JP2000098131A - プラズマディスプレイパネル用フィルター - Google Patents
プラズマディスプレイパネル用フィルターInfo
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 プラズマディスプレイパネル(PDP)が必
要とする電磁波シールド特性、近赤外線カット特性、可
視光低反射特性等の諸特性を、比較的簡単な積層構成で
同時に満足させると共に、しかも視認性が良く、軽量、
薄型のPDP用フィルターを提供する。 【解決手段】 透明フィルム基材の表面に、金属酸化物
膜と銀系透明導電体膜を1単位としてn単位(3≦n≦
10)が順次積層され、最外層に金属酸化物膜が形成さ
れている積層体であって、金属酸化物膜は屈折率が1.
5〜2.7の光学的透明性を有する膜であり、銀系透明
導電体膜は厚さ5〜20nmの範囲内で略一定の値に設
定されており、且つ該基材表面の金属酸化物膜と最外層
の金属酸化物膜の各厚さが、銀系透明導電体膜の厚さの
5/2(1±0.15)倍であり、それ以外の中間に位
置する金属酸化物膜の各厚さが、銀系透明導電体膜の厚
さの5(1±0.15)倍であることを特徴とする積層
体を構成要素とするPDP用フィルター。
要とする電磁波シールド特性、近赤外線カット特性、可
視光低反射特性等の諸特性を、比較的簡単な積層構成で
同時に満足させると共に、しかも視認性が良く、軽量、
薄型のPDP用フィルターを提供する。 【解決手段】 透明フィルム基材の表面に、金属酸化物
膜と銀系透明導電体膜を1単位としてn単位(3≦n≦
10)が順次積層され、最外層に金属酸化物膜が形成さ
れている積層体であって、金属酸化物膜は屈折率が1.
5〜2.7の光学的透明性を有する膜であり、銀系透明
導電体膜は厚さ5〜20nmの範囲内で略一定の値に設
定されており、且つ該基材表面の金属酸化物膜と最外層
の金属酸化物膜の各厚さが、銀系透明導電体膜の厚さの
5/2(1±0.15)倍であり、それ以外の中間に位
置する金属酸化物膜の各厚さが、銀系透明導電体膜の厚
さの5(1±0.15)倍であることを特徴とする積層
体を構成要素とするPDP用フィルター。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイパネル(以下、PDPと称す)の前面に配置し、P
DPから発生する電磁波と近赤外線を同時にカットする
PDP用フィルターおよびこのフィルターを貼り合わせ
てなるPDP表示装置に関する。
レイパネル(以下、PDPと称す)の前面に配置し、P
DPから発生する電磁波と近赤外線を同時にカットする
PDP用フィルターおよびこのフィルターを貼り合わせ
てなるPDP表示装置に関する。
【0002】
【従来の技術】PDPは、希ガス特にネオンを主体とす
るガスがパネル内に封入されている。PDPにおいて、
陰極から放出された電子が加速されてガス分子と衝突
し、励起したり電離したりして陽極へ進み、そこで生じ
た陽イオンも陰極と衝突して2次電子放出を起こし、放
電が開始される。この際、ネオン原子の遷移過程に伴い
電磁波および近赤外線が放出される。放出される近赤外
線は、波長が850〜1200nmである。一方、家電
製品、カラオケ、音響映像機器等のリモートコントロー
ラの受光感度は700〜1300nmであることから、
PDPから放出された近赤外線がリモートコントローラ
を誤作動させてしまうという問題が生じている。しか
し、近赤外線はPDPの原理上発生するものであり、P
DP自体では防止できない。
るガスがパネル内に封入されている。PDPにおいて、
陰極から放出された電子が加速されてガス分子と衝突
し、励起したり電離したりして陽極へ進み、そこで生じ
た陽イオンも陰極と衝突して2次電子放出を起こし、放
電が開始される。この際、ネオン原子の遷移過程に伴い
電磁波および近赤外線が放出される。放出される近赤外
線は、波長が850〜1200nmである。一方、家電
製品、カラオケ、音響映像機器等のリモートコントロー
ラの受光感度は700〜1300nmであることから、
PDPから放出された近赤外線がリモートコントローラ
を誤作動させてしまうという問題が生じている。しか
し、近赤外線はPDPの原理上発生するものであり、P
DP自体では防止できない。
【0003】そのため、PDPから発生する電磁波と近
赤外線をカットするフィルターが検討されており、従来
たとえば、低抵抗値の金属メッシュまたはエッチングメ
ッシュを埋め込んだアクリル板と近赤外線を吸収する染
料系の材料を混入させたアクリル板とを貼合わせたまた
は熱融着させた板や、ガラス板に直接スパッタ法で銀系
薄膜等を形成したものに近赤外線吸収材入りフィルムを
貼合わせした板や、或いは、近赤外線を吸収する染料系
の材料を混入させたアクリル板にスパッタ法で銀系薄膜
等を形成したフィルムを貼合わせた板を、PDPの前面
に空気層を介してセッティングするという方法が採用さ
れている。
赤外線をカットするフィルターが検討されており、従来
たとえば、低抵抗値の金属メッシュまたはエッチングメ
ッシュを埋め込んだアクリル板と近赤外線を吸収する染
料系の材料を混入させたアクリル板とを貼合わせたまた
は熱融着させた板や、ガラス板に直接スパッタ法で銀系
薄膜等を形成したものに近赤外線吸収材入りフィルムを
貼合わせした板や、或いは、近赤外線を吸収する染料系
の材料を混入させたアクリル板にスパッタ法で銀系薄膜
等を形成したフィルムを貼合わせた板を、PDPの前面
に空気層を介してセッティングするという方法が採用さ
れている。
【0004】上記のメッシュタイプは、低抵抗値は得ら
れるが、近赤外線カットフィルターが別に必要であり、
PDP表示パターン間隔によりモアレ現象を生じ表示品
位を損なうという欠点がある。また、スパッタ法を代表
とするドライプロセスで得られるフィルターはモアレ現
象は見られないが、低抵抗値、可視光透過特性、850
〜1200nmの近赤外線カット特性、可視光低反射特
性の諸特性を同時に満足するものであって、しかも、比
較的簡単な積層構成でなし得るフィルターは従来存在し
なかった。さらに、PDPの前面に空気層を介してセッ
ティングする方法である為、視認性が悪く、軽量、薄型
と言うPDPの特徴を損なうものであった。
れるが、近赤外線カットフィルターが別に必要であり、
PDP表示パターン間隔によりモアレ現象を生じ表示品
位を損なうという欠点がある。また、スパッタ法を代表
とするドライプロセスで得られるフィルターはモアレ現
象は見られないが、低抵抗値、可視光透過特性、850
〜1200nmの近赤外線カット特性、可視光低反射特
性の諸特性を同時に満足するものであって、しかも、比
較的簡単な積層構成でなし得るフィルターは従来存在し
なかった。さらに、PDPの前面に空気層を介してセッ
ティングする方法である為、視認性が悪く、軽量、薄型
と言うPDPの特徴を損なうものであった。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、PDPが必
要とする電磁波シールド特性、近赤外線カット特性、可
視光低反射特性等の諸特性を、比較的簡単な積層構成で
同時に満足させると共に、しかも視認性が良く、軽量、
薄型のPDP用フィルターを提供することを課題とす
る。また、本発明のさらなる課題は、このPDP用フィ
ルターを備えたPDP表示装置を提供することにある。
要とする電磁波シールド特性、近赤外線カット特性、可
視光低反射特性等の諸特性を、比較的簡単な積層構成で
同時に満足させると共に、しかも視認性が良く、軽量、
薄型のPDP用フィルターを提供することを課題とす
る。また、本発明のさらなる課題は、このPDP用フィ
ルターを備えたPDP表示装置を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明のPDP用フィル
ターは、上記の課題を解決するためになされたものであ
って、透明フィルム基材の表面に、金属酸化物膜と銀系
透明導電体膜を1単位としてn単位(3≦n≦10)が
順次積層され、最外層に金属酸化物膜が形成されている
積層体であって、金属酸化物膜は屈折率が1.5〜2.
7の光学的透明性を有する膜であり、銀系透明導電体膜
は厚さ5〜20nmの範囲内で略一定の値に設定されて
おり、且つ該基材表面の金属酸化物膜と最外層の金属酸
化物膜の各厚さが、銀系透明導電体膜の厚さの5/2
(1±0.15)倍であり、それ以外の中間に位置する
金属酸化物膜の各厚さが、銀系透明導電体膜の厚さの5
(1±0.15)倍であることを特徴とする積層体によ
り達成される。
ターは、上記の課題を解決するためになされたものであ
って、透明フィルム基材の表面に、金属酸化物膜と銀系
透明導電体膜を1単位としてn単位(3≦n≦10)が
順次積層され、最外層に金属酸化物膜が形成されている
積層体であって、金属酸化物膜は屈折率が1.5〜2.
7の光学的透明性を有する膜であり、銀系透明導電体膜
は厚さ5〜20nmの範囲内で略一定の値に設定されて
おり、且つ該基材表面の金属酸化物膜と最外層の金属酸
化物膜の各厚さが、銀系透明導電体膜の厚さの5/2
(1±0.15)倍であり、それ以外の中間に位置する
金属酸化物膜の各厚さが、銀系透明導電体膜の厚さの5
(1±0.15)倍であることを特徴とする積層体によ
り達成される。
【0007】また、本発明によれば、最外層の金属酸化
物膜の表面に、ハードコート層が形成されており、ハー
ドコート層の屈折率が1.45を超える場合は、その層
上に厚さ0.001〜1μmの反射防止兼防汚染層がさ
らに形成されている積層体により達成される。好ましく
は、ハードコート層は屈折率1.45以下、厚さ0.0
5〜10μm、水接触角90度以上の塗工膜である。他
の態様として、最外層の金属酸化物膜の表面に、別の透
明フィルム基材の片面にハードコート層、反射防止層、
防汚染層を形成したフィルムを用意し、そのフィルムを
他面に形成した透明粘着剤層を介して貼合わせた積層体
により達成される。さらに、透明フィルム基材の表面と
その表面に設けられる金属酸化物膜の間に、屈折率が
1.5以下で厚みが0.05〜1μmのアンダーコート
層が形成されている積層体であるのが好ましい。
物膜の表面に、ハードコート層が形成されており、ハー
ドコート層の屈折率が1.45を超える場合は、その層
上に厚さ0.001〜1μmの反射防止兼防汚染層がさ
らに形成されている積層体により達成される。好ましく
は、ハードコート層は屈折率1.45以下、厚さ0.0
5〜10μm、水接触角90度以上の塗工膜である。他
の態様として、最外層の金属酸化物膜の表面に、別の透
明フィルム基材の片面にハードコート層、反射防止層、
防汚染層を形成したフィルムを用意し、そのフィルムを
他面に形成した透明粘着剤層を介して貼合わせた積層体
により達成される。さらに、透明フィルム基材の表面と
その表面に設けられる金属酸化物膜の間に、屈折率が
1.5以下で厚みが0.05〜1μmのアンダーコート
層が形成されている積層体であるのが好ましい。
【0008】また、本発明によれば、透明フィルム基材
の裏面に、厚さ10〜500μmの透明粘着剤層が形成
されている積層体により、PDPの前面表示ガラス部に
本積層体を透明粘着剤層を介して貼り合わせたり、PD
Pの前面側に空気層を介して設置される透明成形体のP
DP側と逆の面に、本積層体を透明粘着剤層を介して貼
り合わせることができ、比較的簡単な積層構成で、PD
Pが必要とする電磁波シールド特性、近赤外線カット特
性、可視光低反射特性の所期の目的を達成することが出
来る。しかも、視認性が良く、軽量、薄型のPDP用前
面フィルターを備えたPDP表示装置も提供することが
できる。
の裏面に、厚さ10〜500μmの透明粘着剤層が形成
されている積層体により、PDPの前面表示ガラス部に
本積層体を透明粘着剤層を介して貼り合わせたり、PD
Pの前面側に空気層を介して設置される透明成形体のP
DP側と逆の面に、本積層体を透明粘着剤層を介して貼
り合わせることができ、比較的簡単な積層構成で、PD
Pが必要とする電磁波シールド特性、近赤外線カット特
性、可視光低反射特性の所期の目的を達成することが出
来る。しかも、視認性が良く、軽量、薄型のPDP用前
面フィルターを備えたPDP表示装置も提供することが
できる。
【0009】
【発明の実施の形態】以下において、図1〜2を使用し
て本発明のPDP用フィルターを具体的に説明する。図
1において、透明フィルム基材1の表面には、金属酸化
物膜および銀系透明導電体膜を1単位として、金属酸化
物膜(2A、2B、2C)および銀系透明導電体膜(3
A、3B、3C)が順次繰り返し積層され(図1は3単
位の例を示す)、その最外層に金属酸化物膜2Dが形成
されている。上記の金属酸化物膜は屈折率が1.5〜
2.7の光学的透明性を有する膜であり、銀系透明導電
体膜は厚さ5〜20nmの範囲内で略一定の値に設定さ
れており、且つ該基材表面の金属酸化物膜と最外層の金
属酸化物膜の各厚さが、銀系透明導電体膜の厚さの5/
2(1±0.15)倍であり、それ以外の中間に位置す
る金属酸化物膜の各厚さが、銀系透明導電体膜の厚さの
5(1±0.15)倍となるように設計されている。図
1には、最外層の金属酸化物膜2Dの表面に、さらにハ
ードコート層4および反射防止兼防汚染層5が形成さ
れ、透明フィルム基材1の裏面には透明粘着剤層が形成
されている例を示している。
て本発明のPDP用フィルターを具体的に説明する。図
1において、透明フィルム基材1の表面には、金属酸化
物膜および銀系透明導電体膜を1単位として、金属酸化
物膜(2A、2B、2C)および銀系透明導電体膜(3
A、3B、3C)が順次繰り返し積層され(図1は3単
位の例を示す)、その最外層に金属酸化物膜2Dが形成
されている。上記の金属酸化物膜は屈折率が1.5〜
2.7の光学的透明性を有する膜であり、銀系透明導電
体膜は厚さ5〜20nmの範囲内で略一定の値に設定さ
れており、且つ該基材表面の金属酸化物膜と最外層の金
属酸化物膜の各厚さが、銀系透明導電体膜の厚さの5/
2(1±0.15)倍であり、それ以外の中間に位置す
る金属酸化物膜の各厚さが、銀系透明導電体膜の厚さの
5(1±0.15)倍となるように設計されている。図
1には、最外層の金属酸化物膜2Dの表面に、さらにハ
ードコート層4および反射防止兼防汚染層5が形成さ
れ、透明フィルム基材1の裏面には透明粘着剤層が形成
されている例を示している。
【0010】他の態様である図2(図1と同符号は同一
の構成要素を示す)は、透明フィルム基材1の表面とそ
の表面に設けられる金属酸化物膜2Aの間に、屈折率が
1.5以下で厚みが0.05〜1μmのアンダーコート
層9が形成されており、一方、最外層の金属酸化物膜2
Dの表面には、別の透明フィルム基材11の片面にハー
ドコート層4、反射防止層7、防汚染層8を順次形成し
たフィルムを用意し、そのフィルムを他面に形成した透
明粘着剤層61を介して貼合わせてなるPDP用フィル
ターの例を示している。
の構成要素を示す)は、透明フィルム基材1の表面とそ
の表面に設けられる金属酸化物膜2Aの間に、屈折率が
1.5以下で厚みが0.05〜1μmのアンダーコート
層9が形成されており、一方、最外層の金属酸化物膜2
Dの表面には、別の透明フィルム基材11の片面にハー
ドコート層4、反射防止層7、防汚染層8を順次形成し
たフィルムを用意し、そのフィルムを他面に形成した透
明粘着剤層61を介して貼合わせてなるPDP用フィル
ターの例を示している。
【0011】本発明において使用する透明フィルム基材
としては、可視光領域における透明性を有するもので、
ある程度表面が平滑であれば使用できる。例えば、ポリ
エチレンテレフタレート、トリアセチルセルロース、ポ
リエチレンナフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリ
カーボネート、ポリアリレート、ポリエーテルエーテル
ケトン等が好ましい。フィルム基材厚さは、ドライプロ
セスで熱ジワなどの問題が発生しなければ制限はない
が、通常厚さ10〜250μmのものが使用される。ま
た、フィルム基材として高分子フィルムそのものでも良
いが、片面または両面に耐擦傷性を付与するためのハー
ドコート処理を行っても良い。UV硬化タイプでも熱硬
化タイプでも良く、厚さは1〜10μmが適当である。
1μmより薄いと耐擦傷性効果が低下するし、10μm
以上ではクラックの発生が起こりやすい。さらに、可視
光の色調整のための色素をフィルム基材中に混入させて
もよく、フィルム基材に塗布してもよい。
としては、可視光領域における透明性を有するもので、
ある程度表面が平滑であれば使用できる。例えば、ポリ
エチレンテレフタレート、トリアセチルセルロース、ポ
リエチレンナフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリ
カーボネート、ポリアリレート、ポリエーテルエーテル
ケトン等が好ましい。フィルム基材厚さは、ドライプロ
セスで熱ジワなどの問題が発生しなければ制限はない
が、通常厚さ10〜250μmのものが使用される。ま
た、フィルム基材として高分子フィルムそのものでも良
いが、片面または両面に耐擦傷性を付与するためのハー
ドコート処理を行っても良い。UV硬化タイプでも熱硬
化タイプでも良く、厚さは1〜10μmが適当である。
1μmより薄いと耐擦傷性効果が低下するし、10μm
以上ではクラックの発生が起こりやすい。さらに、可視
光の色調整のための色素をフィルム基材中に混入させて
もよく、フィルム基材に塗布してもよい。
【0012】透明成形体としては、ポリメタクリル酸メ
チル等のアクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ABS
樹脂などの透明プラスチック板やガラス板が挙げられる
が、透明であって、ある程度の機械的強度、耐熱性があ
れば特に限定されない。その厚さは1〜10mm、好ま
しくは2〜5mmである。また、透明成形体の内部又は
表面に、可視光の色調整のための色素を混入又は塗布し
てもよく、さらに透明成形体のPDP側の面には、ハー
ドコート層、反射防止層、アンチグレア層などを直接形
成してもよく、これらの層を一旦透明フィルム基材に形
成したものを貼り合わせてもよい。
チル等のアクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ABS
樹脂などの透明プラスチック板やガラス板が挙げられる
が、透明であって、ある程度の機械的強度、耐熱性があ
れば特に限定されない。その厚さは1〜10mm、好ま
しくは2〜5mmである。また、透明成形体の内部又は
表面に、可視光の色調整のための色素を混入又は塗布し
てもよく、さらに透明成形体のPDP側の面には、ハー
ドコート層、反射防止層、アンチグレア層などを直接形
成してもよく、これらの層を一旦透明フィルム基材に形
成したものを貼り合わせてもよい。
【0013】金属酸化物膜の材料としては、高屈折率の
光学膜材料ならある程度使用できるが、薄膜の屈折率が
1.5〜2.7の範囲が好ましい。屈折率1.5以下の
場合、金属酸化物膜の厚さを厚くする必要があり、多層
にした場合クラックが入りやすくなる。また、屈折率
2.7を超えると、最外層の金属酸化物膜と空気との屈
折率差が大きくなりすぎ、可視光反射率を低くおさえる
ことが難しくなる。また、単一の金属酸化物でも複数の
金属酸化物を混合した材料を用いてもよい。さらに、銀
のマイグレーション防止効果や水、酸素のバリア効果が
ある材料ならさらに好ましい。好適な金属酸化物材料と
しては、酸化インジウムを主成分とし二酸化チタンや、
酸化錫、酸化セリウムを少量含有させたもの、二酸化チ
タン、酸化ジルコニウム、硫化亜鉛、酸化ビスマス、五
酸化ニオブ、酸化亜鉛などが挙げられる。これらの薄膜
層は、スパッタリング、真空蒸着、イオンプレーティン
グ等の真空ドライプロセスで設けることができる。金属
酸化物膜の膜厚は、18〜100nmが適当であり、そ
の屈折率、銀系透明導電体膜の厚さ、全層数などによ
り、光学特性を最適にする膜厚が決定される。
光学膜材料ならある程度使用できるが、薄膜の屈折率が
1.5〜2.7の範囲が好ましい。屈折率1.5以下の
場合、金属酸化物膜の厚さを厚くする必要があり、多層
にした場合クラックが入りやすくなる。また、屈折率
2.7を超えると、最外層の金属酸化物膜と空気との屈
折率差が大きくなりすぎ、可視光反射率を低くおさえる
ことが難しくなる。また、単一の金属酸化物でも複数の
金属酸化物を混合した材料を用いてもよい。さらに、銀
のマイグレーション防止効果や水、酸素のバリア効果が
ある材料ならさらに好ましい。好適な金属酸化物材料と
しては、酸化インジウムを主成分とし二酸化チタンや、
酸化錫、酸化セリウムを少量含有させたもの、二酸化チ
タン、酸化ジルコニウム、硫化亜鉛、酸化ビスマス、五
酸化ニオブ、酸化亜鉛などが挙げられる。これらの薄膜
層は、スパッタリング、真空蒸着、イオンプレーティン
グ等の真空ドライプロセスで設けることができる。金属
酸化物膜の膜厚は、18〜100nmが適当であり、そ
の屈折率、銀系透明導電体膜の厚さ、全層数などによ
り、光学特性を最適にする膜厚が決定される。
【0014】銀系透明導電体膜の材料としては、90重
量%以上の銀と、金、銅、パラジュウム、白金、マンガ
ン、カドニウムから選択された1つまたは2つ以上の元
素により構成されるが、90〜99重量%の銀と上記金
属1〜10重量%を固溶させた材料であるのが好まし
い。特に銀中に1〜10重量%の金を固溶させたもの
は、銀の劣化防止の観点から好ましい。金を10重量%
以上混入すると比抵抗が上昇し低抵抗値が得られ難く、
また1重量%以下では銀の劣化が起こりやすい。銀系透
明導電体膜を形成する手段としては、スパッタ法などの
真空ドライプロセスが用いられる。銀系透明導電体膜の
厚さは、5〜20nmが適当であるが、さらに好ましく
は、9〜17nmである。
量%以上の銀と、金、銅、パラジュウム、白金、マンガ
ン、カドニウムから選択された1つまたは2つ以上の元
素により構成されるが、90〜99重量%の銀と上記金
属1〜10重量%を固溶させた材料であるのが好まし
い。特に銀中に1〜10重量%の金を固溶させたもの
は、銀の劣化防止の観点から好ましい。金を10重量%
以上混入すると比抵抗が上昇し低抵抗値が得られ難く、
また1重量%以下では銀の劣化が起こりやすい。銀系透
明導電体膜を形成する手段としては、スパッタ法などの
真空ドライプロセスが用いられる。銀系透明導電体膜の
厚さは、5〜20nmが適当であるが、さらに好ましく
は、9〜17nmである。
【0015】本発明者らは、PDPから発生する電磁波
と近赤外線を同時にカットするPDPフィルターとして
の備えるべき特性の目標値を、次の表1の通り設定して
研究開発を鋭意進めた。
と近赤外線を同時にカットするPDPフィルターとして
の備えるべき特性の目標値を、次の表1の通り設定して
研究開発を鋭意進めた。
【0016】
【表1】
【0017】これに対して、従来の技術の項で説明した
様に、色々な材料の複合体が従来検討されてはいるが、
可視光透過率が低い物や反射特性が悪いもの、クラック
などの発生や、信頼性がないものが多い。また、要求特
性を満たすため構成を複雑にすると高価格となることを
避けられない。本発明者らは、かかる要求特性を、透明
フィルム基材上にドライプロセス法にて、比較的簡単な
積層構成で満足する手段について鋭意検討を重ねた結
果、透明フィルム基材側から、金属酸化物膜、銀系透明
導電体膜、金属酸化物膜、銀系透明導電体膜、金属酸化
物膜の順に交互に多層に積層してなる積層体、即ち、透
明フィルム基材/(金属酸化物膜/銀系透明導電体膜)
n/金属酸化物膜、の式で表わされる積層体において、
次の条件を満足する場合には驚くべきことに、低抵抗値
でありながら、IR吸収剤が不要で、光学特性も良好な
フィルターを比較的簡単な積層構成で達し得ることを見
出したものである。 金属酸化物膜は、屈折率が1.5〜2.7以下の光
学的透明性を有する膜とする。 銀系透明導電体膜は、厚さ5〜20nmの範囲内で
略一定の厚さに設定する。 3≦n≦10の範囲でn(正数)を選択する。 該フィルム基材表面の金属酸化物膜と最外層の金属
酸化物膜の各厚さが、銀系透明導電体膜の厚さの5/2
(1±0.15)倍となるように設定する。 上記以外の中間に位置する金属酸化物膜の各厚さ
が、銀系透明導電体膜の厚さの5(1±0.15)倍と
なるように設定する。
様に、色々な材料の複合体が従来検討されてはいるが、
可視光透過率が低い物や反射特性が悪いもの、クラック
などの発生や、信頼性がないものが多い。また、要求特
性を満たすため構成を複雑にすると高価格となることを
避けられない。本発明者らは、かかる要求特性を、透明
フィルム基材上にドライプロセス法にて、比較的簡単な
積層構成で満足する手段について鋭意検討を重ねた結
果、透明フィルム基材側から、金属酸化物膜、銀系透明
導電体膜、金属酸化物膜、銀系透明導電体膜、金属酸化
物膜の順に交互に多層に積層してなる積層体、即ち、透
明フィルム基材/(金属酸化物膜/銀系透明導電体膜)
n/金属酸化物膜、の式で表わされる積層体において、
次の条件を満足する場合には驚くべきことに、低抵抗値
でありながら、IR吸収剤が不要で、光学特性も良好な
フィルターを比較的簡単な積層構成で達し得ることを見
出したものである。 金属酸化物膜は、屈折率が1.5〜2.7以下の光
学的透明性を有する膜とする。 銀系透明導電体膜は、厚さ5〜20nmの範囲内で
略一定の厚さに設定する。 3≦n≦10の範囲でn(正数)を選択する。 該フィルム基材表面の金属酸化物膜と最外層の金属
酸化物膜の各厚さが、銀系透明導電体膜の厚さの5/2
(1±0.15)倍となるように設定する。 上記以外の中間に位置する金属酸化物膜の各厚さ
が、銀系透明導電体膜の厚さの5(1±0.15)倍と
なるように設定する。
【0018】例えば、n=3の場合(図1参照)、透明
フィルム基材1/金属酸化物膜2A/銀系透明導電体膜
3A/同2B/同3B/同2C/同3C/金属酸化物膜
2Dの積層体であり、この場合、銀系透明導電体膜(3
A、3Bおよび3C)を厚さ13nmに設定すると、金
属酸化物膜(2Aおよび2D)の厚さは32.5nmで
あり、金属酸化物膜(2Bおよび2C)の厚さは65n
mとなり、表1の光学特性を満足することが出来る。ま
た、n=4の場合、同様に1/2A/3A/2B/3B
/2C/3C/2D/3D/2Eの積層体となるが、こ
の場合、銀系透明導電体膜(3A、3B、3Cおよび3
D)を厚さ12nmに設定すると、金属酸化物膜(2A
および2E)の厚さは30nmであり、金属酸化物膜
(2B、2Cおよび2D)の厚さは60nmとなる。さ
らに、n=5の場合も同様に、銀系透明導電体膜(3A
〜3E)を厚さ11nmに設定すると、金属酸化物膜
(2Aおよび2F)の厚さは27.5nm、金属酸化物
膜(2B、2C、2Dおよび2E)の厚さは55nmと
なる。上記において、金属酸化物膜の厚さの設定条件で
ある5/2倍および5倍の公差±15%は、金属酸化物
の屈折率により決定される。
フィルム基材1/金属酸化物膜2A/銀系透明導電体膜
3A/同2B/同3B/同2C/同3C/金属酸化物膜
2Dの積層体であり、この場合、銀系透明導電体膜(3
A、3Bおよび3C)を厚さ13nmに設定すると、金
属酸化物膜(2Aおよび2D)の厚さは32.5nmで
あり、金属酸化物膜(2Bおよび2C)の厚さは65n
mとなり、表1の光学特性を満足することが出来る。ま
た、n=4の場合、同様に1/2A/3A/2B/3B
/2C/3C/2D/3D/2Eの積層体となるが、こ
の場合、銀系透明導電体膜(3A、3B、3Cおよび3
D)を厚さ12nmに設定すると、金属酸化物膜(2A
および2E)の厚さは30nmであり、金属酸化物膜
(2B、2Cおよび2D)の厚さは60nmとなる。さ
らに、n=5の場合も同様に、銀系透明導電体膜(3A
〜3E)を厚さ11nmに設定すると、金属酸化物膜
(2Aおよび2F)の厚さは27.5nm、金属酸化物
膜(2B、2C、2Dおよび2E)の厚さは55nmと
なる。上記において、金属酸化物膜の厚さの設定条件で
ある5/2倍および5倍の公差±15%は、金属酸化物
の屈折率により決定される。
【0019】また、銀系透明導電体膜の厚さを5〜11
nm未満に設定する場合は、n=6〜10となるように
多層化するばよく、銀系透明導電体膜の厚さを14〜2
0nmに設定する場合は、n≧3の条件で金属酸化物膜
の最適屈折率および厚さが設定される。n<3の場合、
銀系透明導電体膜の厚さを増すことで表面抵抗値は下げ
られるが、光学特性を満足できなくなる。また、n>1
0の場合、表1の特性を満足する組み合わせはあるが、
構成自体が複雑になり、目的とする比較的簡単な構成で
は達成できなくなる。
nm未満に設定する場合は、n=6〜10となるように
多層化するばよく、銀系透明導電体膜の厚さを14〜2
0nmに設定する場合は、n≧3の条件で金属酸化物膜
の最適屈折率および厚さが設定される。n<3の場合、
銀系透明導電体膜の厚さを増すことで表面抵抗値は下げ
られるが、光学特性を満足できなくなる。また、n>1
0の場合、表1の特性を満足する組み合わせはあるが、
構成自体が複雑になり、目的とする比較的簡単な構成で
は達成できなくなる。
【0020】ハードコート層4に関しては、PDP前面
表示部に直接貼る積層体であるので、人が触れる可能性
が高く、積層体の傷防止の目的で形成する。ハードコー
ト層の屈折率が1.45以下の場合、最内層の金属酸化
物膜から最外層の金属酸化物膜までの光学特性、特に反
射特性を損なわず表面ハードコート性を付与出来る。ま
た、水接触角90度以上の物が防汚染性もあり好まし
い。適当な膜厚は、0.05〜10μmであるが、より
好ましくは0.1〜6μmである。
表示部に直接貼る積層体であるので、人が触れる可能性
が高く、積層体の傷防止の目的で形成する。ハードコー
ト層の屈折率が1.45以下の場合、最内層の金属酸化
物膜から最外層の金属酸化物膜までの光学特性、特に反
射特性を損なわず表面ハードコート性を付与出来る。ま
た、水接触角90度以上の物が防汚染性もあり好まし
い。適当な膜厚は、0.05〜10μmであるが、より
好ましくは0.1〜6μmである。
【0021】屈折率が1.45以下のハードコート材料
としては、熱硬化型のSiO2 系の材料、UV硬化型の
フッ素系ポリマー材料等が硬度的に好ましいが限定する
ものではない。この場合、さらに反射防止兼防汚染層5
を形成しても、しなくても良い。また、屈折率が1.4
5を超えるハードコート層の場合、最内層の金属酸化物
膜から最外層の金属酸化物膜までの光学特性、特に反射
特性を損なうが、表面硬度の向上には、屈折率の高い材
料が適している。出来るだけ、反射特性を損なわず表面
硬度を得るためには、適当な厚さは0.05〜10μm
であるが、より好ましくは0.1〜6μmである。反射
特性を改善させる為にこの面上に反射防止兼防汚染層5
を形成しても構わない。反射防止兼防汚染材料は、低屈
折率のフッ素系樹脂、MgF2 、 CaF2 等の光学膜
を、塗工法やスパッタ法等のドライプロセスにより形成
することができる。その厚さは0.001〜1μm程度
が好ましい。
としては、熱硬化型のSiO2 系の材料、UV硬化型の
フッ素系ポリマー材料等が硬度的に好ましいが限定する
ものではない。この場合、さらに反射防止兼防汚染層5
を形成しても、しなくても良い。また、屈折率が1.4
5を超えるハードコート層の場合、最内層の金属酸化物
膜から最外層の金属酸化物膜までの光学特性、特に反射
特性を損なうが、表面硬度の向上には、屈折率の高い材
料が適している。出来るだけ、反射特性を損なわず表面
硬度を得るためには、適当な厚さは0.05〜10μm
であるが、より好ましくは0.1〜6μmである。反射
特性を改善させる為にこの面上に反射防止兼防汚染層5
を形成しても構わない。反射防止兼防汚染材料は、低屈
折率のフッ素系樹脂、MgF2 、 CaF2 等の光学膜
を、塗工法やスパッタ法等のドライプロセスにより形成
することができる。その厚さは0.001〜1μm程度
が好ましい。
【0022】また、最外層の金属酸化物膜の面上にハー
ドコート層を直接形成する代わりに、図2の如く、別の
透明フィルム基材11の片面にハードコート層4、反射
防止層7および防汚染層8を形成したフィルムを用意
し、そのフィルムを他面に形成した透明粘着剤層61を
介して貼合わせてよい。この場合、透明フィルム基材1
1には、透明フィルム基材1に使われるものなら制約は
ないが、通常ポリエステルフィルム、トリアセチルセル
ロースフィルムが用いられる。ハードコート層には、高
硬度のハードコート剤が一般に使われ、UV硬化型のア
クリルウレタン系、熱硬化型のシロキサン系などの材料
で、厚さは1〜10μm程度が好適である。反射防止層
と防汚染層は上述の反射防止性と防汚染性の両特性を有
する材料により1層で兼備させてもよく、スパッタ蒸着
等の方法で作成された高屈折膜と低屈折膜との多層膜に
よる反射防止層上に、撥水性のフッ素系樹脂、MoS2
等の材料を薄層塗工、スパッタ法などのドライプロセス
にて防汚染層を形成してもよい。
ドコート層を直接形成する代わりに、図2の如く、別の
透明フィルム基材11の片面にハードコート層4、反射
防止層7および防汚染層8を形成したフィルムを用意
し、そのフィルムを他面に形成した透明粘着剤層61を
介して貼合わせてよい。この場合、透明フィルム基材1
1には、透明フィルム基材1に使われるものなら制約は
ないが、通常ポリエステルフィルム、トリアセチルセル
ロースフィルムが用いられる。ハードコート層には、高
硬度のハードコート剤が一般に使われ、UV硬化型のア
クリルウレタン系、熱硬化型のシロキサン系などの材料
で、厚さは1〜10μm程度が好適である。反射防止層
と防汚染層は上述の反射防止性と防汚染性の両特性を有
する材料により1層で兼備させてもよく、スパッタ蒸着
等の方法で作成された高屈折膜と低屈折膜との多層膜に
よる反射防止層上に、撥水性のフッ素系樹脂、MoS2
等の材料を薄層塗工、スパッタ法などのドライプロセス
にて防汚染層を形成してもよい。
【0023】また、透明フィルム基材の表面と最内層の
金属酸化物膜の間に、屈折率が1.5以下で厚さが0.
05〜1μmのアンダーコート層9を形成させると、金
属酸化物膜とフィルム基材との密着力を向上出来るとい
う効果と、積層体全体の可視光反射率をさらに低下させ
る効果がある。 アンダーコート層の材料としては、U
V硬化型低屈折フッ素系ポリマーであってポリマー中に
官能基を導入することにより密着性を向上させたもの
や、UV硬化型低屈折無機コート材等が使用される。
金属酸化物膜の間に、屈折率が1.5以下で厚さが0.
05〜1μmのアンダーコート層9を形成させると、金
属酸化物膜とフィルム基材との密着力を向上出来るとい
う効果と、積層体全体の可視光反射率をさらに低下させ
る効果がある。 アンダーコート層の材料としては、U
V硬化型低屈折フッ素系ポリマーであってポリマー中に
官能基を導入することにより密着性を向上させたもの
や、UV硬化型低屈折無機コート材等が使用される。
【0024】透明粘着剤層6は、弾性係数が1×10E
5 〜1×10E7 dyn/cm2 が好ましく、厚さは10〜5
00μm、さらに好ましくは25〜300μmである。
その材料としてはアクリル系、ゴム系、ポリエステル系
などがあり、特にアクリル系粘着剤を用いるのが好まし
い。アクリル系粘着剤は、粘着剤としての適度の濡れ
性、柔軟性を付与するための主単量体として、ポリマー
化した際のガラス転移点が−10℃以下の(メタ)アク
リル酸アルキルエステルを1種もしくは2種以上と、必
要によりアクリル酸、メタアクリル酸、2−ヒドロキシ
エチルアクリレート等の官能基含有単量体およびその他
の共重合性単量体とを、適宜の重合触媒を用いて溶液重
合法、乳化重合法、塊状重合法(特に紫外線による重合
法)、懸濁重合法などの方法で重合して得られるアクリ
ル系ポリマーに、架橋剤等の各種添加剤を添加したもの
が用いられる。熱架橋タイプ、光(紫外線、電子線)架
橋タイプなどであってもよい。
5 〜1×10E7 dyn/cm2 が好ましく、厚さは10〜5
00μm、さらに好ましくは25〜300μmである。
その材料としてはアクリル系、ゴム系、ポリエステル系
などがあり、特にアクリル系粘着剤を用いるのが好まし
い。アクリル系粘着剤は、粘着剤としての適度の濡れ
性、柔軟性を付与するための主単量体として、ポリマー
化した際のガラス転移点が−10℃以下の(メタ)アク
リル酸アルキルエステルを1種もしくは2種以上と、必
要によりアクリル酸、メタアクリル酸、2−ヒドロキシ
エチルアクリレート等の官能基含有単量体およびその他
の共重合性単量体とを、適宜の重合触媒を用いて溶液重
合法、乳化重合法、塊状重合法(特に紫外線による重合
法)、懸濁重合法などの方法で重合して得られるアクリ
ル系ポリマーに、架橋剤等の各種添加剤を添加したもの
が用いられる。熱架橋タイプ、光(紫外線、電子線)架
橋タイプなどであってもよい。
【0025】上記特性の透明粘着剤層を使用すると、P
DP前面表示ガラスに直接貼合わせた際に、PDPガラ
ス表面のウネリを吸収し、貼合わせが良好となる。ま
た、貼合わせた後、外部からの異物が衝突しても、この
範囲であると、粘着剤層のクッション効果により、フィ
ルム表面に傷が付きにくいばかりか、糊厚が瞬間的には
薄くなるが、すぐに自己復活して、何もなかったかの如
く元どおりの平滑面になるという特性が得られる。
DP前面表示ガラスに直接貼合わせた際に、PDPガラ
ス表面のウネリを吸収し、貼合わせが良好となる。ま
た、貼合わせた後、外部からの異物が衝突しても、この
範囲であると、粘着剤層のクッション効果により、フィ
ルム表面に傷が付きにくいばかりか、糊厚が瞬間的には
薄くなるが、すぐに自己復活して、何もなかったかの如
く元どおりの平滑面になるという特性が得られる。
【0026】
【実施例】次に、本発明を実施例により具体的に説明す
るが、本発明はかかる実施例のみに限定するものではな
い。 実施例1 厚さ125μmの透明ポリエチレンテレフタレート(P
ET)フィルムの片面に、厚さ5μmのUV硬化型ハー
ドコート樹脂(大日本インキ化学工業社製、商品名ユニ
デック17−813を主成分とする)を形成して耐擦傷
性を付与した透明フィルム基材を用い、ハードコート
(HC)側に順次、DCマグネトロンスパッタ法で金属
酸化物膜、銀系透明導電体膜、金属酸化物膜の順序で薄
膜を形成した。HC付き透明フィルム基材の可視光透過
率at550nm は、89%であった。金属酸化物膜を形成す
るターゲット材料には、In2 O3 ―12.6重量%T
iO2を使用し、銀系透明導電体膜を形成するターゲッ
ト材料には、Ag―5重量%Auを使用した。膜厚の測
定は、厚膜に付けた膜の表面粗さ計(DEKTAK3)
による製膜速度の検量線と透過型電子顕微鏡による精密
測定により行った。抵抗値の測定は、三菱油化製(Lo
resterSP)を用いた。また、光学特性は、日立
製作所製U−3410を用いて測定した。上記透明フィ
ルム基材のHC上に、金属酸化物膜と銀系透明導電体膜
を1単位として、下記の厚さでn単位(n=3、4、
5)が順次積層され、最外層に金属酸化物膜が積層され
た3種類の積層体サンプル、、を作製した。 32.5/13/65/13/65/13/32.5(nm) 28.5/11.5/57.5/11.5/57.5/11.5/57.5/11.5/28.5
(nm) 26.0/10.5/52.5/10.5/52.5/10.5/52.5/10.5/52.5/1
0.5/26.0(nm) 作製したサンプルのフィルター特性を表2に示した。
るが、本発明はかかる実施例のみに限定するものではな
い。 実施例1 厚さ125μmの透明ポリエチレンテレフタレート(P
ET)フィルムの片面に、厚さ5μmのUV硬化型ハー
ドコート樹脂(大日本インキ化学工業社製、商品名ユニ
デック17−813を主成分とする)を形成して耐擦傷
性を付与した透明フィルム基材を用い、ハードコート
(HC)側に順次、DCマグネトロンスパッタ法で金属
酸化物膜、銀系透明導電体膜、金属酸化物膜の順序で薄
膜を形成した。HC付き透明フィルム基材の可視光透過
率at550nm は、89%であった。金属酸化物膜を形成す
るターゲット材料には、In2 O3 ―12.6重量%T
iO2を使用し、銀系透明導電体膜を形成するターゲッ
ト材料には、Ag―5重量%Auを使用した。膜厚の測
定は、厚膜に付けた膜の表面粗さ計(DEKTAK3)
による製膜速度の検量線と透過型電子顕微鏡による精密
測定により行った。抵抗値の測定は、三菱油化製(Lo
resterSP)を用いた。また、光学特性は、日立
製作所製U−3410を用いて測定した。上記透明フィ
ルム基材のHC上に、金属酸化物膜と銀系透明導電体膜
を1単位として、下記の厚さでn単位(n=3、4、
5)が順次積層され、最外層に金属酸化物膜が積層され
た3種類の積層体サンプル、、を作製した。 32.5/13/65/13/65/13/32.5(nm) 28.5/11.5/57.5/11.5/57.5/11.5/57.5/11.5/28.5
(nm) 26.0/10.5/52.5/10.5/52.5/10.5/52.5/10.5/52.5/1
0.5/26.0(nm) 作製したサンプルのフィルター特性を表2に示した。
【0027】
【表2】
【0028】また、作製したフィルターのサンプルに
ついて、光学測定チャートを図3〜4に示した。図3に
よると、可視光線領域で高い透過率が得られ、800n
m以上の近赤外線を殆どカットしている。また、図4に
よると、可視光線領域全体にわたり反射率が低いことが
判る。上記の表2および図3〜4より明らかなように、
n=3、計7層のスパッタ積層膜という簡単な構成で、
低抵抗値とIRカット等の良好な光学特性を持つフィル
ターを得ることが出来た。n=4および5の場合には、
積層数は増加するが特性面では改良が見られた。
ついて、光学測定チャートを図3〜4に示した。図3に
よると、可視光線領域で高い透過率が得られ、800n
m以上の近赤外線を殆どカットしている。また、図4に
よると、可視光線領域全体にわたり反射率が低いことが
判る。上記の表2および図3〜4より明らかなように、
n=3、計7層のスパッタ積層膜という簡単な構成で、
低抵抗値とIRカット等の良好な光学特性を持つフィル
ターを得ることが出来た。n=4および5の場合には、
積層数は増加するが特性面では改良が見られた。
【0029】比較例1 実施例1と各材料および製作方法は同様であるが、金属
酸化物膜の厚さを本発明の範囲から外れる下記の数値に
設定して、2種類の積層体サンプル、を作製し、実
施例1と同様の評価を行った。 37.5/13/75/13/75/13/37.5(nm) 32.5/13/75/13/75/13/32.5(nm) 作製したサンプルのフィルター特性を表3に示した。
酸化物膜の厚さを本発明の範囲から外れる下記の数値に
設定して、2種類の積層体サンプル、を作製し、実
施例1と同様の評価を行った。 37.5/13/75/13/75/13/37.5(nm) 32.5/13/75/13/75/13/32.5(nm) 作製したサンプルのフィルター特性を表3に示した。
【0030】
【表3】
【0031】また、作製したサンプルについて、光学
測定チャートを図5〜6に示した。図5によると、青色
光の透過率が悪く、800nm以上の近赤外線のカット
も不十分である。また、図6によると、青色の反射が大
きいことが判る。上記の表3および図5〜6より明らか
なように、本発明の範囲から外れる数値に設定した金属
酸化物膜の厚さバランスでは、7層程度の簡単な積層構
成で、抵抗値と光学特性の両方を満足するものは得られ
なかった。
測定チャートを図5〜6に示した。図5によると、青色
光の透過率が悪く、800nm以上の近赤外線のカット
も不十分である。また、図6によると、青色の反射が大
きいことが判る。上記の表3および図5〜6より明らか
なように、本発明の範囲から外れる数値に設定した金属
酸化物膜の厚さバランスでは、7層程度の簡単な積層構
成で、抵抗値と光学特性の両方を満足するものは得られ
なかった。
【0032】実施例2 実施例1と同様の厚さ125μmの透明PETフィルム
のHC上に、UV硬化型低屈折フッ素系ポリマー(日本
合成ゴム社製、商品名JM5010)をグラビア塗工に
て塗布し、300mJ/cm2 で3分間紫外線照射して
硬化させ、厚さ0.15μmのアンダーコート層を形成
した。この層の屈折率は1.41であり、透明フィルム
基材のHCとその上に形成される金属酸化物膜との密着
性を向上させるように、滑り性を持たない材料を使用し
た。このアンダーコート層の上に実施例1と同様な材料
および作製方法で、金属酸化物膜と銀系透明導電体膜を
1単位として、下記の厚さでn単位(n=3)が順次積
層され、最外層に金属酸化物膜が積層された積層体を作
製した。各膜の厚さ :32.5/13/65/13/65/13/32.5(nm) 次に、ハードコート層として、屈折率が1.36のSi
O2 系ハードコート材(日産化学社製、商品名LR20
1)を、上記の最外層の金属酸化物膜上にグラビア塗工
にて形成後、150℃5分硬化させた。得られたハード
コート層の厚さは5μmであり、水接触角は104度で
あった。さらに、上記透明フィルム基材の裏面に、固形
分20重量%のアクリル系の粘着剤溶液を塗布し、15
0℃で5分間乾燥させ厚さ50μm、弾性率1.8×1
0E6 dyn/cm2 の透明粘着剤層を形成して積層体サンプ
ルを作製した。このサンプルおよび、サンプルを
ロールラミネーターにてPDP前面表示ガラス部に貼合
わせたものとを評価用サンプルとした。評価結果を、表
4に示した。表4から明らかなように、サンプルは電
磁波シールド特性、近赤外線カット性、可視光低反射特
性において良好な結果が得られ、しかも、耐擦傷性が良
好で視認性が良く、薄さ、軽さも兼ね備えたたPDP用
前面フィルターを得ることが出来た。
のHC上に、UV硬化型低屈折フッ素系ポリマー(日本
合成ゴム社製、商品名JM5010)をグラビア塗工に
て塗布し、300mJ/cm2 で3分間紫外線照射して
硬化させ、厚さ0.15μmのアンダーコート層を形成
した。この層の屈折率は1.41であり、透明フィルム
基材のHCとその上に形成される金属酸化物膜との密着
性を向上させるように、滑り性を持たない材料を使用し
た。このアンダーコート層の上に実施例1と同様な材料
および作製方法で、金属酸化物膜と銀系透明導電体膜を
1単位として、下記の厚さでn単位(n=3)が順次積
層され、最外層に金属酸化物膜が積層された積層体を作
製した。各膜の厚さ :32.5/13/65/13/65/13/32.5(nm) 次に、ハードコート層として、屈折率が1.36のSi
O2 系ハードコート材(日産化学社製、商品名LR20
1)を、上記の最外層の金属酸化物膜上にグラビア塗工
にて形成後、150℃5分硬化させた。得られたハード
コート層の厚さは5μmであり、水接触角は104度で
あった。さらに、上記透明フィルム基材の裏面に、固形
分20重量%のアクリル系の粘着剤溶液を塗布し、15
0℃で5分間乾燥させ厚さ50μm、弾性率1.8×1
0E6 dyn/cm2 の透明粘着剤層を形成して積層体サンプ
ルを作製した。このサンプルおよび、サンプルを
ロールラミネーターにてPDP前面表示ガラス部に貼合
わせたものとを評価用サンプルとした。評価結果を、表
4に示した。表4から明らかなように、サンプルは電
磁波シールド特性、近赤外線カット性、可視光低反射特
性において良好な結果が得られ、しかも、耐擦傷性が良
好で視認性が良く、薄さ、軽さも兼ね備えたたPDP用
前面フィルターを得ることが出来た。
【0033】実施例3 厚さ125μmの透明PETフィルムの片面に、実施例
2と同様の厚さ0.15μmのアンダーコート層を形成
した。このアンダーコート層の上に、金属酸化物膜を形
成するターゲット材料として、In2 O3 ―10重量%
SnO2 を用い、銀系透明導電体膜を形成するターゲッ
ト材料としてAg―3重量%Auを使用した他は実施例
1と同様の方法により積層体を得た。なお、In2 O3
―10重量%SnO2 の屈折率は、2.0であった。上
記アンダーコート層の上に形成される積層体を構成する
各膜厚は、銀系透明導電体膜の各厚さ12nm、最内層
と最外層の金属酸化物膜の厚さ34.4nm、また、中
間に位置する金属酸化物膜の厚さ68.8nmに設定し
た(n=3)。 次に、最外層の金属酸化物膜の面上
に、屈折率が1.55のUV硬化型ハードコート(大日
本インキ化学工業社製、商品名ユニデック17−813
を主成分とする)を、ファンテンリバース法にて塗工
し、300mJ/cm2 で3分間紫外線照射して硬化さ
せ、厚さ5μmのハードコート層を形成した。さらに、
その上に有機フッ素系の反射防止兼防汚染材料(日本合
成ゴム社製、商品名JM5025)をグラビア塗工し、
300mJ/cm2 で3分間紫外線照射して厚さ0.1
5μmの反射防止兼防汚染層を形成した。一方、上記透
明フィルム基材の裏面に、固形分20重量%のアクリル
系の粘着剤溶液を塗布し、150℃で5分間乾燥させ厚
さ100μm、弾性率1.0×10E6 dyn/cm2 の透明
粘着剤層を形成して積層体サンプルを作製した。この
サンプルおよび、サンプルをロールラミネーターに
てPDP前面表示ガラス部に貼合わせたものとを評価用
サンプルとした。評価結果を、表4に示した。 表4か
ら明らかなように、サンプルは電磁波シールド特性、
近赤外線カット性、可視光低反射特性において良好な結
果が得られ、しかも、耐擦傷性が良好で視認性が良く、
薄さ、軽さも兼ね備えたたPDP用前面フィルターを得
ることが出来た。
2と同様の厚さ0.15μmのアンダーコート層を形成
した。このアンダーコート層の上に、金属酸化物膜を形
成するターゲット材料として、In2 O3 ―10重量%
SnO2 を用い、銀系透明導電体膜を形成するターゲッ
ト材料としてAg―3重量%Auを使用した他は実施例
1と同様の方法により積層体を得た。なお、In2 O3
―10重量%SnO2 の屈折率は、2.0であった。上
記アンダーコート層の上に形成される積層体を構成する
各膜厚は、銀系透明導電体膜の各厚さ12nm、最内層
と最外層の金属酸化物膜の厚さ34.4nm、また、中
間に位置する金属酸化物膜の厚さ68.8nmに設定し
た(n=3)。 次に、最外層の金属酸化物膜の面上
に、屈折率が1.55のUV硬化型ハードコート(大日
本インキ化学工業社製、商品名ユニデック17−813
を主成分とする)を、ファンテンリバース法にて塗工
し、300mJ/cm2 で3分間紫外線照射して硬化さ
せ、厚さ5μmのハードコート層を形成した。さらに、
その上に有機フッ素系の反射防止兼防汚染材料(日本合
成ゴム社製、商品名JM5025)をグラビア塗工し、
300mJ/cm2 で3分間紫外線照射して厚さ0.1
5μmの反射防止兼防汚染層を形成した。一方、上記透
明フィルム基材の裏面に、固形分20重量%のアクリル
系の粘着剤溶液を塗布し、150℃で5分間乾燥させ厚
さ100μm、弾性率1.0×10E6 dyn/cm2 の透明
粘着剤層を形成して積層体サンプルを作製した。この
サンプルおよび、サンプルをロールラミネーターに
てPDP前面表示ガラス部に貼合わせたものとを評価用
サンプルとした。評価結果を、表4に示した。 表4か
ら明らかなように、サンプルは電磁波シールド特性、
近赤外線カット性、可視光低反射特性において良好な結
果が得られ、しかも、耐擦傷性が良好で視認性が良く、
薄さ、軽さも兼ね備えたたPDP用前面フィルターを得
ることが出来た。
【0034】
【表4】
【0035】実施例4 厚さ125μmの透明PETフィルムの片面に、実施例
2と同様の厚さ0.15μmのアンダーコート層を形成
した。このアンダーコート層の上に、実施例1同様な作
製方法で、金属酸化物膜と銀系透明導電体膜を1単位と
して、下記の厚さでn単位(n=3)が順次積層され、
最外層に金属酸化物膜が積層された積層体を作製した。各膜の厚さ :32.5/13/65/13/65/13/32.5(nm) 次に、厚さ80μmのトリアセチルセルロース(TA
C)フィルム基材を用意し、片面に厚さ5μmのUV硬
化型HC樹脂(大日本インキ化学工業社製、商品名ユニ
デック15−829を主成分とする)を形成した後、そ
の上へ反射防止特性と防汚染特性を兼ね備えた屈折率
1.36のシリコーン系樹脂層(日産化学社製、商品名
LR201)を厚さ0.2μmに形成した。この反射防
止兼防汚染層の水接触角は104度であった。上記片面
処理TACフィルムの裏面に、厚さ23μmの透明粘着
剤層を形成して、積層体の最外層の金属酸化物膜の表面
に貼合わせた。さらに、上記PET基材の裏面に、固形
分20重量%のアクリル系の粘着剤溶液を塗布し、15
0℃で5分間乾燥させ厚さ100μm、弾性率1.0×
10E6 dyn/cm2 の透明粘着剤層を形成して積層体サン
プルを作製した。このサンプルおよび、サンプル
をロールラミネーターにてPDP前面表示ガラス部に貼
合わせたものとを評価用サンプルとした。評価結果を、
表5に示した。表5から明らかなように、サンプルは
電磁波シールド特性、近赤外線カット性、可視光低反射
特性において良好な結果が得られ、しかも、耐擦傷性が
良好で視認性が良く、薄さ、軽さも兼ね備えたPDP用
前面フィルターを得ることが出来た。
2と同様の厚さ0.15μmのアンダーコート層を形成
した。このアンダーコート層の上に、実施例1同様な作
製方法で、金属酸化物膜と銀系透明導電体膜を1単位と
して、下記の厚さでn単位(n=3)が順次積層され、
最外層に金属酸化物膜が積層された積層体を作製した。各膜の厚さ :32.5/13/65/13/65/13/32.5(nm) 次に、厚さ80μmのトリアセチルセルロース(TA
C)フィルム基材を用意し、片面に厚さ5μmのUV硬
化型HC樹脂(大日本インキ化学工業社製、商品名ユニ
デック15−829を主成分とする)を形成した後、そ
の上へ反射防止特性と防汚染特性を兼ね備えた屈折率
1.36のシリコーン系樹脂層(日産化学社製、商品名
LR201)を厚さ0.2μmに形成した。この反射防
止兼防汚染層の水接触角は104度であった。上記片面
処理TACフィルムの裏面に、厚さ23μmの透明粘着
剤層を形成して、積層体の最外層の金属酸化物膜の表面
に貼合わせた。さらに、上記PET基材の裏面に、固形
分20重量%のアクリル系の粘着剤溶液を塗布し、15
0℃で5分間乾燥させ厚さ100μm、弾性率1.0×
10E6 dyn/cm2 の透明粘着剤層を形成して積層体サン
プルを作製した。このサンプルおよび、サンプル
をロールラミネーターにてPDP前面表示ガラス部に貼
合わせたものとを評価用サンプルとした。評価結果を、
表5に示した。表5から明らかなように、サンプルは
電磁波シールド特性、近赤外線カット性、可視光低反射
特性において良好な結果が得られ、しかも、耐擦傷性が
良好で視認性が良く、薄さ、軽さも兼ね備えたPDP用
前面フィルターを得ることが出来た。
【0036】
【表5】
【0037】実施例5 実施例3で作製した積層体サンプルを、厚さ3mmの
透明アクリル板(三菱レイヨン社製、商品名アクリライ
ト)の片面に貼り、その反対面に3%ヘイズをを持つア
ンチグレア層を塗工した厚さ125μmのPETフィル
ム裏面を透明粘着剤で貼り合わせて、PDP用前面フィ
ルター板の評価用サンプルとした。上記評価用サンプル
の評価結果を表6に示した。表6から明らかなように、
積層体サンプルを透明アクリル板に貼り合わせても、耐
擦傷性が良好で、低抵抗で光学特性良好なPDP用前面
フィルター板を得ることが出来た。
透明アクリル板(三菱レイヨン社製、商品名アクリライ
ト)の片面に貼り、その反対面に3%ヘイズをを持つア
ンチグレア層を塗工した厚さ125μmのPETフィル
ム裏面を透明粘着剤で貼り合わせて、PDP用前面フィ
ルター板の評価用サンプルとした。上記評価用サンプル
の評価結果を表6に示した。表6から明らかなように、
積層体サンプルを透明アクリル板に貼り合わせても、耐
擦傷性が良好で、低抵抗で光学特性良好なPDP用前面
フィルター板を得ることが出来た。
【0038】
【表6】
【0039】
【発明の効果】本発明のPDP用フィルターは、積層体
を構成する金属酸化物膜と銀系透明導電体膜との相互の
厚さ関係を特定の数値に設定することにより、PDPが
必要とする電磁波シールド特性、近赤外線カット特性、
可視光低反射特性等の諸特性を、比較的簡単な積層構成
で同時に満足させると共に、しかも視認性が良く、軽
量、薄型のフィルターを提供することができる。また、
本発明は、このPDP用フィルターを備えた光学特性の
優れたPDP表示装置を提供することができる。
を構成する金属酸化物膜と銀系透明導電体膜との相互の
厚さ関係を特定の数値に設定することにより、PDPが
必要とする電磁波シールド特性、近赤外線カット特性、
可視光低反射特性等の諸特性を、比較的簡単な積層構成
で同時に満足させると共に、しかも視認性が良く、軽
量、薄型のフィルターを提供することができる。また、
本発明は、このPDP用フィルターを備えた光学特性の
優れたPDP表示装置を提供することができる。
【0040】
【図1】図1は、本発明のプラズマディスプレイパネル
用フィルターの一実施態様の概略を示す断面図である。
用フィルターの一実施態様の概略を示す断面図である。
【図2】図2は、本発明のプラズマディスプレイパネル
用フィルターの他の実施態様の概略を示す断面図であ
る。
用フィルターの他の実施態様の概略を示す断面図であ
る。
【図3】図3は、本発明の実施例1で得られたフィルタ
ーの光透過率を示す光学測定チャートである。
ーの光透過率を示す光学測定チャートである。
【図4】図4は、本発明の実施例1で得られたフィルタ
ーの光反射率を示す光学測定チャートである。
ーの光反射率を示す光学測定チャートである。
【図5】図5は、比較例1で得られたフィルターの光透
過率を示す光学測定チャートである。
過率を示す光学測定チャートである。
【図6】図6は、比較例1で得られたフィルターの光反
射率を示す光学測定チャートである。
射率を示す光学測定チャートである。
1,11:透明フィルム基材 2A,2B,2C,2D:金属酸化物膜 3A,3B,3C:銀系透明導電体膜 4:ハードコート層 5:反射防止兼防汚染層 6,61:透明粘着剤層 7:反射防止層 8:防汚染層 9:アンダーコート層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H05K 9/00 G02B 1/10
Claims (11)
- 【請求項1】 透明フィルム基材の表面に、金属酸化物
膜と銀系透明導電体膜を1単位としてn単位(3≦n≦
10)が順次積層され、最外層に金属酸化物膜が形成さ
れている積層体であって、金属酸化物膜は屈折率が1.
5〜2.7の光学的透明性を有する膜であり、銀系透明
導電体膜は厚さ5〜20nmの範囲内で略一定の値に設
定されており、且つ該基材表面の金属酸化物膜と最外層
の金属酸化物膜の各厚さが、銀系透明導電体膜の厚さの
5/2(1±0.15)倍であり、それ以外の中間に位
置する金属酸化物膜の各厚さが、銀系透明導電体膜の厚
さの5(1±0.15)倍であることを特徴とするプラ
ズマディスプレイパネル用フィルター。 - 【請求項2】 金属酸化物膜が、酸化インジウム、酸化
錫、二酸化チタン、酸化セリウム、酸化ジルコニウム、
酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化タンタル、五酸化ニ
オブ、硫化亜鉛よりなる群から選ばれる1又は2以上の
化合物からなる薄膜である請求項1記載のプラズマディ
スプレイパネル用フィルター。 - 【請求項3】 銀系透明導電体膜が、90重量%以上の
銀と、金、銅、パラジュウム、白金、マンガン、カドニ
ウムから選択された1つまたは2つ以上の元素により構
成された薄膜である請求項1記載のプラズマディスプレ
イパネル用フィルター。 - 【請求項4】 最外層の金属酸化物膜の表面に、ハード
コート層が形成されている請求項1記載のプラズマディ
スプレイパネル用フィルター。 - 【請求項5】 ハードコート層が、屈折率1.45以
下、厚さ0.05〜10μm、水接触角90度以上の塗
工膜である請求項4記載のプラズマディスプレイパネル
用フィルター。 - 【請求項6】 ハードコート層の上面に、厚さ0.00
1〜1μmの反射防止兼防汚染層がさらに形成されてい
る請求項4記載のプラズマディスプレイパネル用フィル
ター。 - 【請求項7】 最外層の金属酸化物膜の表面に、別の透
明フィルム基材の片面にハードコート層、反射防止層、
防汚染層を形成したフィルムを用意し、そのフィルムを
他面に形成した透明粘着剤層を介して貼合わせてなる請
求項1記載のプラズマディスプレイパネル用フィルタ
ー。 - 【請求項8】 透明フィルム基材の表面とその表面に設
けられる金属酸化物膜の間に、屈折率が1.5以下で厚
さが0.05〜1μmのアンダーコート層が形成されて
いる請求項1記載のプラズマディスプレイパネル用フィ
ルター。 - 【請求項9】 透明フィルム基材の裏面に、厚さ10〜
500μmの透明粘着剤層が形成されている請求項1記
載のプラズマディスプレイパネル用フィルター。 - 【請求項10】 プラズマディスプレイパネルの前面表
示ガラス部に、請求項9記載のフィルターを透明粘着剤
層を介して貼り合わせてなるプラズマディスプレイパネ
ル表示装置。 - 【請求項11】 プラズマディスプレイパネルの前面側
に空気層を介して設置される透明成形体のプラズマディ
スプレイパネル側と逆の面に、請求項9記載のフィルタ
ーを透明粘着剤層を介して貼り合わせてなるプラズマデ
ィスプレイパネル表示装置。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27304398A JP3898357B2 (ja) | 1998-09-28 | 1998-09-28 | プラズマディスプレイパネル用フィルター |
US09/404,709 US6333592B1 (en) | 1998-09-28 | 1999-09-24 | Filter for plasma display panel |
DE69922605T DE69922605T2 (de) | 1998-09-28 | 1999-09-28 | Filter für Plasmaanzeigetafel |
EP99119251A EP0990928B1 (en) | 1998-09-28 | 1999-09-28 | Filter for plasma display panel |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27304398A JP3898357B2 (ja) | 1998-09-28 | 1998-09-28 | プラズマディスプレイパネル用フィルター |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000098131A true JP2000098131A (ja) | 2000-04-07 |
JP3898357B2 JP3898357B2 (ja) | 2007-03-28 |
Family
ID=17522378
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP27304398A Expired - Fee Related JP3898357B2 (ja) | 1998-09-28 | 1998-09-28 | プラズマディスプレイパネル用フィルター |
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Country | Link |
---|---|
US (1) | US6333592B1 (ja) |
EP (1) | EP0990928B1 (ja) |
JP (1) | JP3898357B2 (ja) |
DE (1) | DE69922605T2 (ja) |
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WO2019003733A1 (ja) * | 2017-06-26 | 2019-01-03 | 日東電工株式会社 | 赤外線反射基板 |
JP2020095261A (ja) * | 2018-11-29 | 2020-06-18 | 東レ株式会社 | フィルム |
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