は約５８０Å〜約８００Å、さらには
約６３０Å〜約７８０Åであることが望ましい。この第
２層を付与する方法としては、第１層の導電層と同様、
特に限定されるものではなく、第１層におけると同様に
真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタ法等ど
の様な方法を用いてもよい。
厚ｄ2 は、屈折率をｎ2 、反射防止の目的とする光の波
長をλとして、ｎ2 ×ｄ2 が０．２５λ〜０．３２λ、
さらには０．２７λ〜０．３１λとなるように設定され
ることが望ましい。なお、ｎ 2 は通常２．２０〜２．３
５の範囲である。具体的には、λが５５０ｎｍである場
合、設定膜厚ｄ2 は約５８０Å〜約８００Å、さらには
約６３０Å〜約７８０Åであることが望ましい。この第
２層を付与する方法としては、第１層の導電層と同様、
特に限定されるものではなく、第１層におけると同様に
真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタ法等ど
の様な方法を用いてもよい。
【００１８】第３層の酸化シリコンを主成分とする層の
膜厚ｄ3 は、その屈折率をｎ3 、反射防止を目的とする
光の波長をλとして、ｎ3 ×ｄ3 が０．１９λ〜０．２
５λ、さらには０．２０λ〜０．２４λとなるように設
定されることが好ましい。なお、ｎ3 は後述のように
１．４４〜１．６０であることが好ましい。具体的に
は、例えばλを視感度の最も良いとされる５５０ｎｍと
した場合、設定膜厚ｄ3 は約６５０Å〜約９６０Å、さ
らには約７３０Å〜約９２０Åであることが好ましい。
なお、本発明の目的とする効果を得るには、ｎ3 が１．
４４〜１．６０、さらには１．４４〜１．５０であるこ
とが好ましい。ｎ3 が１．４４未満では反射防止層の機
械的強度が劣る傾向にあり、１．６０を超えると反射防
止の効果が不十分となる傾向にある。酸化ケイ素はその
酸化度により屈折率が大きく変化するため、例えば酸素
による反応性を利用したスパッタ法で酸化ケイ素層を形
成させた場合には屈折率を酸化度により制御することが
できる。この第３層を付与する方法としては、第１層の
透光性導電層と同様に特に限定されるものではなく、ど
の様な方法を用いてもよい。
膜厚ｄ3 は、その屈折率をｎ3 、反射防止を目的とする
光の波長をλとして、ｎ3 ×ｄ3 が０．１９λ〜０．２
５λ、さらには０．２０λ〜０．２４λとなるように設
定されることが好ましい。なお、ｎ3 は後述のように
１．４４〜１．６０であることが好ましい。具体的に
は、例えばλを視感度の最も良いとされる５５０ｎｍと
した場合、設定膜厚ｄ3 は約６５０Å〜約９６０Å、さ
らには約７３０Å〜約９２０Åであることが好ましい。
なお、本発明の目的とする効果を得るには、ｎ3 が１．
４４〜１．６０、さらには１．４４〜１．５０であるこ
とが好ましい。ｎ3 が１．４４未満では反射防止層の機
械的強度が劣る傾向にあり、１．６０を超えると反射防
止の効果が不十分となる傾向にある。酸化ケイ素はその
酸化度により屈折率が大きく変化するため、例えば酸素
による反応性を利用したスパッタ法で酸化ケイ素層を形
成させた場合には屈折率を酸化度により制御することが
できる。この第３層を付与する方法としては、第１層の
透光性導電層と同様に特に限定されるものではなく、ど
の様な方法を用いてもよい。
【００１９】本発明の反射防止板は上記のとおり、基板
上に第１層、第２層、第３層からなる構成を基本とする
ことにより、単純な層構成で良好な反射特性を有するも
のを得ることができるものである。更に機械的強度、密
着性を向上させる目的で第１層である導電層と基板表面
の間に、接着層として酸化ケイ素層、または酸化アルミ
ニウム層を設けることも有効である。かかる接着層を設
ける場合、その厚みは通常５０Å〜５００Åである。５
０Åより薄い膜厚では接着層としての働きは十分ではな
く、また５００Åより厚い膜厚では接着層としては十分
であるが、全体の反射防止特性が低下する現象が発生
し、また全体としての膜厚も厚くなることから５００Å
以下に押さえることが望ましい。使用する用途によりこ
の接着層の厚みは適宜設定する必要があるが、好ましく
は８０〜２００Åの範囲である。また、接着層として酸
化ケイ素層を用いる場合、その屈折率は１．４６〜１．
９０の範囲であることが好ましい。かかる屈折率は酸化
ケイ素の酸化度に応じて制御することができる。
上に第１層、第２層、第３層からなる構成を基本とする
ことにより、単純な層構成で良好な反射特性を有するも
のを得ることができるものである。更に機械的強度、密
着性を向上させる目的で第１層である導電層と基板表面
の間に、接着層として酸化ケイ素層、または酸化アルミ
ニウム層を設けることも有効である。かかる接着層を設
ける場合、その厚みは通常５０Å〜５００Åである。５
０Åより薄い膜厚では接着層としての働きは十分ではな
く、また５００Åより厚い膜厚では接着層としては十分
であるが、全体の反射防止特性が低下する現象が発生
し、また全体としての膜厚も厚くなることから５００Å
以下に押さえることが望ましい。使用する用途によりこ
の接着層の厚みは適宜設定する必要があるが、好ましく
は８０〜２００Åの範囲である。また、接着層として酸
化ケイ素層を用いる場合、その屈折率は１．４６〜１．
９０の範囲であることが好ましい。かかる屈折率は酸化
ケイ素の酸化度に応じて制御することができる。
【００２０】本発明の導電性を有する反射防止板は、表
示装置の前面板として用いてもよいし、前面板表面に設
けた状態で使用されてもよいし、ＣＲＴディスプレイな
どの表面に直接粘着剤などで貼合して用いてもよい。ま
た、本発明の導電性を有する反射防止板を、偏光板上に
設けて液晶表示装置に用いてもよい。前面板または偏光
板は公知のものでよく、それらに取り付ける方法も粘着
剤で貼合するなど公知の方法が用いられる。
示装置の前面板として用いてもよいし、前面板表面に設
けた状態で使用されてもよいし、ＣＲＴディスプレイな
どの表面に直接粘着剤などで貼合して用いてもよい。ま
た、本発明の導電性を有する反射防止板を、偏光板上に
設けて液晶表示装置に用いてもよい。前面板または偏光
板は公知のものでよく、それらに取り付ける方法も粘着
剤で貼合するなど公知の方法が用いられる。
【００２１】
【発明の効果】本発明の導電性を有する反射防止板は、
優れた反射防止性能を有し、耐擦傷性、耐久性に優れ、
また安価な物質を用いた３層という単純な層構成であ
り、トータル膜厚の薄膜化が可能であることから、従来
の構成に比べて低コストで容易に製造することができ
る。
優れた反射防止性能を有し、耐擦傷性、耐久性に優れ、
また安価な物質を用いた３層という単純な層構成であ
り、トータル膜厚の薄膜化が可能であることから、従来
の構成に比べて低コストで容易に製造することができ
る。
【００２２】
【実施例】以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説
明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものでな
い。なお、得られた導電性反射防止膜の評価は次のとお
りに行った。 （１）反射率の測定 （株）島津製作所製ＵＶ−２２００を用いて、反射スペ
クトルを測定した。 ○：４００〜６５０ｎｍで反射率の最大値が３％未満 ×：４００〜６５０ｎｍで反射率の最大値が３％以上 （２）耐擦傷性テスト スチールウール＃００００を使用し、２５０ｇ／ｃｍ2
の荷重で表面を２０回擦傷し、表面の傷つき状態を観察
した。 ◎：全く傷が付かない ○：ほとんど傷が付かない （３）密着強度テスト セロハンテープによる碁盤の目剥離テスト（ＪＩＳ Ｋ
５４００−１９９０）により評価した。ニチバンのセロ
ハンテープを用い、碁盤の目にカットした表面にテープ
を貼り付け、９０゜の角度で引き剥がした時の反射防止
膜の剥離状況を観察した。 （４）耐久性テスト 試料を下記表１に示す条件下に２００時間放置した後、
試料表面の微細なクラックの発生、膜の劣化（透明度の
低下）の有無を観察すると共に上記（３）の密着強度テ
ストを行った。
明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものでな
い。なお、得られた導電性反射防止膜の評価は次のとお
りに行った。 （１）反射率の測定 （株）島津製作所製ＵＶ−２２００を用いて、反射スペ
クトルを測定した。 ○：４００〜６５０ｎｍで反射率の最大値が３％未満 ×：４００〜６５０ｎｍで反射率の最大値が３％以上 （２）耐擦傷性テスト スチールウール＃００００を使用し、２５０ｇ／ｃｍ2
の荷重で表面を２０回擦傷し、表面の傷つき状態を観察
した。 ◎：全く傷が付かない ○：ほとんど傷が付かない （３）密着強度テスト セロハンテープによる碁盤の目剥離テスト（ＪＩＳ Ｋ
５４００−１９９０）により評価した。ニチバンのセロ
ハンテープを用い、碁盤の目にカットした表面にテープ
を貼り付け、９０゜の角度で引き剥がした時の反射防止
膜の剥離状況を観察した。 （４）耐久性テスト 試料を下記表１に示す条件下に２００時間放置した後、
試料表面の微細なクラックの発生、膜の劣化（透明度の
低下）の有無を観察すると共に上記（３）の密着強度テ
ストを行った。
【００２３】
【表１】
【００２４】（５）工業的生産性 層構成の単純性を下記のように評価した。 ◎：２層以下の構成 ○：３層構成 ×：４層以上の構成 トータル膜厚を次の用に評価した。 ◎：１５００Å以下 ○：１５００Åより厚く２３００Å以下 ×：２３００Åより厚い
【００２５】実施例１ トリアセチルセルロース（ＴＡＣ、屈折率１．５０）フ
ィルムにアクリルウレタン系のハードコート（ＨＣ、屈
折率１．５２、厚み約５μｍ）を行ったもの（以下、Ｈ
Ｃ−ＴＡＣと略する）を基板として使用し、表２に示す
ような層構成で反射防止板を構成した。図１にはこの材
料の断面の構成を示す。それぞれの膜の付与は以下のよ
うな条件で行った。第１層のＩＴＯ層は、ＩＴＯをター
ゲットとするＤＣマグネトロンスパッタ法（以下、ＤＣ
−ＭＳと略する）を用いて作製した。即ち基板をセット
後、真空度５×１０-6 Torr まで真空に引いた後、アル
ゴンガスを投入して５×１０-3 Torr とし、更にアルゴ
ンガス導入量の３％程度の酸素ガスを添加して放電パワ
ー４００Ｗで５５０Åの膜厚を得た。この時ＩＴＯ層の
体積固有抵抗値は５×１０-4（Ω・ｃｍ）であった。第
２層はＴｉターゲットを用い、アルゴンガス量に対し酸
素ガス投入量を７％と設定し、真空度６×１０-3 Torr
で反応性スパッタにより４００Ｗの投入電力により６９
０Åの酸化チタン（以下、ＴｉＯx と称する。）層を作
製した。第３層はＳｉターゲットを用い、アルゴンガス
量に対し酸素ガス投入量を２０％と設定し、真空度５×
１０-3 Torr で４００Ｗの投入電力により８３０Åの酸
化ケイ素（以下、ＳｉＯx と称する。）層を作製した。
評価結果を表９および図２に示す。
ィルムにアクリルウレタン系のハードコート（ＨＣ、屈
折率１．５２、厚み約５μｍ）を行ったもの（以下、Ｈ
Ｃ−ＴＡＣと略する）を基板として使用し、表２に示す
ような層構成で反射防止板を構成した。図１にはこの材
料の断面の構成を示す。それぞれの膜の付与は以下のよ
うな条件で行った。第１層のＩＴＯ層は、ＩＴＯをター
ゲットとするＤＣマグネトロンスパッタ法（以下、ＤＣ
−ＭＳと略する）を用いて作製した。即ち基板をセット
後、真空度５×１０-6 Torr まで真空に引いた後、アル
ゴンガスを投入して５×１０-3 Torr とし、更にアルゴ
ンガス導入量の３％程度の酸素ガスを添加して放電パワ
ー４００Ｗで５５０Åの膜厚を得た。この時ＩＴＯ層の
体積固有抵抗値は５×１０-4（Ω・ｃｍ）であった。第
２層はＴｉターゲットを用い、アルゴンガス量に対し酸
素ガス投入量を７％と設定し、真空度６×１０-3 Torr
で反応性スパッタにより４００Ｗの投入電力により６９
０Åの酸化チタン（以下、ＴｉＯx と称する。）層を作
製した。第３層はＳｉターゲットを用い、アルゴンガス
量に対し酸素ガス投入量を２０％と設定し、真空度５×
１０-3 Torr で４００Ｗの投入電力により８３０Åの酸
化ケイ素（以下、ＳｉＯx と称する。）層を作製した。
評価結果を表９および図２に示す。
【００２６】
【表２】
【００２７】この導電性を有する反射防止層を設けたＨ
Ｃ−ＴＡＣフィルムを偏光子であるポリビニルアルコー
ルの延伸フィルムに保護膜として貼合し、導電性反射防
止膜を付与した偏光板とた。これを液晶表示装置に用い
たところ、視認性が良好であり、帯電による埃の付着も
なく、また電磁波の漏洩がさらに減少した。
Ｃ−ＴＡＣフィルムを偏光子であるポリビニルアルコー
ルの延伸フィルムに保護膜として貼合し、導電性反射防
止膜を付与した偏光板とた。これを液晶表示装置に用い
たところ、視認性が良好であり、帯電による埃の付着も
なく、また電磁波の漏洩がさらに減少した。
【００２８】実施例２ ＰＥＴ（屈折率１．５９）フィルムにアクリル系のハー
ドコート（屈折率１．５５、厚み約５μｍ）を行ったも
の（以下、ＨＣ−ＰＥＴと略する）を基板として使用
し、表３に示すような層構成で反射防止板を構成した。
第１層のＩＴＯ層は、イオンプレーティング法（ＩＰと
略する）を用いて６００Åの厚みに作製した。このＩＴ
Ｏ層の体積固有抵抗値は８×１０-3（Ω・ｃｍ）であっ
た。第２層はＴｉターゲットを用い、アルゴンガス量に
対し酸素ガス投入量を７％と設定し、真空度６×１０-3
Torr で反応性スパッタにより４００Ｗの投入電力によ
り６４０ÅのＴｉＯx 層を作製した。第３層はＳｉター
ゲットを用い、アルゴンガス量に対し酸素ガス投入量を
２０％と設定し、真空度５×１０-3 Torr で４００Ｗの
投入電力により７６０ÅのＳｉＯx 層を作製した。評価
結果を表９および図３に示す。
ドコート（屈折率１．５５、厚み約５μｍ）を行ったも
の（以下、ＨＣ−ＰＥＴと略する）を基板として使用
し、表３に示すような層構成で反射防止板を構成した。
第１層のＩＴＯ層は、イオンプレーティング法（ＩＰと
略する）を用いて６００Åの厚みに作製した。このＩＴ
Ｏ層の体積固有抵抗値は８×１０-3（Ω・ｃｍ）であっ
た。第２層はＴｉターゲットを用い、アルゴンガス量に
対し酸素ガス投入量を７％と設定し、真空度６×１０-3
Torr で反応性スパッタにより４００Ｗの投入電力によ
り６４０ÅのＴｉＯx 層を作製した。第３層はＳｉター
ゲットを用い、アルゴンガス量に対し酸素ガス投入量を
２０％と設定し、真空度５×１０-3 Torr で４００Ｗの
投入電力により７６０ÅのＳｉＯx 層を作製した。評価
結果を表９および図３に示す。
【００２９】
【表３】
【００３０】実施例３ シリコン系ハードコート（屈折率１．５０、厚み約５μ
ｍ）層を有するポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ、
屈折率１．５０）板（以下、ＨＣ−ＰＭＭＡと略する）
を基板として使用し、表４に示すような層構成で反射防
止板を構成した。第１層のＩＴＯ層は、イオンプレーテ
ィング法を用いて５００Åの厚みに作製した。このＩＴ
Ｏ層の体積固有抵抗値は８×１０-3（Ω・ｃｍ）であっ
た。第２層は真空蒸着法を用い、ＴｉＯ2 をＥＢガンに
より加熱し７５０ÅのＴｉＯ2 層を作製した。第３層は
真空蒸着法を用い、ＳｉＯ2 をＥＢガンにより加熱し８
７０ÅのＳｉＯ2 層を作製した。評価結果を表９および
図４に示す。
ｍ）層を有するポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ、
屈折率１．５０）板（以下、ＨＣ−ＰＭＭＡと略する）
を基板として使用し、表４に示すような層構成で反射防
止板を構成した。第１層のＩＴＯ層は、イオンプレーテ
ィング法を用いて５００Åの厚みに作製した。このＩＴ
Ｏ層の体積固有抵抗値は８×１０-3（Ω・ｃｍ）であっ
た。第２層は真空蒸着法を用い、ＴｉＯ2 をＥＢガンに
より加熱し７５０ÅのＴｉＯ2 層を作製した。第３層は
真空蒸着法を用い、ＳｉＯ2 をＥＢガンにより加熱し８
７０ÅのＳｉＯ2 層を作製した。評価結果を表９および
図４に示す。
【００３１】
【表４】
【００３２】この導電性を有する反射防止層を設けたＰ
ＭＭＡ板をメタクリル樹脂板の表面に貼合し、導電性反
射防止膜を付与した光学フィルターを作製した。これを
ブラウン管の前面に配置したところ、明るい環境下でも
視認性が良好であり、埃の付着もなく、また電磁波のシ
ールド効果を有するディスプレイが得られた。
ＭＭＡ板をメタクリル樹脂板の表面に貼合し、導電性反
射防止膜を付与した光学フィルターを作製した。これを
ブラウン管の前面に配置したところ、明るい環境下でも
視認性が良好であり、埃の付着もなく、また電磁波のシ
ールド効果を有するディスプレイが得られた。
【００３３】実施例４ ＰＥＴ（屈折率１．５９）フィルムにアクリル系のハー
ドコート（屈折率１．５０、厚み約５μｍ）を行ったも
の（ＨＣ−ＰＥＴ）を基板として使用し、表５に示すよ
うな層構成で反射防止板を構成した。基板表面に実施例
１におけるＳｉＯx 層作製と同一条件で厚み１００Åの
ＳｉＯx 層（屈折率１．５５）をＩＴＯ層との接着層と
して付与し、その上の第１層から第３層までは実施例１
と同一の作製条件により、第１層のＩＴＯ層は４５０Å
の厚みに作製し、第２層のＴｉＯx は７６５Åとし、第
３層のＳｉＯx は９００Åとする層構成とした。この反
射防止板をＣＲＴディスプレイ表面に粘着剤を用いて貼
合したところ、視認性が良好で、電磁波の漏洩を低減す
ることができた。評価結果を表９および図５に示す。
ドコート（屈折率１．５０、厚み約５μｍ）を行ったも
の（ＨＣ−ＰＥＴ）を基板として使用し、表５に示すよ
うな層構成で反射防止板を構成した。基板表面に実施例
１におけるＳｉＯx 層作製と同一条件で厚み１００Åの
ＳｉＯx 層（屈折率１．５５）をＩＴＯ層との接着層と
して付与し、その上の第１層から第３層までは実施例１
と同一の作製条件により、第１層のＩＴＯ層は４５０Å
の厚みに作製し、第２層のＴｉＯx は７６５Åとし、第
３層のＳｉＯx は９００Åとする層構成とした。この反
射防止板をＣＲＴディスプレイ表面に粘着剤を用いて貼
合したところ、視認性が良好で、電磁波の漏洩を低減す
ることができた。評価結果を表９および図５に示す。
【００３４】
【表５】
【００３５】実施例５ ＰＥＴフィルム（屈折率１．５９）にアクリル系のハー
ドコート（屈折率１．５４、厚み約５μｍ）を行ったも
のを基板として使用し、表６に示すような層構成で反射
防止板を構成した。基板表面にＥＢ加熱蒸着法（以下、
ＥＢと略する）により、１５０ÅのＡｌ2Ｏ3 層をＩＴ
Ｏ層と基材との接着層として付与し、その上の第１層か
ら第３層までは実施例１と同一の作製条件により、第１
層のＩＴＯ層は４００Åの厚みに作製し、第２層のＴｉ
Ｏx は７７０Åとし、第３層のＳｉＯx は８５０Åとす
る層構成とした。評価結果を表９および図６に示す。
ドコート（屈折率１．５４、厚み約５μｍ）を行ったも
のを基板として使用し、表６に示すような層構成で反射
防止板を構成した。基板表面にＥＢ加熱蒸着法（以下、
ＥＢと略する）により、１５０ÅのＡｌ2Ｏ3 層をＩＴ
Ｏ層と基材との接着層として付与し、その上の第１層か
ら第３層までは実施例１と同一の作製条件により、第１
層のＩＴＯ層は４００Åの厚みに作製し、第２層のＴｉ
Ｏx は７７０Åとし、第３層のＳｉＯx は８５０Åとす
る層構成とした。評価結果を表９および図６に示す。
【００３６】
【表６】
【００３７】比較例１ 実施例２と同じ基板を用い、ＩＴＯ層とＳｉＯx 層を実
施例と同一の方法を用いて作製した（表７）。即ち第１
層の導電層として３００ÅのＩＴＯ層を付与し、その表
層に第２層として１１７０ÅのＳｉＯx 層を作製した。
評価結果を表９および図７に示す。
施例と同一の方法を用いて作製した（表７）。即ち第１
層の導電層として３００ÅのＩＴＯ層を付与し、その表
層に第２層として１１７０ÅのＳｉＯx 層を作製した。
評価結果を表９および図７に示す。
【００３８】
【表７】
【００３９】比較例２ 実施例２と同じ基板を用い、ＩＴＯ層とＳｉＯx 層を実
施例と同一の方法を用いて作製した（表８）。即ち第１
層として１８０ÅのＩＴＯ層、第２層として３００Åの
ＳｉＯx 層、第３層に１２００ÅのＩＴＯ層、第４層に
８５０ÅのＳｉＯx を形成し４層構成の反射防止板とし
た。評価結果を表９および図８に示す。
施例と同一の方法を用いて作製した（表８）。即ち第１
層として１８０ÅのＩＴＯ層、第２層として３００Åの
ＳｉＯx 層、第３層に１２００ÅのＩＴＯ層、第４層に
８５０ÅのＳｉＯx を形成し４層構成の反射防止板とし
た。評価結果を表９および図８に示す。
【００４０】
【表８】
【００４１】
【表９】
【００４２】（１）反射率 実施例１〜５および比較例２は分光特性に於けるボトム
の反射率が０．５％以下と良好であり、４００ｎｍ〜６
５０ｎｍの可視光量域で反射防止膜がない場合の反射率
４％に比較し良好な反射防止性能が得られている。一
方、比較例１は２層反射防止膜特有のＶ型スペクトルを
示し、反射防止低波帯域が狭く良好な反射防止性能は得
られていない。 （２）耐擦傷性テスト 実施例１〜５、比較例１、２とも比較的良好な耐擦傷性
を示したが、接着層を付与した実施例４、５は特に良好
であった。比較例２においてはかなり良好なものも見ら
れたが傷のつき易さにバラツキが見られた。これは反射
防止層と基材との接着力が弱いためと考えられる。 （３）密着強度テスト 実施例１〜５、比較例１、２とも剥がれは生じず、良好
な密着性を示した。 （４）耐久性テスト 実施例１〜５及び比較例１〜２で作製した材料につい
て、全ての試料で問題のない耐久性を示した。 （５）工業的生産性 比較例２が４層構成でありそれぞれの層の膜厚制御を精
密に行う必要があり、更にトータル膜厚として２４００
Å必要であるのに対し、実施例１〜３は３層構成と単純
な層構成である上、トータル厚みとしても全て２３００
Å以下である。また実施例４、５についても物理的には
４層構成であるが、基材上の接着層は光学的意味あいを
ほとんど有しないため、接着層自体の膜厚変動によるス
ペクトルの変化は無視できるレベルであり実質３層構成
と考えることができ、トータル膜厚としても実施例１〜
３と同様２３００Å以下である。
の反射率が０．５％以下と良好であり、４００ｎｍ〜６
５０ｎｍの可視光量域で反射防止膜がない場合の反射率
４％に比較し良好な反射防止性能が得られている。一
方、比較例１は２層反射防止膜特有のＶ型スペクトルを
示し、反射防止低波帯域が狭く良好な反射防止性能は得
られていない。 （２）耐擦傷性テスト 実施例１〜５、比較例１、２とも比較的良好な耐擦傷性
を示したが、接着層を付与した実施例４、５は特に良好
であった。比較例２においてはかなり良好なものも見ら
れたが傷のつき易さにバラツキが見られた。これは反射
防止層と基材との接着力が弱いためと考えられる。 （３）密着強度テスト 実施例１〜５、比較例１、２とも剥がれは生じず、良好
な密着性を示した。 （４）耐久性テスト 実施例１〜５及び比較例１〜２で作製した材料につい
て、全ての試料で問題のない耐久性を示した。 （５）工業的生産性 比較例２が４層構成でありそれぞれの層の膜厚制御を精
密に行う必要があり、更にトータル膜厚として２４００
Å必要であるのに対し、実施例１〜３は３層構成と単純
な層構成である上、トータル厚みとしても全て２３００
Å以下である。また実施例４、５についても物理的には
４層構成であるが、基材上の接着層は光学的意味あいを
ほとんど有しないため、接着層自体の膜厚変動によるス
ペクトルの変化は無視できるレベルであり実質３層構成
と考えることができ、トータル膜厚としても実施例１〜
３と同様２３００Å以下である。
【図１】本発明の実施例１で得られた材料の断面の概念
図を示す。
図を示す。
【図２】本発明の実施例１で得られた材料の反射スペク
トルを示す。
トルを示す。
【図３】本発明の実施例２で得られた材料の反射スペク
トルを示す。
トルを示す。
【図４】本発明の実施例３で得られた材料の反射スペク
トルを示す。
トルを示す。
【図５】本発明の実施例４で得られた材料の反射スペク
トルを示す。
トルを示す。
【図６】本発明の実施例５で得られた材料の反射スペク
トルを示す。
トルを示す。
【図７】本発明の比較例１で得られた材料の反射スペク
トルを示す。
トルを示す。
【図８】本発明の比較例２で得られた材料の反射スペク
トルを示す。
トルを示す。
１ トリアセチルセルロースフィルム ２ ハードコート層 ３ 透光性導電層 ４ 酸化チタンを主成分とする層 ５ 酸化ケイ素を主成分とする層
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０２Ｂ 1/10 Ｇ０２Ｂ 5/30 5/30 Ｇ０２Ｆ 1/1335 Ｇ０２Ｆ 1/1335 Ｇ０９Ｆ 9/00 ３０９Ａ Ｇ０９Ｆ 9/00 ３０９ ３１８Ａ ３１８ Ｇ０２Ｂ 1/10 Ｚ (72)発明者 永田 悟 愛媛県新居浜市惣開町５番１号 住友化学 工業株式会社内
Claims (9)
- 【請求項１】透光性基板表面に、該基板表面側から順
に、体積固有抵抗が１０-1（Ω・ｃｍ）以下である透光
性導電層、酸化チタンを主成分とする層、酸化ケイ素を
主成分とする層を形成してなる導電性を有する反射防止
板。 - 【請求項２】透光性基板と透光性導電層の間にハードコ
ート層を有する請求項１に記載の反射防止板。 - 【請求項３】透光性導電層とハードコート層との間に、
接着層として酸化ケイ素または酸化アルミニウムからな
る層を有する請求項２に記載の反射防止板。 - 【請求項４】透光性導電層が酸化インジウムおよび／ま
たは酸化スズを含む層である請求項１、請求項２または
請求項３に記載の反射防止板。 - 【請求項５】透光性導電層の膜厚が２６０〜６５０Å、
酸化チタンを主成分とする層の膜厚が５８０〜８００Å
かつ酸化ケイ素を主成分とする層の膜厚が６５０〜９６
０Åである請求項１に記載の反射防止板。 - 【請求項６】透光性導電層の屈折率が１．９６〜２．１
０、酸化チタンを主成分とする層の屈折率が２．２０〜
２．３５かつ酸化ケイ素を主成分とする層の屈折率が
１．４４〜１．５０である請求項１に記載の反射防止
板。 - 【請求項７】請求項１記載の反射防止板を表面に設けて
なる偏光板。 - 【請求項８】請求項１記載の反射防止板を表面に設けて
なる表示装置の前面に配置する光学フィルター。 - 【請求項９】請求項１記載の反射防止板からなる表示装
置の前面に配置する光学フィルター。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9089828A JPH1062603A (ja) | 1996-04-08 | 1997-04-08 | 導電性を有する反射防止板およびこれを付与してなる光学部品 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8-85492 | 1996-04-08 | ||
| JP8549296 | 1996-04-08 | ||
| JP9089828A JPH1062603A (ja) | 1996-04-08 | 1997-04-08 | 導電性を有する反射防止板およびこれを付与してなる光学部品 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1062603A true JPH1062603A (ja) | 1998-03-06 |
Family
ID=26426498
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9089828A Pending JPH1062603A (ja) | 1996-04-08 | 1997-04-08 | 導電性を有する反射防止板およびこれを付与してなる光学部品 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1062603A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11288225A (ja) * | 1998-04-02 | 1999-10-19 | Oike Ind Co Ltd | デイスプレイ前面板用転写材 |
| JP2000121804A (ja) * | 1998-10-09 | 2000-04-28 | Sekisui Chem Co Ltd | 反射防止フィルム |
| JP2002264245A (ja) * | 2001-03-09 | 2002-09-18 | Toppan Printing Co Ltd | 積層体 |
| CN100388013C (zh) * | 2005-01-14 | 2008-05-14 | 索尼株式会社 | 光学设备、透镜镜筒、图像拾取设备和电子设备 |
| KR101482235B1 (ko) * | 2012-03-27 | 2015-01-12 | 히다치 막셀 가부시키가이샤 | 하드코팅 기재 및 그것을 이용한 투명 도전성 필름 |
| WO2021106788A1 (ja) * | 2019-11-26 | 2021-06-03 | 日東電工株式会社 | 反射防止フィルムおよびその製造方法、ならびに画像表示装置 |
| WO2022080136A1 (ja) * | 2020-10-15 | 2022-04-21 | 日東電工株式会社 | 反射防止フィルムおよび画像表示装置 |
-
1997
- 1997-04-08 JP JP9089828A patent/JPH1062603A/ja active Pending
Cited By (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11288225A (ja) * | 1998-04-02 | 1999-10-19 | Oike Ind Co Ltd | デイスプレイ前面板用転写材 |
| JP2000121804A (ja) * | 1998-10-09 | 2000-04-28 | Sekisui Chem Co Ltd | 反射防止フィルム |
| JP2002264245A (ja) * | 2001-03-09 | 2002-09-18 | Toppan Printing Co Ltd | 積層体 |
| JP4665321B2 (ja) * | 2001-03-09 | 2011-04-06 | 凸版印刷株式会社 | 積層体 |
| CN100388013C (zh) * | 2005-01-14 | 2008-05-14 | 索尼株式会社 | 光学设备、透镜镜筒、图像拾取设备和电子设备 |
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