JPH1164603A - 反射防止膜と反射防止膜付き基材、および該反射防止膜付き基材を用いたプラズマディスプレイパネル前面板 - Google Patents
反射防止膜と反射防止膜付き基材、および該反射防止膜付き基材を用いたプラズマディスプレイパネル前面板Info
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- JPH1164603A JPH1164603A JP9235486A JP23548697A JPH1164603A JP H1164603 A JPH1164603 A JP H1164603A JP 9235486 A JP9235486 A JP 9235486A JP 23548697 A JP23548697 A JP 23548697A JP H1164603 A JPH1164603 A JP H1164603A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 反射防止、電磁波カット、赤外線カットの点
で優れ、且つＰＤＰの発光色を所定の透過率で透過させ
画面表示できるＰＤＰ前面板を提供する。 【解決手段】 ２層以上の薄膜を積層してなり、１層以
上の金属層を含むことを特徴とする反射防止膜で、金属
層が金属酸化物層に挟まれている。該反射防止膜は、基
材上に形成されるもので、基材側から、低屈折率層、高
屈折率層、金属層、高屈析率層、低屈折率層の順番で形
成されている。
で優れ、且つＰＤＰの発光色を所定の透過率で透過させ
画面表示できるＰＤＰ前面板を提供する。 【解決手段】 ２層以上の薄膜を積層してなり、１層以
上の金属層を含むことを特徴とする反射防止膜で、金属
層が金属酸化物層に挟まれている。該反射防止膜は、基
材上に形成されるもので、基材側から、低屈折率層、高
屈折率層、金属層、高屈析率層、低屈折率層の順番で形
成されている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、反射防止膜、該反
射防止膜を付けた基材、及び該反射防止膜を付けた基材
を用いたプラズマディスプレイパネル前面板（以下ＰＤ
Ｐ前面板とも言う）に関するもので、特に、多重干渉効
果に加え電磁波シールド効果を備えたものに関する。
射防止膜を付けた基材、及び該反射防止膜を付けた基材
を用いたプラズマディスプレイパネル前面板（以下ＰＤ
Ｐ前面板とも言う）に関するもので、特に、多重干渉効
果に加え電磁波シールド効果を備えたものに関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、プラズマディスプレイパネル（以
下ＰＤＰとも記す）は、その奥行きの薄いこと、軽量で
あることから種々の表示装置に利用されつつある。ＰＤ
Ｐを用いた映像装置では、表示面が平面であるため、外
光が差し込んだ際に広い範囲で反射した光が同時に目に
入り画面が見にくくなる場合があり、外光の反射防止が
必要である。また、ＰＤＰの発光はプラズマ放電を利用
しているので不要な電磁波を外部に漏洩する。その周波
数成分は３０ＭＨｚ〜１３０ＭＨｚの帯域にわたる。し
たがって、他の機器（例えば情報処理装置等）へ弊害を
与えないよう電磁波は極力抑制する必要がある。また、
近赤外線の波長はリモートコントロール装置あるいは光
通信等で使用される赤外線の波長領域に近いため、これ
らの機器、装置をＰＤＰの近傍で動作させた場合に正常
な動作を阻害するおそれがある。更に、ＰＤＰの発光を
所定の透過率で透過させ画面表示する必要もある。
下ＰＤＰとも記す）は、その奥行きの薄いこと、軽量で
あることから種々の表示装置に利用されつつある。ＰＤ
Ｐを用いた映像装置では、表示面が平面であるため、外
光が差し込んだ際に広い範囲で反射した光が同時に目に
入り画面が見にくくなる場合があり、外光の反射防止が
必要である。また、ＰＤＰの発光はプラズマ放電を利用
しているので不要な電磁波を外部に漏洩する。その周波
数成分は３０ＭＨｚ〜１３０ＭＨｚの帯域にわたる。し
たがって、他の機器（例えば情報処理装置等）へ弊害を
与えないよう電磁波は極力抑制する必要がある。また、
近赤外線の波長はリモートコントロール装置あるいは光
通信等で使用される赤外線の波長領域に近いため、これ
らの機器、装置をＰＤＰの近傍で動作させた場合に正常
な動作を阻害するおそれがある。更に、ＰＤＰの発光を
所定の透過率で透過させ画面表示する必要もある。
【０００３】ＰＤＰにおいては、従来、反射防止、電磁
波カット、赤外線カットの方法としては、アクリル板に
反射防止、電磁波カット、赤外線カットの各種機能を有
するフィルムを貼り、これをＰＤＰ前面に置きこれらに
対応していた。即ち、反射防止としてのＡＲ（Ａｎｔｉ
−Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）フィルム、電磁波カットとし
ての銀蒸着フィルム、赤外線カットとしての赤外線反射
フィルムをアクリル板に併せて貼り対応していた。尚、
このようなＰＤＰの前面に置く板を以降はＰＤＰ前面板
と呼ぶ。しかし、この方法では、電磁波カットとして銀
蒸着フィルムを用いるため、結果として反射率が高くな
ってしまうという問題があった。
波カット、赤外線カットの方法としては、アクリル板に
反射防止、電磁波カット、赤外線カットの各種機能を有
するフィルムを貼り、これをＰＤＰ前面に置きこれらに
対応していた。即ち、反射防止としてのＡＲ（Ａｎｔｉ
−Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）フィルム、電磁波カットとし
ての銀蒸着フィルム、赤外線カットとしての赤外線反射
フィルムをアクリル板に併せて貼り対応していた。尚、
このようなＰＤＰの前面に置く板を以降はＰＤＰ前面板
と呼ぶ。しかし、この方法では、電磁波カットとして銀
蒸着フィルムを用いるため、結果として反射率が高くな
ってしまうという問題があった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上記のように、ＰＤＰ
においては、ＰＤＰ前面板として、反射防止、電磁波カ
ット、赤外線カットの点で優れ、且つＰＤＰの発光色を
所定の透過率で透過させ画面表示できるものが求められ
ていた。本発明は、このような状況のもと、反射防止、
電磁波カット、赤外線カットの点で優れ、且つＰＤＰの
発光色を所定の透過率で透過させ画面表示できるＰＤＰ
前面板を提供しようとするものである。
においては、ＰＤＰ前面板として、反射防止、電磁波カ
ット、赤外線カットの点で優れ、且つＰＤＰの発光色を
所定の透過率で透過させ画面表示できるものが求められ
ていた。本発明は、このような状況のもと、反射防止、
電磁波カット、赤外線カットの点で優れ、且つＰＤＰの
発光色を所定の透過率で透過させ画面表示できるＰＤＰ
前面板を提供しようとするものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明の反射防止膜は、
２層以上の薄膜を積層してなり、１層以上の金属層を含
むことを特徴とするものである。そして、上記金属層が
金属酸化物層に挟まれていることを特徴とするものであ
る。そしてまた、上記反射防止膜は、基材上に形成され
るもので、基材側から、低屈折率層、高屈折率層、金属
層、高屈析率層、低屈折率層の順番で形成されているこ
とを特徴とするものであり、低屈折率層は珪素酸化物で
あり、高屈折率層はＺｒＯ２、ＺｎＯ、ＴｉＯ２、Ｓｂ
２０５、ＳｎＯ２、ＩＴＯ、ＣｅＯ２、ＨｆＯ２から選
ばれたものであり、金属層は金、銀、銅のいずれかであ
ることを特徴とするものである。また、上記反射防止膜
の基材側の珪素酸化物がＳｉＯｘで、１．５≦ｘ≦１．
９であることを特徴とするものである。そしてまた、上
記反射防止膜は基材上に形成されるもので、基材側から
順に、低屈折率層、高屈折率層、金属層、高屈折率層、
低屈折率層の膜厚ｄ１、ｄ２、ｄ３、ｄ４、ｄ５を、そ
れぞれ、 １１０ｎｍ≦ｄ１≦１４０ｎｍ ２０ｎｍ≦ｄ２≦４０ｎｍ ５ｎｍ≦ｄ３≦１５ｎｍ １２０ｎｍ≦ｄ４≦１６０ｎｍ ８０ｎｍ≦ｄ５≦１００ｎｍ とすることを特徴とするものである。また、上記反射防
止膜が２０ＭＨｚ〜１００００ＭＨｚの周波数範囲の電
磁波に対する減衰率を２０デシベル以上としたことを特
徴とするものである。また、上記において、９００ｎｍ
〜１１００ｎｍの範囲の波長を有する近赤外線に対する
反射率を４０％以上としたことを特徴とするものであ
る。また、上記において、４５０ｎｍ〜６５０ｎｍの範
囲の波長を有する可視光線に対する反射率を２％以下と
したことを特徴とするものである。また、上記におい
て、４５０ｎｍ〜６５０ｎｍの範囲の波長を有する可視
光線に対する透過率を６０％以上としたことを特徴とす
るものである。また、上記において、４５０ｎｍ〜６５
０ｎｍの範囲の波長を有する可視光線に対する吸収を１
０％以下としたことを特徴とするものである。更に、上
記反射防止膜の、少なくとも一方の表面には、撥水、撥
油性コーティング（防汚コーティング）がなされている
ことを特徴とするものであり、該撥水、撥油性コーティ
ングがフツ素化アルキルシリル化合物からなることを特
徴とするものである。防汚コーティングとしてはシロキ
サン系、フッ素系防汚コーティングを用いることができ
る。高い防汚性能と隣接する珪素酸化物層との密着性を
高めるため、パーフルオロアルキルシリル化合物を用い
ることがさらに望ましい。
２層以上の薄膜を積層してなり、１層以上の金属層を含
むことを特徴とするものである。そして、上記金属層が
金属酸化物層に挟まれていることを特徴とするものであ
る。そしてまた、上記反射防止膜は、基材上に形成され
るもので、基材側から、低屈折率層、高屈折率層、金属
層、高屈析率層、低屈折率層の順番で形成されているこ
とを特徴とするものであり、低屈折率層は珪素酸化物で
あり、高屈折率層はＺｒＯ２、ＺｎＯ、ＴｉＯ２、Ｓｂ
２０５、ＳｎＯ２、ＩＴＯ、ＣｅＯ２、ＨｆＯ２から選
ばれたものであり、金属層は金、銀、銅のいずれかであ
ることを特徴とするものである。また、上記反射防止膜
の基材側の珪素酸化物がＳｉＯｘで、１．５≦ｘ≦１．
９であることを特徴とするものである。そしてまた、上
記反射防止膜は基材上に形成されるもので、基材側から
順に、低屈折率層、高屈折率層、金属層、高屈折率層、
低屈折率層の膜厚ｄ１、ｄ２、ｄ３、ｄ４、ｄ５を、そ
れぞれ、 １１０ｎｍ≦ｄ１≦１４０ｎｍ ２０ｎｍ≦ｄ２≦４０ｎｍ ５ｎｍ≦ｄ３≦１５ｎｍ １２０ｎｍ≦ｄ４≦１６０ｎｍ ８０ｎｍ≦ｄ５≦１００ｎｍ とすることを特徴とするものである。また、上記反射防
止膜が２０ＭＨｚ〜１００００ＭＨｚの周波数範囲の電
磁波に対する減衰率を２０デシベル以上としたことを特
徴とするものである。また、上記において、９００ｎｍ
〜１１００ｎｍの範囲の波長を有する近赤外線に対する
反射率を４０％以上としたことを特徴とするものであ
る。また、上記において、４５０ｎｍ〜６５０ｎｍの範
囲の波長を有する可視光線に対する反射率を２％以下と
したことを特徴とするものである。また、上記におい
て、４５０ｎｍ〜６５０ｎｍの範囲の波長を有する可視
光線に対する透過率を６０％以上としたことを特徴とす
るものである。また、上記において、４５０ｎｍ〜６５
０ｎｍの範囲の波長を有する可視光線に対する吸収を１
０％以下としたことを特徴とするものである。更に、上
記反射防止膜の、少なくとも一方の表面には、撥水、撥
油性コーティング（防汚コーティング）がなされている
ことを特徴とするものであり、該撥水、撥油性コーティ
ングがフツ素化アルキルシリル化合物からなることを特
徴とするものである。防汚コーティングとしてはシロキ
サン系、フッ素系防汚コーティングを用いることができ
る。高い防汚性能と隣接する珪素酸化物層との密着性を
高めるため、パーフルオロアルキルシリル化合物を用い
ることがさらに望ましい。
【０００６】本発明の反射防止膜付き基材は、上記本発
明の反射防止膜が透明基材上に形成されていることを特
徴とするものである。そして、上記において、反射防止
膜が透明基材上に１層以上の他の層を介して形成されて
いることを特徴とするものであり、他の層のうちの１つ
がハードコート層であることを特徴とするものである。
また、上記において、透明基材がプラスチツクフィルム
であることを特徴とするものである。また、上記プラス
チツクフィルムがＰＥＴであることを特徴とするもので
ある。また、上記反射防止膜付き基材のプラスチックフ
ィルムの反射防止膜側でない面に粘着剤が塗布されて、
さらにその上に保護フィルムがラミネートされているこ
とを特徴とするものである。
明の反射防止膜が透明基材上に形成されていることを特
徴とするものである。そして、上記において、反射防止
膜が透明基材上に１層以上の他の層を介して形成されて
いることを特徴とするものであり、他の層のうちの１つ
がハードコート層であることを特徴とするものである。
また、上記において、透明基材がプラスチツクフィルム
であることを特徴とするものである。また、上記プラス
チツクフィルムがＰＥＴであることを特徴とするもので
ある。また、上記反射防止膜付き基材のプラスチックフ
ィルムの反射防止膜側でない面に粘着剤が塗布されて、
さらにその上に保護フィルムがラミネートされているこ
とを特徴とするものである。
【０００７】本発明のプラズマディスプレイパネル前面
板（ＰＤＰ前面板）は、上記本発明の反射防止膜付き基
材をガラス板にラミネートされてなることを特徴とする
ものであり、上記本発明の反射防止膜付き基材をアクリ
ル板にラミネートされてなることを特徴とするものてあ
る。そして、上記ＰＤＰ前面板の金属層の全周面におい
て該金属層と電気接触している接続手段を備えているこ
とを特徴とするものである。
板（ＰＤＰ前面板）は、上記本発明の反射防止膜付き基
材をガラス板にラミネートされてなることを特徴とする
ものであり、上記本発明の反射防止膜付き基材をアクリ
ル板にラミネートされてなることを特徴とするものてあ
る。そして、上記ＰＤＰ前面板の金属層の全周面におい
て該金属層と電気接触している接続手段を備えているこ
とを特徴とするものである。
【０００８】
【作用】本発明の反射防止膜は、このような構成にする
ことにより、反射防止、電磁波カット、赤外線カットの
点で優れた反射防止膜の提供を可能としており、本発明
の反射防止膜付き基材は、このような構成にすることに
より、反射防止、電磁波カット、赤外線カットの点で優
れた反射防止膜付き基材の提供を可能としている。具体
的には、反射防止膜は基材上に形成されるもので、２層
以上の薄膜を積層してなり、１層以上の金属層を含み、
金属層が金属酸化物層に挟まれており、基材側から、低
屈折率層、高屈折率層、金属層、高屈析率層、低屈折率
層の順番で形成されており、且つ低屈折率層は珪素酸化
物であり、高屈折率層はＺｒＯ２、ＺｎＯ、ＴｉＯ２、
Ｓｂ２０５、ＳｎＯ２、ＩＴＯ、ＣｅＯ２、ＨｆＯ２か
ら選ばれたものであり、金属層は金、銀、銅のいずれか
であり、基材側から順に、低屈折率層、高屈折率層、金
属層、高屈折率層、低屈折率層の膜厚ｄ１、ｄ２、ｄ
３、ｄ４、ｄ５を、それぞれ、 １１０ｎｍ≦ｄ１≦１４０ｎｍ ２０ｎｍ≦ｄ２≦４０ｎｍ ５ｎｍ≦ｄ３≦１５ｎｍ １２０ｎｍ≦ｄ４≦１６０ｎｍ ８０ｎｍ≦ｄ５≦１００ｎｍ とすることにより、これを達成している。即ち、金属層
を設けていることにより、高い導電性（電磁波遮蔽効
果）を確保しながら、反射を抑えることを可能としてい
る。また、多重干渉効果、金属層のプラズマ周波数以下
の光（赤外線）を反射する効果を組合せることにより、
９００ｎｍ〜１１００ｎｍの近赤外線線を反射する。
ことにより、反射防止、電磁波カット、赤外線カットの
点で優れた反射防止膜の提供を可能としており、本発明
の反射防止膜付き基材は、このような構成にすることに
より、反射防止、電磁波カット、赤外線カットの点で優
れた反射防止膜付き基材の提供を可能としている。具体
的には、反射防止膜は基材上に形成されるもので、２層
以上の薄膜を積層してなり、１層以上の金属層を含み、
金属層が金属酸化物層に挟まれており、基材側から、低
屈折率層、高屈折率層、金属層、高屈析率層、低屈折率
層の順番で形成されており、且つ低屈折率層は珪素酸化
物であり、高屈折率層はＺｒＯ２、ＺｎＯ、ＴｉＯ２、
Ｓｂ２０５、ＳｎＯ２、ＩＴＯ、ＣｅＯ２、ＨｆＯ２か
ら選ばれたものであり、金属層は金、銀、銅のいずれか
であり、基材側から順に、低屈折率層、高屈折率層、金
属層、高屈折率層、低屈折率層の膜厚ｄ１、ｄ２、ｄ
３、ｄ４、ｄ５を、それぞれ、 １１０ｎｍ≦ｄ１≦１４０ｎｍ ２０ｎｍ≦ｄ２≦４０ｎｍ ５ｎｍ≦ｄ３≦１５ｎｍ １２０ｎｍ≦ｄ４≦１６０ｎｍ ８０ｎｍ≦ｄ５≦１００ｎｍ とすることにより、これを達成している。即ち、金属層
を設けていることにより、高い導電性（電磁波遮蔽効
果）を確保しながら、反射を抑えることを可能としてい
る。また、多重干渉効果、金属層のプラズマ周波数以下
の光（赤外線）を反射する効果を組合せることにより、
９００ｎｍ〜１１００ｎｍの近赤外線線を反射する。
【０００９】また、２０ＭＨｚ〜１００００ＭＨｚの周
波数範囲の電磁波に対する減衰率を２０デシベル以上と
したことにより、ＰＤＰ前面板用の電磁波シールドばか
りでなく、広い範囲の電磁波シールドに用いられるもの
としている。同様に、９００ｎｍ〜１１００ｎｍの範囲
の波長を有する近赤外線に対する反射率を４０％以上、
４５０ｎｍ〜６５０ｎｍの範囲の波長を有する可視光線
に対する反射率を２％以下、４５０ｎｍ〜６５０ｎｍの
範囲の波長を有する可視光線に対する透過率を６０％以
上、４５０ｎｍ〜６５０ｎｍの範囲の波長を有する可視
光線に対する吸収を１０％以下であることにより、ＰＤ
Ｐ前面板への適用ができるかりでなく、広い範囲での適
用が可能である。
波数範囲の電磁波に対する減衰率を２０デシベル以上と
したことにより、ＰＤＰ前面板用の電磁波シールドばか
りでなく、広い範囲の電磁波シールドに用いられるもの
としている。同様に、９００ｎｍ〜１１００ｎｍの範囲
の波長を有する近赤外線に対する反射率を４０％以上、
４５０ｎｍ〜６５０ｎｍの範囲の波長を有する可視光線
に対する反射率を２％以下、４５０ｎｍ〜６５０ｎｍの
範囲の波長を有する可視光線に対する透過率を６０％以
上、４５０ｎｍ〜６５０ｎｍの範囲の波長を有する可視
光線に対する吸収を１０％以下であることにより、ＰＤ
Ｐ前面板への適用ができるかりでなく、広い範囲での適
用が可能である。
【００１０】本発明のプラズマディスプレイパネル前面
板（ＰＤＰ前面板）は、このような構成にすることによ
り、反射防止、電磁波カット、赤外線カットの点で優
れ、且つＰＤＰの発光色を所定の透過率で透過させ画面
表示できるＰＤＰ前面板の提供を容易に可能としてい
る。即ち、ガラス、ポリアクリル系樹脂、ポリカーボネ
ート樹脂基板等の透明基板に、プラスチックフィルムを
基材とした上記本発明の反射防止膜付き基材をラミネー
トして、ＰＤＰ前面板として用いることを可能としてい
る。
板（ＰＤＰ前面板）は、このような構成にすることによ
り、反射防止、電磁波カット、赤外線カットの点で優
れ、且つＰＤＰの発光色を所定の透過率で透過させ画面
表示できるＰＤＰ前面板の提供を容易に可能としてい
る。即ち、ガラス、ポリアクリル系樹脂、ポリカーボネ
ート樹脂基板等の透明基板に、プラスチックフィルムを
基材とした上記本発明の反射防止膜付き基材をラミネー
トして、ＰＤＰ前面板として用いることを可能としてい
る。
【００１１】
【実施の形態】本発明の反射防止膜と反射防止膜を付き
基材の実施の形態の１例を図に基づいて説明する。図１
（ａ）は、本発明の反射防止膜と、該反射防止膜を用い
た反射防止膜付き基材の断面図の一部であり、図１
（ｂ）はその平面図で、図１（ｃ）は、図１（ａ）に示
す反射防止膜付き基材の変形例の断面図の一部である。
図１中、１００、１００Ａは反射防止膜付き基材、１１
０は反射防止膜、１１１は低屈折率層、１１２は高屈折
率層、１１３金属層、１１４は高屈折率層、１１５は低
屈折率層、１２０は基材、１３０はハードコート層、１
５０は反射防止面、１５５は電極面（Ａｇ面）、１６０
は粘着剤、１７０は保護層である。図１に示す反射防止
層１１０は、５層の薄膜（１１１〜１１５）を積層して
なり、１層の金属層１１３を含んでいる。そして、薄膜
１１１、１１２、１１４、１１５は金属酸化物層からな
り、金属層１１３がこれらの金属酸化物層に挟まれてい
る。図１（ａ）に示す反射防止膜１１０は、基材１２０
上にハードコート層１３０を介して形成されており、反
射防止膜１１０は、基材１２０側から、低屈折率層１１
１、高屈折率層１１２、金属層１１３、高屈析率層１１
４、低屈折率層１１５の順に設けている。
基材の実施の形態の１例を図に基づいて説明する。図１
（ａ）は、本発明の反射防止膜と、該反射防止膜を用い
た反射防止膜付き基材の断面図の一部であり、図１
（ｂ）はその平面図で、図１（ｃ）は、図１（ａ）に示
す反射防止膜付き基材の変形例の断面図の一部である。
図１中、１００、１００Ａは反射防止膜付き基材、１１
０は反射防止膜、１１１は低屈折率層、１１２は高屈折
率層、１１３金属層、１１４は高屈折率層、１１５は低
屈折率層、１２０は基材、１３０はハードコート層、１
５０は反射防止面、１５５は電極面（Ａｇ面）、１６０
は粘着剤、１７０は保護層である。図１に示す反射防止
層１１０は、５層の薄膜（１１１〜１１５）を積層して
なり、１層の金属層１１３を含んでいる。そして、薄膜
１１１、１１２、１１４、１１５は金属酸化物層からな
り、金属層１１３がこれらの金属酸化物層に挟まれてい
る。図１（ａ）に示す反射防止膜１１０は、基材１２０
上にハードコート層１３０を介して形成されており、反
射防止膜１１０は、基材１２０側から、低屈折率層１１
１、高屈折率層１１２、金属層１１３、高屈析率層１１
４、低屈折率層１１５の順に設けている。
【００１２】電磁波を効果的に遮蔽するための金属層１
１３の厚さは５ｎｍ以上とすることが望ましい。また可
視光の透過率を確保（吸収を抑える、または，反射率を
広い範囲に渡って提言する）するため金属層の厚さは１
５ｎｍ以下にすることが望ましい。広範囲の可視光の反
射率を効果的に低減させるため、近赤外線を効果的に反
射させるため金属酸化物の層構成を上記のようにするこ
とが望ましい。金属層１１３としては導電性に優れた
金、銀、銅が望ましい。低屈折率層１１２および１１４
は屈折率が比較的低く、耐擦傷性に優れた珪素酸化物が
望ましい。さらに、反射防止層と基材の密着性を高める
ため基材側の硅素酸化物の酸化数は１．５〜１．９が望
ましい。さらに望ましくは１．７〜１．８が望ましい。
高屈折率層１１１および１１５は低屈折率層１１２ない
し１１４との屈折率差が大きく耐候性に優れた、ＺｎＯ
（屈折率１．９０）、ＴｉＯ２（屈折率２．３〜２．
７）、ＣｅＯ２（屈折率１．９５）、Ｓｂ２Ｏ５（屈折
率１．７１）、ＳｎＯ２、ＩＴＯ（屈折率１．９５）、
Ｙ２Ｏ３（屈折率１．８７）、Ｌａ２Ｏ３（屈折率１．
９５）、ＺｒＯ２（屈折率２．０５）が望ましい。広範
囲の可視光の反射率を効果的に低減させるため、近赤外
線を効果的に反射させるため、反射防止膜１１０として
は、低屈折率層１１１、高屈折率層１１２、金属層１１
３、高屈折率層１１４、低屈折率層１１５の膜厚をそれ
ぞれｄ１、ｄ２、ｄ３、ｄ４、ｄ５とすると、 １１０ｎｍ≦ｄ１≦１４０ｎｍ ２０ｎｍ≦ｄ２≦４０ｎｍ ５ｎｍ≦ｄ３≦１５ｎｍ １２０ｎｍ≦ｄ４≦１６０ｎｍ ８０ｎｍ≦ｄ５≦１００ｎｍ であることが望ましい。
１３の厚さは５ｎｍ以上とすることが望ましい。また可
視光の透過率を確保（吸収を抑える、または，反射率を
広い範囲に渡って提言する）するため金属層の厚さは１
５ｎｍ以下にすることが望ましい。広範囲の可視光の反
射率を効果的に低減させるため、近赤外線を効果的に反
射させるため金属酸化物の層構成を上記のようにするこ
とが望ましい。金属層１１３としては導電性に優れた
金、銀、銅が望ましい。低屈折率層１１２および１１４
は屈折率が比較的低く、耐擦傷性に優れた珪素酸化物が
望ましい。さらに、反射防止層と基材の密着性を高める
ため基材側の硅素酸化物の酸化数は１．５〜１．９が望
ましい。さらに望ましくは１．７〜１．８が望ましい。
高屈折率層１１１および１１５は低屈折率層１１２ない
し１１４との屈折率差が大きく耐候性に優れた、ＺｎＯ
（屈折率１．９０）、ＴｉＯ２（屈折率２．３〜２．
７）、ＣｅＯ２（屈折率１．９５）、Ｓｂ２Ｏ５（屈折
率１．７１）、ＳｎＯ２、ＩＴＯ（屈折率１．９５）、
Ｙ２Ｏ３（屈折率１．８７）、Ｌａ２Ｏ３（屈折率１．
９５）、ＺｒＯ２（屈折率２．０５）が望ましい。広範
囲の可視光の反射率を効果的に低減させるため、近赤外
線を効果的に反射させるため、反射防止膜１１０として
は、低屈折率層１１１、高屈折率層１１２、金属層１１
３、高屈折率層１１４、低屈折率層１１５の膜厚をそれ
ぞれｄ１、ｄ２、ｄ３、ｄ４、ｄ５とすると、 １１０ｎｍ≦ｄ１≦１４０ｎｍ ２０ｎｍ≦ｄ２≦４０ｎｍ ５ｎｍ≦ｄ３≦１５ｎｍ １２０ｎｍ≦ｄ４≦１６０ｎｍ ８０ｎｍ≦ｄ５≦１００ｎｍ であることが望ましい。
【００１３】ハードコート層１３０としては、ＤＰＨ
Ａ、ＴＭＰＴＡ、ＰＥＴＡ等のポリエステルアクリレー
ト、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート等の
多官能アクリレートを熱硬化、または電離放射線により
硬化させて形成することができる。尚、ここでは、「ハ
ード性能を有する」或いは「ハードコート」とは、ＪＩ
ＳＫ５４００で示される鉛筆硬度試験で、Ｈ以上の硬度
を示すものをいう。
Ａ、ＴＭＰＴＡ、ＰＥＴＡ等のポリエステルアクリレー
ト、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート等の
多官能アクリレートを熱硬化、または電離放射線により
硬化させて形成することができる。尚、ここでは、「ハ
ード性能を有する」或いは「ハードコート」とは、ＪＩ
ＳＫ５４００で示される鉛筆硬度試験で、Ｈ以上の硬度
を示すものをいう。
【００１４】基材１２０としては、透明なもの（透明基
材）が一般には用いられる。透明基材としてのプラスチ
ックフィルムは、トリアセチルセルロースフィルム、ジ
アセチルセルロースフィルム、アセテートブチレートセ
ルロースフィルム、ポリエーテルサルホンフィルム、ポ
リアクリル系樹脂フィルム、ポリウレタン系樹脂フィル
ム、ポリエステルフィルム、ポリカーボネートフィル
ム、，ポリスルホンフィルム、ポリエーテルフィルム、
トリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィ
ルム、（メタ）アクリロニトリルフィルム等が使用でき
るが、特に、二軸延伸ポリエステルが透明性、耐久性に
優れている点で好通に用いられる。その厚みは、通常は
８μｍ〜１０００μｍ程度のものが好適に用いられる。
透明基材としての透明基板は、ガラス、ポリアクリル系
樹脂、ポリカーボネート樹脂基板が好適に用いられる。
材）が一般には用いられる。透明基材としてのプラスチ
ックフィルムは、トリアセチルセルロースフィルム、ジ
アセチルセルロースフィルム、アセテートブチレートセ
ルロースフィルム、ポリエーテルサルホンフィルム、ポ
リアクリル系樹脂フィルム、ポリウレタン系樹脂フィル
ム、ポリエステルフィルム、ポリカーボネートフィル
ム、，ポリスルホンフィルム、ポリエーテルフィルム、
トリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィ
ルム、（メタ）アクリロニトリルフィルム等が使用でき
るが、特に、二軸延伸ポリエステルが透明性、耐久性に
優れている点で好通に用いられる。その厚みは、通常は
８μｍ〜１０００μｍ程度のものが好適に用いられる。
透明基材としての透明基板は、ガラス、ポリアクリル系
樹脂、ポリカーボネート樹脂基板が好適に用いられる。
【００１５】次に、反射防止膜付き基材１００の変形例
を挙げる。反射防止膜付き基材１００Ａは、図１（ｃ）
に示すように、図１（ａ）に示すものに対し、反射防止
膜１１０側でない基材１２０の片面に粘着剤１６０を塗
布し、更にその上に保護層１７０をラミネートしたもの
である。
を挙げる。反射防止膜付き基材１００Ａは、図１（ｃ）
に示すように、図１（ａ）に示すものに対し、反射防止
膜１１０側でない基材１２０の片面に粘着剤１６０を塗
布し、更にその上に保護層１７０をラミネートしたもの
である。
【００１６】尚、後述するＰＤＰ前面板に反射防止膜付
き基材１００が用いられる場合には、その外観は図１
（ｂ）に示すように、反射防止面１５０の外周囲は金属
層と電気的に接続する電極面（Ａｇ）面１５５を備えて
いる。反射防止膜１１０、反射防止膜付き基材１００の
用途は特にＰＤＰ前面板には限定されなく、また、反射
防止膜１１０の層構成、反射防止膜付き基材１００の構
成も、上記に限定されることはない。
き基材１００が用いられる場合には、その外観は図１
（ｂ）に示すように、反射防止面１５０の外周囲は金属
層と電気的に接続する電極面（Ａｇ）面１５５を備えて
いる。反射防止膜１１０、反射防止膜付き基材１００の
用途は特にＰＤＰ前面板には限定されなく、また、反射
防止膜１１０の層構成、反射防止膜付き基材１００の構
成も、上記に限定されることはない。
【００１７】次いで、本発明のプラズマディスプレイパ
ネル前面板（ＰＤＰ前面板）の実施の形態を図に基いて
説明する。図２（ａ）は、本発明のＰＤＰ前面板の概略
断面図であり、図２（ｂ）はその平面図である。図２
中、２００はＰＤＰ前面板、２１０、２１５は反射防止
フィルム、２２０は透明基板、２５０は反射防止面、２
５５（１５５）は電極面、２６０はアースである。図２
に示すＰＤＰ前面板２００は、図１に示す本発明の反射
防止膜付き基材である反射防止フィルム２１０、２１５
をそれぞれ、透明基板２２０の片面にラミネートしたも
ので、図２（ｂ）に示すように、ＰＤＰ前面板２００の
金属層（図１に示す金属層１２３）の全周面において、
電極面２５５は金属層（図１に示す金属層１２３）と電
気接触している。尚、すでに述べた通り、透明基板とし
ては、ガラス、ポリアクリル系樹脂、ポリカーボネート
樹脂基板が好適に用いられる。図２に示すＰＤＰ前面板
２００は透明基板２２０の両面に反射防止フィルム（２
１０および２１５）を設けたものであるが、反射防止フ
ィルムを透明基板の少なくとも一方に設けるだけでも効
果がある。そして、反射防止フィルムを透明基板の一方
に設ける場合、清掃等により観察者側の方が傷みを受け
易いことを考えると、ＰＤＰ側に反射防止フィルムを設
ける方が好ましい。
ネル前面板（ＰＤＰ前面板）の実施の形態を図に基いて
説明する。図２（ａ）は、本発明のＰＤＰ前面板の概略
断面図であり、図２（ｂ）はその平面図である。図２
中、２００はＰＤＰ前面板、２１０、２１５は反射防止
フィルム、２２０は透明基板、２５０は反射防止面、２
５５（１５５）は電極面、２６０はアースである。図２
に示すＰＤＰ前面板２００は、図１に示す本発明の反射
防止膜付き基材である反射防止フィルム２１０、２１５
をそれぞれ、透明基板２２０の片面にラミネートしたも
ので、図２（ｂ）に示すように、ＰＤＰ前面板２００の
金属層（図１に示す金属層１２３）の全周面において、
電極面２５５は金属層（図１に示す金属層１２３）と電
気接触している。尚、すでに述べた通り、透明基板とし
ては、ガラス、ポリアクリル系樹脂、ポリカーボネート
樹脂基板が好適に用いられる。図２に示すＰＤＰ前面板
２００は透明基板２２０の両面に反射防止フィルム（２
１０および２１５）を設けたものであるが、反射防止フ
ィルムを透明基板の少なくとも一方に設けるだけでも効
果がある。そして、反射防止フィルムを透明基板の一方
に設ける場合、清掃等により観察者側の方が傷みを受け
易いことを考えると、ＰＤＰ側に反射防止フィルムを設
ける方が好ましい。
【００１８】
【実施例】更に、反射防止膜付き基材１００の実施例１
を挙げ、図１に基づいて説明する。実施例の反射防止膜
付き基材１００は図１に示す構成のものである。そし
て、基材１２０としてＰＥＴフィルムを用い、反射防止
膜１１０の低屈折率層１２１、高屈折率層１２２、金属
層１２３、高屈折率層１２４、低屈折率層１２５を、そ
れぞれ、ＳｉＯ２、ＴｉＯ２、Ａｇ、ＴｉＯ２、ＳｉＯ
２とし、且つ、それぞれの膜厚１２４ｎｍ、２８ｎｍ、
１０ｎｍ、１４２ｎｍ、８８ｎｍとしたものである。
尚、ハードコート層としては、ハードコート樹脂ＰＥＴ
−Ｄ３１（大日精化工業株式会社製）を電子線により硬
化させたものを用いた。
を挙げ、図１に基づいて説明する。実施例の反射防止膜
付き基材１００は図１に示す構成のものである。そし
て、基材１２０としてＰＥＴフィルムを用い、反射防止
膜１１０の低屈折率層１２１、高屈折率層１２２、金属
層１２３、高屈折率層１２４、低屈折率層１２５を、そ
れぞれ、ＳｉＯ２、ＴｉＯ２、Ａｇ、ＴｉＯ２、ＳｉＯ
２とし、且つ、それぞれの膜厚１２４ｎｍ、２８ｎｍ、
１０ｎｍ、１４２ｎｍ、８８ｎｍとしたものである。
尚、ハードコート層としては、ハードコート樹脂ＰＥＴ
−Ｄ３１（大日精化工業株式会社製）を電子線により硬
化させたものを用いた。
【００１９】次いで、上記実施例の反射防止膜付き基材
１００の製造方法を簡単に説明しておく。先ず、ＰＥＴ
フィルム（東洋紡製Ａ４３５０、厚さ１８８μｍ）上に
ハードコート樹脂ＰＥＴ−Ｄ３１をバーコータ一によ
り、ドライ厚み６μｍに塗布し、電子線を１５０ＫＶで
４Ｍｒａｄ照射して樹脂層を硬化した。その後、マグネ
トロンスパッタリング法により、低屈折率層１２１、高
屈折率層１２２、金属層１２３、高屈折率層１２４、低
屈折率層１２５を前記厚さで順次形成した。尚、金属層
（Ａｇ層）１２３積層後、全周面にマスクを施すことに
よりアース用電極（図１（ｂ）の電極面１５５）を作製
した。次いで、バーコーターにより、防汚コート剤ＫＰ
‐８０１Ｍ（信越化学製）を２ｎｍ塗布した。このよう
にして得られた反射防止膜の透過率、反射率のグラフを
図１、図２に示す。また、反射防止膜の４端子法による
シート抵抗は２．０Ω／□であった。また、４５０ｎｍ
〜６５０ｎｍの範囲の波長を有する可視光線に対する反
射率は１．５％以下、透過率は８０％以上、吸収は３％
以下となった。そして、９００ｎｍ〜１１００ｎｍの範
囲の波長を有する近赤外線の透過率は４０％以下であっ
た。また、２０ＭＨｚ〜１００００ＭＨｚの範囲の周波
数を有する電磁放射に対する減衰率は２０デシベル以上
であった。
１００の製造方法を簡単に説明しておく。先ず、ＰＥＴ
フィルム（東洋紡製Ａ４３５０、厚さ１８８μｍ）上に
ハードコート樹脂ＰＥＴ−Ｄ３１をバーコータ一によ
り、ドライ厚み６μｍに塗布し、電子線を１５０ＫＶで
４Ｍｒａｄ照射して樹脂層を硬化した。その後、マグネ
トロンスパッタリング法により、低屈折率層１２１、高
屈折率層１２２、金属層１２３、高屈折率層１２４、低
屈折率層１２５を前記厚さで順次形成した。尚、金属層
（Ａｇ層）１２３積層後、全周面にマスクを施すことに
よりアース用電極（図１（ｂ）の電極面１５５）を作製
した。次いで、バーコーターにより、防汚コート剤ＫＰ
‐８０１Ｍ（信越化学製）を２ｎｍ塗布した。このよう
にして得られた反射防止膜の透過率、反射率のグラフを
図１、図２に示す。また、反射防止膜の４端子法による
シート抵抗は２．０Ω／□であった。また、４５０ｎｍ
〜６５０ｎｍの範囲の波長を有する可視光線に対する反
射率は１．５％以下、透過率は８０％以上、吸収は３％
以下となった。そして、９００ｎｍ〜１１００ｎｍの範
囲の波長を有する近赤外線の透過率は４０％以下であっ
た。また、２０ＭＨｚ〜１００００ＭＨｚの範囲の周波
数を有する電磁放射に対する減衰率は２０デシベル以上
であった。
【００２０】次いで、反射防止膜付き基材１００の実施
例２を挙げる。実施例２は、実施例１の反射防止膜付き
基材に対し、その基材面側に粘着剤を塗布し、保護層を
ラミネートしたものである。
例２を挙げる。実施例２は、実施例１の反射防止膜付き
基材に対し、その基材面側に粘着剤を塗布し、保護層を
ラミネートしたものである。
【００２１】更に、本発明のプラズマディスプレイパネ
ル前面板（ＰＤＰ前面板）の実施例を挙げる。実施例Ｐ
ＤＰ前面板は、アクリル板の両面に、それぞれ、前述の
実施例２の反射防止膜付き基材を用い、その保護層を剥
がし、粘着剤により貼り合わせたものである。
ル前面板（ＰＤＰ前面板）の実施例を挙げる。実施例Ｐ
ＤＰ前面板は、アクリル板の両面に、それぞれ、前述の
実施例２の反射防止膜付き基材を用い、その保護層を剥
がし、粘着剤により貼り合わせたものである。
【００２２】
【発明の効果】本発明は、上記のように、金属層を反射
防止膜の層構成に組込むことにより、高い導電性（電磁
波遮閉効果）を確保しながら反射を抑えることができ、
赤外線カット性能も付与できる反射防止膜、および該反
射防止膜付き基材の提供を可能し、更には、反射防止、
電磁波カット、赤外線カットの点で優れ、且つＰＤＰの
発光色を所定の透過率で透過させ画面表示できるＰＤＰ
前面板の提供を可能とするものである。
防止膜の層構成に組込むことにより、高い導電性（電磁
波遮閉効果）を確保しながら反射を抑えることができ、
赤外線カット性能も付与できる反射防止膜、および該反
射防止膜付き基材の提供を可能し、更には、反射防止、
電磁波カット、赤外線カットの点で優れ、且つＰＤＰの
発光色を所定の透過率で透過させ画面表示できるＰＤＰ
前面板の提供を可能とするものである。
【図１】本発明の反射防止膜および反射防止膜付き基材
の実施の形態の１例を示した図
の実施の形態の１例を示した図
【図２】本発明のＰＤＰ前面板の実施の形態の１例を示
した図
した図
【図３】実施例の反射防止膜付き基材における反射防止
膜の透過率を示した図
膜の透過率を示した図
【図４】実施例の反射防止膜付き基材における反射防止
膜の反射率を示した図
膜の反射率を示した図
１００、１００Ａ 反射防止膜付き基材 １１０ 反射防止膜 １１１ 低屈折率層 １１２ 高屈折率層 １１３ 金属層 １１４ 高屈折率層 １１５ 低屈折率層 １２０ 基材 １３０ ハードコート層 １５０ 反射防止面 １５５ 電極面（Ａｇ面） １６０ 粘着剤 １７０ 保護層 ２００ ＰＤＰ前面板 ２１０、２１５ 反射防止フィルム ２２０ 透明基板 ２５０ 反射防止面 ２５５ 電極面 ２６０ アース
Claims (22)
- 【請求項１】 ２層以上の薄膜を積層してなり、１層以
上の金属層を含むことを特徴とする反射防止膜。 - 【請求項２】 請求項１記載の反射防止膜の金属層が金
属酸化物層に挟まれていることを特徴とする反射防止
膜。 - 【請求項３】 請求項１ないし２記載の反射防止膜は、
基材上に形成されるもので、基材側から、低屈折率層、
高屈折率層、金属層、高屈析率層、低屈折率層の順番で
形成されていることを特徴とする反射防止膜。 - 【請求項４】 請求項３記載において、低屈折率層は珪
素酸化物であり、高屈折率層はＺｒＯ２、ＺｎＯ、Ｔｉ
Ｏ２、Ｓｂ２０５、ＳｎＯ２、ＩＴＯ、ＣｅＯ２、Ｈｆ
Ｏ２から選ばれたものであり、金属層は金、銀、銅のい
ずれかであることを特徴とする反射防止膜。 - 【請求項５】 請求項４記載の反射防止膜の基材側の珪
素酸化物がＳｉＯｘで、１．５≦ｘ≦１．９であること
を特徴とする反射防止膜。 - 【請求項６】 請求項４ないし５記載の反射防止膜は基
材上に形成されるもので、基材側から順に、低屈折率
層、高屈折率層、金属層、高屈折率層、低屈折率層の膜
厚ｄ１、ｄ２、ｄ３、ｄ４、ｄ５を、それぞれ、 １１０ｎｍ≦ｄ１≦１４０ｎｍ ２０ｎｍ≦ｄ２≦４０ｎｍ ５ｎｍ≦ｄ３≦１５ｎｍ １２０ｎｍ≦ｄ４≦１６０ｎｍ ８０ｎｍ≦ｄ５≦１００ｎｍ とすることを特徴とする反射防止膜。 - 【請求項７】 請求項１ないし６記載において、２０Ｍ
Ｈｚ〜１００００ＭＨｚの周波数範囲の電磁波に対する
減衰率を２０デシベル以上としたことを特徴とする反射
防止膜。 - 【請求項８】 請求項１ないし７記載において、９００
ｎｍ〜１１００ｎｍの範囲の波長を有する近赤外線に対
する反射率を４０％以上としたことを特徴とする反射防
止膜。 - 【請求項９】 請求項１ないし８記載において、４５０
ｎｍ〜６５０ｎｍの範囲の波長を有する可視光線に対す
る反射率を２％以下としたことを特徴とする反射防止
膜。 - 【請求項１０】 請求項１ないし９記載において、４５
０ｎｍ〜６５０ｎｍの範囲の波長を有する可視光線に対
する透過率を６０％以上としたことを特徴とする反射防
止膜。 - 【請求項１１】 請求項１ないし１０記載において、４
５０ｎｍ〜６５０ｎｍの範囲の波長を有する可視光線に
対する吸収を１０％以下としたことを特徴とする反射防
止膜。 - 【請求項１２】 請求項１ないし１１記載の反射防止膜
の、少なくとも一方の表面には、撥水、撥油性コーティ
ングがなされていることを特徴とする反射防止膜。 - 【請求項１３】 請求項１２記載の撥水、撥油性コーテ
ィングがフツ素化アルキルシリル化合物からなることを
特徴とする反射防止膜。 - 【請求項１４】 請求項１ないし１３記載の反射防止膜
が透明基材上に形成されていることを特徴とする反射防
止膜付き基材。 - 【請求項１５】 請求項１４記載の反射防止膜が透明基
材上に１層以上の他の層を介して形成されていることを
特徴とする反射防止膜付き基材。 - 【請求項１６】 請求項１４記載の反射防止膜におい
て、他の層のうちの１つがハードコート層であることを
特徴とする反射防止膜付き基材。 - 【請求項１７】 請求項１４ないし１６に記載の透明基
材がプラスチツクフィルムであることを特徴とする反射
防止膜付き基材。 - 【請求項１８】 請求項１７記載のプラスチツクフィル
ムがＰＥＴであることを特徴とする反射防止膜付き基
材。 - 【請求項１９】 請求項１７ないし１８記載の反射防止
膜付き基材のプラスチックフィルムの反射防止膜側でな
い面に粘着剤が塗布されて、さらにその上に保護フィル
ムがラミネートされていることを特徴とする反射防止膜
付き基材。 - 【請求項２０】 請求項１７ないし１９記載の反射防止
膜付き基材をガラス板にラミネートされてなることを特
徴とするプラズマディスプレイパネル前面板。 - 【請求項２１】 請求項１７ないし１９記載の反射防止
膜付き基材をアクリル板にラミネートされてなることを
特徴とするプラズマディスプレイパネル前面板。 - 【請求項２２】 請求項２０ないし２１記載のＰＤＰ前
面の金属層の全周面において金属層と電気接触している
接続手段を備えていることを特徴とするプラズマディス
プレイパネル前面板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9235486A JPH1164603A (ja) | 1997-08-18 | 1997-08-18 | 反射防止膜と反射防止膜付き基材、および該反射防止膜付き基材を用いたプラズマディスプレイパネル前面板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9235486A JPH1164603A (ja) | 1997-08-18 | 1997-08-18 | 反射防止膜と反射防止膜付き基材、および該反射防止膜付き基材を用いたプラズマディスプレイパネル前面板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1164603A true JPH1164603A (ja) | 1999-03-05 |
Family
ID=16986776
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9235486A Pending JPH1164603A (ja) | 1997-08-18 | 1997-08-18 | 反射防止膜と反射防止膜付き基材、および該反射防止膜付き基材を用いたプラズマディスプレイパネル前面板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1164603A (ja) |
Cited By (9)
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-
1997
- 1997-08-18 JP JP9235486A patent/JPH1164603A/ja active Pending
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