JP2003240907A - ディスプレイ用光学フィルタの製造方法及び該フィルタを設置したプラズマディスプレイ装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 画像欠陥が少なく、優れた外観性能を有する
ディスプレイ用光学フィルタの製造方法およびプラズマ
ディスプレイ装置を提供する。 【解決手段】 ディスプレイ用フィルタは、透明な板状
基板１０の上に、順次、粘着材３０、導電層２０１を含
む透明導電性フィルム２０、粘着材３０、低反射フィル
ム４０が積層され、導電層２０１と電気接続する電極５
０が低反射フィルム４０の周縁部に形成されて構成さ
れ、板状基板１０に透明導電性フィルム２０を貼り合わ
せた後、０．７ＭＰａ以上で１．２ＭＰａ以下の圧力で
加圧処理すると、貼り合わせ時に巻き込まれた微小な気
泡を除去できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ディスプレイの画
面上に設置され、光学特性、外観品質に優れたディスプ
レイ用光学フィルタの製造方法に関する。また本発明
は、該フィルターを設置したプラズマディスプレイ装置
に関する。

【０００２】

【従来の技術】社会が高度化するに従って、光エレクト
ロニクス関連部品、機器は著しく進歩している。その中
で、画像を表示するディスプレイは、従来のテレビジョ
ン装置用に加えて、コンピューターモニター装置用等と
してめざましく普及しつつある。その中でも、ディスプ
レイの大型化及び薄型化に対する市場要求は高まる一方
である。

【０００３】近年、大型かつ薄型化を実現することが可
能であるディスプレイとして、プラズマディスプレイパ
ネル（ＰＤＰ: Plasma Display Panel）が注目されてい
る。プラズマディスプレイパネルは、原理上、強度の電
磁波を装置外に放出することが知られている。電磁波
は、各種計器に障害を及ぼすことが知られている。最
近、電磁波が人体に障害が及ぼす可能性もあるとの報告
もされている。このため、電磁波放出に関しては、法的
に規制される方向になっている。例えば、現在日本で
は、電気用品取締法を始め、ＶＣＣＩ(Voluntary Contr
ol Council forInterference by data processing equi
pment electronic office machine)による規制があり、
米国では、ＦＣＣ(Federal Communication Commission)
による製品規約がある。

【０００４】また、プラズマディスプレイパネルは、近
赤外線を装置外に放出することが知られている。近赤外
線は、コードレス電話や赤外線方式のリモートコントロ
ーラ等の誤動作を引き起こす。

【０００５】光学フィルターは、プラズマディスプレイ
パネルの画面から放出される電磁波、及び近赤外線を遮
断するために用いられる部材である。電磁波を遮蔽する
ために、導電性を有していることに加え、ディスプレイ
の画面上に設置されるため、光線透過率は波長８００ｎ
ｍ〜１０００ｎｍの近赤外線に対しては低く、波長３８
０ｎｍ〜８００ｎｍの可視光線に対しては高いことが望
ましい。可視光域に関しては単に透過率が高いだけでな
く、例えば色調など、ディスプレイの映像を損なわせな
いだけの光学特性が必要とされる。

【０００６】以上の性能を備えた光学フィルターとし
て、透明導電性薄膜を全面にわたって配置した、透明薄
膜タイプと呼ばれているものが開発された（特許第３０
０４２２２号）。薄膜の材料としては抵抗率の低いもの
が好ましく、銀や金が適当な材料として挙げられる。な
かでも銀は近赤外線反射能をも併せ持つため、適当な厚
みに設計された銀薄膜を配置すれば、電磁波遮断機能及
び近赤外線遮断機能の優れた光学フィルターを得ること
ができる。実際には銀薄膜と高い屈折率を有する薄膜と
を交互に積層することにより、可視光線領域の光学特性
を制御した電磁波遮断機能付き光学フィルターが開発さ
れている。

【０００７】銀を主成分とした薄膜を用いた透明薄膜タ
イプの光学フィルタには、大きく分けて２種類の製造方
法がある。１つは、ガラスやアクリルからなる透明基体
に直接、銀を主成分とする透明薄膜を形成する方法であ
り、もう１つは、可撓性のある高分子フィルムの面上
に、銀を主成分とする透明薄膜をロールツーロール法で
形成した後、ガラスやアクリルからなる透明基体に貼合
せる方法である。薄膜を形成する際、前者は１枚１枚生
産するバッチ式となるが、後者は一度に生産する連続式
となる。そのため、後者は前者より薄膜のばらつき変動
が少なく、光学特性のばらつきが小さい光学フィルタを
大量に生産でき、さらに透明基体の寸法に合わせて光学
フィルタのサイズを自由に決定できる。

【０００８】最近のプラズマディスプレイパネルは画像
性能が向上しているため、光学フィルタは基本的な光学
性能だけでなく、局部的に画像品質を落とす点状欠陥と
いった外観性能に対する要求も厳しくなっている。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】透明導電性フィルムを
透明な板状基板に貼合せて構成されたディスプレイ用光
学フィルタをプラズマディスプレイパネルの画面上に設
置した場合、局部的にめらめらした感じに見え、局部的
に外観品質を落とす原因となることがある。プラズマデ
ィスプレイパネルの画像性能が向上するほど、光学フィ
ルタの外観性能に対する要求レベルが高くなる。

【００１０】また、貼合せタイプのディスプレイ用光学
フィルタでは、銀を主成分とする薄膜に点状欠陥が生じ
ることがあり、この点状欠陥もプラズマディスプレイの
画像品質を落とすおそれがある。

【００１１】本発明の目的は、画像欠陥が少なく、優れ
た外観性能を有するディスプレイ用光学フィルタの製造
方法およびプラズマディスプレイ装置を提供することで
ある。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、点状欠陥
をなくすための手法を鋭意研究した結果、透明導電性フ
ィルムを透明な板状基板に貼り合わせたディスプレイ用
光学フィルタ上の欠陥には、フィルムを貼り合わせた混
入した空気の気泡が原因で生じる歪み性欠陥と、保護フ
ィルムに付与される粘着層から発生する気泡による放射
状形態の欠陥の２種類があり、そのいずれもが透明保護
フィルムを貼り合わせた後の加圧処理工程を適当な条件
で行うことで発生を抑制できることを突きとめた。すな
わち、本発明者らは、驚くべきことに加圧処理に使用す
る気体の温度、圧力及び加圧時間が、光学フィルター外
観を著しく損ねる上記欠陥の発生を抑えるのに有効であ
ることを見い出し、本発明に到達した。

【００１３】［１］本発明は、透明な板状基板に１枚以
上の透明導電性フィルムを貼り合わせる工程と、該板状
基板を０．７ＭＰａ以上で１．２ＭＰａ以下の圧力で加
圧処理する工程とを含むことを特徴とするディスプレイ
用光学フィルタの製造方法である。

【００１４】［２］また本発明は、加圧処理時の保持時
間が、２時間以上で４時間以下であることが好ましい。

【００１５】［３］また本発明は、加圧処理保持中の気
体の温度が、４５℃以上で７５℃以下であることが好ま
しい。

【００１６】［４］また本発明は、透明導電性フィルム
は、銀を主成分とする薄膜を備えることが好ましい。

【００１７】［５］また本発明は、透明導電性フィルム
の上に、アンチリフレクション機能および／またはアン
チグレア機能を有する保護フィルムを貼り合わせた状態
で、加圧処理を行うことが好ましい。

【００１８】［６］また本発明は、画像を表示するため
のプラズマディスプレイと、プラズマディスプレイ画面
に設置され、上記の製造方法によって得られたディスプ
レイ用光学フィルタとを備えることを特徴とするプラズ
マディスプレイ装置である。

【００１９】

【発明の実施の形態】本発明は、透明な板状基板に透明
導電性フィルムを貼り合わせた後の加圧処理に関する。

【００２０】加圧処理は、該透明な板状基板上に該透明
導電性フィルムやそれを保護するフィルムを貼り合わ
せ、貼り合わせ時に微小な気泡を該基板と該フィルムの
間または該フィルム間に巻き込むため、加圧処理するこ
とで脱泡すること、及び保護フィルムに付与される粘着
層から発生する気泡を脱泡することを目的として実施す
る。上記の加圧処理により微小な気泡が存在することに
よる該ディスプレイ用光学フィルタ上のヘイズ状の欠陥
及び透明状欠陥をなくすことが可能となり、また該基板
と該フィルムの密着性も向上する。

【００２１】本発明では、該透明な板状基板上に該透明
導電性フィルムやそれを保護するフィルムを貼り合わせ
た該ディスプレイ用光学フィルタを加圧処理する気体の
圧力は０．７ＭＰａ以上、１．２ＭＰａ以下にすること
が好ましい。

【００２２】また、加圧処理する際の保持時間は、２時
間以上とするのが好ましい。さらに、加圧処理中の気体
の温度は４５℃以上とするのが好ましい。

【００２３】加圧処理する際は、上記の条件に基づき、
気体の温度、圧力及び加圧時間は、好ましくは、温度が
４５℃以上且つ、圧力が０．７ＭＰａ以上、１．２ＭＰ
ａ以下且つ、加圧時間は１時間以上、さらに好ましくは
温度が４５℃以上、７５℃以下且つ、圧力が０．７ＭＰ
ａ以上、０．９ＭＰａ以下且つ、加圧時間が２時間以上
４時間以下で実施するのがよい。圧力が０．７ＭＰａよ
り小さいと気泡が抜けないため、加圧処理の目的が達せ
られないので好ましくない場合がある。また、加圧時間
が１時間より短い場合にも、気泡が抜けきらない場合が
あるため好ましくない。

【００２４】上記の条件を満たさずに加圧処理すると、
該ディスプレイ用光学フィルタをプラズマディスプレイ
に設置して画面を見たとき、該透明導電性フィルムまた
は保護フィルムを貼り付けた際に混入した気泡によるヘ
イズ状の欠陥、及び保護フィルムに付与される粘着層か
ら経時で発生する気泡が残存してしまう。この気泡によ
る欠陥は、加圧処理が不十分で合った場合に顕著に残存
する傾向が見られるため、上述の条件を満たして加圧処
理することが好ましい。

【００２５】また、気体の温度が上述の範囲外で、低温
すぎると脱泡が不十分であったり、高温すぎると該フィ
ルムが変形してしまうといった不具合が生ずる。

【００２６】加圧処理する方法としては、（１）コンプ
レッサーを使用して常圧の気体を密閉された加圧処理設
備に導入する、（２）密閉された加圧処理設備内に圧縮
された気体を導入する、等の手段がある。

【００２７】前者の場合は空気、あるいは窒素等が充填
されたボンベを加圧処理設備に接続して、それをそのま
ま導入して加圧すればよい。また、ボンベ交換等の取り
扱いが不要なためオイルフリーのコンプレッサーを使用
すれば量産性により適しているのでなお好ましい。

【００２８】後者の場合は、圧縮された気体を用意する
必要があり、ボンベの取り扱いには充分な注意が必要で
ある。また、加圧処理設備との接続においても充分なシ
ールドを要する。

【００２９】ディスプレイ用光学フィルタに電磁波遮断
性能を付与するためには導電性薄膜を形成すればよい。
ディスプレイの画面から放射されてくる電磁波は、画面
上に設置された導電性を有する銀薄膜をアースと接続す
ることで遮断できる。

【００３０】光学フィルタの電磁波遮断性能を高めるた
めには、積層膜のシート抵抗値をできるだけ低くするこ
とが必要である。銀薄膜のシート抵抗値は膜厚に反比例
しており、膜厚を２倍にすればシート抵抗値は０．５倍
になる。実際に必要とされる電磁波遮断能はディスプレ
イの種類、大きさによっても異なるが、電磁波放射の大
きいプラズマディスプレイパネルの場合にはシート抵抗
が１０Ω／□以下、サイズが４２型以上と大きくなると
２Ω／□以下であることが必要とされている。銀薄膜の
厚さを増しシート抵抗値小さくするほど、電磁波遮断能
が増し信頼性に優れた光学フィルタを得ることができ
る。

【００３１】一方、ディスプレイ用光学フィルタには、
近赤外領域における光線透過率は低く、可視光領域にお
ける光線透過率はできるだけ高くすることが望まれる。
電磁波遮断能の増強を目指して銀薄膜の厚さを増せば、
銀の可視光領域における吸収により光線透過率が低下
し、光学フィルタを通して見た表示画像が暗くなる。従
って、銀薄膜を用いたディスプレイ用光学フィルタを製
造する際には、銀薄膜の厚さを電磁波遮断能が十分に確
保できるシート抵抗値を有し、さらにディスプレイの画
質を損なわないだけの可視光透過率が確保できる範囲と
しなければならないのである。銀薄膜の具体的な厚さと
しては、１０ｎｍ〜１００ｎｍ、さらに好ましくは１５
ｎｍ〜６０ｎｍの範囲である。

【００３２】可視光透過率を高めることは銀薄膜銀薄膜
と高屈折率酸化物薄膜とを交互に繰り返し積層した積層
体を用いることにより可能となる。例えば、銀薄膜を１
層のみ形成したとすると、可視光領域において金属特有
のギラギラとした反射が発生し、透過する光線が少なく
なる。すなわち光線透過率が低下し、さらに可視光線反
射率が高いためにディスプレイに映り込みが発生して、
その画面が著しく見づらくなってしまう。高屈折率の酸
化物薄膜を積層させるとその反射が抑制でき、画質の低
下を防ぐことができる。具体的には１層の銀薄膜を、適
当な厚みで酸化物／銀／酸化物／銀／酸化物と、酸化物
を介して２層とすることで可視光透過率が５％以上上昇
させることが可能である。銀を２層と分割してもトータ
ルの厚さを変えなければシート抵抗値はほとんど変化し
ない。また、積層数を多くするほど所望の光学特性に近
い光学フィルタを設計しやすくなる。

【００３３】銀薄膜と屈折率の異なる材料を交互に繰り
返し積層させることにより可視光透過率の波長分散を制
御できることが知られている。屈折率の異なる材料とし
ては、波長５５０ｎｍの光線に対する屈折率が１．４以
上、かつ可視光領域での吸収が小さく波長が４００ｎｍ
〜７００ｎｍの光線に対する透過率が６０％以上の材料
が好ましい。具体的には、酸化チタン、酸化インジウ
ム、酸化スズ、酸化シリコン、酸化アンチモン、酸化ア
ルミニウム、酸化ビスマス、酸化亜鉛等の酸化物が挙げ
られる。なかでも酸化スズをドープした酸化インジウ
ム、酸化アルミニウムを酸化亜鉛、酸化アンチモンをド
ープした酸化スズは屈折率が２．０以上と大きいのに加
え、導電性も有しているので最適な材料である。

【００３４】銀薄膜及び酸化物薄膜の成膜は真空蒸着法
やスパッタリング法といった従来からよく知られている
手法により行えばよい。真空蒸着法では、所望の材料を
蒸着源として使用し、抵抗加熱、電子ビーム加熱等によ
り、加熱蒸着させることで、簡単に薄膜を形成すること
ができる。また、スパッタリング法を用いる場合は、タ
ーゲットに所望の材料を用いて、スパッタリングガスに
アルゴン、ネオン等の不活性ガスを使用し、直流スパッ
タリング法や高周波スパッタリング法を用いて薄膜を形
成することができる。酸化物薄膜を成膜する場合にはス
パッタリングガス中に酸素を混合し酸素と反応させなが
ら成膜してもよい。成膜速度を上昇させるために、直流
マグネトロンスパッタリング法や高周波マグネトロンス
パッタリング法が用いられることも多い。スパッタリン
グ法によれば、蒸着法に比べて基材との密着力に優れた
薄膜を得ることができるため、より好適に使用できる。

【００３５】該透明導電性フィルムの基材には、透明で
あって、その主面上に薄膜形成が支障なく実施できる材
料を使用すれば良く、ガラスまたは高分子成形体が好ま
しい。高分子材料を具体的に例示すると、ポリイミド、
ポリスルフォン（ＰＳＦ）、ポリエーテルスルフォン
（ＰＥＳ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、
ポリメチレンメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリカーボ
ネート（ＰＣ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥ
Ｋ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、トリアセチルセルロー
ス（ＴＡＣ）等が挙げられる。

【００３６】銀薄膜には、純度９９％以上、さらに好ま
しくは純度９９．９％以上の銀を使用するのが良い。銀
は、近赤外線を反射すること、導電性に優れること、の
二点において本発明の積層体を構成する薄膜材料として
最適なものである。純度が低下すると、可視光線の吸収
が増加し光学フィルタの可視光透過率が低下するのに加
え、導電率も低下する。導電率の低下は、光学フィルタ
ーに電磁波シールド機能をも付随させたいときに不利に
なる。以上の欠点が含まれることを考慮した上で、あえ
て１〜１０重量％程度の貴金属をドープさせてもよい。
具体的には、金、パラジウム、白金、銅等の貴金属のド
ープにより可視光線透過率、及び導電率の低下はする
が、耐久性を向上させる効果がある。

【００３７】透明な板状基板と基体に高分子フィルムを
使用したフィルム状の積層体とを貼り合わせるのには粘
着剤を使用する。用いられる粘着剤は、できるだけ透明
なものが好ましい。使用可能な粘着剤を例示すると、ア
クリル系粘着材、シリコン系粘着材、ウレタン系粘着
材、ポリビニルブチラール粘着材（ＰＶＢ）、エチレン
ー酢酸ビニル系粘着材（ＥＶＡ）等である。中でもアク
リル系粘着材は、透明性及び耐熱性に優れるために特に
好適に用いられる。

【００３８】粘着材の形態は、大きく分けてシート状の
ものと液状のものに分けられる。シート状粘着材は、通
常、感圧型であり、貼り付け後に各部材をラミネートす
る事によって貼り合わせを行う。液状粘着材は、塗布貼
り合わせ後に室温放置または加熱により硬化させるもの
であり、粘着材の塗布方法としては、バーコート法、リ
バースコート法、グラビアコート法、ロールコート法等
が挙げられ、粘着材の種類、粘度、塗布量等から考慮選
定される。粘着材層の厚みに特に制限はないが、０.５
〜５０μｍ、好ましくは、１〜３０μｍである。粘着材
を用いて貼り合わせを行った後は、貼り合わせた時に入
り込んだ気泡を脱泡させたり、粘着材に固溶させ、さら
には部材間の密着力を向上させるために、加圧、加温条
件下にて養生を行うことが好ましい。

【００３９】本発明において粘着剤を使用した貼り合わ
せ方法に特に制限はない。通常は、高分子フィルムに粘
着材を貼り付け、その上を離型フィルムで覆ったものを
ロール状態であらかじめ用意しておき、ロールから高分
子成形フィルムを繰り出しながら、離型フィルムをはが
していき、高分子成形体基板上へ貼り付け、ロールで押
さえつけながら貼り付けていく。貼り合わせられたフィ
ルム上に重ねて貼り合わせる場合も同様である。

【００４０】さらに光学フィルタの光学特性を向上させ
る目的で、反射防止処理すなわちアンチリフレクション
機能を付与させることや防眩処理すなわちアンチグレア
機能を付与させる施しても良い。これらの処理は、適当
な材料をコーティングしたり、市販されているアンチリ
フレクションフィルム、アンチグレアフィルム等を貼り
合わせることにより実施できる。

【００４１】図１は、本発明に係るディスプレイ用光学
フィルタの一例を示す断面図である。熱強化ガラス板等
の透明な板状基板１０の上に、順次、粘着材３０、導電
層２０１を含む透明導電性フィルム２０、粘着材３０、
低反射フィルム４０が積層され、導電層２０１と電気接
続する電極５０が低反射フィルム４０の周縁部に形成さ
れて、ディスプレイ用光学フィルタ０２が構成される。
板状基板１０の裏面側の周縁部には、ディスプレイ画面
外領域をマスクする黒色額縁印刷１０１が形成される。

【００４２】図２は、本発明に係るプラズマディスプレ
イ装置の一例を示す断面図である。ディスプレイ用光学
フィルタ０２はアース接続用の枠部材０３によって支持
され、プラズマディスプレイパネル０１の表示画面０１
１の上に設置される。ディスプレイ用光学フィルタ０２
の導電層２０１は、電極５０、枠部材０３を介してグラ
ンドに電気接続される。

【００４３】

【実施例】次に、本発明を実施例により具体的に説明す
る。

【００４４】（透明導電性フィルムの製造）無色透明な
ポリエチレンテレフタレートフィルム（厚さ７５μｍ）
の一方の面を酸素グロー放電に曝した後、ターゲットに
錫（Ｓｎ）を１０重量％含有したインジウム（Ｉｎ）
を、スパッタガスにアルゴン・酸素・水素混合ガス（全
圧２６６ｍＰａ、酸素分圧８０ｍＰａ、水素分圧１３ｍ
Ｐａ）を用いて酸化錫を含有した酸化インジウム薄膜を
ターゲットに純度９９．９％の銀を、スパッタガスにア
ルゴンガス（全圧２６６ｍＰａ）を用いて銀薄膜をマグ
ネトロン直流スパッタリング法により、酸化インジウム
薄膜４０ｎｍ、銀薄膜１０ｎｍ、酸化インジウム薄膜８
０ｎｍ、銀薄膜１０ｎｍ、酸化インジウム薄膜８５ｎ
ｍ、銀薄膜１８ｎｍ、酸化インジウム薄膜８０ｎｍ、銀
薄膜１０ｎｍ、酸化インジウム８０ｎｍ、銀薄膜１０ｎ
ｍ、酸化インジウム薄膜４０ｎｍの順に積層し、銀薄膜
が３層、酸化物薄膜が４層交互に繰り返し形成された７
層構成の透明導電性フィルムを作成した。

【００４５】次に、透明導電性フィルムの薄膜を形成し
た面とは逆側の面に、セパレートフィルムが付随してい
るシート状のアクリル系粘着剤をラミネートし、粘着剤
付き透明導電性フィルムを得た。

【００４６】次にディスプレイ用光学フィルタの製造方
法について説明する。まず、透明な板状基板の一方の面
に粘着剤付き透明導電性フィルムを加圧式ラミネータに
よって一定加圧の下で貼り合わせた。さらにその上に、
同じラミネート方法でアンチリフレクション機能を有す
るフィルム（リアルックフィルム 日本油脂社製）を貼
り合わせてディスプレイ用光学フィルタを得た。

【００４７】（実施例１）次に常圧の空気を使用し、汎
用で使用されているオイルフリーのコンプレッサにて密
閉されている加圧処理設備に０．８ＭＰａまで導入し４
５℃まで昇温し、２時間加圧処理を行い、ディスプレイ
用光学フィルタを作製した。

【００４８】（実施例２）実施例１と同様に常圧の空気
を使用し、汎用で使用されているオイルフリーのコンプ
レッサにて密閉されている加圧処理設備に０．８ＭＰａ
まで導入し４５℃まで昇温し、４時間加圧処理を行い、
ディスプレイ用光学フィルタを作製した。

【００４９】（実施例３）実施例１と同様に常圧の空気
を使用し、汎用で使用されているオイルフリーのコンプ
レッサにて密閉されている加圧処理設備に１．０ＭＰａ
まで導入し４５℃まで昇温し、２時間加圧処理を行い、
ディスプレイ用光学フィルタを作製した。

【００５０】（実施例４）実施例１と同様に常圧の空気
を使用し、汎用で使用されているオイルフリーのコンプ
レッサにて密閉されている加圧処理設備に０．８ＭＰａ
まで導入し４５℃まで昇温し、６時間加圧処理を行い、
ディスプレイ用光学フィルタを作製した。

【００５１】（比較例１）実施例１と同様に常圧の空気
を使用し、汎用で使用されているオイルフリーのコンプ
レッサにて密閉されている加圧処理設備に０．５ＭＰａ
まで導入し４５℃まで昇温し、２時間加圧処理を行い、
ディスプレイ用光学フィルタを作製した。

【００５２】（実施例５）実施例１と同様に常圧の空気
を使用し、汎用で使用されているオイルフリーのコンプ
レッサにて密閉されている加圧処理設備に０．６ＭＰａ
まで導入し４５℃まで昇温し、２時間加圧処理を行い、
ディスプレイ用光学フィルタを作製した。

【００５３】（実施例６）実施例１と同様に常圧の空気
を使用し、汎用で使用されているオイルフリーのコンプ
レッサにて密閉されている加圧処理設備に０．７ＭＰａ
まで導入し４５℃まで昇温し、２時間加圧処理を行い、
ディスプレイ用光学フィルタを作製した。

【００５４】（比較例２）実施例１と同様に常圧の空気
を使用し、汎用で使用されているオイルフリーのコンプ
レッサにて密閉されている加圧処理設備に１．４ＭＰａ
まで導入し４５℃まで昇温し、２時間加圧処理を行い、
ディスプレイ用光学フィルタを作製した。

【００５５】（実施例７）実施例１と同様に常圧の空気
を使用し、汎用で使用されているオイルフリーのコンプ
レッサにて密閉されている加圧処理設備に０．８ＭＰａ
まで導入し４５℃まで昇温し、０．５時間加圧処理を行
い、ディスプレイ用光学フィルタを作製した。

【００５６】（実施例８）実施例１と同様に常圧の空気
を使用し、汎用で使用されているオイルフリーのコンプ
レッサにて密閉されている加圧処理設備に０．８ＭＰａ
まで導入し４５℃まで昇温し、１時間加圧処理を行い、
ディスプレイ用光学フィルタを作製した。

【００５７】図３は、導入された空気の圧力と透明状の
欠陥の関係を示すグラフであり、加圧保持時間が２時間
である実施例および比較例をプロットした。

【００５８】図４は、加圧保持時間と透明状の欠陥の関
係を示すグラフであり、空気圧力が０．８ＭＰａである
実施例および比較例をプロットした。

【００５９】図５は、導入された空気の圧力と加圧保持
時間との関係を示すグラフであり、「○」は透明状欠陥
が無いこと、「×」は透明状欠陥が発生したこと、
「△」は透明状欠陥が無く、反射性欠陥があることを示
す。

【００６０】なお、透明状欠陥は目視観察でφ０．６ｍ
ｍ以上の大きさの点状欠陥を１００枚の光学フィルタに
ついて計上した。上述の実施例および比較例の評価結果
を整理して表１に示す。

【００６１】

【表１】

【００６２】表１から、０．８ＭＰａ未満の圧力の気体
中で、加工処理されたディスプレイ用光学フィルタは、
圧力減少に対して透明状の欠陥数、すなわち気泡による
欠陥数が上昇していることが判る。つまり、圧力が小さ
いため、該フィルムと該透明基板との間に混入した気泡
が充分に脱泡できていない。該保護フィルムの付与され
た粘着層から発生した微小な気泡に関しても、脱泡でき
ていない。また、０．８ＭＰａ以上であっても、加圧保
持時間が短い場合は充分な脱泡に達せず、外観品質に優
れない。

【００６３】一方、０．７ＭＰａ以上の気体中で加工処
理したディスプレイ用光学フィルタは、微小気泡はな
く、外観品質に優れたものが得られることが判る。さら
には保持時間を２時間以上とすると、気泡による透明状
欠陥発生数は０個となり、外観品質に優れたディスプレ
イ用光学フィルタを実現できる。しかし、１．４ＭＰａ
以上になると、透明導電性フィルムが過剰な圧力により
部分的に破壊を生じている箇所もあったことと、保持時
間が長時間になると、外観品質は優れているものの、量
産には不適であると言える。

【００６４】

【発明の効果】以上詳説したように本発明によれば、透
明な板状基板上に透明導電性フィルムを貼り合わせたデ
ィスプレイ用光学フィルタを作製した場合、気泡や点状
欠陥の発生を抑制でき、非常に良好な外観品質を達成で
きる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係るディスプレイ用光学フィルタの一
例を示す断面図である。

【図２】本発明に係るプラズマディスプレイ装置の一例
を示す断面図である。

【図３】導入された空気の圧力と透明状の欠陥の関係を
示すグラフである。

【図４】加圧保持時間と透明状の欠陥の関係を示すグラ
フである。

【図５】導入された空気の圧力と加圧保持時間との関係
を示すグラフである。

【符号の説明】

０１ プラズマディスプレイパネル ０１１ 表示画面 ０２ ディスプレイ用光学フィルタ ０３ 枠部材 １０ 透明な板状基板 １０１ 黒色額縁印刷 ２０ 透明導電性フィルム ２０１ 導電層 ３０ 粘着材 ４０ 低反射フィルム ５０ 電極

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 浅川 幸紀 愛知県名古屋市南区丹後通２−１ 三井化 学株式会社内 (72)発明者 吉開 正彰 愛知県名古屋市南区丹後通２−１ 三井化 学株式会社内 (72)発明者 小山 正人 愛知県名古屋市南区丹後通２−１ 三井化 学株式会社内 Ｆターム(参考） 2K009 AA02 AA12 BB02 BB24 CC03 CC14 DD03 EE03 5G435 AA01 AA17 BB06 DD12 GG11 GG33 HH03 HH12 KK07

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 透明な板状基板に１枚以上の透明導電性
   フィルムを貼り合わせる工程と、 該板状基板を０．７ＭＰａ以上で１．２ＭＰａ以下の圧
   力で加圧処理する工程とを含むことを特徴とするディス
   プレイ用光学フィルタの製造方法。
2. 【請求項２】 加圧処理時の保持時間が、２時間以上で
   ４時間以下であることを特徴とする請求項１に記載のデ
   ィスプレイ用光学フィルタの製造方法。
3. 【請求項３】 加圧処理保持中の気体の温度が、４５℃
   以上で７５℃以下であることを特徴とする請求項１また
   は２記載のディスプレイ用光学フィルタの製造方法。
4. 【請求項４】 透明導電性フィルムは、銀を主成分とす
   る薄膜を備えることを特徴とする請求項１〜３のいずれ
   かに記載のディスプレイ用光学フィルタの製造方法。
5. 【請求項５】 透明導電性フィルムの上に、アンチリフ
   レクション機能および／またはアンチグレア機能を有す
   る保護フィルムを貼り合わせた状態で、加圧処理を行う
   ことを特徴とする請求項１に記載のディスプレイ用光学
   フィルタの製造方法。
6. 【請求項６】 画像を表示するためのプラズマディスプ
   レイと、 プラズマディスプレイ画面に設置され、請求項１〜５の
   いずれかに記載の製造方法によって得られたディスプレ
   イ用光学フィルタとを備えることを特徴とするプラズマ
   ディスプレイ装置。