KR100590368B1 - 디스플레이용 필터, 표시장치 및 그 제조 방법 - Google Patents

디스플레이용 필터, 표시장치 및 그 제조 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR100590368B1
KR100590368B1 KR1020027009915A KR20027009915A KR100590368B1 KR 100590368 B1 KR100590368 B1 KR 100590368B1 KR 1020027009915 A KR1020027009915 A KR 1020027009915A KR 20027009915 A KR20027009915 A KR 20027009915A KR 100590368 B1 KR100590368 B1 KR 100590368B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
group
layer
display
transparent
film
Prior art date
Application number
KR1020027009915A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20020077410A (ko
Inventor
코이케카쯔히코
오카무라토모유키
키타가와토시히사
사이고히로아키
후쿠다신
니시모토타이죠
미사와쯔타미
야마자키후미하루
Original Assignee
미쯔이카가쿠 가부시기가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 미쯔이카가쿠 가부시기가이샤 filed Critical 미쯔이카가쿠 가부시기가이샤
Publication of KR20020077410A publication Critical patent/KR20020077410A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100590368B1 publication Critical patent/KR100590368B1/ko

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11Anti-reflection coatings
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11Anti-reflection coatings
    • G02B1/113Anti-reflection coatings using inorganic layer materials only
    • G02B1/115Multilayers
    • G02B1/116Multilayers including electrically conducting layers
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • G02B5/22Absorbing filters
    • G02B5/223Absorbing filters containing organic substances, e.g. dyes, inks or pigments
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133502Antiglare, refractive index matching layers
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K9/00Screening of apparatus or components against electric or magnetic fields
    • H05K9/0073Shielding materials
    • H05K9/0094Shielding materials being light-transmitting, e.g. transparent, translucent
    • H05K9/0096Shielding materials being light-transmitting, e.g. transparent, translucent for television displays, e.g. plasma display panel
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2211/00Plasma display panels with alternate current induction of the discharge, e.g. AC-PDPs
    • H01J2211/20Constructional details
    • H01J2211/34Vessels, containers or parts thereof, e.g. substrates
    • H01J2211/44Optical arrangements or shielding arrangements, e.g. filters or lenses
    • H01J2211/446Electromagnetic shielding means; Antistatic means
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2329/00Electron emission display panels, e.g. field emission display panels
    • H01J2329/86Vessels
    • H01J2329/89Optical components structurally combined with the vessel
    • H01J2329/892Anti-reflection, anti-glare, viewing angle and contrast improving means

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
  • Shielding Devices Or Components To Electric Or Magnetic Fields (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)

Abstract

디스플레이용 필터는, 색소를 함유하는 투명 점착층(C)(31), 고분자 필름(B)(20), 투명 도전층(D)(10), 투명 점착층(E)(40), 반사 방지성, 하드 코트 성, 가스차단성, 정전기 방지성 및 오염방지성을 지니는 기능성 투명층(A)(60)이 차례차례 적층되어서 구성되어, 디스플레이 표시부(00)상에 접착되고, 투명 도전층(D)(10)은 전극(50) 및 도전성 구리박점착 테이프(80)를 개재하여 디스플레이의 그라운드 단자에 접지된다.

Description

디스플레이용 필터, 표시장치 및 그 제조 방법{FILTER FOR DISPLAYING, DISPLAY UNIT AND PRODUCTION METHOD THEREFOR}
본 발명은, 예를 들어 플라즈마 디스플레이(PDP), 브라운관(CRT), 액정표시장치(LCD) 등의 디스플레이의 화면상에 설치되고, 디스플레이 화면으로부터 발생하는 전자파중 가시광선 이외의 전자파를 차폐 가능한 필터 특성 및/또는 가시광선 스펙트럼을 보정 가능한 필터 특성을 가지는 디스플레이용 필터, 및 상기 필터를 탑재한 표시장치와 그 제조 방법에 관한 것이다.
사회의 고도 정보화에 수반해, 광전자공학 관련의 부품, 기기는 현저하게 진보, 보급되어 있다. 그 중에서도, 디스플레이는 텔레비전용, 퍼스널 컴퓨터용 등으로서 현저하게 보급되어, 그 박막화, 대형화가 요망되고 있다. 대형의 얇은 디스플레이로서 플라즈마디스플레이가 주목받고 있다. 플라즈마 디스플레이는, 그 구조나 동작 원리상, 표시화면으로부터 강력한 누설 전자파, 근적외선을 발생한다.
근래, 전자기기로부터의 누설 전자파가 인체나 다른 기기에게 주는 영향에 대한 평가가 발표되고 있다. 예를 들면, 누설 전자파를, 일본의 VCCI(Voluntary Control Council for Interference by data processing equipment electronic office machine)에 의한 기준치내로 억제하는 것이 필요하게 된다.
또, 디스플레이 화면으로부터의 근적외선은, 무선 전화기 등의 주변 전자기기에 작용해서 오동작을 일으킬 가능성이 있다. 리모콘이나 전송계 광통신에서는 파장 820nm, 880nm, 980nm 등의 근적외선이 사용되고 있기 때문에, 근적외 영역인 800∼1100nm의 파장 영역의 광을 실용상 문제없는 수준까지 억제할 필요가 있다.
근적외선의 차단에 관해서, 종래, 근적외선 흡수 색소를 이용해 제작된 근적외 흡수 필터를 이용하는 것이 알려져 있다. 그렇지만, 근적외선 흡수 색소는, 습도, 열, 광이라는 환경에 의한 열화를 받기 쉽고, 색소를 이용한 근적외 흡수 필터는 시간 경과와 함께 근적외선 차단능력의 저하, 필터의 투과색의 변화 등의 광학 특성의 변화를 일으키는 경향이 있다.
특히 플라즈마 디스플레이에서는, 넓은 파장 영역에 걸쳐서 강한 근적외선이 발생하기 때문에, 넓은 파장 영역에 걸쳐서 근적외 영역의 흡수율이 큰 근적외 흡수 필터를 사용할 필요가 있다. 종래의 근적외선 흡수 필터는 가시광선 투과율이 낮은 것 밖에 없었다.
한편, 누설 전자파의 차단에 관해서, 디스플레이 화면의 표면을 도전성이 높은 도전물로 가릴 필요가 있다. 이 방법으로서 투명 도전층이 이용되지만, 이 투명 도전층은, 도전성 메시(mesh;網)와 투명 도전성 박막의 2개로 대별된다. 도전성 메시에는 접지된 금속 메시, 합성 섬유 또는 금속 섬유의 메시에 금속 피복한 것 또는 금속막을 형성한 후에 격자 패턴 형상으로 에칭처리한 에칭막 등이 이용된다.
도전성 메시 대신에, 금속 박막이나 산화물 반도체 박막 등으로 이루어진 투명 도전성 박막을 전자파 차폐층으로서 이용하는 방법이 있다. 금속 박막은, 양호한 도전성은 얻을 수 있지만, 넓은 파장 영역에 걸친 금속의 반사 및 흡수에 의해 가시광선 투과율이 높은 것은 얻을 수 없다. 산화물 반도체 박막은, 금속 박막에 비해 투명성이 뛰어나지만, 도전성이 뒤떨어지고, 또한, 근적외선의 반사능력이 부족하다. 상기한 것처럼, 누설 전자파의 차단을 목적으로 한 투명 도전층에는, 그 차폐 성능을 중시하는 경우에는 도전성 메시를, 비용성을 중시하는 경우에는, 투명 도전성 박막을 각각 이용하는 경우가 많다.
또, 디스플레이의 색순도를 개선하는 시도로서 색소를 이용하는 방법이, 예를 들면, 일본국 특개소 58-153904호, 특개소 60-22102호, 특개소 59-221943호 등에 개시되어 있다. 일본국 특개소 58-153904호는, 플라즈마 표시 패널(플라즈마 디스플레이 패널)에의 적용에 대해 언급하고 있다.
그러나, 이들의 선행기술에는, 플라즈마 디스플레이 패널에 이용할 때에 필수가 되는 전자파 차폐로서의 투명 도전층과, 색소와의 조합에 대해서는 어떤 언급이 없고, 이용하는 색소에 대한 구체적인 언급도 없다.
플라즈마 디스플레이용 필터는, 디스플레이와 별도로 형성하고, 디스플레이의 전면판으로서, 근적외선, 전자파 차폐, 표시화면의 보호를 목적으로 설치할 수 있다. 그렇지만, 전면판방식은, 그 구성부재수·제조 공정수가 많기 때문에 코스트가 높게 되어, 박형·경량화가 곤란하게 된다.
또한, 플라즈마 디스플레이 표시부의 표면반사는 일반적으로 저감되지 않고, 유리 기판의 반사율을 가지고 있으므로, 열설계 등의 관점에서 전면판을 표시부와 격리 설치하는 경우에는, 디스플레이 표면의 외광 반사와 전면판의 외광 반사에 의해, 반사영상이 이중(二重) 이상이 되어 버려, 디스플레이의 가시성(visibility)(즉, 시인성)을 저하시키는 일이 있다. 또, 플라즈마 디스플레이는, 화면 표면에 있어서의 유리의 반사나 형광체의 반사에 의해, 밝은 부분의 콘트라스트가 낮고, 발광의 색재현 범위가 좁다고 하는 특성을 가진다.
한편, 전면판을 제거하고, 디스플레이 패널 위에 광학필름을 직접 접합하는 것이 일본국 특개평 10-156991호, 특개평 10-188822호, 특허공개 제 2000-98131호 등에 제안되어 있다. 그렇지만, 이들의 선행기술은 모두, 투명 고분자 필름 전체의 층두께에 대한 규정은 없고, 또 내충격성의 부여에 대해 구체적인 언급이 되어 있지 않다.
한편, 일본국 특개평 10-211668호에서는, 외부로부터의 충격을 흡수하기 위하여, 직접 접합용의 광학 필름을 두께 1mm이상의 투명 고분자 시트에 적층해서 사용한다는 제안이 있다. 그렇지만, 두께 1mm이상의 투명 고분자 시트는, 롤형태로부터의 연속중합 공정이나 디스플레이에의 직접 접합은 실용상 곤란하고, 실시예에서도 두께 3mm의 아크릴시트에 접합시키고 있기 때문에, 낱장 접합형의 종래 전면판형 필터의 개량을 의도한 것은 분명하다.
일반적으로, 본 발명의 이용 분야에 있어서의 각 기능을 가진 투명 고분자 필름은, 롤형태로 사용되고 있지만, 작업 효율 등의 관점에서, 통상 두께 75∼100㎛의 것이 사용된다. 따라서, 단순한 기능을 가지는 2매의 투명 고분자 필름을 접합했을 경우, 그 총두께는 0.3mm에 못 미친다. 또, 반사 방지 필름에서는, 일부 두께 188㎛인 것도 이용되고 있지만, 베이스(즉, 기재) 필름은 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET)이며, 매우 적합하게 이용되는 기재 필름 두께 80㎛의 트리아세틸셀룰로스(TAC)에 비해 반사 방지성이 뒤떨어지기 때문에, 필름끼리의 중합용으로 이것을 선호할 리는 없다.
또, 디스플레이 패널 본체에 직접 필름을 접합하는 경우에는, 디스플레이 자체가 고가이기 때문에, 불편 발생시의 필름 박리 처리가 불가결하게 되나, 이 작업성에 대해서는 상기 선행 특허에서는 언급되어 있지 않다. 또, 디스플레이에의 필름접합에 관해서는, 이미 액정 디스플레이나 평면 텔레비전 등에 있어 실시되고 있지만, 플라즈마 디스플레이에서는 면적이 큰 폭으로 커지기 때문에, 기존의 디스플레이 이상으로, 박리에 힘이 들기 때문에 시간이 소요되고, 디스플레이 표면상에 접착흔적이 발생하기 쉬운 등, 작업상의 문제가 있다.
또, 전자파 차폐체에 있어서는, 전자파를 전류로서 외부에 인출하는 전극을 이용해, 투명 도전층과 외부와의 도통(導通)을 얻지 않으면 안 된다. 그 수법으로서는, 투명 도전층을 보호하기 위하여 필름을 접합할 때에, 필터의 주위에 당해 층이 일부 노출하도록 해서 접합하고, 이 부분을 전극으로서 외부와의 도통을 실시하는 부위로 하는 것을 들 수 있다. 종래, 전면판에의 필름 첨부에 의해 얻을 수 있는 전자파 차폐체는, 이 수법에 따라 외부와의 도통을 얻고 있었다. 투명 도전층을 노출시키기 위한 방법으로서는, 투명도전층 위에 중합하는 필름의 면적을 투명도전층의 면적보다 조금 작게 하는 등의 방법을 행하고 있었다.
이 방법을 이용하면 강성이 높은 판 등에 투명 도전층을 가지는 필름을 낱장으로 먼저 첨부하고, 또 그것 보다도 면적이 작은 보호 필름을 낱장으로 중합시킨다고 하는 2회의 낱장중합 작업이 필요하기 때문에, 생산성에 문제가 있다.
또, 종래 전면판에의 필름 첨부에 의해 얻어진 전자파 차폐체에 있어서는, 전체둘레 부분에 전극을 마련하고 있었다. 이 방법을 이용하면 전극 형성 작업을 낱장으로 실시할 필요가 있어, 생산성에 문제가 있다.
본 발명의 목적은, 상기 종래 기술에 비추어, 전자파 차폐능력이나 근적외선 차단능력, 화질 개선능력 등의 소망의 필터 특성을 가지고, 저비용, 경량 박막화, 패널 보호성, 불편 발생시의 작업성, 생산성의 향상 등의 개선을 도모할 수 있는 디스플레이용 필터, 그리고 상기 필터를 탑재한 표시장치와 그 제조 방법을 제공하는 것이다.
본 발명자들은, 상기의 문제를 해결하기 위해서 부단히 검토를 거듭한 결과, 1) 플라즈마 디스플레이로부터 발생하는 매우 강한 전자파를 차폐하려면, 면저항 0.01∼30Ω/□의 투명 도전층이 필요한 것, 2) 이러한 투명 도전층을 갖춘 전자파 차폐체를 플라즈마 디스플레이 표면에 직접 형성함으로써, 전자파 차폐능력, 근적외선 차단능력, 화상·가시성·코스트에 있어서 뛰어난 플라즈마 디스플레이를 이용한 표시장치를 얻을 수 있는 것, 3) 특정의 층 구성을 보유하고, 색소를 함유하고, 또한, 가시광선 투과율이 30∼85%인 조광(調光)필름을 디스플레이 표면에 직접 형성하는 것에 의해, 화상·가시성·코스트에 있어서 뛰어난 디스플레이를 이용한 표시장치를 얻을 수 있는 것, 4) 광학필터를 구성하는 투명 고분자 고분자 필름의 총 두께를 0.3mm이상으로 하고, 그것을 디스플레이 전면에 직접 접합함으로써, 경량 박막화와 패널 보호성을 양립하는 데 더하여, 작업성의 향상을 얻을 수 있는 것, 5) 전극의 형성위치를 제한하고, 예를 들면 직사각형의 광학 필터의 경우, 1쌍의 서로 마주 보는 2변에만 전극을 형성하는 것 및 전극의 형상을 연구함으로써, 높은 생산 효율을 가지는 롤 투 롤(roll to roll)방식에 의해 전극 형성을 행할 수가 있는 것 등을 발견하여, 본 발명에 이르렀다.
본 발명은, 디스플레이 화면에 접착 가능하고, 소정의 필터특성을 가지는 디스플레이용 필터에 있어서,
외기 쪽에 설치되어, 반사 방지성 및/또는 방현성(anti-glare property)을 가지는 기능성 투명층(A)과,
디스플레이 쪽에 설치되어, 화면에 접착하기 위한 투명 점착층(C)과,
기능성 투명층(A)과 투명 점착층(C)과의 사이에 기재로서 설치된 고분자 필름(B)을 구비한 것을 특징으로 하는 디스플레이용 필터이다.
또 본 발명은, 기능성 투명층(A)과 고분자 필름(B)과의 사이, 및/또는 고분자 필름(B)과 투명 점착층(C)과의 사이에 구비되고, 0.01∼30Ω/□의 면저항을 가지는 투명 도전층(D)을 갖추는 것이 바람직하다.
또 본 발명은, 투명 도전층(D)의 일부 또는 모두가, 도전성으로 구성되는 것이 바람직하다.
또 본 발명은, 투명 도전층(D)은, 고굴절률 투명 박막층(Dt) 및 금속 박막층(Dm)의 조합(Dt)/(Dm)을 반복단위로 해서 2회∼4회 반복하여 적층하고, 또 그 위에 고굴절률 박막층(Dt)이 적층되어 구성되는 것이 바람직하다.
또 본 발명은, 복수의 고굴절률 투명 박막층(Dt)중의 하나이상의 층이, 인듐, 주석 및 아연중의 1종 이상을 주성분으로 하는 산화물로 형성되는 것이 바람직하다.
또 본 발명은, 복수의 금속 박막층(Dm)중의 하나이상의 층이, 은 또는 은합금으로 형성되는 것이 바람직하다.
또 본 발명은, 기능성 투명층(A)은, 하드 코트성, 정전기 방지성, 오염방지성, 가스차단성 및 자외선 차단성중의 1개이상의 기능을 또 가지는 것이 바람직하다.
또 본 발명은, 기능성 투명층(A)과 고분자 필름(B)과의 사이에, 점착층(E)이 형성되는 것이 바람직하다.
또, 본 발명은, 고분자 필름(B)의 양면 또는 한쪽 면에, 하드 코트층(F)이 형성되는 것이 바람직하다.
또한 본 발명은, 기능성 투명층(A), 고분자 필름(B), 투명 점착층(C), 투명 도전층(D), 점착층(E) 및 하드 코트층(F)중의 1개이상의 층에, 1종 이상의 색소가 함유되는 것이 바람직하다.
또, 본 발명은, 파장 570∼605nm의 범위에 흡수 극대를 가지는 색소가 함유되는 것이 바람직하다.
또 본 발명은, 상기 색소는, 테트라아자포르피린 화합물인 것이 바람직하다.
또 본 발명은, 테트라아자포르피린 화합물은, 하기 화학식(1):
Figure 112002024976059-pct00001
(식중, A1∼A8은 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 니트로기, 시아노기, 히드록시기, 설폰산기, 탄산수 1∼20의 알킬기, 할로게노알킬기, 알콕시기, 알콕시 알킬기, 아릴 옥시기, 모노 알킬 아미노기, 디알킬기 아미노기, 아랄킬기, 아릴기, 헤테로 아릴기, 알킬 티오기 또는 아릴 티오기를 나타내고, A1과 A2, A3과 A4, A5과 A6, A7과 A8은 각각 독립적으로, 연결기를 개재하여 방향족고리를 제외한 고리를 형성해도 좋고, M는 2개의 수소원자, 2가의 금속 원자, 3가의 1치환 금속 원자, 4가의 2 치환 금속 원자 또는 옥시 금속 원자를 나타냄)로 표시되는 화합물인 것이 바람직하다.
또, 본 발명은, 파장 800∼1100nm의 범위에 흡수 극대를 가지는 근적외선 흡수 색소가 함유되는 것이 바람직하다.
또, 본 발명은, 기능성 투명층(A)의 표면에 있어서, 가시광선 반사율이 2% 이하인 것이 바람직하다.
또, 본 발명은, 30∼85%의 가시광선 투과율을 가지는 것이 바람직하다.
또, 본 발명은, 파장 800∼1100 nm에 있어서의 투과율 극소가 20%이하인 것이 바람직하다.
또, 본 발명은, 필터 전체에 있어서의 고분자 필름의 총합계가 0.3mm이상인 것이 바람직하다.
또, 본 발명은, 색소를 함유 가능한 총두께 증가용의 고분자 필름을 갖추는 것이 바람직하다.
또, 본 발명은, 투명 도전층(D)과 전기 접속하는 전극이 형성되는 것이 바람직하다.
또 본 발명은, 필터의 둘레 가장자리에, 투명 도전층(D)과 전기 접속하는 전극이 둘레방향에 따라 연속적으로 형성되는 것이 바람직하다.
또 본 발명은, 일부분 노출한 도통부에 전극이 형성되는 것이 바람직하다.
또 본 발명은, 필터 형상이 직사각형이며, 대향한 2개의 주변에 전극이 형성되는 것이 바람직하다.
또 본 발명은, 필터의 둘레 가장자리표면에, 투명 도전층(D)과 전기 접속하는 전극이 형성되는 것이 바람직하다.
또 본 발명은, 필터의 두께 방향을 따라 가장표면으로부터 적어도 투명 도전층(D)에 연통하는 연통 구멍이 형성되고,
상기 연통 구멍의 내부에, 투명 도전층(D)과 전기 접속하는 전극이 형성되는 것이 바람직하다.
또 본 발명은, 투명 도전층(D)과 이 투명도전층(D)에 인접하는 층과의 사이 에 도전성 테이프가 개재하는 것이 바람직하다.
또 본 발명은, 화상을 표시하기 위한 디스플레이와,
디스플레이 화면에 형성되어 상기의 디스플레이용 필터를 구비한 것을 특징으로 하는 표시장치이다.
또 본 발명은, 표시장치의 디스플레이 화면에, 상기의 디스플레이용 필터를 투명 점착층(C)을 개재하여 접합시키는 공정과,
표시장치의 그라운드(ground)도체와 투명 도전층(D)의 전극을 전기 접속하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 표시장치의 제조 방법이다.
또 본 발명은, 표시장치의 디스플레이 화면에, 고분자 필름(B), 투명 도전층(D), 및 투명 점착층(C)을 포함한 적층 필터를 투명 점착층(C)을 개재하여 접합시키는 공정과,
상기 적층 필터의 위에, 직접 또는 제 2의 점착층을 개재하여, 반사 방지성 및/또는 방현성을 가지는 기능성 투명층(A)을 배치하는 공정과,
표시장치의 그라운드 도체와 투명 도전층(D)을 전기 접속하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 표시장치의 제조 방법이다.
또 본 발명은, 표시장치의 디스플레이 화면에, 점착층을 배치하는 공정과,
고분자 필름(B), 투명 도전층(D), 및 반사 방지성 및/또는 방현성을 가지는 기능성 투명층(A)을 포함한 적층 필터를 상기 점착층을 개재하여 접합시키는 공정 과,
표시장치의 그라운드 도체와 투명 도전층(D)을 전기 접속하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 표시장치의 제조 방법이다.
또 본 발명은, 표시장치의 디스플레이 화면에, 점착층을 배치하는 공정과,
고분자 필름(B) 및, 투명 도전층(D)을 포함한 적층 필터를 상기 점착층을 개재하여 접합시키는 공정과,
상기 적층 필터의 위에, 직접 또는 제 2의 점착층을 개재하여, 반사 방지성 및/또는 방현성을 가지는 기능성 투명층(A)을 배치하는 공정과,
표시장치의 그라운드 도체와 투명 도전층(D)을 전기 접속하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 표시장치의 제조 방법이다.
본 발명과 이들의 목적과 그 이외의 목적과, 특색과 이점은, 아래와 같은 상세한 설명과 도면으로부터 한층 명확하게 될 것이다.
도 1은, 본 발명에 있어서의 고분자 필름(B)/투명 도전층(D)의 일례를 표시한 단면도.
도 2는, 본 발명의 전자파 차폐체의 일례를 표시한 평면도.
도 3은, 본 발명의 제 1실시예로서 전자파 차폐체와 그 장착상태를 표시한 단면도.
도 4는, 본 발명의 제 2실시예로서 전자파 차폐체와 그 장착상태를 표시한 단면도.
도 5는, 본 발명의 전자파 차폐체의 일례를 표시한 평면도.
도 6은, 본 발명의 제 3실시예로서 전자파 차폐체와 그 장착상태를 표시한 단면도.
도 7은, 본 발명의 제 4의 실시예로서 전자파 차폐체와 그 장착상태를 표시한 단면도.
도 8은, 전자파 차폐체 형성전후의 색재현 범위를 표시한 x-y색도면.
도 9는, 본 발명의 제 5실시예로서 조광필름의 그 장착상태를 표시한 단면도.
도 10은, 본 발명의 제 6실시예로서 조광필름과 그 장착상태를 표시한 단면도.
도 11은, 조광필름 형성 전후의 색재현 범위를 표시한 x-y색도면.
도 12는, 본 발명에 관한 디스플레이용 필터의 구성예를 표시한 단면도.
도 13은, 본 발명에 관한 디스플레이용 필터의 구성예를 표시한 단면도.
도 14는, 본 발명에 관한 디스플레이용 필터의 구성예를 표시한 단면도.
도 15는, 본 발명에 관한 디스플레이용 필터의 구성예를 표시한 단면도.
도 16은, 본 발명에 관한 디스플레이용 필터의 구성예를 표시한 단면도.
도 17은, 본 발명에 관한 디스플레이용 필터의 구성예를 표시한 단면도.
도 18은, 도 16에 나타낸 전자파 차폐기능을 표시한 투명 고분자 필름(B)(23)의 구성을 표시한 단면도.
도 19는, 도 17에 나타낸 전자파 차폐기능을 표시한 투명 고분자 필름(B)(26)의 구성을 표시한 단면도.
도 20은, 도 16 또는 도 17에 나타낸 디스플레이용 필터의 평면도.
도 21은, 본 발명에 관한 디스플레이용 필터의 구성예를 표시한 단면도.
도 22는, 본 발명에 관한 디스플레이용 필터의 구성예를 표시한 단면도.
도 23은, 본 발명에 관한 디스플레이용 필터의 구성예를 표시한 단면도.
도 24는, 본 발명에 관한 디스플레이용 필터의 구성예를 표시한 단면도.
도 25는, 본 발명에 관한 디스플레이용 필터의 구성예를 표시한 단면도.
도 26은, 도 21∼도 25에 나타낸 디스플레이용 필터의 평면도.
도 27은, 금속 패턴의 일례를 표시한 도면.
이하, 첨부도면을 참조해서, 본 발명에 따르는 디스플레이용 필터, 표시장치 및 그 제조 방법의 매우 적합한 실시예에 대해 설명한다.
본 발명에 관한 디스플레이용 필터는, 파장 570∼605nm의 범위에서 흡수극대를 가지는 색소를 함유함으로써, 디스플레이 화면의 가시광선 스펙트럼을 보정하는 필터특성을 가지는 조광필름으로서 기능한다.
또, 본 발명에 관한 디스플레이용 필터는, 면저항 0.01∼30Ω/□의 투명도전층을 갖춤으로써, 디스플레이 화면으로부터의 전자파를 차단하는 필터 특성을 가지는 전자파 차폐체로서 기능한다.
또, 본 발명에 관한 디스플레이용 필터는, 파장800∼1100nm의 범위에서 흡수 극대를 가지는 근적외선 흡수 색소를 함유함으로써, 디스플레이 화면으로부터의 근적외선을 차단하는 필터특성을 가지는 근적외선 필터으로서 기능한다.
이들의 기능을 보유하는 디스플레이용 필터를 플라즈마 디스플레이 등의 디스플레이 표면에 직접 첨부하는 것에 의해, 저비용, 경량 박막화, 패널 보호성, 불편 발생시의 작업성, 생산성의 향상 등의 개선을 도모할 수 있다.
본 발명에 관한 전자파 차폐체는, 적어도, 고분자 필름(B)의 한 쪽의 주면(主面)상에 형성한 적어도 면저항 0.01∼30Ω/□의 투명 도전층(D)과, 고분자 필름(B)의 다른쪽의 주면상에 형성되는 투명 점착층(C)을 가지고, 또 상기 투명 도전층(D) 위에 도통부, 및, 직접 또는 투명 점착층을 개재하여 형성된 기능성 투명층(A)을 보유한다.
또, 본 발명에 관한 전자파 차폐체는, 적어도, 고분자 필름(B)의 한 쪽의 주면상에 형성된 적어도 면저항 0.01∼30Ω/□의 투명 도전층(D)과, 고분자 필름(B)의 다른쪽의 주면상에 형성된 기능성 투명층(A)을 가지고, 또한, 상기 투명 도전층(D) 위에, 도전성 점착층 및 투명 점착층(C)을 가진다.
또, 본 발명에 관한 전자파 차폐체는, 적어도, 고분자 필름(B), 상기 고분자 필름(B)의 한 쪽의 주면상에 형성된 적어도 면저항 0.01∼30Ω/□의 투명 도전층(D), 투명 점착층(C), 고분자 필름(B)의 다른쪽의 주면상에 형성된 기능성 투명층(A)을 가진다.
또, 본 발명에 관한 조광필름은, 적어도, 고분자 필름(B), 상기 고분자 필름(B)의 한 쪽의 주면상에 형성된 반사 방지성 및/또는 방현성을 가진 기능성 투명층(A), 상기 고분자 필름(B)의 다른쪽의 주면상에 형성된 투명 점착층(C)을 가지고, 또한, 색소를 함유하고, 가시광선 투과율이 55∼90%이다.
1. 고분자 필름(B)
고분자 필름(B)은, 필터의 기재로서 기능하는 데, 예를 들면 투명 도전층(D)을 형성하기 위한 기재이며, 또한, 본 발명의 디스플레이용 필터는 디스플레이 표면에 직접 형성되는 것이기 때문에, 투명한 고분자 필름이 이용된다.
고분자 필름(B)은, 가시 파장 영역에 있어서 투명하면 된다. 구체적으로는, 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리 에테르 설폰, 폴리스틸렌, 폴리에틸렌 나프탈레이트, 폴리아릴레이트, 폴리 에테르 에테르 케톤, 폴리카보네이트, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 나일론 6 등의 폴리아미드, 폴리이미드, 트리아세틸셀룰로스 등의 셀룰로스계 수지, 폴리우레탄, 폴리 테트라 플루오로 에틸렌 등의 불소계 수지, 폴리염화비닐 등의 비닐 화합물, 폴리 아크릴산, 폴리 아크릴산 에스테르, 폴리 아크릴로니트릴, 비닐 화합물의 부가 중합체, 폴리 메타크릴산, 폴리 메타크릴산 에스테르, 폴리 염화 비닐리덴 등의 비닐리덴 화합물, 불화 비닐리덴/트리 플루오로 에틸렌 공중합체, 에틸렌/아세트산 비닐공중합체 등의 비닐 화합물 또는 불소계 화합물의 공중합체, 폴리에틸렌 옥시드 등의 폴리 에테르, 에폭시 수지, 폴리비닐 알콜, 폴리비닐 부티랄 등을 들 수 있지만, 이들로 한정되는 것은 아니다.
고분자 필름은, 통상, 두께가 10∼250㎛이다. 너무 얇으면 필터를 디스플레이 표면에 직접 형성하는 것이 곤란하고, 가요성이 제한된다. 따라서, 고분자 필름(B)의 두께는, 50㎛이상, 바람직하게는 75㎛이상이 매우 적합하다. 또, 두께 250㎛이상에서는 가요성이 너무 부족해 , 필름을 롤로 감아서 이용하는 데 부적합하다. 또, 본 발명의 분야와 같이, 높은 투명성이 요구되는 분야에서는, 고분자 필름의 두께 1OO㎛정도인 것이 널리 이용되고 있다.
본 발명에서 이용하는 투명한 고분자 필름은 가요성을 가지고 있으며, 투명 도전막을 롤 투 롤법으로 연속적으로 형성할 수 있기 때문에, 효율적으로, 또, 길이가 긴 대면적의 투명 적층체를 생산할 수가 있다. 또한, 필름형상의 필터는, 디스플레이 표면에, 라미네이트에 의해 용이하게 직접 형성할 수가 있다. 또한, 디스플레이 표면에 직접 접합된 고분자 필름을 기재로 하는 필터는, 디스플레이의 기판 유리가 파손했을 때의 유리 비산을 방지할 수가 있어 매우 적합하다.
본 발명에 있어서는, 고분자 필름(B)의 표면을, 스퍼터링 처리, 코로나 처리, 화염 처리, 자외선 조사, 전자선 조사 등의 에칭 처리나, 초벌코팅(prime coating)처리에 의해, 그 위에 형성되는 투명 도전층(D)의 고분자 필름(B)에 대한 밀착성을 미리 향상시켜도 좋다. 또, 고분자 필름(B)과 투명 도전층(D)의 사이에 임의의 금속 등의 무기물층을 형성해도 좋고, 투명 도전막을 성막(즉, 막형성)하기 전에, 필요에 따라서 용제 세정이나 초음파 세정 등의 방진처리를 가해도 괜찮다.
또, 투명 적층체의 내찰상성을 향상시키기 위해서, 고분자 필름(B)의 적어도 한 쪽의 주면에 하드 코트층(F)이 형성되어 있어도 좋다.
2. 하드 코트층(F)
하드 코트층(F)이 되는 하드 코트막으로서는, 아크릴계 수지, 실리콘계 수지, 멜라민계 수지, 우레탄계 수지, 알키드계 수지, 불소계 수지 등의 열경화형 또는 광경화형 수지 등을 들 수 있지만, 그 종류나 형성방법은 특별하게 한정되지 않는다. 이들 막의 두께는, 1∼1OO㎛정도이다. 또, 하드 코트층(F)에는 후술하는 색소를 1종 이상 함유시킬 수가 있다.
3. 투명 도전층(D)
본 발명의 전자파 차폐체에서는, 고분자 필름(B)의 한 쪽의 주면상에 투명 도전층(D)이 형성된다. 본 발명에 있어서의 투명 도전층(D)이란, 단층 또는 다층 박막으로 이루어진 투명 도전막이다. 또한, 본 발명에서는, 고분자 필름(B)의 주면상에 투명 도전층(D)을 형성한 것을 투명 적층체(H)라고 말한다.
단층의 투명 도전막으로서는, 전술한 금속 메시나 도전성 격자모양 패턴막 등의 도전성 메시, 금속박막이나 산화물 반도체 박막 등의 투명 도전성 박막이 있다.
다층의 투명 도전막으로서는, 금속 박막과 고굴절률 투명 박막을 적층한 다층 박막이 있다. 금속 박막과 고굴절률 투명 박막을 적층한 다층 박막은, 은 등의 금속이 가지는 도전성 및 그 자유전자에 의한 근적외선 반사 특성과, 어느 파장 영역에 있어서의 금속에 의한 반사의 고굴절률 투명 박막에 의한 방지에 의해, 도전성, 근적외선 차단능력, 가시광선 투과율의 어느 것에 있어서도 바람직한 특성을 가지고 있다.
전자파 차폐능력, 근적외선 차단능력를 가지는 디스플레이용 필터를 얻기 위해서는, 전자파 흡수를 위한 높은 도전성과 전자파 반사를 위한 반사계면을 많이 가지는 금속 박막과 고굴절률 투명 박막을 적층한 다층 박막이 매우 적합하다.
그런데, VCCI에 있어서는, 업무용도의 규제치를 표시한 Class A에서는 방사 전계 강도가 50dBμV/m미만이며, 민수용의 규제치를 표시한 Class B에서는 40dBμV/m미만이다. 그러나, 플라즈마 디스플레이의 방사 전계 강도는 20∼90MHz 대역내에서, 대각 20인치형 정도에서 40dBμV/m, 대각 40인치형 정도에서 50dBμV/m를 넘고 있다. 이 때문에, 그대로는 가정용으로 사용할 수 없다.
플라즈마 디스플레이의 방사 전계 강도는, 그 화면의 크기 및 소비 전력이 클수록 강하고, 차폐 효과가 높은 전자파 차폐재가 필요하다.
본 발명자들은, 부단히 검토한 결과, 높은 가시광선 투과율과 낮은 가시광선 반사율에 가세해 플라즈마 디스플레이에 필요한 전자파 차폐능력를 가지려면 , 투명 도전층(D)이, 면저항 0.01∼30Ω/□, 보다 바람직하게는 0.1∼15Ω/□, 더욱 바람직하게는 0.1∼5Ω/□의 저저항의 도전성을 가지고 있는 것이 필요한 것을 발견하였다. 본 발명에 있어서의 가시광선 투과율은, 가시광선 반사율과는, 투과율 및 반사율의 파장 의존성으로부터 JIS R-3106에 따라 계산된다.
또, 본 발명자들은, 플라즈마 디스플레이가 발하는 강도의 근적외선을 실용상 문제삼지 않아도 될만큼 차단하려면 , 디스플레이용 필터의 근적외선 파장 영역 800∼1100 nm에 있어서의 광선투과율 극소를 20%이하로 하는 것이 필요하고, 이 요구를 만족시키기 위해서는, 부재수 저감의 요구나 색소를 이용한다.
근적외선 흡수의 한계로부터, 투명 도전층 자체가 근적외선 차단성을 가지는 것이 필요한 것을 찾아냈다. 투명 도전층에서 근적외선을 차단하려면, 금속의 자유전자에 의한 반사를 이용할 수가 있다.
금속 박막층을 두껍게 하면 가시광선 투과율이 낮아지고, 얇게 하면 근적외선의 반사가 약하게 된다. 그러나, 어느 두께의 금속 박막층을 고굴절률 투명 박막층에 끼워넣는 적층 구조를 1단 이상 포갬으로써, 가시광선 투과율을 높게 하고, 또한 개전체적인 금속 박막층의 두께를 늘리는 것이 가능하다. 또, 층수 및/또는 각각의 층의 두께를 제어함으로써 가시광선 투과율, 가시광선 반사율, 근적외선의 투과율, 투과색, 반사색을 어느 범위에서 변화시키는 일도 가능하다.
일반적으로, 가시광선 반사율이 높으면 화면에의 조명기구 등의 투영이, 표시부 표면의 반사를 방지하는 효과가 저하하여, 가시성과 콘트라스트가 저하하게 된다. 또, 반사색으로서는, 백색, 청색, 보라색계통의 눈에 띄지 않는 색이 바람직하다. 이런 환경하에서, 투명 도전층은, 광학적으로 설계, 제어하기 쉬운 다층 적층이 바람직하게 된다.
본 발명의 전자파 차폐체에 있어서는, 고분자 필름(B)의 한 쪽의 주면상에 다층 박막의 투명 도전층(D)을 형성한 투명 적층체(H)를 이용하는 것이 바람직하다.
본 발명에 있어서 바람직한 투명 도전층(D)은, 고분자 필름(B)의 한 쪽의 주면상에, 고굴절률 투명 박막층(Dt), 금속 박막층(Dm)의 차례로, (Dt)/(Dm)를 반복 단위로 해서 2∼4회 반복 적층되고, 또 그 위에 적어도 고굴절률 투명 박막층(Dt)을 적층해서 형성되고, 상기 투명 도전층의 면저항이 0.1∼5Ω/□인 것을 특징으로 하고, 전자파 차폐능을 위한 저저항성, 근적외선 차단능력, 투명성, 가시광선 반사율이 뛰어난 성능을 가진다. 또한, 본 발명에 있어서, 다층박막이란, 특별한 기재가 없는 한, 금속 박막층을 고굴절률 투명 박막층에서 사이에 두어 적층 구조를 1단 이상 포갠 다층 적층의 투명 도전막을 말한다.
본 발명의 투명 도전층에 있어서, 반복 적층수는 2회∼4회가 매우 적합하다. 즉, 고분자 필름(B)의 주면상에 투명 도전층을 적층한 본 발명의 투명 적층체(D)는, (B) / (Dt) / (Dm) / (Dt) / (Dm) / (Dt), 또는, (B) / (Dt) / (Dm) / (Dt) / (Dm) / (Dt) / (Dm) / (Dt), 또는, (B) / (Dt) / (Dm) / (Dt) / (Dm) / (Dt) / (Dm) / (Dt) / (Dm) / (Dt)의 층 구성을 가지는 것이다. 반복 적층수가 5회 이상에서는, 생산 장치의 제한, 생산성의 문제가 커지고, 또, 가시광선 투과율의 저하와 가시광선 반사율의 증가가 생기는 경향이 있다. 또, 반복횟수가 1회이면, 저저항성, 근적외선 차단능력과, 가시광선 반사율을 동시에 충족시키기가 어렵다.
또한, 반복 적층수가 2회∼4회인 다층 박막에 있어서, 근적외선 차단능력, 가시광선 투과율, 가시광선 반사율을 동시에, 플라즈마 디스플레이에 매우 적합한 특성으로 하려면, 그 면저항이 0.l∼5Ω/□인 것을 본 발명자들은 발견하였다.
또한, 장래적으로는 플라즈마 디스플레이로부터 방출되는 전자파 강도가 저하하는 일도 있을 수 있다. 그 경우는, 전자파 차폐체의 면저항이 5∼15Ω/□에서도 충분한 전자파 차단 특성을 얻을 수 있는 것이 예상된다. 또, 플라즈마 디스플레이로부터 방출되는 전자파 강도가 저하하는 일도 있을 수 있다. 그 경우는, 전자파 차폐체의 면저항이 l5∼30Ω/□에서도 충분한 전자파 차단 특성을 얻을 수 있도록 되는 것이 예상된다. 한편, 방출되는 전자파 강도와는 다른 관점으로서, 플라즈마 디스플레이의 대화면화, 박막화가 요구되는 경우에는, 전자파 차폐체의 면저항 0.01∼1Ω/□가 요구된다.
금속 박막층(Dm)의 재료로서는, 은이, 도전성, 적외선 반사성 및 다층 적층했을 때의 가시광선 투과성이 뛰어나기 때문에, 매우 적합하다. 그러나, 은은 화학적, 물리적 안정성이 부족하여, 환경내의 오염물질, 수증기, 열, 빛 등에 의해 열화하기 때문에, 은에다가 금, 백금, 팔라듐, 구리, 인듐, 주석 등의 환경에 안정적인 금속을 1종 이상 더한 합금이나, 이들 환경에 안정적인 금속도 매우 적합하게 사용할 수 있다. 특히 금이나 팔라듐은 내환경성, 광학 특성이 뛰어나서 매우 적합하다.
은을 포함한 합금중의 은의 함유율은, 특히 한정되는 것은 아니지만, 은박막의 도전성, 광학 특성을 크게 변화시키지 않는 것이 바람직하고, 50중량%이상, 100중량%미만 정도이다. 그렇지만, 은에 다른 금속을 첨가하면, 그 뛰어난 도전성, 광학 특성이 저해되므로, 복수의 금속 박막층을 가지는 경우는, 가능하면 적어도 1개의 층은 은을 합금으로 하지 않고 이용하는 것이나, 기재에서 보아서 최초의 층 및/또는 최외층에 있는 금속 박막층만을 합금으로 하는 것이 바람직하다.
금속 박막층(Dm)의 두께는, 도전성, 광학 특성 등으로부터 광학 설계적이고 또한 실험적으로 구해지고, 투명 도전층이 요구 특성을 가지면 특히 한정되는 것은 아니지만, 도전성 등으로부터 박막이 섬형상(island type)구조는 아니고, 연속상태인 것이 필요하고, 4nm이상인 것이 바람직하다. 또, 금속 박막층이 너무 두꺼우면 투명성이 문제가 되므로 30nm이하가 바람직하다. 금속 박막층이 복수인 경우는, 각 층을 모두 동일한 두께로 한정하지 않고, 또, 모두 은, 혹은, 동일한 은을 포함한 합금이 아니어도 좋다.
금속 박막층(Dm)의 형성 방법에는, 스퍼터링, 이온 도금, 진공 증착, 도금 등, 종래 공지의 방법의 어느 것이나 채용할 수 있다.
고굴절률 투명 박막층(Dt)을 형성하는 투명 박막으로서는, 가시영역에 있어서 투명성을 가지고, 금속 박막층의 가시 영역에 있어서의 광선반사를 방지하는 효과를 가지는 것이면 특별하게 한정되는 것은 아니지만, 가시광선에 대한 굴절률이 1.6이상, 바람직하게는 1.8이상, 더욱 바람직하게는 2.0이상의 굴절률이 높은 재료가 이용된다. 이러한 투명 박막을 형성하는 구체적인 재료로서는, 인듐, 티탄, 지르코늄, 비스무스, 주석, 아연, 안티몬, 탄탈, 세륨, 네오디뮴, 란탄, 토륨, 마그네슘, 갈륨 등의 산화물, 또는, 이들 산화물의 혼합물이나, 황화 아연 등을 들 수 있다.
이들 산화물 혹은 황화물은, 금속과, 산소 원자 혹은 황 원자와의 비화학량적 비율이 존재한다고 해도, 광학 특성을 크게 바꾸지 않는 범위라면 지장없다. 그 중에서도, 산화 아연, 산화 티탄, 산화 인듐이나 산화 인듐과 산화 주석의 혼합물(ITO)은, 투명성, 굴절률이 좋을 뿐만 아니라, 성막 속도가 빠르고, 금속 박막층과의 밀착성 등이 양호하기 때문에 매우 적합하게 사용할 수 있다.
고굴절률 투명 박막층(Dt)의 두께는, 고분자 필름(B)〔투명 기재라고도 한다〕의 광학 특성, 금속 박막층의 두께, 광학 특성, 및, 투명 박막층의 굴절률 등으로부터 광학 설계적이고 또한 실험적으로 구해지며 특히 한정되는 것은 아니지만, 5nm이상, 200nm이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 10nm이상, lOOnm이하이다. 또, 고굴절률 투명 박막 제 1층‥‥제(n+1)층(n≥1)은, 동일한 두께로 한정하지 않고, 동일한 투명 박막 재료가 아니어도 좋다.
고굴절률 투명 박막층(Dt)의 형성 방법에는, 스퍼터링, 이온 도금, 이온빔 어시스트 증착, 진공 증착, 습식 코팅 등 , 종래 공지의 방법의 어느 것이나 채용할 수 있다.
상기의 투명 도전층(D)의 내환경성을 향상시키기 위해서, 투명 도전층의 표면에, 도전성, 광학 특성을 현저하게 해치지 않는 정도로 유기물 또는 무기물의 임의의 보호층을 형성해도 좋다. 또, 금속 박막층의 내환경성이나 금속 박막층과 고굴절률 투명 박막층과의 밀착성 등을 향상시키기 위해, 금속 박막층과 고굴절률 투명 박막층의 사이에, 도전성, 광학 특성을 해치지 않을 정도로 임의의 무기물층을 형성해도 좋다. 이들의 구체적인 재료로서는 구리, 니켈, 크롬, 금, 백금, 아연, 지르코늄, 티탄, 텅스텐, 주석, 팔라듐 등, 혹은 이들 재료의 2종류 이상으로 이루어진 합금을 들 수 있다. 그 두께는, 바람직하게는, 0.2nm∼2nm정도이다.
소망의 광학 특성의 투명 도전층(D)을 얻으려면, 얻으려고 하는 전자파 차폐능을 위한 도전성, 즉, 금속 박막 재료·두께를 감안해서, 투명 고분자 필름(B) 및 박막 재료의 광학 정수(굴절률, 소광계수)를 이용한 벡터법, 어드미턴스도(admittance diagram)를 이용하는 방법 등을 사용한 광학 설계를 행하여, 각 층의 박막 재료 및, 층수, 막두께 등을 결정한다. 이 때, 투명 도전층(D) 위에 형성되는 인접층을 고려하면 좋다. 이것은 투명 고분자 필름(B) 위에 형성된 투명 도전층에의 광의 입사 매질이, 공기 또는 진공 등의 굴절률 1인 입사 매질과 다르기 때문에 투과색(및 투과율, 반사색, 반사율)이 변화하기 때문이다. 즉, 투명 도전층(D) 위에 기능성 투명층(A)을 형성할 때에 투명 점착층(C)을 개재시키는 경우는, 투명 점착층(C)의 광학 정수를 고려하는 설계를 실시한다. 또, 투명 도전층(D) 위에 기능성 투명층(A)을 직접 형성하는 경우는, 투명 도전층(D)과 접하는 재료의 광학 정수를 고려하는 설계를 실시한다.
상기와 같이, 투명 도전층(D)의 설계를 행함으로써, 고굴절률 투명 박막층(Dt)에서는 고분자 필름(B)에서 보아서 최하층과 최상층이 그 사이의 층보다 얇고, 금속 박막층(Dm)에서는 고분자 필름(B)에서 볼 때 최하층이 그 외의 층보다 얇고, 굴절률 1.45∼1.65, 소광계수가 거의 0인 두께 10∼50㎛의 점착재가 인접층일 때, 투명 적층체의 반사가 현저하게 증가하지 않는 것, 즉, 인접층 형성에 의한 계면반사의 증가가 2%이하인 것을 발견하였다.
특히, 반복횟수가 3회, 즉, 합계 7개층으로 이루어진 투명 도전층에 있어서는, 3층의 금속 박막층(Dm)의 한가운데의 2번째의 층이 다른 층보다 두꺼우면, 상기의 점착재가 인접층일 때, 투명 적층체의 반사가 현저하게 증가하지 않는 것을 찾아냈다.
또한, 광학 정수는 엘립소메트리(타원 편광 해석법)나 압베 굴절계에 의해 측정할 수 있고, 또, 광학 특성을 관찰하면서, 층수, 막두께 등을 제어해서 성막을 실시할 수도 있다.
상기의 방법에 의해 형성한 투명 도전층의 원자 조성은, 오거 전자 분광법(AES), 유도 결합 플라즈마법(ICP), 러더포드 후방 산란법(RBS) 등에 의해 측정할 수 있다. 또, 층 구성 및 막두께는, 오거 전자 분광의 깊이 방향 관찰, 투과형 전자현미경에 의한 단면 관찰 등에 의해 측정할 수 있다.
또한, 막두께는, 성막 조건과 성막 속도의 관계를 미리 분명히 한 다음 성막을 실시하는 것이나, 수정진동자 등을 이용한 성막중의 막두께 모니터링에 의해 제어된다.
이상 설명한 투명 도전성 박막을 이용하는 방법 외에, 도전성 메시를 투명 도전층으로서 이용하는 방법도 있다. 도전성 메시의 일례로서, 이하의 단층의 금속 메시에 대해 설명하나, 본 발명에 있어서의 도전성 메시는 이것으로 한정되는 것은 아니다.
단층의 금속 메시는, 고분자 필름 위에 구리 메시층을 형성한 것이 일반적이다. 통상은, 고분자 필름 위에 구리박을 중합시키고, 그 후, 메시형상으로 가공한다.
본 발명에 이용되는 구리박은, 압연구리, 전계구리도 사용할 수 있지만, 금속층은 다공성의 것이 바람직하게 이용되고, 그 구멍 지름은, 0.5∼5㎛가 바람직하고, 또 바람직하게는, 0.5∼3㎛이며, 더욱 바람직하게는 0.5∼1㎛이다. 구멍 지름이 더 이상 커지면 패터닝(patterning)의 장해가 될 우려가 있고, 또, 이보다 작은 값이 되면, 광선투과율의 향상을 기대하기 어렵다. 또한, 구리박의 다공성(porosity)으로서는, 0.01∼20%의 범위가 바람직하고, 더 바람직하게는, 0.02∼5%이다. 본 발명에서 말하는 다공성은, 체적을 R, 구멍 용적을 P로 했을 때에, P/R로 정의되는 값이다. 예를 들면, 체적 0.1cc에 대응하는 구리박의 구멍 용적을, 수은 다공도로 측정한 바, 0.001cc이었다고 하면, 다공성은 1%라 할 수 있다. 이용되는 구리박은, 각종 표면처리를 하고 있어도 상관없다. 구체적으로 예시하면, 크롬 처리, 조면화 처리, 산세정(pickling), 아연/크롬 처리 등이다.
구리박의 두께는 3∼30㎛가 바람직하고, 보다 바람직하게는 5∼20㎛, 더욱 바람직하게는 7∼10㎛이다. 이 두께보다 두꺼우면 에칭에 시간을 요한다고하는 문제가 있고, 또 이 두께보다도 얇으면 전자파 차폐능이 뒤떨어진다고 하는 문제가 발생한다.
광투과 부분의 개구율은 60%이상, 95%이하가 바람직하고, 보다 바람직하게는 65%이상, 90%이하, 또 보다 바람직하게는 70%이상, 85%이하이다. 개구부의 형상은, 특히 한정되는 것은 아니지만, 정삼각형, 정사각형, 정육각형, 원형, 직사각형, 마름모꼴 등과 같은 것으로 면내에 배열되어 있는 것이 바람직하다. 광투과 부분의 개구부의 대표적인 크기는, 1변 혹은 직경이 5∼200㎛의 범위인 것이 바람직하다. 더욱 바람직하게는 10∼150㎛이다. 이 값이 너무 크면, 전자파 차폐능이 저하하고, 또 너무 작으면 디스플레이의 화상에 바람직하지 않은 영향을 준다. 또, 개구부를 형성하지 않는 부분의 금속의 폭은, 5∼50㎛가 바람직하다. 즉, 피치가 10∼250㎛인 것이 바람직하다. 이 폭 보다도 가늘면 가공이 극히 곤란하게 되는 한편, 이 폭보다 굵으면 화상에 바람직하지 않은 영향을 준다.
광투과 부분을 보유하는 금속층의 실질적인 시트 저항이란, 상기 패턴 보다도 5배 이상 큰 전극을 이용해, 상기 패턴의 반복 단위 보다도 5배 이상의 전극 간격을 가진 4단자법으로 측정한 시트 저항을 말한다. 예를 들면, 개구부의 형상이 1변 100㎛의 정방형으로 금속층의 폭이 20㎛를 가지고 규칙적으로 정방형을 늘어놓을 수 있던 것이라면 Ø1mm의 전극을 1mm간격으로 배열해서 측정할 수가 있다.
혹은 패턴 형성한 필름을 직4각형상으로 가공하고, 그 길이방향의 양단에 전극을 마련하여, 그 저항을 측정하고(R), 길이방향의 길이 a, 짧은방향의 길이 b로 하면, 실질적인 시트 저항=R×b/a로 구할 수가 있다. 이와 같이 측정된 값은, 0.01Ω/□이상, 0.5Ω/□이하가 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.05Ω/□이상, 0.3Ω/□이하이다. 이 값 보다도 작은 값을 얻으려고 하면 막이 너무 두꺼워지고, 또한 개구부를 충분히 얻을 수 없게 되는 한편, 더 이상 큰 값으로 하면 충분한 전자파 차폐능을 얻을 수 없게 된다.
은박을 고분자 필름에 라미네이트하는 방법으로서는, 투명한 접착제를 이용한다. 접착제의 종류로서는, 아크릴계, 우레탄계, 실리콘계, 폴리에스테르계 등이 있지만, 특별히 접착제에 한정은 없다. 2액계 및 열경화 타입이 매우 적합하게 사용된다. 또한, 내약품성이 뛰어난 접착제인 것이 바람직하다. 고분자 필름에 접착제를 도포한 후, 은박과 중합할 수도 있고, 은박에 접착제를 접합시켜도 괜찮다.
광투과 부분을 형성하는 방법으로서는, 인쇄법이나 포토레지스트법을 이용할 수가 있다. 인쇄법에서는, 마스크층을 인쇄 레지스트 재료를 이용해 스크린 인쇄법으로 패턴형성하는 방법이 일반적이다. 포토레지스트재료를 이용하는 방법에서는, 롤 코팅법, 스핀 코팅법, 전체면 인쇄법, 전사법 등으로, 금속박위에 포토레지스트재료를 전면형성하고, 포토마스크를 이용해 노광 현상해서 레지스트의 패터닝을 실시한다. 레지스트패터닝을 완성시킨 후, 개구부로 하는 금속 부분을 습식 에칭으로 제거함으로써, 소망하는 개구형상과 개구율의, 광투과 부분을 가지는 금속 메시를 얻을 수 있다.
4. 투과 특성
전자파 차폐체의 투광부에 있어서의 가시광선 투과율은, 30∼85%가 바람직하다. 더욱 바람직하게는 50∼80%이다. 30%미만이라면 휘도가 너무 낮고 가시성이 나빠진다. 또, 콘트라스트를 얻기 위해서, 85%이하, 바람직하게는 80%이하인 것이 필요하게 되는 일이 있다.
또, 조광필름에 있어서는 가시광선 투과율은, 55∼90%가 바람직하다. 또 바람직하게는 60∼85%이다. 55%미만이면 휘도가 너무 낮고 가시성이 나빠진다. 또, 콘트라스트를 얻기 위해서는 85%이하, 바람직하게는 80%이하인 것이 필요하게 되는 일이 있다.
또한, 본 발명에 있어서의 가시광선 투과율(Tvis), 가시광선 반사율(Rvis) 은, 투과율 및 반사율의 파장의존성에서 JIS R-3106에 따라 계산된다.
5. 색특성, 색소
그런데, 디스플레이용 필터의 투과색에 있어서, 황록∼녹색미가 강하면 디스플레이의 콘트라스트가 저하하고, 또 색순도가 낮아져, 백색 표시도 녹색을 띠게 되는 일이 있다. 이것은, 황록∼녹색인 550nm전후의 파장의 광이 가장 시각 감도가 높은 것으로 된다.
다층 박막은, 가시광선 투과율·가시광선 반사율을 중시하면, 일반적으로 투과 색조가 뒤떨어진다. 전자파 차폐능, 즉 도전성과, 근적외선 차단능력를 올릴수록, 금속 박막의 총막두께가 두꺼운 것이 필요하다. 그러나, 금속 박막의 총막두께가 커지는 만큼, 녹색∼황녹색이 되는 경향이 있다. 따라서, 플라즈마 디스플레이에 이용하는 전자파 차폐체는 그 투과색이 중간회색(neutral gray) 또는 청회색(blue gray)인 것이 요구된다. 이것은, 녹색 투과가 강함에 따른 콘트라스트 저하나, 적색 및 녹색 발광색에 비해 청색 발광이 약한 것, 표준 백색보다 약간 높은 색온도의 백색이 바람직한 것 등에 의한다. 이에 더하여, 전자파 차폐체의 투과 특성은, 플라즈마 디스플레이의 백색 표시의 색도 좌표가 최대한 흑색체 궤적에 가까운 것이 바람직하다.
다층 박막을 투명 도전층(D)에 이용했을 경우는, 다층 박막의 색조를 보정해서 전자파 차폐체의 투과색을 중간회색 또는 청회색으로 하는 것이 중요하다. 색조를 보정하려면 가시 파장영역에 흡수가 있는 색소를 이용하면 좋다. 예를 들면, 투명 도전층(D)의 투과색에 녹색미가 있는 경우, 적색의 색소를 이용해 회색으로 보정하고, 투과색에 황색미가 있는 경우는 파랑∼보라색의 색소를 이용해 보정한다.
컬러플라즈마디스플레이에서는, 희소가스(rare gas)의 직류 또는 교류 방전에 의해 발생하는 진공자외선에서 발광하는 (Y, Gd, Eu)BO3 등의 적색(Red) 발광 형광체, (Zn,Mm)2SiO4 등의 녹색(Green) 발광 형광체, (Ba,Eu)MgAl10O17:Eu 등의 청색(Blue) 발광 형광체가, 화소를 구성하는 표시셀로 형성되고 있다. 형광체는, 색순도 외에 방전 셀에의 도포성, 잔광시간의 짧음, 발광 효율, 내열성 등을 지표로 선정되고 있어, 실용화되고 있는 형광체는 그 색순도에 개량을 요하는 것이 많다. 특히 적색 발광 형광체의 발광 스펙트럼은, 파장 580nm에서 700nm정도까지 지시하는 몇 개의 발광 피크를 나타내고 있고, 비교적 강한 단파장 쪽의 발광 피크는 노랑∼오렌지색의 발광이므로 적색 발광이 오렌지에 가까운 좋지 않은 색순도로 되어 버리는 문제가 있다. 희소가스에 Xe과 Ne의 혼합 가스를 이용했을 경우, Ne 여기상태의 발광 완화에 의한 오렌지색 발광도 마찬가지로 색순도를 떨어뜨려 버린다. 또, 녹색 발광, 청색 발광에 관해서도, 그 피크 파장의 위치, 발광의 브로드니스(broadness)가 색순도를 낮추는 요인으로 되어 있다.
색순도의 높이는, 예를 들면, 국제 조명 위원회(CIE)가 정한 횡축색도 x, 세로축색도 y로 색상과 채도를 나타내는 좌표계에 있어서, RGB 3색을 정점으로 한 삼각형의 넓이로 표시한 색재현 범위의 넓이로 나타낼 수 있다. 색순도의 낮음으로부터 플라즈마 디스플레이의 발광의 색재현 범위는, NTSC(National Television System Committee)방식에서 정하고 있는 RGB 삼색의 색도가 표시한 색재현 범위보다 통상 좁다.
또, 표시 셀간에서의 발광의 번져나옴에 부가해서, 각 색의 발광이 넓은 범위에 걸쳐서 불필요한 광을 포함하고 있고, 필요한 발광이 두드러지지 않는 것은, 색순도만이 아니고 플라즈마 디스플레이의 콘트라스트를 낮추는 요인으로도 되고 있다. 또한, 플라즈마 디스플레이는 일반적으로 실내 조명등에 의한 외광이 존재하는 밝은 때에 있어서는 어두울 때에 비해 콘트라스트가 나쁘게 된다. 이것은, 기판 유리, 형광체 등이 외광을 반사하고, 불필요한 광이 필요한 광을 두드러지게 하지 않기 때문에 일어난다. 플라즈마 디스플레이 패널의 콘트라스트비는, 어두울 때는 100∼200, 주위 조도가 1OO1x 정도의 밝을 때는 10∼30이며, 그 향상이 과제로 되어 있다. 또, 콘트라스트가 낮은 것도 색재현 범위를 좁게 하고 있는 요인이다.
콘트라스트를 향상시키기 위해서는 디스플레이 전면에 중간밀도(ND) 필터와 같이, 가시 파장 영역 전체의 투과율을 낮춰서, 기판 유리, 형광체에 있어서의 외광 반사 등의 투과를 줄이는 방법이 있지만, 가시광선 투과율이 현저하게 낮으면, 휘도·화상의 선명함이 저하하게 되어, 또, 색순도의 개선은 그다지 바랄 수 없다.
본 발명들은 컬러플라즈마 디스플레이의 발광색의 색순도 및 콘트라스트를 향상시키는 일이, 발광색의 색순도 및 콘트라스트를 낮추는 원인이 되는 불요 발광 및 외광 반사를 저감하는 것에 의해 달성할 수 있는 것을 발견하였다.
또, 본 발명자들은, 색소를 이용하는 것에 의해, 전자파 차폐체를 중간회색 또는 청회색에 조색하는 것 뿐만 아니라, 발광색의 색순도 및 콘트라스트를 낮추는 원인이 되는 불요 발광 및 외광 반사를 저감할 수 있는 것을 발견하였다. 특히, 적색 발광이 오렌지에 가까운 것은 현저하고, 그 원인인 파장 580nm∼605nm의 발광을 저감하는 것에 의해 적색 발광의 색순도를 향상시킬 수가 있는 것을 발견하였다.
본 발명의 디스플레이용 필터에 있어서, 불요 발광 및 외광 반사의 저감은, 파장 570nm∼605nm에서 흡수 극대를 가지는 색소를 차폐체에 함유시키는 것에 의해 실시할 수가 있다. 이 때, 디스플레이용 필터에 의해, 적색인 발광 피크가 있는 파장 615nm∼640nm의 광선투과를 현저하게 손상하지 않는 것이 필요하다.
일반적으로, 색소는 광범위한 흡수 범위를 가지고 있으며, 소망하는 흡수 피크를 보유하는 것도, 그 끝부분의 흡수에 의해 매우 적합한 파장의 발광까지 흡수해 버리는 일이 있다. Ne에 의한 발광이 존재하는 경우는, 오렌지색 발광의 저감을 실시할 수도 있기 때문에, RGB 표시셀로부터의 발광의 색순도가 향상한다.
또, 컬러플라즈마 디스플레이의 초록 발광은 넓은 대역(band)을 가지며, 그 피크 위치는, 예를 들면, NTSC 방식에서 요구되는 녹색보다 약간 장파장 쪽, 즉 황록 쪽에 있는 일이 있다.
본 발명자들은, 파장 570nm∼605nm에 흡수 극대를 가지는 색소의 단파장쪽의 흡수에 의해, 녹색 발광의 장파장 쪽을 흡수해서 없애고, 또 불요 발광을 없애는 것, 및/또는, 피크를 이동시키는 것에 의해 색순도를 향상할 수 있는 것을 찾아냈다.
녹색발광뿐만 아니라 적색발광의 색순도 향상에는, 파장 570 nm∼605nm에서 흡수 극대를 가지는 색소를 이용하는 것에 의해, 파장 570 nm∼605nm에 있어서의 전자파 차폐체의 최저 투과율이, 필요한 적색 발광의 피크 위치에서의 투과율에 대해서 80%이하인 것이 매우 적합하다.
청색 발광의 색순도가 낮은 경우는, 적색 발광, 녹색 발광과 마찬가지로, 불요 발광을 저감하고, 또, 그 피크 파장을 이동시켜, 청록색 발광을 흡수하는 색소를 이용하면 좋다. 또한, 색소에 의한 흡수는, 외광의 형광체에의 입사를 저감 함으로써 형광체에서의 외광 반사를 저감시킬 수가 있다. 이것에 의해서도 색순도 및 콘트라스트를 향상시킬 수가 있다.
본 발명의 디스플레이용 필터에 색소를 함유시키는 방법으로서는, (1) 투명한 수지에 적어도 1 종류 이상의 색소를 만족한 고분자 필름, (2) 수지 또는 수지 모노머(monomer)/유기계 용매의 수지 농후액에 적어도 1 종류 이상의 색소를 분산·용해시켜, 캐스팅법에 의해 제작한 고분자 필름, (3) 수지 바인더와 유기계 용매에 적어도 1 종류 이상의 색소를 더해 도료로서 투명한 기재 위에 코팅한 것, (4) 적어도 1 종류 이상의 색소를 함유하는 투명한 점착재의 어느 쪽이든 1개이상의 형태로서 이용하는 방법이다.
본 발명에서 말하는 함유란, 기재 또는 도막 등의 층 또는 점착재의 내부에 함유되는 것은 물론, 기재 또는 층의 표면에 도포한 상태도 의미한다.
색소는, 가시 영역에 소망하는 흡수파장을 가지는 일반의 염료 또는 안료로서이루어지고, 그 종류는 특히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들면, 안트라 퀴논계, 프탈로시아닌계, 메틴계, 아조메틴계, 옥사진계, 아조계, 스티릴계, 쿠마린계, 포르피린계, 디벤조푸라논계, 디케토피롤로피롤계, 로다민계, 크산텐계, 피로메텐계 등의 일반적으로 시판되고 있는 유기색소를 들 수 있다. 그 종류 및 농도는, 색소의 흡수 파장·흡수 계수, 투명 도전층의 색조 및 전자파 차폐체에 요구되는 투과 특성·투과율, 그리고 분산시키는 매체 또는 도막의 종류·두께로부터 정해지고, 특별히 한정되는 것은 아니다.
투명 도전층(D)에 다층 박막을 이용하는 경우, 전자파 차폐능에 부가하여 근적외선 차단능력도 가지고 있지만, 보다 높은 근적외선 차단능력이 필요하거나 투명 도전층이 근적외선 차단능력을 가지지 않은 경우에, 근적외선 차단능력을 디스플레이용 필터에 부여하기 위하여, 상기 색소에 근적외선 흡수 색소를 1종류 이상 병용해도 좋다.
근적외선 흡수 색소로서는, 투명 도전층의 근적외선 차단능력를 포집하고, 플라즈마 디스플레이가 발하는 강도의 근적외선을 충분히 실용적으로 될 정도로 흡수하는 것이면, 특히 한정되는 것은 아니고, 농도도 한정되는 것은 아니다. 근적외선 흡수색소로서는, 예를 들면, 프탈로시아닌계 화합물, 안트라 퀴논계 화합물, 디티올계 화합물, 디이미늄계 화합물을 들 수 있다.
플라즈마 디스플레이 패널은 패널표면의 온도가 높고, 특히 환경의 온도가 높은 때는 전자파 차폐체의 온도도 오르기 때문에, 본 발명에서 이용하는 색소는, 내열성, 예를 들면, 80℃에서 분해 등에 의해 현저하게 열화하지 않는 내열성을 가지고 있는 것이 매우 적합하다.
색소에 따라서는, 내열성과 더불어서, 내광성이 부족한 것도 있다. 플라즈마 디스플레이의 발광이나 외광의 자외선·가시광선에 의한 열화가 문제가 되는 경우는, 자외선 흡수제를 포함한 부재나 자외선을 투과하지 않는 부재를 이용함으로써, 색소의 자외선에 의한 열화를 저감하는 것, 자외선이나 가시광선에 의한 현저한 열화가 없는 색소를 이용하는 것이 중요하다. 열, 빛에 부가해서, 습도나, 이들의 복합환경에 있어서도 마찬가지이다. 색소가 열화하면 전자파 차폐체의 투과 특성이 바뀌어 버린다.
실제로, 플라즈마 디스플레이 패널의 표면 온도가 70℃에서 80℃가 되는 것은 일본국 특개평 8-220303호에 명기되어 있다. 또, 플라즈마 디스플레이패널에서 발생하는 빛은, 예를 들면, 3OOcd/m2로 명기되어 있고(후지쯔 주식회사 Image Site 카탈로그 AD25-000061C Oct. 1997M), 입체각을 2π로 해서, 이것을 2만시간 조사하면, 2π×20000×300=3800만(1x·시간)이 되기 때문에, 실용상 수천만(1x·시간)정도의 내광성이 필요하게 되는 것을 알 수 있다.
나아가서는, 색소를 매체 또는 도막중에 분산시키기 위해서, 적당한 용매에의 용해성도 중요하다. 다른 흡수파장을 가지는 색소 2 종류 이상을 하나의 매체 또는 도막에 함유시켜도 좋다.
본 발명의 디스플레이용 필터는, 컬러플라즈마 디스플레이의 휘도·가시성을 현저하게 해치지 않는 뛰어난 투과특성·투과율을 가지고, 컬러플라즈마 디스플레이의 발광색의 색순도 및 콘트라스트를 향상시킬 수가 있다. 본 발명자들은, 1종 이상 함유하는 색소의, 적어도 1개가 테트라아자 포르피린 화합물인 경우에는, 특히 저감하고 싶은 570∼605nm의 불요 발광의 파장과 동일하거나, 또는 가까운 파장에 주요 흡수 파장을 가지고, 또한, 흡수 파장폭이 비교적 좁기 때문에, 매우 적합한 발광을 흡수함에 따른 휘도의 손실을 줄일 수 있는 것을 찾아내서, 뛰어난 투과특성·투과율·발광색의 색순도 및 콘트라스트를 향상시키는 능력이 뛰어난 디스플레이용 필터를 얻을 수 있었다.
본 발명에서 이용하는 테트라아자 포르피린 화합물은, 상기 식(1)로 표시할 수 있다. 이하, 식(1)은, 하기 구조식(2):
Figure 112002024976059-pct00002
〔식(2) 중, Am 및 An는 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 니트로기, 시아노기, 히드록시기, 아미노기, 카르보키실기, 설폰산기, 탄소수 1∼20의 알킬기, 하로게노알킬기, 알콕시기, 알콕시 알콕시기, 아릴 옥시기, 모노 알킬 아미노기, 디알킬아미노기, 아랄킬기, 아릴기, 헤테로 아릴기, 알킬 티오기 또는 아릴 티오기를 나타내며, Am 과 An은 각각 독립적으로 연결기를 개재하여, 방향족고리을 제외하는 고리를 형성해도 좋고, M은 2개의 수소 원자, 2가의 금속 원자, 3가의 1치환 금속 원자, 4가의 2치환 금속 원자, 또는, 옥시 금속 원자를 나타냄〕와 같이 약기한다.
식(1)로 표시되는 테트라아자 포르피린 화합물의 구체적인 예를 다음에 설명한다. 식중, A1∼A8의 구체적인 예로서는, 각각 독립적으로, 수소 원자; 불소, 염소, 브롬, 요소 등의 할로겐 원자; 니트로기; 시아노기; 히드록시기; 아미노기; 카르복실기; 설폰산기; 메틸기, 에틸기, n-프로필기, iso-프로필기, n-부틸기, iso-부틸기, sec-부틸기, t-부틸기, n-펜틸기, 2-메틸 부틸기, 1-메틸 부틸기, neo-펜틸기, 1,2-디메틸 프로필기, 1,1-디메틸 프로필기, cyc1o-펜틸기, n-헥실기, 4-메틸 펜틸기, 3-메틸 펜틸기, 2-메틸 펜틸기, 1-메틸 펜틸기, 3,3-디메틸 부틸기, 2,3-디메틸 부틸기, 1,3-디메틸 부틸기, 2,2-디메틸 부틸기, 1,2-디메틸 부틸기, 1,1-디메틸 부틸기, 3-에틸 부틸기, 2-에틸부틸기, 1-에틸 부틸기, 1,2,2-트리 메틸 부틸기, 1,1,2-트리 메틸 부틸기, 1-에틸-2-메틸 프로필기, cyc1o-헥실기, n-헵틸기, 2-메틸 헥실기, 3-메틸 헥실기, 4-메틸 헥실기, 5-메틸 헥실기, 2,4-디메틸 펜틸기, n-옥틸기, 2-에틸헥실기, 2,5-디메틸 헥실기, 2,5,5-트리 메틸 펜틸기, 2,4-디메틸 헥실기, 2,2,4-트리 메틸 펜틸기, n-노닐기, 3,5,5-트리 메틸 헥실기, n-디실기, 4-에틸 옥틸기, 4-에틸-4,5-디메틸 헥실기, n-운데실기, n-도데실기, 1,3,5,7-테트라 메틸 옥틸기, 4-부틸 옥틸기, 6,6-디에틸 옥틸기, n-트리데실기, 6-메틸-4-부틸 옥틸기, n-테트라 데실기, n-펜타데실기, 3,5-디메틸 헵틸기, 2,6-디메틸 헵틸기, 2,4-디메틸 헵틸기, 2,2,5,5-테트라 메틸 헥실기, l-cyclo-펜틸-2,2-디메틸 프로필기, 1-cyclo-헥실-2,2-디메틸 프로필기 등의 탄소수 1∼20의 고리, 분기 또는 고리형상의 알킬기;
클로로 메틸기, 디클로로 메틸기, 플루오로 메틸기, 트리 플루오로 메틸기, 펜타플루오로 에틸기, 노나플루오로부틸기 등의 탄소수 1∼20의 할로게노알킬기;
메톡시기, 에톡시기, n-프로폭시기, iso-프로폭시기, n-부톡시기, iso-부톡시기, sec-부톡시기, t-부톡시기, n-펜톡시기, iso-펜톡시기, neo-펜톡시기, n-헥실 옥시기, n-도데실 옥시기 등의 탄소수 1∼20의 알콕시기;
메톡시 에톡시기, 에톡시 에톡시기, 3-메톡시 프로필 옥시기, 3-(iso-프로필 옥시) 프로필 옥시기 등의 탄소수 2∼20의 알콕시 알콕시기;
페녹시기, 2-메틸 페녹시기, 4-메틸 페녹시기, 4-t-부틸 페녹시기, 2-메톡시 페녹시기, 4-iso-프로필 페녹시기 등의 탄소수 6∼20의 아릴 옥시기;
메틸 아미노기, 에틸 아미노기, p-프로필 아미노기, n-부틸 아미노기, n-헥실 아미노기 등의 탄소수 1∼20의 모노 알킬 아미노기;
디메틸 아미노기, 디에틸 아미노기, 디-n-프로필 아미노기, 디-n-부틸 아미노기, N-메틸-N-시클로 헥실 아미노기 등의 탄소수 2∼20의 디알킬아미노기;
벤질기, 니트로 벤질기, 시아노벤질기, 히드록시 벤질기, 메틸 벤질기, 디메틸 벤질기, 트리 메틸 벤질기, 디클로로 벤질기, 메톡시 벤질기, 에톡시 벤질기, 트리 플루오로 메틸 벤질기, 나프틸메틸기, 니트로나프틸메틸기, 시아노나프틸메틸기, 히드록시나프틸메틸기, 메틸나프틸메틸기, 트리플루오로메틸나프틸메틸기 등의 탄소수 7∼20의 아랄킬기;
페닐기, 니트로 페닐기, 시아노페닐기, 히드록시 페닐기, 메틸 페닐기, 디메틸 페닐기, 트리 메틸 페닐기, 디클로로 페닐기, 메톡시 페닐기, 에톡시 페닐기, 트리 플루오로 메틸 페닐기, N,N-디메틸 아미노 페닐기, 나프틸기, 니트로 나프틸기, 시아노나프틸기, 히드록시 나프틸기, 메틸 나프틸기, 트리 플루오로 메틸 나프틸기 등의 탄소수 6∼20의 아릴기;
피롤릴기, 티에닐기, 푸라닐기, 옥사조일기, 이소옥사조일기, 옥사디아조일기, 이미다조일기, 벤조옥사조일기, 벤조티아조일기, 벤즈이미다조일기, 벤조프라닐기, 인돌릴기 등의 헤테로 아릴기;
메틸 티오기, 에틸 티오기, n-프로필 티오기, iso-프로필 티오기, n-부틸 티오기, iso-부틸 티오기, sec-부틸 티오기, t-부틸 티오기, n-펜틸 티오기, iso-펜틸 티오기, 2-메틸 부틸 티오기, 1-메틸 부틸 티오기, neo-펜틸 티오기, 1,2-디메틸 프로필 티오기, l,1-디메틸 프로필 티오기 등의 탄소수 1∼20의 알킬 티오기;
페닐 티오기, 4-메틸 페닐 티오기, 2-메톡시 페닐 티오기, 4-t-부틸 페닐 티오기 등의 탄소수 6∼20의 아릴 티오기 등을 들 수가 있다.
A1과 A2, A3과 A4, A5와 A6, A7과 A8이 연결기를 개재하여 고리를 형성한 예로서는, -CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH(NO2)CH2-, -CH2CH(CH3)CH2CH2-, -CH2CH(Cl)CH2CH2- 등을 들 수가 있다.
M으로 나타내는 2가 금속의 예로서는, Cu, Zn, Fe, Co, Ni, Ru, Rh, Pd, Pt, Mn, Sn, Mg, Hg, Cd, Ba, Ti, Be, Ca 등을 들 수 있다.
1 치환의 3가 금속의 예로서는, Al-F, A1-C1, Al-Br, Al-I, Ga-F, Ga-Cl, Ga-Br, Ga-I, In-F, InC1, In-Br, In-I, T1-F, T1-CI, Tl-Br, Tl-I, Al-C6H5, Al-C6H4(CH3), In-C6H5, In-C6H4(CH3), Mn(OH), Mn(OC6H5), Mn[OSi(CH3)3], Fe-Cl, Ru-Cl 등을 들 수 있다.
2치환의 4가 금속의 예로서는, CrCl2, SiF2, SiCl2, SiBr2, Sil2, SnF2, SnCl2, SnBr2, ZrCl2, GeF2, GeCl2, GeBr2, Gel2, TiF2, TiCl2, TiBr2, Si(OH)2, Sn(OH)2, Ge(OH)2, Zr(OH)2, Mn(OH)2, TiA2, CrA2, SiA2, SnA2, GeA2[단, A는 알킬기, 페닐기, 나프틸기 및 그 유도체를 나타낸다. Si(OA')2, Sn(OA')2, Ge(OA')2, Ti(OA')2, Cr (OA')2[단, A'는 알킬기, 페닐기, 나프틸기, 트리 알킬 실릴기, 디알킬알콕시실릴기 및 그 유도체를 나타냄], Si(SA")2, Sn(SA")2, Ge(SA")2[단, A"는 알킬기, 페닐기, 나프틸기 및 그 유도체를 나타냄] 등을 들 수 있다.
옥시 금속의 예로서는, VO, MnO, TiO 등을 들 수 있다.
바람직하게는, Pd, Cu, Ru, Pt, Ni, Co, Rh, Zn, VO, TiO, Si(Y)2, Ge(Y)2(단, Y는 할로겐 원자, 알콕시기, 아릴 옥시기, 아실 옥시기, 히드록시기, 알킬기, 아릴기, 알킬 티오기, 아릴 티오기, 트리 알킬 실릴 옥시기, 트리알킬주석옥시오기 또는 트리 알킬 게르마늄 옥시기를 나타냄)이다.
더 바람직하게는, Cu, VO, Ni, Pd, Pt, Co이다.
본 발명자들은, 식(1)의 아자포르피린 화합물이, 예를 들면, 테트라-t-부틸테트라아자포르피린 착체나 테트라-neo―펜틸테트라아자포르피린 착체이면, 제조가 비교적 용이한 것, 용매에의 용해성, 착체가 안정하는 것, 흡수 특성이 뛰어난 것, t-부틸기나 테트라-neo-펜틸기를 부여한 결과, 착체가 입체성을 가짐에 따라서 용매에의 용해성이 높게 되어, 색소를 함유시키기 쉽게 되는 것을 찾아내, 뛰어난 전자파 차폐체를 얻을 수 있었다.
본 발명의 디스플레이용 필터에 있어서는, 상기의 색소를 함유시키는 방법(1)∼(4)는, 색소를 함유하는 고분자 필름(B), 색소를 함유하는 후술하는 투명 점착층(C) 또는 제 2의 투명 점착층, 색소를 함유하는 후술의 기능성 투명층(A), 색소를 함유하는 상술하는 하드 코트층(F)의 어느 쪽이든 1개이상의 층에 있어서 실시할 수가 있다. 색소를 함유하는 후술하는 기능성 투명층(A)은, 색소를 함유하고 또한 각 기능을 가지는 막에서도, 색소를 함유하고 또한 각 기능을 가지는 막이 고분자 필름위에 형성된 것이라도, 각 기능을 가지는 막이 색소를 함유하는 기재에 형성된 것의 어느 것이라도 된다.
또한, 본 발명에서는, 다른 흡수 파장을 가지는 색소 2 종류 이상을 하나의 매체 또는 도막에 함유시켜도, 또 색소층을 2개 이상 가지고 있어도 좋다.
먼저, 수지에 색소를 반죽하고, 가열 성형하는(1) 방법에 대해 설명한다.
수지 재료로서는, 플라스틱판 또는 고분자 필름으로 했을 경우에 할 수 있는한 투명성이 높은 것이 바람직하고, 구체적으로는, 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리 에테르 설폰, 폴리스티렌, 폴리에틸렌 나프탈레이트, 폴리아릴레이트, 폴리 에테르 에테르 케톤, 폴리카보네이트, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 나일론 6 등의 폴리아미드, 폴리이미드, 트리아세틸셀룰로스 등의 셀룰로스계 수지, 폴리우레탄, 폴리 테트라 플루오로 에틸렌 등의 불소계 수지, 폴리염화비닐 등의 비닐 화합물, 폴리 아크릴산, 폴리 아크릴산 에스테르, 폴리 아크릴로니트릴, 비닐 화합물의 부가 중합체, 폴리 메타크릴산, 폴리 메타크릴산 에스테르, 폴리 염화 비닐리덴 등의 비닐리덴 화합물, 불화 비닐리덴/트리 플루오로 에틸렌 공중합체, 에틸렌/아세트산 비닐 공중합체 등의 비닐 화합물 또는 불소계 화합물의 공중합체, 폴리에틸렌 옥시드 등의 폴리 에테르, 에폭시 수지, 폴리비닐 알코올, 폴리비닐 부틸랄 등을 들 수가 있지만, 이들 수지로 한정되는 것은 아니다.
제작 방법으로서는, 이용하는 색소, 베이스 고분자에 의해, 가공 온도, 필름화 조건 등이 다소 다르지만, 통상, (i) 베이스 고분자의 분체 혹은 펠릿에 색소를 첨가하고, 150∼350℃에서 가열, 용해시킨 후, 성형해서 플라스틱판을 제작하는 방법, (ii) 압출기에 의해 필름화하는 방법, (iii) 압출기에, 원반을 제작하고, 30∼120℃에서 2∼5배로, 1축 내지는 2축으로 연신해서 10∼200㎛두께의 필름으로 하는 방법 등을 들 수 있다. 또한, 반죽할 때에 가소제 등의 통상의 수지 성형에 이용하는 첨가제를 더해도 괜찮다. 색소의 첨가량은, 색소의 흡수 계수, 제작하는 고분자 성형체의 두께, 목적의 흡수 강도, 목적의 투과 특성·투과율 등에 따라서 다르지만, 통상, 베이스 고분자 성형체의 중량에 대해서 1 ppm∼20%이다.
(2)의 캐스팅법에서는, 수지 또는 수지 모노머를 유기계 용매에 용해시킨 수지 농후액에, 색소를 첨가·용해시켜, 필요하면 가소제, 중합 개시제, 산화 방지제를 더해, 필요로 하는 면상태를 가지는 금형이나 드럼상에 흘려 넣어, 용제 휘발·건조 또는 중합·용제 휘발·건조시킴으로써, 플라스틱판, 고분자 필름을 얻는다.
통상, 지방족 에스테르계 수지, 아크릴계 수지, 멜라민 수지, 우레탄 수지, 방향족 에스테르계 수지, 폴리카보네이트 수지, 지방족 폴리올레핀 수지, 방향족 폴리올레핀 수지, 폴리비닐계 수지, 폴리비닐 알코올 수지, 폴리비닐계 변성 수지(PVB, EVA 등) 혹은 그러한 공중합 수지의 수지 모노머를 이용한다. 용매로서는, 할로겐계, 알코올계, 케톤계, 에스테르계, 지방족 탄화수소계, 방향족 탄화수소계, 에테르계 용매, 혹은 그러한 혼합물계 등을 이용한다.
색소의 농도는, 색소의 흡수 계수, 판 또는 필름의 두께, 목적의 흡수 강도, 목적의 투과 특성·투과율 등에 따라서 다르지만, 수지 모노머의 중량에 대해서, 통상, 1ppm∼20%이다.
또, 수지 농도는, 도료 전체에 대해서, 통상, 1∼90%이다.
도료화해서 코팅하는 (3)의 방법으로서는, 색소를 바인더 수지 및 유기계 용매에 용해시켜서 도료화하는 방법, 미착색의 아크릴 에멀젼 도료에 색소를 미분쇄(50∼500nm)한 것을 분산시켜서 아크릴 에멀젼계 수성 도료로 하는 방법 등이 있다.
전자의 방법에서는, 통상, 지방족 에스테르계 수지, 아크릴계 수지, 멜라민 수지, 우레탄 수지, 방향족 에스테르계 수지, 폴리카보네이트 수지, 지방족 폴리올레핀 수지, 방향족 폴리올레핀 수지, 폴리비닐계 수지, 폴리비닐 알코올 수지, 폴리비닐계 변성 수지(PVB, EVA 등) 혹은 그러한 공중합 수지를 바인더 수지로서 이용한다. 용매로서는, 할로겐계, 알코올계, 케톤계, 에스테르계, 지방족 탄화수소계, 방향족 탄화수소계, 에테르계 용매, 혹은 그러한 혼합물계 등을 이용한다.
색소의 농도는, 색소의 흡수 계수, 코팅의 두께, 목적의 흡수 강도, 목적의 가시광선 투과율 등에 따라서 다르지만, 바인더 수지의 중량에 대해서, 통상, O.1∼3O%이다.
또, 바인더 수지 농도는, 도료 전체에 대해서, 통상, 1∼50%이다. 후자의 아크릴 에멀젼계 수계 도료의 경우도, 상기과 마찬가지로, 미착색의 아크릴 에멀젼 도료에, 색소를 미분쇄(50∼500nm)한 것을 분산시켜서 얻을 수 있다. 도료중에는, 산화 방지제 등의 통상 도료에 이용하게 되는 첨가물을 첨가해도 좋다.
상기의 방법으로 제작한 도료는, 투명 고분자 필름, 투명 수지, 투명 유리 등의 위에 바코터, 블레이드 코터, 스핀 코터, 리버스 코터, 다이코터, 혹은 스프레이 등의 종래 공지의 코팅을 해서, 색소를 함유하는 기재를 제작한다.
코팅면을 보호하기 위해서 보호층을 마련하거나, 코팅면을 보호하도록 코팅면에, 전자파 차폐체의 다른 구성부재를 접합시켜도 된다.
색소를 함유하는 점착재로서 이용하는 방법(4)에서는, 아크릴계 접착제, 실리콘계 접착제, 우레탄계 접착제, 폴리비닐 부티랄 접착제(PVB), 에틸렌 아세트산 비닐계 접착제(EVA) 등 , 폴리비닐 에테르, 포화 무정형 폴리에스테르, 멜라민 수지 등의 시트형상 또는 액상의 점착재 또는 접착제에, 색소를 10ppm∼30% 첨가해서 이용한다.
또한, 이들의 방법에서는, 색소 함유의 전자파 차폐체의 내광성을 올리기 위해서 자외선 흡수제를 색소와 함께 함유시킬 수도 있다. 자외선 흡수제의 종류, 농도는 특별히 한정되지 않는다.
6. 투명 점착층, 도전성 점착층
본 발명에 있어서, 중합(라미네이트)은, 임의의 투명 점착층을 개재시킨다. 본 발명의 투명 점착층(C) 등은, 임의의 투명한 접착제 또는 점착제 또는 점착재 로 이루어진 층이다. 구체적으로는 아크릴계 접착제, 실리콘계 접착제, 우레탄계 접착제, 폴리비닐 부티랄 접착제(PVB), 에틸렌 아세트산 비닐계 접착제(EVA) 등, 폴리비닐에테르, 포화 무정형 폴리에스테르, 멜라민 수지 등을 들 수 있다. 이 때 중요한 것은, 디스플레이로부터의 광선투과부인 중심부분에 이용되는 점착재는 가시광선에 대해서 충분히 투명할 필요가 있다.
도전성 점착층은, 투명 도전층(D)과 표시장치의 접지부(그라운드 도체)를 전기적으로 접속시키기 위한 점착층으로서, 도전성이 필요하지만, 투명할 필요는 없다. 전자파 차폐체는, 투명 도전층(D)과 외부와의 전기적 접속이 필요하므로, 투명 점착층은 도전성 점착층에 의한 외부와의 전기적 접속을 현저하게 방해해서는 않된다. 즉, 투명 도전층(D) 위에 투명 점착층이 형성되어 있지 않은 도통부가 필요하다. 예를 들면, 투명 점착층은 투명 도전층(D)의 둘레가장자리 부분에 남기도록 형성하고, 도통부를 남기는 것이 중요하다.
도전성 점착층에 이용하는 도전성 접착제, 도전성 점착재는, 아크릴계 접착제, 실리콘계 접착제, 우레탄계 접착제, 폴리비닐 부티랄 접착제(PVB), 에틸렌 아세트산 비닐계 접착제(EVA) 등 , 폴리비닐 에테르, 포화 무정형 폴리에스테르, 멜라민 수지 등을 기재로 해서, 도전성 입자로서 카본이나 Cu, Ni, Ag, Fe 등의 금속 입자를 분산시킨 것이다. 분산 입자의 도전성이 낮고, 또한, 입자 지름이 미세하고 또한 입자수가 많아서 입자끼리의 접촉 면적이 넓으면, 도전성 접착제, 도전성 점착재의 체적 고유 저항이 낮아져 매우 적합하게 된다. 이용할 수가 있는 도전성 접착제, 도전성 점착재의 체적 고유 저항은 1×l0-4∼1×1O3Ω·cm이다. 실용상의 접착강도가 있으면 시트형상의 것이라도 액상의 것이라도 좋다.
점착재로서는 감압형 접착제로 시트형상의 것을 매우 적합하게 사용할 수 있다. 시트형상 점착재 접착후 또는 접착재 도포후에 중합을 행한다.
액상의 것은 도포, 접합 후에 실온 방치 또는 가열 또는 자외선 조사에 의해 경화하는 접착제이다. 도포 방법으로서는, 스크린 인쇄법, 바코트법, 리버스 코트법, 그라비야 코트법, 다이코트법, 롤 코트법 등을 들 수 있지만, 접착제의 종류, 점도, 도포량 등에서 고려, 선정된다. 층의 두께는, 특히 한정되는 것은 아니지만, 체적 고유 저항과 필요한 도전성을 감안해서 0.5㎛∼50㎛, 바람직하게는 1㎛∼30㎛이다. 또, 양면 다같이 도전성을 가지는 양면 접착 타입의 시판의 도전성 테이프도 매우 적합하게 사용할 수 있다. 이 두께도 또 특히 한정되는 것은 아니지만, 수㎛∼수mm정도이다.
점착재는, 실용상의 접착 강도가 있으면 시트형상의 것이나 액상의 것이라도 좋다. 점착재는, 감압형 접착제로 시트형상의 것을 매우 적합하게 사용할 수 있다. 시트형상 점착재 접착후 또는 접착재 도포후에, 각 부재를 라미네이트하는 것에 의해 중합을 실시한다.
액상의 것은, 도포, 접합 후에, 실온 방치 또는 가열에 의해 경화하는 접착제이다.
도포방법으로서는, 바 코트법, 리버스 코트법, 그라비야 코트법, 다이코트법, 롤 코트법 등을 들 수 있지만, 접착제의 종류, 점도, 도포량 등에서 고려, 선정된다.
층의 두께는, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 0.5㎛∼50㎛, 바람직하게는 1㎛∼30㎛이다. 투명 점착층이 형성되는 면, 중합되는 면은, 미리 역접착 코트 또는 코로나 방전 처리 등의 쉬운접착 처리에 의해 젖음 성질을 향상시켜 두는 것이 매우 적합하다.
또한, 투명 점착층을 개재하여 중합시킨 후는, 중합시에 부재 사이에 비집고 들어간 공기를 탈포, 또는, 점착재에 고용시켜, 또 부재간의 밀착력을 향상시키기 위해, 될 수 있으면 가압, 가온의 조건으로 양생을 실시하는 것이 중요하다. 이 때, 가압 조건으로서는 수 기압∼20기압 이하 정도, 가온 조건으로서는 각 부재의 내열성에 의존하나, 실온 이상 80℃이하 정도이지만, 이들에 특히 제한을 받지 않는다. 투명 점착층의 적어도 1개의 층에는 색소를 함유시킬 수가 있다.
7. 기능성 투명층(A)
본 발명의 디스플레이용 필터에는, 디스플레이에의 설치 방법이나 요구되는 기능에 따라서, 하드 코트성, 반사 방지성, 방현성, 정전기 방지성, 오염방지, 가스차단성, 자외선 차단성의 어느 쪽이든 하나 이상의 기능을 가지고, 또한, 가시광선을 투과하는 기능성 투명층(A)이 직접 또는 제 2의 투명 점착층을 개재하여, 투명 도전층(D)위에 형성된다. 하나의 기능성 투명층(A)이, 복수의 기능을 가지고 있는 것은 바람직한 것이다.
본 발명에 있어서의 기능성 투명층(A)은, 상기 각 기능을 하나 이상 가지는 기능막 그 자체에서도, 기능막을 도포 또는 인쇄 또는 종래 공지의 각종 성막법에 의해 형성한 투명한 기재에서도, 각 기능을 가지는 투명한 기재에서도 좋다.
기능막 그 자체의 경우는, 기능성 투명층(A)을 형성하는 투명 도전층(D)의 주면에 도포 또는 인쇄 또는 종래 공지의 각종 성막법에 의해 직접 형성한다.
기능막을 형성한 투명한 기재, 각 기능을 가지는 투명한 기재의 경우는, 점착재 또는 색소를 함유하는 점착재를 개재하여 투명 도전층(D)의 주면에 첨부해도 좋다. 이들의 제작 방법은 특별히 제한을 받지 않는다.
투명한 기재는, 투명한 고분자 필름이며, 그 종류, 두께도 특히 제한을 받지 않고, 투명한 기재에 색소를 함유시킬 수도 있다. 기능성 투명층(A)이 기능막 그 자체에서도, 막중에 색소를 함유시킬 수가 있다.
전자파 차폐체는, 투명 도전층(D)과 외부와의 전기적 접속이 필요하므로, 기능성 투명층(A)은 이 전기적접속을 방해해서는 않된다. 즉, 투명 도전층(D) 위에 기능성 투명층(A)이 형성되어 있지 않은 도통부가 필요하다. 예를 들면, 기능성 투명층(A)을 투명 도전층의 둘레가장자리에 남기도록 형성하고, 이 주변부를 도통부로 할 수 있다.
디스플레이는, 조명기구 등의 투영에 의해 표시 화면이 보기 힘들어져 버리므로, 기능성 투명층(A)은, 외광 반사를 억제하기 위한 반사방지성, 방현성 또는 그 양 특성을 갖춘 반사방지방현(ARAG)성의 어느 것이든 기능을 가지고 있는 것이 필요하다. 전자파 차폐체 표면의 가시광선 반사율이 낮으면 전술한 대로, 플라즈마 디스플레이의 형광체에의 외광 입사 및 반사가 저감하고, 투영 방지만이 아니고, 콘트라스트 및 색순도 향상으로 연결된다.
반사방지성(AR)을 가지는 기능성 투명층(A)은, 반사 방지막을 형성하는 기재의 광학 특성을 고려하여, 광학 설계에 의해 반사 방지막의 구성요소 및 각 구성요소의 막두께를 결정한다. 구체적으로는, 가시영역에 있어서 굴절률이 1.5이하, 매우 적합하게는 1.4이하로 낮은 불소계 투명 고분자 수지나 불화 마그네슘, 실리콘계 수지나 산화 규소의 박막 등을 예를 들면 1/4파장의 광학 막두께로 단층 형성한 것, 굴절률이 다른 금속 산화물, 불화물, 규화물, 붕화물, 탄화물, 질화물, 황화물 등의 무기 화합물 또는 실리콘계 수지나 아크릴 수지, 불소계 수지 등의 유기 화합물의 박막을 기재로부터 봐서 고굴절률층, 저굴절률층의 순서로 2층 이상 적층한 것이 있다.
단층 형성한 것은, 제조가 용이하지만, 반사 방지성이 2층 이상 적층한 것에 비해 뒤떨어진다. 4층 적층한 것은, 넓은 파장 영역에 걸쳐서 반사 방지능력을 가지고, 기재의 광학 특성에 의한 광학 설계의 제한이 적다.
이들 무기 화합물 박막의 성막에는, 스퍼터링, 이온 도금, 진공 증착, 습식 도공 등, 종래 공지의 방법의 어느 것이라도 채용할 수 있다. 유기 화합물 박막의 성막에는, 바코트법, 리버스 코트법, 그라비야 코트법, 다이코트법, 롤 코트법 등의 습식 도공 후에 건조·경화시키는 방법 등 종래 공지의 방법을 채용할 수 있다.
반사방지성을 가지는 기능성 투명층(A)의 표면의 가시광선 반사율은 2%이하, 바람직하게는 1.3%이하, 더욱 바람직하게는 0.8%이하이다.
방현(AG)성을 가지는 기능성 투명층(A)은, 0.1㎛∼10㎛정도의 미소한 요철의 표면상태를 가지는 가시광선에 대해서 투명층을 가리키고 있다. 구체적으로는, 아크릴계 수지, 실리콘계 수지, 멜라민계 수지, 우레탄계 수지, 알키드계 수지, 불소계 수지 등의 열경화형 또는 광경화형 수지에, 실리카, 유기 규소 화합물, 멜라민, 아크릴 등의 무기 화합물 또는 유기 화합물의 입자를 분산시키고 잉크화한 것을, 바코트법, 리버스 코트법, 그라비야 코트법, 다이코트법, 롤 코트법 등에 의해 기재 위에 도포, 경화시킨다. 입자의 평균 입경은, 1∼40㎛이다. 또는, 아크릴계 수지, 실리콘계 수지, 멜라민계 수지, 우레탄계 수지, 알키드계 수지, 불소계 수지 등의 열경화형 또는 광경화형 수지를 기재에 도포하고, 소망의 헤이즈(haze;濁度) 또는 표면상태를 가지는 형태를 압압 경화함으로써 방현성을 얻을 수 있다. 요점은 적당한 요철을 가지는 것이 중요하고, 반드시 상기 방법으로 한정되는 것은 아니다.
방현성의 헤이즈는 0.5%이상 20%이하이며, 바람직하게는 1%이상, 10%이하이다. 헤이즈가 너무 작으면 방현성이 불충분하고, 헤이즈가 너무 크면 평행광선 투과율이 낮아져, 디스플레이의 가시성이 나빠진다.
반사방지방현(ARAG)성을 가지는 기능성 투명층(A)은, 방현성을 가지는 막 또는 기재 위에 상술한 반사 방지막을 형성하는 것에 의해 얻을 수 있다. 이 때, 방현성을 가지는 막이 고굴절률의 막인 경우, 반사 방지막이 단층에서도 비교적 높은 반사 방지성을 부여할 수가 있다.
AR 또는 ARAG에 의한 반사 방지는 디스플레이용 필터의 광선투과율을 향상시킬 수가 있다.
본 발명의 디스플레이용 필터는, 투명 점착층(C)을 개재하여 디스플레이 표시부에 접착시키기 때문에, 표시부 표면의 기판 유리 반사가 없어진다. 따라서, 또 부가해서, AR 또는 ARAG의 기능을 가지는 기능성 투명층(A)을 형성한 필터는, 그 표면의 반사도 낮고, 디스플레이의 콘트라스트 및 색순도를 더욱 향상시킬 수가 있다. AR 또는 ARAG의 기능을 가지는 기능성 투명층(A)의 표면에 있어서의 가시광선 반사율은 2%이하, 바람직하게는 1.3%이하, 또 바람직하게는 0.8%이하이다.
디스플레이용 필터에 내찰상성을 부가시키기 위해서, 기능성 투명층(A)이 하드 코트성을 가지고 있는 일도 매우 적합하다. 하드 코트막으로서는 아크릴계 수지, 실리콘계 수지, 멜라민계 수지, 우레탄계 수지, 알키드계 수지, 불소계 수지 등의 열경화형 또는 광경화형 수지 등을 들 수 있지만, 그 종류도 형성 방법도 특별히 한정되지 않는다. 이들 막의 두께는, 1∼1OO㎛정도이다. 하드 코트막이 반사 방지성을 가지는 투명 기능층(A)의 고굴절률층 또는 저굴절률층에 이용되거나, 하드 코트막 위에 반사 방지막이 형성되어, 기능성 투명층(A)이 반사 방지성과 하드 코트성의 양쪽 모두를 보유해도 좋다. 마찬가지로 방현성과 하드 코트성의 양쪽 모두를 보유해도 좋다. 이 경우는 하드 코트막이 입자의 분산 등에 의해 요철을 가지면 좋고, 그 위에 반사 방지막이 형성되면 반사 방지방현성과 하드 코트성을 양쪽 모두 보유하는 기능성 투명층(A)을 얻을 수 있다. 하드 코트성을 보유하는 기능성 투명층(A)의 표면 경도는, JIS K-5400에 따른 연필 경도가 적어도 H, 바람직하게는 2H, 더욱 바람직하게는 3H이상이다.
또한, 디스플레이용 필터에는, 정전기 대전에 의해 먼지가 부착하기 쉽고, 또, 인체가 접촉했을 때에 방전해서 전기 쇼크를 받는 일이 있기 때문에, 대전 방지 처리가 필요하게 되는 경우가 있다. 따라서, 정전기 방지능력를 부여하기 위하여, 기능성 투명층(A)이 도전성을 가지고 있어도 좋다. 이 경우에 필요하게 되는 도전성은 면저항으로 1O11Ω/□정도 이하이면 좋지만, 디스플레이 화면의 투명성이나 해상도를 해쳐서는 않된다. 도전층으로서는 ITO와 같은 공지의 투명 도전막이나 ITO 초미립자나 산화 주석 초미립자를 위시하여 도전성 초미립자를 분산시킨 도전막을 들 수 있다.
또, 상술한 반사방지성, 방현성, 반사 방지방현성, 하드 코트성의 어느 것이든 1개 이상의 기능을 가진 기능성 투명층(A)을 구성하는 층이 도전성을 가지고 있으면 매우 적합하다.
또, 다층 박막에 은을 이용했을 경우, 은은 화학적, 물리적 안정성이 부족해 환경속의 오염물질, 수증기 등에 의해 열화하고, 응집, 백화 현상을 일으키기 때문에, 투명 도전성 적층체의 박막 형성면에는, 박막이 사용 환경속의 오염물질, 수증기가 노출되지 않게, 가스차단성을 가지는 기능성 투명층(A)으로 피복하는 것이 중요하다. 필요하게 되는 가스차단성은, 투습도로 1Og/m2·day이하이다. 가스차단성을 가지는 막의 구체적인 예로서는, 산화규소, 산화 알류미늄, 산화 주석, 산화 인듐, 산화 이트륨, 산화 마그네슘 등, 또는 이들의 혼합물, 또는 이들에 다른 원소를 미량으로 첨가한 금속 산화물 박막이나, 폴리염화 비닐리덴 외 아크릴계 수지, 실리콘계 수지, 멜라민계 수지, 우레탄계 수지, 불소계 수지 등을 들 수 있지만, 특히 이들로 한정되는 것은 아니다. 이들 막의 두께는, 금속 산화물 박막의 경우, 10∼200nm, 수지의 경우 1∼1OO㎛정도이며, 단층에서도 다층에서도 좋지만, 이것도 특별히 제한되는 것은 아니다. 또, 수증기 투습도가 낮은 고분자 필름으로서는, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 나일론, 폴리염화 비닐리덴이나, 염화 비닐리덴과 염화 비닐, 염화 비닐리덴과 아크릴로니트릴의 공중합물, 불소계 수지 등을 들 수 있지만, 투습도가 1Og/m2·day이하이면 특별히 한정되는 것은 아니다. 투습도가 비교적 높은 경우에서도, 필름의 두께가 증가하는 것이나 적당한 첨가물을 가함으로써, 투습도는 저하한다.
또, 상술한 반사 방지성, 방현성, 반사 방지방현성, 대전 방지성, 안티뉴톤 링성(anti-Newton ring property), 하드 코트성의 어느 쪽이든 1개 이상의 기능을 가진 기능성 투명층(A)을 구성하는 층이 가스차단성을 가지는 막이거나 전체 또는 인접하는 투명 점착층과 병용으로 상기의 가스차단성을 가지고 있으면, 매우 적합하다.
예를 들면, 색소를 함유하는 반사 방지성, 하드 코트성, 대전 방지성, 및, 가스차단성을 가지는 기능성 투명층(A)으로서는, 색소 함유의 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름/하드 코트막/ITO/규소함유화합물/ITO/규소함유화합물 등을 들 수 있다.
또, 반사 방지방현성, 하드 코트성, 대전 방지성, 및, 가스차단성을 보유하는 기능성 투명층(A)으로서는, 트리아세틸셀룰로스필름/IT0 미립자 분산 하드 코트막/규소함유화합물 등을 들 수 있다.
또한, 지문 등의 오염 방지나 오염되었을 때 간단하게 없앨 수가 있도록, 기능성 투명층(A) 표면이 오염방지성을 가지고 있으면 좋다. 오염방지성을 가지는 것으로서는, 물 및/또는 유지에 대해서 비습윤성(non-wetting property)을 가지는 것으로서, 예를 들면 불소화합물이나 규소화합물을 들 수 있다. 반사 방지성이나 대전 방지성 등의 다른 기능과 병합할 때에는, 그 다른 기능을 방해하는 것이어서는 안 된다. 이 경우, 반사 방지막의 구성 재료에 저굴절률인 불소 화합물을 사용하거나, 1∼몇분자의 불소계 유기 분자를 최외표면에 코트함으로써, 반사 방지성이나 대전 방지성을 유지하면서 오염방지성을 부여할 수가 있다.
예를 들면, 오염방지성, 반사 방지성, 하드 코트성, 대전 방지성 및 가스차단성을 보유하는 기능성 투명층(A)으로서는, 하드 코트막/ITO/규소함유 화합물/ITO/규소함유 화합물/불소계 유기 분자의 단분자 코트막 등을 들 수 있다.
또, 전자파 차폐체가 함유하는 색소가, 디스플레이로부터 방사되거나, 또는, 외광이 포함한 자외선에 의해 열화하는 것을 막기 위해서, 기능성 투명층(A)이, 자외선 차단성을 가지고 있으면 좋다. 예를 들면, 자외선을 흡수하는 무기 박막 단층 또는 다층으로 이루어진 반사 방지막, 또는, 자외선 흡수제를 함유하는 기능성 투명막을 형성하는 기재, 하드 코트막을 가지고 있는 기능성 투명층(A)이다. 자외선 흡수제의 종류, 농도는 특별히 한정되지 않는다.
또, 투명 점착층중의 적어도 1개의 층이 자외선 흡수제를 함유하고 있어도 좋다.
자외선을 차단하는 부재는, 자외선이 입사하는 면과 색소를 함유하는 층의 사이에 배치되는 것이 중요하고, 자외선 차단성은, 색소의 내구성에 따라서 특별히 한정되지 않는다.
8. 두께
「접착·점착의 사전(일본국 아사쿠라 서점)」에 의하면, 지지체의 두께와 점착력의 관계에 대해서, 「일반적으로는, 지지체의 두께가 커지면 굽힘 에너지가 커지므로 점착력은 커지지만, 어느 점에서 굽힘 모멘트 등의 영향에 의해 점착력은 저하해간다」라는 기재가 있다. 본 발명자들은, 투명 고분자 필름의 전체 두께를 0.3mm이상으로 함으로써, 광학 필터 필름의 유리면으로부터의 박리를 용이하게 실시할 수가 있는 것을 찾아냈다. 광학 필터 필름의 강성은 주로 투명 고분자 필름의 총두께에 의해 지배되기 때문에, 본 발명에 있어서의 효과는, 상기 굽힘 모멘트의 효과에 의하는 것으로 추측된다. 또, 광학 필터 필름의 강성이 가해짐으로써, 평균한 힘에 의한 연속적인 박리가 가능해져, 박리 중단점을 기점으로 하는 유리판에의 접착흔적이 생기는 것이 적어진다.
나아가서는, 투명 고분자 필름의 총두께를 크게 함으로써 내충격성도 향상한다. 투명 고분자 필름의 총합계가 클수록, 그 내충격성은 향상하지만, 필름의 적층 매수가 많아지면 생산효율이 낮아진다. 그 강성이 대폭 증가함으로써 디스플레이에의 직접 중합이 곤란하게 된다. 따라서, 투명 고분자 필름의 총두께에 대해서는 특별히 지정되어 있지 않지만, 0.3∼1.0mm가 바람직하고, 더 바람직하게는, 0.4mm∼0.8mm이다. 또, 투명 고분자 필름의 적층 매수에 대해서도 특별히 지정되어 있지 않지만, 2∼6매가 바람직하고, 더욱 바람직하게는 2매∼4매이다.
도 12∼도 17은, 본 발명에 관한 디스플레이용 필터의 구성예를 표시한 단면도이다.
도 12에 있어서, 투명 점착층(30), 근적외 차폐 기능을 보유하는 투명 고분자 필름(B)(23)(150㎛), 투명 점착층(30), 반사 방지 기능을 표시한 기능성 투명층(A)을 보유하는 투명 고분자 필름(B)(24)(188㎛)이 차례차례 적층되어, 디스플레이용 필터를 구성한다.
도 13에 있어서, 투명 점착층(30), 부피증가용 투명 고분자 필름(B)(25)(200㎛), 투명 점착층(30), 근적외 차폐 기능을 보유하는 투명 고분자 필름(B)(23)(75㎛), 투명 점착층(30), 반사방지 기능을 표시한 기능성 투명층(A)을 보유하는 투명 고분자 필름(B)(24)(80㎛)이 차례차례 적층되어, 디스플레이용 필터를 구성한다.
도 14에 있어서, 투명 점착층(30), 근적외 차폐 기능을 가지는 투명 고분자 필름(B)(23)(75㎛), 투명 점착층(30), 부피 증가용 투명 고분자 필름(B)(25)(200㎛), 투명 점착층(30), 반사 방지 기능을 표시한 기능성 투명층(A)을 가지는 투명 고분자 필름(B)(24)(80㎛)이 차례차례 적층되어, 디스플레이용 필터를 구성한다.
도 15에 있어서, 투명 점착층(30), 부피증가용 투명 고분자 필름(B)(25)(200㎛), 투명 점착층(30), 반사 방지 기능을 표시한 기능성 투명층(A) 및 적외선 차폐 기능을 가지는 투명 고분자 필름(B)(26)(150㎛)이 차례차례 적층되어서, 디스플레이용 필터를 구성한다
도 16에 있어서, 투명 점착층(30), 부피증가용 투명 고분자 필름(B)(25)(200㎛), 투명 점착층(30), 전자파 차폐 기능을 표시한 투명 도전층(D)을 가지는 투명 고분자 필름(B)(23)(75㎛), 투명 점착층(30), 방현성 기능을 표시한 기능성 투명층(A)을 가지는 투명 고분자 필름(B)(24)(150㎛)이 차례차례 적층되고, 투명 고분자 필름(23) 위에 전극(50)이 형성되어 디스플레이용 필터를 구성한다.
도 17에 있어서, 투명 점착층(30), 부피증가용 투명 고분자 필름(B)(25)(200㎛), 투명 점착층(30), 반사 방지 기능을 표시한 기능성 투명층(A) 및 전자파 차폐 기능을 표시한 투명 도전층(D)을 가지는 투명 고분자 필름(B)(26)(188㎛)이 차례차례 적층되고, 투명 고분자 필름(25)과 (26) 위에 전극(50)이 형성되어 디스플레이용 필터를 구성한다.
도 18은, 도 16에 나타낸 전자파 차폐 기능을 표시한 투명 고분자 필름(B)(23)의 구성을 표시한 단면도이다. 고분자 필름(B)(20) 위에, 전자파 차폐 기능을 표시한 투명 도전층(D)(10)이 형성되고, 투명 도전층(D)(10)은, 고굴절률 투명 박막층(Dt)(11)과 은 또는 은합금으로 이루어진 금속 박막층(Dm')(12)이 Dt/Dm/Dt/Dm/Dt의 순서로 적층되어 구성된다. 필터의 이면에는 투명 점착층(30)이 형성되어 디스플레이 화면에 접착 가능하게 된다.
도 l9는, 도 17에 나타낸 전자파 차폐 기능을 표시한 투명 고분자 필름(B)(26)의 구성을 표시한 단면도이다. 고분자 필름(B)(20)상에, 전자파 차폐기능을 표시한 투명 도전층(D)(10)이 형성되고, 투명 도전층(D)(10)은, 고굴절률 투명 박막층(Dt)(11)과 은 또는 은합금으로 이루어진 금속박막층(Dm)(12)이 D t/Dm/Dt/Dm/Dt/Dm/Dt의 순서로 적층되어 구성된다. 고분자 필름(B)(20)의 반대면에는 기능성 투명층(A)으로서 반사 방지막(6l)이 형성된다. 필터의 이면에는 투명 점착층(30)이 형성되어 디스플레이 화면에 접착 가능하게 된다.
도 20은, 도 16 또는 도 17에 나타낸 디스플레이용 필터의 평면도이다. 필터의 평면 형상은 직사각형이고, 디스플레이로 표시된 화상은 필터 중앙부를 투과해서 관찰된다. 필터의 긴변 및 짧은 변을 포함한 주변부에는 투명 도전층과 전기 접속된 전극(50)이 형성되고, 전극(50)은 디스플레이의 그라운드 단자에 접속된다.
9. 전극
전자파 차폐를 요하는 기기에는, 기기의 케이스 내부에 금속층을 마련하거나, 케이스에 도전성 재료를 사용해서 전파를 차단한다. 디스플레이 화면과 같이 투명성이 필요한 경우에는, 투명 도전층을 형성한 창모양의 전자파 차폐체를 설치한다. 전자파는 도전층에 있어서 흡수된 후 전하를 유지하기 위하여, 접지를 취하는 것에 의해 전하를 놓치지 않으면, 다시 전자파 차폐체가 안테나가 되어 전자파를 발진해 전자파 차폐기능이 저하한다. 따라서, 전자파 차폐체와 디스플레이 본체의 접지부가 전기적으로 접속하고 있을 필요가 있다. 그 때문에, 도 3에 표시한 것처럼 투명 도전층(D) 위에 투명 점착층(C) 및 기능성 투명층(A)이 형성되고 있는 경우는, 투명 점착층(C) 및 기능성 투명층(A)은, 도통부를 남기도록 투명 도전층(D) 위에 형성되는 것이 바람직하다.
도통부의 형상은 특히 한정하지 않지만, 전자파 차폐체와 디스플레이 본체의 사이에, 전자파를 누설하는 간극이 존재하지 않는 것이 중요하다.
본 발명에 있어서의 전극이란, 전자파 차폐체에 있어서의 외부와의 전기적 도통부를 말한다. 이것은, 투명 도전층의 노출부라도 좋고, 노출부의 상부에, 그 보호과 양호한 전기적 접촉을 목적으로 해서, 도전성의 금속 페이스트를 인쇄하거나 도전성 테이프, 도전성 점착재 등의 도전성 재료를 중합시켜도 괜찮다. 또, 기능성 투명층 위에 투명 도전층과 전기접속을 취할 수 있는 형태로 형성해도 좋다. 이상과 같이, 전극의 형상이나 재료는 특히 한정하지 않지만, 투명 도전층의 노출부를 도전성 재료로 가리도록 전극을 형성하는 것이 매우 적합하다.
단, 본 발명에 있어서의 전극은, 투명 도전층을 포함한 본 발명의 필름의 단면부에 도전성 재료를 접촉시켜서 얻어도 괜찮다. 단면부, 즉, 투명 도전층을 포함한 필름의 단면부는, 적어도 투명 도전성층과 그것을 보호하기 위한 필름이 형상을 이루고 있는 것이 관찰할 수 있지만, 적당한 도전성 재료가 투명 도전층과 단면부에 있어서 접촉하고 있으면 소망하는 전극을 얻을 수 있다.
이 경우에 투명 도전층 위에 형성되는 투명 점착층의 끝부분이 투명 도전층의 끝부분 보다도 안쪽에 비집고 들어가고 있으면, 도전 페이스트 등을 이용해 전극을 형성하는 경우에 그 간극 부분에 도전 페이스트가 비집고 들어가, 투명 도전층과 전극의 접촉 면적이 증가하므로 바람직하다.
도 21∼도 25는, 본 발명에 관한 디스플레이용 필터의 구성예를 표시한 단면도이다.
도 21에 있어서, 투명 점착층(30), 투명 고분자 필름(B)(23), 투명 도전층(D)(10), 기능성 투명층(A)인 방현성 필름(71)이 차례차례 적층되고, 투명 도전층(D)(10) 위에 전극(50)이 형성되어 디스플레이용 필터를 구성한다.
도 22에 있어서, 바깥 공기 쪽으로부터 디스플레이 쪽을 향해서, 기능성 투명층(A)인 방현성 필름(71), 투명 고분자 필름(B)(23), 투명 도전층(D)(10)이 차례차례 적층되고, 투명 도전층(D)(10)의 주변에 전극(50)이 형성된다. 투명 도전층(D)(10)의 이면에서, 전극(50)을 제외한 중앙부에는 투명 점착층(30)이 형성되어 디스플레이 화면에 접착 가능하게 된다.
도 23에 있어서, 투명 점착층(30), 투명 고분자 필름(B)(23), 투명 도전층(D)(10), 기능성 투명층(A)인 방현성 필름(71)이 차례차례 적층되고, 적층체의 옆 끝면에 전극(50)이 형성되어 디스플레이용 필터를 구성한다.
도 24에 있어서, 투명 점착층(30), 투명 도전층(D)(10), 투명 고분자 필름(B)(23), 기능성 투명층(A)인 방현성 필름(71)이 차례차례 적층되고, 투명 점착층(30)과 투명 도전층(D)(10)과의 사이에 구리 테이프 등의 도전 테이프(51)가 필터 주변부에 개재해서, 투명 도전층(D)(10)의 전기접속을 확보하고 있다.
도 25에 있어서, 투명 점착층(30), 투명 도전층(D)(10), 투명 고분자 필름(B)(23), 기능성 투명층(A)인 방현성 필름(71)이 차례차례 적층되고, 필터의 두께방향으로 관통하는 관통구멍 전극(52)이 형성되고, 투명 도전층(D)(10)의 전기 접속을 확보하고 있다.
도 26은, 도 21∼도 25에 도시하는 디스플레이용 필터의 평면도이다. 필터의 평면 형상은 직사각형이고, 디스플레이로 표시된 화상은 필터 중앙부를 투과해서 관찰된다. 필터의 2개의 긴 변에는 투명 도전층과 전기 접속된 전극(50), 도전 테이프(51) 또는 관통구멍 전극(52)이 형성되고, 이들의 전극은 디스플레이의 그라운드 단자에 접속된다. 또한, 도 21∼도 25에 나타낸 디스플레이용 필터의 전극은, 물론 도 20의 평면도에 나타낸 것처럼, 필터의 전체둘레에 배치되어 있어도 괜찮다.
도 24에 나타낸 것처럼 투명 도전층과 그 위에 중합시키는 투명 점착층과의 간에 구리 테이프와 같은 도전 테이프를 끼워 넣고, 그 도전 테이프의 일부분을 전자파 차폐체 외부로 인출함으로써 전극을 형성해도 좋다. 이 경우, 외부에 인출된 도전성 테이프가 실질적으로 전극이 된다.
도 25에 나타낸 것처럼 투명 도전층으로부터 전자파 차폐체 최표면에 통하게 되는 간극을 마련해, 전극을 형성해도 좋다. 표면에서부터 보이는 틈새의 형상에는 특히 지정되어 있지 않고, 원형이라도 좋고, 각형이라도 좋다. 또 선형상으로 형성되고 있어도 상관없다. 표면에서부터 보이는 개개의 간극의 크기에도 특히 지정되어 있지 않다. 다만, 너무 크면 가시 부분에 걸려 버리므로 바람직하지 않다. 간극의 형성위치는, 가시 부분을 회피하는 위치이면 특별히 지정되어 있지 않다. 필연적으로 끝부분으로부터 가까운 위치로 된다. 형성되는 간극의 수에도 특히 제한은 없지만, 전체둘레에 걸쳐서 가능한 한 많이 형성되고 있는 편이 전류의 인출 효율이 상승하므로 바람직하다. 간극은 투명도전층과 전자파 차폐체의 최표면과의 사이에 형성되고 있으면 좋지만, 형성하는 전극과의 접촉 면적을 늘리는 관점에서, 투명 도전층을 관통하고 있는 것이 바람직하다.
긴극을 덮는 부재에 관해서도 특별히 지정되어 있지 않다. 금속부재로 덮어도 좋고, 도전성 페이스트로 덮어도 좋다. 이 경우, 간극을 덮는 부재가 실질적으로 전극이 된다.
도통부는 투명 도전층(D)의 둘레가장자리에, 또한 연속적으로 형성되고 있는 것이 매우 적합하다. 즉, 디스플레이의 표시부인 중심부분을 제외하고, 윤곽모양으로, 도통부가 형성되고 있는 것이 바람직하다.
단, 전체둘레에에 도통부가 형성되어 있지 않아도 일정한 전자파 차단 능력은 있으므로, 장치로부터의 전자파 발생량과 허용 전자파 누설량을 종합적으로 고려함으로써, 사용 가능한 경우도 많다.
예를 들면, 직사각형이 마주 보는 변에만 도전재료를 부여해 전극을 형성하는 설계로 하면, 롤 투 롤 방식으로 전극을 형성하거나 롤상태인 채 전극을 형성하거나 할 수가 있기 때문에, 매우 생산 효율 좋게 광학 필터를 제작할 수가 있다. 또, 이 수법은 앞서 표시한, 전극으로서 도전성 테이프를 이용하는 경우에 있어서 도 이용할 수가 있다.
직사각형이 마주 보는 2변 이외의 부분에 부가해서 또 다른 부분에 전극이 형성되어 있거나, 마주 보는 2변에 있어서의 일부분에 전극이 형성되어 있지 않은 부분이 존재해도 특히 문제는 없다.
도통부를 가리는 전극은, 내환경성 및 내찰상성이 뒤떨어지는 투명 도전층(D)의 보호도 된다. 전극에 이용하는 재료는, 도전성, 내접촉성 및 투명 도전막과의 밀착성 등의 점에서, 은, 금, 구리, 백금, 니켈, 알루미늄, 크롬, 철, 아연, 카본 등의 단체 또는 2종 이상으로 이루어진 합금이나, 합성 수지와 이들 단체 또는 합금의 혼합물, 또 붕규산 유리와 이들 단체 또는 합금의 혼합물로 이루어진 페이스트를 사용할 수 있다. 전극 형성에는 도금법, 진공 증착법, 스퍼터링법 등, 페이스트라고 하는 것은 인쇄, 도공하는 방법 등 종래 공지의 방법을 채용할 수 있다.
이용하는 도전성 재료는 전기를 통할 수 있는 것이면 특히 지정되어 있지 않다.
통상은, 은페이스트(silver paste) 등의 도전성의 재료를 페이스트상태로 한 것이 이용된다.
전극의 형성 방법으로서는, 페이스트상 형상의 것이면 단면부에 도포해 건조시키거나 해서 실시한다. 롤상태의 필름의 측면에 도전성 재료를 도포해도 되고, 롤 투 롤로 반복하면서 측면에 도포해도 상관없다. 또, 테이프형상의 도전성 재료도 이용할 수가 있다.
또, 투명 지지기재에 투명 도전성 박막층이 형성된 투명 고분자 필름을 중 합한 후에, 단면부에 도포할 수도 있다.
도포 방법으로서는, 효율 및 정밀도의 관점에서, 스크린 인쇄법이 이용되는 경우가 많다.
또, 간극을 금속부재로 매우고 전극을 형성하는 경우는, 전자파 차폐체 자체에는 미리 가공을 하지 않아도 상관없다. 나사구멍을 형성한 금속성의 접지를 미리 표시장치의 외주 부분에 준비해 두고, 금속성의 접지 부분을 포함해, 표시장치의 표시부분에 전자파 차폐체를 붙인 후에 전자파 차폐체를 관통하도록 해서 금속성 접지의 나사구멍에 도전성의 나사를 매립해도 좋다. 이 경우 도전성의 나사가 실질적으로 전극의 역할을 완수한다. 이 수법을 이용하면 전자파 차폐체를 롤 투 롤 방식으로 생산성 높게 제작할 수 있고, 전자파 차폐체의 전체둘레 부분에 걸쳐서 전극을 형성하는 일도 용이하다.
10. 전자파 차폐
전자파 차폐체와 표시장치의 사이에서의 전자파의 누설을 최소한으로 하기 위해서는, 전자파 차폐체의 도전층과 표시장치의 사이의 절연 공간을 가능한 한 줄이는 것이 필요하다. 공기나 그 외 절연물이 간극에 개재하고 있으면 거기에서 전자파가 외부에 빠져 나오므로 바람직하지 않다.
종래와 같이 지지 기재에 투명 도전성 필름을 중합시켜서 전자파 차폐체를 제작하는 경우는, 투명 도전층과 표시장치 사이에 주로 절연물인 지지 기재가 존재하게 되어, 투명 도전층과 표시장치의 사이를 전체 둘레에 걸쳐서 도전성을 유지하도록 접촉시키지 않으면, 충분한 전자파 차단효과를 얻을 수 없었다. 이 때문에, 전자파 차폐체의 제조공정에 있어서는, 낱장으로 투명 지지 기재에 붙이는 공정 및 낱장으로 전체외주 부분에 전극을 형성한다는 작업이 필요했었다.
본 발명에 있어서, 필름상태의 전자파 차폐체를 표시장치에 직접 부착하는 경우는, 도전층과 표시장치과의 거리가 매우 가깝기 때문에, 절연 공간을 종래의 수법과 비교해 큰 폭으로 좁게 할 수가 있기 때문에, 전극을 전체 둘레부분에 걸쳐서 형성하지 않고도 충분한 전자파 차단 효과를 얻을 수 있으므로 바람직하다. 이것은 전자파 차폐체의 투명 도전층이 표시장치 쪽에 형성되어 있는 경우에 현저하다. 즉 직사각형의 2개의 긴 변에만 전극을 형성함으로써 충분한 전자파 차단 효과를 얻을 수 있다. 그 경우, 제조 수법으로서 매우 생산성이 높은 수법인 롤 투 롤법을 이용할 수가 있으므로 적합하다.
11. 표시장치 및 그 제조 방법
본 발명의 표시장치는, 장치의 표시부에 접착된, 전자파 차폐체 및/또는 조광필름으로서 기능하는 디스플레이용 필터를 구비한다. 전자파 차폐체는, 표시장치를 전기적으로 접촉한다.
본 발명에 관한 표시장치의 제조 방법은, 주로 이하의(1)∼(10)의 방법을 들 수 있지만, 이것으로 한정되는 것은 아니다.
방법(1): 기능성 투명층(A) 및 도통부(및 전극) /투명 도전층(D) /고분자 필름(B) (및 하드 코트층(F)) /투명 점착층(C), 또는, 기능성 투명층(A) 및 도통부(및 전극) /투명 점착층(C) /투명 도전층(D) /고분자 필름(B) (및 하드 코트층(F)) /투명 점착층(C)인 본 발명의 전자파 차폐체를 표시장치의 표시부에 투명 점착층(C)을 중합면으로 해서, 중합시킨다.
중합 후, 본 발명의 전자파 차폐체의 도통부 또는 도통부 위에 형성된 전극과 표시장치 본체의 도통부 즉 접지부를, 도전성 테이프 또는 도전성 접착제 또는 도전성 도료 또는 도전성의 성형부품에 의해 전기적으로 접속한다.
방법(2): 표시장치의 표시부에, 투명 도전층(D) /고분자 필름(B) (및 하드 코트층(F)) /투명 점착층(C)의 순서로 구성되는 적층체를, 투명 점착층(C)을 접합면으로 해서, 중합시킨 후, 투명 도전층(D) 위에 도통부를 남겨 두고 기능성 투명층(A)을 직접 또는 투명 점착층(C)을 개재하여 형성하고, 또한, 적층체의 도통부과 표시장치 본체의 도통부 즉 접지부를, 도전성 테이프 또는 도전성 접착제 또는 도전성 도료 또는 도전성의 성형부품에 의해 전기적으로 접속한다.
방법(3): 표시장치의 표시부에 투명 점착층(C)을 도공 또는 중합하고, 기능성 투명층(A) 및 도통부(및 전극) /투명 도전층(D) /고분자 필름(B) (및 하드 코트층(F))의 순서로 구성되는 적층체를, 고분자 필름(B)을 중합면으로 해서, 중합시킨 후, 적층체의 도통부과 표시장치 본체의 도통부 즉 접지부를, 도전성 테이프 또는 도전성 접착제 또는 도전성 도료 또는 도전성의 성형부품에 의해 전기적으로 접속한다.
방법(4): 표시장치의 표시부에 투명 점착층(C)을 도공 또는 중합하고, 투명 도전층(D) /고분자 필름(B) (및 하드 코트층(F))의 순서로 구성되는 투명 적층체를 고분자 필름(B)을 중합면으로 해서, 중합시킨 후, 투명 도전층(D) 위에 도통부를 남겨두고 기능성 투명층(A)을 직접 또는 제 2의 투명 점착층을 개재하여 형성하고, 또한, 적층체의 도통부와 표시장치 본체의 도통부, 즉 접지부를, 도전성 테이프 또는 도전성 접착제 또는 도전성 도료 또는 도전성의 성형부품에 의해 전기적으로 접속한다.
방법(5): 기능성 투명층(A) /고분자 필름(B) /투명 도전층(D) /투명 점착층(C) 및 도전성 점착층으로 이루어진 전자파 차폐체를, 표시장치의 적어도 표시부에 투명 점착층(C)을 중합면으로 하고, 또한, 표시장치의 적어도 접지부에 도전성 점착층을 중합면으로 해서 중합한다.
방법(6): 표시장치의 적어도 표시부, 또는, 적어도 투명 도전층(D) /고분자 필름(B) /기능성 투명층(A)의 순서로 구성되는 적층체의 투명 도전층(D) 위의 투광부에 투명 점착층(C)을 형성하고, 또, 표시장치의 적어도 접지부, 또는, 상기 적층체의 투명 도전층(D) 위에 도전성 점착층을 형성한 후, 상기 적층체와 표시장치를 중합시킨다.
방법(7): 기능성 투명층(A) /고분자 필름(B) /투명 도전층(D) /투명 점착층(C) 및 도전성 점착층으로 이루어지고, 끝부분에 있어서 투명 도전층(D)과 고분자 필름(B)의 사이에 구리 테이프 등의 도전성 테이프의 일부분이 끼워넣어져 있는 전자파 차폐체를, 표시장치의 적어도 표시부에 투명 점착층(C)을 중합면으로하고, 또한, 표시장치의 적어도 접지부에 도전성 테이프의 외부 노출 부분을 중합시킨다.
방법(8): 표시장치의 적어도 표시부, 또는, 적어도 투명 도전층(D) /고분자 필름(B) /기능성 투명층(A)의 순서로 구성되고, 끝부분에 있어서 투명 도전층(D)과 고분자 필름(B)의 사이에 구리 테이프 등의 도전성 테이프의 일부분이 끼워넣어져 있는 적층체의 투명 도전층(D) 위의 투광부에 투명 점착층(C)을 형성하고, 또, 표시장치의 적어도 접지부, 또는, 상기 적층체의 투명 도전층(D) 위에 도전성 점착층을 형성한 후, 상기 적층체와 표시장치를 중합시킨다.
본 발명의 전자파 차폐체는, 투과 특성, 투과율, 가시광선 반사율이 우수하기 때문에, 플라즈마 디스플레이에 형성함으로써, 플라즈마 디스플레이의 휘도가 현저하게 손상되지 않고, 그 색순도 및 콘트라스트를 향상시킬 수가 있다. 또, 건강에 유해한 플라즈마 디스플레이로부터 나오는 전자파를 차단하는 전자파 차폐기능이 뛰어나고, 또한, 플라즈마 디스플레이로부터 나오는 800∼1100nm 부근의 근적외선을 효율적으로 차단하기 때문에, 주변 전자기기의 리모콘, 전송계 광통신 등이 사용하는 파장에 악영향을 주지 않고, 그러한 오동작을 막을 수가 있다. 또, 내후성·내환경성이 뛰어나 반사 방지성 및/또는 방현성, 내찰상성, 오염방지성, 대전 방지성 등을 겸비하고 있어, 저비용으로 제공할 수 있다. 본 발명의 전자파 차폐체를 구비하게 함으로써, 뛰어난 특성을 가지는 플라즈마 디스플레이를 제공할 수 있다.
본 발명의 전자파 차폐체는, 광학 특성, 전자파 차폐능력, 근적외선 차단능력이 뛰어나므로, 플라즈마 디스플레이 이외의 전자파 및/또는 근적외선을 발생하는 FED(Field Emission Display), CRT(Cathode Ray Tube) 등의 각종 디스플레이에 매우 적합하게 사용할 수 있다.
조광필름을 구비한 표시장치의 제조 방법에 관해서는, 주로 이하의 2개의 방법을 들 수 있지만, 이것으로 한정되는 것은 아니다.
방법(9): 적어도 기능성 투명층(A) /고분자 필름(B) /투명 점착층(C)인 본 발명의 조광필름을 표시장치의 적어도 표시부에 투명점 착층(C)을 중합면으로 해서 중합시킨다.
방법(10): 표시장치의 적어도 표시부에 투명 점착층(C)을 형성하고, 적어도 투명 도전층(D) /고분자 필름(B)의 순서로 구성되는 적층체의 고분자 필름(B) 면을 접합면으로 해서, 표시장치와 중합시킨다.
본 발명의 조광필름은, 투과 특성, 투과율, 반사 특성이 우수하기 때문에, 컬러플라즈마디스플레이 등의 디스플레이의 표시부에 직접 형성함으로써, 디스플레이의 휘도를 현저하게 손상시키는 일 없이, 그 색순도 및 콘트라스트를 향상시킬 수가 있다. 또, 내찰상성, 오염방지성, 정전기 방지성 등을 겸비하고 있어. 저비용으로 제공할 수 있다.
또, 본 발명의 조광필름을 직접 디스플레이 표면에 형성하여 구비하게 함으로써, 뛰어난 특성을 가지는 표시장치를 제공할 수 있다.
다음에, 본 발명을 실시예에 의해 구체적으로 설명한다. 본 발명은 이들에 의해 하등 제한되는 것은 아니다.
실시예중의 투명 도전층(D)을 구성하는 박막은, 기재의 한 쪽의 주면에 마그네트론 DC스퍼터링법에 의해 성막했다. 박막의 두께는, 성막조건으로부터 구한 값이며, 실제로 측정한 막두께는 아니다.
고굴절률 투명 박막층(Dt)은 ITO 박막으로 형성되고, 타겟으로 산화 인듐·산화 주석 소결체(조성비In2O3:SnO2=9O:1Owt%) 또는 산화 주석 소결체를, 스퍼터 가스에 아르곤·산소 혼합 가스(전체압력 266mPa : 산소분압 5mPa)를 이용해 성막했다.
금속 박막층(Dm)은 은박막 또는 은-팔라듐 합금박막으로 형성되고, 타켓으로 은 또는 은-파라듐 합금(팔라듐 1Owt%)을, 스퍼터 가스에 아르곤 가스(전압 266mPa)를 이용해서 성막했다.
또한, 투명 도전층의 면저항은, 4탐침방법(4 probe method)(프로브 간격 1mm)에 의해 측정했다. 또, 표면의 가시광선 반사율(Rvis)은, 먼저 측정 대상물의 작은 변을 잘라, 투명 점착층을 제거해서 고분자 필름(B) 쪽 표면을 샌드페이퍼로 거칠게 한 후, 매팅블랙페인트(matting black paint)의 스프레이로 면의 반사를 없애고, 반사적분구(광선입사각도 6˚)를 이용한 (주)히타치 제작소제 분광 광도계(U-3400)에 의해 가시 영역의 전체광선반사율을 측정하고, 여기서 구한 반사율로부터 JIS R 3106에 따라 계산했다.
(실시예 1)
2축연신 폴리에틸렌 테레프탈레이트(이하 PET) 필름(두께: 188㎛)을 고분자 필름(A)으로 해서, 그 한 쪽의 주면에, PET필름으로부터 순서대로, ITO박막(막두께: 40nm), 은박막(막두께: 11nm), ITO박막(막두께: 95nm), 은박막(막두께: 14nm), ITO박막(막두께: 90nm), 은박막(막두께: 12nm), ITO박막(막두께: 40nm)의 합계 7층의 투명 도전층(B)을 형성하고, 면저항 2.2Ω/□의 투명 도전층(B)을 가지는 투명 적층체 1을 제작했다.
PET필름/투명 도전층의 단면을, 본 발명에 있어서의 고분자 필름(B) /투명 도전층(D)의 일례를 표시한 단면도로서, 도 1에 나타냈다. 도 1에 있어서, 부호 (10)은 투명 도전층(D), 부호 (l1)은 고굴절률 투명 박막층(Dt), 부호 (12)는 금속 박막층(Dm), 부호 (20)은 고분자 필름(B)이다.
아세트산 에틸/톨루엔(50:50wt%) 용제에 유기색소를 분산·용해시켜, 아크릴계 점착제의 희석액으로 했다. 아크릴계 점착제/색소들이 희석액(80:20wt%)을 혼합하고, 콤마 코터에 의해 투명 적층체 1의 고분자 필름(B) 쪽의 면에 건조 막두께 25㎛로 도공한 뒤, 건조, 점착면에 이형필름을 라미네이트해서, 이형필름과 투명 적층체의 고분자 필름(B)에 끼워 넓은 투명 점착층(C)(점착재 1)을 형성했다. 또한, 점착재 1의 굴절률은 1.51, 소광계수는 0이었다.
유기 색소로서는, 플라즈마 디스플레이가 방사하는 불요 발광을 흡수시키기 위한 파장 595nm에 흡수 극대를 가지는 미쯔이 화학(주) 제 색소 PD-3l9 및 백색 발광의 색도를 보정하기 위한 미쯔이 화학(주) 제 적색 색소 PS-Red-G를 이용해서, 각각 건조한 점착재 1안에 1150(wt)ppm, 1050(wt)ppm으로 함유되도록 아크릴계 점착제/색소들이 희석액을 조정했다. 또한, PD-319는 하기 식(3)으로 표시되는 테트라-t―부틸테트라아자 포르피린/바나딜 착체이다.
Figure 112005022400973-pct00042
트리아세틸셀룰로스(TAC) 필름(두께: 80㎛)의 한 쪽의 주면에, 다작용성 메타크릴레이트 수지에 광중합 개시제를 가하고, 또 ITO 미립자(평균 입경: 1Onm)를 분산시킨 코트액을 그라비야 코터로 도공하고, 자외선 경화에 의해 도전성 하드 코트막(막두께: 3㎛)을 형성하고, 그 위에 불소함유 유기 화합물 용액을 마이크로 그라비야 코터로 도공·90℃건조·열경화시켜, 굴절률 1.4의 반사 방지막(막두께: 100nm)을 형성하고, 하드 코트성(JIS K 5400에 따른 연필 경도: 2H), 가스차단성(ASTM-E96 준거, 1.8g/m2·day), 반사 방지성(표면의 Rvis: 1.0%), 대전 방지성(표면 저항: 7×109Ω/□로), 오염방지성을 가지는 기능성 투명층으로서 반사 방지 필름 1을 얻었다. 반사 방지 필름 1의 다른쪽의 주면에, 점착재 1과 같은 소재로 색소를 넣지 않는 점착제/희석액을 도공·건조시켜, 두께 25㎛의 투명 점착층(점착재 2)을 형성하고, 또 이형필름을 라미네이트했다.
롤형상의 투명 적층체 1/점착재 1/이형필름을 970mm×570mm 의 크기로 재단하고, 유리제 지지판에 투명 도전층(D) 면을 위에 고정했다. 또한, 라미네이터를 이용해, 투명 도전층(D)의 둘레가장자리부분 20mm가 노출이 되도록 도통부를 남겨, 안쪽에만 반사 방지 필름을 라미네이트했다. 투명 도전층(D)면에서 본 평면도를, 본 발명의 전자파 차폐체의 일례를 표시한 평면도로서, 도 2에 나타냈다. 도 2에 있어서, 부호 (02)는 전자파 차폐체의 투광부, 부호 (03)은 전자파 차폐체의 도통부이다.
또한, 투명 도전층(D)의 노출의 도통부를 가리도록 둘레가장자리부분의 폭 22mm의 범위에, 은페이스트(미쯔이 화학(주) 제 MSP-600F)를 스크린 인쇄하고, 건조시켜 두께 15㎛의 전극을 형성했다. 지지판으로부터 격리된, 투명 점착층(C) 면에 이형필름을 가지는 본 발명의 전자파 차폐체를 제작했다.
또한, 상기 전자파 차폐체의 이형필름을 박리해서, 플라즈마 디스플레이 패널 전면(표시부 920mm×520mm)에 낱장식 라미네이터를 이용해 중합후, 60˚, 2×105Pa의 가압 가온 조건하에서 오토클레이브 처리했다. 전자파 차폐체의 전극부와 상기 플라즈마 디스플레이 패널의 접지부를, (주) 테라오카 제작소제·도전성구리박점착 테이프(510FR)를 이용해 접속하고, 본 발명의 전자파 차폐체를 구비한 표시장치를 얻었다. 상기 전자파 차폐체의 단면을, 본 발명의 전자파 차폐체와 그 장착상태의 일례를 표시한 단면도로서, 도 3에 나타냈다. 도 3에 있어서, 부호 (00)은 디스플레이 표시부, 부호 (10)은 투명 도전층(D), 부호 (20)은 고분자 필름(B), 부호 (31)은 색소를 함유하는 투명 점착층(C), 부호 (40)은 투명 점착층(E), 부호 (50)은 전극, 부호 (60)은 반사 방지성, 하드 코트성, 가스차단성, 정전기 방지성, 오염방지성을 가지는 기능성 투명층(A), 부호 (61)은 오염방지성을 가지는 반사 방지막, 부호 (62)는 대전 방지성을 가지는 하드 코트막, 부호 (63)은 하드 코트막(62) 및 반사 방지막(61)이 형성되는 투명한 기재, 부호 (80)은 도전성 구리박점착 테이프이다.
(실시예 2)
폴리에틸렌 테레프탈레이트 펠릿 1203(유니치카(주) 제)에 백색 발광의 색도를 보정하기 위한 미쯔이 화학(주) 제 적색 색소 PS-Red-G를 0.01wt%, 마찬가지로 보라색 색소 PS-Violet-RC를 0.015wt% 혼합하고, 260∼280℃에서 용해시켜, 압출기에 의해 두께 200㎛의 필름을 제작했다. 그 후, 이 필름을 2축연신해서, 두께 100㎛의 색소를 함유한 색소들이 PET 필름〔고분자 필름(B)〕을 제작했다.
상기 PET 필름의 한 쪽의 주면에 알콕시실란을 빙초산으로 가수분해한 것에 실리콘계 표면 평활제를 가한 코트액을, 그라비야 코터로 도공·120℃의 열경화에 의해 하드 코트막(막두께: 10㎛, 연필 경도: 3H)을 형성하고, 하드 코트층(F)을 형성한 색소 함유의 PET 필름을 얻었다. 상기 하드 코트층 위에, 순서대로 SnO2 박막(막두께: 40nm), 은박막(막두께: 9nm), SnO2 박막(막두께: 80nm), 은-팔라듐 합금 박막(막두께: 1lnm), SnO2 박막(막두께: 40nm)의 합계 5층의 면저항 5.3Ω/□의 투명 도전층(D)을 형성하고, 색소를 함유하는 PET 필름/하드 코트층(F)/투명 도전층(D)인 투명 적층체 2를 제작했다.
투명 적층체 2의 PET 필름면에 점착재 1과 같은 소재로 색소를 넣지 않는 점착제/희석액을 도공·건조시켜, 두께 25㎛의 투명 점착층(C)(점착재 3)을 형성하고, 또 이형필름을 라미네이트했다.
롤형상의 투명 적층체 2/점착재 3/이형필름을 970mm×570mm 의 크기로 재단 하고, 유리제 지지판에 투명 도전층(D) 면을 위로 해서 고정했다.
다작용성 메타크릴레이트 수지에 광중합 개시제를 첨가하고, 또 유기 실리카 미립자(평균 입경: 15㎛)를 분산시킨 도공액을 조제했다.
투명 도전층(D)의 둘레가장자리부분 20mm가 노출이 되도록 도통부를 남겨 안쪽에만 후렉소 인쇄한 후, 자외선 경화하고, 방현성(헤이즈미터 측정의 헤이즈 값: 5%), 하드 코트성(연필 경도: 2H)을 보유하는 기능성 투명층(A)으로서, 안티글레어층을 형성했다. 지지판으로부터 떼어, 투명 점착층(C) 면에 이형필름을 가지는 본 발명의 전자파 차폐체를 제작했다.
또한, 상기 전자파 차폐체의 이형필름을 박리해서, 플라즈마 디스플레이 패널 전면(표시부 920mm×520mm)에 낱장식 라미네이터를 이용해 중합한 후, 60℃, 2×105Pa의 가압 가온 조건하에서 오토클레이브 처리했다. 전자파 차폐체의 도통부와 상기 플라즈마 디스플레이 패널의 접지부를, (주) 테라오카 제작소제·도전성 구리박점착 테이프(510FR)를 이용해 접속하고, 본 발명의 전자파 차폐체를 구비한 표시장치를 얻었다.
상기 전자파 차폐체의 단면을, 본 발명의 전자파 차폐체와 그 장착상태의 일례를 표시한 단면도로서, 도 4에 나타냈다. 도 4에 있어서, 부호 (00)은 디스플레이 표시부, 부호 (10)은 투명 도전층(D), 부호 (21)은 색소를 함유하는 고분자 필름(B), 부호 (22)는 하드 코트층(F), 부호 (30)은 투명 점착층(C), 부호 (70)은 안티글레어(방현성, 하드 코트성을 가지는 기능성 투명층(E)), 부호 (80)은 도전성구리박점착 테이프이다.
(실시예 3)
실시예 1과 마찬가지로 고분자 필름(B)/투명 도전층(D) 적층체를 제작했다. 또한 롤형상으로 감긴 상기 PET 필름/투명 도전층의 PET 필름의 반대쪽 주면에, 기능성 투명층(A)으로서 다음의 기능성 투명막 1을 롤·투·롤로 연속적으로 형성했다. 즉, 다작용성 메타크릴레이트 수지에 광중합 개시제를 가하고 또 ITO 미립자(평균 입경: 10nm)를 분산시킨 코트액을 그라비야 코터로 도공하고, 자외선 경화에 의해 도전성 하드 코트막(막두께: 3㎛)을 형성하고, 그 위에 불소 함유 유기 화합물 용액을 마이크로 그라비야 코터로 도공·90℃건조·열경화시켜, 굴절률 1.4의 반사 방지막(막두께: 100nm)을 형성하고, 하드 코트성(JIS K 5400 준거의 연필 경도: 2H), 반사 방지성(표면의 Rvis: 0.9%), 대전 방지성(표면 저항: 7×1O9Ω/□), 오염방지성을 가지는 기능성 투명층(A)을 형성했다. 상기의 롤형상의 기능성 투명층(A) /고분자 필름(B) /투명 도전층(D)을 970mm×570mm로 크기로 재단하고, 유리제 지지판에 투명 도전층(B)면을 위로 해서 고정했다. 아세트산 에틸/톨루엔(50:50wt%) 용제에 유기 색소를 분산·용해시켜, 아크릴계 점착제의 희석액으로 했다. 아크릴계 점착제/색소들이 희석액(80:20wt%)을 혼합하고, 배치식 다이코터에 의해 투명 도전층(D) 위에, 둘레가장자리부분 22mm를 제외하고, 건조 막두께 25㎛에 도공한 뒤, 건조시켜, 투명 점착층(C)로서 점착재 1을 형성했다. 또한, 점착재 1의 굴절률은 1.51, 소광계수는 0이었다.
유기 색소는 플라즈마 디스플레이가 방사하는 불요 발광을 흡수시키기 위한 파장 595nm에 흡수 극대를 가지는 미쯔이 화학(주) 제 색소 PD-319 및 백색발광의 색도를 보정하기 위한 미쯔이 화학(주) 제 적색 색소 PS-Re d-G가, 각각 건조한 점착재 1 중에서 1150(wt)ppm, l050(wt)ppm 함유하도록 아크릴계 점착제/색소들이 희석액을 조정했다. PD-319는 식(3)으로 표시되는 테트라-t부틸테트라아자포르피린/바나딜 착체이다.
Figure 112005022400973-pct00043
또한, 투명 도전층(D)의 노출의 도통부를 가리도록, 둘레가장자리부분의 폭 22mm의 범위에, 2액성 상온 경화형 접착제((주) 스리본드 제 3381)를 메탈 마스크를 이용해 인쇄하여, 건조시켜 두께 25㎛의 도전성 점착층을 형성했다.
지지체로부터 떼어, 투명 점착층(C) 및 도전성 점착층면에 이형필름을 라미네이트해서, 한 쪽에 이형필름을 가지는 본 발명의 전자파 차폐체를 제작했다.
또한, 상기 전자파 차폐체의 이형필름을 박리해서, 플라즈마 디스플레이 패널 전면(표시부 920mm×520mm)에 낱장식 라미네이터를 이용해 중합시켰다. 이 때, 적어도 표시부에 투명 점착층(C)부가, 적어도 접지부에 도전성 점착층을 중합되도록 위치 맞춤을 행했다. 중합후, 60℃, 2×1O5Pa의 가압 가온 조건하에서 오토클레이브 처리하고, 본 발명의 전자파 차폐체를 구비한 표시장치를 얻었다.
상기 전자파 차폐체의 투명 점착층 쪽에서 본 평면을, 본 발명의 전자파 차폐체와의 일례를 표시한 평면도로서, 도 5에 나타냈다. 도 5에 있어서, 부호 (31)은 색소를 함유하는 투명 점착층(C), 부호 (41)은 도전성 점착층이다.
상기 전자파 차폐체의 단면을, 본 발명의 전자파 차폐체와 그 장착상태의 일례를 표시한 단면도로서, 도 6에 나타냈다. 도 6에 있어서, 부호 (00)은 디스플레이 표시부, 부호 (10)은 투명 도전층(D), 부호 (20)은 고분자 필름(B), 부호 (31)은 색소를 함유하는 투명 점착층(C), 부호 (41)은 도전성 점착층, 부호 (60)은 반사 방지성, 하드 코트성, 정전기 방지성, 오염방지성을 가지는 기능성 투명층(A), 부호 (61)은 오염방지성을 가지는 반사 방지막, 부호 (62)는 대전 방지성을 가지는 하드 코트막이다.
(실시예 4)
실시예 3과 마찬가지로 고분자 필름(B)을 제작했다.
폴리에틸렌 테레프탈레이트 펠릿 1203 (유니치카(주) 제)에 백색 발광의 색도를 보정하기 위한 미쯔이 화학(주) 제 적색 색소 PS-Red-G를 0.01wt%, 마찬가지로 보라색 색소 PS-Violet-RC를 0.015wt% 혼합하고, 260∼280℃에서 용해시켜, 압출기에 의해 두께 200㎛의 필름을 제작했다. 그 후, 이 필름을 2축연신해서, 두께 100㎛의 색소를 함유한 고분자 필름(B)인 색소들이 PET 필름을 제작했다.
상기 PET필름의 한 쪽의 주면에, 순서로 SnO2박막(막두께: 40nm), 은박막(막두께: 9nm), SnO2 박막(막두께: 80nm), 은-팔라듐 합금 박막(막두께: 1lnm), SnO2 박막(막두께: 40nm)의 합계 5층의 면저항 5.3Ω/□의 투명 도전층(D)을 형성하고, 색소를 함유하는 PET 필름/투명 도전층(D)인 투명 적층체 2를 롤 투 롤로 제작했다.
또 롤형상으로 감긴 상기 PET 필름/투명 도전층의 PET 필름의 반대쪽 주면에, 기능성 투명층(A)으로서 다음의 기능성 투명막 2를 롤 투 롤로 연속적으로 형성했다. 다작용성 메타크릴레이트 수지에 광중합 개시제를 첨가하고, 또 유기 실리카 미립자(평균 입경: 15㎛)를 분산시킨 도공액을 조제하여, 도공 후, 자외선 경화시켜, 방현성(헤이즈미터측정의 헤이즈값: 5%), 하드 코트성(연필 경도: 2H)을 보유하는 기능성 투명층(A)으로서, 안티글레어층을 형성했다.
상기의 롤형상의 기능성 투명층(A) /고분자 필름(B) /투명 도전층( D)을 970mm×570mm의 크기로 재단하고, 유리제 지지판에 투명 도전층(D) 면을 위로 해서 고정했다.
실시예 1의 점착재 1과 같은 소재로 색소를 넣지 않는 점착재 2를 이형필름 위에 25㎛두께로 형성했다. 점착재 2/이형필름을, 투명 도전층위 또한 둘레가장자리부분 20mm 남긴 안쪽에, 점착재 2면을 접착면으로 해서 프레임 접합 라미네이터를 이용해 라미네이트했다. 또한, 투명 도전층(D)의 노출의 도통부를 가리도록, 둘레가장자리의 폭 20mm의 범위에, 도전성 양면 점착 테이프(테라오카 제작소제 WMFT791)를, 한쪽면의 이형필름을 박리해서 붙였다.
지지체로부터 떼어, 한쪽면에 이형필름을 가지는 본 발명의 전자파 차폐체를 제작했다. 또한, 상기 전자파 차폐체의 이형필름을 박리해서, 플라즈마 디스플레이 패널 전면(표시부 920mm×520mm)에 낱장 공급식 라미네이터를 이용해 중합시켰다. 이 때, 적어도 표시부에 투명 점착층(C)부가, 적어도 접지부에 도전성 점착층을 중합하도록, 위치 맞춤을 행했다. 접합 후, 60℃, 2×105Pa의 가압 가온 조건하에서 오토클레이브처리하고, 본 발명의 전자파 차폐체를 구비한 표시장치를 얻었다.
상기 전자파 차폐체의 단면을, 본 발명의 전자파 차폐체와 그 장착상태의 일례를 표시한 단면도로서, 도 7에 나타냈다. 도 7에 있어서, 부호 (00)은 디스플레이 표시부, 부호 (10)은 투명 도전층(D), 부호 (21)은 색소 함유의 고분자 필름(B), 부호 (30)은 투명 점착층(C), 부호 (41)은 도전성 점착층, 부호 (70)은 안티글레어층(방현성, 하드 코트성을 가지는 기능성 투명층(E))이다.
(비교예 1)
PET 필름(두께: l88㎛)을 고분자 필름(B)으로서, 그 한 쪽의 주면에, ITO 박막(막두께: 400nm)으로 이루어진 면저항 15Ω/□의 투명 도전층을 형성하여, 투명 적층체 3을 제작했다. 투명 적층체 3을 이용해, 색소를 사용하지 않은 것 외에는, 실시예 1과 마찬가지로, 전자파 차폐체를 제작하고, 그것을 구비한 표시장치를 얻었다.
이상과 같이 해서 얻어진 실시예 1∼4의 본 발명의 전자파 차폐체를 가지는 표시장치인 플라즈마 디스플레이에 대해, 이하의 평가를 했다
1) 전자파 차폐체의 투과율
미놀타(주) 제 컬러분석기(CA100)를 이용해, 전자파 차폐체를 형성하기 전후에서의 플라즈마 디스플레이의 분광 방사 휘도를 구하고, 형성 후의 휘도의, 형성전의 휘도에 대한 비를 백분율로 표시했다.
2) 플라즈마 디스플레이의 밝은 부위 콘트라스트비(최고 최저 휘도비)
전자파 차폐체를 형성하기 전후로 평가했다. 주위 밝기 100lx의 밝은 때에 있어서, 플라즈마 디스플레이 패널의 백색 표시시의 최고 휘도(cd/m2)와 흑색 표시시의 최저 휘도(cd/m2)를, 미놀타(주) 제의 휘도계(LS-110)를 이용해 측정하고, 그 비율(최고 휘도/최저 휘도)을 구했다.
3) 플라즈마 디스플레이의 발광색의 색순도
전자파 차폐체를 형성하기 전후로 평가했다. 플라즈마 디스플레이에 디스플레이용 필터를 장착하지 않는 경우와, 실시예 1 및 2의 디스플레이용 필터를 장착했을 경우에 대해 측정했다.
백색(W) 표시, 적색(R) 표시, 녹색(G) 표시, 청색(B) 표시에 있어서, 미놀타(주) 제 CRT 컬러분석기(CAl00)를 이용해, RGB색도(x, y) 및 백색의 색도, 색온도, 색체 궤적으로부터의 백색 편차를 측정했다.
PDP 발광의 3원색이 NTSC 방식에서 정한 RGB색의 색재현 범위에 근접될수록 바람직하다. 또, PDP 발광의 3원색을 x-y색도도위에서 묶은 3각형의 면적의, NTSC의 색재현 범위의 면적에 대한 비의 백분율이 100%에 접근하면, 색재현 범위가 넓게 되는 것을 표시한다.
4) 전자파 차폐능력
전자파 차폐체를 형성하고 있지 않은 플라즈마 디스플레이와 실시예 1~ 4 및 비교예 1의 전자파 차폐체를 마련한 플라즈마 디스플레이에 있어서, 이하의 측정을 실시했다.
다이 폴 안테나를 표시부 중심 위치로부터 면의 수세 방향 1Om의 위치에 설치해, 어드반테스트사(Advantest Corporation)의 스펙트럼 분석기(TP4172)로 30~230MHz대역에 있어서의 방사 전계 강도를 측정했다. VCCI의 3m법에 있어서는, 이 영역에서의 허용치는, Class A에서로 50dBμV/m이하, Class B에서 40dBμV/m이하이다. 평가는 33MHz, 90MHz에서 하였다.
5) 전자파 차폐체의 근적외선 투과율
실시예 1∼4 및 비교예 1의 전자파 차폐체를 평가했다.
전자파 차폐체의 투광부를 작은 조각으로 잘라, (주) 히타치 제작소 분광 광도계(U-3400)에 의해, 800~l000nm의 평행광선투과율을 측정하고, 820nm, 850nm, 950nm에 있어서의 투과율을 평가했다.
6) 근적외선 차단 능력
전자파 차폐체를 형성하고 있지 않은 플라즈마 디스플레이와 실시예 1, 2 및 비교예 1의 전자파 차폐체를 마련한 플라즈마 디스플레이에 있어서, 이하의 측정을 실시했다.
적외선 리모트 콘트롤러를 사용하는 전자기기로서 가정용 VTR을 0.2~5m 디스플레이로부터 떼어 놓아, 그 오동작을 확인했다.
오동작이 있는 경우는, 그 한계거리를 요구했다. 실용적으로는, 적어도 3m이하, 매우 적합하게는 1.5m이하이다.
실시예 1의 본 발명의 전자파 차폐체는, 플라즈마 디스플레이 발광의 투과율이 가시광선 투과율로 50%이며, 불요 발광이 있는 파장 595nm에 흡수 극대를 가지는 색소에 의해, 필요한 발광이 있는 파장 610nm의 투과율에 대한, 595nm의 투과율의 백분율은 38%였다. 또, 이것을 구비한 플라즈마 디스플레이는, 반사 방지성을 가지는 기능성 투명층(A)이 형성되어 있는 전자파 차폐체를 이용한 것에 의해, 디스플레이 표면의 반사가 억제된 것 및 전자파 차폐체의 투과 특성에 의해, 주위 조도 100lx의 조건하에 있어서의 밝은 부분 콘트라스트비가, 전자파 차폐체가 형성되기 전이 20이었는 데 대해서 45로 향상했다. 또, 투영이 적기 때문에, 가시성이 좋은 플라즈마 디스플레이를 얻을 수 있었다.
실시예 2의 본 발명의 전자파 차폐체는 플라즈마 디스플레이 발광의 투과율이 가시광선 투과율로 58%이며, 투영도 적기 때문에, 가시성이 좋은 플라즈마 디스플레이를 얻을 수 있었다. 밝은 부분 콘트라스트비는 20에서 37로 개선되었다.
실시예 3의 본 발명의 전자파 차폐체는 플라즈마 디스플레이 발광의 투과율이 가시광선 투과율로 58%이며, 투영도 적기 때문에, 가시성이 좋은 플라즈마 디스플레이를 얻을 수 있었다. 밝은 부분 콘트라스트비는 20에서 37로 개선되었다.
실시예 4의 본 발명의 전자파 차폐체는, 플라즈마 디스플레이 발광의 투과율이 가시광선 투과율로 59%이며, 투영도 적기 때문에, 가시성이 좋은 플라즈마디스플레이를 얻을 수 있었다. 밝은 부분 콘트라스트 비는 20에서 37로 개선되었다.
도 8에 전자파 차폐 체형성전후의 색재현 범위를 표시한 x-y색도도를 나타냈다. 도 8은 PDP (플라즈마 디스플레이 패널)에 실시예 1의 전자파 차폐체를 형성하기 전후의 백색(W), 적색(R), 녹색(G), 청색(B) 발광의 색도를 x-y색도도에 표시한 것이다. 또한 목표가 되는 NTSC의 색도 도 맞추어 표시했다.
백색은, 매우 적합한 백색색도의 궤적인 흑색체 궤적과 비교한 위치에서 평가할 수 있다. 본 발명의 전자파 차폐체를 이용하면, 백색의 색도 편차가 적은 것, 또, 실시예 1의 전자파 차폐체를 형성하는 전보다, 색온도가 높은 위치에 있는 것을 알 수 있다. 색온도는 대략 7000K로부터 대략 10000K로 상승했다.
또, RGB의 점을 묶은 삼각형을 도중에 나타냈다. NTSC에 근접될수록 바람직하다고 말할 수 있다. 실시예 1의 전자파 차폐체를 이용함으로써, 적색, 녹색의 색도가 NTSC의 표시한 색도에 접근하여, 색재현 범위를 표시한 삼각형이 커지고 있는 것을 알 수 있다. 삼각형의 면적의, NTSC가 표시한 삼각형의 면적에 대한 백분율을 요구했는 데, 실시예 1의 전자파 차폐체를 형성하기 전이 74%인 것에 대해, 형성하는 것에 의해 85%로 개선할 수 있었다.
또, 상기의 평가 4)∼6)의 결과를 표 1에 정리해 표시했다.
전자파 차폐체 없음 실시예 1 실시예 2 실시예 3 실시예 4 비교예 1
투명도전층의 면저항Ω/□ - 2.2 5.3 2.2 5.3 15
방사전졔장강도 dBμ/m 33MHz 59 38 46 39 46 52
90MHz 52 34 42 33 40 49
근적외선 투과율% 820nm - 9.8 24 10 25 79
850nm - 6.3 19 6.5 18 78
950nm - 2.1 9 2.0 8.5 70
오동작 한계 거리 m 5이상 0.5 3.0 0.5 3.0 5이상
표 1에서, 본 발명의 전자파 차폐체를 이용함으로써, VCCI 규격의 Class B 또는 Class A를 클리어할 수 있는 것을 알 수 있다. 투명 동전송(動電送)의 면저항이 낮을 수록 전자파 차폐능력이 뛰어났다.
또, 본 발명의 전자파 차폐체를 이용함으로써, 근적외선 차단능력이 뛰어난 것을 알 수 있다. 금속 박막과 항굴절률 투명 박막을 높게 적층한 투명 도전층을 이용한 본 발명의 전자파 차폐체는, 근적외선의 투과율이 낮아서, 근적외선 차단능력이 뛰어나고, 그 투명 도전층의 면저항이 낮을 수록 근적외선 차단능력이 뛰어났다. 거듭하여, 본 발명의 전자파 차폐체는, 기능성 투명층(D)에 각 기능을 갖게함으로써, 내환경성 및/또는 내찰상성 및/또는 오염방지성 및/또는 정전기 방지성이 뛰어났다.
(실시예 5)
트리아세틸셀룰로스(TAC) 필름(두께: 80㎛)을 고분자 필름(B)으로서 이용해, 그 한 쪽의 주면에, 기능성 투명층(A)으로서 다음의 기능성 투명막 1을 롤·투·롤로 연속적으로 형성했다. 즉, 다작용성 메타크릴레이트 수지에 광중합 개시제를 가하고, 또한 ITO 미립자(평균 입경: 10nm)를 분산시킨 코트액을 그라비야 코터로 도공하고, 자외선 경화에 의해서 도전성 하드 코트막(막두께: 3㎛)을 형성하고, 그 위에 불소 함유유기 화합물 용액을 마이크로 그라비야 코터로 도공·90℃ 건조·열경화시켜, 굴절률 1.4의 반사 방지막(막두께: 100nm)을 형성하고, 하드 코트성(JIS K5400 준거의 연필 경도: 2H), 반사 방지성(표면의 Rvis: 0.9%), 대전 방지성(표면 저항: 7×lO9Ω/□), 오염방지성을 가지는 기능성 투명막 1을 형성했다.
아세트산 에틸/톨루엔(50:50wt%) 용제에 유기색소를 분산·용해시켜, 아크릴계 점착제의 희석액으로 했다. 아크릴계 점착제/색소들이 희석액(80:20wt%)을 혼합하고, 기능성 투명막 1/TAC 필름의 TAC 필름 면위에, 배치(batch)타입의 다이코터에 의해 건조 막두께 25㎛에 도공 후, 건조시켜, 투명 점착층(C)으로서 점착재 1을 형성했다. 투명 점착층면에 이형필름을 라미네이트해서 롤형상으로 감아 꺼내, 투명 점착층면에 이형필름을 가지는 롤형상의 본 발명의 조광필름을 얻었다.
유기 색소로서는, 플라즈마 디스플레이가 방사하는 불요 발광을 흡수시키기 위한 파장 595nm에 흡수 극대를 가지는 미쯔이 화학(주) 제 색소 PD-319, 및 백색 발광의 색도를 보정하기 위한 미쯔이 화학(주) 제 적색 색소 PS-Red-G 를 이용해, 각각 건조한 점착재 1 중에서 1650(wt)ppm, 450(wt)ppm 함유하도록, 아크릴계 점착제/색소들이 희석액을 조정했다. PD-319는 식(3)의 테트라-t-부틸테트라아자포르피린/바나딜 착체이다.
Figure 112005022400973-pct00044
또한, 상기 조광필름을 시트형상으로 재단하고, 이형필름을 박리해서, 플라즈마 디스플레이 패널 전면(표시부 920mm×520mm)에 낱장식 라미네이터를 이용해서 접합시켰다. 이 때, 적어도 표시부 전체에 투명 점착층(C)부를 접합하도록 시트 재단, 점착 위치 맞춤을 행했다. 접합한 후, 60 ℃, 2×105Pa의 가압 가온 조건하에서 오토클레이브 처리하고, 본 발명의 조광필름을 구비한 표시장치를 얻었다.
상기 조광필름의 단면을, 본 발명의 조광필름과 그 장착상태의 일례를 표시한 단면도로서, 도 9에 나타냈다. 도 9에 있어서, 부호 (00)은 디스플레이 표시부, 부호 (20)은 고분자 필름(B), 부호 (31)은 색소 함유의 투명 점착층(C), 부호 (60)은 반사 방지성, 하드 코트성, 정전기 방지성, 오염방지성을 가지는 기능성 투명층(A), 부호 (61)은 오염방지성을 가지는 반사 방지막, 부호 (62)는 정전기 방지성을 가지는 하드 코트막이다.
(실시예 6)
폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET) 펠릿 1203(유니치카(주) 제)에, 상기의 식(3)으로 표시한 미쯔이 화학(주) 제 색소 PD-319를 0.018wt%, 파장 585nm에 흡수 극대를 가지는 미쯔이 화학(주) 제 색소 PD-311을 0.018wt%, 백색 발광의 색도를 보정하기 위한 미쯔이 화학(주) 제 적색 색소 PS-Red-G를 0.004wt% 혼합하고, 260∼280℃에서 용해시켜, 압출기에 의해 두께 250㎛의 필름을 제작했다. 그 후, 이 필름을 2축연신해서, 두께 125㎛의 색소를 함유한 고분자 필름(B)인 색소들이 PET 필름을 제작했다.
PD-311은 식(4)의 테트라-t-부틸테트라아자포르피린/구리 착체이다.
Figure 112005022400973-pct00045
또한 롤형상으로 감긴 상기 PET 필름의 한 쪽의 주면상에 기능성 투명층(A)으로서 다음의 기능성 투명막 2를 롤 투 롤로 연속적으로 형성했다. 즉, 다작용성 메타크릴레이트 수지에 광중합 개시제를 첨가하고, 또, 유기 실리카 미립자(평균 입경:15㎛)를 분산시킨 도공액을 조제하고, 도공 후, 자외선 경화시켜, 방현성(헤이즈미터측정의 헤이즈값: 5%), 하드 코트성(연필 경도: 2H)을 가지는 안티글레어층인 기능성 투명막 2를 형성했다. 실시예 1의 점착재 1과 같은 소재로 색소를 넣지 않은 점착재 2를 기능성 투명막 2/색소들이 PET 필름의 PET 필름 면위에 형성했다. 투명 점착층면에 이형필름을 라미네이트해서 롤형상으로 감아 꺼내, 투명 점착층면에 이형필름을 가지는 롤형상의 본 발명의 조광필름을 얻었다.
또한, 상기 조광필름을 시트형상으로 재단하고, 이형필름을 박리해서, 플라즈마 디스플레이 패널 전면(표시부 920㎜×520㎜)에 낱장식 라이네이터를 이용해 접합했다. 이때, 적어도 표시부 전체에 투명 점착층(c)부를 중합하도록 시티 재단, 붙이기 위치 맞춤을 행했다. 접합한 후, 60℃, 2×105Pa의 가압 가온 조견하에서 오토클레이브처리하고, 본 발명의 조광필름을 구비한 표시장치를 얻었다.
상기 조광필름의 단면을, 본 발명의 조광필름과 그 장착상태의 일례를 표시한 단면도로서, 도 10에 나타냈다. 도 10에 있어서, 부호 (O0)은 디스플레이 표시부, 부호 (21)은 색소를 함유하는 투명 점착층(C), 부호 (30)은 투명 점착층(C), 부호 (70)은 안티글레어(방현성), 하드 코트성을 가지는 기능성 투명층(A)이다.
이상과 같이 해서 얻어진 실시예 5 및 6의 본 발명의 조광필름을 가지는 표시장치인 플라즈마 디스플레이는, 조광필름 형성전의 플라즈마 디스플레이와 함께, 이하와 같이 평가했다.
1) 조광필름의 투과율
미놀타(주) 제 CRT 컬러분석기(CAl00)를 이용해, 조광필름을 형성하기 전후에서의 플라즈마 디스플레이의 분광 방사 휘도를 구하고, 형성 후의 휘도의, 형성전의 휘도에 대한 비를 백분율로 표시했다.
2) 플라즈마 디스플레이의 밝은 부분의 콘트라스트비율(최고 최저 휘도비)
조광필름을 형성하기 전후로 평가했다. 주위 밝기 100lx의 밝은 때에 있어서, 플라즈마 디스플레이 패널의 백색 표시시의 최고 휘도(cd/㎡)와 흑색 표시시의 최저 휘도(cd/㎡)를, 미놀타(주) 제의 휘도계(LS-110)를 이용해 측정하고, 그 비(최고 휘도/최저 휘도)를 구했다.
3) 플라즈마 디스플레이의 발광색의 색순도조광필름을 형성하기 전후로 평가했다.
백색(W) 표시, 적색(R) 표시, 녹색(G) 표시, 청색(B) 표시에 있어서, 미놀타(주) 제 CRT 컬러분석기(CAl00)를 이용해, RGB색도(x,y) 및 백색의 색도, 색온도, 흑색체 궤적으로부터의 백색 편차를 측정했다.
PDP 발광의 삼원색이 NTSC 방식에서 규정 RGB색의 색재현 범위에 근접할 수록 바람직하다. 또, PDP 발광의 삼원색을 xy색도도면상에서 묶은 삼각형의 면적의, NTSC의 색재현 범위의 면책(面責)에 대한 비의 백분율이 100%에 근접하면, 색재현 범위가 넓게 되는 것을 표시한다.
실시예 5의 본 발명의 조광필름은 플라즈마 디스플레이 발광의 투과율이 가시광선 투과율로 69%이며, 불요 발광이 있는 파장 595nm에 흡수 극대를 지닌 색소에 의해, 필요한 발광이 있는 파장 610nm의 투과율에 대한 595nm의 투과율의 백분율은 21%였다. 또, 이것을 구비한 플라즈마 디스플레이는, 반사 방지성을 가지는 기능성 투명층(A)이 형성되어 있는 조광필름을 이용한 것에 의해, 디스플레이 표면의 반사를 억제되었던 것 및 조광필름의 투과 특성에 의해, 주위 조도 100lx의 조건하에 있어서의 밝은 부분의 콘트라스트비가, 조광필름이 형성되기 전이 20이었는데 대해서 41로 향상했다. 휘도도 현저하게 손상되지 않고, 투영도 적기 때문에, 가시성이 좋은 플라즈마 디스플레이를 얻을 수 있었다. 또한 부가해서 적색, 녹색의 발광의 색순도가 특히 현저하게 개선되었다. 녹색의 발광의 색순도 개선은, 595nm 흡수 색소의 황녹색 발광의 저감에 의한다.
마찬가지로, 실시예 6의 본 발명의 조광필름은, 플라즈마 디스플레이 발광의 투과율이 가시광선 투과율로 70%이며, 불요 발광이 있는 파장 595nm에 흡수 극대를 가지는 색소과 동일한 파장 585nm에 흡수 극대를 가지는 색소보다, 필요한 발광이 있는 파장 610nm의 투과율에 대한 595nm의 투과율의 백분율은 30%였다. 또, 이것을 구비한 플라즈마 디스플레이는, 조광필름의 투과 특성에 의해, 주위 조도 1001x의 조건하에 있어서의 밝은 부분의 콘트라스트비가, 조광필름이 형성되기 전이 20이었는데 비해서 37로 향상했다. 휘도도 현저하게 손상되지 않고, 투영도 적기 때문에, 가시성이 좋은 플라즈마 디스플레이를 얻을 수 있었다. 또한 부가해서 적색, 녹색의 발광의 색순도가 특히 현저하게 개선되었다. 녹색의 발광의 색순도 개선은, 595nm 및 585nm 흡수 색소의 황녹색 발광의 저감에 의한다. 특히 보다 단파장을 흡수하는 585nm 흡수 색소에 의해, 그 효과가 컸다.
도 11에 본 발명의 조광필름 형성 전후의 색재현 범위를 표시한 x-y색도도면을 표시했다.
도 11은 PDP(플라즈마 디스플레이 패널)에 실시예 5의 조광필름을 형성하기 전후의 백색(W), 적색(R), 녹색(G), 청색(B) 발광의 색도를 x-y색도도면에 표시 한 것이다. 또한 목표가 되는 NTSC의 색도도 맞추어 표시했다.
백색은, 매우 적합한 백색색도의 궤적인 흑색체 궤적과 비교한 위치에서 평가할 수 있다. 본 발명의 전자파 차폐체를 이용하면, 백색의 색도 편차가 적은 것, 또, 실시예 5 또는 실시예 6의 조광필름을 형성하기 전보다, 색온도가 높은 위치에 있는 것을 알 수 있다. 색온도는 대략 7000K로부터 대략 9500K로 상승하고, 흑색궤적으로부터의 어긋남을 표시한 백색 편차도 거의 O이었다.
또, RGB의 점을 잇는 삼각형을 도중에 표시했다. NTSC에 가깝게 될수록 바람직하다고 말할 수 있다. 실시예 5 또는 실시예 6의 조광필름을 이용함으로써, 적색, 녹색의 색도가 NTSC의 표시한 색도에 가까워져, 색재현 범위를 표시한 삼각형이 커지고 있는 것을 알 수 있다. 삼각형의 면적의, NTSC가 표시한 삼각형의 면적에 대한 백분율을 구했던 바, 실시예 5의 조광필름을 형성하기 전이 74%인 것에 대해, 형성하는 것에 의해 86%로 개선할 수 있었다. 또, 실시예 6의 조광필름을 형성했을 경우는 88%로 개선할 수 있었다.
또, 본 발명의 조광필름은, 기능성 투명층(A)에 각 기능을 갖게 함으로써, 내찰상성 및/또는 오염방지성 및/또는 정전기 방지성이 뛰어나 있다.
(실시예 7)
폴리에틸렌 테레프탈레이트 펠릿 1203(유니치카(주) 제)에 근적외 흡수 색소인 미쯔이 화학(주)제 SIR-128, SIR-130을 각 0.15wt% 혼합해 약 280℃에서 용해 후, 압출 2축연신에 의해 두께 150㎛의 근적외 차폐 필름을 제작했다. 또한, 아세트산 에틸/톨루엔(50:50wt%)용제를 희석액으로 해서, 아크릴계 점착제과 희석액을 80:20의 비율로 혼합하고, 근적외 차폐 필름면위에, 배치타입의 다이코터에 의해 건조 막두께 25㎛로 도공 후, 건조시켜, 점착재층을 형성해 이형필름을 라미네이트했다.
상기와 같이 제작한 근적외 차폐 필름(B) 위에, 기재 필름 두께 188㎛의 반사 방지 필름(일본 유지제 리아룩크 1200)을 라미네이트하여, 길이 960mm×폭 550mm로 재단함으로써, 투명 고분자 필름의 두께 합계가 0.338mm가 되는 광학 필터 필름을 얻었다.
이 필름을 길이 980×폭 580mm×두께 2.5mm의 반강화유리판에 중합시켰다.
(실시예 8)
폴리에틸렌 테레프탈레이트 펠릿 1203(유니치카(주) 제)에 근적외 흡수 색소인 미쯔이 화학(주) 제 SIR-128, SIR-130을 각 0.3wt% 혼합해 약 280℃에서 용해 후, 압출 2축연신에 의해 두께 75㎛의 근적외 차폐 필름을 제작했다. 또한, 아세트산 에틸/톨루엔(50:50wt%) 용제를 희석액으로 해서, 아크릴계 점착제과 희석액을 80:20의 비율로 혼합하고, 근적외 차폐 필름 면위에, 다이코터에 의해 건조 막두께 25㎛로 도공 후, 건조시켜, 점착재층을 형성해 이형필름을 라미네이트했다.
또, 근적외 흡수 색소를 더하지 않고, 같은 수법을 이용해, 두께 200㎛의 부피 증가용 투명 고분자 필름을 제작했다.
근적외 차폐 필름에, 기재 필름 두께 80㎛의 반사 방지 필름(일본 유지제 리아룩크 2200)을 라미네이트하고, 길이 960mm×폭 550mm에 재단 후, 필름 두께 200㎛의 부피 증가용 투명 고분자 필름의 위에 중합시켰다. 이것에 의해, 투명 고분자 필름의 합계 두께가, 0.355mm가 되는 광학 필터 필름을 얻었다. 이 필름을 길이 980×폭 580mm×두께 2.5mm의 반강화유리판에 중합했다.
(실시예 9)
실시예 7에 나타낸 두께 150㎛의 근적외선 차폐 필름의 주면상에 기능성 투명층(A)으로서, 다음의 기능성 투명막을 롤 투 롤로 연속적으로 형성했다. 즉, 다작용성 메타크릴레이트 수지에 광중합 개시제를 첨가하고, 또한 유기 실리카 미립자(평균 입경: 15㎛)를 분산시킨 도공액을 조제하고, 도공 후, 자외선 경화시켜, 방현성(헤이즈미터측정의 헤이즈의 값: 5%), 하드 코트성(연필 경도: 2H)을 가지는 방현성 기능을 가진 기능성 투명층을 형성했다.
이 근적외 차폐 기능과 방현성 기능을 가지는 투명 고분자 필름에 실시예 14로 표시한 두께 200㎛의 부피 증가용 투명 고분자 필름을 라미네이트하고, 길이 960mm×폭 550mm로 재단함으로써 투명 고분자 필름의 합계 두께가, 0.350mm가 되는 광학 필터 필름을 얻었다. 이 필름을 길이 980×폭 580mm×두께 2.5mm의 반강화유리판에 중합시켰다.
(실시예 10)
압출 2축연신에 의해 두께 75㎛의 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름을 제작 하고, 그 한 쪽의 주면에, 필름으로부터 차례로, SnO2박막(막두께: 40㎚), 은박막(막두께: 9nm), SnO2박막(막두께: 80nm), 은-팔라듐 합금 박막(막두께: 1lnm), SnO2 박막(막두께: 40nm)의 합계 5층을 형성하고, 면저항 5.3Ω/□의 투명 도전성 박막층(D)을 가진 전자파 차폐 기능을 가지는 투명 고분자 필름을 제작했다.
상기의 전자파 차폐 필름에 대해, 이하의 방법으로 점착재층을 형성했다.
아세트산 에틸/톨루엔(50: 50wt%) 용제에 유기 색소를 분산·용해시켜, 아크릴계 점착제의 희석액으로 했다. 유기 색소는, 플라즈마 디스플레이가 방사하는 불요 발광을 흡수시키기 위한 파장 595nm에 흡수 극대를 가지는 미쯔이 화학제 색소 PD-319, 및, 백색 발광의 색도를 보정하기 위한 미쯔이 화학제 적색 색소 P S-Red-G가, 각각 건조한 점착재중에서 1150(wt)ppm, 1050(wt)ppm 함유하도록 아크릴계 점착제/색소들이 희석액을 조정했다.
아크릴계 점착제/색소들이 희석액(80: 20wt%)을 혼합하고, 콤마 코터에 의해 전자파 차폐 필름 쪽의 면에 건조 막두께 25㎛에 도공한 뒤, 건조, 점착면에 이형필름을 라미네이트해서, 투명 점착층을 형성했다.
이 필름을 실시예 8에 나타낸 두께 200㎛의 부피 증가용 투명 고분자 필름의 위에 투명 도전성 박막층을 위로 해서 라미네이트하고, 길이 960mm×폭 550mm로 재단했다.
또한 기재 필름 두께 188㎛의 반사 방지 필름(일본 유지제 리아룩크 1200)을 길이 920mm×폭 510mm로 재단하고, 투명 도전성 박막층의 둘레가장자리부분 20mm가 벗겨지도록 반사 방지 필름을 내측 붙임으로 했다. 또한, 투명 도전성 박막층의 노출의 도통부를 가리도록 둘레가장자리부분의 폭 22mm의 범위에, 은페이스트(미쯔이 화학(주) 제 MSP-600F)를 스크린 인쇄하고, 건조시켜 두께 15㎛의 전극을 형성했다. 이것에 의해, 투명 고분자 필름의 합계 두께가, 0.463mm가 되는 광학 필터 필름을 얻었다. 이 필름을 길이 980×폭 580mm×두께 2.5mm의 반강화유리판에 중합시켰다.
(실시예 11)
압출 2축연신에 의해 두께 200㎛의 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름을 제작 하고, 그 한 쪽의 주면에, 필름으로부터 차례로, ITO 박막(막두께: 40nm), 은박막(막두께: 11nm), ITO 박막(막두께: 95nm), 은박막(막두께: 14nm), ITO 박막(막두께: 90nm), 은박막(막두께: 12nm), ITO 박막(막두께: 40nm)의 합계 7층의 투명 도전성 박막층(F)을 형성하고, 면저항 2.2Ω/□의 투명 도전층을 가지는 전자파 차폐 필름을 제작했다.
또한, 이 전자파 차폐 필름의 투명 도전성 박막층이 형성되어 있지 않은 다른쪽의 주면에, 다음의 기능성 투명층을 롤 투 롤로 연속적으로 형성했다. 즉, 다작용성 메타크릴레이트 수지에 광중합 개시제를 더해, 다시 ITO 미립자(평균 입경: 1Onm)를 분산시킨 코트액을 그라비야 코터로 도공하고, 자외선 경화에 의해 도전성 하드 코트막(막두께: 3㎛)을 형성하고, 그 위에 불소함유 유기 화합물 용액을 마이크로 그라비야 코터로 도공·90℃건조·열경화시켜, 굴절률 1.4의 반사 방지막(막두께: 10Onm)을 형성하고, 하드 코트성(JIS K 5400에 따른 연필 경도: 2H), 반사 방지성(표면의 Rvis: 0.9%), 대전 방지성(표면 저항: 7×1O9Ω/□), 오염방지성을 가지는 기능성 투명층을 형성했다.
또한, 아세트산 에틸/톨루엔(50:50wt%) 용제를 희석액으로서, 아크릴계 점착제과 희석액을 80:20의 비율로 혼합하고, 투명 도전층 면위에, 콤마코터에 의해 건조 막두께 25㎛로 도공 후, 건조시켜,이형필름을 라미네이트하고 투명 점착재층을 형성했다.
상기 기능성 투명층부가 된 전자파 차폐 필름을 길이 920mm×폭 510mm로 재단하고, 길이 960mm×폭 550mm로 재단한 두께 200㎛의 부피 증가용 투명 고분자 필름의 위에, 둘레가장자리부분 각 20mm를 남겨 두고 안으로 붙였다.
또한, 투명 도전층의 두께 단면 도통부를 가리도록 둘레가장자리부분 폭 22mm의 범위에, 은페이스트(미쯔이 화학(주) 제 MSP-600F)을 스크린 인쇄하고, 건조시키고 두께 15㎛의 전극을 형성했다. 이것에 의해, 투명 고분자 필름의 합계 두께가, 0.4mm가 되는 광학 필터 필름을 얻었다. 이 필름을 길이 980×폭 580mm×두께 2.5mm의 반강화유리판에 붙였다.
(비교예 2)
실시예 9에 나타낸 두께 150㎛의 근적외 차폐 필름과, 기재 필름 두께 80㎛의 반사 방지 필름을 중합시켜, 필름 전체 두께가, 0.230mm로 되는 광학 필터 필름을 얻었다. 이 필름을 길이 980×폭 580mm×두께 2.5mm의 반강화유리판에 중합시켰다.
(비교예 3)
실시예 10에 나타낸 두께 75㎛의 전자파 차폐 필름과, 기재 필름 두께 188㎛의 반사 방지 필름을 중합시켜, 필름 전체 두께가, 263㎛로 되는 광학 필터 필름을 얻었다. 이 필름을 길이 980×폭 580mm×두께 2.5mm의 반강화유리판에 붙였다.
상기와 같이, 각 광학 필터 필름을 유리판에 접합시킨 샘플에 대해, 내충격성의 향상과 박리성, 유리판에의 접착제 잔류상태를 조사했다.
내충격시험은, 유리판에 붙인 필름 샘플을 윗면으로 해서 높이 1.5m로부터 무게 500g의 강구를 낙하시켜, 기판 유리의 손상상태를 조사했다. 시험은 각 5매 실시했다.
박리성과 유리에의 풀의 잔류 시험에 대해서는, 광학 필름을 유리판에 접합 후 1시간 경과한 후, 필름을 유리판으로부터 박리하고, 그 상태를 조사했다.
이상의 결과를 표 2에 게시했다.
필름 총 두께 (㎜) 내충격성시험 필름박리성 유리에의 접착재 잔류
실시예 7 0.338 문제 없음 박리 용이 없음
실시예 8 0.355 문제 없음 박리 용이 없음
실시예 9 0.350 문제 없음 박리 용이 없음
실시예 10 0.463 문제 없음 박리 용이 없음
실시예 11 0.400 문제 없음 박리 용이 없음
비교예 2 0.230 일부뒷면에의 유리비산있음 박리 곤란 있음
비교예 3 0.263 일부뒷면에의 유리비산있음 박리 곤란 있음
표 2로부터 알 수 있듯이, 모든 실시예에 있어서 내충격성, 박리성, 유리판에의 잔류상태가 향상되어 있는 것을 알 수 있다.
이상과 같이, 본 발명에 의하면, 광학 필터 필름을 구성하는 투명 고분자 고분자 필름의 합계 두께를 0.3m이상으로 함으로써, 디스플레이 패널의 보호 기능 및 작업성의 향상이 도모되고, 디스플레이 전면에 직접 접착시키는 광학 필터 필름을 제공할 수가 있다.
(실시예 14)
투명 고분자 필름(B)으로서 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름[폭 558mm, 길이 500 m, 두께 75㎛]롤을 준비하고, 그 한 쪽의 주면에, 롤코터를 이용해, 직류 마그네트론스퍼터링법에 의해, 투명 도전성 박막층(D)을 형성했다. 투명 도전성 박막층은, 인듐과 주석의 산화물로 이루어진 박막층(Dt), 은박막층(Dm)을 B/Dt[두께 40nm] /Dm[두께 15nm] /Dt[두께 80nm] /Dm[두께 20nm] /Dt[두께 80nm] /Dm[두께 15nm]/ Dt[두께 40nm]/ Dm[두께 15n m] /Dt[두께 40nm]가 되는 순서로 적층해서 이루어진다. 인듐과 주석의 산화물로 이루어진 박막층은, 투명고굴절률 박막층을, 은박막층은, 은 또는 은합금으로 이루어진 금속 박막층을 구성한다. 인듐과 주석과의 산화물로 이루어진 박막층의 형성에는, 타켓으로서, 산화 인듐·산화 주석 소결체[In2O3:SnO2=9O:1O (중량비)], 스퍼터링가스로서 아르곤·산소 혼합 가스(전체 266 mPa, 산소 분압 5mPa)를 이용했다. 또, 은박막층의 형성에는, 타켓으로서 은을 이용해 스퍼터 가스에는 아르곤 가스(전체 266mPa)를 이용했다. 티탄층의 형성에는, 타켓으로서 티탄을 이용하고, 스퍼터 가스에 아르곤 가스(전체 266mPa)를 이용했다.
다음에 방현성 필름[폭 548mm, 길이 500 m, 두께 100㎛]롤을 방현성층과 반대 쪽에 투명 점착재[두께 1OO㎛]가 첨부되어 있는 상태로 준비했다.
계속해서, 투명 도전성 박막 필름의 투명 도전성 박막층 위에 상기 방현성 필름을 투명 점착재를 개재하여 롤 투 롤식으로 붙여, 1개의 롤을 제작했다. 투명 도전성 필름과 방현성 필름의 폭방향의 중심위치가, 일치하도록 행했다. 또한 이 투명 도전성 박막 필름과 방현성 필름의 중합체의 방현층과 반대면에 롤 투 롤 방식으로 투명 점착재[두께 1OO㎛]를 접합시켰다. 계속해서 롤 양단부의 각 5mm폭의 투명 도전성 박막층 부분에 롤 코트 방식으로 은페이스트를 도포했다. 롤을 이송하는 속도는 0.5m/s로 했다.
상기에서 얻어진 필름을 958mm의 길이로 절단해 전자파 차폐체를 제작했다. 도 21에 단면도를 표시했다. 도 21에 있어서, 부호 (23)은 전자파 차폐 기능을 가지는 투명 고분자 필름(B), 부호 (30)은 투명 점착층(C), 부호 (24)는 기능 투명층(A)을 가지는 투명 고분자 필름(B)이다.
그 중에서, 전자파 차폐체 1매당의, 전극 형성에 요하는 시간을 조사했다.
계속해서 플라즈마 디스플레이 패널[NEC제 PX-42VP1] 전면에 투명 점착층을 개재하여, 전자파 차폐체를 장착했다.
가시면(可視面)쪽에 위치하고 있는 전극에는, 디스플레이 외부에 전류를 인출하도록 배선되어 있는, 평판형상의 금속부재를 접속시켰다.
플라즈마디스플레이 패널을 동작시켜서, 외부에 방출되는 전자파의 강도를 FCC 규격 Part 15J에 따라 측정하고, Class A기준을 충족하고 있는지의 여부를 조사했다. 도 22에 단면도를 표시했다.
(실시예 15)
방현성 필름[폭 554mm, 길이 500m, 두께 100㎛]의 롤을 준비하고, 그 방현성층과 반대면에 실시예 14와 마찬가지로 투명 도전성 박막층을 형성했다. 계속해서 투명 도전성 박막층 위에 롤 투 롤 방식으로 투명 점착재[폭 548mm, 두께 100m]및 도전성 점착재[폭 3mm, 두께 100㎛]를 중합시켰다. 도전성 점착재는, 롤 양단부의 위치에 접합시키고, 그 이외의 부분에는, 투명 점착재를 중합시켰다. 상기에 의해, 전자파 차폐체를 제작했다.
플라즈마 디스플레이 패널[NEC제 PX-42VP1] 전면에 전자파 차폐체를 장착했다. 플라즈마 디스플레이 패널의 두 긴 변에는, 미리 끝부분을 따라 6mm폭을 구리박테이프를 붙여 두었다. 도전성 점착재과 구리박테이프를 합친 부분이 실질적 전극이 된다. 가시면 쪽에 위치하고 있는 전극에는, 디스플레이 외부에 전류를 인출하도록 배선되고 있는, 평판상의 금속부재를 접촉시켰다. 그 외는, 실시예 14와 마찬가지로 실시했다.
(실시예 16)
실시예 14와 마찬가지로 투명 도전성 박막 필름을 준비했다.
다음에, 방현성 필름[폭 558mm, 길이 500m, 두께 100㎛] 롤을 준비하고, 투명 도전성 필름과 방현성 필름의 폭방향의 중심 위치가, 일치하도록 행했다. 또한 이 투명 도전성 박막 필름과 방현성 필름의 중합체의 방현층과 반대면에 롤 투 롤 방식으로 투명 점착재[두께 100㎛]를 접합시켰다.
롤끝면에 은페이스트를 도포했다. 상기에 의해, 전자파 차폐체를 제작했다. 단면도를 도 23에 나타냈다.
그 속에서, 전자파 차폐체 1시이트마다, 전극 형성에 요하는 시간을 조사했다.
계속해서 플라즈마 디스플레이 패널[NEC제 PX-42VP1] 전면에 전자파 차폐체를 장착했다. 전극에는, 디스플레이 외부에 전류를 인출하도록 배선되어 있는, 평판 모양의 금속부재를 접촉시켰다.
플라즈마디스플레이 패널을 동작시켜서, 외부에 방출되는 전자파의 강도를 FCC 규격 Part 15J에 따라 측정하고, Class A기준을 충족하고 있는지의 여부를 조사했다.
(비교예 4)
실시예 14와 마찬가지로, 투명 고분자 필름(B)으로서 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름[폭 558mm, 길이 500m, 두께 75㎛]롤을 준비하고, 그 한 쪽의 주면에, 투명 도전성 박막층을 형성했다.
상기 필름의 투명 도전성 박막 형성면과 반대면에 롤 투 롤 방식으로 투명 점착재[두께 1OO㎛]를 붙였다.
또, 얻어진 필름을 절단하면서 유리 기판[크기 560mm×960mm, 두께 3mm]에 약한 점착재를 개재하여 접합시켰다.
계속해서, 방현성 필름[폭 548mm, 길이 500m, 두께 100㎛]의 롤을 방현성층과 반대 쪽에 투명 점착재가 붙여 있는 상태로 준비하고, 상기의 중합체의 투명 도전성 박막층 위에 절단하면서 중합시켰다. 이 때, 투명 도전성 박막층의 외주 부분부터 끝부분이 5mm 안쪽에 위치하도록 중합시켰다.
외주 부분의 투명 도전성 박막층 노출 부분 전체둘레가 덮이도록 스크린 인쇄법을 이용해 은페이스트를 도포하고, 건조시켰다. 건조 후, 유리 기판부터 벗겼다. 상기에 의해, 전자파 차폐체를 제작했다. 그 외, 실시예 14와 마찬가지로 실시했다.
이상의 결과를 표 3에 게시했다.
전극형성시간(초) [전자파 차폐체 1시이트당] 전자파차단효과(FCC Class A의 기준내에 있는지의 여부)
실시예14 2 문제없음
실시예15 2 문제없음
실시예16 0.5 문제없음
비교예4 180 문제없음
표 3에서 알 수 있듯이, 모든 실시예에 있어서, 전자파 차단 효과에 관해서는, 비교예 4에 나타낸 종래의 경우와 마찬가지로 문제가 없다. 또한 전극 형성에 요하는 시간이 큰 폭으로 단축되고 있어 생산하기 위한 효율이 큰 폭으로 향상 하고 있는 것을 알 수 있다.
(실시예 17)
삭제
투명 고분자 필름(B)으로서 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름[두께 75㎛]의 폭 565mm, 길이 500m롤을 준비하고, 그 한 쪽의 주면에, 롤코터를 이용해, 직류 마그네트론 스퍼터링법에 의해, 투명 도전층(D)을 형성했다. 투명 도전성 박막층은, 인듐과 주석과의 산화물로 이루어진 박막층(Dt), 은박막층(Dm)을 B/Dt [두께 40nm] /Dm [두께 15nm]/Dt [두께 80nm]/Dm[두께 20nm]/Dt [두께 80nm]/Dm[두께 15nm]/Dt [두께 40nm]/Dm[두께 15nm]/Dt [두께 40nm]로 이루어진 순서로 적층해서 이루어진다. 인듐과 주석과의 산화물로 이루어진 박막층은, 투명고굴절률 박막층을, 은박막층은, 은 또는 은합금으로 이루어진 금속 박막층을 구성한다. 인듐과 주석과의 산화물로 이루어진 박막층의 형성에는, 타겟으로서, 산화 인듐·산화 주석 소결체[In2O3:SnO2= 90:10(중량비)], 스퍼터링 가스로서 아르곤·산소 혼합 가스(전체압 266 mPa, 산소 분압 5mPa)를 이용했다. 또, 은박막층의 형성에는, 타겟으로서 은을 이용하고, 스퍼터링 가스에는 아르곤 가스(전체장 266mPa)를 이용했다. 티탄층의 형성에는, 타켓으로서 티탄을 이용하고, 스퍼터 가스에 아르곤 가스(전체압 266mPa)를 이용했다.
다음에 방현성 필름의 폭 565mm, 길이 500m롤을 방현성층과 반대 쪽에 투명 점착재가 붙어 있는 상태로 준비했다.
계속해서, 투명 도전성 박막 필름의 투명 도전성 박막층 위에 상기 방현성 필름을 투명 점착재를 개재하여 롤 투 롤방식으로 붙여, 1개의 롤을 제작했다. 또한 이 투명 도전성 박막 필름과 방현성 필름의 중합체의 방현층과 반대면에 롤 투 롤 방식으로 투명 점착재를 붙였다.
상기에서 얻어진 필름을 절단하면서 투명 지지 기판에 투명 점착재를 개재하여 중합시켰다.
또한 필름 측면이 덮이도록 끝부분 전체둘레에 스크린 인쇄법을 이용해 은페이스트를 도포하고, 건조시켰다.
상기에 의해, 전자파 차폐체를 제작했다. 단면도를 도 23에 나타냈다. 전극상 서로 가장 먼 2점을 선택해, 그 사이의 저항값을 조사했다.
또, 전자파 차폐체 1매당에 요하는 접합 시간을 조사했다. 또한, 투명 도전성 필름과 방현성 필름의 광학 필터 1매당의 중합 시간은, 전체 롤 투 롤에서의 전체 중합시간을 그 롤로부터 잘라 낼 수가 있는 필름의 매수로 나누는 것에 의해 구했다.
(실시예 18)
방현성 필름의 폭 565mm, 길이 500m롤을 준비하고, 그 방현성층과 반대면에 실시예 17과 마찬가지로 투명 도전성 박막층을 형성했다. 계속해서 투명 도전성 박막층 위에 롤 투 롤 방식으로 투명 점착재를 중합시켰다.
상기에서 얻어진 필름을 절단하면서 투명 지지 기판에 투명 점착재를 개재하여 접합시켰다.
또 필름 측면이 덮이도록 끝부분 전체둘레에 스크린 인쇄법을 이용해 은페이스트를 도포하고, 건조시켰다. 상기에 의해, 전자파 차폐체를 제작했다.
이 때, 전극상 서로 가장 먼 2점을 선택해, 그 사이의 저항값을 조사했다. 또, 전자파 차폐체 1사이트당에 요하는 접합 시간을 조사했다.
(실시예 19)
방현성 필름의 폭 565mm, 길이 500m롤을 준비하고, 그 방현성층과 반대면에 실시예 17과 마찬가지로 투명 도전성 박막층을 형성하고, 방현성 투명 도전성 필름의 길이 500m롤을 제작했다.
구리 테이프[폭 15mm, 두께 75㎛, 길이 500m, 한쪽 면에 도전성 점착재 부착]의 롤을 2개 준비했다.
방현성 투명 도전 필름의 양끝부분에 구리 테이프를 중합시켰다. 방현성 투명 도전성으로 형성되어 있는 투명 도전층에 구리 테이프의 도전성 점착재가 접하도록 중합을 실시했다.
또, 각 구리 테이프와 방현성 투명 도전성 필름과의 겹침 폭은 1Omm가 되게 했다. 접합은 롤 투 롤 방식으로 실시했다.
투명 점착재[폭 575mm, 두께 25㎛, 길이 500m]의 롤을 준비했다. 구리테이프가 측면에 접합되어 있는 방현성 투명 도전성 필름에 이 투명 점착재를 중합하면서, 다시 길이 958mm의 시트로 재단했다. 투명 도전층 및 구리 테이프의 미점착 가공면에 점착재를 중합하도록 했다. 중합은 롤 투 롤 방식으로 실시했다. 상기에 의해, 전자파 차폐체를 제작했다. 단면도를 도 24에 나타냈다.
이 때, 전극상 서로 가장 먼 2점을 선택해, 그 사이의 저항값을 조사했다. 또, 전자파 차폐체 1시이트당 요하는 중합 시간을 조사했다.
(실시예 20)
방현성 필름의 폭 565mm, 길이 500m롤을 준비하고, 그 방현성층과 반대면에 실시예 17과 마찬가지로 투명 도전성 박막층을 형성했다. 계속해서 투명 도전성 박막층 위에 롤 투 롤 방식으로 투명 점착재를 붙이면서, 한층 더 길이 958mm의 시트로 재단해 전자파 차폐체를 제작했다.
유리 기판[크기 545mm×960mm, 두께 3mm]을 준비하고, 그 2개의 긴 변에 구리판[크기 10mm×960mm, 두께 3mm]을 설치했다. 그 구리판에는, 나사 고정용의 구멍을 뚫었다. 나사 고정용의 구멍은 30mm간격으로 길이방향의 끝에서 끝까지 형성했다. 이 유리판과 구리판을 합친 지지 기재에 전자파 차폐체를 접합시켰다. 구리판에 형성되어 있는 나사 고정용의 구멍에 나사를 장착했다. 나사의 장착은, 전자파 차폐체의 최표면으로부터 전자파 차폐체를 관통시켜서 실시했다. 이 때, 이 나사가 실질상의 관통구멍이 된다. 상기에 의해, 전자파 차폐체를 제작했다. 단면도를 도 25에 나타냈다.
이 때, 전극상 서로 가장 먼 2점을 선택해, 그 사이의 저항값을 조사했다. 또, 전자파 차폐체 1시이트당에 요하는 중합 시간을 조사했다.
(비교예 5)
실시예 18과 마찬가지로 투명 고분자 필름(B)으로서 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름(두께 75㎛)의 폭 565mm, 길이 500m롤을 준비하고, 그 한 쪽의 주면에, 투명 도전성 박막층을 형성했다.
상기 필름의 투명 도전성 박막 형성면과 반대면에 롤 투 롤 방식으로 투명 점착재를 접합시켰다.
또한 얻어진 필름을 절단하면서 투명 지지 기판에 투명 점착재를 개재하여 접합시켰다.
계속해서, 방현성 필름의 폭 565mm, 길이 500m롤을 방현성층과 반대 쪽에 투명 점착재가 중첩되어 있는 상태로 준비하고, 상기의 접합체의 투명 도전성 박막층 위에 절단하면서 중합시켰다. 이 때, 투명 도전성 박막층의 외주 부분부터 끝부분이 5mm안쪽에 위치하도록 중합시켰다.
외주 부분의 투명 도전성 박막층 노출 부분 전체둘레가 덮이도록 스크린 인쇄법을 이용해 은페이스트를 도포하고, 건조시켰다. 상기에 의해, 전자파 차폐체를 제작했다.
이 때, 전극상 서로 가장 먼 2점을 선택해, 그 사이의 저항값을 조사했다. 또, 전자파 차폐체 1매당에 요하는 중합 시간을 조사했다.
이상의 결과를 표 4에 게시하였다.
전자파 차폐체 l매당의 필름 접합 시간(초) 전극간의 저항값 (Ω)
실시예 17 180 7.2
실시예 18 120 7.3
실시예 19 120 7.1
실시예 20 120 7.3
비교예 5 230 7.1
표 4로부터 알 수 있듯이, 모든 실시예에 있어서, 전극간의 전기 저항값은, 비교예에 나타낸, 종래의 전극 형상의 것에 비교해 거의 저하하지 않았다. 또, 모든 실시예에 있어서, 전자파 차폐체 1시이트당의 필름접합 시간이 큰 폭으로 단축되어, 전자파 차폐체의 생산 효율이 큰 폭으로 상승하고 있는 것을 알 수 있다.
(실시예 21)
이하의 점을 제외하고 실시예 1과 마찬가지로 실시하였다. 투명 적층체 1 을 이하와 같이 제작했다.
폴리에틸렌렌 테레프탈레이트 펠릿 1203(유니치카(주) 제)에 근적외선을 흡수하는 색소, 미쯔이 화학(주) 제 SIR128을 0.25중량%, SIR1 30을 0.23중량 96%을 혼합하고, 260∼280℃에서 용융시켜, 2축연신 압출기에 의해 두께 188㎛의 고분자 필름(B)을 제작했다.
상기에서 제작한 고분자 필름(B)의 한 쪽의 주면에, 가교재를 포함한 폴리에스테르계의 접착제를 두께 10㎛로 도포했다. 다음에 두께 7㎛, 구멍 지름 1㎛, 다공도 12%의 은박을 라미네이트했다. 또한, 이 은박의 양 주면에는 미리 몰리브덴을 두께 50㎛가 되도록 스퍼터링법에 의해 형성해 두었다. 다음에 열경화형의 잉크를 이용해, 스크린 인쇄로 금속층 위에 격자폭 20㎛, 눈의 크기 150㎛×150㎛의 격자 모양을 인쇄했다.
90℃×5분의 가열에 의해 잉크를 경화시킨 후, 염화 제 2철수용액에 의해 잉크에 의해 보호되어 있지 않은 부분의 금속층을 제거하고, 다음에, 용제로 잉크를 제거했다. 이렇게 해서 도 27에 표시한 모양의 금속층을 가진, 개구율 75%의 적층체를 얻을 수 있었다. 가시광선의 평균 투과율을 측정한 바, 67%였다. 시트 저항을 측정한 0.11Ω/□이었다.
(실시예 22)
이하의 점을 제외해 실시예 3과 마찬가지로 실시했다.
고분자 필름(B) /투명 도전층(D)을 이하의 수법으로 준비했다.
폴리에틸렌 테레프탈레이트 펠릿 1203(유니치카(주) 제)에 근적외선을 흡수하는 색소, 미쯔이 화학(주) 제 SIR128을 0.25중량%, SIR1 30을 0.23중량%를 혼합 하고, 260~280℃에서 용융시켜, 2축연신 압출기에 의해 두께 188㎛의 고분자 필름(B)을 제작했다.
상기에서 제작한 고분자 필름(B) 위에, 아크릴계의 접착제로, 두께 7㎛, 구멍 지름 1㎛, 다공도 8%의 은박을 라미네이트했다. 또한, 이 은박의 양면에도 미리 크로메이트 처리를 실시해 두었다. 다음에 알칼리 현상형의 포토레지스트를 구리 위에 코팅하고, 프리베이킹후에 포토마스크를 이용해 노광, 현상해서 격자폭 25㎛, 눈의 크기 125㎛×125㎛의 격자 패턴을 마련한 후, 염화 제 2철수용액에 의해 레지스트에 의해 보호되어 있지 않은 부분의 금속층을 에칭하고, 다음에 알칼리 용액중에서 레지스트를 제거했다. 이렇게 하여 도 27에 표시한 모양의 금속층을 가진, 개구율 69%의 적층체를 얻을 수 있었다. 가시광선 투과율을 측정했던 바 65%, 시트 저항은 0.07Ω/□였다.
표 5에 의해, 본 발명의 전자파 차폐체를 이용함으로써, VCCI 규격의 Class B 또는 Class A를 클리어할 수 있는 것을 알 수 있다. 투명 도전층의 면저항이 낮을수록 전자파 차폐능력이 우수했다.
또 본 발명의 전자파 차폐체를 이용함으로써, 근적외선 차단능력이 뛰어난 것을 알 수 있다.
금속 메시층을 이용한 본 발명의 전자파 차폐체는, 가시광 투과성이 뛰어나고, 전자파 차폐성, 근적외선 차폐성이 뛰어나다.
또한 본 발명의 전자파 차폐체는, 기능성 투명층(A)에 각 기능을 갖게 함으로써, 내환경성 및/또는 내찰상성 및/또는 오염방지성 및/또는 정전기 방지성이 뛰어나다.
전자파 차폐체 없음 실시예 21 실시예 22 비교예 1
투명 도전층의 면저항Ω/□ - O.11 0.07 15
방사 전기장 강도 dBμ/m 33MHz 59 21 19 52
90MHz 52 24 21 49
근적외선 투과율% 820nm - 20 20 79
850nm - 5 5 78
950nm - 10 10 70
오동작한계거리m 5이상 0.8 0.8 5
이상 상세히 설명한 바와 같이 본 발명에 의하면, 투과 특성, 투과율, 반사 특성이 뛰어난 조광필름으로서 기능하는 디스플레이용 필터를 저비용으로 실현할 수 있다. 이것을 플라즈마 디스플레이 등의 표시장치의 화면에 직접 형성함으로써, 디스플레이의 휘도를 현저하게 손상하지 않고, 그 색순도 및 콘트라스트를 향상시킬 수가 있어 뛰어난 화질을 가지는 표시장치를 실현할 수 있다.
또, 투과특성, 투과율, 가시광선 반사율이 뛰어나, 플라즈마 디스플레이 등의 표시장치로부터 발생하는 전자파를 차단하는 전자파 차폐체로서 기능하는 디스플레이용 필터를 저비용으로 실현할 수 있다. 또한, 디스플레이로부터 나오는 800 ~ 1OOOnm 부근의 근적외선선을 효율적으로 차단하기 위해, 주변 전자기기의 리모콘, 전송계 광통신 등이 사용하는 파장에 악영향을 주지 않고, 그러한 오동작을 막을 수가 있다. 또, 내후성·내환경성이 뛰어나, 반사 방지성 및/또는 방현성, 내찰상성, 오염방지성, 대전 방지성 등을 겸비하고, 뛰어난 화질을 가지는 표시장치를 실현할 수 있다.
또, 디스플레이용 필터를 구성하는 투명 고분자 고분자 필름의 합계 두께를 0.3mm이상으로 함으로써, 디스플레이 패널의 보호 기능 및 작업성의 향상이 도모되고, 디스플레이 전면에 직접 붙이는 전자파 차폐체 또는 조광필름을 제공할 수가 있다.
또, 전자파 차폐체의 적극 형상을 연구함으로써, 충분한 전자파 차단 효과를 가지고, 또한 전극 형성에 요하는 시간이 큰 폭으로 단축되고 있어, 생산 효율이 큰 폭으로 향상한다.

Claims (79)

  1. 디스플레이 화면에 접착가능하고, 소정의 필터 특성을 가지는 디스플레이용 필터에 있어서,
    외기 쪽에 형성되어, 반사 방지성이나 방현성의 어느 한쪽, 또는 반사방지성과 방현성(防眩性)의 양쪽의 특성을 가지는 기능성 투명층(A)과,
    디스플레이 쪽에 형성되어, 화면에 접착하기 위한 투명 점착층(C)과,
    기능성 투명층(A)과 투명 점착층(C)과의 사이에 기재로서 설치된 고분자 필름(B)을 구비하고, 파장 570~605nm의 범위에 흡수 극대를 가지는 색소가 함유되는 것을 특징으로 하는 디스플레이용 필터.
  2. 제 1항에 있어서, 기능성 투명층(A)과 고분자 필름(B)과의 사이나 고분자 필름(B)과 투명 점착층(C)과의 사이 또는 기능성 투명층(A)과 고분자 필름(B)과의 사이 및 고분자 필름(B)과 투명 점착층(C)과의 사이에 형성되어 O.01~30Ω/□의 면저항을 가지는 투명 도전층(D)을 구비한 것을 특징으로 하는 디스플레이용 필터.
  3. 제 2항에 있어서, 투명 도전층(D)의 일부 혹은 모두가, 도전성 메시로 구성되는 것을 특징으로 하는 디스플레이용 필터.
  4. 제 2항에 있어서, 투명 도전층(D)은, 고굴절률 투명 박막층(Dt) 및 금속 박막층(Dm)의 조합(Dt)/(Dm)을 반복 단위로 해서 2회∼4회 반복해서 적층하고, 또한 그 위에 고굴절률 박막층(Dt)이 적층되어서 구성되는 것을 특징으로 하는 디스플레이용 필터.
  5. 제 4항에 있어서, 복수의 고굴절률 투명 박막층(Dt)중 적어도 하나이상의 층이, 인듐, 주석 및 아연중의 1종 이상을 주성분으로 하는 산화물로 형성되는 것을 특징으로 하는 디스플레이용 필터.
  6. 제 4항에 있어서, 복수의 금속 박막층(Dm)중의 하나이상의 층이, 은 또는 은합금으로 형성되는 것을 특징으로 하는 디스플레이용 필터.
  7. 제 1항에 있어서, 상기 기능성 투명층(A)과 고분자 필름(B)과의 사이에, 점착층(E)이 형성되는 것을 특징으로 하는 디스플레이용 필터.
  8. 제 2항에 있어서, 상기 기능성 투명층(A)과 고분자 필름(B)과의 사이에, 점착층(E)이 형성되는 것을 특징으로 하는 디스플레이용 필터.
  9. 제 1항에 있어서, 고분자 필름(B)의 양면 또는 한 면에, 하드 코트층(F)이 형성되는 것을 특징으로 하는 디스플레이용 필터.
  10. 제 2항에 있어서, 고분자 필름(B)의 양면 또는 한 면에, 하드 코트층(F)이 형성되는 것을 특징으로 하는 디스플레이용 필터.
  11. 제 7항에 있어서, 고분자 필름(B)의 양면 또는 한 면에, 하드 코트층(F)이 형성되는 것을 특징으로 하는 디스플레이용 필터.
  12. 제 8항에 있어서, 고분자 필름(B)의 양면 또는 한 면에, 하드 코트층(F)이 형성되는 것을 특징으로 하는 디스플레이용 필터.
  13. 제 1항에 있어서, 기능성 투명층(A)은, 하드 코트성, 정전기 방지성, 오염방지성, 가스차단성 및 자외선 차단성중의 하나이상의 기능을 또 가지는 것을 특징으로 하는 디스플레이용 필터.
  14. 제 1항에 있어서, 기능성 투명층(A), 고분자 필름(B) 및 투명 점착층(C)중의 1개이상의 층에, 1종 이상의 색소가 함유되는 것을 특징으로 하는 디스플레이용 필터.
  15. 제 2항에 있어서, 기능성 투명층(A), 고분자 필름(B), 투명 점착층(C) 및 투명 도전층(D)중의 1개이상의 층에, 1종 이상의 색소가 함유되는 것을 특징으로 하는 디스플레이용 필터.
  16. 제 7항에 있어서, 기능성 투명층(A), 고분자 필름(B), 투명 점착층(C) 및 점착층(E)중의 1개이상의 층에, 1종 이상의 색소가 함유되는 것을 특징으로 하는 디스플레이용 필터.
  17. 제 9항에 있어서, 기능성 투명층(A), 고분자 필름(B), 투명 점착층(C) 및 하드 코트층(F)중의 1개이상의 층에, 1종 이상의 색소가 함유되는 것을 특징으로 하는 디스플레이용 필터.
  18. 제 8항에 있어서, 기능성 투명층(A), 고분자 필름(B), 투명 점착층(C), 투명 도전층(D) 및 점착층(E)중의 1개이상의 층에, 1종 이상의 색소가 함유되는 것을 특징으로 하는 디스플레이용 필터.
  19. 제 10항에 있어서, 기능성 투명층(A), 고분자 필름(B), 투명 점착층(C), 투명 도전층(D) 및 하드 코트층(F)중의 1개이상의 층에, 1종 이상의 색소가 함유되는 것을 특징으로 하는 디스플레이용 필터.
  20. 제 11항에 있어서, 기능성 투명층(A), 고분자 필름(B), 투명 점착층(C), 점착층(E) 및 하드 코트층(F)중의 1개이상의 층에, 1종 이상의 색소가 함유되는 것을 특징으로 하는 디스플레이용 필터.
  21. 제 12항에 있어서, 기능성 투명층(A), 고분자 필름(B), 투명 점착층(C), 투명 도전층(D), 점착층(E) 및 하드 코트층(F)중의 1개이상의 층에, 1종 이상의 색소가 함유되는 것을 특징으로 하는 디스플레이용 필터.
  22. 삭제
  23. 삭제
  24. 삭제
  25. 삭제
  26. 삭제
  27. 삭제
  28. 삭제
  29. 삭제
  30. 제 14항에 있어서, 상기 색소는, 테트라아자포르피린 화합물인 것을 특징으로 하는 디스플레이용 필터.
  31. 제 15항에 있어서, 상기 색소는, 테트라아자포르피린 화합물인 것을 특징으로 하는 디스플레이용 필터.
  32. 제 16항에 있어서, 상기 색소는, 테트라아자포르피린 화합물인 것을 특징으로 하는 디스플레이용 필터.
  33. 제 17항에 있어서, 상기 색소는, 테트라아자포르피린 화합물인 것을 특징으로 하는 디스플레이용 필터.
  34. 제 18항에 있어서, 상기 색소는, 테트라아자포르피린 화합물인 것을 특징으로 하는 디스플레이용 필터.
  35. 제 19항에 있어서, 상기 색소는, 테트라아자포르피린 화합물인 것을 특징으로 하는 디스플레이용 필터.
  36. 제 20항에 있어서, 상기 색소는, 테트라아자포르피린 화합물인 것을 특징으로 하는 디스플레이용 필터.
  37. 제 21항에 있어서, 상기 색소는, 테트라아자포르피린 화합물인 것을 특징으로 하는 디스플레이용 필터.
  38. 제 30항에 있어서, 테트라아자포르피린 화합물은, 하기 화학식(1):
    Figure 112005022400973-pct00007
    (식중, A1∼A8은 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 니트로기, 시아노기, 히드록시기, 설폰산기, 탄소수 1~20의 알킬기, 할로게노알킬기, 알콕시기, 알콕시 알콕시기, 아릴옥시기, 모노알킬 아미노기, 디알킬아미노기, 아랄킬기, 아릴기, 헤테로아릴기, 알킬티오기 또는 아릴 티오기를 나타내고, A1과 A2, A3과 A4, A5과 A6, A7과 A8은 각각 독립적으로, 연결기를 개재하여 방향족고리를 제외한 고리를 형성해도 좋고, M은 2개의 수소 원자, 2가의 금속 원자, 3가의 l치환 금속 원자, 4가의 2치환 금속 원자 또는 옥시금속원자를 나타냄)로 표시되는 화합물인 것을 특징으로 하는 디스플레이용 필터.
  39. 제 31항에 있어서, 테트라아자포르피린 화합물은, 하기 화학식(1):
    Figure 112005022400973-pct00035
    (식중, A1∼A8은 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 니트로기, 시아노기, 히드록시기, 설폰산기, 탄소수 1~20의 알킬기, 할로게노알킬기, 알콕시기, 알콕시 알콕시기, 아릴옥시기, 모노알킬 아미노기, 디알킬아미노기, 아랄킬기, 아릴기, 헤테로아릴기, 알킬티오기 또는 아릴 티오기를 나타내고, A1과 A2, A3과 A4, A5과 A6, A7과 A8은 각각 독립적으로, 연결기를 개재하여 방향족고리를 제외한 고리를 형성해도 좋고, M은 2개의 수소 원자, 2가의 금속 원자, 3가의 l치환 금속 원자, 4가의 2치환 금속 원자 또는 옥시금속원자를 나타냄)로 표시되는 화합물인 것을 특징으로 하는 디스플레이용 필터.
  40. 제 32항에 있어서, 테트라아자포르피린 화합물은, 하기 화학식(1):
    Figure 112005022400973-pct00036
    (식중, A1∼A8은 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 니트로기, 시아노기, 히드록시기, 설폰산기, 탄소수 1~20의 알킬기, 할로게노알킬기, 알콕시기, 알콕시 알콕시기, 아릴옥시기, 모노알킬 아미노기, 디알킬아미노기, 아랄킬기, 아릴기, 헤테로아릴기, 알킬티오기 또는 아릴 티오기를 나타내고, A1과 A2, A3과 A4, A5과 A6, A7과 A8은 각각 독립적으로, 연결기를 개재하여 방향족고리를 제외한 고리를 형성해도 좋고, M은 2개의 수소 원자, 2가의 금속 원자, 3가의 l치환 금속 원자, 4가의 2치환 금속 원자 또는 옥시금속원자를 나타냄)로 표시되는 화합물인 것을 특징으로 하는 디스플레이용 필터.
  41. 제 33항에 있어서, 테트라아자포르피린 화합물은, 하기 화학식(1):
    Figure 112005022400973-pct00037
    (식중, A1∼A8은 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 니트로기, 시아노기, 히드록시기, 설폰산기, 탄소수 1~20의 알킬기, 할로게노알킬기, 알콕시기, 알콕시 알콕시기, 아릴옥시기, 모노알킬 아미노기, 디알킬아미노기, 아랄킬기, 아릴기, 헤테로아릴기, 알킬티오기 또는 아릴 티오기를 나타내고, A1과 A2, A3과 A4, A5과 A6, A7과 A8은 각각 독립적으로, 연결기를 개재하여 방향족고리를 제외한 고리를 형성해도 좋고, M은 2개의 수소 원자, 2가의 금속 원자, 3가의 l치환 금속 원자, 4가의 2치환 금속 원자 또는 옥시금속원자를 나타냄)로 표시되는 화합물인 것을 특징으로 하는 디스플레이용 필터.
  42. 제 34항에 있어서, 테트라아자포르피린 화합물은, 하기 화학식(1):
    Figure 112005022400973-pct00038
    (식중, A1∼A8은 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 니트로기, 시아노기, 히드록시기, 설폰산기, 탄소수 1~20의 알킬기, 할로게노알킬기, 알콕시기, 알콕시 알콕시기, 아릴옥시기, 모노알킬 아미노기, 디알킬아미노기, 아랄킬기, 아릴기, 헤테로아릴기, 알킬티오기 또는 아릴 티오기를 나타내고, A1과 A2, A3과 A4, A5과 A6, A7과 A8은 각각 독립적으로, 연결기를 개재하여 방향족고리를 제외한 고리를 형성해도 좋고, M은 2개의 수소 원자, 2가의 금속 원자, 3가의 l치환 금속 원자, 4가의 2치환 금속 원자 또는 옥시금속원자를 나타냄)로 표시되는 화합물인 것을 특징으로 하는 디스플레이용 필터.
  43. 제 35항에 있어서, 테트라아자포르피린 화합물은, 하기 화학식(1):
    Figure 112005022400973-pct00039
    (식중, A1∼A8은 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 니트로기, 시아노기, 히드록시기, 설폰산기, 탄소수 1~20의 알킬기, 할로게노알킬기, 알콕시기, 알콕시 알콕시기, 아릴옥시기, 모노알킬 아미노기, 디알킬아미노기, 아랄킬기, 아릴기, 헤테로아릴기, 알킬티오기 또는 아릴 티오기를 나타내고, A1과 A2, A3과 A4, A5과 A6, A7과 A8은 각각 독립적으로, 연결기를 개재하여 방향족고리를 제외한 고리를 형성해도 좋고, M은 2개의 수소 원자, 2가의 금속 원자, 3가의 l치환 금속 원자, 4가의 2치환 금속 원자 또는 옥시금속원자를 나타냄)로 표시되는 화합물인 것을 특징으로 하는 디스플레이용 필터.
  44. 제 36항에 있어서, 테트라아자포르피린 화합물은, 하기 화학식(1):
    Figure 112005022400973-pct00040
    (식중, A1∼A8은 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 니트로기, 시아노기, 히드록시기, 설폰산기, 탄소수 1~20의 알킬기, 할로게노알킬기, 알콕시기, 알콕시 알콕시기, 아릴옥시기, 모노알킬 아미노기, 디알킬아미노기, 아랄킬기, 아릴기, 헤테로아릴기, 알킬티오기 또는 아릴 티오기를 나타내고, A1과 A2, A3과 A4, A5과 A6, A7과 A8은 각각 독립적으로, 연결기를 개재하여 방향족고리를 제외한 고리를 형성해도 좋고, M은 2개의 수소 원자, 2가의 금속 원자, 3가의 l치환 금속 원자, 4가의 2치환 금속 원자 또는 옥시금속원자를 나타냄)로 표시되는 화합물인 것을 특징으로 하는 디스플레이용 필터.
  45. 제 37항에 있어서, 테트라아자포르피린 화합물은, 하기 화학식(1):
    Figure 112005022400973-pct00041
    (식중, A1∼A8은 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 니트로기, 시아노기, 히드록시기, 설폰산기, 탄소수 1~20의 알킬기, 할로게노알킬기, 알콕시기, 알콕시 알콕시기, 아릴옥시기, 모노알킬 아미노기, 디알킬아미노기, 아랄킬기, 아릴기, 헤테로아릴기, 알킬티오기 또는 아릴 티오기를 나타내고, A1과 A2, A3과 A4, A5과 A6, A7과 A8은 각각 독립적으로, 연결기를 개재하여 방향족고리를 제외한 고리를 형성해도 좋고, M은 2개의 수소 원자, 2가의 금속 원자, 3가의 l치환 금속 원자, 4가의 2치환 금속 원자 또는 옥시금속원자를 나타냄)로 표시되는 화합물인 것을 특징으로 하는 디스플레이용 필터.
  46. 제 14항에 있어서, 파장 800∼1100nm의 범위에 흡수 극대를 가지는 근적외선 흡수 색소가 함유되는 것을 특징으로 하는 디스플레이용 필터.
  47. 제 15항에 있어서, 파장 800∼1100nm의 범위에 흡수 극대를 가지는 근적외선 흡수 색소가 함유되는 것을 특징으로 하는 디스플레이용 필터.
  48. 제 16항에 있어서, 파장 800∼1100nm의 범위에 흡수 극대를 가지는 근적외선 흡수 색소가 함유되는 것을 특징으로 하는 디스플레이용 필터.
  49. 제 17항에 있어서, 파장 800∼1100nm의 범위에 흡수 극대를 가지는 근적외선 흡수 색소가 함유되는 것을 특징으로 하는 디스플레이용 필터.
  50. 제 18항에 있어서, 파장 800∼1100nm의 범위에 흡수 극대를 가지는 근적외선 흡수 색소가 함유되는 것을 특징으로 하는 디스플레이용 필터.
  51. 제 19항에 있어서, 파장 800∼1100nm의 범위에 흡수 극대를 가지는 근적외선 흡수 색소가 함유되는 것을 특징으로 하는 디스플레이용 필터.
  52. 제 20항에 있어서, 파장 800∼1100nm의 범위에 흡수 극대를 가지는 근적외선 흡수 색소가 함유되는 것을 특징으로 하는 디스플레이용 필터.
  53. 제 21항에 있어서, 파장 800∼1100nm의 범위에 흡수 극대를 가지는 근적외선 흡수 색소가 함유되는 것을 특징으로 하는 디스플레이용 필터.
  54. 제 1항에 있어서, 기능성 투명층(A)의 표면에 있어서, 가시광선 반사율이 2%이하인 것을 특징으로 하는 디스플레이용 필터.
  55. 제 1항에 있어서, 30∼85%의 가시광선 투과율을 가지는 것을 특징으로 하는 디스플레이용 필터.
  56. 제 1항에 있어서, 파장 800∼1100nm에 있어서의 투과율 극소가 20%이하인 것을 특징으로 하는 디스플레이용 필터.
  57. 제 1항에 있어서, 필터 전체에 있어서의 고분자 필름의 총두께가 0.3mm이상인 것을 특징으로 하는 디스플레이용 필터.
  58. 제 1항에 있어서, 색소를 함유 가능한 총두께 증가용의 고분자 필름을 구비한 것을 특징으로 하는 디스플레이용 필터.
  59. 제 2항에 있어서, 투명 도전층(D)과 전기 접속하는 전극이 형성되는 것을 특징으로 하는 디스플레이용 필터.
  60. 제 3항에 있어서, 투명 도전층(D)과 전기 접속하는 전극이 형성되는 것을 특징으로 하는 디스플레이용 필터.
  61. 제 59항에 있어서, 필터의 둘레가장자리 부분에, 투명 도전층(D)과 전기 접속하는 전극이 원주방향을 따라 연속적으로 형성되는 것을 특징으로 하는 디스플레이용 필터.
  62. 제 60항에 있어서, 필터의 둘레가장자리 부분에, 투명 도전층(D)과 전기 접속하는 전극이 원주방향을 따라 연속적으로 형성되는 것을 특징으로 하는 디스플레이용 필터.
  63. 제 59항에 있어서, 상기 전극이, 일부 노출한 도통부에 형성되는 것을 특징으로 하는 디스플레이용 필터.
  64. 제 60항에 있어서, 상기 전극이, 일부 노출한 도통부에 형성되는 것을 특징으로 하는 디스플레이용 필터.
  65. 제 61항에 있어서, 필터 형상이 직4각형이며, 대향한 2개의 주변에 전극이 형성되는 것을 특징으로 하는 디스플레이용 필터.
  66. 제 62항에 있어서, 필터 형상이 직4각형이며, 대향한 2개의 주변에 전극이 형성되는 것을 특징으로 하는 디스플레이용 필터.
  67. 제 63항에 있어서, 필터 형상이 직4각형이며, 대향한 2개의 주변에 전극이 형성되는 것을 특징으로 하는 디스플레이용 필터.
  68. 제 64항에 있어서, 필터 형상이 직4각형이며, 대향한 2개의 주변에 전극이 형성되는 것을 특징으로 하는 디스플레이용 필터.
  69. 제 61항에 있어서, 필터의 주변가장자리표면에, 투명 도전층(D)과 전기 접속하는 전극이 형성되는 것을 특징으로 하는 디스플레이용 필터.
  70. 제 62항에 있어서, 필터의 주변가장자리표면에, 투명 도전층(D)과 전기 접속하는 전극이 형성되는 것을 특징으로 하는 디스플레이용 필터.
  71. 제 63항에 있어서, 필터의 주변가장자리표면에, 투명 도전층(D)과 전기 접속하는 전극이 형성되는 것을 특징으로 하는 디스플레이용 필터.
  72. 제 64항에 있어서, 필터의 주변가장자리표면에, 투명 도전층(D)과 전기 접속하는 전극이 형성되는 것을 특징으로 하는 디스플레이용 필터.
  73. 제 2항에 있어서, 필터의 두께 방향을 따라 최외표면으로부터 적어도 투명 도전층(D)에 연통하는 구멍이 형성되고,
    상기 연통 구멍의 내부에, 투명 도전층(D)과 전기 접속하는 전극이 형성되는 것을 특징으로 하는 디스플레이용 필터.
  74. 제 2항에 있어서, 투명 도전층(D)과 이 투명도전층(D)에 인접하는 층과의 사이에 도전성 테이프가 개재되어 있는 것을 특징으로하는 디스플레이용 필터.
  75. 화상을 표시하기 위한 디스플레이와,
    디스플레이 화면에 설치되고, 청구항 제 1항에 기재한 디스플레이용 필터를 구비한 것을 특징으로 하는 표시장치.
  76. 표시장치의 디스플레이 화면에, 청구항 제 59항에 기재한 디스플레이용 필터를 투명 점착층(C)을 개재하여 접합시키는 공정과,
    표시장치의 그라운드 도체와 투명 도전층(D)의 전극을 전기 접속하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 표시장치의 제조 방법.
  77. 표시장치의 디스플레이 화면에, 고분자 필름(B), 투명 도전층(D) 및 투명 점착층(C)을 포함한 적층 필터를 투명 점착층(C)을 개재하여 접합시키는 공정과,
    상기 적층 필터상에, 직접 또는 제 2의 점착층을 개재하여, 반사 방지성이나 방현성, 또는 반사방지성과 방현성을 가지는 기능성 투명층(A)을 배치하는 공정과,
    표시장치의 그라운드 도체와 투명도전층(D)을 전기접속하는 공정을 포함하고, 파장 570~650nm의 범위에 흡수 극대를 가지는 색소가 함유되는 것을 특징으로 하는 표시장치의 제조방법.
  78. 표시장치의 디스플레이 화면에, 점착층을 배치하는 공정과,
    고분자 필름(B), 투명 도전층(D), 및 반사 방지성이나 방현성의 어느 한쪽, 또는 반사방지성과 방현성의 양쪽을 지니는 기능성 투명층(A)을 포함한 적층 필터를 상기 점착층을 개재하여 접합시키는 공정과,
    표시장치의 그라운드 도체와 투명 도전층(D)을 전기 접속하는 공정을 포함하고, 파장 570~650nm의 범위에 흡수 극대를 가지는 색소가 함유되는 것을 특징으로 하는 표시장치의 제조방법.
  79. 표시장치의 디스플레이 화면에, 점착층을 배치하는 공정과,
    고분자 필름(B) 및, 투명 도전층(D)을 포함한 적층 필터를 상기 점착층을 개재하여 접합시키는 공정과,
    상기 적층 필터상에, 직접 또는 제 2의 점착층을 개재하여, 반사 방지성이나 방현성, 또는 반사방지성과 방현성을 가지는 기능성 투명층(A)을 배치하는 공정과,
    표시장치의 그라운드 도체와 투명 도전층(D)을 전기 접속하는 공정을 포함하고, 파장 570~650nm의 범위에 흡수 극대를 가지는 색소가 함유되는 것을 특징으로 하는 표시장치의 제조방법.
KR1020027009915A 2000-02-01 2001-02-01 디스플레이용 필터, 표시장치 및 그 제조 방법 KR100590368B1 (ko)

Applications Claiming Priority (12)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2000-00024184 2000-02-01
JPJP-P-2000-00024185 2000-02-01
JP2000024185 2000-02-01
JP2000024184 2000-02-01
JP2000024183 2000-02-01
JPJP-P-2000-00024183 2000-02-01
JPJP-P-2000-00180501 2000-06-15
JP2000180501 2000-06-15
JPJP-P-2000-00213431 2000-07-13
JP2000213431 2000-07-13
JP2000384101 2000-12-18
JPJP-P-2000-00384101 2000-12-18

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20020077410A KR20020077410A (ko) 2002-10-11
KR100590368B1 true KR100590368B1 (ko) 2006-06-15

Family

ID=27554719

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020027009915A KR100590368B1 (ko) 2000-02-01 2001-02-01 디스플레이용 필터, 표시장치 및 그 제조 방법

Country Status (5)

Country Link
US (1) US6965191B2 (ko)
EP (1) EP1267318A4 (ko)
KR (1) KR100590368B1 (ko)
CN (1) CN1234107C (ko)
WO (1) WO2001057833A1 (ko)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100911034B1 (ko) * 2003-03-12 2009-08-06 엘지전자 주식회사 플라즈마 디스플레이 패널의 전면필터
KR20110107501A (ko) * 2010-03-25 2011-10-04 엘지전자 주식회사 디스플레이 장치
KR20150031642A (ko) * 2013-09-16 2015-03-25 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치 및 그 제조 방법
KR20170127573A (ko) * 2009-08-07 2017-11-21 메소드 일렉트로닉스 인코포레이티드 회로 기판 투과 조명 어셈블리 및 방법

Families Citing this family (142)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA2353506A1 (en) 1998-11-02 2000-05-11 3M Innovative Properties Company Transparent conductive oxides for plastic flat panel displays
AU6186500A (en) 1999-08-04 2001-03-05 Skc Co., Ltd Selectively light-absorptive material, coating composition containing the same, and filter manufactured using the coating composition for color displays
KR100939747B1 (ko) * 2001-05-16 2010-02-04 가부시키가이샤 브리지스톤 전자파 실드성 광투과 창재, 그 제조 방법 및 표시 패널
KR100905478B1 (ko) * 2001-10-05 2009-07-02 가부시키가이샤 브리지스톤 투명 전도성 필름 및 터치패널
JP2003255343A (ja) * 2002-03-05 2003-09-10 Citizen Electronics Co Ltd カラー液晶表示装置のフロントライト
TW200428268A (en) * 2002-07-15 2004-12-16 Fuji Photo Film Co Ltd Internal touch panel, and process for producing it and display device
FR2843204B1 (fr) * 2002-08-05 2004-09-17 Saint Gobain Structure de filtrage optique et de blindage electromagnetique
JP4360788B2 (ja) * 2002-08-29 2009-11-11 シチズン電子株式会社 液晶表示板用のバックライト及びそれに用いる発光ダイオードの製造方法
JP2004127719A (ja) * 2002-10-02 2004-04-22 Nippon Hoso Kyokai <Nhk> 透明導電性フィルム及び表示装置
KR100499062B1 (ko) * 2002-11-01 2005-07-01 엘지전자 주식회사 플라즈마 디스플레이 패널
JP4181862B2 (ja) * 2002-11-28 2008-11-19 篠田プラズマ株式会社 発光管アレイ型表示装置
JP2004206076A (ja) * 2002-12-10 2004-07-22 Pioneer Electronic Corp フラットディスプレイ装置
KR20040067483A (ko) * 2003-01-23 2004-07-30 에스케이씨 주식회사 플라즈마 디스플레이 판넬용 전면 필터 및 이의 제조 방법
JP2004241130A (ja) * 2003-02-03 2004-08-26 Seiko Epson Corp 発光ディスプレイパネルおよびその製造方法
US7883421B2 (en) * 2003-03-17 2011-02-08 Igt Gaming apparatus having a display with a conductive coating
KR100515573B1 (ko) * 2003-03-20 2005-09-20 주식회사 엘지화학 플라즈마 디스플레이 패널용 전자파 차폐 필터 및 이의 제조방법
KR20040085699A (ko) * 2003-04-01 2004-10-08 엘지전자 주식회사 플라즈마 디스플레이 패널의 전면필터
TW584356U (en) * 2003-04-25 2004-04-11 Optimax Tech Corp Display panel structure
JP3812550B2 (ja) * 2003-07-07 2006-08-23 セイコーエプソン株式会社 波長可変光フィルタ
KR100630321B1 (ko) * 2003-07-18 2006-09-29 미쓰이 가가쿠 가부시키가이샤 적층체 및 그 용도
EP1511095A3 (en) * 2003-08-19 2011-02-23 LG Display Co., Ltd. Organic electroluminescent device and method of manufacturing the same
US7414204B2 (en) * 2003-10-29 2008-08-19 Samsung Sdi Co., Ltd. Display device and heat dissipating means therefor
DE602004016440D1 (de) 2003-11-06 2008-10-23 Rohm & Haas Elect Mat Optischer Gegenstand mit leitender Struktur
JP4243237B2 (ja) * 2003-11-10 2009-03-25 淳二 城戸 有機素子、有機el素子、有機太陽電池、及び、有機fet構造、並びに、有機素子の製造方法
US20050163958A1 (en) * 2003-11-13 2005-07-28 Yuji Nakatsugawa Optical filter and display using the same
US7709751B2 (en) 2003-12-10 2010-05-04 Lg Chem, Ltd. Method for making film assembly used in PDP filter, film assembly manufactured by the method, and PDP filter with the film assembly
CN100452113C (zh) * 2004-02-20 2009-01-14 日本写真印刷株式会社 电子设备显示窗的保护面板和保护面板的制造方法
US20070264499A1 (en) * 2004-02-23 2007-11-15 Lg Chem, Ltd. Adhesive film functionalizing color compensation and near infrared ray (NIR) blocking and plasma display panel filter using the same
US20050186421A1 (en) * 2004-02-23 2005-08-25 Hyun-Seok Choi Adhesive film functionalizing color compensation and near infrared ray (NIR) blocking and plasma display panel filter using the same
US20070195404A1 (en) * 2004-03-10 2007-08-23 Tomohiko Iijima Transparent laminate
JP4541108B2 (ja) * 2004-04-26 2010-09-08 パナソニック株式会社 プラズマディスプレイ装置
WO2005102954A1 (ja) * 2004-04-26 2005-11-03 Koa Glass Co., Ltd 多発色ガラス容器およびその製造方法
JP4636857B2 (ja) * 2004-05-06 2011-02-23 パナソニック株式会社 プラズマディスプレイ装置
KR20060000775A (ko) * 2004-06-29 2006-01-06 삼성에스디아이 주식회사 이중영상 저감을 위한 광학 필터 및 이를 채용한 플라즈마디스플레이 패널
KR100669721B1 (ko) * 2004-08-18 2007-01-16 삼성에스디아이 주식회사 색감 향상용 전자파 차폐 필름 및 이를 채용한 플라즈마표시 장치
CN100365444C (zh) * 2004-08-31 2008-01-30 精碟科技股份有限公司 光学滤光片制造方法
KR100769900B1 (ko) * 2005-07-21 2007-10-24 엘지전자 주식회사 필름형 전면필터 및 이를 이용한 플라즈마 디스플레이 패널모듈
JP2006098749A (ja) * 2004-09-29 2006-04-13 Fujitsu Hitachi Plasma Display Ltd ディスプレイ用フィルタ
US7569277B2 (en) * 2004-09-30 2009-08-04 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Optical laminate
TWI237409B (en) * 2004-10-08 2005-08-01 Kingbright Electronics Co Ltd Method of fabricating light emitting diode (LED)
US7099067B2 (en) * 2004-11-10 2006-08-29 Photon Dynamics, Inc. Scratch and mar resistant PDLC modulator
KR100592313B1 (ko) * 2004-11-22 2006-06-21 삼성에스디아이 주식회사 플라즈마 디스플레이 패널
US20060121392A1 (en) * 2004-11-24 2006-06-08 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Optical filter and display using the same
EP1666927A1 (de) * 2004-12-03 2006-06-07 Nanogate Advanced Materials GmbH Sonnenschutzfolie
US7567025B2 (en) 2004-12-23 2009-07-28 Lg Electronics Inc. Plasma display panel apparatus with a film filter on panel
KR100761646B1 (ko) * 2004-12-28 2007-09-27 토요 보세키 가부시기가이샤 파장 선택 흡수 필터
KR20060084246A (ko) * 2005-01-19 2006-07-24 삼성에스디아이 주식회사 플라즈마 디스플레이 장치
TWI266902B (en) * 2005-01-19 2006-11-21 Lg Chemical Ltd Filter for plasma display panel with good re-workability and plasma display panel comprising the same
DE602006008746D1 (de) * 2005-01-21 2009-10-08 Asahi Glass Co Ltd Haftklebemittel und optischer filter
JP4660217B2 (ja) * 2005-01-31 2011-03-30 株式会社東芝 記憶媒体、再生方法、記録方法、再生装置及び記録装置
JP4600660B2 (ja) * 2005-02-07 2010-12-15 住友金属鉱山株式会社 高出力レーザー用ファラデー回転子
JP2006244745A (ja) * 2005-03-01 2006-09-14 Hitachi Ltd 表示パネル
KR100767582B1 (ko) * 2005-03-04 2007-10-17 주식회사 엘지화학 Pdp 필터와 그 제조방법
JP4417869B2 (ja) * 2005-03-15 2010-02-17 株式会社東芝 情報記憶媒体、再生方法及び記録方法
US20060231189A1 (en) * 2005-04-15 2006-10-19 Solutia, Inc. Low moisture polymer sheets
KR100761160B1 (ko) * 2005-04-19 2007-09-21 엘지전자 주식회사 플라즈마 표시 장치용 필터 및 그의 제조방법, 이를포함하는 플라즈마 표시 장치
US20060244678A1 (en) * 2005-04-29 2006-11-02 Lg Electronics Inc Filter for display apparatus and plasma display apparatus comprising filter
JP2007532010A (ja) * 2005-06-09 2007-11-08 エルジー・ケム・リミテッド 全面エッチングされた電磁波遮蔽フィルムを用いるpdpフィルタ及びその製造方法
US20060286465A1 (en) * 2005-06-15 2006-12-21 Ji-Suk Kim Film type filter and display apparatus comprising the same
JP4867055B2 (ja) * 2005-06-30 2012-02-01 富士フイルム株式会社 分散型エレクトロルミネッセンス素子
US7973875B2 (en) 2005-08-24 2011-07-05 Toray Advanced Film Co., Ltd Flat-panel display member and its manufacturing method and flat-panel display and its manufacturing method
KR100731862B1 (ko) * 2005-10-11 2007-06-25 엘지전자 주식회사 필름 필터 및 이를 이용한 플라즈마 디스플레이 패널
US20070108897A1 (en) * 2005-11-15 2007-05-17 Jonnalagadda Krishna D Electroluminescent display having electric shock prevention
US20070139576A1 (en) * 2005-12-21 2007-06-21 Alexander Hunt Display module for an electronic device
JP4462197B2 (ja) 2006-01-23 2010-05-12 ソニー株式会社 光学ローパスフィルタ
KR100768200B1 (ko) * 2006-02-01 2007-10-17 삼성에스디아이 주식회사 광학 필터 및 이를 채용한 플라즈마 디스플레이 패널
JP4783301B2 (ja) * 2006-02-08 2011-09-28 株式会社ブリヂストン ディスプレイ用光学フィルタの製造方法、ディスプレイ用光学フィルタ、これを備えたディスプレイ及びプラズマディスプレイパネル
KR100746255B1 (ko) * 2006-03-13 2007-08-03 엘지전자 주식회사 온 사이트형 pdp 전면 필터의 제조 방법 및 이에 의해제조된 전면 필터를 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널
KR20070099830A (ko) * 2006-04-05 2007-10-10 삼성코닝 주식회사 디스플레이 장치용 광학 필터
JP4948022B2 (ja) * 2006-04-13 2012-06-06 株式会社Adeka 光学フィルター
US7508586B2 (en) * 2006-04-14 2009-03-24 Southwall Technologies, Inc. Zinc-based film manipulation for an optical filter
KR20070106328A (ko) * 2006-04-28 2007-11-01 엘지전자 주식회사 디스플레이 장치용 필터 및 이를 포함하는 플라즈마디스플레이 장치
WO2007148411A1 (ja) * 2006-06-22 2007-12-27 Pioneer Corporation 表示装置
KR100962924B1 (ko) * 2006-07-14 2010-06-10 삼성코닝정밀소재 주식회사 전자파 차폐용 광학 부재, 이를 포함하는 광학 필터 및디스플레이 장치
WO2008011546A2 (en) * 2006-07-20 2008-01-24 Cpfilms Inc. Solar control polymer films comprising an aluminum oxide coating
WO2008011547A1 (en) * 2006-07-20 2008-01-24 Cpfilms Inc. Composite, color corrected films comprising an aluminum oxide coating
US8441467B2 (en) * 2006-08-03 2013-05-14 Perceptive Pixel Inc. Multi-touch sensing display through frustrated total internal reflection
CN100462749C (zh) * 2006-08-31 2009-02-18 甘国工 等离子体显示器的具有防电磁辐射及滤光功能的滤光板
JP2008058595A (ja) * 2006-08-31 2008-03-13 Fujitsu Hitachi Plasma Display Ltd 表示パネルモジュール及びその製造方法
JP5022666B2 (ja) * 2006-10-23 2012-09-12 株式会社日立製作所 プラズマディスプレイ装置
KR100837160B1 (ko) * 2006-10-25 2008-06-11 엘지전자 주식회사 플라즈마 디스플레이 장치
KR20080055332A (ko) * 2006-12-15 2008-06-19 엘지전자 주식회사 전자파 차폐용 페이스트의 조성물 및 그를 이용한디스플레이용 필터 및 플라즈마 디스플레이 패널
WO2008081837A1 (ja) * 2006-12-27 2008-07-10 Asahi Glass Company, Limited 反射防止体およびディスプレイ装置
US9822454B2 (en) 2006-12-28 2017-11-21 3M Innovative Properties Company Nucleation layer for thin film metal layer formation
KR100775847B1 (ko) * 2007-01-25 2007-11-13 엘지전자 주식회사 플라즈마 디스플레이 패널
KR100911008B1 (ko) * 2007-05-31 2009-08-05 삼성에스디아이 주식회사 필름형 필터 및 이를 구비하는 플라즈마 디스플레이 장치
WO2009054464A1 (ja) * 2007-10-26 2009-04-30 Teijin Limited 透明導電性積層体及び透明タッチパネル
EP2212726A1 (en) * 2007-10-30 2010-08-04 3M Innovative Properties Company Multi-stack optical bandpass film with electro magnetic interference shielding for optical display filters
US20100258752A1 (en) * 2007-12-12 2010-10-14 Bridgestone Corporation Optical filter, optical filter for display, and display and plasma display panel provided with the optical filter
KR100975200B1 (ko) * 2008-02-29 2010-08-10 삼성에스디아이 주식회사 단일 시트형 필름 필터 및 그 제조방법 및 이를 이용하는플라즈마 디스플레이 장치
US7824777B2 (en) * 2008-03-26 2010-11-02 Southwall Technologies, Inc. Robust optical filter utilizing pairs of dielectric and metallic layers
KR100989129B1 (ko) * 2008-04-03 2010-10-20 삼성모바일디스플레이주식회사 표시 장치
US8329304B2 (en) * 2008-05-27 2012-12-11 Guardian Industries Corp. Plasma display panel including TCC EMI filter, and/or method of making the same
US8350451B2 (en) 2008-06-05 2013-01-08 3M Innovative Properties Company Ultrathin transparent EMI shielding film comprising a polymer basecoat and crosslinked polymer transparent dielectric layer
US20090309838A1 (en) * 2008-06-11 2009-12-17 Microsoft Corporation Use of separation elements with rear projection screen
DE102009026834A1 (de) * 2008-06-11 2009-12-24 Samsung Corning Precision Glass Co., Ltd., Gumi Filter und Anzeigevorrichtung mit demselben
JPWO2010007900A1 (ja) * 2008-07-17 2012-01-05 東レフィルム加工株式会社 ディスプレイ用フィルター
KR20100024132A (ko) * 2008-08-25 2010-03-05 엘지전자 주식회사 플라즈마 디스플레이 장치 및 그 장치의 글래스 필터
CN101928489B (zh) 2008-12-19 2012-07-11 京东方科技集团股份有限公司 颜料分散液、颜料光阻剂和彩色滤光片
KR101298356B1 (ko) * 2008-12-19 2013-08-20 엘지디스플레이 주식회사 액정표시장치
CA2751559A1 (en) * 2009-02-05 2010-08-12 Koninklijke Philips Electronics N.V. Electroluminescent device
US8314986B2 (en) * 2009-03-25 2012-11-20 Fujifilm Corporation Transparent electromagnetic wave-shielding filter and method of producing thereof, and conductive film
CN102365863A (zh) * 2009-03-27 2012-02-29 皇家飞利浦电子股份有限公司 用于置于显示装置前方的装置
US8851693B2 (en) 2009-04-15 2014-10-07 Research Triangle Institute Stimulated lighting devices
US20120112618A1 (en) * 2009-07-29 2012-05-10 Sharp Kabushiki Kaisha Organic electroluminescence illuminating device and method for manufacturing the same
JP5612685B2 (ja) 2009-08-03 2014-10-22 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 光学的に透明な導電金属又は合金薄フィルムの形成プロセス及びこれから製造するフィルム
JP2011113061A (ja) * 2009-11-30 2011-06-09 Brother Industries Ltd 防眩性フィルム及び表示装置
US10654747B2 (en) 2010-03-29 2020-05-19 Vitro Flat Glass Llc Solar control coatings with subcritical copper
US10654748B2 (en) 2010-03-29 2020-05-19 Vitro Flat Glass Llc Solar control coatings providing increased absorption or tint
US9932267B2 (en) 2010-03-29 2018-04-03 Vitro, S.A.B. De C.V. Solar control coatings with discontinuous metal layer
CN101847554B (zh) * 2010-06-01 2011-12-07 四川长虹电器股份有限公司 滤光片电磁屏蔽膜层引出电极的制作方法
JP5785798B2 (ja) * 2010-06-30 2015-09-30 富士フイルム株式会社 帯電防止積層体の製造方法
US8824006B2 (en) * 2010-08-23 2014-09-02 Kabushiki Kaisha Toshiba Color correction apparatus and color correction method
KR101340549B1 (ko) * 2010-12-30 2013-12-11 제일모직주식회사 광학 필름 및 이를 포함하는 디스플레이 필터
JP2012189683A (ja) * 2011-03-09 2012-10-04 Nitto Denko Corp 赤外線反射フィルム
US8749529B2 (en) * 2012-03-01 2014-06-10 Microsoft Corporation Sensor-in-pixel display system with near infrared filter
JP2013196531A (ja) * 2012-03-22 2013-09-30 Japan Display Inc タッチパネルおよびタッチパネル付き表示装置
CN103454859A (zh) * 2012-05-29 2013-12-18 住友化学株式会社 着色固化性树脂组合物
CN102749307A (zh) * 2012-07-27 2012-10-24 哈尔滨工业大学 半透明固体材料光学常数的测量方法
US9498382B2 (en) * 2013-10-29 2016-11-22 Oberon Company Div Paramount Corp. Grey compounded infrared absorbing faceshield
JP2015122148A (ja) * 2013-12-20 2015-07-02 株式会社ジャパンディスプレイ 有機エレクトロルミネッセンス表示装置
KR20150102553A (ko) * 2014-02-28 2015-09-07 (주)엘지하우시스 금속 외관 효과가 우수한 인테리어 필름 및 이의 제조방법
KR20160024003A (ko) * 2014-08-21 2016-03-04 삼성에스디아이 주식회사 윈도우 필름 및 이를 포함하는 디스플레이 장치
JP6507523B2 (ja) * 2014-08-22 2019-05-08 コニカミノルタ株式会社 有機エレクトロルミネッセンス素子
KR102224029B1 (ko) * 2014-08-22 2021-03-09 엘지디스플레이 주식회사 유기발광표시패널 및 표시장치
TWI675907B (zh) 2015-01-21 2019-11-01 日商Jsr股份有限公司 固體攝像裝置
AU2016229066B2 (en) * 2015-03-09 2021-03-11 Hoya Optical Labs Of America, Inc. Anti-static, anti-reflective coating
WO2017010076A1 (ja) * 2015-07-10 2017-01-19 デクセリアルズ株式会社 蛍光体シート、該蛍光体シートを備える白色光源装置、並びに、該白色光源装置を備える表示装置
KR20180072816A (ko) 2015-11-18 2018-06-29 에버릭스, 인크. 디스플레이 응용을 위한 간섭 필터 필름
CN105703839B (zh) * 2016-01-08 2018-01-12 清华大学 一种可见光通信系统
KR20180047513A (ko) * 2016-10-31 2018-05-10 엘지디스플레이 주식회사 액정표시장치
CN107066920A (zh) * 2016-12-23 2017-08-18 浙江大学 指纹识别面板及装置
CN110799866B (zh) * 2017-06-27 2022-05-27 住友化学株式会社 光学膜
CN107219723B (zh) * 2017-08-02 2021-01-22 京东方科技集团股份有限公司 一种金属光栅的制作方法、金属光栅及显示装置
US11065960B2 (en) 2017-09-13 2021-07-20 Corning Incorporated Curved vehicle displays
CN107526127A (zh) * 2017-09-18 2017-12-29 江门市卡色光学有限公司 一种加强钢化滤镜
US11078718B2 (en) 2018-02-05 2021-08-03 Vitro Flat Glass Llc Solar control coatings with quadruple metallic layers
US10562812B2 (en) 2018-06-12 2020-02-18 Guardian Glass, LLC Coated article having metamaterial-inclusive layer, coating having metamaterial-inclusive layer, and/or method of making the same
US10830933B2 (en) 2018-06-12 2020-11-10 Guardian Glass, LLC Matrix-embedded metamaterial coating, coated article having matrix-embedded metamaterial coating, and/or method of making the same
WO2020014064A1 (en) * 2018-07-12 2020-01-16 Corning Incorporated Deadfront configured for color matching
CN113763808A (zh) * 2020-06-05 2021-12-07 华为技术有限公司 柔性显示盖板及其制备方法、柔性显示模组
KR102471503B1 (ko) 2021-10-26 2022-11-28 회명산업 주식회사 디스플레이 패널 보호 코팅용 흑색 대전방지 페이스트 조성물 및 이의 경화물

Family Cites Families (45)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58153904A (ja) 1982-03-08 1983-09-13 Mitsubishi Rayon Co Ltd プラスチツク系フイルタ−
JPS59221943A (ja) 1983-05-31 1984-12-13 Kyowa Gas Chem Ind Co Ltd 色彩が鮮明なカラ−・デイスプレ−
JPS6022102A (ja) 1983-07-18 1985-02-04 Mitsubishi Rayon Co Ltd 光学フイルタ−系
US4841372A (en) * 1986-08-08 1989-06-20 Zenith Electronics Corporation Cathode ray tube contrast enhancement systems
US5271872A (en) * 1988-11-25 1993-12-21 Gentex Corporation Laser-attenuative optical filter
DE69312017T2 (de) 1992-11-06 1997-12-04 Toshiba Kawasaki Kk Antireflektionsschicht und Anzeigegerät mit dieser Schicht
US5506079A (en) 1994-02-28 1996-04-09 Ricoh Company, Ltd. Magnetic composition, magnetic toner and ink containing the magnetic composition
JPH0837105A (ja) 1994-02-28 1996-02-06 Gligorian Leonide 磁性組成物、磁性トナーおよび磁性インク
US5879217A (en) * 1995-02-14 1999-03-09 Sony Corporation Cathode ray tube and method of manufacturing the same
JPH08220303A (ja) 1995-02-17 1996-08-30 Kyodo Printing Co Ltd ディスプレー用光学部材およびその支持方法
JPH0951494A (ja) * 1995-08-07 1997-02-18 Fujitsu General Ltd 光学フィルタ付きプラズマディスプレイ装置
US5804102A (en) * 1995-12-22 1998-09-08 Mitsui Chemicals, Inc. Plasma display filter
JPH09230797A (ja) * 1996-02-20 1997-09-05 Sony Corp 表示装置及びその製造方法
JP3618448B2 (ja) 1996-03-13 2005-02-09 株式会社富士通ゼネラル 電磁波漏洩防止フィルタ
TW446637B (en) * 1996-05-28 2001-07-21 Mitsui Chemicals Inc Transparent laminates and optical filters for displays using the same
JP3473310B2 (ja) * 1996-07-01 2003-12-02 日立化成工業株式会社 電磁波シールド性と赤外線遮蔽性を有するディスプレイ用フィルム、電磁波遮蔽体及びプラズマディスプレイの製造法
JP3841484B2 (ja) 1996-07-25 2006-11-01 オリンパス株式会社 顕微鏡の落射照明システム
JP3753482B2 (ja) 1996-10-22 2006-03-08 三井化学株式会社 透明積層体およびそれを用いたディスプレイ用フィルター
US5945209A (en) 1996-11-07 1999-08-31 Fuji Photo Film Co., Ltd. Anti-reflection film and plasma display panel
JP4148548B2 (ja) 1996-11-07 2008-09-10 富士フイルム株式会社 反射防止フイルムおよびそれを用いたプラズマディスプレイ
JPH10156991A (ja) 1996-11-28 1998-06-16 Asahi Chem Ind Co Ltd 近赤外線吸収特性を備えた反射防止性フィルム
JPH10187056A (ja) 1996-12-19 1998-07-14 Sony Corp 表示装置用フィルター、表示装置及び表示装置用前面板
JP4163268B2 (ja) 1996-12-25 2008-10-08 日東電工株式会社 プラズマデイスプレイパネル用フイルタとこれを用いたプラズマデイスプレイ表示装置
JPH10211668A (ja) 1997-01-31 1998-08-11 Toyobo Co Ltd 赤外線吸収フィルム
JPH11130971A (ja) 1997-07-23 1999-05-18 Ricoh Co Ltd テトラアザポルフィリン化合物とその前駆体及びテトラアザポルフィリン化合物の製造方法
JPH1165463A (ja) * 1997-08-13 1999-03-05 Asahi Chem Ind Co Ltd 波長選択性を兼ねたディスプレイ用前面パネル
JP4111571B2 (ja) 1997-10-13 2008-07-02 株式会社ブリヂストン 表示パネル
US6255778B1 (en) * 1997-10-13 2001-07-03 Bridgestone Corporation Plasma display panel having electromagnetic wave shielding material attached to front surface of display
JPH11126024A (ja) 1997-10-22 1999-05-11 Dainippon Printing Co Ltd ディスプレイ用前面板
JPH11185641A (ja) 1997-12-22 1999-07-09 Bridgestone Corp 表示パネル
JP3997581B2 (ja) * 1998-01-13 2007-10-24 株式会社ブリヂストン 表示パネル
JPH11281816A (ja) 1998-01-28 1999-10-15 Minnesota Mining & Mfg Co <3M> 光フィルター
JPH11212475A (ja) 1998-01-28 1999-08-06 Bridgestone Corp 表示パネル
JP3480898B2 (ja) * 1998-02-12 2003-12-22 日立化成工業株式会社 ディスプレイ用電磁波シールド性フィルム及びディスプレイ用電磁波遮蔽構成体とディスプレイ
JPH11251782A (ja) * 1998-03-06 1999-09-17 Bridgestone Corp 電磁波シールド性光透過窓材
JPH11282365A (ja) * 1998-03-31 1999-10-15 Mitsui Chem Inc プラズマディスプレイ用電磁波シールド
JPH11344935A (ja) 1998-05-29 1999-12-14 Oike Ind Co Ltd デイスプレイ前面板貼着用フイルム積層体およびデイスプレイ前面板
JP2000059085A (ja) 1998-06-04 2000-02-25 Nippon Carbide Ind Co Inc 電磁波シ―ルドフィルム
JP3898357B2 (ja) 1998-09-28 2007-03-28 日東電工株式会社 プラズマディスプレイパネル用フィルター
JP2000216589A (ja) 1999-01-25 2000-08-04 Nippon Carbide Ind Co Inc ディスプレイパネルの電磁波シ―ルド構造
JP2000258626A (ja) 1999-03-09 2000-09-22 Mitsubishi Chemicals Corp プラズマディスプレイ用フィルター
JP3849070B2 (ja) 1999-06-30 2006-11-22 株式会社日立プラズマパテントライセンシング 平面型表示装置
EP1071147A1 (en) * 1999-07-19 2001-01-24 Toshiba Battery Co., Ltd. Battery pack
US6678016B1 (en) * 1999-12-30 2004-01-13 Sony Corporation Filter for display device and display device
US6797396B1 (en) * 2000-06-09 2004-09-28 3M Innovative Properties Company Wrinkle resistant infrared reflecting film and non-planar laminate articles made therefrom

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100911034B1 (ko) * 2003-03-12 2009-08-06 엘지전자 주식회사 플라즈마 디스플레이 패널의 전면필터
KR20170127573A (ko) * 2009-08-07 2017-11-21 메소드 일렉트로닉스 인코포레이티드 회로 기판 투과 조명 어셈블리 및 방법
KR101901347B1 (ko) * 2009-08-07 2018-09-21 메소드 일렉트로닉스 인코포레이티드 회로 기판 투과 조명 어셈블리 및 방법
KR20110107501A (ko) * 2010-03-25 2011-10-04 엘지전자 주식회사 디스플레이 장치
KR101702127B1 (ko) * 2010-03-25 2017-02-02 엘지전자 주식회사 디스플레이 장치
KR20150031642A (ko) * 2013-09-16 2015-03-25 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치 및 그 제조 방법
KR102120423B1 (ko) 2013-09-16 2020-06-09 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치 및 그 제조 방법

Also Published As

Publication number Publication date
EP1267318A4 (en) 2005-12-14
CN1234107C (zh) 2005-12-28
EP1267318A1 (en) 2002-12-18
WO2001057833A1 (fr) 2001-08-09
CN1397057A (zh) 2003-02-12
US20030156080A1 (en) 2003-08-21
US6965191B2 (en) 2005-11-15
KR20020077410A (ko) 2002-10-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100590368B1 (ko) 디스플레이용 필터, 표시장치 및 그 제조 방법
JP3834479B2 (ja) プラズマディスプレイ用フィルタ、表示装置およびその製造方法
KR100540543B1 (ko) 적층체 및 그것을 이용한 표시장치
JP3004222B2 (ja) 透明積層体およびそれを用いたディスプレイ用フィルター
JP2006058896A (ja) プラズマディスプレイ用フィルタ、表示装置およびその製造方法
JP3311720B2 (ja) ディスプレイ用フィルター
KR100767582B1 (ko) Pdp 필터와 그 제조방법
JP3851633B2 (ja) 積層体およびそれを用いた表示装置
JP4705856B2 (ja) 透光性膜、透光性膜の製造方法、透光性電磁波シールド膜、透光性電磁波シールド膜の製造方法、光学フィルター、およびプラズマディスプレイパネル
JP2007088219A (ja) 透光性電磁波シールド膜、ディスプレイパネル用フィルム、ディスプレイパネル用光学フィルター及びプラズマディスプレイパネル
JP3311697B2 (ja) 光学フィルター
JP2007207883A (ja) 透光性電磁波シールド膜、光学フィルター、およびプラズマディスプレイパネル
JP4705857B2 (ja) 透光性膜、透光性膜の製造方法、透光性電磁波シールド膜、透光性電磁波シールド膜の製造方法、光学フィルターおよびプラズマディスプレイパネル
JP3753482B2 (ja) 透明積層体およびそれを用いたディスプレイ用フィルター
JP2002313140A (ja) 透明導電性フィルム及び光学フィルター並びにその製造方法
JP4004161B2 (ja) 透明積層体及びそれを用いたディスプレイ用フィルター
WO2008056947A1 (en) Optical filter for display panel and method of manufacturing same
JP2002323860A (ja) ディスプレイ用光学フィルタならびにこれを用いた表示装置およびディスプレイ用保護板
JP2010041003A (ja) ディスプレイ用光学フィルター及びその製造方法
JP2000147245A (ja) 光学フィルター
JP2003015536A (ja) ディスプレイ用フィルタおよびそれを用いた表示素子
TWI225227B (en) A displaying filter, a display device and a manufacturing method thereof
JP2002324431A (ja) ディスプレイ用フィルタ及びその製造方法
JP2003043937A (ja) ディスプレイ用フィルタおよびそれを用いた表示素子
JP2002318544A (ja) ディスプレイ用フィルタ及びその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20120521

Year of fee payment: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130524

Year of fee payment: 8

LAPS Lapse due to unpaid annual fee