JPH11305004A - 静電防止層を持つ光学フィルター - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】透明高分子成形体に光学フィルムを貼り合わせ
ることによって得られるディスプレイ用光学フィルター
において、ディスプレイに装機し、ディスプレイを点灯
した時に生じる異常音及び光学フィルター単体への塵等
の付着を防止する。 【解決手段】表面に静電防止層を形成された光学フィル
ターを作製する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は光学フィルターに関
するものであり、さらに詳しくはプラズマディスプレイ
パネル用に好適に用いられる光学フィルターに関するも
のである。

【０００２】

【従来の技術】近年、社会が高度化するに従って、光エ
レクトロニクス関連部品、機器は著しく進歩している。
その中で、画像を表示するディスプレイは、従来のテレ
ビジョン装置用に加えて、コンピューターモニター装置
用等としてめざましく普及しつつある。その中でも、デ
ィスプレイの大型化及び薄型化に対する市場要求は高ま
る一方である。最近、大型かつ薄型化を実現することが
可能であるディスプレイとしてプラズマディスプレイパ
ネル（ＰＤＰ）が、注目されている。しかし、プラズマ
ディスプレイパネルは、原理上、強度の電磁波を装置外
に放出することが知られている。電磁波は、計器に障害
を及ぼすことが知られており、最近では、電磁波が人体
にも障害を及ぼす可能性もあるとの報告もされている。
このため、電磁波放出に関しては、法的に規制される方
向になっている。例えば、現在日本では、VCCI (Volunt
arily Control Council for Interference by Data Pro
cessing Equipment Electronic Office Machine)による
規制があり、米国では、FCC(Federal Communication Co
mmission)による製品規制がある。また、プラズマディ
スプレイパネルは、強い近赤外線を放出する。この近赤
外線は、コードレス電話や赤外線方式のリモートコント
ローラー等の誤動作を引き起こす。特に問題となる波長
は、８００〜１０００ｎｍである。

【０００３】上記、電磁波及び近赤外線放出を抑えるた
めに、最近、電磁波及び近赤外線遮断用光学フィルター
に対する要請が高まっている。この光学フィルターは、
フィルター全面に渡って導電性があり、しかも透明性に
優れている必要がある。これらの要求を満たし、実用化
された光学フィルターは、大きく２種類に分けることが
できる。一つは、金属メッシュタイプと呼ばれているも
のであり、基体全面に細く金属を格子状に配置させたも
のである。これは、導電性に優れ、優れた電磁波遮断能
力を持つが、近赤外線反射能力及び透明性が優れず、モ
ワレ像が生じることからディスプレイフィルター用途に
対して、あまり好ましくない。もう一つは、透明膜タイ
プと呼ばれているものであり、透明導電性薄膜を基体全
面に配置したものである。透明導電性薄膜タイプの光学
フィルターは、金属メッシュタイプの光学フィルターに
比較して、電磁波遮断能力に劣るが、近赤外線遮断能力
及び透明性に優れ、モワレ像の発生がない。

【０００４】透明導電性薄膜タイプ光学フィルターは、
高分子成形体基板やガラス基板に透明導電性薄膜フィル
ムを貼り合わせてある場合が多い。貼り合わせには、粘
着材が用いられる。表示装置自体の軽量化や安全性の面
から、基板としては、高分子成形体が、好適に用いられ
る場合が多い。また、反射率低減機能、防幻機能または
調色機能を持った光学フィルムを透明導電性フィルムに
組み合わせて貼り合わせることが多く、これらフィルム
の貼り合わせにも粘着材が用いられる。高分子成形体基
板にフィルムを貼り合わせることにより得られる光学フ
ィルターは、用いられる部材が絶縁物である高分子樹脂
からなるものが大部分であるため容易に帯電する。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】光学フィルムと透明高
分子成形体との貼り合わせによって得られる光学フィル
ターを、プラズマディスプレイパネルに装着し、プラズ
マディスプレイを点灯すると、プラズマディスプレイパ
ネルから異音が発生するという課題があった。また、こ
の光学フィルターは、塵等が付着し易いという課題があ
った。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の問
題を解決するために鋭意研究を重ねた結果、点灯したプ
ラズマディスプレイパネルに装着された状態における、
異常音の発生、塵等の付着の原因は、光学フィルターの
帯電が原因であるとの知見を得、光学フィルターの最表
面に静電防止層を形成することによって上記課題を解決
する事ができるとの知見を得、本発明に至った。

【０００７】すなわち本発明は、（１）透明高分子成形
体に透明導電性薄膜フィルムを貼り合わせられている光
学フィルターにして、表面に静電防止層が設けられてい
ることを特徴とする光学フィルター、（２）該静電防止
層が、静電防止機能を持つフィルムの貼り合わせにより
設けられていることを特徴とする（１）に記載の光学フ
ィルター、（３）該静電防止機能を持つフィルムが、Ａ
Ｒフィルム、ＡＧフィルムまたはＡＲ−ＡＧフィルムの
いずれかであることを特徴とする（２）に記載の光学フ
ィルター、（４）該透明高分子成形体がアクリル樹脂成
形体であることを特徴とする（１）から（３）のいずれ
かに記載の光学フィルター、および（５）少なくとも透
明導電性薄膜フィルムと該静電防止フィルムたるＡＧフ
ィルム、ＡＲフィルム、ＡＲ−ＡＧフィルムとを、ＡＲ
フィルム／透明導電性フィルム／アクリル樹脂成形体／
ＡＲフィルム、ＡＲフィルム／透明導電性フィルム／ア
クリル樹脂成形体／ＡＧフィルム、ＡＲフィルム／透明
導電性フィルム／アクリル樹脂成形体／ＡＲ−ＡＧフィ
ルム、ＡＧフィルム／透明導電性フィルム／アクリル樹
脂成形体／ＡＲフィルム、ＡＧフィルム／透明導電性フ
ィルム／アクリル樹脂成形体／ＡＧフィルム、ＡＧフィ
ルム／透明導電性フィルム／アクリル樹脂成形体／ＡＲ
−ＡＧフィルム、ＡＲ−ＡＧフィルム／透明導電性フィ
ルム／アクリル樹脂成形体／ＡＲフィルム、ＡＲ−ＡＧ
フィルム／透明導電性フィルム／アクリル樹脂成形体／
ＡＧフィルム、またはＡＲ−ＡＧフィルム／透明導電性
フィルム／アクリル樹脂成形体／ＡＲ−ＡＧフィルムの
いずれか構成で貼り合わせてなることを特徴とするプラ
ズマディスプレイパネル用光学フィルターである。

【０００８】

【発明の実施の形態】本発明における光学フィルター
は、最表面に静電防止層が形成されていることを特徴と
するものであり、塵等の付着がなく、特にプラズマディ
スプレイパネル用光学フィルターに関して、プラズマデ
ィスプレイパネル装着点灯時に生じた異常音が発生しな
い。

【０００９】本発明を添付図面でもって説明する。図１
は、本発明によって製造されるプラズマディスプレイパ
ネル用光学フィルターの一例を示す断面図である。図１
に示したプラズマディスプレイ用光学フィルターにおい
ては、高分子成形体（Ａ）１０上に透明導電性薄膜フィ
ルム（Ｂ）２０を貼り合わせてある。またさらに、その
上に静電防止機能付き防幻性フィルム（Ｃ）３０、透明
高分子成形体（Ａ）の反対面上に静電防止機能付き反射
防止フィルム（Ｄ）４０を貼り合わせてある。静電防止
機能付き防幻性フィルム（Ｃ）の断面図の詳細を図２に
示した。高分子フィルム（ｄ）５０上に静電防止層
（ｅ）６０層が形成されており、さらにその上に防幻性
層（ｆ）７０が形成されている。静電防止機能付き反射
防止フィルム（Ｄ）４０の断面図の詳細を図３に示し
た。高分子フィルム（ｇ）８０上に静電防止層（ｈ）９
０が、形成されており、さらにその上に反射防止層
（ｉ）１００が形成されている。

【００１０】本発明に用いられる透明高分子成形体とし
ては、透明性に優れ、十分な機械的強度持ち、できるだ
け軽量であり、割れにくいものであることが好ましい。
ここで、透明性に優れるとは、厚さ３ｍｍ程度の板にし
た時の波長４００〜７００ｎｍの光に対する透過率が、
５０％以上であることを指す。透明高分子成形体に用い
るに好ましい材料を例示すれば、ポリメタクリル酸メチ
ル（ＰＭＭＡ）を始めとするアクリル樹脂、ポリカーボ
ネイト樹脂等が挙げられるが、これらの樹脂に特定され
るわけではない。中でもＰＭＭＡは、その広い波長領域
での高透明性と機械的強度の高さから好適に使用するこ
とができる。高分子成形体の厚さに特に制限はなく、十
分な機械的強度と、たわまずに平面性を維持する剛性が
得られれば良い。通常は、１〜１０ｍｍ程度である。

【００１１】また、透明高分子成形体には、表面の硬度
または密着性を増す等の理由でハードコート層が設けら
れることが多い。ハードコート層材料としては、アクリ
レート樹脂またはメタクリレート樹脂が用いられる場合
が多いが、特に限定されるわけではない。またハードコ
ート層の形成方法は、紫外線硬化法または重合転写法が
用いられる場合が多いが、特にこれに限定されるわけで
はない。重合転写法は、対象となる材料が、メタクリレ
ート樹脂等セルキャスト重合ものに限定されるが、連続
製版方式によって非常に生産性良く、ハードコート層を
形成することができる。このため、重合転写法によるメ
タクリレート樹脂層形成は、最も好適に用いられるハー
ドコート層形成手法である。

【００１２】本発明において、透明高分子成形体に光学
フィルムが貼り合わせられているが、目的に応じて様々
なものが用いられている。この光学フィルムを具体的に
例示すると、透明導電性薄膜フィルム、防幻性フィル
ム、ニュートンリング防止フィルム、反射防止フィル
ム、反射防止防幻性フィルム、色素フィルム等が挙げら
れる。

【００１３】透明導電性フィルムは、電磁波及び近赤外
光を遮断する効果を持ち、本発明における光学フィルタ
ーにとって必要不可欠である。この透明導電性薄膜フィ
ルムは、高分子フィルム上に透明導電性薄膜層を形成す
ることによって得られている。

【００１４】透明導電性薄膜フィルムの基材として用い
られる高分子フィルムの材料は、透明性があれば特に制
限はない。具体的に例示すると、ポリイミド、ポリスル
フォン（ＰＳＦ）、ポリエーテルスルフォン（ＰＥ
Ｓ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリメ
チレンメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリカーボネート
（ＰＣ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、
ポリプロピレン（ＰＰ）、トリアセチルセルロース（Ｔ
ＡＣ）等が挙げられる。中でもポリエチレンテレフタレ
ート（ＰＥＴ）及びトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）
は、特に好適に用いられる。

【００１５】透明導電性薄膜層は、透明高屈折率薄膜層
と金属薄膜層との積層体である場合が多い。透明導電性
薄膜単層でも電磁波遮断効果がある程度得られるが、充
分でなく、通常透明高屈折率薄膜と金属薄膜とを、十分
な透過率及び表面抵抗値が得られる膜厚組み合わせで積
層して得られる。透明導電性薄膜層の好ましい透過率
は、４０％以上、９９％以下、より好ましくは、５０％
以上、９９％以下、さらに好ましくは、６０％以上、９
９％以下である。また、好ましい表面抵抗値は、０．２
（Ω ／□）以上、１００（Ω ／□）以下、好ましく
は、０．２（Ω ／□）以上、１０（Ω ／□）以下、さ
らに好ましくは、０．２（Ω ／□）以上、３（Ω ／
□）以下、さらにより好ましくは、０．２（Ω ／□）
以上、０．５（Ω ／□）以下である。

【００１６】上記、透明高屈折率薄膜層（ｂ）と金属薄
膜層（ｃ）との積層体を透明高分子成形体基体（ａ）上
に積層する事によって得られる、透明導電性薄膜フィル
ムの積層構造を具体的に示すと、ａ／ｂ／ｃ／ｂ、ａ／
ｂ／ｃ／ｂ／ｃ／ｂ、ａ／ｂ／ｃ／ｂ／ｃ／ｂ／ｃ／
ｂ、ａ／ｂ／ｃ／ｂ／ｃ／ｂ／ｃ／ｂ／ｃ／ｂ、ａ／ｂ
／ｃ／ｂ／ｃ／ｂ／ｃ／ｂ／ｃ／ｂ／ｃ／ｂ等である。

【００１７】透明高屈折率薄膜層（ｂ）に用いられる材
料としては、できるだけ透明性に優れたものであること
が好ましい。ここで透明性に優れるとは、膜厚１００ｎ
ｍ程度の薄膜を形成したときに、その薄膜の波長４００
〜７００ｎｍの光に対する透過率が６０％以上であるこ
とを指す。また、高屈折率材料とは、５５０ｎｍの光に
対する屈折率が、１．４以上の材料である。これらに
は、用途に応じて不純物を混入させても良い。

【００１８】透明高屈折率薄膜層用に好適に用いること
ができる材料例示すると、インジウムとスズとの酸化物
（ＩＴＯ）、カドミウムとスズとの酸化物（ＣＴＯ）、
酸化アルミニウム（Ａｌ₂Ｏ₃）、酸化亜鉛（Ｚｎ
Ｏ₂）、亜鉛とアルミニウムとの酸化物（ＡＺＯ）、酸
化マグネシウム（Ｍｇ０）、酸化トリウム（Ｔｈ
０₂）、酸化スズ（ＳｎＯ₂）、酸化ランタン（Ｌａ
Ｏ₂）、酸化シリコン（ＳｉＯ₂）、酸化インジウム（Ｉ
ｎ₂Ｏ₃）、酸化ニオブ（Ｎｂ₂Ｏ３）、酸化アンチモン
（Ｓｂ₂Ｏ₃）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ₂）、酸化セ
シウム（ＣｅＯ₂）、酸化チタン（ＴｉＯ₂）、酸化ビス
マス（ＢｉＯ₂）等である。また、透明高屈折率硫化物
を用いても良い。具体的に例示すると、硫化亜鉛（Ｚｎ
Ｓ）、硫化カドミウム（ＣｄＳ）、硫化アンチモン（Ｓ
ｂ₂Ｓ₃）等があげられる。

【００１９】透明高屈折率材料としては、中でも、ＩＴ
Ｏ、ＴｉＯ₂、ＺｎＯが特に好ましい。ＩＴＯ及びＺｎ
Ｏ₂は、導電性を持つ上に、可視領域における屈折率
が、２．０程度と高くさらに可視領域にほとんど吸収を
持たない。ＴｉＯ₂は、絶縁物であり、可視領域にわず
かな吸収を持つが、可視光に対する屈折率が２．３程度
と大きい。

【００２０】本発明において用いられる、金属薄膜層
（ｃ）の材料としては、できるだけ電気伝導性の良い材
料が好ましく、銀、銅、金、白金、パラジウムまたはそ
れらの合金が用いられる。中でも銀は、比抵抗が、１．
５９×１０^ー6（Ω・cm）であり、あらゆる材料の中で最
も電気伝導性に優れる上に、薄膜の可視光線透過率が優
れるため、最も好適に用いられる。但し、銀は、薄膜と
した時に安定性を欠き、硫化や塩素化を受け易いという
問題を持っている。この為、安定性を増すために、銀の
替わりに銀と金の合金または、銀と銅の合金または銀と
パラジウムの合金または銀と白金の合金等を用いてもよ
い。銅は、薄膜の可視光透過性が、銀に比較して劣る
が、比抵抗が、１．６７×１０^-6（Ω・cm）であり、銀
に次いで電気伝導性に非常に優れているため、本発明に
おける金属薄膜に好適に利用することができる。金も銅
と同じように薄膜の可視光線透過率が銀に劣るが、比抵
抗が、２．３５×１０^-6（Ω・cm）と銀、銅に次いで電
気伝導性に優れるため、本発明における金属薄膜として
好適に利用することができる。

【００２１】高屈折率薄膜層及び金属薄膜層の形成に
は、真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリ
ング法等の従来公知の手法によればよい。金属薄膜層の
形成には、真空蒸着法またはスパッタリング法が、好適
に用いられる。真空蒸着法では、所望の金属を蒸着源と
して使用し、抵抗加熱、電子ビーム加熱等により、加熱
蒸着させることで、簡便に金属薄膜を形成することがで
きる。また、スパッタリング法を用いる場合は、ターゲ
ットに所望の金属材料を用いて、スパッタリングガスに
アルゴン、ネオン等の不活性ガスを使用し、直流スパッ
タリング法や高周波スパッタリング法を用いて金属薄膜
を形成することができる。成膜速度を上昇させるため
に、直流マグネトロンスパッタリング法や高周波マグネ
トロンスパッタリング法が用いられることも多い。

【００２２】透明導電性薄膜層の形成には、イオンプレ
ーディング法または反応性スパッタリング法が好適に用
いられる。イオンプレーティング法では、反応ガスプラ
ズマ中で所望の金属または焼結体を抵抗加熱、電子ビー
ム加熱等により真空蒸着を行う。反応性スパッタリング
法では、ターゲットに所望の金属または焼結体を使用
し、反応性スパッタリングガスにアルゴン、ネオン等の
不活性ガスを用いてスパッタリングを行う。例えば、Ｉ
ＴＯ薄膜を形成する場合には、スパッタリングターゲッ
トにインジウムとスズとの酸化物を用いて、酸素ガス中
で直流マグネトロンスパッタリングを行う。

【００２３】本発明において用いられる防幻性フィルム
（ＡＧフィルム）は、0.1〜10μｍ程度の微少な凹凸を
表面に有する可視光線に対して透明なフィルムである。
具体的には、アクリル系樹脂、シリコン系樹脂、メラミ
ン系樹脂、ウレタン系樹脂、アルキド系樹脂、フッ素系
樹脂等の熱硬化型または光硬化型樹脂に、シリカ、メラ
ミン、アクリル等の無機化合物または有機化合物の粒子
を分散させインキ化したものを、バーコート法、リバー
スコート法、グラビアコート法、ダイコート法、ロール
コート法等によって透明高分子フィルム上に塗布硬化さ
せる。粒子の平均粒径は、１〜４０μｍである。また
は、アクリル系樹脂、シリコン系樹脂、メラミン系樹
脂、ウレタン系樹脂、アルキド系樹脂、フッ素系樹脂等
の熱硬化型又は光硬化型樹脂を基体に塗布し、所望のヘ
イズ又は表面状態を有する型を押しつけ硬化する事によ
っても防幻性フィルムを得ることができる。さらには、
ガラス板をフッ酸等でエッチングするように、基体フィ
ルムを薬剤処理することによっても防幻性フィルムを得
ることができる。この場合は、処理時間、薬剤のエッチ
ング性により、ヘイズを制御することができる。上記、
防幻性フィルムにおいては、適当な凹凸が表面に形成さ
れていれば良く、作成方法は、上記に挙げた方法に限定
されるものではない。防幻性フィルムのヘイズは、０．
５％以上２０％以下であり、好ましくは、１％以上１０
％以下である。ヘイズが小さすぎると防幻能が不十分で
あり、ヘイズが大きすぎると平行光線透過率が低くな
り、ディスプレイ視認性が悪くなる。この防幻性フィル
ムは、多くの場合、ニュートンリング防止フィルムとし
て用いることができる。

【００２４】反射防止フィルム（ＡＲフィルム）とは、
高分子フィルム上に反射防止層を形成したフィルムであ
り、反射防止層が形成されている面の可視光線反射率が
０．１％以上、２％以下、好ましくは、０．１％以上、
１．５％以下、より好ましくは、０．１％以上、０．５
％以下の性能を有することが望ましい。反射防止膜が形
成されている面の可視光線反射率は、反対面（反射防止
膜が形成されていない面）をサンドペーパーで荒らし、
黒色塗装等により、反対面の反射をなくして、反射防止
膜が形成されている面のみで起こる反射光を測定するこ
とにより知ることができる。

【００２５】反射防止層としては、具体的には、可視光
域において屈折率が１．５以下、好適には、１．４以下
と低い、フッ素系透明高分子樹脂やフッ化マグネシウ
ム、シリコン系樹脂や酸化珪素の薄膜等を、例えば１／
４波長の光学膜厚で単層形成したもの、屈折率の異な
る、金属酸化物、フッ化物、ケイ化物、ホウ化物、炭化
物窒化物、硫化物等の無機化合物又はシリコン系樹脂や
アクリル樹脂、フッ素系樹脂等の有機化合物の薄膜を２
層以上多層積層したものがある。単層形成したものは、
製造が容易であるが、反射防止性が多層積層に比べ劣
る。多層積層したものは、広い波長領域にわたって反射
防止能を有し、基体フィルムの光学特性による光学設計
の制限が少ない。これら無機化合物薄膜の形成には、ス
パッタリング、イオンプレーティング、イオンビームア
シスト、真空蒸着、室式塗工法等、従来公知の方法を用
いればよい。

【００２６】反射防止層を形成する基体として、防幻性
フィルムを用いても良い。この場合は、一枚のフィルム
で防幻性機能と反射防止機能を合わせ持った光学フィル
ム（ＡＲ−ＡＧフィルム）を作製することができ、この
フィルムは、使用する部材数を低減に効果があるため、
好適に用いられる。

【００２７】本発明における静電防止層は、できるだけ
透明であり、導電性が高いことが好ましい。通常は、透
過率が、５０％以上、９９％以下、面抵抗が、１０
⁵（Ω ／□）以上、１０¹³（Ω ／□）以下、好ましく
は１０⁷（Ω ／□）以上、１０¹²（Ω ／□）以下、さ
らに好ましくは１０⁹（Ω ／□）以上、１０¹¹（Ω ／
□）以下である。透明高分子成形体上に形成されている
場合、光学フィルム上に形成されている場合いずれでも
良い。また、静電防止機能付きの反射防止フィルムもし
くは静電防止機能付きの防幻性フィルムもしくは静電防
止機能付きの反射防止防幻性フィルム（ＡＲ−ＡＧフィ
ルム）も本発明において好適に用いられる。これらのフ
ィルムは、それぞれの機能を得るために形成されている
層に導電性粒子が分散されている場合と別に透明導電性
薄膜層が形成されている場合がある。導電性を持つ層が
表面に位置することが好ましいが、そうでない場合も表
面の面抵抗が十分な値であれば特に問題はない。

【００２８】なお光学フィルターを装着したプラズマデ
ィスプレイパネル点灯時の異音発生原因は定かではない
が、光学フィルターの帯電が原因であると推測してい
る。

【００２９】本発明において用いられる粘着材は、でき
るだけ透明なものが好ましい。使用可能な粘着材を具体
的に例示すると、アクリル系粘着材、シリコン系粘着
材、ウレタン系粘着材、ポリビニルブチラール粘着材
（ＰＶＢ）、エチレンー酢酸ビニル系粘着材（ＥＶＡ）
等である。中でもアクリル系粘着材は、透明性及び耐熱
性に優れるために特に好適に用いられる。

【００３０】粘着材の形態は、大きく分けてシート状の
ものと液状のものに分けられる。シート状粘着材は、通
常、感圧型であり、貼り付け後に各部材をラミネートす
る事によって貼り合わせを行う。液状粘着材は、塗布貼
り合わせ後に室温放置または加熱により硬化させるもの
であり、粘着材の塗布方法としては、バーコート法、リ
バースコート法、グラビアコート法、ロールコート法等
が挙げられ、粘着材の種類、粘度、塗布量等から考慮選
定される。粘着材層の厚みに特に制限はないが、０．５
〜５０μｍ、好ましくは、１〜３０μｍである。粘着材
を用いて貼り合わせを行った後は、貼り合わせた時に入
り込んだ気泡を脱法させたり、粘着材に固溶させ、さら
には部材間の密着力を向上させるために、加圧、加温条
件下にて養生を行うことが好ましい。この時、加圧条件
としては、一般的に数気圧〜２０気圧程度であり、加温
条件としては、各部材の耐熱性にも依るが、一般的には
室温以上、８０℃以下である。

【００３１】本発明において透明高分子成形体への光学
フィルムの貼り合わせ方法に特に制限はない。通常は、
高分子成形フィルムに粘着材を貼り付け、その上を離型
フィルムで覆ったものをロール状態であらかじめ用意し
ておき、ロールから高分子成形フィルムを繰り出しなが
ら、離型フィルムをはがしていき、高分子成形体基板上
へ貼り付け、ロールで押さえつけながら貼り付けてい
く。貼り合わせられたフィルム上に重ねて貼り合わせる
場合も同様である。

【００３２】上記の方法により作製した、光学フィルタ
ーの層構成及び各層の状態は、断面の光学顕微鏡測定、
走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）測定、透過型電子顕微鏡測
定（ＴＥＭ）を用いて調べることができ、静電防止層の
成分は、断面を赤外吸収分光顕微鏡測定またはＸ線顕微
鏡（ＸＭＡ）によって測定し、特定することができる。

【００３３】

【実施例】次に、本発明を実施例により具体的に説明す
る。 （実施例１）透明高分子フィルム（ａ）としてポリエチ
レンテレフタレートフィルム［ 厚さ７５μｍ］を使用
し、その一方の主面に、直流マグネトロンスパッタリン
グ法を用いて、インジウムとスズとの酸化物からなる薄
膜層（ｂ）、銀薄膜層（ｃ）をａ／ｂ［厚さ４０ｎｍ］
／ｃ［厚さ１０ｎｍ］／ｂ［厚さ８０ｎｍ］／ｃ［厚さ
１５ｎｍ］／ｂ［厚さ８０ｎｍ］／ｃ［厚さ１０ｎｍ］
／ｂ［厚さ４０ｎｍ］なる順に積層し、透明導電性薄膜
フィルム（Ｂ）を形成した。インジウムとスズとの酸化
物からなる薄膜層は、透明高屈折率薄膜層を構成し、銀
薄膜層は、金属薄膜層を構成する。インジウムとスズと
の酸化物からなる薄膜層の形成には、ターゲットとし
て、酸化インジウム・酸化スズ焼結体［Ｉｎ₂Ｏ₃：Ｓｎ
Ｏ₂＝９０：１０（重量比）］、スパッタリングガスと
してアルゴン・酸素混合ガス（全圧２６６ｍＰａ、酸素
分圧５ｍＰａ）を用いた。また、銀薄膜層の形成には、
ターゲットとして銀を用い、スパッタガスにはアルゴン
ガス（全圧２６６ｍＰａ）を用いた。透明導電性薄膜フ
ィルム（Ｂ）の透明導電薄膜層形成面反対面をアクリル
系粘着材を介して、透明高分子成形体（Ａ）上に、貼り
付けた。貼り付け面圧は、０．３ＭＰａとした。

【００３４】静電防止機能付き反射防止フィルム（Ｄ）
［表面抵抗値１０⁹（Ω ／□）、厚さ１００μｍ］を、
フィルム上反射防止層形成面とは、反対面に貼り付けら
れてある粘着材を介して、透明高分子成形体（Ａ）の透
明導電性薄膜フィルム貼り付け面反対面上に貼り付け
た。貼り付け面圧は、０．３ＭＰａとした。静電防止機
能付き防幻性フィルム（Ｃ）［表面抵抗値１０¹⁰（Ω
／□）、厚さ５０μｍ］の防幻性層形成面反対面をアク
リル系粘着材を介して、透明高分子成形体（Ａ）上の透
明導電性薄膜フィルム（Ｂ）の透明導電性薄膜層上に貼
り合わせた。貼り付け面圧は、０．３ＭＰａとした。

【００３５】上記により、３枚の高分子フィルムを透明
高分子成形体に貼り合わせることにより、プラズマディ
スプレイパネル用光学フィルターを作製した。各フィル
ム貼り付け後、室温条件下にて５時間放置し、粘着材を
養生させた。上記により作製した光学フィルターを、プ
ラズマディスプレイパネルに装着し、プラズマディスプ
レイパネルを点灯し異音の発生状況を調べた。また、光
学フィルターを室内に放置し、一時間後に付着している
の塵（大きさ１ｍｍφ以上）の数を調べた。

【００３６】（実施例２）静電防止機能付き防幻性フィ
ルム（Ｃ）及び静電防止機能付き反射防止フィルム
（Ｄ）の替わりに静電防止機能付き反射防止防幻性フィ
ルム［表面抵抗値１０ ¹¹（Ω ／□）厚さ１００μｍ］
を用いて光学フィルターを作製した以外は、実施例１と
同様に実施した。

【００３７】（比較例１）静電防止機能付き防幻性フィ
ルム（Ｃ）の替わりに静電防止機能付きでない防幻性フ
ィルム、また静電防止機能付き反射防止フィルム（Ｄ）
の替わりに静電防止機能付きでない反射防止フィルムを
用いて光学フィルターを作製した以外は、実施例１と同
様に実施した。以上の結果を表１に掲げる。

【００３８】

【表１】 表１から、実施例１及び２において、プラズマディスプ
レイパネル点灯時の異音発生がなくなり、単体に付着す
る塵の数が大幅に減少したことが分かる。

【図面の簡単な説明】

【図１】プラズマディスプレイ用光学フィルターの一例
を示す断面図である。

【図２】静電防止機能付き防幻性フィルムの一例を示す
断面図である。

【図３】静電防止機能付き反射防止フィルムの一例を示
す断面図である。

【符号の説明】 １０ 透明高分子成形体（Ａ） ２０ 透明導電性薄膜フィルム（Ｂ） ３０ 防幻性フィルム（Ｃ） ４０ 反射防止フィルム（Ｄ） ５０ 透明高分子フィルム（ｄ） ６０ 静電防止層（ｅ） ７０ 防幻性層（ｆ） ８０ 透明高分子フィルム（ｇ） ９０ 静電防止層（ｈ） １００ 防幻性層（ｉ）

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ｇ０９Ｆ 9/00 ３１８ Ｈ０１Ｊ 11/02 Ｚ Ｈ０１Ｊ 11/02 Ｇ０２Ｂ 1/10 Ａ

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】透明高分子成形体に透明導電性薄膜フィル
   ムを貼り合わせられている光学フィルターにして、表面
   に静電防止層が設けられていることを特徴とする光学フ
   ィルター。
2. 【請求項２】該静電防止層が、静電防止機能を持つフィ
   ルムの貼り合わせにより設けられていることを特徴とす
   る請求項１に記載の光学フィルター。
3. 【請求項３】該静電防止機能を持つフィルムが、ＡＲフ
   ィルム、ＡＧフィルムまたはＡＲ−ＡＧフィルムのいず
   れかであることを特徴とする請求項２に記載の光学フィ
   ルター。
4. 【請求項４】該透明高分子成形体がアクリル樹脂成形体
   であることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記
   載の光学フィルター。
5. 【請求項５】少なくとも透明導電性薄膜フィルムと該静
   電防止フィルムたるＡＧフィルム、ＡＲフィルム、ＡＲ
   −ＡＧフィルムとを、ＡＲフィルム／透明導電性フィル
   ム／アクリル樹脂成形体／ＡＲフィルム、ＡＲフィルム
   ／透明導電性フィルム／アクリル樹脂成形体／ＡＧフィ
   ルム、ＡＲフィルム／透明導電性フィルム／アクリル樹
   脂成形体／ＡＲ−ＡＧフィルム、ＡＧフィルム／透明導
   電性フィルム／アクリル樹脂成形体／ＡＲフィルム、Ａ
   Ｇフィルム／透明導電性フィルム／アクリル樹脂成形体
   ／ＡＧフィルム、ＡＧフィルム／透明導電性フィルム／
   アクリル樹脂成形体／ＡＲ−ＡＧフィルム、ＡＲ−ＡＧ
   フィルム／透明導電性フィルム／アクリル樹脂成形体／
   ＡＲフィルム、ＡＲ−ＡＧフィルム／透明導電性フィル
   ム／アクリル樹脂成形体／ＡＧフィルム、またはＡＲ−
   ＡＧフィルム／透明導電性フィルム／アクリル樹脂成形
   体／ＡＲ−ＡＧフィルムのいずれか構成で貼り合わせて
   なることを特徴とするプラズマディスプレイパネル用光
   学フィルター。