JP2001033622A

JP2001033622A - 光学フイルタとプラズマデイスプレイ表示装置

Info

Publication number: JP2001033622A
Application number: JP20235899A
Authority: JP
Inventors: Yoshihiro Hieda; 嘉弘稗田; Kazuaki Sasa; 和明佐々; Kazuhiko Miyauchi; 和彦宮内; Toshitaka Nakamura; 年孝中村
Original assignee: Nitto Denko Corp
Current assignee: Nitto Denko Corp
Priority date: 1999-07-15
Filing date: 1999-07-15
Publication date: 2001-02-09

Abstract

(57)【要約】【課題】軽量、薄肉化が可能で、また空気層による２
重反射のおそれがなく、ＰＤＰから発生する電磁波と近
赤外線を良好にカツトでき、かつその視認性にもすぐ
れ、しかもこれらの特性を長期にわたつて維持できる、
耐久性にもすぐれたＰＤＰ用直貼りタイプの光学フイル
タを提供する。【解決手段】透明なフイルム基体の片面に、高屈折率
誘電体膜と銀系透明導電体膜とからなる積層膜が設けら
れ、その上に透明な保護層が設けられ、かつ上記フイル
ム基体の反対面に透明な接着剤層が設けられた光学フイ
ルタであつて、上記の保護層は、分子内に（メタ）アク
リロイル基とりん酸ヒドロキシ基を有するりん酸エステ
ル化合物を含むことを特徴とする光学フイルタ。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、透明なフイルム基
体上に高屈折率誘電体膜と銀系透明導電体膜とからなる
積層膜が設けられ、その上に透明な保護層が設けられて
なる光学フイルタと、これを用いたプラズマデイスプレ
イ表示装置とに関する。

【０００２】

【従来の技術】プラズマデイスプレイパネル（以下、Ｐ
ＤＰという）では、パネル内に封入された希ガス、とく
にネオンを主体としたガス中で放電させ、その際に発生
する真空紫外線により、パネルのセルに塗られたＲ、
Ｇ、Ｂの蛍光体を発光させる。この発光過程において、
ＰＤＰの作動には不必要な電磁波と近赤外線が同時に放
出される。電磁波は、周辺機器の誤作動を引き起こし、
また人体に悪影響を及ぼすため、カツトする必要があ
る。近赤外線は、波長が８５０〜１，２００ｎｍで、家
電製品、カラオケ、音響映像機器などのリモ―トコント
ロ―ラの受光感度が７００〜１，３００ｎｍのため、上
記のコントロ―ラを誤作動させる問題があり、やはりカ
ツトする必要がある。

【０００３】ＰＤＰから発生する電磁波と近赤外線を同
時にカツトするフイルタとしては、従来、電磁波シ―ル
ド材として、金属メツシユやエツチングメツシユを埋め
込んだアクリル板や、透明フイルムに金属メツシユをパ
タ―ニングしたものを用い、これと近赤外線を吸収する
染料・顔料系の材料を混合したアクリル板や上記材料を
含む吸収層を組み合わせ、これらをＰＤＰの前面に空気
層を介して設置する、いわゆるメツシユタイプのものが
知られている。しかし、このメツシユタイプのもので
は、低表面抵抗値は得られやすいが、画素ピツチと導電
ピツチとの間で生ずるモアレ現象による画像のかすみ
や、近赤外線吸収材料の耐久性などに問題を有してい
る。また、近赤外線のカツト率を高めるには、近赤外線
吸収材料の添加量を多くする必要があるが、それに伴つ
て、可視光透過率の低下が顕著となり、また色目の発生
という欠点を避けられなかつた。

【０００４】また、透明導電体をＰＤＰの電磁波フイル
タに応用する検討もなされている。これは、ガラスやア
クリル板などからなる透明基板を使用し、この基板のＰ
ＤＰ側に電磁波シ―ルド層である透明導電体膜を設ける
とともに、視角側の最表面に保護層や低反射防止層、防
汚染層などの層を設けて、これら複合体をＰＤＰ前方側
に空気層を介して設置するものである。しかし、このよ
うな前面置きタイプのフイルタは、透明導電体膜が最表
面ではなくパネル側にあるため、上記膜の表面強度や耐
擦傷性などの問題は起こらないが、設置後のＰＤＰ全体
の厚みが厚くなつたり、重量が重くなるなどの問題があ
り、さらに空気層を介するため、外光の２重反射が起こ
り、画質が低下するという問題があつた。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、このような
従来技術の問題点に鑑み、軽量、薄肉化が可能で、また
空気層による２重反射のおそれのないＰＤＰ用の光学フ
イルタであつて、ＰＤＰから発生する電磁波と近赤外線
を良好にカツトできるとともに、視認性にもすぐれ、し
かもこれらの特性を長期にわたり維持できる、すぐれた
耐久性をも備えた上記光学フイルタを提供すること、さ
らにこの光学フイルタを用いたプラズマデイスプレイ表
示装置を提供することを目的としている。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の目
的を達成するため、鋭意検討した結果、ガラスやアクリ
ル板などからなる透明基板に代えて、軽量で薄肉の透明
なフイルム基体を使用し、このフイルム基体の片面に高
屈折率誘電体膜と銀系透明導電体膜とからなる積層膜を
設けて光学フイルタを構成させ、この光学フイルタを上
記フイルム基体の反対面に設けた接着剤層、とくに粘着
剤層を介してＰＤＰのパネル表面に直接貼り付けるよう
にすると、ＰＤＰから発生する電磁波と近赤外線を良好
にカツトでき、この場合、従来のメツシユタイプのよう
な画像のかすみや可視光透過率の低下などの問題がな
く、また従来の前面置きタイプのような空気層による外
光の２重反射の問題もなく、軽量、薄肉化が可能で、か
つ視認性にすぐれる光学フイルタとして好適に使用でき
るものであることがわかつた。

【０００７】ところが、このようなパネル表面への直貼
りフイルタは、高屈折率誘電体膜と銀系透明導電体膜と
からなる積層膜が視角側の最表面となるため、その上に
紫外線硬化型の樹脂層などからなる保護層を設けて上記
積層膜を保護し、これにより電磁波と近赤外線の遮断特
性を長期的に維持できるようにすることが望まれる。し
かしながら、上記目的で設ける保護層は、一般に、上記
積層膜（通常は最表面側に高屈折率誘電体膜が位置す
る）への密着性に劣るため、経時とともに部分的または
全体的に離脱し、上記遮断特性が低下してくる問題があ
つた。また、別の問題点として、保護層の表面硬度が低
くて傷が付きやすく、経時とともに視認性が低下してく
るという問題もあることがわかつた。

【０００８】本発明者らは、これらの問題を克服するた
め、さらに検討を続けた結果、紫外線硬化型の樹脂層な
どからなる保護層の材料中に特定のりん酸エステル化合
物を含ませるようにしたときに、保護層の上記積層膜に
対する密着性が向上して、経時的な離脱現象が抑制さ
れ、それにより電磁波と近赤外線の遮断特性を長期的に
維持でき、また保護層の表面硬度が高くなつて耐擦傷性
が改善され、視認性の経時的な低下も認められなくな
り、その結果、軽量、薄肉化が可能な直貼りフイルタと
して、ＰＤＰから発生する電磁波と近赤外線の遮断特性
と視認性にすぐれ、しかもこれらの特性を長期にわたり
維持できる、すぐれた耐久性を備えたＰＤＰ用の光学フ
イルタが得られることを知り、本発明を完成した。

【０００９】すなわち、本発明は、透明なフイルム基体
の片面に、高屈折率誘電体膜と銀系透明導電体膜とから
なる積層膜が設けられ、その上に透明な保護層が設けら
れてなる光学フイルタにおいて、上記の保護層は、下記
の式（１）；（式中、Ｘは水素原子またはメチル基、Ｙは−ＯＣＯ
（ＣＨ₂）₅−基、ｎは０または１である）で表される
りん酸エステル化合物を含むことを特徴とする光学フイ
ルタ（請求項１〜４）、とくに上記の透明なフイルム基
体の反対面に透明な接着剤層が設けられている上記構成
の光学フイルタ（請求項５）に係るものである。また、
本発明は、プラズマデイスプレイパネルの表面に、上記
構成の光学フイルタを、その透明な接着剤層を介して直
接貼り合わせてなることを特徴とするプラズマデイスプ
レイ表示装置（請求項６）に係るものである。

【００１０】

【発明の実施の形態】本発明における透明なフイルム基
体としては、可視光域で透明で、フレキシブル性（可撓
性）を有するプラスチツクフイルムで、とくに好ましく
は機械的強度にすぐれ、また耐熱性が良好なプラスチツ
クフイルムが用いられる。具体的には、ポリエステル樹
脂、（メタ）アクリル樹脂、ポリカ―ボネ―ト樹脂、ポ
リエチレンナフタレ―ト樹脂、ポリエチレンテレフタレ
―ト樹脂、トリアセチルセルロ―ス、ポリイミド樹脂、
ポリエ―テルイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリスルホ
ン、ポリフエニレンサルフアイド、ポリエ―テルスルホ
ン、ポリウレタンなどからなるフイルムが用いられる。
これらのフイルム基体は、単層構造でも、２層以上の積
層構造でもよいが、全体の厚さは５μｍ〜２mm、とくに
良好なフレキシブル性を得るため、５〜３００μｍの範
囲にあるのがよい。

【００１１】このような透明なフイルム基体は、フイル
タ全体の反りの低減や強度の向上、透明性の向上のた
め、片面または両面に紫外線硬化型、電子線硬化型また
は熱硬化型の樹脂層からなる透明なハ―ドコ―ト層を設
けるようにしてもよい。また、このハ―ドコ―ト層の有
無に関係なく、低屈折率層をλ／４の厚さで設けること
により、高屈折率誘電体膜と銀系透明導電体膜とからな
る積層膜の低反射化をはかるようにしてもよい。さらに
また、高屈折率誘電体膜と銀系透明導電体膜とからなる
積層膜のフイルム基体表面への密着性を向上させるた
め、基体表面にコロナ（プラズマ）処理や、易接着処理
を施すようにしてもよい。

【００１２】なお、上記の低屈折率層は、可視域で透明
である低屈折率材料（屈折率１．３〜１．５）からなる
ものが選択され、公知のドライプロセス法（スパツタリ
ング法など）や塗工法により形成できる。たとえば、前
者のドライプロセス法で形成できるものとして、ＳｉＯ
ｘ（ｘ＝１，２）があり、後者の塗工法で形成できるも
のとして、紫外線ないし電子線硬化型または熱硬化型の
樹脂、上記の両硬化を伴う、アルコキシシランなどのゾ
ルゲル系シラン、フツ素含有ゾルゲルシラン、フツ素樹
脂とアクリル樹脂の混合系などが挙げられる。

【００１３】本発明においては、このような透明なフイ
ルム基体の片面に、高屈折率誘電体膜と銀系透明導電体
膜とからなる積層膜を設けて、電磁波と近赤外線をカツ
トする遮断特性を付与し、可視光線透過率の面でも好結
果を得る。これら特性の向上のため、通常は、フイルム
基体側から高屈折率誘電体膜／銀系透明導電体膜／高屈
折率誘電体膜の少なくとも３層構成とするのがよく、さ
らにこの上に銀系透明導電体膜／高屈折率誘電体膜の構
成を一対として、一対ないしそれ以上積層し、最表面が
高屈折率誘電体膜となる多層構成としてもよい。高屈折
率誘電体膜を最表面とすると、積層膜の酸化安定性など
にも好結果が得られる。

【００１４】高屈折率誘電体膜の材料としては、膜の屈
折率が１．９〜２．５の範囲となるものが好ましい。屈
折率の低い材料では、この膜の厚さを厚くする必要があ
り、多層にした場合にクラツクが入りやすい。屈折率の
高い材料は、可視光透過性を損なうことなく、銀系透明
導電体膜の厚さを厚くしやすく、低抵抗化しやすい。ま
た、単一の材料でも複数の材料を焼結したものでもよ
く、さらに、銀系透明導電体膜の銀のマイグレ―シヨン
防止効果や水、酸素のバリア効果のある材料が望まし
い。このような材料としては、酸化インジウム、酸化
錫、二酸化チタン、酸化セリウム、酸化ジルコニウム、
酸化ビスマス、酸化亜鉛、酸化タンタル、五酸化ニオブ
および硫化亜鉛の中から選択される少なくとも１種の化
合物が挙げられ、とくに酸化インジウムを主成分としこ
れに二酸化チタンや酸化錫、酸化セリウムを少量含ませ
たものが好ましく用いられる。

【００１５】銀系透明導電体膜の材料としては、８０重
量％以上の銀と、金、銅、パラジウム、白金、マンガン
およびカドミウムの中から選択される少なくとも１種の
元素とから構成されたもので、とくに８０〜９９重量％
の銀と上記金属２０〜１重量％を固溶させた材料が好ま
しい。その中でも、銀中に１〜２０重量％の金を固溶さ
せたものは、銀の劣化防止の観点から好ましい。金を２
０重量％を超えて混入すると比抵抗が得られ難く、１重
量％未満では劣化が起こりやすい。このような材料から
なる銀系透明導電体膜は、電磁波の遮断特性にすぐれて
いるとともに、近赤外線の遮断特性にもすぐれるという
特徴を備えている。

【００１６】上記の高屈折率誘電体膜および銀系透明導
電体膜は、スパツタリング法、真空蒸着法、イオンプレ
―テイング法などの真空ドライプロセスにより、連続的
に形成することができる。ここで、高屈折率誘電体膜の
厚さは、通常５〜２００ｎｍ、好ましくは１０〜１００
ｎｍとするのがよく、銀系透明導電体膜の厚さは、通常
１〜５０ｎｍ、好ましくは５〜２０ｎｍとするのがよ
い。また、このような高屈折率誘電体膜と銀系透明導電
体膜とからなる積層膜は、既述のとおり、３層構成また
はそれ以上の多層構成とされるが、積層膜全体の厚さが
５０〜２，０００ｎｍ、好ましくは５０〜１，０００ｎ
ｍとなるようにするのがよい。

【００１７】本発明においては、このような積層膜の上
に保護層を設ける。この保護層の材料には、透明性が高
く、機械的強度の大きいものが選択され、ウレタン系、
エステル系、エポキシ系などの紫外線硬化型、電子線硬
化型または熱硬化型の樹脂層が用いられる。その他、ア
ルコキシシランのようなゾルゲル系でもよく、またフイ
ルタ全体の硬度の向上や保護層の低収縮化のため、Ｓｉ
Ｏ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、ＺｒＯ、ＴｉＯ₂などの無機微粒子
の分散または有機成分と無機成分が化学結合した有機・
無機ハイブリツド型ポリマ―を用いてもよい。また、こ
のような保護層には、積層膜の最表面となる高屈折率誘
電体膜との濡れ性を良くするため、レベリング剤を添加
したり、耐光性の向上のため、紫外線吸収剤、酸化防止
剤、防汚染剤などの各種添加剤を添加することもでき
る。

【００１８】本発明においては、このような保護層中
に、さらに下記の式（１）；（式中、Ｘは水素原子またはメチル基、Ｙは−ＯＣＯ
（ＣＨ₂）₅−基、ｎは０または１である）で表される
りん酸エステル化合物を含ませたことを特徴とする。上
記りん酸エステル化合物は、分子内にりん酸ヒドロキシ
基を有していることにより、積層膜の高屈折率誘電体膜
に対する密着性の向上に大きく寄与し、かつ分子内に
（メタ）アクリロイル基を有していることにより、保護
層の硬化時にこれ自体も硬化反応（架橋反応）に関与し
て、保護層の表面硬度および耐擦傷性の向上に寄与する
という格別の効果を発揮するものである。

【００１９】このようなりん酸エステル化合物は、紫外
線硬化型、電子線硬化型または熱硬化型の樹脂などの保
護層の主材（ポリマ―成分）１００重量部あたり、０．
１〜１００重量部、好ましくは０．２〜５０重量部の割
合で用いられる。この使用量が過少では高屈折率誘電体
膜との密着性が悪くなり、過多となると硬化速度が遅く
なつたり硬度が低下するおそれがあり、好ましくない。

【００２０】保護層は、上記主材に対し上記割合のりん
酸エステル化合物やその他の添加剤を添加した材料を、
フイルム基体上の前記積層膜の上にロ―ル塗工などの方
法で塗工し、乾燥したのち、紫外線や電子線などを照射
したり、熱エネルギ―を付与するなどして、硬化させる
ことにより、形成することができる。このように形成さ
れる保護層の厚さは、通常０．０５〜５０μｍ、好まし
くは０．１〜２０μｍであるのがよい。薄すぎると表面
硬度が低くなり、厚すぎるとクラツクが入りやすくなつ
たり、フイルタ全体の反りが大きくなる。

【００２１】本発明において、上記したりん酸エステル
化合物を含む保護層が高屈折率材料（たとえば、屈折率
１．４〜１．７）からなる場合、フイルタ全体の反射防
止のため、この保護層上に低屈折率材料からなる反射防
止層を設けるようにしてもよい。また、この反射防止層
上にさらに防汚染層を設けたり、反射防止層中にパ―フ
ルオロアルキル系の添加剤を添加してこの層に防汚染機
能を持たせてもよい。一方、上記の保護層が低屈折率材
料（たとえば、屈折率１．３〜１．６）からなる場合、
この層自体に反射防止機能を持たせることができるの
で、上記のような反射防止層を別途設ける必要はない。
この場合、保護層上に防汚染層を設けるようにしてもよ
く、また保護層中にパ―フルオロアルキル系の添加剤を
添加してこの層自体に防汚染機能をも持たせるようにし
てもよい。

【００２２】さらに、本発明では、吸収した電磁波によ
つて誘起する電荷により電磁波シ―ルド性が低下するの
を防ぐため、つまり、電磁波シ―ルド効果の向上のため
に、導電性を有する積層膜の端部との間に電気的接続を
取る必要がある。しかるに、積層膜の全面に前記した保
護層やこの上に反射防止層などを形成すると、上記の電
気的接続を取りにくい。このため、上記の保護層や反射
防止層などをウエツトプロセスで塗工したり、ドライプ
ロセスで成膜する場合、画像表示に有効な中央開口部に
のみそれらを形成し、積層膜の端部から電気的接続が取
れるようにしておくのがよい。電気的接続を取るには、
市販の導電ペ―スト、導電性テ―プ、真空蒸着などが用
いられるが、これらにとくに限定されない。

【００２３】本発明の光学フイルタは、上記のように、
透明なフイルム基体の片面に、高屈折率誘電体膜と銀系
透明導電体膜とからなる積層膜、その上の透明な保護層
および必要により反射防止層や防汚染層を設けた構成か
らなり、直貼りフイルタとして、通常は、上記フイルム
基体の反対面に、厚さが５μｍ〜数mm、好ましくは５〜
５００μｍの透明な接着剤層を設ける。接着剤層は、濡
れ性、凝集性、接着性を有するポリマ―からなり、透明
性（可視光線透過率７０％以上）、耐候性、耐熱性にす
ぐれるものであれば、粘着剤でもこれ以外のものでもよ
い。

【００２４】透明な粘着剤には、アクリル系、ゴム系、
ポリエステル系などがあり、とくにアクリル系粘着剤が
好ましい。アクリル系粘着剤は、粘着剤に主として適度
な濡れ性、柔軟性を付与する主単量体として、ポリマ―
のガラス転移点（Ｔｇ）が−１０℃以下となる（メタ）
アクリル酸アルキルエステルを使用し、これと必要によ
り官能基含有単量体やその他の共重合性単量体を、適宜
の重合触媒を用いて、溶液重合法、乳化重合法、塊状重
合法（とくに紫外線照射による重合法）、懸濁重合法な
どで重合させることにより得られる、アクリル系ポリマ
―を主剤とし、これに公知の各種添加剤を適宜含ませて
なるものであり、熱架橋タイプ、光（紫外線、電子線）
架橋タイプなどであつてもよい。

【００２５】また、粘着剤以外の透明な接着剤には、天
然高分子系のニカワ、デンプン、半合成高分子系の酢酸
セルロ―ス、合成高分子系のポリ酢酸ビニル、ポリ塩化
ビニル、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、ポリクロロプレ
ン、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、メラミン
樹脂、アクリル樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体、
ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂などを用いたものが
挙げられる。また、これらは、常温硬化、加熱硬化、紫
外線、電子線またはレ―ザ―照射硬化タイプなどの各種
硬化タイプの接着剤として、使用することができる。

【００２６】本発明のプラズマデイスプレイ表示装置
は、ＰＤＰのパネル表面（画像有効表示部分）に、上記
構成の光学フイルタを、その透明な接着剤層を介して、
直接貼り合わせたことを特徴とするものである。この表
示装置は、上記の光学フイルタが直貼りフイルタである
ため、軽量、薄肉化が可能であり、さらに従来のメツシ
ユタイプのような画像のかすみや可視光透過率の低下な
どの問題がなく、また従来の前面置きタイプのような空
気層による外光の２重反射の問題もなく、そのうえ、上
記の光学フイルタを構成する保護層の下地積層膜に対す
る密着性と表面硬度および耐擦傷性にすぐれて、良好な
耐久性を示すため、ＰＤＰから発生する電磁波と近赤外
線の遮断特性および視認性にすぐれるとともに、これら
の特性を長期にわたり維持できるという格別の効果を発
揮する。

【００２７】

【実施例】つぎに、本発明の実施例を記載して、より具
体的に説明をする。以下、表面抵抗は、三菱化学（株）
製の「低抵抗率計：ロレスタ―ＳＰ」を用い、四探針法
で測定した。また、可視光の透過率と反射率は、波長５
５０ｎｍの光を使用して、（株）日立製作所製の「分光
光度計：Ｕ−３４１０」により測定した。

【００２８】実施例１透明なフイルム基体として、厚さが１２５μｍのポリエ
チレンテレフタレ―ト（以下、ＰＥＴという）フイルム
を使用した。このフイルム基体の片面に、ＤＣマグネト
ロンスパツタ法により、高屈折率誘電体膜と銀系透明導
電体膜とからなる積層膜を形成した。高屈折率誘電体膜
を形成するタ―ゲツト材料には、Ｉｎ₂Ｏ₃／１２．６
重量％ＴｉＯ₂を用い、これより形成される膜をＩＴ膜
とした。また、銀系透明導電体膜を形成するタ―ゲツト
材料には、Ａｇ／５重量％Ａｕを用い、これより形成さ
れる膜をＡｇ−Ａｕ５％膜とした。

【００２９】形成された積層膜は、フイルム基体側よ
り、ＩＴ膜（３５ｎｍ）／Ａｇ−Ａｕ５％膜（１０ｎ
ｍ）／ＩＴ膜（７０ｎｍ）／Ａｇ−Ａｕ５％膜（１５ｎ
ｍ）／ＩＴ膜（７０ｎｍ）／Ａｇ−Ａｕ５％膜（１５ｎ
ｍ）／ＩＴ膜（７０ｎｍ）／Ａｇ−Ａｕ５％膜（１０ｎ
ｍ）／ＩＴ膜（３５ｎｍ）の多層構成からなり、その表
面対抗は１．６Ω／□であつた。なお、上記（）内
は、各膜の厚さを示したもので、厚さの測定は、表面粗
さ計（ＤＥＫＴＡＫ３）による製膜速度の検量線と透過
型電子顕微鏡による精密測定により行つた。

【００３０】つぎに、屈折率１．６５のアクリルウレタ
ン樹脂からなる紫外線硬化型の樹脂（ＪＳＲ製の「ＫＺ
７８８６Ｂ」）１００重量部に、日本化薬（株）製の
「ＫＡＹＡＭＥＲＰＭ−２」〔前記の式（１）中、Ｘ
がメチル基、ｎが０であるりん酸エステル化合物〕１０
重量部を加え、これをメチルイソブチルケトンで希釈し
て、保護層形成用溶液を調製した。この溶液を、前記の
フイルム基体上に形成された積層膜の上に、ワイヤバ―
＃６で塗工し、８０℃で乾燥したのち、超高圧水銀ラン
プにより、紫外線を２００ｍＪ／cm²の照射量で照射し
て硬化させることにより、厚さが５μｍの保護層を形成
し、光学フイルタを作製した。この光学フイルタは、可
視光の透過率が６０％、反射率が６％であつた。

【００３１】実施例２保護層形成用溶液において、りん酸エステル化合物とし
て、日本化薬（株）製の「ＫＡＹＡＭＥＲＰＭ−２
１」〔前記の式（１）中、Ｘがメチル基、ｎが１である
りん酸エステル化合物〕１０重量部を使用した以外は、
実施例１と同様にして、光学フイルタを作製した。この
光学フイルタは、可視光の透過率が６０％、反射率が６
％であつた。

【００３２】実施例３保護層上に、屈折率１．３６のアルコキシシラン系ゾル
液を、ワイヤバ―で塗工し、１２０℃で１０分間硬化処
理して、厚さが０．１μｍの反射防止層を形成した以外
は、実施例１と同様にして、光学フイルタを作製した。
この光学フイルタは、可視光の透過率が６２％、反射率
が３％であつた。

【００３３】実施例４反射防止層上に、防汚染剤としてパ―フルオロアルキル
シラン系材料〔信越化学工業（株）製の「ＫＰ８０１
Ｍ」〕を塗工処理して、厚さが１０ｎｍの防汚染層を形
成した以外は、実施例３と同様にして、光学フイルタを
作製した。この光学フイルタは、可視光の透過率が６２
％、反射率が３％であつた。

【００３４】実施例５実施例１と同様の透明なフイルム基体の片面に、屈折率
１．６５のアクリルウレタン樹脂からなる紫外線硬化型
の樹脂（ＪＳＲ製の「ＫＺ７８８６Ｂ」）を、厚さが５
μｍとなるように硬化形成して、ハ―ドコ―ト層とし
た。この上に、光学フイルタの低反射化のため、反応性
パルスＤＣスパツタリング法により、ＳｉＯ₂からなる
低屈折率層を、厚さ９４ｎｍ（λ／４）に形成した。こ
の上に、実施例１と同様にして、ＤＣマグネトロンスパ
ツタ法により、高屈折率誘電体膜と銀系透明導電体膜と
からなる積層膜を形成した。

【００３５】形成された積層膜は、フイルム基体（の低
屈折率層）側より、ＩＴ膜（３４ｎｍ）／Ａｇ−Ａｕ５
％膜（１４ｎｍ）／ＩＴ膜（６８ｎｍ）／Ａｇ−Ａｕ５
％膜（１４ｎｍ）／ＩＴ膜（６８ｎｍ）／Ａｇ−Ａｕ５
％膜（１４ｎｍ）／ＩＴ膜（３４ｎｍ）の多層構成から
なり、その表面対抗は１．８Ω／□であつた。なお、上
記（）内は、前記同様に測定した各膜の厚さを示し
ている。

【００３６】つぎに、屈折率１．４９の紫外線硬化型の
樹脂（ＪＳＲ製のＵＶハ―ドコ―ト材「Ｚ７５０１」）
１００重量部に、実施例１と同じりん酸エステル化合物
１０重量部、防汚染性と濡れ性向上のためのフツ素系界
面活性剤〔大日本インキ化学（株）製の「デイフエンサ
―ＭＣＦ３２３」〕３重量部を加え、実施例１と同様に
して、保護層形成用溶液を調製した。この溶液を、前記
の積層膜の上に、ワイヤバ―＃３で塗工し、６０℃で乾
燥後、実施例１と同様に紫外線を照射（照射量２００ｍ
Ｊ／cm²）して硬化させ、厚さが０．２μｍの保護層を
形成して、可視光の透過率が６５％、反射率が３％であ
る光学フイルタを作製した。

【００３７】比較例１保護層形成用溶液に、りん酸エステル化合物を加えなか
つた以外は、実施例１と同様にして、光学フイルタを作
製した。

【００３８】比較例２保護層形成用溶液において、りん酸エステル化合物の配
合量を１００重量部とし、かつ保護層形成時の紫外線の
照射量を２，０００ｍＪ／cm²とした以外は、実施例１
と同様にして、光学フイルタを作製した。なお、上記紫
外線の照射量を実施例１と同じ２００ｍＪ／cm²とした
ときは、保護層の紫外線硬化が不十分となり、指触によ
り保護層表面にタツク感が残つた。

【００３９】比較例３保護層形成用溶液の塗工量を、保護層の厚さが０．０２
μｍとなるようにし、かつ保護層形成時の紫外線の照射
量を１，０００ｍＪ／cm²とした以外は、実施例１と同
様にして、光学フイルタを作製した。なお、上記紫外線
の照射量を実施例１と同じ２００ｍＪ／cm²としたとき
は、保護層の紫外線硬化が不十分で、指触により保護層
表面にタツク感が残つた。

【００４０】比較例４保護層形成用溶液に、りん酸エステル化合物を加えなか
つた以外は、実施例４と同様にして、光学フイルタを作
製した。

【００４１】上記の実施例１〜５および比較例１〜４の
各光学フイルタについて、下記の方法により、密着性試
験、表面硬度試験および耐擦傷性試験を行つた。これら
の試験結果は、表１に示されるとおりであつた。

【００４２】＜密着性試験＞ＪＩＳＫ５４００に準
じて、基盤目剥離試験を行つた。密着性の評価は、１０
０個中１個の剥離も認められなかつた場合を○、１００
個中１個でも剥離した場合を×、と評価した。

【００４３】＜表面硬度試験＞ＪＩＳＫ５４００に
準じて、鉛筆硬度を評価した。

【００４４】＜耐擦傷性試験＞＃００００のスチ―ルウ
―ルを１００ｇ／cm²の荷重で１０往復回擦り、表面に
顕著な傷が入るかどうかを目視により調べ、上記顕著な
傷が認められなかつた場合を○、認められた場合を×、
と評価した。

【００４５】

【００４６】上記表１の結果から、実施例１〜５の各光
学フイルタは、保護層の積層膜に対する密着性にすぐ
れ、かつ表面硬度が高く、耐擦傷性にもすぐれているこ
とがわかる。これに対し、比較例１，４の光学フイルタ
は、上記密着性に劣り、表面硬度が低く、耐擦傷性にも
劣つている。また、比較例２，３の光学フイルタは、上
記密着性は良好であるが、保護層の表面硬度や耐擦傷性
に劣つている。

【００４７】つぎに、実用試験として、上記の実施例４
の光学フイルタについて、そのフイルム基体（ＰＥＴフ
イルム）の反対面側に厚さが２３μｍの透明なアクリル
系粘着剤層を形成し、この粘着剤層を介してＰＤＰの画
像有効表示部に直接貼り付けた。得られたプラズマデイ
スプレイ表示装置は、パネルの表面硬度が２Ｈで、耐擦
傷性も良好であり、ＰＤＰから発生する電磁波と近赤外
線の遮断特性および視認性にすぐれ、しかもこれら特性
を長期にわたり維持できた。

【００４８】

【発明の効果】以上のように、本発明では、保護層中に
特定のりん酸エステル化合物を含ませる構成としたこと
により、高屈折率誘電体膜と銀系透明導電体膜とからな
る積層膜に対する上記保護層の密着性とその表面硬度や
耐擦傷性にすぐれ、ＰＤＰから発生する電磁波と近赤外
線の遮断特性および視認性にすぐれ、これらの特性を長
期にわたり維持できる、耐久性の良好な光学フイルタを
提供することができる。また、このような光学フイルタ
の上記積層膜や保護層とは反対側の面に透明な接着剤層
を設けて、ＰＤＰに直接貼り合わせる構成としたことに
より、従来の空気層を介した前面置きフイルタの構成と
比べて、軽量、薄膜化が可能であり、また空気層がない
ことで２重反射も低減することができる。さらに、上記
の直貼りタイプとすることにより、ＰＤＰの割れに伴う
飛散防止も兼ねさせることができ、上記表面硬度および
耐擦傷性が向上したこととにより、実用的に格段にすぐ
れたＰＤＰ用直貼り光学フイルタを提供することができ
る。

フロントページの続き (72)発明者宮内和彦大阪府茨木市下穂積１丁目１番２号日東電工株式会社内 (72)発明者中村年孝大阪府茨木市下穂積１丁目１番２号日東電工株式会社内Ｆターム(参考） 2H048 GA07 GA09 GA14 GA19 GA26 GA28 GA33 GA60 GA61 4F100 AA11B AA17B AA21B AA25B AA27B AA28B AB14C AB17C AB24C AB40C AH02D AH02H AK01D AK42A AR00A AR00D AR00E BA04 BA05 BA07 BA10A BA10D BA10E EH66B EH66C GB41 GB90 JB13D JB14D JD08 JD10 JG01C JG05B JK14 JL00 JL11E JM02B JM02C JN01A JN01D JN01E JN18B 5C040 GH01 JA07 KA01 MA08

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】透明なフイルム基体の片面に、高屈折率
誘電体膜と銀系透明導電体膜とからなる積層膜が設けら
れ、その上に透明な保護層が設けられてなる光学フイル
タにおいて、上記の保護層は、下記の式（１）；（式中、Ｘは水素原子またはメチル基、Ｙは−ＯＣＯ
（ＣＨ₂）₅−基、ｎは０または１である）で表される
りん酸エステル化合物を含むことを特徴とする光学フイ
ルタ。
【請求項２】高屈折率誘電体膜は、酸化インジウム、
酸化錫、二酸化チタン、酸化セリウム、酸化ジルコニウ
ム、酸化ビスマス、酸化亜鉛、酸化タンタル、五酸化ニ
オブおよび硫化亜鉛の中から選択される少なくとも１種
の化合物より構成されている請求項１に記載の光学フイ
ルタ。
【請求項３】銀系透明導電体膜は、８０重量％以上の
銀と、金、銅、パラジウム、白金、マンガンおよびカド
ミウムの中から選択される少なくとも１種の元素とから
構成されている請求項１に記載の光学フイルタ。
【請求項４】保護層は、紫外線硬化型、電子線硬化型
または熱硬化型の樹脂層からなる請求項１に記載の光学
フイルタ。
【請求項５】透明なフイルム基体の反対面に透明な接
着剤層が設けられている請求項１〜４のいずれかに記載
の光学フイルタ。
【請求項６】プラズマデイスプレイパネルの表面に、
請求項５に記載の光学フイルタを、その透明な接着剤層
を介して直接貼り合わせてなることを特徴とするプラズ
マデイスプレイ表示装置。