JP2000121807A - 反射防止膜 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 反射防止機能に加えて適切な色補正機能を有
する反射防止膜を得る。 【解決手段】 染料およびポリマーバインダーを含むフ
ィルター層、透明支持体、および透明支持体の屈折率よ
りも低い屈折率を有する低屈折率層が、この順に積層さ
れている反射防止膜において、染料としてシアニン染料
を用い、さらに金属錯体をフィルター層に添加する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、透明支持体、低屈
折率層およびフィルター層を有する反射防止膜に関す
る。特に、本発明は液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマ
ディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセ
ンスディスプレイ（ＥＬＤ）、陰極管表示装置（ＣＲ
Ｔ）、蛍光表示管、電界放射型ディスプレイのような画
像表示装置の表面に、反射防止および色再現性改良のた
め取り付けられる反射防止膜に関する。

【０００２】

【従来の技術】液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディ
スプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンス
ディスプレイ（ＥＬＤ）、陰極管表示装置（ＣＲＴ）、
蛍光表示管、電界放射型ディスプレイのような画像表示
装置では、ディスプレイ上に背景が映り込む事でコント
ラストが低下する問題がある。この問題を解決するため
の手段として、様々な反射防止膜が提案されている。こ
れまでに提案された反射防止膜の反射防止機能層は、蒸
着層と塗布層に分類できる。光学的機能の観点では蒸着
層の方が優れているが、塗布層には製造が容易であると
の利点がある。蒸着層は、眼鏡やカメラのようなレンズ
の反射防止膜として古くから用いられている。蒸着層
は、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティ
ング法、ＣＶＤ法あるいはＰＶＤ法により形成する。塗
布層は、一般に、微粒子およびバインダーの塗布により
形成する。塗布層については、特開昭５９−４９５０１
号，同５９−５０４０１号、同６０−５９２５０号、特
開平７−４８５２７号の各公報に記載がある。

【０００３】画像表示装置には、反射防止に加えて、色
補正の必要もある。画像表示装置では、原則として、
赤、青、緑の三原色の光の組み合わせでカラー画像を表
示する。しかし、表示のための光を理想的な三原色にす
ることは、非常に難しい（実質的には不可能である）。
例えば、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）では、
三原色蛍光体からの発光に余分な光（波長が５６０乃至
６２０ｎｍの範囲）が含まれていることが知られてい
る。そこで、表示色の色バランスを補正するため特定の
波長の光を吸収するフィルターを用いて、色補正を行う
ことが提案されている。フィルターによる色補正につい
ては、特開昭５８−１５３９０４号、同６０−１１８７
４８号、同６０−１８７４９号、同６１−１８８５０１
号、特開平３−２３１９８８号、同５−２０３８０４
号、同５−２０５６４３号、同７−３０７１３３号、同
９−１４５９１８号、同９−３０６３６６号、同１０−
２６７０４号の各公報に記載がある。前記の反射防止膜
に、フィルター機能を組み込むことも考えられる。上記
の特開昭６１−１８８５０１号、特開平５−２０５６４
３号、同９−１４５９１８号、同９−３０６３６６号、
同１０−２６７０４号の各公報は、フィルター機能が組
み込まれた反射防止膜を開示している。特開昭６１−１
８８５０１号、特開平５−２０５６４３号、同９−１４
５９１８号、同９−３０６３６６号の各公報に記載の反
射防止膜では、反射防止膜の透明支持体に染料または顔
料を添加して、支持体をフィルターとして機能させてい
る。特開平１０−２６７０４号公報記載の反射防止膜で
は、透明支持体と反射防止層との間に設けられるハード
コート層（表面硬化層）を着色し、ハードコート層をフ
ィルターとして機能させている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】反射防止膜の透明支持
体あるいはハードコート層を着色すれば、透明支持体ま
たはハードコート層がフィルターとして機能する。しか
し、透明支持体やハードコート層に添加できる染料や顔
料は、種類が非常に限られる。透明支持体は、プラスチ
ックまたはガラス（通常はプラスチック）から製造す
る。透明支持体に添加する染料や顔料には、支持体の製
造時の温度に耐えられる程度の非常に高い耐熱性が要求
される。ハードコート層は、一般に架橋しているポリマ
ーを含む層である。ポリマーの架橋反応は、層の塗布後
に実施する。架橋のための反応条件では、褪色してしま
う染料や顔料が多い。例えば、ハロゲン化銀写真の分野
で開発されたシアニン染料は、様々な吸収スペクトル特
性を有する化合物がある。しかし、シアニン染料は、写
真材料の層（通常はゼラチン層）することを前提に開発
されており、透明支持体やハードコート層に添加する
と、褪色のような問題が生じる。色補正に使用する染料
または顔料には、画像表示装置の種類に応じて、様々な
吸収スペクトル特性が要求される。色補正に使用する染
料や顔料の種類が限られると、適切な補正を行うことが
難しくなる。

【０００５】本発明者は、使用できる染料の種類に制約
が多い透明支持体やハードコート層ではなく、穏和な条
件で形成できるポリマー層に、ハロゲン化銀写真の分野
で開発されたシアニン染料を添加し、ポリマー層をフィ
ルター層として機能させることを検討した。しかし、ポ
リマー層は、透明支持体やハードコート層と比較して、
染料の保護機能が弱い。ポリマー層にシアニン染料を添
加するためには、染料の耐久性（特に光堅牢性）を改善
する必要がある。本発明の目的は、反射防止機能に加え
て適切な色補正機能を有する反射防止膜を提供すること
である。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、下記
［１］〜［８］の反射防止膜により達成された。 ［１］染料およびポリマーバインダーを含むフィルター
層、透明支持体、および透明支持体の屈折率よりも低い
屈折率を有する低屈折率層が、この順に積層されている
反射防止膜であって、染料が下記式（１）で表されるシ
アニン染料であり、フィルター層がさらに下記式（２
ａ）で表される金属錯体を含むことを特徴とする反射防
止膜。

【０００７】

【化９】

【０００８】式中、Ｚ¹ およびＺ² は、それぞれ独立
に、５員または６員の含窒素複素環を形成する非金属原
子群であり；Ｒ¹ およびＲ² は、それぞれ独立に、アル
キル基、アルケニル基、アラルキル基またはアリール基
であり；Ｌ¹ は、奇数個のメチンからなるメチン鎖であ
り；Ｘはアニオンであり；そして、ａ、ｂおよびｃは、
それぞれ独立に、０または１である。

【０００９】

【化１０】

【００１０】式中、Ｌは、配位子であり；Ｍは、金属原
子であり；ｎ１は、１乃至１０の整数であり；そして、
ｍ１は、１または２である。 ［２］染料が下記式（３）で表されるシアニン染料であ
る［１］に記載の反射防止膜。

【００１１】

【化１１】

【００１２】式中、Ｒ³ 、Ｒ⁴ 、Ｒ⁵ およびＲ⁶ は、そ
れぞれ独立に、アルキル基、アルケニル基、アラルキル
基またはアリール基であり；Ｒ⁷ およびＲ⁸ は、それぞ
れ独立に、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ
基、ハロゲン原子、アルコキシカルボニル基、ハロゲン
化炭素基、アルキルチオ基、アリールチオ基、シアノ、
ニトロ、アミノ、アルキルアミノ基、アミド基、アシル
オキシ基、ヒドロキシル、スルホまたはカルボキシルで
あり；Ｌ² は、奇数個のメチンからなるメチン鎖であ
り；ｍ２およびｎ２は、それぞれ独立に、０、１、２、
３または４であり；Ｘはアニオンであり；そして、ｃ
は、０または１である。 ［３］シアニン染料と金属錯体とが下記式（４）で表さ
れる塩を形成している［１］に記載の反射防止膜。

【００１３】

【化１２】

【００１４】式中、Ｒ⁹ 、Ｒ¹⁰、Ｒ¹¹およびＲ¹²は、そ
れぞれ独立に、アルキル基、アルケニル基、アラルキル
基またはアリール基であり；Ｒ¹³およびＲ¹⁴は、それぞ
れ独立に、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ
基、ハロゲン原子、アルコキシカルボニル基、ハロゲン
化炭素基、アルキルチオ基、アリールチオ基、シアノ、
ニトロ、アミノ、アルキルアミノ基、アミド基、アシル
オキシ基、ヒドロキシル、スルホまたはカルボキシルで
あり；Ｌ³ は、奇数個のメチンからなるメチン鎖であ
り；ｍ３およびｎ３は、それぞれ独立に、０、１、２、
３または４であり；Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶、Ｒ¹⁷およびＲ¹⁸は、そ
れぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基また
はシアノであるか、あるいは、Ｒ¹⁵とＲ¹⁶またはＲ¹⁷と
Ｒ¹⁸とが結合して芳香族環を形成し；Ｙ¹ とＹ² は、そ
れぞれ独立に、Ｏ、ＳまたはＮＨであり；そしてＭは、
金属原子である。 ［４］式（４）において、Ｌ³ が、３個のメチンからな
るメチン鎖である［３］に記載の反射防止膜。 ［５］透明支持体、染料およびポリマーバインダーを含
むフィルター層、および透明支持体の屈折率よりも低い
屈折率を有する低屈折率層が、この順に積層されている
反射防止膜であって、染料が下記式（１）で表されるシ
アニン染料であり、フィルター層がさらに下記式（２
ａ）で表される金属錯体を含むことを特徴とする反射防
止膜。

【００１５】

【化１３】

【００１６】式中、Ｚ¹ およびＺ² は、それぞれ独立
に、５員または６員の含窒素複素環を形成する非金属原
子群であり；Ｒ¹ およびＲ² は、それぞれ独立に、アル
キル基、アルケニル基、アラルキル基またはアリール基
であり；Ｌ¹ は、奇数個のメチンからなるメチン鎖であ
り；Ｘはアニオンであり；そして、ａ、ｂおよびｃは、
それぞれ独立に、０または１である。

【００１７】

【化１４】

【００１８】式中、Ｌは、配位子であり；Ｍは、金属原
子であり；ｎ１は、１乃至１０の整数であり；そして、
ｍ１は、１または２である。 ［６］染料が下記式（３）で表されるシアニン染料であ
る［５］に記載の反射防止膜。

【００１９】

【化１５】

【００２０】式中、Ｒ³ 、Ｒ⁴ 、Ｒ⁵ およびＲ⁶ は、そ
れぞれ独立に、アルキル基、アルケニル基、アラルキル
基またはアリール基であり；Ｒ⁷ およびＲ⁸ は、それぞ
れ独立に、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ
基、ハロゲン原子、アルコキシカルボニル基、ハロゲン
化炭素基、アルキルチオ基、アリールチオ基、シアノ、
ニトロ、アミノ、アルキルアミノ基、アミド基、アシル
オキシ基、ヒドロキシル、スルホまたはカルボキシルで
あり；Ｌ² は、奇数個のメチンからなるメチン鎖であ
り；ｍ２およびｎ２は、それぞれ独立に、０、１、２、
３または４であり；Ｘはアニオンであり；そして、ｃ
は、０または１である。 ［７］シアニン染料と金属錯体とが下記式（４）で表さ
れる塩を形成している［５］に記載の反射防止膜。

【００２１】

【化１６】

【００２２】式中、Ｒ⁹ 、Ｒ¹⁰、Ｒ¹¹およびＲ¹²は、そ
れぞれ独立に、アルキル基、アルケニル基、アラルキル
基またはアリール基であり；Ｒ¹³およびＲ¹⁴は、それぞ
れ独立に、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ
基、ハロゲン原子、アルコキシカルボニル基、ハロゲン
化炭素基、アルキルチオ基、アリールチオ基、シアノ、
ニトロ、アミノ、アルキルアミノ基、アミド基、アシル
オキシ基、ヒドロキシル、スルホまたはカルボキシルで
あり；Ｌ³ は、奇数個のメチンからなるメチン鎖であ
り；ｍ３およびｎ３は、それぞれ独立に、０、１、２、
３または４であり；Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶、Ｒ¹⁷およびＲ¹⁸は、そ
れぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基また
はシアノであるか、あるいは、Ｒ¹⁵とＲ¹⁶またはＲ¹⁷と
Ｒ¹⁸とが結合して芳香族環を形成し；Ｙ¹ とＹ² は、そ
れぞれ独立に、Ｏ、ＳまたはＮＨであり；そしてＭは、
金属原子である。 ［８］式（４）において、Ｌ³ が、３個のメチンからな
るメチン鎖である［７］に記載の反射防止膜。

【００２３】

【発明の効果】本発明者は研究を進め、上記式（１）で
表されるシアニン染料と上記式（２ａ）で表される金属
錯体とを併用することで、シアニン染料に、反射防止膜
の（強い光を常時受ける）用途でも問題が生じない光堅
牢性を付与した。これにより、ハロゲン化銀写真の分野
で開発されている様々なシアニン染料を、反射防止膜の
技術分野で使用することが可能になった。ハロゲン化銀
写真の技術分野では、シアニン染料の吸収スペクトル特
性も詳細に研究されている。シアニン染料を使用するこ
とで、画像表示装置の種類に応じた適切な色補正機能を
行うことができる。

【００２４】

【発明の実施の形態】反射防止膜の代表的な層構成を、
図面を参照しながら説明する。図１は、フィルター層を
反射防止層とは透明支持体の反対の側に設けた反射防止
膜の層構成を示す断面模式図である。図１の（ａ）に示
す態様は、フィルター層（２）、透明支持体（１）、低
屈折率層（３）の順序の層構成を有する。透明支持体
（１）と低屈折率層（３）は、以下の関係を満足する屈
折率を有する。 低屈折率層の屈折率＜透明支持体の屈折率 図１の（ｂ）に示す態様は、フィルター層（２）、透明
支持体（１）、ハードコート層（４）、低屈折率層
（３）の順序の層構成を有する。 図１の（ｃ）に示す
態様は、フィルター層（２）、透明支持体（１）、ハー
ドコート層（４）、高屈折率層（５）、低屈折率層
（３）の順序の層構成を有する。透明支持体（１）、低
屈折率層（３）および高屈折率層（５）は、以下の関係
を満足する屈折率を有する。 低屈折率層の屈折率＜透明支持体の屈折率＜高屈折率層
の屈折率 図１の（ｄ）に示す態様は、フィルター層（２）、透明
支持体（１）、ハードコート層（４）、中屈折率層
（６）、高屈折率層（５）、低屈折率層（３）の順序の
層構成を有する。透明支持体（１）、低屈折率層
（３）、高屈折率層（５）および中屈折率層（６）は、
以下の関係を満足する屈折率を有する。 低屈折率層の屈折率＜透明支持体の屈折率＜中屈折率層
の屈折率＜高屈折率層の屈折率

【００２５】図２は、フィルター層と反射防止層とを透
明支持体の同じ側に設けた反射防止膜の層構成を示す断
面模式図である。図２の（ａ）に示す態様は、透明支持
体（１）、フィルター層（２）、低屈折率層（３）の順
序の層構成を有する。透明支持体（１）と低屈折率層
（３）の屈折率の関係は、図１の（ａ）と同様である。
図２の（ｂ）に示す態様は、透明支持体（１）、フィル
ター層（２）、ハードコート層（４）、低屈折率層
（３）の順序の層構成を有する。図２の（ｃ）に示す態
様は、透明支持体（１）、フィルター層（２）、ハード
コート層（４）、高屈折率層（５）、低屈折率層（３）
の順序の層構成を有する。透明支持体（１）、低屈折率
層（３）および高屈折率層（５）の屈折率の関係は、図
１の（ｃ）と同様である。図２の（ｄ）に示す態様は、
透明支持体（１）、フィルター層（２）、ハードコート
層（４）、中屈折率層（６）、高屈折率層（５）、低屈
折率層（３）の順序の層構成を有する。透明支持体
（１）、低屈折率層（３）、高屈折率層（５）および中
屈折率層（６）の屈折率の関係は、図１の（ｄ）と同様
である。

【００２６】（透明支持体）透明支持体を形成する材料
の例には、セルロースエステル（例、ジアセチルセルロ
ース、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、プロピオニ
ルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオ
ニルセルロース、ニトロセルロース）、ポリアミド、ポ
リカーボネート、ポリエステル（例、ポリエチレンテレ
フタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレン
テレフタレート、ポリ−１，４−シクロヘキサンジメチ
レンテレフタレート、ポリエチレン−１，２−ジフェノ
キシエタン−４，４’−ジカルボキシレート、ポリブチ
レンテレフタレート）、ポリスチレン（例、シンジオタ
クチックポリスチレン）、ポリオレフィン（例、ポリエ
チレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン）、ポリ
メチルメタクリレート、シンジオタクチックポリスチレ
ン、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテ
ルケトン、ポリエーテルイミドおよびポリオキシエチレ
ンが含まれる。トリアセチルセルロース、ポリカーボネ
ートおよびポリエチレンテレフタレートが好ましい。透
明支持体の透過率は８０％以上であることが好ましく、
８６％以上であることがさらに好ましい。ヘイズは、２
％以下であることが好ましく、１％以下であることがさ
らに好ましい。屈折率は、１．４５乃至１．７０である
ことが好ましい。透明支持体に、赤外線吸収剤あるいは
紫外線吸収剤を添加してもよい。赤外線吸収剤の添加量
は、透明支持体の０．０１乃至２０重量％であることが
好ましく、０．０５乃至１０重量％であることがさらに
好ましい。さらに滑り剤として、不活性無機化合物の粒
子を透明支持体に添加してもよい。無機化合物の例に
は、ＳｉＯ₂ 、ＴｉＯ₂ 、ＢａＳＯ₄ 、ＣａＣＯ₃ 、タ
ルクおよびカオリンが含まれる。透明支持体に、表面処
理を実施してもよい。表面処理の例には、薬品処理、機
械的処理、コロナ放電処理、火焔処理、紫外線照射処
理、高周波処理、グロー放電処理、活性プラズマ処理、
レーザー処理、混酸処理およびオゾン酸化処理が含まれ
る。グロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ放電処理
および火焔処理が好ましく、グロー放電処理と紫外線処
理がさらに好ましい。さらに、上層との接着強化のため
の下塗り層を設置してもよい。

【００２７】（反射防止層）反射防止層としては、低屈
折率層が必須である。低屈折率層の屈折率は、上記透明
支持体の屈折率よりも低い。低屈折率層の屈折率は、
１．２０乃至１．５５であることが好ましく、１．３０
乃至１．５５であることがさらに好ましい。低屈折率層
の厚さは、５０乃至４００ｎｍであることが好ましく、
５０乃至２００ｎｍであることがさらに好ましい。低屈
折率層は、屈折率の低い含フッ素ポリマーからなる層
（特開昭５７−３４５２６号、特開平３−１３０１０３
号、同６−１１５０２３号、同８−３１３７０２号、同
７−１６８００４号の各公報記載）、ゾルゲル法により
得られる層（特開平５−２０８８１１号、同６−２９９
０９１号、同７−１６８００３号の各公報記載）、ある
いは微粒子含む層（特公昭６０−５９２５０号、特開平
５−１３０２１号、同６−５６４７８号、同７−９２３
０６号、同９−２８８２０１号の各公報に記載）として
形成することができる。微粒子を含む層では、微粒子間
または微粒子内のミクロボイドとして、低屈折率層に空
隙を形成することができる。微粒子を含む層は、３乃至
５０体積％の空隙率を有することが好ましく、５乃至３
５体積％の空隙率を有することがさらに好ましい。

【００２８】広い波長領域の反射を防止するためには、
低屈折率層に加えて、屈折率の高い層（中・高屈折率
層）を積層することが好ましい。高屈折率層の屈折率
は、１．６５乃至２．４０であることが好ましく、１．
７０乃至２．２０であることがさらに好ましい。中屈折
率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈
折率との中間の値となるように調整する。中屈折率層の
屈折率は、１．５５乃至１．７０であることが好まし
い。中・高屈折率層の厚さは、５ｎｍ乃至１００μｍで
あることが好ましく、１０ｎｍ乃至１０μｍであること
がさらに好ましく、３０ｎｍ乃至１μｍであることが最
も好ましい。中・高屈折率層のヘイズは、５％以下であ
ることが好ましく、３％以下であることがさらに好まし
く、１％以下であることが最も好ましい。中・高屈折率
層は、比較的高い屈折率を有するポリマーバインダーを
用いて形成することができる。屈折率が高いポリマーの
例には、ポリスチレン、スチレン共重合体、ポリカーボ
ネート、メラミン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂
および環状（脂環式または芳香族）イソシアネートとポ
リオールとの反応で得られるポリウレタンが含まれる。
その他の環状（芳香族、複素環式、脂環式）基を有する
ポリマーや、フッ素以外のハロゲン原子を置換基として
有するポリマーも、屈折率が高い。二重結合を導入して
ラジカル硬化を可能にしたモノマーの重合反応によりポ
リマーを形成してもよい。

【００２９】さらに高い屈折率を得るため、ポリマーバ
インダー中に無機微粒子を分散してもよい。無機微粒子
の屈折率は、１．８０乃至２．８０であることが好まし
い。無機微粒子は、金属の酸化物または硫化物から形成
することが好ましい。金属の酸化物または硫化物の例に
は、二酸化チタン（例、ルチル、ルチル／アナターゼの
混晶、アナターゼ、アモルファス構造）、酸化錫、酸化
インジウム、酸化亜鉛、酸化ジルコニウムおよび硫化亜
鉛が含まれる。酸化チタン、酸化錫および酸化インジウ
ムが特に好ましい。無機微粒子は、これらの金属の酸化
物または硫化物を主成分とし、さらに他の元素を含むこ
とができる。主成分とは、粒子を構成する成分の中で最
も含有量（重量％）が多い成分を意味する。他の元素の
例には、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｍｎ、
Ｐｂ、Ｃｄ、Ａｓ、Ｃｒ、Ｈｇ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｓ
ｉ、ＰおよびＳが含まれる。被膜形成性で溶剤に分散し
得るか、それ自身が液状である無機材料、例えば、各種
元素のアルコキシド、有機酸の塩、配位性化合物と結合
した配位化合物（例、キレート化合物）、活性無機ポリ
マーを用いて、中・高屈折率層を形成することもでき
る。

【００３０】反射防止層は、表面をアンチグレア機能
（入射光を表面で散乱させて、膜周囲の景色が膜表面に
移るのを防止する機能）を付与することができる。例え
ば、透明フィルムの表面に微細な凹凸を形成し、そして
その表面に反射防止層を形成するか、あるいは反射防止
層を形成後、エンボスロールにより表面に凹凸を形成す
ることにより、アンチグレア機能を得ることができる。
アンチグレア機能を有する反射防止層は、一般に３乃至
３０％のヘイズを有する。

【００３１】（フィルター層）フィルター層の厚さは１
乃至１５μｍであることが好ましい。フィルター層は、
５６０乃至６１０ｎｍの波長領域（緑と赤の間）に吸収
極大を有することが好ましい。フィルター層の吸収スペ
クトルは、シャープであることが好ましい。具体的に
は、半幅値（吸収極大の吸光度の半分の吸光度を示す波
長領域の幅）は、１０乃至１２０ｎｍであることが好ま
しく、１５乃至１００ｎｍであることがさらに好まし
く、２０乃至７０ｎｍであることが最も好ましい。フィ
ルター層には、下記式（１）で表されるシアニン染料と
下記式（２ａ）で表される金属錯体とを組み合わせて使
用する。

【００３２】

【化１７】

【００３３】式（１）において、Ｚ¹ およびＺ² は、そ
れぞれ独立に、５員または６員の含窒素複素環を形成す
る非金属原子群である。含窒素複素環には、他の複素
環、芳香族環または脂肪族環が縮合していてもよい。含
窒素複素環およびその縮合環の例には、オキサゾール
環、イソオキサゾール環、ベンゾオキサゾール環、ナフ
トオキサゾール環、チアゾール環、ベンゾチアゾール
環、ナフトチアゾール環、インドレニン環、ベンゾイン
ドレニン環、イミダゾール環、ベンゾイミダゾール環、
ナフトイミダゾール環、キノリン環、ピリジン環、ピロ
ロピリジン環、フロピロール環、インドリジン環、イミ
ダゾキノキサリン環およびキノキサリン環が含まれる。
含窒素複素環は、５員環よりも６員環の方が好ましい。
５員の含窒素複素環に、ベンゼン環またはナフタレン環
が縮合していることがさらに好ましい。イミダゾキノキ
サリン環が最も好ましい。含窒素複素環およびそれに縮
合している環は、置換基を有していてもよい。置換基の
例には、アルキル基（例、メチル、エチル、プロピ
ル）、アルコキシ基（例、メトキシ、エトキシ）、アリ
ールオキシ基（例、フェノキシ、ｐ−クロロフェノキ
シ）、ハロゲン原子（Ｃｌ、Ｂｒ、Ｆ）、アルコキシカ
ルボニル基（例、エトキシカルボニル）、ハロゲン化炭
素基（例、トリフルオロメチル）、アルキルチオ基
（例、メチルチオ、エチルチオ、ブチルチオ）、アリー
ルチオ基（フェニルチオ、ｏ−カルボキシルフェニルチ
オ）、シアノ、ニトロ、アミノ、アルキルアミノ基
（例、メチルアミノ、エチルアミノ）、アミド基（例、
アセトアミド、プロピオンアミド）、アシルオキシ基
（例、アセトキシ、ブチリルオキシ）、ヒドロキシル、
スルホおよびカルボキシルが含まれる。スルホとカルボ
キシルは塩の状態であってもよい。

【００３４】式（１）において、Ｒ¹ およびＲ² は、そ
れぞれ独立に、アルキル基、アルケニル基、アラルキル
基またはアリール基である。アルキル基の炭素原子数
は、１乃至２０であることが好ましい。アルキル基は置
換基を有していてもよい。置換基の例には、ハロゲン原
子（Ｃｌ、Ｂｒ、Ｆ）、アルコキシカルボニル基（例、
メトキシカルボニル、エトキシカルボニル）、ヒドロキ
シル、スルホおよびカルボキシルが含まれる。スルホと
カルボキシルは塩の状態であってもよい。アルケニル基
の炭素原子数は、２乃至１０であることが好ましい。ア
ルケニル基の例には、２−ペンテニル、ビニル、アリ
ル、２−ブテニルおよび１−プロペニルが含まれる。ア
ルケニル基は置換基を有していてもよい。アルケニル基
の置換基の例は、アルキル基の置換基の例と同様であ
る。アラルキル基の炭素原子数は、７乃至１２であるこ
とが好ましい。アラルキル基の例には、ベンジルおよび
フェネチルが含まれる。アラルキル基は置換基を有して
いてもよい。置換基の例には、アルキル基（例、メチ
ル、エチル、プロピル）、アルコキシ基（例、メトキ
シ、エトキシ）、アリールオキシ基（例、フェノキシ、
ｐ−クロロフェノキシ）、ハロゲン原子（Ｃｌ、Ｂｒ、
Ｆ）、アルコキシカルボニル基（例、エトキシカルボニ
ル）、ハロゲン化炭素基（例、トリフルオロメチル）、
アルキルチオ基（例、メチルチオ、エチルチオ、ブチル
チオ）、アリールチオ基（フェニルチオ、ｏ−カルボキ
シルフェニルチオ）、シアノ、ニトロ、アミノ、アルキ
ルアミノ基（例、メチルアミノ、エチルアミノ）、アミ
ド基（例、アセトアミド、プロピオンアミド）、アシル
オキシ基（例、アセトキシ、ブチリルオキシ）、ヒドロ
キシル、スルホおよびカルボキシルが含まれる。スルホ
とカルボキシルは塩の状態であってもよい。アリール基
の例には、フェニルおよびナフチルが含まれる。アリー
ル基は、置換基を有していてもよい。アリール基の置換
基の例は、アラルキル基の置換基の例と同様である。

【００３５】式（１）において、Ｌ¹ は、奇数個のメチ
ンからなるメチン鎖である。メチンの数は、３、５また
は７個であることが好ましい。メチン鎖は、置換基を有
していてもよい。置換基を有するメチンは、メチン鎖の
中央（メソ位）のメチンであることが好ましい。置換基
の例には、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ
基、ハロゲン原子、アルコキシカルボニル基、ハロゲン
化炭素基、アルキルチオ基、アリールチオ基、シアノ、
ニトロ、アミノ、アルキルアミノ基、アミド基、アシル
オキシ基、ヒドロキシル、スルホおよびカルボキシルが
含まれる。ただし、メチン鎖は無置換であることが好ま
しい。式（１）において、Ｘはアニオンである。アニオ
ンの例には、ハライドイオン（Ｃｌ^- 、Ｂｒ^- 、
Ｉ^- ）、ｐ−トルエンスルホン酸イオン、エチル硫酸イ
オン、ＰＦ₆ ^-、ＢＦ₄ ^-およびＣｌＯ₄ ^-が含まれる。な
お、式（２ａ）で表される金属錯体を、Ｘに相当する対
アニオンとして機能させることができる。その場合は、
Ｘは不要（ｃ＝０）である。式（１）において、、ａ、
ｂおよびｃは、それぞれ独立に、０または１である。ａ
およびｂは、０である方が好ましい。ｃは、上記のよう
に式（２ａ）で表される金属錯体がＸに相当する対アニ
オンとして機能する場合、またはシアニン染料がスルホ
やカルボキシルのようなアニオン性置換基を有して分子
内塩を形成する場合は、０である。

【００３６】

【化１８】

【００３７】式（２ａ）において、Ｌは、配位子であ
る。配位子について特に制限はない。配位子について
は、「有機金属化合物、合成方法および利用法（山田明
夫監修、東京化学同人）」の２５頁に記載がある。式
（２ａ）において、Ｍは、金属原子である。金属原子
は、周期律表のII族からIV族までの金属（より好ましく
は遷移金属）原子が好ましい。遷移金属原子の例には、
Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｐｄ、Ｍ
ｄおよびＣｄが含まれる。Ｆｅ、Ｃｏ、ＣｕおよびＺｎ
が特に好ましい。式（２ａ）において、ｎ１は、１乃至
１０の整数である。式（２ａ）において、ｍ１は、１ま
たは２である。金属錯体をシアニン染料の対アニオンと
して用いる場合は、下記式（２ｂ）で表される金属錯体
を用いることが好ましい。

【００３８】

【化１９】

【００３９】式（２ｂ）において、Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶、Ｒ¹⁷お
よびＲ¹⁸は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、
アリール基またはシアノであるか、あるいは、Ｒ¹⁵とＲ
¹⁶またはＲ¹⁷とＲ¹⁸とが結合して芳香族環を形成する。
アルキル基の炭素原子数は、１乃至２０であることが好
ましい。アルキル基は置換基を有していてもよい。置換
基の例には、ハロゲン原子（Ｃｌ、Ｂｒ、Ｆ）、アルコ
キシカルボニル基（例、メトキシカルボニル、エトキシ
カルボニル）、ヒドロキシル、スルホおよびカルボキシ
ルが含まれる。スルホとカルボキシルは塩の状態であっ
てもよい。アリール基の例には、フェニルおよびナフチ
ルが含まれる。アリール基は、置換基を有していてもよ
い。置換基の例には、アルキル基（例、メチル、エチ
ル、プロピル）、アルコキシ基（例、メトキシ、エトキ
シ）、アリールオキシ基（例、フェノキシ、ｐ−クロロ
フェノキシ）、ハロゲン原子（Ｃｌ、Ｂｒ、Ｆ）、アル
コキシカルボニル基（例、エトキシカルボニル）、ハロ
ゲン化炭素基（例、トリフルオロメチル）、アルキルチ
オ基（例、メチルチオ、エチルチオ、ブチルチオ）、ア
リールチオ基（フェニルチオ、ｏ−カルボキシルフェニ
ルチオ）、シアノ、ニトロ、アミノ、アルキルアミノ基
（例、メチルアミノ、エチルアミノ）、アミド基（例、
アセトアミド、プロピオンアミド）、アシルオキシ基
（例、アセトキシ、ブチリルオキシ）、ヒドロキシル、
スルホおよびカルボキシルが含まれる。スルホとカルボ
キシルは塩の状態であってもよい。

【００４０】Ｒ¹⁵とＲ¹⁶またはＲ¹⁷とＲ¹⁸とが結合して
形成する芳香族環の例には、ベンゼン環およびナフタレ
ン環が含まれる。ベンゼン環およびナフタレン環は、置
換基を有していてもよい。置換基の例は、上記のアリー
ル基の置換基の例と同様である。式（２ｂ）において、
Ｙ¹ とＹ² は、それぞれ独立に、Ｏ、ＳまたはＮＨであ
る。Ｓが最も好ましい。式（２ｂ）において、Ｍは、金
属原子である。金属原子の定義および例は、式（２ａ）
のＭと同様である。金属錯体をシアニン染料とは別に添
加する場合は、下記式（２ｃ）で表される金属錯体を用
いることが好ましい。

【００４１】

【化２０】

【００４２】式（２ｃ）において、Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶、Ｒ¹⁷お
よびＲ¹⁸は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、
アリール基またはシアノであるか、あるいは、Ｒ¹⁵とＲ
¹⁶またはＲ¹⁷とＲ¹⁸とが結合して芳香族環を形成する。
Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶、Ｒ¹⁷およびＲ¹⁸の定義および例は、式（２
ｂ）の Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶、Ｒ¹⁷およびＲ¹⁸と同様である。式
（２ｃ）において、Ｙ¹ とＹ² は、それぞれ独立に、
Ｏ、ＳまたはＮＨである。Ｓが最も好ましい。式（２
ｃ）において、Ｍは、金属原子である。金属原子の定義
および例は、式（２ａ）のＭと同様である。式（２ｃ）
において、Ａは、４級アンモニウムイオンまたは４級ホ
スホニウムイオンである。４級アンモニウムイオンの例
には、テトラメチルアンモニウム、テトラエチルアンモ
ニウム、テトラブチルアンモニウム、オクチルトリエチ
ルアンモニウム、フェニルトリメチルアンモニウム、ト
リフェニルブチルアンモニウム、トリフェニルベンジル
アンモニウムおよびテトラフェニルアンモニウムが含ま
れる。４級ホスホニウムイオンの例には、テトラメチル
ホスホニウム、テトラエチルホスホニウム、テトラブチ
ルホスホニウム、オクチルトリエチルホスホニウム、フ
ェニルトリメチルホスホニウム、トリフェニルブチルホ
スホニウム、トリフェニルベンジルホスホニウムおよび
テトラフェニルホスホニウムが含まれる。式（２ｃ）に
おいて、ｎ４は、０、１または２である。好ましいシア
ニン染料を下記式（３）で表す。

【００４３】

【化２１】

【００４４】式（３）において、Ｒ³ 、Ｒ⁴ 、Ｒ⁵ およ
びＲ⁶ は、それぞれ独立に、アルキル基、アルケニル
基、アラルキル基またはアリール基である。各基の定義
および例は、式（１）のＲ¹ およびＲ² と同様である。
式（３）において、Ｒ⁷ およびＲ⁸ は、それぞれ独立
に、アルキル基（例、メチル、エチル、プロピル）、ア
ルコキシ基（例、メトキシ、エトキシ）、アリールオキ
シ基（例、フェノキシ、ｐ−クロロフェノキシ）、ハロ
ゲン原子（Ｃｌ、Ｂｒ、Ｆ）、アルコキシカルボニル基
（例、エトキシカルボニル）、ハロゲン化炭素基（例、
トリフルオロメチル）、アルキルチオ基（例、メチルチ
オ、エチルチオ、ブチルチオ）、アリールチオ基（フェ
ニルチオ、ｏ−カルボキシルフェニルチオ）、シアノ、
ニトロ、アミノ、アルキルアミノ基（例、メチルアミ
ノ、エチルアミノ）、アミド基（例、アセトアミド、プ
ロピオンアミド）、アシルオキシ基（例、アセトキシ、
ブチリルオキシ）、ヒドロキシル、スルホまたはカルボ
キシルである。スルホとカルボキシルは塩の状態であっ
てもよい。式（３）において、Ｌ² は、奇数個のメチン
からなるメチン鎖である。メチンの数は、３、５または
７個であることが好ましく、３個であることが特に好ま
しい。メチン鎖は、置換基を有していてもよい。置換基
を有するメチンは、メチン鎖の中央（メソ位）のメチン
であることが好ましい。置換基の例は、式（１）のＬ¹
の置換基と同様である。ただし、メチン鎖は無置換であ
ることが好ましい。式（３）において、ｍ２およびｎ２
は、それぞれ独立に、０、１、２、３または４である。
式（３）において、Ｘはアニオンである。アニオンの定
義および例は、式（１）のＸと同様である。式（３）に
おいて、ｃは、０または１である。さらに好ましいシア
ニン染料は、下記式（４）で表すように、シアニン染料
と金属錯体とが塩を形成する。

【００４５】

【化２２】

【００４６】式（４）において、Ｒ⁹ 、Ｒ¹⁰、Ｒ¹¹およ
びＲ¹²は、それぞれ独立に、アルキル基、アルケニル
基、アラルキル基またはアリール基である。各基の定義
および例は、式（１）のＲ¹ およびＲ² と同様である。
式（４）において、Ｒ¹³およびＲ¹⁴は、それぞれ独立
に、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ハ
ロゲン原子、アルコキシカルボニル基、ハロゲン化炭素
基、アルキルチオ基、アリールチオ基、シアノ、ニト
ロ、アミノ、アルキルアミノ基、アミド基、アシルオキ
シ基、ヒドロキシル、スルホまたはカルボキシルであ
る。各基の定義および例は、式（３）のＲ⁷ およびＲ⁸
と同様である。式（４）において、Ｌ³ は、奇数個のメ
チンからなるメチン鎖である。メチンの数は、３、５ま
たは７個であることが好ましく、３個であることが特に
好ましい。メチン鎖は、置換基を有していてもよい。置
換基を有するメチンは、メチン鎖の中央（メソ位）のメ
チンであることが好ましい。置換基の例は、式（１）の
Ｌ¹ の置換基と同様である。ただし、メチン鎖は無置換
であることが好ましい。式（４）において、ｍ３および
ｎ３は、それぞれ独立に、０、１、２、３または４であ
る。式（４）において、Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶、Ｒ¹⁷およびＲ
¹⁸は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリー
ル基またはシアノであるか、あるいは、Ｒ¹⁵とＲ¹⁶また
はＲ¹⁷とＲ¹⁸とが結合して芳香族環を形成する。式
（４）において、Ｙ¹ とＹ² は、それぞれ独立に、Ｏ、
ＳまたはＮＨである。式（４）において、Ｍは、金属原
子である。Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶、Ｒ¹⁷、Ｒ¹⁸、Ｙ¹ 、Ｙ² および
Ｍの定義および例は、式（２ｂ）と同様である。以下に
シアニン染料と金属錯体の具体例を示す。

【００４７】

【化２３】

【００４８】

【化２４】

【００４９】

【化２５】

【００５０】

【化２６】

【００５１】

【化２７】

【００５２】

【化２８】

【００５３】

【化２９】

【００５４】

【化３０】

【００５５】（８）ｎ：１、（９）ｎ：２、（１０）
ｎ：３

【００５６】

【化３１】

【００５７】（１１）Ｍ：Ｎｉ、（１２）Ｍ：Ｃｏ、
（１３）Ｍ：Ｃｕ

【００５８】

【化３２】

【００５９】（１４）Ｒ：Ｈ、Ｍ：Ｃｏ、（１５）Ｒ：
Ｈ、Ｍ：Ｎｉ、（１６）Ｒ：Ｈ、Ｍ：Ｃｕ、（１７）
Ｒ：ＣＨ₃ 、Ｍ：Ｃｏ、（１８）Ｒ：ＣＨ₃ 、Ｍ：Ｎ
ｉ、（１９）Ｒ：ＣＨ₃ 、Ｍ：Ｃｕ、（２０）Ｒ：ＣＨ
₃ 、Ｍ：Ｚｎ、（２１）Ｒ：ＣＨ₃ 、Ｍ：Ｆｅ、（２
２）Ｒ：ＣＨ₃ 、Ｍ：Ｍｎ、（２３）Ｒ：ＣＨ₃ 、Ｍ：
Ｍｏ、（２４）Ｒ：ｔ−Ｃ₄ Ｈ₉ 、Ｍ：Ｃｏ、（２５）
Ｒ：ｔ−Ｃ₄ Ｈ₉ 、Ｍ：Ｎｉ、（２６）Ｒ：ｔ−Ｃ₄ Ｈ
₉ 、Ｍ：Ｃｕ、（２７）Ｒ：ｔ−Ｃ₄ Ｈ₉ 、Ｍ：Ｚｎ、
（２８）Ｒ：ｔ−Ｃ₄ Ｈ₉ 、Ｍ：Ｆｅ、（２９）Ｒ：ｔ
−Ｃ₄ Ｈ₉ 、Ｍ：Ｍｎ、（３０）Ｒ：ｔ−Ｃ₄ Ｈ₉ 、
Ｍ：Ｍｏ、（３１）Ｒ：Ｈ、Ｍ：Ｂａ、（３２）Ｒ：
Ｈ、Ｍ：Ａｌ、（３３）Ｒ：Ｈ、Ｍ：Ｓｎ

【００６０】

【化３３】

【００６１】（３４）Ｒ：ＣＨ₃ 、Ｒ’：Ｈ、（３５）
Ｒ：Ｃ₂ Ｈ₅ 、Ｒ’：Ｈ、（３６）Ｒ：Ｃ₈ Ｈ₁₇、
Ｒ’：Ｈ、（３７）Ｒ：Ｃ₂ Ｈ₄ ＣＯＯＨ、Ｒ’：Ｈ、
（３８）Ｒ：Ｃ₂ Ｈ₄ ＯＣ₂ Ｈ₅ 、Ｒ’：Ｈ、（３９）
Ｒ：ベンジル、Ｒ’：Ｈ、（４０）Ｒ：Ｃ₂ Ｈ₅ 、
Ｒ’：ＣＨ₃ 、（４１）Ｒ：Ｃ₄ Ｈ₉ 、Ｒ’：ＣＨ₃ 、
（４２）Ｒ：アリル、Ｒ’：ＣＨ₃ 、（４３）Ｒ：フェ
ネチル、Ｒ’：ＣＨ₃ 、（４４）Ｒ：フェニル、Ｒ’：
Ｈ、（４５）Ｒ：Ｃ₂ Ｈ₄ ＯＨ、Ｒ’：Ｈ

【００６２】

【化３４】

【００６３】（４６）Ｒ：Ｈ、Ｒ’：Ｃｌ、（４７）
Ｒ：Ｃｌ、Ｒ’：Ｃｌ、（４８）Ｒ：ＮＯ₂ 、Ｒ’：
Ｈ、（４９）Ｒ：ＮＨＣＨ₃ 、Ｒ’：Ｈ、（５０）Ｒ：
ＮＨＣＯＣＨ₃ 、Ｒ’：Ｈ

【００６４】

【化３５】

【００６５】（５２）ｎ：２、（５３）ｎ：３

【００６６】

【化３６】

【００６７】（２−１）Ｒ：４−ＣＨ₃ 、Ｙ¹ ：Ｓ、Ｙ
² ：Ｓ、Ｍ：Ｎｉ、（２−２）Ｒ：４−ＣＨ₃ 、Ｙ¹ ：
Ｓ、Ｙ² ：Ｓ、Ｍ：Ｃｏ、（２−３）Ｒ：４−ＣＨ₃ 、
Ｙ¹ ：Ｓ、Ｙ² ：Ｓ、Ｍ：Ｃｕ、（２−４）Ｒ：Ｈ、Ｙ
¹ ：Ｓ、Ｙ² ：Ｓ、Ｍ：Ｐｔ、（２−５）Ｒ：Ｈ、
Ｙ¹ ：Ｓ、Ｙ² ：Ｓ、Ｍ：Ｐｄ、（２−６）Ｒ：４−ｔ
−Ｃ₄ Ｈ₉ 、Ｙ¹ ：Ｓ、Ｙ² ：Ｓ、Ｍ：Ｃｕ、（２−
７）Ｒ：３，４，６−Ｃｌ₃ 、Ｙ¹ ：Ｓ、Ｙ² ：Ｓ、
Ｍ：Ｃｕ、（２−８）Ｒ：３，４，５，６−Ｃｌ₄ 、Ｙ
¹ ：Ｓ、Ｙ² ：Ｓ、Ｍ：Ｃｕ、（２−９）Ｒ：Ｈ、
Ｙ¹ ：Ｏ、Ｙ² ：Ｓ、Ｍ：Ｃｕ、（２−１０）Ｒ：Ｈ、
Ｙ¹ ：ＮＨ、Ｙ² ：Ｓ、Ｍ：Ｎｉ、（２−１１）Ｒ：
Ｈ、Ｙ¹ ：ＮＨ、Ｙ² ：Ｓｅ、Ｍ：Ｃｕ

【００６８】

【化３７】

【００６９】（２−１２）Ｒ：Ｈ、Ｍ：Ｎｉ、（２−１
３）Ｒ：４−ＣＨ₃ 、Ｍ：Ｎｉ、（２−１４）Ｒ：４−
ＣＨ₃ 、Ｍ：Ｃｕ、（２−１５）Ｒ：４−ＣＨ₃ 、Ｍ：
Ｃｏ、（２−１６）Ｒ：４，５−（ＣＨ₃ ）₂ 、Ｍ：Ｃ
ｕ、（２−１７）Ｒ：４−ＮＯ₂ 、Ｍ：Ｎｉ

【００７０】

【化３８】

【００７１】（２−１８）Ｒ：ＣＮ、Ｍ：Ｎｉ、（２−
１９）Ｒ：ＣＮ、Ｍ：Ｃｏ、（２−２０）Ｒ：ＣＮ、
Ｍ：Ｃｕ、（２−２１）Ｒ：フェニル、Ｍ：Ｃｕ、（２
−２２）Ｒ：ＣＨ₃ 、Ｍ：Ｃｕ

【００７２】

【化３９】

【００７３】（２−２３）Ｒ：ＣＨ₃ 、Ｍ：Ｎｉ、（２
−２４）Ｒ：ＣＨ₃ 、Ｍ：Ｃｏ、（２−２５）Ｒ：ＣＨ
₃ 、Ｍ：Ｃｕ、（２−２６）Ｒ：Ｃ₂ Ｈ₅ 、Ｍ：Ｃｕ

【００７４】

【化４０】

【００７５】（２−２７）Ｒ：ＣＨ₃ 、Ｒ’：Ｃ
₁₁Ｈ₂₃、Ｍ：Ｃｕ、（２−２８）Ｒ：Ｃ₅ Ｈ₁₁、Ｒ’：
Ｃ₅ Ｈ₁₁、Ｍ：Ｃｕ、（２−２９）Ｒ：Ｃ₅ Ｈ₁₁、
Ｒ’：Ｃ₅ Ｈ₁₁、Ｍ：Ｎｉ、（２−３０）Ｒ：Ｃ
₅ Ｈ₁₁、Ｒ’：Ｃ₅ Ｈ₁₁、Ｍ：Ｃｏ

【００７６】

【化４１】

【００７７】（２−３１）ｎ：１、（２−３２）ｎ：２

【００７８】

【化４２】

【００７９】（２−３３）Ｍ：Ｃｏ、（２−３４）Ｍ：
Ｃｕ、（２−３５）Ｍ：Ｃａ

【００８０】［合成例１］ シアニン染料（１７）の合成 １，１’，３，３’−テトラアリルイミダゾ［４，５−
ｂ］キサキサリノカルボシアニンクロライド０．６３ｇ
を、クロロホルム１０ｍｌに溶解し、ビス（１−メチル
−３，４−ジチオフェノレート）コバルト（II）テトラ
ｎ−ブチルアンモニウム０．６１ｇを加え、室温で２時
間反応させた。メタノール２０ｍｌを加え、析出した結
晶を濾過し、シアニン染料（１７）を合成した。収量は
０．６ｇ、λｍａｘは５９２．５ｎｍ（ＣＨＣｌ³ ）、
εは１．５６×１０⁵ であった。

【００８１】また、合成例１と同様にシアニン染料（１
８）を合成したところ、λｍａｘは５９８ｎｍ（ＣＨＣ
ｌ³ ）、εは１．９７×１０⁵ であった。さらに、合成
例１と同様にシアニン染料（１９）を合成したところ、
λｍａｘは５８１ｎｍ（ＣＨＣｌ³ ）、εは２．７４×
１０⁵ であった。その他のシアニン染料も同様に合成で
きる。シアニン染料の合成については、米国特許３６３
２８０８号明細書、特開昭６０−１１８７４８号および
同６０−１１８７４９号の各公報の記載を参照できる。
また、金属錯体の合成については、ジャーナル・オブ・
アメリカン・ケミカル・ソサエティ８８巻、４３〜５０
および４８７０〜４８７５も参照できる。二種類以上の
シアニン染料または二種類以上の金属錯体を併用しても
よい。シアニン染料と他の染料とを併用してもよい。他
の染料としては、近赤外吸収染料を用いることができ
る。近赤外吸収染料としては、シアニン染料（特開平９
−９６８９１号公報記載）、金属キレート染料、アミニ
ウム染料、ジイモニウム染料、キノン染料、スクアリリ
ウム染料（特開平９−９０５４７号、同１０−２０４３
１０号の各公報記載）および各種メチン染料を用いるこ
とができる。近赤外吸収染料については、色材、６１
［４］２１５−２２６（１９８８）および化学工業４３
−５３（１９８６年５月号）にも記載がある。

【００８２】シアニン染料は、固体微粒子の状態で用い
ることができる。固体微粒子の状態とするためには、公
知の分散機を用いることができる。分散機の例には、ボ
ールミル、振動ミル、遊星ボールミル、サンドミル、コ
ロイドミル、ジェットミルおよびローラミルが含まれ
る。縦型または横型の媒体分散機（特開昭５２−９２７
１６号公報および国際特許８８／０７４７９４号明細書
記載）が好ましい。分散は、適当な媒体（例、水、アル
コール）の存在下で実施してもよい。分散用界面活性剤
を用いることが好ましい。アニオン性界面活性剤（特開
昭５２−９２７１６号公報および国際特許８８／０７４
７９４号明細書記載）が好ましく用いられる。必要に応
じて、アニオン性ポリマー、ノニオン性界面活性剤ある
いはカチオン性界面活性剤を用いてもよい。染料を適当
な溶媒に溶解した後、その貧溶媒を添加して、微粒子状
の粉末を得てもよい。この場合も、上記の界面活性剤を
用いることができる。また、溶液のｐＨを調整すること
により、染料の微結晶を析出させてもよい。フィルター
層は、さらにポリマーバインダーを含む。天然ポリマー
（例、ゼラチン、セルロース誘導体、アルギン酸）また
は合成ポリマー（例、ポリメチルメタクリレート、ポリ
ビニルブチラール、ポリビニルピロリドン、ポリビニル
アルコール、ポリ塩化ビニル、スチレン−ブタジエンコ
ポリマー、ポリスチレン、ポリカーボネート、水溶性ポ
リアミド）をポリマーバインダーとして用いることがで
きる。親水性ポリマー（上記天然ポリマー、ポリビニル
ブチラール、ポリビニルピロリドン、ポリビニルアルコ
ール、水溶性ポリアミド）が特に好ましい。

【００８３】フイルター層に、褪色防止剤を添加しても
よい。染料の安定化剤として機能する褪色防止剤の例に
は、ハイドロキノン誘導体（米国特許３９３５０１６
号、同３９８２９４４号の各明細書記載）、ハイドロキ
ノンジエーテル誘導体（米国特許４２５４２１６号明細
書および特開昭５５−２１００４号公報記載）、フェノ
ール誘導体（特開昭５４−１４５５３０号公報記載）、
スピロインダンまたはメチレンジオキシベンゼンの誘導
体（英国特許公開２０７７４５５号、同２０６２８８８
号の各明細書および特開昭６１−９０１５５号公報記
載）、クロマン、スピロクロマンまたはクマランの誘導
体（米国特許３４３２３００号、同３５７３０５０号、
同３５７４６２７号、同３７６４３３７号の各明細書お
よび特開昭５２−１５２２２５号、同５３−２０３２７
号、同５３−１７７２９号、同６１−９０１５６号の各
公報記載）、ハイドロキノンモノエーテルまたはパラア
ミノフェノールの誘導体（英国特許１３４７５５６号、
同２０６６９７５号の各明細書および特公昭５４−１２
３３７号、特開昭５５−６３２１号の各公報記載）およ
びビスフェノール誘導体（米国特許３７００４５５号明
細書および特公昭４８−３１６２５号公報記載）が含ま
れる。

【００８４】光あるいは熱に対する色素の安定性を向上
させるため、金属錯体（米国特許４２４５０１８号明細
書および特開昭６０−９７３５３号公報記載）を褪色防
止剤として用いてもよい。さらに色素の耐光性を改良す
るために、一重項酸素クエンチャーを褪色防止剤として
用いてもよい。一重項酸素クエンチャーの例には、ニト
ロソ化合物（特開平２−３００２８８号公報記載）、ジ
インモニウム化合物（米国特許４６５６１２号明細書記
載）、ニッケル錯体（特開平４−１４６１８９号公報記
載）および酸化防止剤（欧州特許公開８２００５７Ａ１
号明細書記載）が含まれる。

【００８５】（下塗り層）透明支持体とフィルター層と
の間に、下塗り層を設けることが好ましい。下塗り層
は、ガラス転移温度が２５℃以下のポリマーを含む層、
フィルター層側の表面が粗面である層またはフィルター
層のポリマーと親和性を有するポリマーを含む層として
形成する。なお、フィルター層が設けられていない透明
支持体の面に下塗り層を設けて、透明支持体とその上に
設けられる層（例えば、反射防止層、ハードコート層）
との接着力を改善してもよい。また、下塗り層は、反射
防止膜と画像形成装置とを接着するための接着剤と反射
防止膜との親和性を改善するために設けてもよい。下塗
り層の厚みは、２０ｎｍ乃至１０００ｎｍが好ましく、
８０ｎｍ乃至３００ｎｍがより好ましい。ガラス転移温
度が２５℃以下のポリマーを含む下塗り層は、ポリマー
の粘着性で、透明支持体とフィルター層とを接着する。
ガラス転移温度が２５℃以下のポリマーは、塩化ビニ
ル、塩化ビニリデン、酢酸ビニル、ブタジエン、ネオプ
レン、スチレン、クロロプレン、アクリル酸エステル、
メタクリル酸エステル、アクリロニトリルまたはメチル
ビニルエーテルの重合または共重合により得ることがで
きる。ガラス転移温度は、２０℃以下であることが好ま
しく、１５℃以下であることがより好ましく、１０℃以
下であることがさらに好ましく、５℃以下であることが
さらにまた好ましく、０℃以下であることが最も好まし
い。表面が粗面である下塗り層は、粗面の上にフィルタ
ー層を形成することで、透明支持体とフィルター層とを
接着する。表面が粗面である下塗り層は、ポリマーラテ
ックスの塗布により容易に形成することができる。ラテ
ックスの平均粒径は、０．０２乃至３μｍであることが
好ましく、０．０５乃至１μｍであることがさらに好ま
しい。フィルター層のバインダーポリマーと親和性を有
するポリマーの例には、アクリル樹脂、セルロース誘導
体、ゼラチン、カゼイン、でんぷん、ポリビニルアルコ
ール、可溶性ナイロンおよび高分子ラテックスが含まれ
る。二以上の下塗り層を設けてもよい。下塗り層には、
透明支持体を膨潤させる溶剤、マット剤、界面活性剤、
帯電防止剤、塗布助剤や硬膜剤を添加してもよい。

【００８６】（その他の層）反射防止膜には、ハードコ
ート層、潤滑層、帯電防止層あるいは中間層を設けるこ
ともできる。ハードコート層は、架橋しているポリマー
を含むことが好ましい。ハードコート層は、アクリル
系、ウレタン系、エポキシ系のポリマー、オリゴマーま
たはモノマー（例、紫外線硬化型樹脂）を用いて形成す
ることができる。シリカ系材料からハードコート層を形
成することもできる。反射防止膜の最表面に潤滑層を形
成してもよい。潤滑層は、反射防止膜表面に滑り性を付
与し、耐傷性を改善する機能を有する。潤滑層は、ポリ
オルガノシロキサン（例、シリコンオイル）、天然ワッ
クス、石油ワックス、高級脂肪酸金属塩、フッ素系潤滑
剤またはその誘導体を用いて形成することができる。潤
滑層の厚さは、２乃至２０ｎｍであることが好ましい。

【００８７】反射防止層（中屈折率層、高屈折率層、低
屈折率層）、フィルター層、下塗り層、ハードコート
層、潤滑層、その他の層は、一般的な塗布方法により形
成することができる。塗布方法の例には、ディップコー
ト法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ロー
ラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート
法およびホッパーを使用するエクストルージョンコート
法（米国特許２６８１２９４号明細書記載）が含まれ
る。二以上の層を同時塗布により形成してもよい。同時
塗布法については、米国特許２７６１７９１号、同２９
４１８９８号、同３５０８９４７号、同３５２６５２８
号の各明細書および原崎勇次著「コーティング工学」２
５３頁（１９７３年朝倉書店発行）に記載がある。

【００８８】（反射防止膜の用途）反射防止膜は、液晶
表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（Ｐ
ＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬ
Ｄ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような画像表示装置
に適用する。反射防止膜の低屈折率層が設けられていな
い側の面が画像表示装置の画像表示面と対向するように
配置する。本発明の反射防止膜は、プラズマディスプレ
イパネル（ＰＤＰ）の反射防止フィルターとして使用す
ると、特に顕著な効果が得られる。プラズマディスプレ
イパネル（ＰＤＰ）は、ガス、ガラス基板、電極、電極
リード材料、厚膜印刷材料および蛍光体により構成され
る。ガラス基板は、前面ガラス基板と後面ガラス基板の
二枚である。二枚のガラス基板には電極と絶縁層を形成
する。後面ガラス基板には、さらに蛍光体層を形成す
る。二枚のガラス基板を組み立てて、その間にガスを封
入する。プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）は、既
に市販されている。プラズマディスプレイパネルについ
ては、特開平５−２０５６４３号、同９−３０６３６６
号の各公報に記載がある。

【００８９】

【実施例】［実施例１］ （フィルター層塗布液の調製）ポリビニルブチラール
（ＰＶＢ−３０００Ｋ、電気化学工業（株）製）３．０
ｇを、クロロホルム８０ｇに溶解し、シアニン染料（１
７）０．１２ｇを添加した。混合物を３０分間攪拌した
後、孔径１μｍのポリプロピレンフィルターで濾過し、
フィルター層塗布液を調製した。

【００９０】厚さ１２５μｍの透明なポリエチレンテレ
フタレートフイルムの両面をコロナ処理した後、片面に
スチレンーブタジエンコポリマーからなるラテックスを
厚さ１４０ｎｍとなるよう塗布し、下塗り層を形成し
た。

【００９１】（第２下塗り層の形成）下塗り層の上に、
酢酸とグルタルアルデヒドを含むゼラチン水溶液を、厚
さ４０ｎｍとなるよう塗布し、第２下塗り層を形成し
た。

【００９２】（低屈折率層の形成）反応性フッ素ポリマ
ー（ＪＮ−７２１９、日本合成ゴム（株）製）２．５０
ｇにｔ−ブタノール１．３ｇを加え、室温で１０分間撹
拌し、１μｍのポリプロピレンフィルターで濾過した。
得られた低屈折率層用塗布液を、透明支持体の下塗り面
とは反対側の面に、バーコーターを用いて乾燥膜厚が１
１０ｎｍとなるように塗布し、１２０℃で３０分間乾燥
して硬化させ低屈折率層を形成した。

【００９３】（フイルター層の形成）フィルター層用塗
布液を、第２下塗り層の上に、乾燥膜厚が０．４μｍと
なるように塗布し、１２０℃で３分間乾燥してフィルタ
ー層を形成し、反射防止膜を作成した。

【００９４】［実施例２］シアニン染料（１７）０．１
２ｇに代えて、シアニン染料（１８）０．１５ｇを用い
た以外は、実施例１と同様にして反射防止膜を作成し
た。

【００９５】［実施例３］シアニン染料（１７）０．１
２ｇに代えて、シアニン染料（１９）０．１３ｇを用い
た以外は、実施例１と同様にして反射防止膜を作成し
た。

【００９６】［実施例４］シアニン染料（１７）０．１
２ｇに代えて、シアニン染料（６）０．０９ｇと金属錯
体（２−１）０．０９ｇを用いた以外は、実施例１と同
様にして反射防止膜を作成した。

【００９７】［実施例５］シアニン染料（１７）０．１
２ｇに代えて、シアニン染料（６）０．０９ｇと金属錯
体（２−２）０．０９ｇを用いた以外は、実施例１と同
様にして反射防止膜を作成した。

【００９８】［実施例６］シアニン染料（１７）０．１
２ｇに代えて、シアニン染料（６）０．０９ｇと金属錯
体（２−３）０．０９ｇを用いた以外は、実施例１と同
様にして反射防止膜を作成した。

【００９９】［比較例１］シアニン染料（１７）０．１
２ｇに代えて、シアニン染料（６）０．０９ｇを用いた
以外は、実施例１と同様にして反射防止膜を作成した。

【０１００】［比較例２］シアニン染料（１７）０．１
２ｇに代えて、下記の比較染料（ａ）０．１２ｇを用い
た以外は、実施例１と同様にして反射防止膜を作成し
た。

【０１０１】

【化４３】

【０１０２】［比較例３］部分加水分解したポリ酢酸ビ
ニル３．０ｇをイソプロピルアルコール８０ｇに溶解
し、市販の染料（ホスターパームピンクＥ）３．０ｇを
添加した。混合物を３０分間攪拌した後、孔径１μｍの
ポリプロピレンフィルターで濾過し、フィルター層塗布
液を調製した。このフィルター層塗布液を用いた以外
は、実施例１と同様にして反射防止膜を作成した。

【０１０３】（吸光度の測定）得られた反射防止膜につ
いて、分光光度計（Ｕ−３２１０、日立製作所（株）
製）を用いて透過スペクトルを測定した。リファレンス
（reference ）は、空気で行った。スペクトルからλｍ
ａｘと半値幅を求めた。結果を第１表に示す。なお、い
ずれの反射防止膜も、吸収極大での透過率は、２５〜３
５％の範囲であった。

【０１０４】（蛍光の測定）蛍光光度計（ＲＴ−５３０
００ＰＣ、島津製作所（株）製）を用いて、反射防止膜
の蛍光を測定した。比較例１の蛍光強度を１００とする
相対強度の結果を第１表に示す。

【０１０５】（耐光性試験）反射防止膜に、キセノンラ
ンプで照度が１５万ルクスとなるように、フィルター層
の反対側から光照射を行い、２００時間照射後の染料の
残存量を、下記式に従って求めた。結果を第１表に示
す。 染料残存量＝１００×（１００−照射後の吸収極大での
透過率）／（１００−照射前の吸収極大での透過率）

【０１０６】

【表１】 第１表 ──────────────────────────────────── 反射防止膜 添加化合物 λｍａｘ 半値幅 蛍光 耐光性 ──────────────────────────────────── 実施例１ （１７） ５９８ｎｍ ７０ｎｍ ０ ９３％ 実施例２ （１８） ６００ｎｍ ６５ｎｍ ０ ９５％ 実施例３ （１９） ５９７ｎｍ ６７ｎｍ ０ ９４％ 実施例４ （６）＋（２−１） ５９５ｎｍ ７０ｎｍ ０ ９３％ 実施例５ （６）＋（２−２） ５９４ｎｍ ７２ｎｍ ０ ９３％ 実施例６ （６）＋（２−３） ５９２ｎｍ ７５ｎｍ ０ ９４％ 比較例１ （６） ５９６ｎｍ ７４ｎｍ １００ ０％ 比較例２ （ａ） ５７２ｎｍ ７０ｎｍ ６０ ０％ 比較例３ホスタパームピンクＥ ５７０ｎｍ １５０ｎｍ ９ ９８％ ────────────────────────────────────

【０１０７】［実施例７］ （下塗り層の形成）実施例１と同様に、透明支持体の片
面に下塗り層（ａ）および第２下塗り層（ａ）を形成し
た。透明支持体の下塗り層が設けられていない側の面
に、塩化ビニリデン−アクリル酸−メチルアクリレート
コポリマーからなるラテックスを厚さ１２０ｎｍとなる
よう塗布し、下塗り層（ｂ）を形成した。

【０１０８】（第２下塗り層の形成）下塗り層（ｂ）の
上に、アクリル系ラテックス（ＨＡ１６、日本アクリル
（株）製）を厚さ５０ｎｍとなるよう塗布し、第２下塗
り層（ｂ）を形成した。

【０１０９】（フイルター層の形成）第２下塗り層
（ｂ）の上に、実施例１と同様にしてフィルター層を作
成した。

【０１１０】（低屈折率層の形成）フィルター層の上
に、実施例１と同様にして、低屈折率層を形成し、反射
防止膜を作成した。作成した反射防止膜を、上記と同様
に評価したところ、実施例１と同じ良好な結果が得られ
た。

【図面の簡単な説明】

【図１】フィルター層を反射防止層とは透明支持体の反
対の側に設けた反射防止膜の層構成を示す断面模式図で
ある。

【図２】フィルター層と反射防止層とを透明支持体の同
じ側に設けた反射防止膜の層構成を示す断面模式図であ
る。 １ 透明支持体 ２ フィルター層 ３ 低屈折率層 ４ ハードコート層 ５ 高屈折率層 ６ 中屈折率層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2K009 AA04 AA06 AA15 BB13 BB14 BB24 BB28 CC03 CC23 CC26 CC33 CC34 CC35 DD02 EE01 4H056 CA01 CC02 CC08 CE03 CE07 DD03 DD06 DD19 DD23 FA01 FA05

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 染料およびポリマーバインダーを含むフ
   ィルター層、透明支持体、および透明支持体の屈折率よ
   りも低い屈折率を有する低屈折率層が、この順に積層さ
   れている反射防止膜であって、染料が下記式（１）で表
   されるシアニン染料であり、フィルター層がさらに下記
   式（２ａ）で表される金属錯体を含むことを特徴とする
   反射防止膜。 【化１】 式中、Ｚ¹ およびＺ² は、それぞれ独立に、５員または
   ６員の含窒素複素環を形成する非金属原子群であり；Ｒ
   ¹ およびＲ² は、それぞれ独立に、アルキル基、アルケ
   ニル基、アラルキル基またはアリール基であり；Ｌ
   ¹ は、奇数個のメチンからなるメチン鎖であり；Ｘはア
   ニオンであり；そして、ａ、ｂおよびｃは、それぞれ独
   立に、０または１である。 【化２】 式中、Ｌは、配位子であり；Ｍは、金属原子であり；ｎ
   １は、１乃至１０の整数であり；そして、ｍ１は、１ま
   たは２である。
2. 【請求項２】 染料が下記式（３）で表されるシアニン
   染料である請求項１に記載の反射防止膜。 【化３】 式中、Ｒ³ 、Ｒ⁴ 、Ｒ⁵ およびＲ⁶ は、それぞれ独立
   に、アルキル基、アルケニル基、アラルキル基またはア
   リール基であり；Ｒ⁷ およびＲ⁸ は、それぞれ独立に、
   アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ハロゲ
   ン原子、アルコキシカルボニル基、ハロゲン化炭素基、
   アルキルチオ基、アリールチオ基、シアノ、ニトロ、ア
   ミノ、アルキルアミノ基、アミド基、アシルオキシ基、
   ヒドロキシル、スルホまたはカルボキシルであり；Ｌ²
   は、奇数個のメチンからなるメチン鎖であり；ｍ２およ
   びｎ２は、それぞれ独立に、０、１、２、３または４で
   あり；Ｘはアニオンであり；そして、ｃは、０または１
   である。
3. 【請求項３】 シアニン染料と金属錯体とが下記式
   （４）で表される塩を形成している請求項１に記載の反
   射防止膜。 【化４】 式中、Ｒ⁹ 、Ｒ¹⁰、Ｒ¹¹およびＲ¹²は、それぞれ独立
   に、アルキル基、アルケニル基、アラルキル基またはア
   リール基であり；Ｒ¹³およびＲ¹⁴は、それぞれ独立に、
   アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ハロゲ
   ン原子、アルコキシカルボニル基、ハロゲン化炭素基、
   アルキルチオ基、アリールチオ基、シアノ、ニトロ、ア
   ミノ、アルキルアミノ基、アミド基、アシルオキシ基、
   ヒドロキシル、スルホまたはカルボキシルであり；Ｌ³
   は、奇数個のメチンからなるメチン鎖であり；ｍ３およ
   びｎ３は、それぞれ独立に、０、１、２、３または４で
   あり；Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶、Ｒ¹⁷およびＲ¹⁸は、それぞれ独立
   に、水素原子、アルキル基、アリール基またはシアノで
   あるか、あるいは、Ｒ¹⁵とＲ¹⁶またはＲ¹⁷とＲ¹⁸とが結
   合して芳香族環を形成し；Ｙ¹ とＹ² は、それぞれ独立
   に、Ｏ、ＳまたはＮＨであり；そしてＭは、金属原子で
   ある。
4. 【請求項４】 式（４）において、Ｌ³ が、３個のメチ
   ンからなるメチン鎖である請求項３に記載の反射防止
   膜。
5. 【請求項５】 透明支持体、染料およびポリマーバイン
   ダーを含むフィルター層、および透明支持体の屈折率よ
   りも低い屈折率を有する低屈折率層が、この順に積層さ
   れている反射防止膜であって、染料が下記式（１）で表
   されるシアニン染料であり、フィルター層がさらに下記
   式（２ａ）で表される金属錯体を含むことを特徴とする
   反射防止膜。 【化５】 式中、Ｚ¹ およびＺ² は、それぞれ独立に、５員または
   ６員の含窒素複素環を形成する非金属原子群であり；Ｒ
   ¹ およびＲ² は、それぞれ独立に、アルキル基、アルケ
   ニル基、アラルキル基またはアリール基であり；Ｌ
   ¹ は、奇数個のメチンからなるメチン鎖であり；Ｘはア
   ニオンであり；そして、ａ、ｂおよびｃは、それぞれ独
   立に、０または１である。 【化６】 式中、Ｌは、配位子であり；Ｍは、金属原子であり；ｎ
   １は、１乃至１０の整数であり；そして、ｍ１は、１ま
   たは２である。
6. 【請求項６】 染料が下記式（３）で表されるシアニン
   染料である請求項５に記載の反射防止膜。 【化７】 式中、Ｒ³ 、Ｒ⁴ 、Ｒ⁵ およびＲ⁶ は、それぞれ独立
   に、アルキル基、アルケニル基、アラルキル基またはア
   リール基であり；Ｒ⁷ およびＲ⁸ は、それぞれ独立に、
   アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ハロゲ
   ン原子、アルコキシカルボニル基、ハロゲン化炭素基、
   アルキルチオ基、アリールチオ基、シアノ、ニトロ、ア
   ミノ、アルキルアミノ基、アミド基、アシルオキシ基、
   ヒドロキシル、スルホまたはカルボキシルであり；Ｌ²
   は、奇数個のメチンからなるメチン鎖であり；ｍ２およ
   びｎ２は、それぞれ独立に、０、１、２、３または４で
   あり；Ｘはアニオンであり；そして、ｃは、０または１
   である。
7. 【請求項７】 シアニン染料と金属錯体とが下記式
   （４）で表される塩を形成している請求項５に記載の反
   射防止膜。 【化８】 式中、Ｒ⁹ 、Ｒ¹⁰、Ｒ¹¹およびＲ¹²は、それぞれ独立
   に、アルキル基、アルケニル基、アラルキル基またはア
   リール基であり；Ｒ¹³およびＲ¹⁴は、それぞれ独立に、
   アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ハロゲ
   ン原子、アルコキシカルボニル基、ハロゲン化炭素基、
   アルキルチオ基、アリールチオ基、シアノ、ニトロ、ア
   ミノ、アルキルアミノ基、アミド基、アシルオキシ基、
   ヒドロキシル、スルホまたはカルボキシルであり；Ｌ³
   は、奇数個のメチンからなるメチン鎖であり；ｍ３およ
   びｎ３は、それぞれ独立に、０、１、２、３または４で
   あり；Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶、Ｒ¹⁷およびＲ¹⁸は、それぞれ独立
   に、水素原子、アルキル基、アリール基またはシアノで
   あるか、あるいは、Ｒ¹⁵とＲ¹⁶またはＲ¹⁷とＲ¹⁸とが結
   合して芳香族環を形成し；Ｙ¹ とＹ² は、それぞれ独立
   に、Ｏ、ＳまたはＮＨであり；そしてＭは、金属原子で
   ある。
8. 【請求項８】 式（４）において、Ｌ³ が、３個のメチ
   ンからなるメチン鎖である請求項７に記載の反射防止
   膜。