JPH10186127A - プラズマディスプレー用近赤外線吸収フィルター - Google Patents
プラズマディスプレー用近赤外線吸収フィルターInfo
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- JPH10186127A JPH10186127A JP8341380A JP34138096A JPH10186127A JP H10186127 A JPH10186127 A JP H10186127A JP 8341380 A JP8341380 A JP 8341380A JP 34138096 A JP34138096 A JP 34138096A JP H10186127 A JPH10186127 A JP H10186127A
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- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
- Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
- Optical Filters (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 プラズマディスプレーから放射される近赤外
線光を効率よくカットでき、周辺機器の誤動作が防止で
きるプラズマディスプレー用フィルターを提供する。 【解決手段】 基材中に一般式（Ｉ）で表されるポリメ
チン系化合物を少なくとも一種含有してなるプラズマデ
ィスプレー用近赤外線吸収フィルター。 【化１】
線光を効率よくカットでき、周辺機器の誤動作が防止で
きるプラズマディスプレー用フィルターを提供する。 【解決手段】 基材中に一般式（Ｉ）で表されるポリメ
チン系化合物を少なくとも一種含有してなるプラズマデ
ィスプレー用近赤外線吸収フィルター。 【化１】
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ディスプレーから
でる近赤外線光（８００〜１０００ｎｍ）をカットし、
周辺電子機器の誤動作を防止するフィルターに関する。
でる近赤外線光（８００〜１０００ｎｍ）をカットし、
周辺電子機器の誤動作を防止するフィルターに関する。
【０００２】更に詳しくは、近赤外線吸収剤であるポリ
メチン系化合物を含有し、可視光線透過率が高く、かつ
近赤外線光のカット効率の高いプラズマディスプレー用
近赤外線吸収フィルターに関する。
メチン系化合物を含有し、可視光線透過率が高く、かつ
近赤外線光のカット効率の高いプラズマディスプレー用
近赤外線吸収フィルターに関する。
【０００３】
【従来の技術】近年、大型の薄型テレビ、薄型ディスプ
レー用途等に、プラズマディスプレーが注目され、すで
に市場に出始めている。しかし、プラズマディスプレー
からでる近赤外線光がコードレスホン、近赤外線リモコ
ンを使うビデオデッキ等、周辺にある電子機器に作用
し、誤動作を起こす問題を発見した。近赤外線吸収色素
を用いて近赤外線吸収フィルターを作製することは知ら
れているが、ディスプレーによる誤動作を防止する具体
的な方策については全く知られていない。
レー用途等に、プラズマディスプレーが注目され、すで
に市場に出始めている。しかし、プラズマディスプレー
からでる近赤外線光がコードレスホン、近赤外線リモコ
ンを使うビデオデッキ等、周辺にある電子機器に作用
し、誤動作を起こす問題を発見した。近赤外線吸収色素
を用いて近赤外線吸収フィルターを作製することは知ら
れているが、ディスプレーによる誤動作を防止する具体
的な方策については全く知られていない。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、ディ
スプレーからでる周辺電子機器の誤動作を引き起こす近
赤外線領域である８００〜９００ｎｍ、更に好ましくは
８００〜１０００ｎｍの領域の光をカットするととも
に、ディスプレーの鮮明度を阻害しないような可視光線
透過率の高い実用的なフィルターを提供することであ
る。
スプレーからでる周辺電子機器の誤動作を引き起こす近
赤外線領域である８００〜９００ｎｍ、更に好ましくは
８００〜１０００ｎｍの領域の光をカットするととも
に、ディスプレーの鮮明度を阻害しないような可視光線
透過率の高い実用的なフィルターを提供することであ
る。
【０００５】ポリメチン系化合物はもともとは写真用増
感色素として開発されたものであり、一般的に光安定性
が低いためその用途が限定されてきた。近年、エレクト
ロニクス産業の発展に伴い、用途に応じた機能と物性を
持つ材料が要望されており、ポリメチン系化合物につい
ても種々改良がなされ、光ディスク用記録媒体やレーザ
ー感熱用記録媒体、近赤外線吸収フィルター等の用途に
活発に検討されている。これらの用途のためには、特に
長波長域に吸収を有することが望まれる。そのために
は、通常、共役メチン鎖を長くすることが必要である
が、共役メチン鎖の伸長につれて色素の安定性も著しく
低下するのが現状であり、構造改変による新しい色素の
開発が求められている。
感色素として開発されたものであり、一般的に光安定性
が低いためその用途が限定されてきた。近年、エレクト
ロニクス産業の発展に伴い、用途に応じた機能と物性を
持つ材料が要望されており、ポリメチン系化合物につい
ても種々改良がなされ、光ディスク用記録媒体やレーザ
ー感熱用記録媒体、近赤外線吸収フィルター等の用途に
活発に検討されている。これらの用途のためには、特に
長波長域に吸収を有することが望まれる。そのために
は、通常、共役メチン鎖を長くすることが必要である
が、共役メチン鎖の伸長につれて色素の安定性も著しく
低下するのが現状であり、構造改変による新しい色素の
開発が求められている。
【０００６】現在実用化されているポリメチン系化合物
としては、例えば式（Ａ）の化合物がよく知られてい
る。しかしながら、式（Ａ）の化合物は８００ｎｍ〜１
０００ｎｍの近赤外域の吸収能に劣り、光安定性が低
く、また溶剤に対する溶解性も低いため、実用的なプラ
ズマディスプレー用近赤外線吸収フィルターを作製する
ことはできない。
としては、例えば式（Ａ）の化合物がよく知られてい
る。しかしながら、式（Ａ）の化合物は８００ｎｍ〜１
０００ｎｍの近赤外域の吸収能に劣り、光安定性が低
く、また溶剤に対する溶解性も低いため、実用的なプラ
ズマディスプレー用近赤外線吸収フィルターを作製する
ことはできない。
【０００７】
【化２】
【０００８】また、本発明のポリメチン系化合物とは全
く構造の異なるものであるが、部分的に類似の置換基を
有する化合物として、特開平１−１５３７５３号公報の
第５０頁３行に、両端がビスインドリル基であるポリメ
チン系化合物（式（Ｂ））が開示されている。また、特
開平５−１１２０７８号公報には、第１３〜１４頁に具
体例（化合物Ｎｏ．１０）として末端基がジアルキルア
ミノフェニル基であるポリメチン系化合物（式（Ｃ））
が開示されている。
く構造の異なるものであるが、部分的に類似の置換基を
有する化合物として、特開平１−１５３７５３号公報の
第５０頁３行に、両端がビスインドリル基であるポリメ
チン系化合物（式（Ｂ））が開示されている。また、特
開平５−１１２０７８号公報には、第１３〜１４頁に具
体例（化合物Ｎｏ．１０）として末端基がジアルキルア
ミノフェニル基であるポリメチン系化合物（式（Ｃ））
が開示されている。
【０００９】
【化３】
【００１０】
【化４】
【００１１】しかしながら、これらの化合物は可視領域
の吸収が高い、あるいは溶剤に対する溶解性が低いため
プラズマディスプレー用近赤外線吸収フィルターには不
適合である。
の吸収が高い、あるいは溶剤に対する溶解性が低いため
プラズマディスプレー用近赤外線吸収フィルターには不
適合である。
【００１２】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するために鋭意検討した結果、従来のポリメチン
系化合物にない高い安定性を示す、ある種のポリメチン
系化合物を用いることにより、誤動作が問題となる近赤
外線光を効率よくカットし、しかも、ディスプレーの鮮
明度を阻害しない高い可視光線透過率を持つ実用的なプ
ラズマディスプレー用近赤外線吸収フィルターができる
ことを見出して、本発明を完成するに至った。即ち、本
発明は、 基材に一般式（Ｉ）で表されるポリメチン系化合物を
少なくとも１種含有してなるプラズマディスプレー用近
赤外線吸収フィルター、 電磁波カット層を設けた前記のプラズマディスプレ
ー用近赤外線吸収フィルター、 反射防止層を設けた前記〜のいずれかのプラズマ
ディスプレー用近赤外線吸収フィルター、 ぎらつき防止（ノングレア）層を設けた前記〜の
いずれかのプラズマディスプレー用近赤外線吸収フィル
ター、 可視光線透過率が４０％以上で、かつ、８００〜９０
０ｎｍの平均光線透過率が１０％以下である前記〜
のいずれかのプラズマディスプレー用近赤外線吸収フィ
ルター、 可視光線透過率が４０％以上で、かつ、８００〜１０
００ｎｍの平均透過率が１０％以下である前記のプラ
ズマディスプレー用近赤外線吸収フィルター、に関する
ものである。
を解決するために鋭意検討した結果、従来のポリメチン
系化合物にない高い安定性を示す、ある種のポリメチン
系化合物を用いることにより、誤動作が問題となる近赤
外線光を効率よくカットし、しかも、ディスプレーの鮮
明度を阻害しない高い可視光線透過率を持つ実用的なプ
ラズマディスプレー用近赤外線吸収フィルターができる
ことを見出して、本発明を完成するに至った。即ち、本
発明は、 基材に一般式（Ｉ）で表されるポリメチン系化合物を
少なくとも１種含有してなるプラズマディスプレー用近
赤外線吸収フィルター、 電磁波カット層を設けた前記のプラズマディスプレ
ー用近赤外線吸収フィルター、 反射防止層を設けた前記〜のいずれかのプラズマ
ディスプレー用近赤外線吸収フィルター、 ぎらつき防止（ノングレア）層を設けた前記〜の
いずれかのプラズマディスプレー用近赤外線吸収フィル
ター、 可視光線透過率が４０％以上で、かつ、８００〜９０
０ｎｍの平均光線透過率が１０％以下である前記〜
のいずれかのプラズマディスプレー用近赤外線吸収フィ
ルター、 可視光線透過率が４０％以上で、かつ、８００〜１０
００ｎｍの平均透過率が１０％以下である前記のプラ
ズマディスプレー用近赤外線吸収フィルター、に関する
ものである。
【００１３】
【化５】 〔式（Ｉ）中、Ｒ1、Ｒ7はアルキル基、アルコキシアル
キル基、アラルキル基を示し、Ｒ2、Ｒ8はアルキル基、
シクロアルキル基、アリール基を示す。Ｒ3、Ｒ4、
Ｒ9、Ｒ10は水素原子、アルキル基、アルコキシアルキ
ル基、ヒドロキシアルキル基、シクロアルキル基、アリ
ール基を示し、これらがアルキル基である場合、Ｒ3と
Ｒ4及び／又はＲ9とＲ10が連結して、結合する窒素原子
とともに複素環を形成してもよい。Ｒ5、Ｒ6、Ｒ11、Ｒ
12は水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原
子を示し、Ｚは酸性残基を示す。〕
キル基、アラルキル基を示し、Ｒ2、Ｒ8はアルキル基、
シクロアルキル基、アリール基を示す。Ｒ3、Ｒ4、
Ｒ9、Ｒ10は水素原子、アルキル基、アルコキシアルキ
ル基、ヒドロキシアルキル基、シクロアルキル基、アリ
ール基を示し、これらがアルキル基である場合、Ｒ3と
Ｒ4及び／又はＲ9とＲ10が連結して、結合する窒素原子
とともに複素環を形成してもよい。Ｒ5、Ｒ6、Ｒ11、Ｒ
12は水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原
子を示し、Ｚは酸性残基を示す。〕
【００１４】
【発明の実施の形態】本発明で使用する一般式（Ｉ）で
表わされるポリメチン化合物の製造方法は特に限定され
るわけではないが、通常、下記一般式（II）で表わされ
るエチレン化合物の少なくとも１種と、下記式（III）
で表わされる１，３−プロペンジアニルの酸性塩とを酸
性物質の存在下、脱水性有機酸中にて反応させることで
製造することができる。
表わされるポリメチン化合物の製造方法は特に限定され
るわけではないが、通常、下記一般式（II）で表わされ
るエチレン化合物の少なくとも１種と、下記式（III）
で表わされる１，３−プロペンジアニルの酸性塩とを酸
性物質の存在下、脱水性有機酸中にて反応させることで
製造することができる。
【００１５】
【化６】 〔式（II）中、Ｒ1はアルキル基、アルコキシアルキル
基、アラルキル基を示し、Ｒ2はアルキル基、シクロア
ルキル基、アリール基を示し、Ｒ3、Ｒ4は水素原子、ア
ルキル基、アルコキシアルキル基、ヒドロキシアルキル
基、シクロアルキル基、アリール基を示し、これらがア
ルキル基である場合、Ｒ3とＲ4が連結して、結合する窒
素原子とともに複素環を形成してもよい。Ｒ5、Ｒ6は水
素原子、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子を示
す。）
基、アラルキル基を示し、Ｒ2はアルキル基、シクロア
ルキル基、アリール基を示し、Ｒ3、Ｒ4は水素原子、ア
ルキル基、アルコキシアルキル基、ヒドロキシアルキル
基、シクロアルキル基、アリール基を示し、これらがア
ルキル基である場合、Ｒ3とＲ4が連結して、結合する窒
素原子とともに複素環を形成してもよい。Ｒ5、Ｒ6は水
素原子、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子を示
す。）
【００１６】
【化７】 （式（III）中、Ｚ2は酸性残基を示す。）
【００１７】本発明のディスプレー用フィルターは、基
材に一般式（Ｉ）で表されるポリメチン系化合物を少な
くとも１種含有するものである。本発明で用いる一般式
（Ｉ）で表されるポリメチン系化合物中、Ｒ1〜Ｒ12で
表される置換基及びＺについて、以下に具体的に記載す
る。
材に一般式（Ｉ）で表されるポリメチン系化合物を少な
くとも１種含有するものである。本発明で用いる一般式
（Ｉ）で表されるポリメチン系化合物中、Ｒ1〜Ｒ12で
表される置換基及びＺについて、以下に具体的に記載す
る。
【００１８】Ｒ1、Ｒ7がアルキル基であるものとして
は、炭素数１〜８のアルキル基であるものが好ましく、
特に炭素数１〜６の直鎖、分枝のアルキル基が好まし
い。具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピ
ル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、
ｓｅｃ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、
ネオペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、ｎ
−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｔｅｒｔ−オクチル
基、ドデシル基が挙げられる。アルコキシアルキル基で
あるものとしては、総炭素数２〜８のアルコキシアルキ
ル基であるもの好ましく、具体例としては、メトキシエ
チル基、メトキシプロピル基、メトキシブチル基、エト
キシメチル基、エトキシエチル基、メトキシエチル基、
エトキシプロピル基、エトキシブチル基、メトキシエト
キシエチル基、エトキシエトキシエチル基が挙げられ
る。アラルキル基であるもののアリール部分としては、
置換基を有してもよいフェニル基、ナフチル基が好まし
く、これら置換基としては、炭素数１〜４のアルキル
基、ハロゲン原子、炭素数１〜４のアルコキシ基が好ま
しい。アラルキル基のアルキレン部分としては炭素数１
〜４のアルキレン基であるものが好ましい。アラルキル
基としては特にベンジル基が好ましい。
は、炭素数１〜８のアルキル基であるものが好ましく、
特に炭素数１〜６の直鎖、分枝のアルキル基が好まし
い。具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピ
ル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、
ｓｅｃ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、
ネオペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、ｎ
−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｔｅｒｔ−オクチル
基、ドデシル基が挙げられる。アルコキシアルキル基で
あるものとしては、総炭素数２〜８のアルコキシアルキ
ル基であるもの好ましく、具体例としては、メトキシエ
チル基、メトキシプロピル基、メトキシブチル基、エト
キシメチル基、エトキシエチル基、メトキシエチル基、
エトキシプロピル基、エトキシブチル基、メトキシエト
キシエチル基、エトキシエトキシエチル基が挙げられ
る。アラルキル基であるもののアリール部分としては、
置換基を有してもよいフェニル基、ナフチル基が好まし
く、これら置換基としては、炭素数１〜４のアルキル
基、ハロゲン原子、炭素数１〜４のアルコキシ基が好ま
しい。アラルキル基のアルキレン部分としては炭素数１
〜４のアルキレン基であるものが好ましい。アラルキル
基としては特にベンジル基が好ましい。
【００１９】Ｒ2、Ｒ8がアルキル基であるものとして
は、炭素数１〜８のアルキル基が好ましく、特に炭素数
１〜４の直鎖のアルキル基が好ましい。具体例として
は、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピ
ル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル
基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル
基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、ｎ−ヘプチル
基、ｎ−オクチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、ドデシル
基が挙げられる。シクロアルキル基であるものとして
は、炭素数５〜７のシクロアルキル基が好ましく、特に
シクロヘキシル基が好ましい。アリール基であるものと
しては、置換基を有してもよいフェニル基、ナフチル基
が好ましく、これら置換基としては炭素数１〜４の直鎖
のアルキル基、ハロゲン原子、炭素数１〜４のアルコキ
シが好ましく、特にメチル基、エチル基、塩素原子、メ
トキシ基、エトキシ基が好ましい。
は、炭素数１〜８のアルキル基が好ましく、特に炭素数
１〜４の直鎖のアルキル基が好ましい。具体例として
は、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピ
ル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル
基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル
基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、ｎ−ヘプチル
基、ｎ−オクチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、ドデシル
基が挙げられる。シクロアルキル基であるものとして
は、炭素数５〜７のシクロアルキル基が好ましく、特に
シクロヘキシル基が好ましい。アリール基であるものと
しては、置換基を有してもよいフェニル基、ナフチル基
が好ましく、これら置換基としては炭素数１〜４の直鎖
のアルキル基、ハロゲン原子、炭素数１〜４のアルコキ
シが好ましく、特にメチル基、エチル基、塩素原子、メ
トキシ基、エトキシ基が好ましい。
【００２０】Ｒ3、Ｒ4、Ｒ9、Ｒ10がアルキル基である
ものとしては、炭素数１〜８のアルキル基が好ましく、
特に炭素数１〜４のアルキル基が好ましい。具体例とし
ては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロ
ピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル
基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル
基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、ｎ−ヘプチル
基、ｎ−オクチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基が挙げられ
る。Ｒ3とＲ4及び／又はＲ9とＲ10が連結して、結合す
る窒素原子とともに複素環を形成したものとしては、ピ
ロリジノ基、ピペラジノ基が挙げられる。アルコキシア
ルキル基であるものとしては、総炭素数１〜８のアルコ
キシアルキル基が好ましく、特に総炭素数１〜４のアル
コキシアルキル基が好ましい。具体例としては、メトキ
シエチル基、メトキシプロピル基、メトキシブチル基、
エトキシメチル基、エトキシエチル基、メトキシエチル
基、エトキシプロピル基、エトキシブチル基、メトキシ
エトキシエチル基、エトキシエトキシエチル基が挙げら
れる。ヒドロキシアルキル基であるものとしては、炭素
数１〜８のヒドロキシアルキル基が好ましく、特に総炭
素数１〜４のヒドロキシアルキル基が好ましい。具体例
としては、ヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基、
ヒドロキシプロピル基、ヒドロキシブチル基が挙げられ
る。シクロアルキル基であるものとしては、総炭素数５
〜７のシクロアルキル基が好ましく、特にシクロヘキシ
ル基が好ましい。アリール基であるものとしては置換基
を有してもよいフェニル基、ナフチル基が好ましく、こ
れら置換基としては炭素数１〜４の直鎖のアルキル基、
ハロゲン原子、総炭素数１〜４のアルコキシが好まし
く、特にメチル基、エチル基、塩素原子、メトキシ基、
エトキシ基が好ましい。
ものとしては、炭素数１〜８のアルキル基が好ましく、
特に炭素数１〜４のアルキル基が好ましい。具体例とし
ては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロ
ピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル
基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル
基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、ｎ−ヘプチル
基、ｎ−オクチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基が挙げられ
る。Ｒ3とＲ4及び／又はＲ9とＲ10が連結して、結合す
る窒素原子とともに複素環を形成したものとしては、ピ
ロリジノ基、ピペラジノ基が挙げられる。アルコキシア
ルキル基であるものとしては、総炭素数１〜８のアルコ
キシアルキル基が好ましく、特に総炭素数１〜４のアル
コキシアルキル基が好ましい。具体例としては、メトキ
シエチル基、メトキシプロピル基、メトキシブチル基、
エトキシメチル基、エトキシエチル基、メトキシエチル
基、エトキシプロピル基、エトキシブチル基、メトキシ
エトキシエチル基、エトキシエトキシエチル基が挙げら
れる。ヒドロキシアルキル基であるものとしては、炭素
数１〜８のヒドロキシアルキル基が好ましく、特に総炭
素数１〜４のヒドロキシアルキル基が好ましい。具体例
としては、ヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基、
ヒドロキシプロピル基、ヒドロキシブチル基が挙げられ
る。シクロアルキル基であるものとしては、総炭素数５
〜７のシクロアルキル基が好ましく、特にシクロヘキシ
ル基が好ましい。アリール基であるものとしては置換基
を有してもよいフェニル基、ナフチル基が好ましく、こ
れら置換基としては炭素数１〜４の直鎖のアルキル基、
ハロゲン原子、総炭素数１〜４のアルコキシが好まし
く、特にメチル基、エチル基、塩素原子、メトキシ基、
エトキシ基が好ましい。
【００２１】Ｒ5、Ｒ6、Ｒ11、Ｒ12がアルキル基である
ものとしては、炭素数１〜８のアルキル基が好ましく、
特に炭素数１〜４のアルキル基が好ましい。具体例とし
ては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロ
ピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル
基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル
基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、ｎ−ヘプチル
基、ｎ−オクチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、ドデシル
基が挙げられる。アルコキシ基であるものとしては、総
炭素数１〜８のアルコキシ基が好ましく、特に総炭素数
１〜４のアルコキシ基が好ましい。具体例としては、メ
トキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、メ
トキシエトキシ基、メトキシプロポキシ基、エトキシメ
トキシ基、エトキシエトキシ基が挙げられる。ハロゲン
原子であるものとしては、特に臭素原子、塩素原子、フ
ッ素原子が好ましい。
ものとしては、炭素数１〜８のアルキル基が好ましく、
特に炭素数１〜４のアルキル基が好ましい。具体例とし
ては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロ
ピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル
基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル
基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、ｎ−ヘプチル
基、ｎ−オクチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、ドデシル
基が挙げられる。アルコキシ基であるものとしては、総
炭素数１〜８のアルコキシ基が好ましく、特に総炭素数
１〜４のアルコキシ基が好ましい。具体例としては、メ
トキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、メ
トキシエトキシ基、メトキシプロポキシ基、エトキシメ
トキシ基、エトキシエトキシ基が挙げられる。ハロゲン
原子であるものとしては、特に臭素原子、塩素原子、フ
ッ素原子が好ましい。
【００２２】酸性残基Ｚとしては、Ｆ-、Ｃｌ-、Ｂ
ｒ-、Ｉ-、ＣｌＯ4 -、ＢＦ4 -、ＰＦ6 -、ＳｂＦ6 -、ＣＨ
3ＣＯＯ-、ＣＨ3ＳＯ3 -、ＣＦ3ＳＯ3 -等を例示できる
が、好ましくはＩ-、ＣｌＯ4 -、ＢＦ4 -、ＰＦ6 -、Ｓｂ
Ｆ6 -、ＣＨ3ＳＯ3 -である。
ｒ-、Ｉ-、ＣｌＯ4 -、ＢＦ4 -、ＰＦ6 -、ＳｂＦ6 -、ＣＨ
3ＣＯＯ-、ＣＨ3ＳＯ3 -、ＣＦ3ＳＯ3 -等を例示できる
が、好ましくはＩ-、ＣｌＯ4 -、ＢＦ4 -、ＰＦ6 -、Ｓｂ
Ｆ6 -、ＣＨ3ＳＯ3 -である。
【００２３】本発明の一般式（Ｉ）で表わされる化合物
の具体例を表−１に示す。なお、表−１において、Ｐｈ
はフェニル基を、ｃｙｃｌ−Ｃ6Ｈ11はシクロヘキシル
基を示す。
の具体例を表−１に示す。なお、表−１において、Ｐｈ
はフェニル基を、ｃｙｃｌ−Ｃ6Ｈ11はシクロヘキシル
基を示す。
【００２４】
【表１】
【００２５】
【表２】
【００２６】
【表３】
【００２７】本発明のプラズマディスプレー用近赤外線
吸収フィルターは、前記のポリメチン系化合物を基材に
含有してなるもので、本発明でいう基材に含有すると
は、基材の内部に含有されることは勿論、基材の表面に
塗布した状態、基材と基材の間に挟まれた状態等を意味
する。
吸収フィルターは、前記のポリメチン系化合物を基材に
含有してなるもので、本発明でいう基材に含有すると
は、基材の内部に含有されることは勿論、基材の表面に
塗布した状態、基材と基材の間に挟まれた状態等を意味
する。
【００２８】基材としては、透明樹脂板、透明フィル
ム、透明ガラス等が挙げられる。
ム、透明ガラス等が挙げられる。
【００２９】上記ポリメチン系化合物を用いて、本願の
プラズマディスプレー用近赤外線吸収フィルターを作製
する方法としては、特に限定されるものではないが、例
えば、以下の３つの方法が利用できる。 （１）樹脂にポリメチン系化合物を混練し、加熱成形し
て樹脂板或いはフィルムを作製する方法、（２）ポリメ
チン系化合物を含有する塗料を作製し、透明樹脂板、透
明フィルム、或いは透明ガラス板上にコーティングする
方法、（３）ポリメチン系化合物を接着剤に含有させ
て、合わせ樹脂板、合わせ樹脂フィルム、合わせガラス
等を作製する方法、等である。
プラズマディスプレー用近赤外線吸収フィルターを作製
する方法としては、特に限定されるものではないが、例
えば、以下の３つの方法が利用できる。 （１）樹脂にポリメチン系化合物を混練し、加熱成形し
て樹脂板或いはフィルムを作製する方法、（２）ポリメ
チン系化合物を含有する塗料を作製し、透明樹脂板、透
明フィルム、或いは透明ガラス板上にコーティングする
方法、（３）ポリメチン系化合物を接着剤に含有させ
て、合わせ樹脂板、合わせ樹脂フィルム、合わせガラス
等を作製する方法、等である。
【００３０】まず、樹脂にポリメチン系化合物を混練
し、加熱成形する（１）の方法において、樹脂材料とし
ては、樹脂板または樹脂フィルムにした場合にできるだ
け透明性の高いものが好ましく、具体例として、ポリエ
チレン、ポリスチレン、ポリアクリル酸、ポリアクリル
酸エステル、ポリ酢酸ビニル、ポリアクリロニトリル、
ポリ塩化ビニル、ポリフッ化ビニル等のビニル化合物、
及びそれらのビニル化合物の付加重合体、ポリメタクリ
ル酸、ポリメタクリル酸エステル、ポリ塩化ビニリデ
ン、ポリフッ化ビニリデン、ポリシアン化ビニリデン、
フッ化ビニリデン／トリフルオロエチレン共重合体、フ
ッ化ビニリデン／テトラフルオロエチレン共重合体、シ
アン化ビニリデン／酢酸ビニル共重合体等のビニル化合
物又はフッ素系化合物の共重合体、ポリトリフルオロエ
チレン、ポリテトラフルオロエチレン、ポリヘキサフル
オロプロピレン等のフッ素を含む樹脂、ナイロン６、ナ
イロン６６等のポリアミド、ポリイミド、ポリウレタ
ン、ポリペプチド、ポリエチレンテレフタレート等のポ
リエステル、ポリカーボネート、ポリオキシメチレン、
ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド等のポ
リエーテル、エポキシ樹脂、ポリビニルアルコール、ポ
リビニルブチラール等を挙げることが出来るが、これら
の樹脂に限定されるものではなく、ガラス代替となるよ
うな高硬度、高透明性を有する樹脂、チオウレタン系等
の熱硬化樹脂、ＡＲＴＯＮ（登録商標、日本合成ゴム
（株）製）、ＺＥＯＮＥＸ（登録商標、日本ゼオン
（株）製）、ＯＰＴＯＲＥＺ（登録商標、日立化成
（株）製）、Ｏ−ＰＥＴ（登録商標、鐘紡（株）製）等
の光学用樹脂を用いることも好ましい。
し、加熱成形する（１）の方法において、樹脂材料とし
ては、樹脂板または樹脂フィルムにした場合にできるだ
け透明性の高いものが好ましく、具体例として、ポリエ
チレン、ポリスチレン、ポリアクリル酸、ポリアクリル
酸エステル、ポリ酢酸ビニル、ポリアクリロニトリル、
ポリ塩化ビニル、ポリフッ化ビニル等のビニル化合物、
及びそれらのビニル化合物の付加重合体、ポリメタクリ
ル酸、ポリメタクリル酸エステル、ポリ塩化ビニリデ
ン、ポリフッ化ビニリデン、ポリシアン化ビニリデン、
フッ化ビニリデン／トリフルオロエチレン共重合体、フ
ッ化ビニリデン／テトラフルオロエチレン共重合体、シ
アン化ビニリデン／酢酸ビニル共重合体等のビニル化合
物又はフッ素系化合物の共重合体、ポリトリフルオロエ
チレン、ポリテトラフルオロエチレン、ポリヘキサフル
オロプロピレン等のフッ素を含む樹脂、ナイロン６、ナ
イロン６６等のポリアミド、ポリイミド、ポリウレタ
ン、ポリペプチド、ポリエチレンテレフタレート等のポ
リエステル、ポリカーボネート、ポリオキシメチレン、
ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド等のポ
リエーテル、エポキシ樹脂、ポリビニルアルコール、ポ
リビニルブチラール等を挙げることが出来るが、これら
の樹脂に限定されるものではなく、ガラス代替となるよ
うな高硬度、高透明性を有する樹脂、チオウレタン系等
の熱硬化樹脂、ＡＲＴＯＮ（登録商標、日本合成ゴム
（株）製）、ＺＥＯＮＥＸ（登録商標、日本ゼオン
（株）製）、ＯＰＴＯＲＥＺ（登録商標、日立化成
（株）製）、Ｏ−ＰＥＴ（登録商標、鐘紡（株）製）等
の光学用樹脂を用いることも好ましい。
【００３１】作製方法としては、用いるベース樹脂によ
って、加工温度、フィルム化条件等が多少異なるが、通
常、ポリメチン系化合物を、ベース樹脂の粉体或いはペ
レットに添加し、１５０〜３５０℃に加熱、溶解させた
後、成形して樹脂板を作製する方法、押し出し機に
よりフィルム化する方法、押し出し機により原反を作
製し、３０〜１２０℃で２〜５倍に、１軸乃至は２軸に
延伸して１０〜２００μｍ厚のフィルムにする方法、等
が挙げられる。なお、混練する際に、紫外線吸収剤、可
塑剤等の通常の樹脂成型に用いる添加剤を加えてもよ
い。ポリメチン系化合物の添加量は、作製する樹脂の厚
み、目的の吸収強度、目的の可視光透過率等によって異
なるが、通常、１ｐｐｍ〜２０％である。また、ポリメ
チン系化合物とメタクリル酸メチル等の塊状重合による
キャスティング法を用いた樹脂板、樹脂フィルムを作製
することもできる。
って、加工温度、フィルム化条件等が多少異なるが、通
常、ポリメチン系化合物を、ベース樹脂の粉体或いはペ
レットに添加し、１５０〜３５０℃に加熱、溶解させた
後、成形して樹脂板を作製する方法、押し出し機に
よりフィルム化する方法、押し出し機により原反を作
製し、３０〜１２０℃で２〜５倍に、１軸乃至は２軸に
延伸して１０〜２００μｍ厚のフィルムにする方法、等
が挙げられる。なお、混練する際に、紫外線吸収剤、可
塑剤等の通常の樹脂成型に用いる添加剤を加えてもよ
い。ポリメチン系化合物の添加量は、作製する樹脂の厚
み、目的の吸収強度、目的の可視光透過率等によって異
なるが、通常、１ｐｐｍ〜２０％である。また、ポリメ
チン系化合物とメタクリル酸メチル等の塊状重合による
キャスティング法を用いた樹脂板、樹脂フィルムを作製
することもできる。
【００３２】塗料化してコーティングする（２）の方法
としては、本発明のポリメチン系化合物をバインダー樹
脂及び有機系溶媒に溶解させて塗料化する方法、ポリメ
チン系化合物を数μｍ以下に微粒化してアクリルエマル
ジョン中に分散して水系塗料とする方法、等がある。前
者の方法では、通常、脂肪族エステル系樹脂、アクリル
系樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、芳香族エステル
系樹脂、ポリカーボネート樹脂、脂肪族ポリオレフィン
樹脂、芳香族ポリオレフィン樹脂、ポリビニル系樹脂、
ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニル系変性樹脂（Ｐ
ＶＢ、ＥＶＡ等）或いはそれらの共重合樹脂をバインダ
ー樹脂として用いる。更にＡＲＴＯＮ（登録商標、日本
合成ゴム（株）製）、ＺＥＯＮＥＸ（登録商標、日本ゼ
オン（株）製）、ＯＰＴＯＲＥＺ（登録商標、日立化成
（株）製）、Ｏ−ＰＥＴ（登録商標、鐘紡（株）製）等
の光学用樹脂を用いることもできる。
としては、本発明のポリメチン系化合物をバインダー樹
脂及び有機系溶媒に溶解させて塗料化する方法、ポリメ
チン系化合物を数μｍ以下に微粒化してアクリルエマル
ジョン中に分散して水系塗料とする方法、等がある。前
者の方法では、通常、脂肪族エステル系樹脂、アクリル
系樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、芳香族エステル
系樹脂、ポリカーボネート樹脂、脂肪族ポリオレフィン
樹脂、芳香族ポリオレフィン樹脂、ポリビニル系樹脂、
ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニル系変性樹脂（Ｐ
ＶＢ、ＥＶＡ等）或いはそれらの共重合樹脂をバインダ
ー樹脂として用いる。更にＡＲＴＯＮ（登録商標、日本
合成ゴム（株）製）、ＺＥＯＮＥＸ（登録商標、日本ゼ
オン（株）製）、ＯＰＴＯＲＥＺ（登録商標、日立化成
（株）製）、Ｏ−ＰＥＴ（登録商標、鐘紡（株）製）等
の光学用樹脂を用いることもできる。
【００３３】溶媒としては、ハロゲン系、アルコール
系、ケトン系、エステル系、脂肪族炭化水素系、芳香族
炭化水素系、エーテル系溶媒、あるいはそれらの混合物
系等を用いる。
系、ケトン系、エステル系、脂肪族炭化水素系、芳香族
炭化水素系、エーテル系溶媒、あるいはそれらの混合物
系等を用いる。
【００３４】ポリメチン系化合物の濃度は、コーティン
グの厚み、目的の吸収強度、目的の可視光透過率等によ
って異なるが、バインダー樹脂の重量に対して、通常、
０．１〜３０％である。
グの厚み、目的の吸収強度、目的の可視光透過率等によ
って異なるが、バインダー樹脂の重量に対して、通常、
０．１〜３０％である。
【００３５】また、バインダー樹脂濃度は、塗料全体に
対して、通常、１〜５０％である。
対して、通常、１〜５０％である。
【００３６】アクリルエマルジョン系水系塗料の場合も
同様に、未着色のアクリルエマルジョン塗料にポリメチ
ン系化合物を微粉砕（５０〜５００ｎｍ）したものを分
散させて得られる。塗料中には、紫外線吸収剤、酸化防
止剤等の通常塗料に用いるような添加物を加えてもよ
い。
同様に、未着色のアクリルエマルジョン塗料にポリメチ
ン系化合物を微粉砕（５０〜５００ｎｍ）したものを分
散させて得られる。塗料中には、紫外線吸収剤、酸化防
止剤等の通常塗料に用いるような添加物を加えてもよ
い。
【００３７】上記の方法で作製した塗料は、透明樹脂フ
ィルム、透明樹脂、透明ガラス等の上にバーコーダー、
ブレードコーター、スピンコーター、リバースコータ
ー、ダイコーター、或いはスプレー等でコーティングし
て、本発明のプラズマディスプレー用近赤外線吸収フィ
ルターを作製する。
ィルム、透明樹脂、透明ガラス等の上にバーコーダー、
ブレードコーター、スピンコーター、リバースコータ
ー、ダイコーター、或いはスプレー等でコーティングし
て、本発明のプラズマディスプレー用近赤外線吸収フィ
ルターを作製する。
【００３８】コーティング面を保護するために保護層を
設けたり、透明樹脂板、透明樹脂フィルム等をコーティ
ング面に貼り合わせることもできる。また、キャストフ
ィルムも本方法に含まれる。
設けたり、透明樹脂板、透明樹脂フィルム等をコーティ
ング面に貼り合わせることもできる。また、キャストフ
ィルムも本方法に含まれる。
【００３９】ポリメチン系化合物を接着剤に含有させ
て、合わせ樹脂板、合わせ樹脂フィルム、合わせガラス
等を作製する（３）の方法においては、接着剤として、
一般的なシリコン系、ウレタン系、アクリル系等の樹脂
用、或いは合わせガラス用のポリビニルブチラール接着
剤（ＰＶＢ）、エチレン−酢酸ビニル系接着剤（ＥＶ
Ａ）等の合わせガラス用の公知の透明接着剤が使用でき
る。
て、合わせ樹脂板、合わせ樹脂フィルム、合わせガラス
等を作製する（３）の方法においては、接着剤として、
一般的なシリコン系、ウレタン系、アクリル系等の樹脂
用、或いは合わせガラス用のポリビニルブチラール接着
剤（ＰＶＢ）、エチレン−酢酸ビニル系接着剤（ＥＶ
Ａ）等の合わせガラス用の公知の透明接着剤が使用でき
る。
【００４０】ポリメチン系化合物を０．１〜３０％添加
した接着剤を用いて透明な樹脂板同士、樹脂板と樹脂フ
ィルム、樹脂板とガラス、樹脂フィルム同士、樹脂フィ
ルムとガラス、ガラス同士を接着してフィルターを作製
する。また、熱圧着する方法もある。更に上記の方法で
作製したフィルムあるいは板を、必要に応じて、ガラス
板や、樹脂板上に貼り付けることもできる。フィルター
の厚みは作製するプラズマディスプレーの仕様によって
異なるが、通常０．１〜１０ｍｍ程度である。また、フ
ィルターの耐光性を上げるためにＵＶ吸収剤を含有した
透明フィルム（ＵＶカットフィルム）を外側に貼り付け
ることもできる。
した接着剤を用いて透明な樹脂板同士、樹脂板と樹脂フ
ィルム、樹脂板とガラス、樹脂フィルム同士、樹脂フィ
ルムとガラス、ガラス同士を接着してフィルターを作製
する。また、熱圧着する方法もある。更に上記の方法で
作製したフィルムあるいは板を、必要に応じて、ガラス
板や、樹脂板上に貼り付けることもできる。フィルター
の厚みは作製するプラズマディスプレーの仕様によって
異なるが、通常０．１〜１０ｍｍ程度である。また、フ
ィルターの耐光性を上げるためにＵＶ吸収剤を含有した
透明フィルム（ＵＶカットフィルム）を外側に貼り付け
ることもできる。
【００４１】プラズマディスプレー用の誤動作防止フィ
ルターとして、ディスプレーから放射される近赤外線光
をカットするべくディスプレーの前面に設置するため、
可視光線の透過率が低いと、画像の鮮明さが低下するこ
とから、フィルターの可視光線の透過率は高い程良く、
少なくとも４０％以上、好ましくは５０％以上必要であ
る。
ルターとして、ディスプレーから放射される近赤外線光
をカットするべくディスプレーの前面に設置するため、
可視光線の透過率が低いと、画像の鮮明さが低下するこ
とから、フィルターの可視光線の透過率は高い程良く、
少なくとも４０％以上、好ましくは５０％以上必要であ
る。
【００４２】また、近赤外線光のカット領域は特に問題
になる波長としてリモコンや伝送系光通信に使用されて
いる８００〜９００ｎｍ、好ましくは、８００〜１００
０ｎｍであり、その領域の平均光線透過率が１０％以下
になるように設計する。このために必要で有れば、上記
の一般式（Ｉ）で表されるポリメチン系化合物を２種類
以上組み合わせることもできるし、他の近赤外線吸収色
素と組み合わせて使うこともできる。また、スパッタリ
ング等の電磁波カット層を設けた場合、９００〜１００
０付近の近赤外線領域を反射するため、該ポリメチン系
化合物の使用量を減らすこともできる。
になる波長としてリモコンや伝送系光通信に使用されて
いる８００〜９００ｎｍ、好ましくは、８００〜１００
０ｎｍであり、その領域の平均光線透過率が１０％以下
になるように設計する。このために必要で有れば、上記
の一般式（Ｉ）で表されるポリメチン系化合物を２種類
以上組み合わせることもできるし、他の近赤外線吸収色
素と組み合わせて使うこともできる。また、スパッタリ
ング等の電磁波カット層を設けた場合、９００〜１００
０付近の近赤外線領域を反射するため、該ポリメチン系
化合物の使用量を減らすこともできる。
【００４３】また、フィルターの色調を変えるために、
可視領域に吸収を持つ他の色素を加えることも好まし
い。また、調色用色素のみを含有するフィルターを作製
し、後で貼り合わせることもできる。特に、スパッタリ
ング等の電磁波カット層を設けた場合、元のフィルター
色に比べて色合いが大きく異なる場合があるため、調色
は重要である。
可視領域に吸収を持つ他の色素を加えることも好まし
い。また、調色用色素のみを含有するフィルターを作製
し、後で貼り合わせることもできる。特に、スパッタリ
ング等の電磁波カット層を設けた場合、元のフィルター
色に比べて色合いが大きく異なる場合があるため、調色
は重要である。
【００４４】上記の方法で得たフィルターを更に実用的
にするためには、プラズマディスプレーから出る電磁波
を遮断する電磁波カット層、反射防止（ＡＲ）層、ノン
グレア（ＡＧ）層を設けることもできる。それらの作製
方法は特に制限を受けない。
にするためには、プラズマディスプレーから出る電磁波
を遮断する電磁波カット層、反射防止（ＡＲ）層、ノン
グレア（ＡＧ）層を設けることもできる。それらの作製
方法は特に制限を受けない。
【００４５】例えば、電磁波カット層は、金属酸化物等
のスパッタリング方法等が利用できるが、通常はＳｎを
添加したＩｎ2Ｏ3（ＩＴＯ）が一般的であるが、誘電体
層と金属層を基材上に交互にスパッタリング等で積層さ
せることで、近赤外線、遠赤外線から電磁波まで１００
０ｎｍ以上の光をカットすることもできる。誘電体層と
しては酸化インジウム、酸化亜鉛等の透明な金属酸化物
等であり、金属層としては銀あるいは銀−パラジウム合
金が一般的であり、通常、誘電体層よりはじまり３層、
５層、７層あるいは１１層程度積層する。この場合、デ
ィスプレーより出る熱も同時にカットできる。基材とし
ては、ポリメチン系化合物を含有するフィルターをその
まま利用しても良いし、樹脂フィルムあるいはガラス上
にスパッタリングした後にポリメチン系化合物を含有す
るフィルターと貼り合わせても良い。また、電磁波カッ
トを実際に行う場合はアース用の電極を設置する必要が
ある。
のスパッタリング方法等が利用できるが、通常はＳｎを
添加したＩｎ2Ｏ3（ＩＴＯ）が一般的であるが、誘電体
層と金属層を基材上に交互にスパッタリング等で積層さ
せることで、近赤外線、遠赤外線から電磁波まで１００
０ｎｍ以上の光をカットすることもできる。誘電体層と
しては酸化インジウム、酸化亜鉛等の透明な金属酸化物
等であり、金属層としては銀あるいは銀−パラジウム合
金が一般的であり、通常、誘電体層よりはじまり３層、
５層、７層あるいは１１層程度積層する。この場合、デ
ィスプレーより出る熱も同時にカットできる。基材とし
ては、ポリメチン系化合物を含有するフィルターをその
まま利用しても良いし、樹脂フィルムあるいはガラス上
にスパッタリングした後にポリメチン系化合物を含有す
るフィルターと貼り合わせても良い。また、電磁波カッ
トを実際に行う場合はアース用の電極を設置する必要が
ある。
【００４６】反射防止層は、表面の反射を抑えてフィル
ターの透過率を向上させるために、金属酸化物、フッ化
物、ケイ化物、ホウ化物、炭化物、窒化物、硫化物等の
無機物を、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレ
ーティング法、イオンビームアシスト法等で単層あるい
は多層に積層させる方法、アクリル樹脂、フッ素樹脂等
の屈折率の異なる樹脂を単層あるいは多層に積層させる
方法等がある。また、反射防止処理を施したフィルムを
該フィルター上に貼り付けることもできる。
ターの透過率を向上させるために、金属酸化物、フッ化
物、ケイ化物、ホウ化物、炭化物、窒化物、硫化物等の
無機物を、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレ
ーティング法、イオンビームアシスト法等で単層あるい
は多層に積層させる方法、アクリル樹脂、フッ素樹脂等
の屈折率の異なる樹脂を単層あるいは多層に積層させる
方法等がある。また、反射防止処理を施したフィルムを
該フィルター上に貼り付けることもできる。
【００４７】また必要であればノングレアー（ＡＧ）層
を設けることもできる。ノングレアー（ＡＧ）層は、フ
ィルターの視野角を広げる目的で、透過光を散乱させる
ために、シリカ、メラミン、アクリル等の微粉体をイン
キ化して、表面にコーティングする方法等を用いること
ができる。インキの硬化は熱硬化あるいは光硬化等を用
いることができる。また、ノングレア処理をしたフィル
ムを該フィルター上に貼り付けることもできる。更に必
要で有ればハードコート層を設けることもできる。
を設けることもできる。ノングレアー（ＡＧ）層は、フ
ィルターの視野角を広げる目的で、透過光を散乱させる
ために、シリカ、メラミン、アクリル等の微粉体をイン
キ化して、表面にコーティングする方法等を用いること
ができる。インキの硬化は熱硬化あるいは光硬化等を用
いることができる。また、ノングレア処理をしたフィル
ムを該フィルター上に貼り付けることもできる。更に必
要で有ればハードコート層を設けることもできる。
【００４８】プラズマディスプレー用近赤外線吸収フィ
ルターの構成は、必要に応じて変えることができるが、
通常、ポリメチン系化合物を含有する基材上に電磁波カ
ット層を設け、更にその上に反射防止層を設ける。更に
必要であれば反射防止層の反対側にノングレアー層を設
けることができる。
ルターの構成は、必要に応じて変えることができるが、
通常、ポリメチン系化合物を含有する基材上に電磁波カ
ット層を設け、更にその上に反射防止層を設ける。更に
必要であれば反射防止層の反対側にノングレアー層を設
けることができる。
【００４９】本発明のプラズマディスプレー用近赤外線
吸収フィルターは可視光線透過率が高いためディスプレ
ーの鮮明度が損なわれず、ディスプレーから放射される
８００〜１０００ｎｍ付近の近赤外線光を効率よくカッ
トできるため、周辺電子機器のリモコン、伝送系光通信
等が使用する波長に悪影響を与えず、それらの誤動作を
防ぐことができる。
吸収フィルターは可視光線透過率が高いためディスプレ
ーの鮮明度が損なわれず、ディスプレーから放射される
８００〜１０００ｎｍ付近の近赤外線光を効率よくカッ
トできるため、周辺電子機器のリモコン、伝送系光通信
等が使用する波長に悪影響を与えず、それらの誤動作を
防ぐことができる。
【００５０】
【実施例】以下、本発明を実施例により、更に詳細に説
明する。本発明はこれによりなんら制限されるものでは
ない。
明する。本発明はこれによりなんら制限されるものでは
ない。
【００５１】実施例１ 表−１の化合物（１）で示されるポリメチン系化合物
１．０ｇおよびポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）
〔「デルペット８０Ｎ」、商品名、旭化成工業（株）
製〕１０ｋｇを２８０℃で溶融混練して、押し出し成型
機を用いて、厚み２ｍｍのフィルターを作製した。該フ
ィルターについて、（株）島津製作所製分光光度計ＵＶ
−３１００にて透過率を測定した。可視光線透過率（Ｔ
ｖ）は７５．５％（ＪＩＳ−Ｒ−３１０６に従って計算
した）、８００〜９００ｎｍの平均光線透過率は３．１
％であった。
１．０ｇおよびポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）
〔「デルペット８０Ｎ」、商品名、旭化成工業（株）
製〕１０ｋｇを２８０℃で溶融混練して、押し出し成型
機を用いて、厚み２ｍｍのフィルターを作製した。該フ
ィルターについて、（株）島津製作所製分光光度計ＵＶ
−３１００にて透過率を測定した。可視光線透過率（Ｔ
ｖ）は７５．５％（ＪＩＳ−Ｒ−３１０６に従って計算
した）、８００〜９００ｎｍの平均光線透過率は３．１
％であった。
【００５２】実施例２ 実施例１において、表−１の化合物（１）の代わりに、
表−１の化合物（２）を１．０ｇを用いた以外は、実施
例１とまったく同様にしてフィルターを作製した。
表−１の化合物（２）を１．０ｇを用いた以外は、実施
例１とまったく同様にしてフィルターを作製した。
【００５３】このフィルターについて、同様に透過率を
測定したところ、Ｔｖ＝７５．５％、８００〜９００ｎ
ｍの平均光線透過率は３．５％であった。
測定したところ、Ｔｖ＝７５．５％、８００〜９００ｎ
ｍの平均光線透過率は３．５％であった。
【００５４】実施例３ 実施例１において、表−１の化合物（１）を単独に用い
る代わりに、化合物（１）を１．５ｇと化合物（３）を
０．５ｇの混合物を用いた以外は、実施例１と同様にし
てフィルターを作製した。
る代わりに、化合物（１）を１．５ｇと化合物（３）を
０．５ｇの混合物を用いた以外は、実施例１と同様にし
てフィルターを作製した。
【００５５】このフィルターについて、同様に透過率を
測定したところ、Ｔｖ＝６２．５％、８００〜１０００
ｎｍの平均光線透過率は８．０％であった。
測定したところ、Ｔｖ＝６２．５％、８００〜１０００
ｎｍの平均光線透過率は８．０％であった。
【００５６】該フィルターをプラズマディスプレーの画
面に設置して、リモコンを使用する電子機器をディスプ
レーから３ｍ離して誤動作を確認したところ、フィルタ
ーがない場合は誤動作を起こしたが、フィルターを設置
した場合は誤動作が起こらなかった。
面に設置して、リモコンを使用する電子機器をディスプ
レーから３ｍ離して誤動作を確認したところ、フィルタ
ーがない場合は誤動作を起こしたが、フィルターを設置
した場合は誤動作が起こらなかった。
【００５７】実施例４ 三井東圧化学（株）社製「ユーバンＳＥ−６０」（登録
商標）と、同社製「アルマテクス７４８−５Ｍ」（登録
商標）を３：７で混合させた液体（１００ｇ）と、実施
例３の化合物（１）（２ｇ）、化合物（３）（１ｇ）お
よびトルエン（４８ｇ）を混合させ、厚み５０μｍのポ
リエチレンテレフタレートフィルムにコーティングし、
１３０℃で１５分間乾燥させてフィルターを作製した。
商標）と、同社製「アルマテクス７４８−５Ｍ」（登録
商標）を３：７で混合させた液体（１００ｇ）と、実施
例３の化合物（１）（２ｇ）、化合物（３）（１ｇ）お
よびトルエン（４８ｇ）を混合させ、厚み５０μｍのポ
リエチレンテレフタレートフィルムにコーティングし、
１３０℃で１５分間乾燥させてフィルターを作製した。
【００５８】このフィルターについて、同様に透過率を
測定したところ、Ｔｖ＝６１．２％であり、８００〜１
０００ｎｍの平均光線透過率は９．０％であった。
測定したところ、Ｔｖ＝６１．２％であり、８００〜１
０００ｎｍの平均光線透過率は９．０％であった。
【００５９】該フィルターを実施例３と同様にプラズマ
ディスプレーの画面に設置して、リモコンを使用する電
子機器の誤動作を確認したところ誤動作は起こらなかっ
た。また更に実施例１と同様に耐久性試験を行ったがフ
ィルターの劣化は見られず、試験後も誤動作は起こらな
かった。
ディスプレーの画面に設置して、リモコンを使用する電
子機器の誤動作を確認したところ誤動作は起こらなかっ
た。また更に実施例１と同様に耐久性試験を行ったがフ
ィルターの劣化は見られず、試験後も誤動作は起こらな
かった。
【００６０】実施例５ 実施例４で作製したポリエチレンテレフタレートフィル
ターの片面にターゲットにインジウムを、スパッタガス
にアルゴン・酸素混合ガス（全圧２６６ｍＰａ：酸素分
圧８０ｍＰａ）を用いて、酸化インジウム薄膜を、ター
ゲットに銀を、スパッタガスにアルゴンガス（全圧２６
６ｍＰａ）を用いて銀薄膜を、マグネトロンＤＣスパッ
タリング法により、酸化インジウム薄膜４０ｎｍ、銀薄
膜１０ｎｍ、酸化インジウム薄膜７０ｎｍ、銀薄膜１０
ｎｍ、酸化インジウム薄膜７０ｎｍ、銀薄膜１０ｎｍ、
酸化インジウム薄膜７０ｎｍ、銀薄膜１０ｎｍ、酸化イ
ンジウム薄膜３０ｎｍの順に積層し、電磁波カット層を
作製した。更に、該フィルター（４７２ｍｍ×３５０ｍ
ｍ）の薄膜形成面に銀ペースト（三井東圧化学（株）
製）をスクリーン印刷し、乾燥させて厚さ２０ミクロ
ン、幅１０mmの金属電極を形成した。
ターの片面にターゲットにインジウムを、スパッタガス
にアルゴン・酸素混合ガス（全圧２６６ｍＰａ：酸素分
圧８０ｍＰａ）を用いて、酸化インジウム薄膜を、ター
ゲットに銀を、スパッタガスにアルゴンガス（全圧２６
６ｍＰａ）を用いて銀薄膜を、マグネトロンＤＣスパッ
タリング法により、酸化インジウム薄膜４０ｎｍ、銀薄
膜１０ｎｍ、酸化インジウム薄膜７０ｎｍ、銀薄膜１０
ｎｍ、酸化インジウム薄膜７０ｎｍ、銀薄膜１０ｎｍ、
酸化インジウム薄膜７０ｎｍ、銀薄膜１０ｎｍ、酸化イ
ンジウム薄膜３０ｎｍの順に積層し、電磁波カット層を
作製した。更に、該フィルター（４７２ｍｍ×３５０ｍ
ｍ）の薄膜形成面に銀ペースト（三井東圧化学（株）
製）をスクリーン印刷し、乾燥させて厚さ２０ミクロ
ン、幅１０mmの金属電極を形成した。
【００６１】更に片面にノングレア層を有する厚さ２ｍ
ｍのＰＭＭＡ板（三菱レーヨン（株）製アクリルフィル
ターＭＲ−ＮＧ）のノングレア層の形成されていない面
と上記フィルターの導電面側とを貼り合わせて、ディス
プレー用フィルターを作製した。
ｍのＰＭＭＡ板（三菱レーヨン（株）製アクリルフィル
ターＭＲ−ＮＧ）のノングレア層の形成されていない面
と上記フィルターの導電面側とを貼り合わせて、ディス
プレー用フィルターを作製した。
【００６２】実施例３と同様に誤動作試験を行ったとこ
ろ該フィルターを設置した場合誤動作は起こらなかっ
た。
ろ該フィルターを設置した場合誤動作は起こらなかっ
た。
【００６３】実施例６ ポリメチン系化合物に加えて、赤色系色素（三井東圧染
料（株）製、ＰＳバイオレットＲＣ）２ｇを添加して調
色した以外は実施例４と全く同様にしてフィルターを作
製した。そのフィルム上に実施例５と同様の電磁波カッ
ト層および電極をを形成した後、厚さ３ミリの強化ガラ
ス板に貼り付けた。更にその両側に、反射防止フィルム
（日本油脂（株）製、「リアルックフィルム」、（商品
名））を貼り付けてニュートラル色のプラズマディスプ
レー用近赤外線吸収フィルターを作製した。実施例３と
同様に誤動作試験を行ったところ該フィルターを設置し
た場合誤動作は起こらなかった。
料（株）製、ＰＳバイオレットＲＣ）２ｇを添加して調
色した以外は実施例４と全く同様にしてフィルターを作
製した。そのフィルム上に実施例５と同様の電磁波カッ
ト層および電極をを形成した後、厚さ３ミリの強化ガラ
ス板に貼り付けた。更にその両側に、反射防止フィルム
（日本油脂（株）製、「リアルックフィルム」、（商品
名））を貼り付けてニュートラル色のプラズマディスプ
レー用近赤外線吸収フィルターを作製した。実施例３と
同様に誤動作試験を行ったところ該フィルターを設置し
た場合誤動作は起こらなかった。
【００６４】
【発明の効果】本願発明のフィルターは、可視光線透過
率が高いためディスプレーの鮮明度を阻害せず、ディス
プレーからでる８００〜１０００ｎｍ付近の近赤外線光
を効率よくカットするため、周辺電子機器の誤動作を抑
制する優れた性能を有する。
率が高いためディスプレーの鮮明度を阻害せず、ディス
プレーからでる８００〜１０００ｎｍ付近の近赤外線光
を効率よくカットするため、周辺電子機器の誤動作を抑
制する優れた性能を有する。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｈ０１Ｊ 9/20 Ｇ０２Ｂ 1/10 Ａ 17/16 Ｚ (72)発明者 清野 和浩 神奈川県横浜市栄区笠間町1190番地 三井 東圧化学株式会社内 (72)発明者 藤田 繁雄 大阪府八尾市弓削町南一丁目43番地 山本 化成株式会社内 (72)発明者 熊谷 洋二郎 大阪府八尾市弓削町南一丁目43番地 山本 化成株式会社内
Claims (6)
- 【請求項１】 基材に一般式（Ｉ）で表されるポリメチ
ン系化合物を少なくとも１種含有してなるプラズマディ
スプレー用近赤外線吸収フィルター。 【化１】 〔式（Ｉ）中、Ｒ1、Ｒ7はアルキル基、アルコキシアル
キル基、アラルキル基を示し、Ｒ2、Ｒ8はアルキル基、
シクロアルキル基、アリール基を示す。Ｒ3、Ｒ4、
Ｒ9、Ｒ10は水素原子、アルキル基、アルコキシアルキ
ル基、ヒドロキシアルキル基、シクロアルキル基、アリ
ール基を示し、これらがアルキル基である場合、Ｒ3と
Ｒ4及び／又はＲ9とＲ10が連結して、結合する窒素原子
とともに複素環を形成してもよい。Ｒ5、Ｒ6、Ｒ11、Ｒ
12は水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原
子を示し、Ｚは酸性残基を示す。〕 - 【請求項２】 電磁波カット層を設けた請求項１に記載
のプラズマディスプレー用近赤外線吸収フィルター。 - 【請求項３】 反射防止層を設けた請求項１〜２のいず
れかに記載のプラズマディスプレー用近赤外線吸収フィ
ルター。 - 【請求項４】 ぎらつき防止（ノングレア）層を設けた
請求項１〜３のいずれかに記載のプラズマディスプレー
用近赤外線吸収フィルター。 - 【請求項５】 可視光線透過率が４０％以上で、かつ、
８００〜９００ｎｍの平均透過率が１０％以下である請
求項１〜４のいずれかに記載のプラズマディスプレー用
近赤外線吸収フィルター。 - 【請求項６】 可視光線透過率が４０％以上で、かつ、
８００〜１０００ｎｍの平均透過率が１０％以下である
請求項５に記載のプラズマディスプレー用近赤外線吸収
フィルター。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34138096A JP3682347B2 (ja) | 1996-12-20 | 1996-12-20 | プラズマディスプレー用近赤外線吸収フィルター |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34138096A JP3682347B2 (ja) | 1996-12-20 | 1996-12-20 | プラズマディスプレー用近赤外線吸収フィルター |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10186127A true JPH10186127A (ja) | 1998-07-14 |
| JP3682347B2 JP3682347B2 (ja) | 2005-08-10 |
Family
ID=18345620
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP34138096A Expired - Fee Related JP3682347B2 (ja) | 1996-12-20 | 1996-12-20 | プラズマディスプレー用近赤外線吸収フィルター |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3682347B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000098131A (ja) * | 1998-09-28 | 2000-04-07 | Nitto Denko Corp | プラズマディスプレイパネル用フィルター |
| WO2000053552A1 (fr) * | 1999-03-05 | 2000-09-14 | Mitsubishi Chemical Corporation | Composes de squarylium, filtres pour panneaux d'ecrans a plasma fabriques a partir de tels composes et panneaux d'ecrans a plasma |
| JP2002006102A (ja) * | 2000-06-19 | 2002-01-09 | Nof Corp | 近赤外線遮蔽性減反射材およびその用途 |
| JP2003035817A (ja) * | 2001-07-25 | 2003-02-07 | Asahi Denka Kogyo Kk | 光学フィルター |
-
1996
- 1996-12-20 JP JP34138096A patent/JP3682347B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000098131A (ja) * | 1998-09-28 | 2000-04-07 | Nitto Denko Corp | プラズマディスプレイパネル用フィルター |
| WO2000053552A1 (fr) * | 1999-03-05 | 2000-09-14 | Mitsubishi Chemical Corporation | Composes de squarylium, filtres pour panneaux d'ecrans a plasma fabriques a partir de tels composes et panneaux d'ecrans a plasma |
| US6746629B2 (en) | 1999-03-05 | 2004-06-08 | Mitsubishi Chemical Corporation | Squarylium compounds, filters for plasma display panels employing them, and plasma display panel devices |
| JP2002006102A (ja) * | 2000-06-19 | 2002-01-09 | Nof Corp | 近赤外線遮蔽性減反射材およびその用途 |
| JP2003035817A (ja) * | 2001-07-25 | 2003-02-07 | Asahi Denka Kogyo Kk | 光学フィルター |
| JP4666828B2 (ja) * | 2001-07-25 | 2011-04-06 | 株式会社Ａｄｅｋａ | 光学フィルター |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3682347B2 (ja) | 2005-08-10 |
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