JPH11249576A - プラズマディスプレイパネル用フィルター - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 近赤外線吸収層における吸収性能の低下を防
止し、プラズマディスプレイパネルから放出する近赤外
線を長期に亘って吸収し、赤外線で遠隔操作する各種の
電気機器や通信装置などに対する誤動作発生の防止を長
期間に亘って保障できるプラズマディスプレイパネル用
フィルターを提供することにある。 【解決手段】 プラズマディスプレイパネルの前面に取
り付けられるフィルターであって、近赤外線吸収層と、
少なくともほぼ３５０ｎｍより下の波長の紫外線をカッ
トする紫外線遮蔽層とを備えて構成されていることを特
徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はプラズマディスプレ
イパネル用フィルターに関し、更に詳細には例えばプラ
ズマディスプレイパネルの前面に取り付けて使用するフ
ィルターに関する。

【０００２】

【従来の技術】軽量且つ薄型でありながら輝度が高く、
しかも大画面が得られるプラズマディスプレイパネル
（以下、ＰＤＰと称する）は、すでによく知られてい
る。このＰＤＰについて簡単にその構造を説明すると、
この種のＰＤＰは、間隔をあけて配置された前面ガラス
基板と後面ガラス基板（以下、管と称する）のその間隔
部内に多数のセルを形成すると共にその管内にキセノン
ガスを封入し、前面ガラス基板の内面に形成した誘電体
層及び保護層の表面で面放電を起こしてキセノンガス分
子を励起し、紫外線を発生させてセル内の蛍光体を発光
させる構造となっている。

【０００３】管内にキセノンガスを封入したこの種のＰ
ＤＰにおいては、蛍光体を発光させるために発生させる
紫外線と共に近赤外線及び電磁波も発生し、その一部が
管外へ放出する。そのため、従来のＰＤＰの前面には近
赤外線カット性能、電磁波シールド性能、傷付き防止性
能、反射防止性能などを備えたフィルターが取り付けら
れていた。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】プラズマディスプレイ
パネルから放出される近赤外線の波長は、約２００〜１
４００ｎｍであるが、その相対強度としては、特に８０
０〜１１００ｎｍの波長が最も高い。ところで、テレビ
や空気調和装置などの家庭電化製品をはじめとして、近
年では多くの家庭用設備などは、赤外線式リモートコン
トロール装置で操作できるようになってきている。

【０００５】このような家庭電化製品や家庭用設備を操
作する赤外線式リモートコントロール装置に使用されて
いる近赤外線波長は、ＰＤＰの駆動時に放出される前述
した相対強度の高い近赤外線領域に近いことから、これ
らの家庭電化製品や家庭用設備が誤動作する恐れがあ
る。また、このような誤動作は光通信などにも起こる恐
れがある。

【０００６】そのため、従来のＰＤＰ用フィルターは、
特に前述した相対強度の高い近赤外線を吸収してその放
出を防止する近赤外線カット層が設けられていた。しか
し、最近、ＰＤＰ用フィルターを構成する近赤外線カッ
ト（吸収）層の吸収性能が経時的に劣化することが判明
した。そこで、本発明者は近赤外線吸収層の性能劣化が
どのような原因で起こるのかを研究し本発明に至った。

【０００７】本発明の目的は、かかる従来の問題点を解
決するためになされたもので、近赤外線吸収層における
吸収性能の低下を防止し、プラズマディスプレイパネル
から放出する近赤外線を長期に亘って吸収し、赤外線で
遠隔操作する各種の電気機器や通信装置などに対する誤
動作発生の防止を長期間に亘って保障できるプラズマデ
ィスプレイパネル用フィルターを提供することにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明はプラズマディス
プレイパネル用フィルターであり、前述の技術的課題を
解決するために以下のような構成とされている。すなわ
ち、本発明は、プラズマディスプレイパネルの前面に取
り付けられるフィルターであって、近赤外線吸収層と、
少なくともほぼ３５０ｎｍより下の波長の紫外線をカッ
トする紫外線遮蔽層とを備えることを特徴とする。

【０００９】＜本発明における具体的構成＞本発明のプ
ラズマディスプレイパネル用フィルターは、前述した必
須の構成要素からなるが、その構成要素が具体的に以下
のような場合であっても成立する。その具体的構成要素
とは、紫外線遮蔽層が、近赤外線吸収層よりプラズマデ
ィスプレイパネル側及びその反対側のいずれか一方若し
くは両方に設けられていることを特徴とする。

【００１０】また、本発明のプラズマディスプレイパネ
ル用フィルターでは、近赤外線吸収層がジイモニウム系
化合物を含むことが好ましい。更に、本発明のプラズマ
ディスプレイパネル用フィルターでは、前述した構成に
加えて更に電磁波シールド層を備えていることも好まし
い。

【００１１】本発明のプラズマディスプレイパネル用フ
ィルターにおいて、電磁波シールド層を構成要素とする
場合には、この電磁波シールド層をアルミニウム酸化亜
鉛から構成すると、この電磁波シールド層を前述の紫外
線遮蔽層と兼用することができ、これにより層構成を単
純化することができる。

【００１２】更にまた、本発明のプラズマディスプレイ
パネル用フィルターでは、当該フィルターにおける８５
０〜１０００ｎｍの近赤外線透過率を１５％以下とする
ことが好ましい。また、本発明のプラズマディスプレイ
パネル用フィルターでは、当該フィルターにおける４０
０〜７００ｎｍの可視光線透過率を５０％以上とするこ
とも好ましい。

【００１３】本発明のプラズマディスプレイパネル用フ
ィルターによると、近赤外線吸収層の性能劣化は特定波
長の紫外線を受けることによるものであることが、研究
の結果分かり、従ってこの波長の紫外線を吸収する紫外
線遮蔽層を設けることにより、近赤外線吸収層の性能劣
化が防止され、長期間に亘って安定した近赤外線吸収性
能を維持し、赤外線式リモートコントロール装置を用い
た家庭電化製品や家庭用設備、又は光通信などの誤動作
を防ぐことができる。

【００１４】

【発明の実施の形態】以下、本発明のプラズマディスプ
レイパネル用フィルター（以下、単にＰＤＰ用フィルタ
ーと称する）をその実施形態について更に詳細に説明す
る。本発明の一実施形態に係るＰＤＰ用フィルターは、
プラズマディスプレイパネル即ちＰＤＰの前面に取り付
けて使用される。

【００１５】このＰＤＰ用フィルターは、基本的には、
近赤外線吸収層と、少なくともほぼ３５０ｎｍより下の
波長の紫外線をカットする紫外線遮蔽層とを備えて構成
されている。波長３５０ｎｍ以下の紫外線をカットする
と近赤外線吸収層の初期吸収性能が維持され、これによ
り赤外線で遠隔操作をする各種の電気機器や通信装置な
どに対する誤動作発生の防止を長期間に亘って保障でき
る。

【００１６】このことは、図１及び図２の特性図から明
らかとなる。すなわち、図１は、紫外線遮蔽層を設けた
７つのＰＤＰ用フィルターにおける紫外線の透過率とそ
の波長の関係を示す特性図である。この特性図から、第
１番目のＰＤＰ用フィルターでは波長３１０ｎｍの紫外
線を約３０％カットし、波長３００ｎｍ以下の紫外線は
ほぼ１００％カットしている。

【００１７】言い換えれば、第１番目のＰＤＰ用フィル
ターでは、波長３１０ｎｍ以上の紫外線は約７０％が透
過し、波長３４０ｎｍの紫外線についてはほぼ１００％
透過している。また、第２番目のＰＤＰ用フィルターで
は、波長３５０ｎｍの紫外線を約３０％カットし、波長
３４０ｎｍ以下の紫外線はほぼ１００％カットしてい
る。言い換えれば、第２番目のＰＤＰ用フィルターで
は、波長３５０ｎｍ以上の紫外線は約７０％が透過して
いる。

【００１８】更に、第３番目〜第７番目のＰＤＰ用フィ
ルターについては、いずれも波長３５０ｎｍ以下の紫外
線はほとんどカットしていることが分かる。これらの各
ＰＤＰ用フィルターに近赤外線吸収層としてジイモニウ
ム色素コート層を形成し、その光劣化特性を調べてみる
と、図２に示すような特性が得られた。すなわち、第１
番目のＰＤＰ用フィルターでは近赤外線吸収層の吸収性
能が紫外線暴露時間の経過と共に低下していることがわ
かる。これに対して、第２番目〜第７番目の各ＰＤＰ用
フィルターでは、その近赤外線吸収層の吸収性能にほと
んど変化がなく、初期の吸収性能を維持していることが
分かる。

【００１９】図１及び図２の特性図から明らかなよう
に、少なくとも波長３５０ｎｍの紫外線を３０％でもカ
ットしていれば、近赤外線吸収層の吸収性能は低下する
ことがないことが分かる。勿論、波長３５０ｎｍの紫外
線を１００％カットしていればなお良いことになる。す
なわち、少なくともほぼ３５０ｎｍより下の波長の紫外
線をカットすれば、近赤外線吸収層の初期吸収性能を維
持することができる。

【００２０】このようなＰＤＰ用フィルターの層構成と
しては、その一例が図３に示されるように、透明な基板
１１の一方の表面（ＰＤＰ側）に接着剤１２を介して少
なくともほぼ３５０ｎｍより下の波長の紫外線をカット
する紫外線遮蔽層１３が設けられている。

【００２１】そして、この紫外線遮蔽層１３の表面に近
赤外線吸収層１４、電磁波シールド層１５、その上に更
に少なくともほぼ３５０ｎｍより下の波長の紫外線をカ
ットする紫外線遮蔽層１６、支持フィルム１７及び反射
防止層１８が順次積層して設けられ、透明な基板１１の
他方の表面にはハードコート層１９と反射防止層２０が
積層して設けられている。

【００２２】このようなＰＤＰ用フィルター１０は、実
際的には支持フィルム１７である透明樹脂フィルムに紫
外線吸収塗工液をコーティングして紫外線遮蔽層１６を
形成した後、電磁波遮蔽機能を有する導電性物質を蒸着
して電磁波シールド層１５を形成し、次いで近赤外線吸
収剤塗工液及び紫外線吸収塗工液を順次にコーティング
して近赤外線吸収層１４及び紫外線遮蔽層１３を形成
し、更に接着剤をコーティングして接着剤層１２を形成
した透明な機能性フィルムを製造し、この機能性フィル
ムの接着剤面を透明樹脂基板１１に貼り合わせ、これに
より得られた機能性フィルム付き基板の一方の面には反
射防止層１８、他方の面にはハードコート層１９と反射
防止層２０を設けて形成される。

【００２３】ここで各層を構成する材料について簡単に
説明すると、支持フィルム１７である透明樹脂フィルム
は、実質的に透明であって、吸収、散乱が大きくない樹
脂フィルムであればよく、特に制限はない。透明樹脂フ
ィルムに使用される樹脂の具体的な例としては、ポリオ
レフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネー
ト系樹脂、ポリ（メタ）アクリル酸エステル系樹脂、ポ
リスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリア
リレート樹脂、ポリエーテルサルホン樹脂等をあげるこ
とができる。

【００２４】これらの中では、特に非晶質のポリオレフ
ィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート樹
脂、ポリ（メタ）アクリル酸エステル樹脂、ポリアリレ
ート樹脂、ポリエーテルサルホン樹脂が好ましく、非晶
質ポリオレフィン系樹脂の中では環状ポリオレフィン
が、ポリエステル系樹脂の中ではポリエチレンテレフタ
レートが特に好ましい。

【００２５】上記樹脂には、一般的に公知である添加
剤、例えばフェノール系、燐系などの酸化防止剤、ハロ
ゲン系、燐酸系等の難燃剤、耐熱老化防止剤、滑剤、帯
電防止剤等を配合することができる。透明樹脂フィルム
は、上記樹脂を公知のＴダイ成形、カレンダー成形、圧
縮成形などの方法や、有機溶剤に溶解させてキャスティ
ングする方法等を用いて成形される。

【００２６】フィルムの厚みとしては、目的に応じて、
１０μｍ〜１ｍｍの範囲が望ましい。該透明樹脂フィル
ムは、未延伸でも延伸されていても良い。また、他のプ
ラスチック基材と積層されていても良い。更に該透明樹
脂フィルムは、コロナ放電処理、火炎処理、プラズマ処
理、グロー放電処理、粗面化処理、薬品処理等の従来公
知の方法による表面処理や、プライマー等のコーティン
グを片面あるいは両面に施しても良い。

【００２７】次に、電磁波シールド層１５としては、導
電性繊維のメッシュ、導電性物質の蒸着等が用いられる
が、視認性の点から導電性物質の蒸着が好ましい。紫外
線遮蔽層１６に蒸着される導電性物質は、ＰＤＰより放
出される電磁波を遮蔽する目的で蒸着されるもので、金
属又は金属酸化物などが用いられるが、４００〜７００
ｎｍの可視光線領域を７０％以上透過し、表面固有抵抗
値が５０Ω／口以下であれば、いかなるものであっても
良い。

【００２８】好ましくは、酸化スズ、酸化インジウムス
ズ（以下、ＩＴＯという）、酸化アンチモンスズ（以下
ＡＴＯという。）等の金属酸化物、あるいは金属酸化物
と金属を交互に積層させる。金属酸化物と金属の積層
は、表面固有抵抗を低くできるので、より好ましい。金
属酸化物としては、酸化スズ、ＩＴＯ、ＡＴＯであり、
金属としては銀あるいは銀ーパラジウム合金が一般的で
あり、通常金属酸化物層より始まり３乃至１１層程度積
層する。

【００２９】また、電磁波シールド層１５を形成する導
電性物質としては、更にアルミニウム酸化亜鉛（以下、
ＡＺＯという）をスパッタリングにより蒸着して構成す
ることも好ましい。このＡＺＯは、電磁波をシールドす
る性能だけではなく、紫外線、特に３５０ｎｍ以下の波
長の紫外線を吸収する性能があることから、電磁シール
ド層１５をこのＡＺＯで構成すれば、紫外線遮蔽層１６
を兼用することができ、層構成が単純化できる。

【００３０】導電性物質の膜厚は、要求される物性、用
途などにより異なるが、透明性から１０〜５００ｎｍ、
好ましくは５０〜３００ｎｍが好ましい。膜厚は膜の各
部分が均一であることが望ましい。また、導電性物質を
透明樹脂フィルムに直接蒸着して構成することもでき
る。その際には、相互の密着性を向上させるため、予め
透明樹脂フィルムの被蒸着面にべースコート剤をコーテ
ィングしておくことが望ましい。

【００３１】紫外線遮蔽層１３、１６を形成する紫外線
吸収剤としては、サリチル酸エステル系、べンゾフェノ
ン系、べンゾトリアゾール系、ヒドロキシべンゾエート
系、シアノアクリレート系などが挙げられる。また、特
開平２−５８５７１号公報に開示されているような、紫
外線遮蔽性能を有する化合物をエポキシ化合物などの接
着性成分と反応させた反応生成物と、イソシアネートあ
るいはアミノ樹脂の少なくとも一つの混合物なども用い
ることができる。

【００３２】次に、電磁シールド層１５の表面上に、近
赤外線吸収層１４が設けられる。本発明において、電磁
波シールド層と近赤外線吸収層の積層順序は任意である
が、近赤外線吸収層１４の上に、前述のように蒸着によ
って電磁波シールド層を形成した場合に、蒸着時に被蒸
着面が高温になるため近赤外線吸収能が低下すること、
或いは比較的低分子量の近赤外線吸収剤を使用した場
合、蒸着時の真空下で被蒸着面の表面に析出するため均
一に蒸着できない、等の問題が起こることが考えられる
ため注意が必要である。

【００３３】近赤外線吸収層１４は、例えば近赤外線吸
収剤塗工液をコーティングすることにより得られる。近
赤外線吸収剤塗工液は、近赤外線吸収剤を有機溶剤に分
散あるいは溶解させてバインダー樹脂を添加したもの、
又は近赤外線吸収剤を例えば、ポリウレタンアクリレー
トやエポキシアクリレート等の単官能または多官能アク
リレートと、光重合開始剤および有機溶剤を含むハード
コート剤、イソシアネート系、ポリウレタン系、ポリエ
ステル系、ポリエチレンイミン系、ポリブタジエン系又
はアルキルチタネート系などの、アンカーコート剤や接
着剤、等に添加したもので、該塗工液を電磁波シールド
層１５上にコーティングする。

【００３４】用いられる近赤外線吸収剤としては、有機
物質であるニトロソ化合物及びその金属錯塩、シアニン
系化合物、スクワリリウム系化合物、チオールニッケル
錯塩系化合物、フタロシアニン系化合物、ナフタロシア
ニン系化合物、トリアリルメタン系化合物、イモニウム
系化合物、ジイモニウム系化合物、ナフトキノン系化合
物、アントラキノン系化合物、又はアミノ化合物、アミ
ニウム塩系化合物、あるいは無機物であるカーボンブラ
ックや、酸化インジウムスズ、酸化アンチモンスズ、周
期表４Ａ、５Ａ又は６Ａ族に属する金属の酸化物、もし
くは炭化物、又はホウ化物などが挙げられる。これらの
うち少なくとも２種類を用いる。

【００３５】更に、少なくとも１種は、イモニウム系化
合物、ジイモニウム系化合物、あるいはアミニウム塩系
化合物から選ばれる近赤外線吸収剤を用いることが好ま
しい。より好ましくは、イモニウム系化合物、ジイモニ
ウム系化合物及びアミニウム塩系化合物以外の、上記近
赤外線吸収剤より選ばれる少なくとも１種を併用する。

【００３６】基板１１は、実質的に透明であって、吸
収、散乱が大きくない樹脂基板であればよく、特に制限
はない。用いる樹脂の具体的な例としては、ポリオレフ
ィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系
樹脂、ポリ（メタ）アクリル酸エステル系樹脂、ポリス
チレン、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリアクリ
レート樹脂、ボリエーテルサルホン樹脂等をあげること
ができる。

【００３７】これらの中では、特に非晶質のポリオレフ
ィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート樹
脂、ポリ（メタ）アクリル酸エステル樹脂、ポリアリレ
ート樹脂、ポリエーテルサルホン樹脂が好ましい。上記
透明樹脂基板用樹脂には、一般的に公知である添加剤、
例えばフエノール系、燐系などの酸化防止剤、ハロゲン
系、燐酸系等の難燃剤、耐熱老化防止剤、滑剤、帯電防
止剤等を配合することができる。

【００３８】透明樹脂基板は、公知の射出成形、Ｔダイ
成形、カレンダー成形、圧縮成形などの方法を用い、シ
ート（板）状に成形される。シート状の厚みとしては、
目的に応じて、１ｍｍ〜８ｍｍの範囲が望ましい。かか
る透明な基板１１は、他のプラスチック基材と積層され
ていても良い。この透明樹脂基板の一方の面には、傷付
き防止のため傷付き防止層を形成することも好ましい。
この場合、傷付き防止層を形成した面とは反対側の他方
の面に機能性フィルムをその接着剤層を介して貼り合わ
せる。

【００３９】ハードコート層１９即ち傷付き防止層は、
例えば、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート
などの単官能あるいは多官能アクリレートと、光重合開
始剤、及び有機溶剤を主成分とするハードコート剤より
形成される。また、耐摩耗性向上のため、コロイド状金
属酸化物、有機溶剤を分散媒としたシリカゾルを加える
こともできる。

【００４０】最後に前述したようにして得られた機能性
フィルム付き基板の両面に反射防止層１８、２０を形成
する。この機能性フィルム付き基板の両面に反射防止層
１８、２０を設けることにより、ＰＤＰ前面に本発明の
ＰＤＰ用フィルター１０を設置した場合、ＰＤＰ側の反
射防止層１８は、ＰＤＰからの光の透過率を上げ、逆側
（人の目の近い方）の反射防止層２０は、蛍光灯などの
外光の写り込みを防ぐ効果があり、画像の視認性が向上
する。

【００４１】反射防止層１８、２０は、比較的低屈折率
である酸化ケイ素、酸化ジルコニウム、酸化チタン、フ
ッ化マグネシウム、フッ化カルシウム、酸化アルミニウ
ム、あるいは特開平２ー１９８０１号公報に開示されて
いるような非晶性含フッ素重合体から構成される。形成
方法としては、金属アルコキシドを塗布後焼成する方
法、真空蒸着法、スパツタリング法、イオンプレーティ
ング法、ＣＶＤ法、あるいはロールコート法、浸漬塗装
法等が挙げられる。経済性、ハンドリングの点より、非
晶性含フッ素重合体をフッ素系溶剤に溶解させた溶液
を、浸漬塗装によりコーティングすることが好ましい。
コーティングの膜厚は、１０〜１０００ｎｍ、好ましく
は２０〜５００ｎｍである。

【００４２】本発明のＰＤＰ用フィルターは、４００〜
７００ｎｍの可視光線透過率が５０％以上、好ましくは
６５％以上、また８５０〜１０００ｎｍの近赤外線透過
率が１５％以下、好ましくは１０％以下であり、更に３
０〜１００ＭＨｚの電磁波シールド性能が３０ｄＢ以上
の性能を有し、ＰＤＰ用フィルターとして好適なもので
ある。

【００４３】なお、前述したＰＤＰ用フィルター１０の
層構成は、単に一例を挙げただけで、本発明はこのよう
な層構成に限定されるものではない。例えば、紫外線遮
蔽層１３、１６の位置は任意である。また、図１に示さ
れるような紫外線遮蔽層１３、１６を独立して設けず、
紫外線吸収剤を支持フィルム１７を形成する樹脂に、又
は基板１１を形成する樹脂に練り混ぜてもよく、若しく
は前述したベースコート剤等に添加してもよい。

【００４４】更に、図３では紫外線遮蔽層１３、１６を
近赤外線吸収層１４の両側に設けたＰＤＰ用フィルター
１０を示しているが、これは、太陽光線から入射する紫
外線によってＰＤＰ用フィルター１０の近赤外線吸収層
１４の吸収性能低下を防止することと、ＰＤＰから放出
される紫外線による近赤外線吸収層１４の吸収性能低下
を防止するためである。

【００４５】しかし、ＰＤＰの構造によっては近赤外線
吸収層１４の吸収性能を低下させる３５０ｎｍ以下の紫
外線が放出されないものも考えられるので、そのような
ＰＤＰの前面にフィルターを取り付ける場合には紫外線
遮蔽層１３を設ける必要はない。また、ＰＤＰを室内、
特に太陽光が入らないような場所に置いて使用する際に
は、外部から入射する紫外線をカットする紫外線遮蔽層
１６を設ける必要はない。

【００４６】

【実施例】次に、本発明におけるプラズマディスプレイ
パネル用フィルターの実施例について説明する。 （実施例１）ジイモニウム系近赤外線吸収剤「ＩＲＧ−
０２２」（日本化薬（株）製）０．１重量部を、ポリエ
ステルバインダー「バイロン２０ＳＳ」（東洋紡（株）
製）５０重量部に添加し、トルエン１５重量部、メチル
エチルケトン３５重量部で希釈したものを、厚み１００
μｍのポリエステルフイルムにコーテイングし、乾燥し
て、厚み１μｍの近赤外線吸収層を得た。続いて該フィ
ルムの両面に、３５０ｎｍ以下の紫外線の透過率が２５
％以下のフィルターを貼り合わせ積層体を作成し、キセ
ノンウェザーオーメーター（アトラス（株）製）にて、
紫外線を照射させ、一定時間後の近赤外線透過率を測定
した。測定結果は他の実施例及び比較例と共に表１に示
す。

【００４７】（実施例２）３８０ｎｍ以下の紫外線をカ
ットするＰＤＰ用フイルターを用いた以外は、実施例１
と同様に積層体を作成し、同様に評価した。

【００４８】（実施例３）ジイモニウム系近赤外線吸収
剤「ｌＲＧ−０２２」（日本化薬（株）製）０．１重量
部を、ポリエステルバインダー「バイロン２０ＳＳ」
（東洋紡（株）製）５Ｏ重量部に添加し、トルエン１５
重量部、メチルエチルケトン３５重量部で希釈したもの
を、厚み１００μｍのポリエステルフイルムにコーティ
ングし、乾燥して、厚み１μｍの近赤外線吸収層を得
た。このフィルムの両面に、アルミニウム酸化亜鉛（高
純度化学（株）製のターゲット、酸化アルミニウム濃度
２重量％）をスパッタリングによりポリエステルフィル
ムに蒸着したものを、貼り合わせ、近赤外線カットフィ
ルターとした。このフイルターを実施例１と同様に評価
した。

【００４９】（実施例４）ジイモニウム系近赤外線吸収
剤「ＣｌＲ−１０８０」（みどり化学（株）製）Ｏ．３
重量部、フタロシアニン系近赤外線吸収剤「ＥＸ８０３
Ｋ」（日本触媒（株）製）０．１５重量部を、ポリエス
テルバインダー「バイロン２０ＳＳ」（東洋紡（株）
製）５０重量部に添加し、トルエン１５重量部、メチル
エチルケトン３５重量部で希釈したものを、近赤外線吸
収剤塗工液とした。この塗工液を１００μｍのポリエス
テルフィルムに、乾燥厚み１μｍになるように塗布し、
更にその両面に三菱レイヨン（株）製のアクリルフィル
ム、商品名「アクリプレンＨＢＳ」（分光曲線 図４）
を貼り合わせ、近赤外線吸収フィルターとした。

【００５０】このようにして得られた近赤外線吸収フィ
ルターを、ＰＭＭＡ板に、インジウム酸化スズ（ＩＴ
Ｏ）蒸着フィルムとともに貼合した後、両面にフツ素系
反射防止コーティングをして、プラズマディスプレイパ
ネル用フィルターとした。このフィルターは、近赤外線
吸収性能が経時的に低下せず、プラズマディスプレイパ
ネル用フィルターとして好適であった。

【００５１】（比較例１）３００ｎｍ以下の紫外線をカ
ットするフイルターを用いた以外は、実施例１と同様に
積層体を作成し、同様に評価した。

【００５２】

【表１】

【００５３】

【発明の効果】以上説明したように、本発明のプラズマ
ディスプレイパネル用フィルターによれば、紫外線遮蔽
層を設けて少なくともほぼ３５０ｎｍ以下の波長の紫外
線をカットして近赤外線吸収層にこの波長の近赤外線が
入射しないようにしたことから、長期間の使用にも近赤
外線吸収層の吸収性能が低下することがなく、プラズマ
ディスプレイパネルから放出される近赤外線をカットで
き、これにより赤外線で遠隔操作する各種の電気機器や
通信装置などに対する誤動作発生の防止を長期間に亘っ
て保障することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】紫外線遮蔽層を設けた７つのＰＤＰ用フィルタ
ーにおける紫外線の透過率とその波長の関係を示す特性
図である。

【図２】近赤外線吸収層としてジイモニウム色素コート
層の光劣化特性を示す特性図である。

【図３】本発明のプラズマディスプレイパネル用フィル
ターの層構成を概略的に示す構成説明図である。

【図４】本発明のプラズマディスプレイパネル用フィル
ターにおける実施例で使用した三菱レイヨン株式会社製
のアクリルフィルム、商品名「アクリプレンＨＢＳ」の
分光曲線を示す特性図である。

【符号の説明】 １０ プラズマディスプレイパネル用フィルター １１ 基板 １２ 接着剤 １３ 紫外線遮蔽層 １４ 近赤外線吸収層 １５ 電磁波シールド層 １６ 紫外線遮蔽層 １７ 支持フィルム １８ 反射防止層 １９ ハードコート層 ２０ 反射防止層

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 プラズマディスプレイパネルの前面に取
   り付けられるフィルターであって、 近赤外線吸収層と、少なくともほぼ３５０ｎｍより下の
   波長の紫外線をカットする紫外線遮蔽層とを備えるプラ
   ズマディスプレイパネル用フィルター。
2. 【請求項２】 前記紫外線遮蔽層が、前記近赤外線吸収
   層より前記プラズマディスプレイパネル側及びその反対
   側のいずれか一方若しくは両方に設けられていることを
   特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネ
   ル用フィルター。
3. 【請求項３】 前記近赤外線吸収層がジイモニウム系化
   合物を含むことを特徴とする請求項１又は２に記載のプ
   ラズマディスプレイパネル用フィルター。
4. 【請求項４】 前記プラズマディスプレイパネル用フィ
   ルターが、更に電磁波シールド層を備えていることを特
   徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のプラズマディ
   スプレイパネル用フィルター。
5. 【請求項５】 前記電磁波シールド層がアルミニウム酸
   化亜鉛から構成され、この電磁波シールド層が前記紫外
   線遮蔽層を兼用していることを特徴とする請求項４に記
   載のプラズマディスプレイパネル用フィルター。
6. 【請求項６】 前記プラズマディスプレイパネル用フィ
   ルターにおける８５０〜１０００ｎｍの近赤外線透過率
   が１５％以下であることを特徴とする請求項１〜５のい
   ずれかに記載のプラズマディスプレイパネル用フィルタ
   ー。
7. 【請求項７】 前記プラズマディスプレイパネル用フィ
   ルターにおける４００〜７００ｎｍの可視光線透過率が
   ５０％以上であることを特徴とする請求項１〜５のいず
   れかに記載のプラズマディスプレイパネル用フィルタ
   ー。