JPH11344933A - 電磁波シールド付き光学フィルタ及びその製造方法 - Google Patents
電磁波シールド付き光学フィルタ及びその製造方法Info
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- JPH11344933A JPH11344933A JP10154603A JP15460398A JPH11344933A JP H11344933 A JPH11344933 A JP H11344933A JP 10154603 A JP10154603 A JP 10154603A JP 15460398 A JP15460398 A JP 15460398A JP H11344933 A JPH11344933 A JP H11344933A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 反射防止効果の高い電磁波シールド付き光学
フィルタを提供する。 【解決手段】 透明基材１の片面全面に設けられた酸化
亜鉛層２と、酸化亜鉛層の上面に所定のパターンに成形
されて設けられた透明樹脂層３と、透明樹脂層の厚さと
略同一の厚さを有し、透明樹脂層のパターンと嵌合する
パターンに成形された電磁波の漏洩を防止するための金
属層４と、平坦化された透明樹脂層と金属層の上面及び
透明基材の下面とに設けられた反射防止層５とを有して
構成されることにより、高い反射防止効果を有する電磁
波シールド付き光学フィルタとすることができる。
フィルタを提供する。 【解決手段】 透明基材１の片面全面に設けられた酸化
亜鉛層２と、酸化亜鉛層の上面に所定のパターンに成形
されて設けられた透明樹脂層３と、透明樹脂層の厚さと
略同一の厚さを有し、透明樹脂層のパターンと嵌合する
パターンに成形された電磁波の漏洩を防止するための金
属層４と、平坦化された透明樹脂層と金属層の上面及び
透明基材の下面とに設けられた反射防止層５とを有して
構成されることにより、高い反射防止効果を有する電磁
波シールド付き光学フィルタとすることができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光の透過率に優れ
た電磁波シールド付き光学フィルタ及びその製造方法に
関する。
た電磁波シールド付き光学フィルタ及びその製造方法に
関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、ＰＤＰ（プラズマディスプレ
イパネル）などから発生する電磁波の外部への漏洩を防
止するための技術が種々提案されている。一般的に広く
知られている電磁波の漏洩防止対策としては、透明基材
上に銀の蒸着膜と誘電膜を交互に重ねる、ワイヤメッシ
ュを透明基材に張り付ける、透明基材上に無電解めっき
により形成した金属層にレジストを塗布し、エッチング
により金属層をパターン化する、などの方法により形成
した電磁波シールド板を画面上に設ける方法である。
イパネル）などから発生する電磁波の外部への漏洩を防
止するための技術が種々提案されている。一般的に広く
知られている電磁波の漏洩防止対策としては、透明基材
上に銀の蒸着膜と誘電膜を交互に重ねる、ワイヤメッシ
ュを透明基材に張り付ける、透明基材上に無電解めっき
により形成した金属層にレジストを塗布し、エッチング
により金属層をパターン化する、などの方法により形成
した電磁波シールド板を画面上に設ける方法である。
【０００３】また、電磁波シールド板をＰＤＰなどの表
示画面の前面に設ける場合、ＰＤＰより放出される近赤
外線の吸収、および光の反射率の低下も重要な課題であ
る。ＰＤＰより放出される近赤外線は、リモートコント
ロール装置あるいは光通信機器等で使用する発光ダイオ
ードの発光スペクトルの中心波長に近い波長であるた
め、装置の近傍でリモートコントロール装置を使用した
場合にこれらの機器の動作に支障を生じる恐れがある。
そこで、近赤外線吸収剤を練り込んだ透明基材を張り付
ける、近赤外線吸収剤をコートしたフィルムをラミネー
トした透明基材を張り付けるなどの方法によりＰＤＰよ
り放出される近赤外線を吸収している。また、ＰＤＰ前
面に設けた透明基材での外光の反射量が増加すると、映
像の不鮮明化などの問題が起こる。この不具合を防止す
るために、屈折率の異なる、反射防止材を複数積層して
なるフィルムをラミネートする、または反射防止剤を塗
布するなどの方法により反射防止層を電磁波シールド板
の片面あるいは両面に形成して光線反射率の低下を図っ
ている。
示画面の前面に設ける場合、ＰＤＰより放出される近赤
外線の吸収、および光の反射率の低下も重要な課題であ
る。ＰＤＰより放出される近赤外線は、リモートコント
ロール装置あるいは光通信機器等で使用する発光ダイオ
ードの発光スペクトルの中心波長に近い波長であるた
め、装置の近傍でリモートコントロール装置を使用した
場合にこれらの機器の動作に支障を生じる恐れがある。
そこで、近赤外線吸収剤を練り込んだ透明基材を張り付
ける、近赤外線吸収剤をコートしたフィルムをラミネー
トした透明基材を張り付けるなどの方法によりＰＤＰよ
り放出される近赤外線を吸収している。また、ＰＤＰ前
面に設けた透明基材での外光の反射量が増加すると、映
像の不鮮明化などの問題が起こる。この不具合を防止す
るために、屈折率の異なる、反射防止材を複数積層して
なるフィルムをラミネートする、または反射防止剤を塗
布するなどの方法により反射防止層を電磁波シールド板
の片面あるいは両面に形成して光線反射率の低下を図っ
ている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、透明基
材上に上述した金属層と反射防止層とを設ける場合、透
明基材上に金属層を形成してから、その上面に反射防止
層を形成することになるが、パターン化した金属層上に
反射防止剤を塗布した場合、金属層の厚みによる透明基
材との凹凸により反射防止剤の塗りムラが発生する。ま
た、パターン化した金属層上に反射防止層を形成したフ
ィルムをラミネートした場合、同一の原因により気泡が
発生する。さらに、電磁波シールド効果を高めるために
金属層の厚さを厚くすると、より塗りムラや気泡が発生
しやすくなる。塗りムラや気泡ができると、反射防止効
果が低下し、画質の低下につながる。
材上に上述した金属層と反射防止層とを設ける場合、透
明基材上に金属層を形成してから、その上面に反射防止
層を形成することになるが、パターン化した金属層上に
反射防止剤を塗布した場合、金属層の厚みによる透明基
材との凹凸により反射防止剤の塗りムラが発生する。ま
た、パターン化した金属層上に反射防止層を形成したフ
ィルムをラミネートした場合、同一の原因により気泡が
発生する。さらに、電磁波シールド効果を高めるために
金属層の厚さを厚くすると、より塗りムラや気泡が発生
しやすくなる。塗りムラや気泡ができると、反射防止効
果が低下し、画質の低下につながる。
【０００５】本発明は上記問題点に鑑みてなされたもの
であり、反射防止効果の高い電磁波シールド付き光学フ
ィルタ及びその製造方法を提供することを目的とする。
であり、反射防止効果の高い電磁波シールド付き光学フ
ィルタ及びその製造方法を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】かかる目的を達成するた
めに本発明の電磁波シールド付き光学フィルタは、透明
基材の片面全面に形成された酸化亜鉛層と、酸化亜鉛層
の上面に所定のパターンに成形されて設けられた透明樹
脂層と、透明樹脂層の厚さと略同一の厚さを有し、透明
樹脂層のパターンと嵌合するパターンに形成された電磁
波の漏洩を防止するための金属層と、透明樹脂層と金属
層の上面に形成された反射防止層とを有することを特徴
としている。
めに本発明の電磁波シールド付き光学フィルタは、透明
基材の片面全面に形成された酸化亜鉛層と、酸化亜鉛層
の上面に所定のパターンに成形されて設けられた透明樹
脂層と、透明樹脂層の厚さと略同一の厚さを有し、透明
樹脂層のパターンと嵌合するパターンに形成された電磁
波の漏洩を防止するための金属層と、透明樹脂層と金属
層の上面に形成された反射防止層とを有することを特徴
としている。
【０００７】上記の透明基材は、近赤外線を吸収する近
赤外線吸収剤を含有しているとよい。
赤外線吸収剤を含有しているとよい。
【０００８】上記の透明樹脂層は、近赤外線を吸収する
近赤外線吸収剤を含有しているとよい。
近赤外線吸収剤を含有しているとよい。
【０００９】本発明の電磁波シールド付き光学フィルタ
の製造方法は、透明基材の片面全面に酸化亜鉛層を形成
し、形成した酸化亜鉛層の上面全面に透明樹脂層を形成
して所定のパターンに成形し、所定のパターンに成形し
た透明樹脂層の空隙部で、酸化亜鉛層が露出した箇所に
無電解めっきにより透明樹脂と略同一の厚さの金属層を
形成し、平坦化された透明樹脂層と金属層の上面に反射
防止層を形成することを特徴としている。
の製造方法は、透明基材の片面全面に酸化亜鉛層を形成
し、形成した酸化亜鉛層の上面全面に透明樹脂層を形成
して所定のパターンに成形し、所定のパターンに成形し
た透明樹脂層の空隙部で、酸化亜鉛層が露出した箇所に
無電解めっきにより透明樹脂と略同一の厚さの金属層を
形成し、平坦化された透明樹脂層と金属層の上面に反射
防止層を形成することを特徴としている。
【００１０】上記の透明基材は、近赤外線を吸収する近
赤外線吸収剤を含有しているとよい。
赤外線吸収剤を含有しているとよい。
【００１１】上記の透明樹脂層は、近赤外線を吸収する
近赤外線吸収剤を含有しているとよい。
近赤外線吸収剤を含有しているとよい。
【００１２】
【発明の実施の形態】次に添付図面を参照して本発明の
電磁波シールド付き光学フィルタ及びその製造方法の実
施の形態を詳細に説明する。図１〜図４を参照すると本
発明の電磁波シールド付き光学フィルタ及びその製造方
法の実施形態が示されている。なお、図１は本発明の電
磁波シールド付き光学フィルタの実施形態の構成を表す
断面構成図、図２は実施形態の各製造過程における構成
を表す図、図３は作成実施例の製造手順及び製造方法を
示すフローチャート、図４は作成実施例の各製造過程に
おける構成を表す図である。
電磁波シールド付き光学フィルタ及びその製造方法の実
施の形態を詳細に説明する。図１〜図４を参照すると本
発明の電磁波シールド付き光学フィルタ及びその製造方
法の実施形態が示されている。なお、図１は本発明の電
磁波シールド付き光学フィルタの実施形態の構成を表す
断面構成図、図２は実施形態の各製造過程における構成
を表す図、図３は作成実施例の製造手順及び製造方法を
示すフローチャート、図４は作成実施例の各製造過程に
おける構成を表す図である。
【００１３】まず、図１を用いて本発明の電磁波シール
ド付き光学フィルタの実施形態の構成を説明する。図１
に示された実施形態は、透明基材１と、透明基材の片面
全面に設けられた酸化亜鉛層２と、酸化亜鉛層上に所定
のパターンで形成された透明樹脂層３と、透明樹脂層の
厚さと略同一の厚さを有し、透明樹脂層のパターンと嵌
合するパターンに成形された金属層４と、透明樹脂層３
及び金属層４の上面と、透明基材１のもう片方の面に設
けられた反射防止層５とにより構成される。
ド付き光学フィルタの実施形態の構成を説明する。図１
に示された実施形態は、透明基材１と、透明基材の片面
全面に設けられた酸化亜鉛層２と、酸化亜鉛層上に所定
のパターンで形成された透明樹脂層３と、透明樹脂層の
厚さと略同一の厚さを有し、透明樹脂層のパターンと嵌
合するパターンに成形された金属層４と、透明樹脂層３
及び金属層４の上面と、透明基材１のもう片方の面に設
けられた反射防止層５とにより構成される。
【００１４】透明基材１には、透明なフィルムまたは板
などが用いられる。透明基板を適用する場合には、ＰＤ
Ｐ等により放出される近赤外線を吸収する近赤外線吸収
剤を含有させてもよい。なお、図１に示された実施形態
では、透明基材として透明基板を用いている。
などが用いられる。透明基板を適用する場合には、ＰＤ
Ｐ等により放出される近赤外線を吸収する近赤外線吸収
剤を含有させてもよい。なお、図１に示された実施形態
では、透明基材として透明基板を用いている。
【００１５】酸化亜鉛層２は、金属層を酸化亜鉛層上の
所定の箇所に選択的に形成するための層である。上面に
酸化亜鉛層を形成したガラス基板を無電解めっきの触媒
となる金属の金属塩を溶かした溶液と接触させると酸化
亜鉛の溶解反応に並行して、金属塩中の金属イオンが酸
化亜鉛の表面及び内部に取り込まれ、さらにこの基板を
無電解めっき浴中に入れると密着性のよい金属層が形成
される。なお、この技術については特開平６−６１６１
９号公報に開示されている。本発明においても、この技
術を利用し、金属層を選択的に形成するために下地に酸
化亜鉛層を設けている。なお、酸化亜鉛層には、ＰＤＰ
などにより発生する電磁波の外部への漏洩を防止する効
果がある。
所定の箇所に選択的に形成するための層である。上面に
酸化亜鉛層を形成したガラス基板を無電解めっきの触媒
となる金属の金属塩を溶かした溶液と接触させると酸化
亜鉛の溶解反応に並行して、金属塩中の金属イオンが酸
化亜鉛の表面及び内部に取り込まれ、さらにこの基板を
無電解めっき浴中に入れると密着性のよい金属層が形成
される。なお、この技術については特開平６−６１６１
９号公報に開示されている。本発明においても、この技
術を利用し、金属層を選択的に形成するために下地に酸
化亜鉛層を設けている。なお、酸化亜鉛層には、ＰＤＰ
などにより発生する電磁波の外部への漏洩を防止する効
果がある。
【００１６】透明樹脂層３は、金属層の透明基材との凹
凸を平坦化するための層である。透明基材上に金属層だ
けを設けた構成で、その上面に反射防止層を形成したフ
ィルムをラミネートすると金属層の厚みによる透明基材
との凹凸が原因で、気泡が発生する。また、金属層の上
面に反射防止剤を塗布すると同一の原因により塗りムラ
が生じる。そこで、本実施形態では、金属層と透明樹脂
層とを略同一の厚さで形成することで、この不具合を防
止している。また、透明樹脂層は、金属層の位置と線幅
を決めるための層でもある。上述したように、下地に酸
化亜鉛層を設けることにより、金属層を選択的に形成す
ることが可能となるので、透明樹脂層を金属層を形成し
ない箇所に先に形成することで、金属層の位置と線幅を
決めることができる。また、透明樹脂にはポリイミドや
アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂が使われる。また、光
学フィルタの透明性を低下させない樹脂であれば、適用
可能である。また、この透明樹脂層にも近赤外線吸収剤
を含有させてもよい。例えば透明基材として透明フィル
ムを用いた場合には、透明樹脂層に近赤外線吸収剤を含
有させる構成であるとよい。
凸を平坦化するための層である。透明基材上に金属層だ
けを設けた構成で、その上面に反射防止層を形成したフ
ィルムをラミネートすると金属層の厚みによる透明基材
との凹凸が原因で、気泡が発生する。また、金属層の上
面に反射防止剤を塗布すると同一の原因により塗りムラ
が生じる。そこで、本実施形態では、金属層と透明樹脂
層とを略同一の厚さで形成することで、この不具合を防
止している。また、透明樹脂層は、金属層の位置と線幅
を決めるための層でもある。上述したように、下地に酸
化亜鉛層を設けることにより、金属層を選択的に形成す
ることが可能となるので、透明樹脂層を金属層を形成し
ない箇所に先に形成することで、金属層の位置と線幅を
決めることができる。また、透明樹脂にはポリイミドや
アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂が使われる。また、光
学フィルタの透明性を低下させない樹脂であれば、適用
可能である。また、この透明樹脂層にも近赤外線吸収剤
を含有させてもよい。例えば透明基材として透明フィル
ムを用いた場合には、透明樹脂層に近赤外線吸収剤を含
有させる構成であるとよい。
【００１７】金属層４は、ＰＤＰなどの電磁波を発生す
る表示装置の前面に設ける場合に、電磁波の外部への漏
洩を防止するために設けられた層である。上述したよう
に下地に酸化亜鉛層を設けておくことにより、先に形成
された透明樹脂層のパターンと嵌合し、透明樹脂層の厚
さと略同一の厚さを有する金属層を形成することができ
る。また、金属層に用いられる金属は銅、ニッケル、
銀、アルミニウムなど良導体の金属である。
る表示装置の前面に設ける場合に、電磁波の外部への漏
洩を防止するために設けられた層である。上述したよう
に下地に酸化亜鉛層を設けておくことにより、先に形成
された透明樹脂層のパターンと嵌合し、透明樹脂層の厚
さと略同一の厚さを有する金属層を形成することができ
る。また、金属層に用いられる金属は銅、ニッケル、
銀、アルミニウムなど良導体の金属である。
【００１８】反射防止層５は、外部より入射する光及び
ＰＤＰなどの表示装置の表示画面からの光の反射率を低
下させるために設けられた層である。この反射防止層を
設けることにより、入射する光の反射量が増加して画面
の視認性を低下させるなどの不具合を防止することがで
きる。また、上述したように金属層と透明樹脂層は略同
一の厚さで形成され、金属層と透明樹脂層との上面は平
坦化されているので、この上面に設ける反射防止層は、
形成方法に関わらず高い反射防止効果を得ることができ
る。また、この反射防止層の代わりにＰＤＰと光学フィ
ルタの間に発生するニュートンリングを防止する効果を
有するアンチグレア層を設けてもよい。
ＰＤＰなどの表示装置の表示画面からの光の反射率を低
下させるために設けられた層である。この反射防止層を
設けることにより、入射する光の反射量が増加して画面
の視認性を低下させるなどの不具合を防止することがで
きる。また、上述したように金属層と透明樹脂層は略同
一の厚さで形成され、金属層と透明樹脂層との上面は平
坦化されているので、この上面に設ける反射防止層は、
形成方法に関わらず高い反射防止効果を得ることができ
る。また、この反射防止層の代わりにＰＤＰと光学フィ
ルタの間に発生するニュートンリングを防止する効果を
有するアンチグレア層を設けてもよい。
【００１９】次に上述した実施形態の製造手順及び製造
方法を図２を用いて説明する。なお、ここでは透明樹脂
層に近赤外線吸収剤を含有させた場合を例に説明する。
まず、透明基材上に酸化亜鉛の薄膜を成膜する。酸化亜
鉛層の形成方法としては、透明基材の表面に酸化亜鉛層
を形成することができるものであればいかなる方法であ
ってもよい。一例として挙げるならば、亜鉛のイオンを
含む溶液をスプレー状にして、空気中、あるいは酸素雰
囲気下で加熱した基板に噴霧する。図２のｂには透明基
材上に酸化亜鉛の薄膜が形成された状態が示されてい
る。
方法を図２を用いて説明する。なお、ここでは透明樹脂
層に近赤外線吸収剤を含有させた場合を例に説明する。
まず、透明基材上に酸化亜鉛の薄膜を成膜する。酸化亜
鉛層の形成方法としては、透明基材の表面に酸化亜鉛層
を形成することができるものであればいかなる方法であ
ってもよい。一例として挙げるならば、亜鉛のイオンを
含む溶液をスプレー状にして、空気中、あるいは酸素雰
囲気下で加熱した基板に噴霧する。図２のｂには透明基
材上に酸化亜鉛の薄膜が形成された状態が示されてい
る。
【００２０】次に酸化亜鉛層の上面全面に近赤外線吸収
剤を含んだ透明樹脂層を形成する。上述したように透明
樹脂層には、ポリイミド、アクリル系樹脂、ウレタン系
樹脂などが用いられる。これらの樹脂を酸化亜鉛層上に
塗布する。図２のｃには近赤外線吸収剤を含有した透明
樹脂層が酸化亜鉛層の上面全面に塗布された状態が示さ
れている。次に図２のｄに示されるように透明樹脂層の
上面全面にレジストを塗布し、マスクを重ねて露光す
る。そして露光に用いたマスクを外して現像液兼エッチ
ング液に浸漬して、透明樹脂層およびレジストを所定の
パターンに成形する。なお、透明樹脂層をパターン化す
るために用いたレジストはパターン形成後剥離する。ま
た、この説明ではレジストを塗布してエッチングにより
パターン化する方法について説明しているが、シルクス
クリーン印刷により酸化亜鉛層上に所定のパターンの透
明樹脂層を印刷してもよい。
剤を含んだ透明樹脂層を形成する。上述したように透明
樹脂層には、ポリイミド、アクリル系樹脂、ウレタン系
樹脂などが用いられる。これらの樹脂を酸化亜鉛層上に
塗布する。図２のｃには近赤外線吸収剤を含有した透明
樹脂層が酸化亜鉛層の上面全面に塗布された状態が示さ
れている。次に図２のｄに示されるように透明樹脂層の
上面全面にレジストを塗布し、マスクを重ねて露光す
る。そして露光に用いたマスクを外して現像液兼エッチ
ング液に浸漬して、透明樹脂層およびレジストを所定の
パターンに成形する。なお、透明樹脂層をパターン化す
るために用いたレジストはパターン形成後剥離する。ま
た、この説明ではレジストを塗布してエッチングにより
パターン化する方法について説明しているが、シルクス
クリーン印刷により酸化亜鉛層上に所定のパターンの透
明樹脂層を印刷してもよい。
【００２１】次にパターン化された透明樹脂層の空隙部
分で、酸化亜鉛層が露出した箇所に金属イオンを付与し
たのち無電解めっきにより金属層を形成する。上述した
ように下地に酸化亜鉛層を設けて金属イオンを付与して
おくことにより、密着性のよい金属層を選択的に酸化亜
鉛層の上部に形成することができる。図２のｇには無電
解めっきにより透明樹脂層と略同一の厚さの金属層が形
成された状態が示されている。そして、無電解めっきに
より平坦な面となった金属層と透明樹脂層の上面に反射
防止層を形成したフィルム、あるいはアンチグレア層を
形成したフィルムをラミネートする。また、透明基材の
下面にも反射防止層を形成したフィルム、あるいはアン
チグレア層を形成したフィルムをラミネートする。
分で、酸化亜鉛層が露出した箇所に金属イオンを付与し
たのち無電解めっきにより金属層を形成する。上述した
ように下地に酸化亜鉛層を設けて金属イオンを付与して
おくことにより、密着性のよい金属層を選択的に酸化亜
鉛層の上部に形成することができる。図２のｇには無電
解めっきにより透明樹脂層と略同一の厚さの金属層が形
成された状態が示されている。そして、無電解めっきに
より平坦な面となった金属層と透明樹脂層の上面に反射
防止層を形成したフィルム、あるいはアンチグレア層を
形成したフィルムをラミネートする。また、透明基材の
下面にも反射防止層を形成したフィルム、あるいはアン
チグレア層を形成したフィルムをラミネートする。
【００２２】上述の実施形態は、透明基材上に酸化亜鉛
層を形成し、その上面に透明樹脂層を設けてパターン化
し、さらに透明樹脂層の空隙部に金属イオンを付与し無
電解めっきにより透明樹脂層の厚さと略同一の厚さの金
属層を形成して、金属層と透明樹脂層とによる面を平坦
化することにより、この面上に反射防止層を形成したフ
ィルムをラミネートした時に気泡が発生することがなく
なる。また、この面上に反射防止剤を塗布した時に塗り
ムラが発生することがない。よって反射防止層の形成方
法に関わらず、高い反射防止効果を有する光学フィルタ
とすることができる。また、金属層の厚さを厚くして
も、透明樹脂層により金属層の基板との凹凸を平坦化し
て、反射防止層を形成する際に生じる不具合を防止する
ことができるので、より強力な電磁波シールド性を光学
フィルタに持たせることができる。
層を形成し、その上面に透明樹脂層を設けてパターン化
し、さらに透明樹脂層の空隙部に金属イオンを付与し無
電解めっきにより透明樹脂層の厚さと略同一の厚さの金
属層を形成して、金属層と透明樹脂層とによる面を平坦
化することにより、この面上に反射防止層を形成したフ
ィルムをラミネートした時に気泡が発生することがなく
なる。また、この面上に反射防止剤を塗布した時に塗り
ムラが発生することがない。よって反射防止層の形成方
法に関わらず、高い反射防止効果を有する光学フィルタ
とすることができる。また、金属層の厚さを厚くして
も、透明樹脂層により金属層の基板との凹凸を平坦化し
て、反射防止層を形成する際に生じる不具合を防止する
ことができるので、より強力な電磁波シールド性を光学
フィルタに持たせることができる。
【００２３】また、透明樹脂層をエッチング法によりパ
ターン化した場合、ワイヤメッシュを透明基材上に張り
付けた場合のようにパターンの形状に変化ができないた
め、部分的モアレが発生することがない。また、シルク
スクリーン印刷により所定のパターンの透明樹脂層を形
成する場合、製造工程の簡略化を図ることができ、低コ
ストで電磁波シールド付き光学フィルタを製造すること
ができる。また、近赤外線吸収剤を含有した透明樹脂層
をシルクスクリーン印刷により形成すると、光を透過し
ない箇所には近赤外線吸収剤が含まれないので、材料費
を削減することができる。また、金属層も不必要な箇所
には成膜されないので、さらに材料費を削減することが
できる。
ターン化した場合、ワイヤメッシュを透明基材上に張り
付けた場合のようにパターンの形状に変化ができないた
め、部分的モアレが発生することがない。また、シルク
スクリーン印刷により所定のパターンの透明樹脂層を形
成する場合、製造工程の簡略化を図ることができ、低コ
ストで電磁波シールド付き光学フィルタを製造すること
ができる。また、近赤外線吸収剤を含有した透明樹脂層
をシルクスクリーン印刷により形成すると、光を透過し
ない箇所には近赤外線吸収剤が含まれないので、材料費
を削減することができる。また、金属層も不必要な箇所
には成膜されないので、さらに材料費を削減することが
できる。
【００２４】また、例えばこの実施形態をＰＤＰの前面
に設けた場合、ＰＤＰにより発生する電磁波の外部への
漏洩を酸化亜鉛層及び金属層で遮断することができる。
また、透明樹脂層と透明基材の何れかに近赤外線吸収剤
を含有させることにより、ＰＤＰより放出される近赤外
線を吸収させることができる。また、平坦化された透明
樹脂層と金属層との上面および透明基材の下面とに反射
防止層を形成することにより、外部より入射する光およ
びＰＤＰなどの表示装置の表示画面からの光の反射率を
低下させて、画面の視認性を低下させるなどの不具合を
防止することができる。
に設けた場合、ＰＤＰにより発生する電磁波の外部への
漏洩を酸化亜鉛層及び金属層で遮断することができる。
また、透明樹脂層と透明基材の何れかに近赤外線吸収剤
を含有させることにより、ＰＤＰより放出される近赤外
線を吸収させることができる。また、平坦化された透明
樹脂層と金属層との上面および透明基材の下面とに反射
防止層を形成することにより、外部より入射する光およ
びＰＤＰなどの表示装置の表示画面からの光の反射率を
低下させて、画面の視認性を低下させるなどの不具合を
防止することができる。
【００２５】また、透明基材の片面、あるいは両面にア
ンチグレア層を設ける構成とした場合、ＰＤＰと光学フ
ィルタとの間に発生するニュートンリングを防止する効
果を光学フィルタに付与することができる。
ンチグレア層を設ける構成とした場合、ＰＤＰと光学フ
ィルタとの間に発生するニュートンリングを防止する効
果を光学フィルタに付与することができる。
【００２６】次に図３及び図４を用いて作成実施例の製
造方法及び製造手順を説明する。まず、ステップＳ１に
て、ガラス基板上に酸化亜鉛薄膜を形成する。酸化亜鉛
薄膜のガラス基板上への形成方法は、４００℃に熱した
ガラス基板に０．０５Ｍの酢酸亜鉛水溶液をスプレイす
る。図４のｂにはガラス基板上に酸化亜鉛層が成膜され
た状態が示されている。
造方法及び製造手順を説明する。まず、ステップＳ１に
て、ガラス基板上に酸化亜鉛薄膜を形成する。酸化亜鉛
薄膜のガラス基板上への形成方法は、４００℃に熱した
ガラス基板に０．０５Ｍの酢酸亜鉛水溶液をスプレイす
る。図４のｂにはガラス基板上に酸化亜鉛層が成膜され
た状態が示されている。
【００２７】次にステップＳ２にて酸化亜鉛薄膜上に近
赤外線吸収剤を含有したポリアミック酸を塗布する。塗
布方法は、スピンナー上に酸化亜鉛層を上面にして固定
されたガラス基板上にこの近赤外線吸収剤含有ポリアミ
ック酸を滴下し、８００ｒｐｍで１０秒間、回転させ
る。なお、この近赤外線吸収剤を含有したポリアミック
酸は、東レ株式会社製、商品名ＳＰ−９７０と、希釈剤
メチルセロソルブと、株式会社日本感光性色素研究所
製、商品名ＮＫ−２０１４とを２０：４０：０．３の割
合で混合したものである。また、ＳＰ−９７０はポリア
ミック酸、ＮＫ−２０１４は近赤外線吸収剤である。次
にステップＳ３にて、この近赤外線吸収剤含有ポリアミ
ック酸をプレベークする。１５０℃に熱せられたホット
プレート上で５分間乾燥させる。図４のｃには近赤外線
吸収剤を含有したポリアミック酸塗布層が酸化亜鉛層上
に形成された状態が示されている。
赤外線吸収剤を含有したポリアミック酸を塗布する。塗
布方法は、スピンナー上に酸化亜鉛層を上面にして固定
されたガラス基板上にこの近赤外線吸収剤含有ポリアミ
ック酸を滴下し、８００ｒｐｍで１０秒間、回転させ
る。なお、この近赤外線吸収剤を含有したポリアミック
酸は、東レ株式会社製、商品名ＳＰ−９７０と、希釈剤
メチルセロソルブと、株式会社日本感光性色素研究所
製、商品名ＮＫ−２０１４とを２０：４０：０．３の割
合で混合したものである。また、ＳＰ−９７０はポリア
ミック酸、ＮＫ−２０１４は近赤外線吸収剤である。次
にステップＳ３にて、この近赤外線吸収剤含有ポリアミ
ック酸をプレベークする。１５０℃に熱せられたホット
プレート上で５分間乾燥させる。図４のｃには近赤外線
吸収剤を含有したポリアミック酸塗布層が酸化亜鉛層上
に形成された状態が示されている。
【００２８】次にステップＳ４にて、ポリアミック酸塗
布層上にレジストを塗布する。本作成実施例では、レジ
スト剤に東京応化工業株式会社製、商品名ＴＬＣＲ−Ｐ
８００８を用いている。スピンナー上に固定したガラス
基板のポリアミック酸塗布層上にレジストを滴下し、１
５００ｒｐｍで一分間、回転させる。そしてステップＳ
５にて、このレジストをプレベークする。１１０℃に熱
せられたホットプレートで２分間乾燥させる。図４のｄ
にはポリアミック酸塗布層上にレジストが塗布された状
態が示されている。
布層上にレジストを塗布する。本作成実施例では、レジ
スト剤に東京応化工業株式会社製、商品名ＴＬＣＲ−Ｐ
８００８を用いている。スピンナー上に固定したガラス
基板のポリアミック酸塗布層上にレジストを滴下し、１
５００ｒｐｍで一分間、回転させる。そしてステップＳ
５にて、このレジストをプレベークする。１１０℃に熱
せられたホットプレートで２分間乾燥させる。図４のｄ
にはポリアミック酸塗布層上にレジストが塗布された状
態が示されている。
【００２９】次にステップＳ６にて、ポリアミック酸塗
布層の上面全面に塗布されたレジストにマスクを重ねて
露光する。そしてステップＳ７にて、現像液兼エッチン
グ液である０．８％のＮａＯＨ溶液に基板を６０秒間浸
漬して、ポリアミック酸塗布層およびレジスト層を所定
のパターンに成形する。図４のｅには、エッチングによ
りレジストとポリアミック酸塗布層とがパターン化され
た状態が示されている。
布層の上面全面に塗布されたレジストにマスクを重ねて
露光する。そしてステップＳ７にて、現像液兼エッチン
グ液である０．８％のＮａＯＨ溶液に基板を６０秒間浸
漬して、ポリアミック酸塗布層およびレジスト層を所定
のパターンに成形する。図４のｅには、エッチングによ
りレジストとポリアミック酸塗布層とがパターン化され
た状態が示されている。
【００３０】次にレジストを剥離し、ステップＳ８にて
近赤外線吸収剤含有ポリアミック酸を焼成してイミド化
する。次にステップＳ９にて、パラジウムイオンを露出
した酸化亜鉛層上に付与する。このパラジウムイオン
は、後で行う無電解めっきの触媒として作用する。０．
００１ＭのＰｄＣｌ2 溶液に基板を５分間浸漬する。次
にステップＳ１０にて、銅の無電解めっきを行う。本作
成実施例では、荏原ユージライト株式会社製、商品名Ｐ
Ｂ−５０３に基板を１０分間浸漬する。これにより図４
のｇに示されたポリアミック酸塗布層の空隙間にポリア
ミック酸塗布層の厚さと略同一の厚さの銅のめっきが形
成された状態となる。なお、この原理については上述し
たように、触媒となるパラジウムの金属塩であるＰｄＣ
ｌ2 を溶かした溶液と接触させた時、酸化亜鉛の溶解反
応に平行して、パラジウムイオンの吸着、あるいは酸化
亜鉛中の亜鉛との交換反応が起こり、酸化亜鉛層の表面
及び内部にパラジウムイオンが取り込まれる。この状態
で、無電解めっき浴中に基板を入れると、酸化亜鉛内部
に取り込まれたパラジウムが無電解めっきの良い触媒と
して作用し、露出した酸化亜鉛層の上面に銅のめっきが
形成される。
近赤外線吸収剤含有ポリアミック酸を焼成してイミド化
する。次にステップＳ９にて、パラジウムイオンを露出
した酸化亜鉛層上に付与する。このパラジウムイオン
は、後で行う無電解めっきの触媒として作用する。０．
００１ＭのＰｄＣｌ2 溶液に基板を５分間浸漬する。次
にステップＳ１０にて、銅の無電解めっきを行う。本作
成実施例では、荏原ユージライト株式会社製、商品名Ｐ
Ｂ−５０３に基板を１０分間浸漬する。これにより図４
のｇに示されたポリアミック酸塗布層の空隙間にポリア
ミック酸塗布層の厚さと略同一の厚さの銅のめっきが形
成された状態となる。なお、この原理については上述し
たように、触媒となるパラジウムの金属塩であるＰｄＣ
ｌ2 を溶かした溶液と接触させた時、酸化亜鉛の溶解反
応に平行して、パラジウムイオンの吸着、あるいは酸化
亜鉛中の亜鉛との交換反応が起こり、酸化亜鉛層の表面
及び内部にパラジウムイオンが取り込まれる。この状態
で、無電解めっき浴中に基板を入れると、酸化亜鉛内部
に取り込まれたパラジウムが無電解めっきの良い触媒と
して作用し、露出した酸化亜鉛層の上面に銅のめっきが
形成される。
【００３１】次にステップＳ１１にて、反射防止フィル
ムを平坦化された銅のパターン層とポリアミック酸塗布
層との上面及びガラス基板の下面とに形成する。本作成
実施例では、反射防止フィルムとして旭硝子株式会社
製、商品名ＡＲＣＴＰ−ＵＲ２０１を用い、５Ｋｇ／ｃ
ｍ2 でラミネートする。これにより、図４のｈに示され
た電磁波シールド付き光学フィルタが完成する。
ムを平坦化された銅のパターン層とポリアミック酸塗布
層との上面及びガラス基板の下面とに形成する。本作成
実施例では、反射防止フィルムとして旭硝子株式会社
製、商品名ＡＲＣＴＰ−ＵＲ２０１を用い、５Ｋｇ／ｃ
ｍ2 でラミネートする。これにより、図４のｈに示され
た電磁波シールド付き光学フィルタが完成する。
【００３２】
【発明の効果】以上の説明より明らかなように請求項１
記載の発明の電磁波シールド付き光学フィルタは、透明
基材の片面全面に形成された酸化亜鉛層と、酸化亜鉛層
の上面に所定のパターンに成形されて設けられた透明樹
脂層と、透明樹脂層の厚さと略同一の厚さを有し、透明
樹脂層のパターンと嵌合するパターンに形成された電磁
波の漏洩を防止するための金属層と、透明樹脂層と金属
層の上面に形成された反射防止層とを有して構成される
ことにより、高い反射防止効果を有する電磁波シールド
付き光学フィルタとすることができる。
記載の発明の電磁波シールド付き光学フィルタは、透明
基材の片面全面に形成された酸化亜鉛層と、酸化亜鉛層
の上面に所定のパターンに成形されて設けられた透明樹
脂層と、透明樹脂層の厚さと略同一の厚さを有し、透明
樹脂層のパターンと嵌合するパターンに形成された電磁
波の漏洩を防止するための金属層と、透明樹脂層と金属
層の上面に形成された反射防止層とを有して構成される
ことにより、高い反射防止効果を有する電磁波シールド
付き光学フィルタとすることができる。
【００３３】請求項２記載の発明の電磁波シールド付き
光学フィルタは、透明基材に近赤外線を吸収するための
近赤外線吸収剤を含有していることにより、例えばＰＤ
Ｐなどにより放出される近赤外線を吸収することができ
る。
光学フィルタは、透明基材に近赤外線を吸収するための
近赤外線吸収剤を含有していることにより、例えばＰＤ
Ｐなどにより放出される近赤外線を吸収することができ
る。
【００３４】請求項３記載の発明の電磁波シールド付き
光学フィルタは、透明樹脂層に近赤外線を吸収するため
の近赤外線吸収剤を含有していることにより、例えば、
ＰＤＰなどにより放出される近赤外線を吸収することが
できる。また、光を透過しない箇所には近赤外線吸収剤
が含まれていないので、材料費を削減することができ
る。
光学フィルタは、透明樹脂層に近赤外線を吸収するため
の近赤外線吸収剤を含有していることにより、例えば、
ＰＤＰなどにより放出される近赤外線を吸収することが
できる。また、光を透過しない箇所には近赤外線吸収剤
が含まれていないので、材料費を削減することができ
る。
【００３５】請求項４記載の発明の電磁波シールド付き
光学フィルタの製造方法は、酸化亜鉛層の上面全面に透
明樹脂層を形成し、形成した酸化亜鉛層の上面全面に透
明樹脂層を形成して所定のパターンに成形し、所定のパ
ターンに成形した透明樹脂層の空隙部で、酸化亜鉛層が
露出した箇所に無電解めっきにより透明樹脂層の厚さと
略同一の厚さを有する金属層を形成して、金属層と透明
樹脂層の上面を平坦化することにより、この面上に反射
防止層を形成したフィルムをラミネートした時に気泡が
発生することがない。また、この面上に反射防止剤を塗
布した時に塗りムラが発生することがない。よって反射
防止層の形成方法によらず、高い反射防止効果を有する
電磁波シールド付き光学フィルタを製造することができ
る。
光学フィルタの製造方法は、酸化亜鉛層の上面全面に透
明樹脂層を形成し、形成した酸化亜鉛層の上面全面に透
明樹脂層を形成して所定のパターンに成形し、所定のパ
ターンに成形した透明樹脂層の空隙部で、酸化亜鉛層が
露出した箇所に無電解めっきにより透明樹脂層の厚さと
略同一の厚さを有する金属層を形成して、金属層と透明
樹脂層の上面を平坦化することにより、この面上に反射
防止層を形成したフィルムをラミネートした時に気泡が
発生することがない。また、この面上に反射防止剤を塗
布した時に塗りムラが発生することがない。よって反射
防止層の形成方法によらず、高い反射防止効果を有する
電磁波シールド付き光学フィルタを製造することができ
る。
【００３６】また、金属層の厚さを厚くしても、透明樹
脂層により金属層の透明基材との凹凸を平坦化して反射
防止層を形成する際に生じる不具合を防止することがで
きるので、より強力な電磁波シールド性を光学フィルタ
に付与することができる。また、金属層が不必要な箇所
には成膜されないため材料費を削減することができる。
脂層により金属層の透明基材との凹凸を平坦化して反射
防止層を形成する際に生じる不具合を防止することがで
きるので、より強力な電磁波シールド性を光学フィルタ
に付与することができる。また、金属層が不必要な箇所
には成膜されないため材料費を削減することができる。
【００３７】また、透明樹脂層をエッチング法によりパ
ターン化した場合、ワイヤメッシュを透明基材に張り付
けた場合のように、パターンの形状に変化が生じないた
め、部分的モアレが発生することがない。また、シルク
スクリーン印刷により所定のパターンの透明樹脂層を形
成した場合、製造工程の簡略化を図ることができる。
ターン化した場合、ワイヤメッシュを透明基材に張り付
けた場合のように、パターンの形状に変化が生じないた
め、部分的モアレが発生することがない。また、シルク
スクリーン印刷により所定のパターンの透明樹脂層を形
成した場合、製造工程の簡略化を図ることができる。
【００３８】請求項５記載の発明の電磁波シールド付き
光学フィルタの製造方法は、透明基材に近赤外線を吸収
する近赤外線吸収材を含有させることにより、例えばＰ
ＤＰなどにより放出される近赤外線を吸収することがで
きる。
光学フィルタの製造方法は、透明基材に近赤外線を吸収
する近赤外線吸収材を含有させることにより、例えばＰ
ＤＰなどにより放出される近赤外線を吸収することがで
きる。
【００３９】請求項６記載の発明の電磁波シールド付き
光学フィルタの製造方法は、近赤外線吸収剤を含有した
透明樹脂層を形成することにより、例えばＰＤＰなどに
より放出される近赤外線を吸収することができる。ま
た、この近赤外線吸収剤を含有した透明樹脂層をシルク
スクリーン印刷により形成すると、光を透過しない箇所
には近赤外線吸収剤が含まれていないので、材料費を削
減することができる。
光学フィルタの製造方法は、近赤外線吸収剤を含有した
透明樹脂層を形成することにより、例えばＰＤＰなどに
より放出される近赤外線を吸収することができる。ま
た、この近赤外線吸収剤を含有した透明樹脂層をシルク
スクリーン印刷により形成すると、光を透過しない箇所
には近赤外線吸収剤が含まれていないので、材料費を削
減することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の電磁波シールド付き光学フィルタの実
施形態の断面構成を表す図である。
施形態の断面構成を表す図である。
【図２】実施形態の各製造過程における構成を表す図で
ある。
ある。
【図３】作成実施例の製造方法及び製造手順を示すフロ
ーチャートである。
ーチャートである。
【図４】作成実施例の各製造過程における構成を表す図
である。
である。
１ 透明基材 ２ 酸化亜鉛層 ３ 透明樹脂層 ４ 金属層 ５ 反射防止層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｈ０１Ｊ 11/02 Ｈ０５Ｋ 9/00 Ｖ Ｈ０５Ｋ 9/00 Ｇ０２Ｂ 1/10 Ｚ
Claims (6)
- 【請求項１】 透明基材の片面全面に形成された酸化亜
鉛層と、 前記酸化亜鉛層の上面に所定のパターンに成形されて設
けられた透明樹脂層と、 前記透明樹脂層の厚さと略同一の厚さを有し、前記透明
樹脂層のパターンと嵌合するパターンに形成された電磁
波の漏洩を防止するための金属層と、 前記透明樹脂層と前記金属層の上面に形成された反射防
止層とを有することを特徴とする電磁波シールド付き光
学フィルタ。 - 【請求項２】 前記透明基材は、近赤外線を吸収する近
赤外線吸収剤を含有していることを特徴とする請求項１
記載の電磁波シールド付き光学フィルタ。 - 【請求項３】 前記透明樹脂層は、近赤外線を吸収する
近赤外線吸収剤を含有していることを特徴とする請求項
１記載の電磁波シールド付き光学フィルタ。 - 【請求項４】 透明基材の片面全面に酸化亜鉛層を形成
し、該形成した酸化亜鉛層の上面全面に透明樹脂層を形
成して所定のパターンに成形し、該所定のパターンに成
形した透明樹脂層の空隙部で、前記酸化亜鉛層が露出し
た箇所に無電解めっきにより前記透明樹脂と略同一の厚
さの金属層を形成し、平坦化された前記透明樹脂層と前
記金属層の上面に前記反射防止層を形成することを特徴
とする電磁波シールド付き光学フィルタの製造方法。 - 【請求項５】 前記透明基材は、近赤外線を吸収する近
赤外線吸収剤を含有していることを特徴とする請求項４
記載の電磁波シールド付き光学フィルタの製造方法。 - 【請求項６】 前記透明樹脂層は、近赤外線を吸収する
近赤外線吸収剤を含有していること特徴とする請求項４
記載の電磁波シールド付き光学フィルタの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15460398A JP4002672B2 (ja) | 1998-06-03 | 1998-06-03 | 電磁波シールド付き光学フィルタ及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15460398A JP4002672B2 (ja) | 1998-06-03 | 1998-06-03 | 電磁波シールド付き光学フィルタ及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11344933A true JPH11344933A (ja) | 1999-12-14 |
| JP4002672B2 JP4002672B2 (ja) | 2007-11-07 |
Family
ID=15587801
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15460398A Expired - Fee Related JP4002672B2 (ja) | 1998-06-03 | 1998-06-03 | 電磁波シールド付き光学フィルタ及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4002672B2 (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003045125A1 (fr) * | 2001-11-20 | 2003-05-30 | Bridgestone Corporation | Materiau de fenetre transmettant la lumiere et protege contre les ondes electromagnetiques et procede de fabrication de ce materiau |
| KR100582275B1 (ko) * | 2002-11-06 | 2006-05-23 | 삼성코닝 주식회사 | 플라즈마 디스플레이 패널용 필터 및, 그것의 제조 방법 |
| CN100438738C (zh) * | 2002-08-08 | 2008-11-26 | 大日本印刷株式会社 | 电磁波屏蔽用薄片 |
| JP2010055061A (ja) * | 2008-07-31 | 2010-03-11 | Dainippon Printing Co Ltd | 光学フィルタおよびその製造方法 |
| JP2013029708A (ja) * | 2011-07-29 | 2013-02-07 | Fujifilm Corp | 近赤外線カットフィルターおよび近赤外線カットフィルターの製造方法 |
| JP2013050593A (ja) * | 2011-08-31 | 2013-03-14 | Fujifilm Corp | 近赤外線カットフィルタおよび近赤外線カットフィルタの製造方法 |
| KR101532716B1 (ko) * | 2008-12-31 | 2015-07-02 | 미래나노텍(주) | 광학 필터 및 그 제조 방법 |
-
1998
- 1998-06-03 JP JP15460398A patent/JP4002672B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| EP1455562A1 (en) * | 2001-11-20 | 2004-09-08 | Bridgestone Corporation | ELECTROMAGNETIC WAVE SHIELDED LIGHT−TRANSMISSIVE WINDOW MATERIAL AND MANUFACTURING METHOD THEREOF |
| EP1455562A4 (en) * | 2001-11-20 | 2008-05-07 | Bridgestone Corp | LIGHT-EMITTING WINDOW-WINDING MATERIAL AND ELECTROMAGNETIC WAVE PROTECTOR AND METHOD OF MANUFACTURING SUCH MATERIAL |
| US7560135B2 (en) | 2001-11-20 | 2009-07-14 | Bridgestone Corporation | Electromagnetic-wave shielding and light transmitting plate and manufacturing method thereof |
| CN100438738C (zh) * | 2002-08-08 | 2008-11-26 | 大日本印刷株式会社 | 电磁波屏蔽用薄片 |
| KR100582275B1 (ko) * | 2002-11-06 | 2006-05-23 | 삼성코닝 주식회사 | 플라즈마 디스플레이 패널용 필터 및, 그것의 제조 방법 |
| JP2010055061A (ja) * | 2008-07-31 | 2010-03-11 | Dainippon Printing Co Ltd | 光学フィルタおよびその製造方法 |
| KR101532716B1 (ko) * | 2008-12-31 | 2015-07-02 | 미래나노텍(주) | 광학 필터 및 그 제조 방법 |
| JP2013029708A (ja) * | 2011-07-29 | 2013-02-07 | Fujifilm Corp | 近赤外線カットフィルターおよび近赤外線カットフィルターの製造方法 |
| JP2013050593A (ja) * | 2011-08-31 | 2013-03-14 | Fujifilm Corp | 近赤外線カットフィルタおよび近赤外線カットフィルタの製造方法 |
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