JP2000098131A - プラズマディスプレイパネル用フィルター - Google Patents

プラズマディスプレイパネル用フィルター

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）が必
要とする電磁波シールド特性、近赤外線カット特性、可
視光低反射特性等の諸特性を、比較的簡単な積層構成で
同時に満足させると共に、しかも視認性が良く、軽量、
薄型のＰＤＰ用フィルターを提供する。 【解決手段】 透明フィルム基材の表面に、金属酸化物
膜と銀系透明導電体膜を１単位としてｎ単位（３≦ｎ≦
１０）が順次積層され、最外層に金属酸化物膜が形成さ
れている積層体であって、金属酸化物膜は屈折率が１．
５〜２．７の光学的透明性を有する膜であり、銀系透明
導電体膜は厚さ５〜２０ｎｍの範囲内で略一定の値に設
定されており、且つ該基材表面の金属酸化物膜と最外層
の金属酸化物膜の各厚さが、銀系透明導電体膜の厚さの
５／２（１±０．１５）倍であり、それ以外の中間に位
置する金属酸化物膜の各厚さが、銀系透明導電体膜の厚
さの５（１±０．１５）倍であることを特徴とする積層
体を構成要素とするＰＤＰ用フィルター。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイパネル（以下、ＰＤＰと称す）の前面に配置し、Ｐ
ＤＰから発生する電磁波と近赤外線を同時にカットする
ＰＤＰ用フィルターおよびこのフィルターを貼り合わせ
てなるＰＤＰ表示装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】ＰＤＰは、希ガス特にネオンを主体とす
るガスがパネル内に封入されている。ＰＤＰにおいて、
陰極から放出された電子が加速されてガス分子と衝突
し、励起したり電離したりして陽極へ進み、そこで生じ
た陽イオンも陰極と衝突して２次電子放出を起こし、放
電が開始される。この際、ネオン原子の遷移過程に伴い
電磁波および近赤外線が放出される。放出される近赤外
線は、波長が８５０〜１２００ｎｍである。一方、家電
製品、カラオケ、音響映像機器等のリモートコントロー
ラの受光感度は７００〜１３００ｎｍであることから、
ＰＤＰから放出された近赤外線がリモートコントローラ
を誤作動させてしまうという問題が生じている。しか
し、近赤外線はＰＤＰの原理上発生するものであり、Ｐ
ＤＰ自体では防止できない。
【０００３】そのため、ＰＤＰから発生する電磁波と近
赤外線をカットするフィルターが検討されており、従来
たとえば、低抵抗値の金属メッシュまたはエッチングメ
ッシュを埋め込んだアクリル板と近赤外線を吸収する染
料系の材料を混入させたアクリル板とを貼合わせたまた
は熱融着させた板や、ガラス板に直接スパッタ法で銀系
薄膜等を形成したものに近赤外線吸収材入りフィルムを
貼合わせした板や、或いは、近赤外線を吸収する染料系
の材料を混入させたアクリル板にスパッタ法で銀系薄膜
等を形成したフィルムを貼合わせた板を、ＰＤＰの前面
に空気層を介してセッティングするという方法が採用さ
れている。
【０００４】上記のメッシュタイプは、低抵抗値は得ら
れるが、近赤外線カットフィルターが別に必要であり、
ＰＤＰ表示パターン間隔によりモアレ現象を生じ表示品
位を損なうという欠点がある。また、スパッタ法を代表
とするドライプロセスで得られるフィルターはモアレ現
象は見られないが、低抵抗値、可視光透過特性、８５０
〜１２００ｎｍの近赤外線カット特性、可視光低反射特
性の諸特性を同時に満足するものであって、しかも、比
較的簡単な積層構成でなし得るフィルターは従来存在し
なかった。さらに、ＰＤＰの前面に空気層を介してセッ
ティングする方法である為、視認性が悪く、軽量、薄型
と言うＰＤＰの特徴を損なうものであった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、ＰＤＰが必
要とする電磁波シールド特性、近赤外線カット特性、可
視光低反射特性等の諸特性を、比較的簡単な積層構成で
同時に満足させると共に、しかも視認性が良く、軽量、
薄型のＰＤＰ用フィルターを提供することを課題とす
る。また、本発明のさらなる課題は、このＰＤＰ用フィ
ルターを備えたＰＤＰ表示装置を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明のＰＤＰ用フィル
ターは、上記の課題を解決するためになされたものであ
って、透明フィルム基材の表面に、金属酸化物膜と銀系
透明導電体膜を１単位としてｎ単位（３≦ｎ≦１０）が
順次積層され、最外層に金属酸化物膜が形成されている
積層体であって、金属酸化物膜は屈折率が１．５〜２．
７の光学的透明性を有する膜であり、銀系透明導電体膜
は厚さ５〜２０ｎｍの範囲内で略一定の値に設定されて
おり、且つ該基材表面の金属酸化物膜と最外層の金属酸
化物膜の各厚さが、銀系透明導電体膜の厚さの５／２
（１±０．１５）倍であり、それ以外の中間に位置する
金属酸化物膜の各厚さが、銀系透明導電体膜の厚さの５
（１±０．１５）倍であることを特徴とする積層体によ
り達成される。
【０００７】また、本発明によれば、最外層の金属酸化
物膜の表面に、ハードコート層が形成されており、ハー
ドコート層の屈折率が１．４５を超える場合は、その層
上に厚さ０．００１〜１μｍの反射防止兼防汚染層がさ
らに形成されている積層体により達成される。好ましく
は、ハードコート層は屈折率１．４５以下、厚さ０．０
５〜１０μｍ、水接触角９０度以上の塗工膜である。他
の態様として、最外層の金属酸化物膜の表面に、別の透
明フィルム基材の片面にハードコート層、反射防止層、
防汚染層を形成したフィルムを用意し、そのフィルムを
他面に形成した透明粘着剤層を介して貼合わせた積層体
により達成される。さらに、透明フィルム基材の表面と
その表面に設けられる金属酸化物膜の間に、屈折率が
１．５以下で厚みが０．０５〜１μｍのアンダーコート
層が形成されている積層体であるのが好ましい。
【０００８】また、本発明によれば、透明フィルム基材
の裏面に、厚さ１０〜５００μｍの透明粘着剤層が形成
されている積層体により、ＰＤＰの前面表示ガラス部に
本積層体を透明粘着剤層を介して貼り合わせたり、ＰＤ
Ｐの前面側に空気層を介して設置される透明成形体のＰ
ＤＰ側と逆の面に、本積層体を透明粘着剤層を介して貼
り合わせることができ、比較的簡単な積層構成で、ＰＤ
Ｐが必要とする電磁波シールド特性、近赤外線カット特
性、可視光低反射特性の所期の目的を達成することが出
来る。しかも、視認性が良く、軽量、薄型のＰＤＰ用前
面フィルターを備えたＰＤＰ表示装置も提供することが
できる。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下において、図１〜２を使用し
て本発明のＰＤＰ用フィルターを具体的に説明する。図
１において、透明フィルム基材１の表面には、金属酸化
物膜および銀系透明導電体膜を１単位として、金属酸化
物膜（２Ａ、２Ｂ、２Ｃ）および銀系透明導電体膜（３
Ａ、３Ｂ、３Ｃ）が順次繰り返し積層され（図１は３単
位の例を示す）、その最外層に金属酸化物膜２Ｄが形成
されている。上記の金属酸化物膜は屈折率が１．５〜
２．７の光学的透明性を有する膜であり、銀系透明導電
体膜は厚さ５〜２０ｎｍの範囲内で略一定の値に設定さ
れており、且つ該基材表面の金属酸化物膜と最外層の金
属酸化物膜の各厚さが、銀系透明導電体膜の厚さの５／
２（１±０．１５）倍であり、それ以外の中間に位置す
る金属酸化物膜の各厚さが、銀系透明導電体膜の厚さの
５（１±０．１５）倍となるように設計されている。図
１には、最外層の金属酸化物膜２Ｄの表面に、さらにハ
ードコート層４および反射防止兼防汚染層５が形成さ
れ、透明フィルム基材１の裏面には透明粘着剤層が形成
されている例を示している。
【００１０】他の態様である図２（図１と同符号は同一
の構成要素を示す）は、透明フィルム基材１の表面とそ
の表面に設けられる金属酸化物膜２Ａの間に、屈折率が
１．５以下で厚みが０．０５〜１μｍのアンダーコート
層９が形成されており、一方、最外層の金属酸化物膜２
Ｄの表面には、別の透明フィルム基材１１の片面にハー
ドコート層４、反射防止層７、防汚染層８を順次形成し
たフィルムを用意し、そのフィルムを他面に形成した透
明粘着剤層６１を介して貼合わせてなるＰＤＰ用フィル
ターの例を示している。
【００１１】本発明において使用する透明フィルム基材
としては、可視光領域における透明性を有するもので、
ある程度表面が平滑であれば使用できる。例えば、ポリ
エチレンテレフタレート、トリアセチルセルロース、ポ
リエチレンナフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリ
カーボネート、ポリアリレート、ポリエーテルエーテル
ケトン等が好ましい。フィルム基材厚さは、ドライプロ
セスで熱ジワなどの問題が発生しなければ制限はない
が、通常厚さ１０〜２５０μｍのものが使用される。ま
た、フィルム基材として高分子フィルムそのものでも良
いが、片面または両面に耐擦傷性を付与するためのハー
ドコート処理を行っても良い。ＵＶ硬化タイプでも熱硬
化タイプでも良く、厚さは１〜１０μｍが適当である。
１μｍより薄いと耐擦傷性効果が低下するし、１０μｍ
以上ではクラックの発生が起こりやすい。さらに、可視
光の色調整のための色素をフィルム基材中に混入させて
もよく、フィルム基材に塗布してもよい。
【００１２】透明成形体としては、ポリメタクリル酸メ
チル等のアクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ＡＢＳ
樹脂などの透明プラスチック板やガラス板が挙げられる
が、透明であって、ある程度の機械的強度、耐熱性があ
れば特に限定されない。その厚さは１〜１０ｍｍ、好ま
しくは２〜５ｍｍである。また、透明成形体の内部又は
表面に、可視光の色調整のための色素を混入又は塗布し
てもよく、さらに透明成形体のＰＤＰ側の面には、ハー
ドコート層、反射防止層、アンチグレア層などを直接形
成してもよく、これらの層を一旦透明フィルム基材に形
成したものを貼り合わせてもよい。
【００１３】金属酸化物膜の材料としては、高屈折率の
光学膜材料ならある程度使用できるが、薄膜の屈折率が
１．５〜２．７の範囲が好ましい。屈折率１．５以下の
場合、金属酸化物膜の厚さを厚くする必要があり、多層
にした場合クラックが入りやすくなる。また、屈折率
２．７を超えると、最外層の金属酸化物膜と空気との屈
折率差が大きくなりすぎ、可視光反射率を低くおさえる
ことが難しくなる。また、単一の金属酸化物でも複数の
金属酸化物を混合した材料を用いてもよい。さらに、銀
のマイグレーション防止効果や水、酸素のバリア効果が
ある材料ならさらに好ましい。好適な金属酸化物材料と
しては、酸化インジウムを主成分とし二酸化チタンや、
酸化錫、酸化セリウムを少量含有させたもの、二酸化チ
タン、酸化ジルコニウム、硫化亜鉛、酸化ビスマス、五
酸化ニオブ、酸化亜鉛などが挙げられる。これらの薄膜
層は、スパッタリング、真空蒸着、イオンプレーティン
グ等の真空ドライプロセスで設けることができる。金属
酸化物膜の膜厚は、１８〜１００ｎｍが適当であり、そ
の屈折率、銀系透明導電体膜の厚さ、全層数などによ
り、光学特性を最適にする膜厚が決定される。
【００１４】銀系透明導電体膜の材料としては、９０重
量％以上の銀と、金、銅、パラジュウム、白金、マンガ
ン、カドニウムから選択された１つまたは２つ以上の元
素により構成されるが、９０〜９９重量％の銀と上記金
属１〜１０重量％を固溶させた材料であるのが好まし
い。特に銀中に１〜１０重量％の金を固溶させたもの
は、銀の劣化防止の観点から好ましい。金を１０重量％
以上混入すると比抵抗が上昇し低抵抗値が得られ難く、
また１重量％以下では銀の劣化が起こりやすい。銀系透
明導電体膜を形成する手段としては、スパッタ法などの
真空ドライプロセスが用いられる。銀系透明導電体膜の
厚さは、５〜２０ｎｍが適当であるが、さらに好ましく
は、９〜１７ｎｍである。
【００１５】本発明者らは、ＰＤＰから発生する電磁波
と近赤外線を同時にカットするＰＤＰフィルターとして
の備えるべき特性の目標値を、次の表１の通り設定して
研究開発を鋭意進めた。
【００１６】
【表１】
【００１７】これに対して、従来の技術の項で説明した
様に、色々な材料の複合体が従来検討されてはいるが、
可視光透過率が低い物や反射特性が悪いもの、クラック
などの発生や、信頼性がないものが多い。また、要求特
性を満たすため構成を複雑にすると高価格となることを
避けられない。本発明者らは、かかる要求特性を、透明
フィルム基材上にドライプロセス法にて、比較的簡単な
積層構成で満足する手段について鋭意検討を重ねた結
果、透明フィルム基材側から、金属酸化物膜、銀系透明
導電体膜、金属酸化物膜、銀系透明導電体膜、金属酸化
物膜の順に交互に多層に積層してなる積層体、即ち、透
明フィルム基材／（金属酸化物膜／銀系透明導電体膜）
ｎ／金属酸化物膜、の式で表わされる積層体において、
次の条件を満足する場合には驚くべきことに、低抵抗値
でありながら、ＩＲ吸収剤が不要で、光学特性も良好な
フィルターを比較的簡単な積層構成で達し得ることを見
出したものである。 金属酸化物膜は、屈折率が１．５〜２．７以下の光
学的透明性を有する膜とする。 銀系透明導電体膜は、厚さ５〜２０ｎｍの範囲内で
略一定の厚さに設定する。 ３≦ｎ≦１０の範囲でｎ（正数）を選択する。 該フィルム基材表面の金属酸化物膜と最外層の金属
酸化物膜の各厚さが、銀系透明導電体膜の厚さの５／２
（１±０．１５）倍となるように設定する。 上記以外の中間に位置する金属酸化物膜の各厚さ
が、銀系透明導電体膜の厚さの５（１±０．１５）倍と
なるように設定する。
【００１８】例えば、ｎ＝３の場合（図１参照）、透明
フィルム基材１／金属酸化物膜２Ａ／銀系透明導電体膜
３Ａ／同２Ｂ／同３Ｂ／同２Ｃ／同３Ｃ／金属酸化物膜
２Ｄの積層体であり、この場合、銀系透明導電体膜（３
Ａ、３Ｂおよび３Ｃ）を厚さ１３ｎｍに設定すると、金
属酸化物膜（２Ａおよび２Ｄ）の厚さは３２．５ｎｍで
あり、金属酸化物膜（２Ｂおよび２Ｃ）の厚さは６５ｎ
ｍとなり、表１の光学特性を満足することが出来る。ま
た、ｎ＝４の場合、同様に１／２Ａ／３Ａ／２Ｂ／３Ｂ
／２Ｃ／３Ｃ／２Ｄ／３Ｄ／２Ｅの積層体となるが、こ
の場合、銀系透明導電体膜（３Ａ、３Ｂ、３Ｃおよび３
Ｄ）を厚さ１２ｎｍに設定すると、金属酸化物膜（２Ａ
および２Ｅ）の厚さは３０ｎｍであり、金属酸化物膜
（２Ｂ、２Ｃおよび２Ｄ）の厚さは６０ｎｍとなる。さ
らに、ｎ＝５の場合も同様に、銀系透明導電体膜（３Ａ
〜３Ｅ）を厚さ１１ｎｍに設定すると、金属酸化物膜
（２Ａおよび２Ｆ）の厚さは２７．５ｎｍ、金属酸化物
膜（２Ｂ、２Ｃ、２Ｄおよび２Ｅ）の厚さは５５ｎｍと
なる。上記において、金属酸化物膜の厚さの設定条件で
ある５／２倍および５倍の公差±１５％は、金属酸化物
の屈折率により決定される。
【００１９】また、銀系透明導電体膜の厚さを５〜１１
ｎｍ未満に設定する場合は、ｎ＝６〜１０となるように
多層化するばよく、銀系透明導電体膜の厚さを１４〜２
０ｎｍに設定する場合は、ｎ≧３の条件で金属酸化物膜
の最適屈折率および厚さが設定される。ｎ＜３の場合、
銀系透明導電体膜の厚さを増すことで表面抵抗値は下げ
られるが、光学特性を満足できなくなる。また、ｎ＞１
０の場合、表１の特性を満足する組み合わせはあるが、
構成自体が複雑になり、目的とする比較的簡単な構成で
は達成できなくなる。
【００２０】ハードコート層４に関しては、ＰＤＰ前面
表示部に直接貼る積層体であるので、人が触れる可能性
が高く、積層体の傷防止の目的で形成する。ハードコー
ト層の屈折率が１．４５以下の場合、最内層の金属酸化
物膜から最外層の金属酸化物膜までの光学特性、特に反
射特性を損なわず表面ハードコート性を付与出来る。ま
た、水接触角９０度以上の物が防汚染性もあり好まし
い。適当な膜厚は、０．０５〜１０μｍであるが、より
好ましくは０．１〜６μｍである。
【００２１】屈折率が１．４５以下のハードコート材料
としては、熱硬化型のＳｉＯ2 系の材料、ＵＶ硬化型の
フッ素系ポリマー材料等が硬度的に好ましいが限定する
ものではない。この場合、さらに反射防止兼防汚染層５
を形成しても、しなくても良い。また、屈折率が１．４
５を超えるハードコート層の場合、最内層の金属酸化物
膜から最外層の金属酸化物膜までの光学特性、特に反射
特性を損なうが、表面硬度の向上には、屈折率の高い材
料が適している。出来るだけ、反射特性を損なわず表面
硬度を得るためには、適当な厚さは０．０５〜１０μｍ
であるが、より好ましくは０．１〜６μｍである。反射
特性を改善させる為にこの面上に反射防止兼防汚染層５
を形成しても構わない。反射防止兼防汚染材料は、低屈
折率のフッ素系樹脂、ＭｇＦ2 、 ＣａＦ2 等の光学膜
を、塗工法やスパッタ法等のドライプロセスにより形成
することができる。その厚さは０．００１〜１μｍ程度
が好ましい。
【００２２】また、最外層の金属酸化物膜の面上にハー
ドコート層を直接形成する代わりに、図２の如く、別の
透明フィルム基材１１の片面にハードコート層４、反射
防止層７および防汚染層８を形成したフィルムを用意
し、そのフィルムを他面に形成した透明粘着剤層６１を
介して貼合わせてよい。この場合、透明フィルム基材１
１には、透明フィルム基材１に使われるものなら制約は
ないが、通常ポリエステルフィルム、トリアセチルセル
ロースフィルムが用いられる。ハードコート層には、高
硬度のハードコート剤が一般に使われ、ＵＶ硬化型のア
クリルウレタン系、熱硬化型のシロキサン系などの材料
で、厚さは１〜１０μｍ程度が好適である。反射防止層
と防汚染層は上述の反射防止性と防汚染性の両特性を有
する材料により１層で兼備させてもよく、スパッタ蒸着
等の方法で作成された高屈折膜と低屈折膜との多層膜に
よる反射防止層上に、撥水性のフッ素系樹脂、ＭｏＳ2
等の材料を薄層塗工、スパッタ法などのドライプロセス
にて防汚染層を形成してもよい。
【００２３】また、透明フィルム基材の表面と最内層の
金属酸化物膜の間に、屈折率が１．５以下で厚さが０．
０５〜１μｍのアンダーコート層９を形成させると、金
属酸化物膜とフィルム基材との密着力を向上出来るとい
う効果と、積層体全体の可視光反射率をさらに低下させ
る効果がある。 アンダーコート層の材料としては、Ｕ
Ｖ硬化型低屈折フッ素系ポリマーであってポリマー中に
官能基を導入することにより密着性を向上させたもの
や、ＵＶ硬化型低屈折無機コート材等が使用される。
【００２４】透明粘着剤層６は、弾性係数が１×１０Ｅ
5 〜１×１０Ｅ7 dyn/cm2 が好ましく、厚さは１０〜５
００μｍ、さらに好ましくは２５〜３００μｍである。
その材料としてはアクリル系、ゴム系、ポリエステル系
などがあり、特にアクリル系粘着剤を用いるのが好まし
い。アクリル系粘着剤は、粘着剤としての適度の濡れ
性、柔軟性を付与するための主単量体として、ポリマー
化した際のガラス転移点が−１０℃以下の（メタ）アク
リル酸アルキルエステルを１種もしくは２種以上と、必
要によりアクリル酸、メタアクリル酸、２−ヒドロキシ
エチルアクリレート等の官能基含有単量体およびその他
の共重合性単量体とを、適宜の重合触媒を用いて溶液重
合法、乳化重合法、塊状重合法（特に紫外線による重合
法）、懸濁重合法などの方法で重合して得られるアクリ
ル系ポリマーに、架橋剤等の各種添加剤を添加したもの
が用いられる。熱架橋タイプ、光（紫外線、電子線）架
橋タイプなどであってもよい。
【００２５】上記特性の透明粘着剤層を使用すると、Ｐ
ＤＰ前面表示ガラスに直接貼合わせた際に、ＰＤＰガラ
ス表面のウネリを吸収し、貼合わせが良好となる。ま
た、貼合わせた後、外部からの異物が衝突しても、この
範囲であると、粘着剤層のクッション効果により、フィ
ルム表面に傷が付きにくいばかりか、糊厚が瞬間的には
薄くなるが、すぐに自己復活して、何もなかったかの如
く元どおりの平滑面になるという特性が得られる。
【００２６】
【実施例】次に、本発明を実施例により具体的に説明す
るが、本発明はかかる実施例のみに限定するものではな
い。 実施例１ 厚さ１２５μｍの透明ポリエチレンテレフタレート（Ｐ
ＥＴ）フィルムの片面に、厚さ５μｍのＵＶ硬化型ハー
ドコート樹脂（大日本インキ化学工業社製、商品名ユニ
デック１７−８１３を主成分とする）を形成して耐擦傷
性を付与した透明フィルム基材を用い、ハードコート
（ＨＣ）側に順次、ＤＣマグネトロンスパッタ法で金属
酸化物膜、銀系透明導電体膜、金属酸化物膜の順序で薄
膜を形成した。ＨＣ付き透明フィルム基材の可視光透過
率at550nm は、８９％であった。金属酸化物膜を形成す
るターゲット材料には、Ｉｎ2 Ｏ3 ―１２．６重量％Ｔ
ｉＯ2を使用し、銀系透明導電体膜を形成するターゲッ
ト材料には、Ａｇ―５重量％Ａｕを使用した。膜厚の測
定は、厚膜に付けた膜の表面粗さ計（ＤＥＫＴＡＫ３）
による製膜速度の検量線と透過型電子顕微鏡による精密
測定により行った。抵抗値の測定は、三菱油化製（Ｌｏ
ｒｅｓｔｅｒＳＰ）を用いた。また、光学特性は、日立
製作所製Ｕ−３４１０を用いて測定した。上記透明フィ
ルム基材のＨＣ上に、金属酸化物膜と銀系透明導電体膜
を１単位として、下記の厚さでｎ単位（ｎ＝３、４、
５）が順次積層され、最外層に金属酸化物膜が積層され
た３種類の積層体サンプル、、を作製した。 32.5/13/65/13/65/13/32.5（ｎｍ） 28.5/11.5/57.5/11.5/57.5/11.5/57.5/11.5/28.5
（ｎｍ） 26.0/10.5/52.5/10.5/52.5/10.5/52.5/10.5/52.5/1
0.5/26.0（ｎｍ） 作製したサンプルのフィルター特性を表２に示した。
【００２７】
【表２】
【００２８】また、作製したフィルターのサンプルに
ついて、光学測定チャートを図３〜４に示した。図３に
よると、可視光線領域で高い透過率が得られ、８００ｎ
ｍ以上の近赤外線を殆どカットしている。また、図４に
よると、可視光線領域全体にわたり反射率が低いことが
判る。上記の表２および図３〜４より明らかなように、
ｎ＝３、計７層のスパッタ積層膜という簡単な構成で、
低抵抗値とＩＲカット等の良好な光学特性を持つフィル
ターを得ることが出来た。ｎ＝４および５の場合には、
積層数は増加するが特性面では改良が見られた。
【００２９】比較例１ 実施例１と各材料および製作方法は同様であるが、金属
酸化物膜の厚さを本発明の範囲から外れる下記の数値に
設定して、２種類の積層体サンプル、を作製し、実
施例１と同様の評価を行った。 37.5/13/75/13/75/13/37.5（ｎｍ） 32.5/13/75/13/75/13/32.5（ｎｍ） 作製したサンプルのフィルター特性を表３に示した。
【００３０】
【表３】
【００３１】また、作製したサンプルについて、光学
測定チャートを図５〜６に示した。図５によると、青色
光の透過率が悪く、８００ｎｍ以上の近赤外線のカット
も不十分である。また、図６によると、青色の反射が大
きいことが判る。上記の表３および図５〜６より明らか
なように、本発明の範囲から外れる数値に設定した金属
酸化物膜の厚さバランスでは、７層程度の簡単な積層構
成で、抵抗値と光学特性の両方を満足するものは得られ
なかった。
【００３２】実施例２ 実施例１と同様の厚さ１２５μｍの透明ＰＥＴフィルム
のＨＣ上に、ＵＶ硬化型低屈折フッ素系ポリマー（日本
合成ゴム社製、商品名ＪＭ５０１０）をグラビア塗工に
て塗布し、３００ｍＪ／ｃｍ2 で３分間紫外線照射して
硬化させ、厚さ０．１５μｍのアンダーコート層を形成
した。この層の屈折率は１．４１であり、透明フィルム
基材のＨＣとその上に形成される金属酸化物膜との密着
性を向上させるように、滑り性を持たない材料を使用し
た。このアンダーコート層の上に実施例１と同様な材料
および作製方法で、金属酸化物膜と銀系透明導電体膜を
１単位として、下記の厚さでｎ単位（ｎ＝３）が順次積
層され、最外層に金属酸化物膜が積層された積層体を作
製した。各膜の厚さ ：32.5/13/65/13/65/13/32.5（ｎｍ） 次に、ハードコート層として、屈折率が１．３６のＳｉ
Ｏ2 系ハードコート材（日産化学社製、商品名ＬＲ２０
１）を、上記の最外層の金属酸化物膜上にグラビア塗工
にて形成後、１５０℃５分硬化させた。得られたハード
コート層の厚さは５μｍであり、水接触角は１０４度で
あった。さらに、上記透明フィルム基材の裏面に、固形
分２０重量％のアクリル系の粘着剤溶液を塗布し、１５
０℃で５分間乾燥させ厚さ５０μｍ、弾性率１．８×１
０Ｅ6 dyn/cm2 の透明粘着剤層を形成して積層体サンプ
ルを作製した。このサンプルおよび、サンプルを
ロールラミネーターにてＰＤＰ前面表示ガラス部に貼合
わせたものとを評価用サンプルとした。評価結果を、表
４に示した。表４から明らかなように、サンプルは電
磁波シールド特性、近赤外線カット性、可視光低反射特
性において良好な結果が得られ、しかも、耐擦傷性が良
好で視認性が良く、薄さ、軽さも兼ね備えたたＰＤＰ用
前面フィルターを得ることが出来た。
【００３３】実施例３ 厚さ１２５μｍの透明ＰＥＴフィルムの片面に、実施例
２と同様の厚さ０．１５μｍのアンダーコート層を形成
した。このアンダーコート層の上に、金属酸化物膜を形
成するターゲット材料として、Ｉｎ2 Ｏ3 ―１０重量％
ＳｎＯ2 を用い、銀系透明導電体膜を形成するターゲッ
ト材料としてＡｇ―３重量％Ａｕを使用した他は実施例
１と同様の方法により積層体を得た。なお、Ｉｎ2 Ｏ3
―１０重量％ＳｎＯ2 の屈折率は、２．０であった。上
記アンダーコート層の上に形成される積層体を構成する
各膜厚は、銀系透明導電体膜の各厚さ１２ｎｍ、最内層
と最外層の金属酸化物膜の厚さ３４．４ｎｍ、また、中
間に位置する金属酸化物膜の厚さ６８．８ｎｍに設定し
た（ｎ＝３）。 次に、最外層の金属酸化物膜の面上
に、屈折率が１．５５のＵＶ硬化型ハードコート（大日
本インキ化学工業社製、商品名ユニデック１７−８１３
を主成分とする）を、ファンテンリバース法にて塗工
し、３００ｍＪ／ｃｍ2 で３分間紫外線照射して硬化さ
せ、厚さ５μｍのハードコート層を形成した。さらに、
その上に有機フッ素系の反射防止兼防汚染材料（日本合
成ゴム社製、商品名ＪＭ５０２５）をグラビア塗工し、
３００ｍＪ／ｃｍ2 で３分間紫外線照射して厚さ０．１
５μｍの反射防止兼防汚染層を形成した。一方、上記透
明フィルム基材の裏面に、固形分２０重量％のアクリル
系の粘着剤溶液を塗布し、１５０℃で５分間乾燥させ厚
さ１００μｍ、弾性率１．０×１０Ｅ6 dyn/cm2 の透明
粘着剤層を形成して積層体サンプルを作製した。この
サンプルおよび、サンプルをロールラミネーターに
てＰＤＰ前面表示ガラス部に貼合わせたものとを評価用
サンプルとした。評価結果を、表４に示した。 表４か
ら明らかなように、サンプルは電磁波シールド特性、
近赤外線カット性、可視光低反射特性において良好な結
果が得られ、しかも、耐擦傷性が良好で視認性が良く、
薄さ、軽さも兼ね備えたたＰＤＰ用前面フィルターを得
ることが出来た。
【００３４】
【表４】
【００３５】実施例４ 厚さ１２５μｍの透明ＰＥＴフィルムの片面に、実施例
２と同様の厚さ０．１５μｍのアンダーコート層を形成
した。このアンダーコート層の上に、実施例１同様な作
製方法で、金属酸化物膜と銀系透明導電体膜を１単位と
して、下記の厚さでｎ単位（ｎ＝３）が順次積層され、
最外層に金属酸化物膜が積層された積層体を作製した。各膜の厚さ ：32.5/13/65/13/65/13/32.5（ｎｍ） 次に、厚さ８０μｍのトリアセチルセルロース（ＴＡ
Ｃ）フィルム基材を用意し、片面に厚さ５μｍのＵＶ硬
化型ＨＣ樹脂（大日本インキ化学工業社製、商品名ユニ
デック１５−８２９を主成分とする）を形成した後、そ
の上へ反射防止特性と防汚染特性を兼ね備えた屈折率
１．３６のシリコーン系樹脂層（日産化学社製、商品名
ＬＲ２０１）を厚さ０．２μｍに形成した。この反射防
止兼防汚染層の水接触角は１０４度であった。上記片面
処理ＴＡＣフィルムの裏面に、厚さ２３μｍの透明粘着
剤層を形成して、積層体の最外層の金属酸化物膜の表面
に貼合わせた。さらに、上記ＰＥＴ基材の裏面に、固形
分２０重量％のアクリル系の粘着剤溶液を塗布し、１５
０℃で５分間乾燥させ厚さ１００μｍ、弾性率１．０×
１０Ｅ6 dyn/cm2 の透明粘着剤層を形成して積層体サン
プルを作製した。このサンプルおよび、サンプル
をロールラミネーターにてＰＤＰ前面表示ガラス部に貼
合わせたものとを評価用サンプルとした。評価結果を、
表５に示した。表５から明らかなように、サンプルは
電磁波シールド特性、近赤外線カット性、可視光低反射
特性において良好な結果が得られ、しかも、耐擦傷性が
良好で視認性が良く、薄さ、軽さも兼ね備えたＰＤＰ用
前面フィルターを得ることが出来た。
【００３６】
【表５】
【００３７】実施例５ 実施例３で作製した積層体サンプルを、厚さ３ｍｍの
透明アクリル板（三菱レイヨン社製、商品名アクリライ
ト）の片面に貼り、その反対面に３％ヘイズをを持つア
ンチグレア層を塗工した厚さ１２５μｍのＰＥＴフィル
ム裏面を透明粘着剤で貼り合わせて、ＰＤＰ用前面フィ
ルター板の評価用サンプルとした。上記評価用サンプル
の評価結果を表６に示した。表６から明らかなように、
積層体サンプルを透明アクリル板に貼り合わせても、耐
擦傷性が良好で、低抵抗で光学特性良好なＰＤＰ用前面
フィルター板を得ることが出来た。
【００３８】
【表６】
【００３９】
【発明の効果】本発明のＰＤＰ用フィルターは、積層体
を構成する金属酸化物膜と銀系透明導電体膜との相互の
厚さ関係を特定の数値に設定することにより、ＰＤＰが
必要とする電磁波シールド特性、近赤外線カット特性、
可視光低反射特性等の諸特性を、比較的簡単な積層構成
で同時に満足させると共に、しかも視認性が良く、軽
量、薄型のフィルターを提供することができる。また、
本発明は、このＰＤＰ用フィルターを備えた光学特性の
優れたＰＤＰ表示装置を提供することができる。
【００４０】
【図面の簡単な説明】
【図１】図１は、本発明のプラズマディスプレイパネル
用フィルターの一実施態様の概略を示す断面図である。
【図２】図２は、本発明のプラズマディスプレイパネル
用フィルターの他の実施態様の概略を示す断面図であ
る。
【図３】図３は、本発明の実施例１で得られたフィルタ
ーの光透過率を示す光学測定チャートである。
【図４】図４は、本発明の実施例１で得られたフィルタ
ーの光反射率を示す光学測定チャートである。
【図５】図５は、比較例１で得られたフィルターの光透
過率を示す光学測定チャートである。
【図６】図６は、比較例１で得られたフィルターの光反
射率を示す光学測定チャートである。
【符号の説明】
１，１１：透明フィルム基材 ２Ａ，２Ｂ，２Ｃ，２Ｄ：金属酸化物膜 ３Ａ，３Ｂ，３Ｃ：銀系透明導電体膜 ４：ハードコート層 ５：反射防止兼防汚染層 ６，６１：透明粘着剤層 ７：反射防止層 ８：防汚染層 ９：アンダーコート層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０５Ｋ 9/00 Ｇ０２Ｂ 1/10

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 透明フィルム基材の表面に、金属酸化物
    膜と銀系透明導電体膜を１単位としてｎ単位（３≦ｎ≦
    １０）が順次積層され、最外層に金属酸化物膜が形成さ
    れている積層体であって、金属酸化物膜は屈折率が１．
    ５〜２．７の光学的透明性を有する膜であり、銀系透明
    導電体膜は厚さ５〜２０ｎｍの範囲内で略一定の値に設
    定されており、且つ該基材表面の金属酸化物膜と最外層
    の金属酸化物膜の各厚さが、銀系透明導電体膜の厚さの
    ５／２（１±０．１５）倍であり、それ以外の中間に位
    置する金属酸化物膜の各厚さが、銀系透明導電体膜の厚
    さの５（１±０．１５）倍であることを特徴とするプラ
    ズマディスプレイパネル用フィルター。
  2. 【請求項２】 金属酸化物膜が、酸化インジウム、酸化
    錫、二酸化チタン、酸化セリウム、酸化ジルコニウム、
    酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化タンタル、五酸化ニ
    オブ、硫化亜鉛よりなる群から選ばれる１又は２以上の
    化合物からなる薄膜である請求項１記載のプラズマディ
    スプレイパネル用フィルター。
  3. 【請求項３】 銀系透明導電体膜が、９０重量％以上の
    銀と、金、銅、パラジュウム、白金、マンガン、カドニ
    ウムから選択された１つまたは２つ以上の元素により構
    成された薄膜である請求項１記載のプラズマディスプレ
    イパネル用フィルター。
  4. 【請求項４】 最外層の金属酸化物膜の表面に、ハード
    コート層が形成されている請求項１記載のプラズマディ
    スプレイパネル用フィルター。
  5. 【請求項５】 ハードコート層が、屈折率１．４５以
    下、厚さ０．０５〜１０μｍ、水接触角９０度以上の塗
    工膜である請求項４記載のプラズマディスプレイパネル
    用フィルター。
  6. 【請求項６】 ハードコート層の上面に、厚さ０．００
    １〜１μｍの反射防止兼防汚染層がさらに形成されてい
    る請求項４記載のプラズマディスプレイパネル用フィル
    ター。
  7. 【請求項７】 最外層の金属酸化物膜の表面に、別の透
    明フィルム基材の片面にハードコート層、反射防止層、
    防汚染層を形成したフィルムを用意し、そのフィルムを
    他面に形成した透明粘着剤層を介して貼合わせてなる請
    求項１記載のプラズマディスプレイパネル用フィルタ
    ー。
  8. 【請求項８】 透明フィルム基材の表面とその表面に設
    けられる金属酸化物膜の間に、屈折率が１．５以下で厚
    さが０．０５〜１μｍのアンダーコート層が形成されて
    いる請求項１記載のプラズマディスプレイパネル用フィ
    ルター。
  9. 【請求項９】 透明フィルム基材の裏面に、厚さ１０〜
    ５００μｍの透明粘着剤層が形成されている請求項１記
    載のプラズマディスプレイパネル用フィルター。
  10. 【請求項１０】 プラズマディスプレイパネルの前面表
    示ガラス部に、請求項９記載のフィルターを透明粘着剤
    層を介して貼り合わせてなるプラズマディスプレイパネ
    ル表示装置。
  11. 【請求項１１】 プラズマディスプレイパネルの前面側
    に空気層を介して設置される透明成形体のプラズマディ
    スプレイパネル側と逆の面に、請求項９記載のフィルタ
    ーを透明粘着剤層を介して貼り合わせてなるプラズマデ
    ィスプレイパネル表示装置。
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