JPS62215202A - 電磁波シ−ルド性を有する光透過板 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は電磁波シールド性を有するプラスチック光透過
板に関する。さらに詳しくはディスプレイやテレビのブ
ラウン管などから発生する有害な電磁波を有効に遮断す
ることが可能であると同時に、耐久性のある反射防止機
能を奏する光透過板に関する。

［従来の技術］ オフィスオートメーション機器、例えばワードプロセッ
サーや各種のコンピュータなどのディスプレイや、ゲー
ム器、テレビのブラウン管などからは有害な電磁波が多
量に発生しており、健康障害が指摘されたり、また他の
機器への障害が問題となっている。たとえばコンピュー
タに誤信号が入ったり、テレビとステレオを同時につけ
るとステレオから雑音が聞えることはしばしば見受けら
れる。

そこで従来よりかかる障害を取り除くため種々の改良が
なされてきた。その有効な手段は金属などの導電物で覆
うことである。たとえば細い繊維の表面にカーボンを粘
着させてメツシュ構造にしたものを貼りつけるとか、蝶
理株式会社の商品名“アイセーバー″のように、合わせ
ガラスの内部に金属細線を導入させたものがある。

しかしこれらの方法ではディスプレーから発生する光を
透過しない部分を生ずるので、ワードプロセツサーなど
の使用者にとっては児にくいという欠点を有していた。

また他の公知例としては、ガラス基材に対して゛４；′
電物質を高温蒸着した技術が提案されているが（特公昭
４９−１８４４７号公報）、この方法ではプラスチック
基材は軟化あるいは溶融するものが多く、また表面に傷
がつき易いという欠点を改良できず利用できないもので
あった。

従ってプラスチックの透明板に対しては、その有効な技
術がなく、現在のところ全く改善がなされていないのが
現状である。

さらに反射防止技術に関しては、特開昭５９−４８７０
２号公報、特開昭５９−７８３０１号公報、特開昭５９
−７８３０４号公報にはプラスチック基材の表面にポリ
オルガノシラン系ハードコート膜あるいは、エポキシ樹
脂硬化膜を施した上に、無機物からなる反射防止膜をコ
ートする方法が開示されている。

また特開昭５６−１１３１０１号公報に開示されている
技術は、高硬度で反射防止性を有している反面、密着性
、耐熱性、耐衝撃性、耐熱水性、耐候性などを低下させ
大きな問題がある。

また特公昭４５−６１９３号公報、特開昭５９−４８７
０２号公報、特開昭５９−７８３０１号公報、特開昭５
９−７８３０４Ｑ公報に開示されている技術は、反射防
止性を有する反面、基材に対する密着性が不充分で傷が
深く、かつ太く発生し使用上において大きな欠点を有す
る。さらには水、アルコールなどに浸され易く、熱水浸
漬後の密着性、耐候密着性などに大きな問題がある。

以上従来技術をレビューしたが、これらの技術はいずれ
も基材の上のハードコート層と、その表層の蒸着膜（反
射防止層）との密着性に問題があり、長期間使用すると
蒸着膜（反射防止Ｎ）が鱗片状に剥離してくるという欠
点を有していた。

［発明が解決しようとする問題点］ 本発明は上記従来技術の欠点を改善する技術を提供する
。すなわちプラスチックの透明板であっても、表層に導
電層をコーティングすることにより電磁波をシールドで
き、かつ表面硬度の低いプラスチック材料であっても、
表面にシリカ層を設けて硬度を高め傷がつきにくい特性
を付与し、かつ導電層のさらに表層に低屈折率の層を設
けることにより、反射防止機能を付与すると同時に、特
に密着強度、及び耐久性に優れ、耐すり陽性、耐摩耗性
、耐衝撃性、耐薬品性、可撓性、耐熱性、耐光性、耐候
性、帯電防止性などにも優れた多層反射防止膜を有する
光学物品を提供するものである。

「問題点を解決するための手段］ 上記目的を達成するため本発明は下記の構成を有する。

「プラスチック透明基材の一方の面に耐擦過性を有する
ハードコート層を設（プ、その表層に導電層を設け、さ
らにその表層に前記導電層の屈折率よりも低い屈折率の
層を設けるとともに、該プラスチック透明基材の他方の
面に、多層反射防止膜を設けたことを特徴とする電磁波
シールド性を有する光透過板。」 第１図は本発明の好ましい電磁波シールド性及び静電気
除去性を有する光透過板の１実施態様の断面を示す。プ
ラスチック透明基材１の上に耐擦過性を有するハードコ
ート層２を設け、その表層に導電層３を設（プ、さらに
その表層に前記導電層の屈折率よりも低い屈折率の層４
を設けたものである。そして反対面にも耐擦過性を有す
るハードコート層２′と反射防止層２０を設けたもので
ある。５は導電層が露出している部分である。導電層３
を有する面が画像発生面すなわち陰極線管（ブラウン管
＞（ＣＲＴ）などの面に向くように設置する。

第２図は第１図の導電層３を有する面から見た平面図で
ある。導電層が露出している部分５は外枠に隠れる部分
の全面に設けてもよいし、一部であってもよい。そして
電磁波シールドのため、及び／又は静電気除去のため導
電層と接触するように金属枠を回りに設けるか、又はア
ース線６を引き出す。アース線６は好ましくは、隅の部
分から引き出す。

第３〜７図は本発明の好ましいアース線の取り一　〇　
− 出し例を示す。第３図においては、光透過板自体に孔９
を設け、金具６ａを用いてアース線１５を接続する。こ
の接続においては金属バッキングを用いることが好まし
い。固定具としては止めねじ１０ａとナツト１０ｂ、ま
たはカシメ用ハトメなどを用いて固定することが好まし
い。第４図はカシメ用ハトメを用いた固定方法である。

そして美観のためこの接続部全体をプラスデック製カバ
ー１１で覆う。第５図は光透過板と略平行に金具６ａを
カバー１１内に取り付けた例である。

次に第６図は孔９にナツトへリサート１２を用い、金具
６ａを介してアース線１５を取り付けた例である。この
場合、カバー１１に孔１１ａを予め開けておけば、ねじ
１３の取り外しが容易となり光透過板の取り外しや掃除
のときに便利である。

第７図はシールドの取り出しをアジャスト１４ａ、１４
ｂを用いて実施した例である。

第８図は本発明の好ましい多層反射防止膜を有する光学
物品の１実施態様の断面を示す。プラスチック透明基材
１の他方の面に耐擦過性を有するハードコート層２−を
設け、さらにその表層に前記を順番に設けたものである
。

本発明において、プラスチック透明基材の上に耐擦過性
を有するハードコート層を設けることがまず必要である
。ここでプラスチックとは、公知のいかなるものであっ
てもよい。また透明基材とは、光が通過し得るものであ
ればいかなるものでおってもよい。ワードプロセッサー
などのディスプレーの前面に使用するものにあっては、
原着、または染色により可視光線透過率を２５〜７０％
としたものが好ましい。目の疲労を減少するためである
。また耐擦過性を有するハードコート層とは、ポリオル
ガノシロキサン、シリカ、アルミナなどの硬度の高いコ
ーティング層、またはアクリル成分を含む層をいう。プ
ラスチック製品の表面は一般に傷がつき易いので、これ
を改良するため、及び表層にコートする電磁波シールド
層のアンダーコートして密着性を高めるためである。そ
して特に好ましくは、ハードコート層はメチルトリメト
キシシラン、およびビニルトリエトキシシラン、または
これらの加水分解物をコーティングした後に加熱縮合さ
せたポリオルガノシロキサンである。

ハードコート層の好ましい膜厚は、１〜１０ミクロン程
度である。

またアクリル系ハードコート層とは、メタクリル酸など
のアクリル化合物と、ペンタエリスリトール、グリセリ
ンなどの多官能グリコールとのエステル化合物を架橋さ
せたものなどをいう。

次に本発明においては、前記のハードコート層の表層に
導電層を設ける。電磁波を有効に遮断するためでおる。

導電層としては、可視光線を透過し得るものであればい
かなるものであってもよいが、好ましくは、Ｉｎ２Ｏ３
（酸化インジウム）と５ｎＯ２（酸化スズ）との混合物
（以下ＩＴＯという。）である。導電性能が高く、電磁
波を有効に遮断でき、さらに可視光線を透過できるから
である。ＩＴＯ層の膜厚はかかる効果を奏する程度であ
ればいかなる厚さでもよいが、好ましくは１００〜３０
００人である。３０００Å以上ではひび割れの欠点を生
じ易くなる。かかるＩＴＯ層はスパッタリング法でコー
ティングすることができる。他の方法としては、１５０
℃以下で酸素雰囲気中、高周波放電によるプラズマを用
いて蒸着し、同時にイオン銃を用いてアシストする技術
も採用することができる。

次に本発明においては、前記導電層の表層に、導電層の
屈折率よりも低い屈折率の層を設けることが必要である
。導電層は一般に金属の層からなるので屈折率が高く、
例えば前記ＩＴＯ層の屈折率は約２．０である。しかし
これでは反射が高過ぎ、使用者の目が疲れる。従って高
い屈折率の導電層の表層に低い屈折率の層を設けること
により、反射防止機能を与えることが必要となるのであ
る。

かかる低屈折率の層としては公知のいかなる層であって
もよいが、好ましくは無機のシリカを含む層である。か
かる無機シリカ層は、シリカをスパッタリング、あるい
は真空蒸着することにより得ることができる。膜厚は可
視光線を反射防止できる程度の厚さであればいかなる厚
さでもよい。

本発明においては、上記の積層をプラスチック基材の１
面または２面に設ける。１面に設けた場合は、反対面の
傷付防止をするため、少くとも上記で説明した第１層の
ハードコートを設けることが好ましく、さらにはハード
コート層の表面に反射防止層を設けることである。

次に本発明においては、前記の第１番目の発明の導電層
の面と反対方向の面に、多層反射防止膜を設けるもので
ある。

前記のハードコート層の表層にまず第１層として、酸化
ジルコニウムを主成分とする層を設ける。

酸化ジルコニウムを主成分とする層は、下のハードコー
ト層と上の二酸化ケイ素を主成分とする層の双方に対し
、バインダーとして密着強度を向上させる効果を発揮す
ると同時に、第２層の二酸化ケイ素を主成分とする層と
組み合わせて等価膜とすることにより、第３層、第４層
と比べて中屈折率とするためである。

次に本発明においては、前記の第１層の表層に第２層と
して、二酸化ケイ素を主成分とする層を設ける。第１層
と第３層の双方の層に対して密着強度を向上させる効果
を発揮すると同時に、第１層の酸化ジルコニウムを主成
分とする層と組み合わせて等測成とすることにより、第
３層、第４層と比へて中屈折率とするためである。　以
上第１層と第２層は全体として中屈折率の層となる。

次に第３層として、酸化チタンを主成分とする層を設け
、その上に第４層として二酸化ケイ素を主成分とする層
を設【ブる。第３＠に高屈折率層を、第４層に低屈折率
層を設りれば、第１．２層の中屈折率層と相俟って仝休
として反射防止機能に優れた膜が達成されるからである
。

本兇明において前記第１〜４層は、真空蒸着、ま゛たは
スパッタリングによって設けることができる。より好ま
しくは真空蒸着である。イオンビームアシスｌ−などの
方法も適宜応用してもよい。また第１層の酸化ジルコニ
ウムには、本発明の効果を低下させない範囲において酸
化チタンなどを加えてもよく、同様に第３層の酸化チタ
ンの図にはＴａ２０５などを混合してもよい。

膜厚は可視光線を反射防止できる程度の厚さであれぽい
かなる厚さでもよい。好ましい光学的膜厚は、設計波長
λ０としたとき、／１．５０〜５５０ｒ１ｍの範囲にお
いて 第１層；０１０５〜０．１５２０ 第２層；　０．０５〜０．１５２０ 第３＠；０１３６〜０．４９２０ 第４＠；　０，１５〜０．３５２０ である。このうちとくに第１１層は０．２５λ０で必る
ことが好ましい。

本発明においては、上記の多層反射防止膜をプラスチッ
ク基材の１面または２而に設ける。１面に設置づた場合
は、反対面の傷付防止をするため、少くとも上記で説明
したハートコートを設けることが好ましい。また本発明
の多層反射防止膜を１面に設け、反対面にはハートコー
ト層、酸化インジウム・酸化スズ層（いわゆるＩＴＯ膜
）を設（プるか、またはこの１ＴＯ膜の上に二酸化ケイ
素を主成分とする層を設け、片面は反ｑ］防止層、他の
片面は電磁波シールド性を有する層とすることもできる
。前記において、最外層にＩＴＯ層を設け＝　１６　− た場合は比較的薄く膜（１００〜５００人程度）が好ま
しく、ＩＴＯ膜の上に二酸化ケイ素を主成分とする層を
設けるときは比較的厚い膜（たとえば５００〜１０００
人程度）が好ましい。

なお本発明品には静電気を除去するためにアースを取り
つけてもよい。この場合、前記ＩＴＯ膜があるときはア
ースはＩＴＯ膜から直接取るか、または導通状態にして
ことおくが好ましい。また伯の手段として、本発明品の
周囲に金属製の枠を取りつけ、静電気を放電させてもよ
い。この場合も、前記ＩＴＯ膜があるときは金属枠はＩ
ＴＯ膜と直接接するか、または導通状態にしておくこと
が好ましい。

なお本発明の導電膜または多層膜は「オージェ電子分光
測定法」によって分析することができる。

この方法は、高真空中に置いた試料表面に電子ビームを
照射し、表面から出たオージェ電子をアナライザーでエ
ネルギー分割して検出する。

測定条件としては、下記のとおりである。

測定装置二日本電子株式会社製“ＪＡＭＰ−１０８”最
表面分析時：１Ｘ１０−７Ｐａ 深さ方向分析時：６Ｘ１０−６Ｐａ（Ａｒ雰囲気）サン
プリング：試料の端を銅板で押さえて試料台に固定する
。

加速電圧：３．ＱＫＶ 試料電流：１Ｘ１０−８Ａ ビーム直径：１μｍ スリット：Ｎｏ、５ 試料傾斜角度：４０〜７０度 Ａｒイオンエツチング条件 加速電圧：３．ＱＫＶ 試料電流：３Ｘ１０−７Ａ エツチング速度：２００人／ｍｉｎ　　（Ｓｉ０２の場
合）本発明の電磁波シールド性を有する光透過板の用途
は、テレビやディスプレーの画面のフィルター（いわゆ
る光学フィルター）に特に有効である。

その他眼鏡などのレンズや、フィルム、成形物としての
用途も期待できる。

［実施例］ 以下実施例を用いてより詳細に説明する。

−１８＝ 実施例１ 基材として市販のポリメタクリレート板（三菱レイヨン
株式会社製、商標″アクアライト”ＬＮ−０８４、グレ
ー原着、厚さ約２ｍｍ）を使用した。ハードコート用塗
料としては、特開昭５９−１１４５０１号公報の実施例
１の記載のとおり、ビニルトリエトキシシラン氷酢酸で
加水分解したものと、メチルトリエトキシシランを氷酢
酸で加水分解したものを混合して用いた。この混合溶解
物に硬化剤である酢酸ナトリウムを加え、ざらにシリコ
ーン系表面平滑剤を加えて塗料とした。

この塗料を基材の表面に２ミクロンの厚さに塗布し、加
熱キュアした。

次いで基板の一方の面であって、かつ前記のハードコー
ト層の上に、導電層として、スパッタリング法でＩｎ２
（１３（［化インジウム）と５ｎＯ２（酸化スズ）との
混合物をコーティングし、７００人の膜厚とした。スパ
ッタリング法の条件は、特開昭６０−３２０５３号公報
の実施例７〜９に記載されているとおり１．インジウム
−錫合金（錫；１０重量％）をターゲットとして、マグ
ネトロンスパッタ装置を用いて、アルゴンガスと酸素の
混合ガス（酸素３０体積％）を導入しながら、１×１０
’Ｔｏｒｒの圧力で行なった。

次いで反射防止膜として、真空蒸着装置（真空機械工業
製ＢＭＣ−８００Ｔ型）を用いてＥＢ法により、二酸化
ケイ素膜を形成した。膜厚は９４０人であった。

また基板の導電層の反対の面には、上記のハードコート
層を設け、次に下記の反射防止層を設けた。

（１）　　第１層二酸化ジルコニウムを主成分とする層
、光学的膜厚（ｎｄ）約４５ｎｍ、真空度３Ｘ１０−”
ＴＯＲＲ（ｌ素導入） （２）　　第２層；二酸化ケイ素を主成分とする層、光
学的膜厚（ｎｄ）約４０ｎｍ、真空度１　Ｘ　１０−”
ＴＯＲＲ（３）　　第３層；酸化チタンを主成分とする
層、光学的膜厚（ｎｄ）約１９６ｎｍ、真空度４　Ｘ　
１０−５ＴＯＲＲ（酸素導入） （４）　　第４層：二酸化ケイ素を主成分とする層、光
学的膜厚（ｎｄ）約１１０ｎｍ、真空度１Ｘ１０−５０
ＲＲ （ただし上記（１）〜（４）において光学的膜厚は設計
波長４８０ｎｍ使用。） 上記の方法及び条件で得られた本発明品は、青紫色の反
射干渉色を有し、５５０ｎｍにおける表面反射率は約０
．３％と極めて優れた反射防止性を有していた。

また表面が硬く、−辺が２ｃｍの正方形のポリエステル
編物に水通水をたらしたものを表面に置き、２ｋｇの荷
重をかけて２，０００往復擦過するテストを行゛ったが
、全く損傷を認めなかった。

更に屋外に１月間放置し暴露試験をしたが、反射防止膜
の剥離等、表面の損傷はなかった。

得られたプラスチックコーティングされた光透過板は、
周波数１０ＧＨ２における電磁波の透過量は約１０分の
１に減衰することができた。さらにこれをワードプロセ
ッサーの光学フィルターとして使用したところ、反射防
止機能に優れ、使用者の目が疲れない点において著るし
い効果があつた。

また表面の硬度が高く、傷のつきにくいものであった。

実施例２ 実施例１において、基材の表面にハード−コート層を設
ける工程まで同一とし、次にアンダーコートとして約１
００人の二酸化ケイ素膜をスパッタリング法で形成し、
次に実施例１と同様にスパッタリング法によるＩＴＯ層
（１４００人の膜厚）と、その上に真空蒸着法により、
二酸化ケイ素膜を形成した。

また基材の反対面は実施例１と同様にハード−コート層
を設けた上に、真空蒸着によってＹ２Ｏ３（λ／４）、
Ｔｉ０２（λ／２）、５Ｉ０２（λ／４）の層を各々設
けた。

得られたコーティングされた光透過板は、周波数１０Ｇ
Ｈ７における電磁波の透過量は約２２分の１に減衰する
ことができた。さらにこれをワードプロセッサーの光学
フィルターとして使用したところ、反射防止機能、表面
の硬度による傷のつきにくさは、実施例１と同等であっ
た。

実施例３ 実施例１において、ハードコートを有する基材として、
グレー色に原着した市販のポリメタクリレート板（三菱
レイヨン株式会社製、商標“アクアライド’　ＡＲ，厚
さ約２ｍｍ＞を使用した他は同一の処方により、表面に
ＩＴＩを設り、さらに反射防止膜を形成した。このもの
も実施例１の透過板と同様に優れたものとなった。

実施例４ 基材として市販のポリメタクリレート板（三菱レイヨン
株式会社製、商標“アクアライト”ＬＮ−０８４、グレ
ー原着、厚さ約２ｍｍ）を使用した。ハードコート用塗
料としては、特開昭５９−１１４．５０１号公報の実施
例１の記載のとおり、ビニルトリエトキシシラン氷酢酸
で加水分解したものと、メチルトリエトキシシランを氷
酢酸で加水分解したものを混合して用いた。この混合溶
解物に硬化剤である酢酸ナトリウムを加え、さらにシリ
コーン系表面平滑剤を加えて塗料とした。

この塗おｌを基材の表面（表裏面）に２μｍの厚さに塗
布し、９０’Ｃで３時間加熱キュアした。

次いでこのこのハードコートしたプラスチック基板の一
方の面を実施例１と同様にしてＩＴＯ膜を設【プ、その
上に二酸化ケイ素を真空蒸着し、この面と反対の方向の
面を真空蒸着槽にセットし、設定温度６０’Ｃで、１Ｘ
　１０　’ＴＯＲＲまで排気した後、カオフマンタイプ
のイオンビーム発生装置によりアルゴンイオンビームを
発生させ、加速電圧５００Ｖで基板のクリーニングを実
施した。引き続いて基板側から順にエレクトロンビーム
法ににす、次の条件で表裏面に４層膜を形成した。

（１）第１層；酸化ジルコニウムを主成分とする層、光
学的膜厚（ｎｄ）約４２ｎｍ、真空度３Ｘ１０−”Ｔ。

ＲＲ（酸素導入） （２）　　第２層；二酸化ケイ素を主成分とする層、光
学的膜厚（ｎｄ）約４２ｎｍ、真空度１　Ｘ　１０−５
ＴＯｒｌＲ（３）　　第３層；酸化チタンを主成分とす
る層、光学的膜厚（ｎｄ）約２１６１１ｍ、真空度４．
　Ｘ　１０−５ＴＯＲＲ（酸素導入） （４）第４層；二酸化ケイ素を主成分とする層、光学的
膜厚（ｎｄ）約１２０１ｍ、真空度１　Ｘ　１０−”Ｔ
ＯＲ （ただし上記（１）〜（４〉において光学的膜厚は設計
波長４８０ｎｍ使用。） 上記の方法及び条件で得られた本発明品は、青紫色の反
射干渉色を有し、５５０ｎｍにおける表面反射率は約０
．２％と極めて優れた反射防止性を有していた。

また表面が硬く、−辺が２ｃｍの正方形のポリエステル
編物に水道水をたらしたものを表面に置き、２、ｋｇの
荷重をかけて２，０００往復擦過するテストを行ったが
、全く損傷を認めなかった。

更に屋外に１月間放置し暴露試験をしたが、反射防止膜
の剥離等、表面の損傷はなかった。

ざらにこれをワードプロセッサーの光学フィルターとし
て使用したところ、反射防止機能に優れ、使用者の目が
疲れない点において著しい効果があった。

また耐久性に富むものであった。

さらに帯電防止性能を次のように測定した。すなわちパ
ソコン（ＮＥＣ株式会社製Ｐ（、−９８０１Ｅ）に接続
されたＣＲＴ（ＮＥＣ−ＫＤ５５１Ｋ）の前面５３ｍｍ
の位置に静電気測定器（シシド静電気株式会社パスタチ
ロンＭ″〉を設定し、パソコンのスイッチをＯＮＬだと
きの静電位を測定した結果、ブランクは、９ＫＶ以上で
あった。次にＣＲＴと“スタチロンＭ　ｌｌとの間であ
って、″スタヂロンＭ　ｕからの距離３Ｑｍｍの位置に
、アースを取りつけた本発明品を設置し、スイッチをＯ
Ｎしたときの静電位を測定した。この結果、電圧は最初
からＱＫＶ以下であり、帯電防止効果は極めて優れたも
のであった。

［発明の効果］ 本発明は上記のとおりの技術でおるので、プラスチック
の透明板の表層表面にハードコート層を設けて硬度を高
め、その上に導電層を真空蒸着またはスパッタリングに
より設け、ざらに導電層の表層に低屈折率の層を設ける
ことにより、電磁波をシールドでき、表面硬度の低いプ
ラスデック材料であっても、傷がつきにくい特性を付与
することができる。加えて反射防止機能をも付与するこ
とができ、全体として顕著な効果を奏する発明である。

また本発明は、前記の第１番目の発明の導電層側の面と
反対の面に、密着強度、及び耐久性に優れ、耐すり信性
、耐摩耗性、耐衝撃性、耐薬品性、可撓性、耐熱性、耐
光性、耐候性、帯電防止性な　−どにも優れた多層反射
防止膜を設けたので、全体として電磁波シールド性と静
電気除去と反射防止に優へた光学物品とすることができ
る。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の好ましい電磁波シールド性を有する光
透過板の１実施態様の断面を示す。第２図は第１図の導
電層３を有する面から見た平面図である。第３〜７図は
本発明の好ましいアース線の取り出し例を示す。 第８図は本発明の好ましい多層反射防止膜を有する光学
物品の１実施態様の断面を示す。 １；プラスチック透明基材、 ２，２−；耐擦過性を有するハードコート層、３；導電
層、 ４：導電層の屈折率よりも低い屈折率の層、１１；カバ
ー １５：アース線 ２０．２１〜２４；多層反射防止膜 特許出願人　　東　し　株　式　会　社特許庁長官　宇
賀　道部　殿　　　　　　　鳴１．事件の表示 昭和６１年特許願第５７１３０号 ２、発明の名称 電磁波シールド性を有する光透過板 ３、補正をする者 事件との関係　特許出願人 住所　東京都中央区日本橋室町２丁目゛２番地昭和６１
年５月２７日（発送日） 願書に最初に添付゛した図面の浄書・ 別紙の通り（内容に変更なし）

Claims (16)

【特許請求の範囲】
1. （１）プラスチック透明基材の一方の面に耐擦過性を有
   するハードコート層を設け、その表層に導電層を設け、
   さらにその表層に前記導電層の屈折率よりも低い屈折率
   の層を設けるとともに、該プラスチック透明基材の他方
   の面に、多層反射防止膜を設けたことを特徴とする電磁
   波シールド性を有する光透過板。
2. （２）多層反射防止膜が、プラスチック透明基材の上に
   耐擦過性を有するハードコート層を設け、その表層に基
   材側から表面に向って順番に、第１層；酸化ジルコニウ
   ムを主成分とする層第２層；二酸化ケイ素を主成分とす
   る層 第３層；酸化チタンを主成分とする層 第４層；二酸化ケイ素を主成分とする層 を設けると同時に、前記第１層と第２層とを等価膜とし
   たことを特徴とする特許請求の範囲第（１）項記載の電
   磁波シールド性を有する光透過板。
3. （３）第１層〜第４層の光学的膜厚が、設計波長λ＿０
   としたとき、４５０〜５５０ｎｍの範囲において第１層
   ；０．０５〜０．１５λ＿０ 第２層；０．０５〜０．１５λ＿０ 第３層；０．３６〜０．４９λ＿０ 第４層；０．１５〜０．３５λ＿０ であることを特徴とする特許請求の範囲第（２）項記載
   の電磁波シールド性を有する光透過板。
4. （４）第１層〜第４層が蒸着膜、またはスパッタリング
   膜であることを特徴とする特許請求の範囲第（２）項記
   載の電磁波シールド性を有する光透過板。
5. （５）導電層が酸化インジウムと酸化スズを含む層（Ｉ
   ＴＯ層）であることを特徴とする特許請求の範囲第（１
   ）項記載の電磁波シールド性を有する光透過板。
6. （６）ＩＴＯ層をスパッタリング法で設けることを特徴
   とする特許請求の範囲第（１）項記載の電磁波シールド
   性を有する光透過板。
7. （７）ＩＴＯ層を１５０℃以下で酸素雰囲気中、高周波
   放電によるプラズマを用いて蒸着し、同時にイオン銃を
   用いてアシストする方法により設けることを特徴とする
   特許請求の範囲第（１）項記載の電磁波シールド性を有
   する光透過板。
8. （８）導電層の膜厚が１００〜３０００Åの範囲である
   ことを特徴とする特許請求の範囲第（１）項記載の電磁
   波シールド性を有する光透過板。
9. （９）ハードコート層が有機ポリシロキサンを含む層で
   あることを特徴とする特許請求の範囲第（１）項記載の
   電磁波シールド性を有する光透過板。
10. （１０）ハードコート層を硬化性塗料をコーティングし
    て得ることを特徴とする特許請求の範囲第（１）項記載
    の電磁波シールド性を有する光透過板。
11. （１１）透明基材が着色されたものであることを特徴と
    する特許請求の範囲第（１）項記載の電磁波シールド性
    を有する光透過板。
12. （１２）最外層の低い屈折率の層が無機シリカ層である
    ことを特徴とする特許請求の範囲第（１）項記載の電磁
    波シールド性を有する光透過板。
13. （１３）無機シリカ層を真空蒸着法によって設けること
    を特徴とする特許請求の範囲第（１）項記載の電磁波シ
    ールド性を有する光透過板。
14. （１４）導電層からアース線を引き出したことを特徴と
    する特許請求の範囲第（１）項記載の電磁波シールド性
    を有する光透過板。
15. （１５）光透過板の外枠として金属枠を設け、該金属枠
    を導電層に接触するように設けたことを特徴とする特許
    請求の範囲第（１）項記載の電磁波シールド性を有する
    光透過板。
16. （１６）多層反射防止膜を有する光透過板が、ブラウン
    管（Ｃａｔｈｏｄｅ−Ｒａｙ　Ｔｕｂｅ）用光学フィル
    ターであることを特徴とする特許請求の範囲第（１）項
    記載の電磁波シールド性を有する光透過板。