WO2004093513A1 - 電磁波遮蔽用シート、ディスプレイ用前面板及び電磁波遮蔽用シートの製造方法 - Google Patents

Abstract

金属層２１と透明基材１１とを、直接又は接着剤１３を介して積層する。積層体の金属層２１ヘレジスト層１０９ａをメッシュパターン状に設け、エッチングし、レジスト層１０９ａを除去して、メッシュ状の金属層とする。該メッシュ状の金属層２１の表面及び側面へ、黒化処理層２３を設ける。

Description

明 細 書 電磁波遮蔽用シート、 ディスプレイ用前面板及び電磁波遮蔽用シートの製造方法 技 術 分 野

本発明は、 電磁波遮蔽 （シールドともいう） 用シートに関し、 さらに詳しくは、 CRT (陰極線管） 、 PDP (プラズマディスプレイパネル） などの画像ディス プレイの前面に配置して、 ディスプレイから発生する電磁波を遮蔽し、 かつ、 デ イスプレイの画像を良好に視認できる、 金属層 （薄膜） メッシュを用いた電磁波 遮蔽用シート及びその製造方法、 並びにディスプレイ用前面板に関するものであ る。

背 景 技 術

(技術の背景） 近年、 電気電子機器の機能高度化と増加利用に伴い、 電磁気的 なノィズ妨害 (E l e c t ro Magne t i c I nt e rf e r enc e ； EMI) が増えている。 電磁波ノイズは大きく分けて伝導ノイズと放射ノィ ズがある。 伝導ノイズはノイズフィル夕などを用いる方法がある。 一方、 放射ノ ィズは電磁気的に空間を絶縁するため、 筐体を金属にしたり、 回路基板間に金属 板を揷入したり、 ケーブルを金属箔で卷きなどの方法がある。 これらの方法は回 路ゃ電源ブロックの電磁波遮蔽の効果はあるが、 CRT、 PDPなどの、 デイス プレイ前面より発生する電磁波遮蔽用には、 不透明であるため適さない。

PDP表示本体は、 デ一夕電極と蛍光層を有するガラスと、 透明電極を有する ガラスとを組合わせたもので、 作動すると電磁波、 近赤外線、 及び熱が大量に発 生する。 通常、 電磁波を遮蔽するために P DPの前面に前面板を設ける。 該ディ スプレイ用前面板には、 電磁波遮蔽性、 近赤外線吸収性、 視認性が求められてい る。 ディスプレイ前面から発生する電磁波の遮蔽性は、 30MHz〜lGHzに おける 30 dB以上の機能が必要である。 また、 ディスプレイ前面より発生する 波長 900〜1, 100 nmの近赤外線も、 他の V T Rなどの機器を誤作動させ るので、 遮蔽する必要がある。 さらに、 ディスプレイの表示画像を視認しゃすく するため、 適度な透明性 （可視光透過性、 可視光透過率） や輝度が必要である。 また、 ディスプレイ用前面板に用いる電磁波遮蔽用シートには、 電磁波遮蔽性 に加え、 表示画像を視認しゃすくするために、 金属メッシュ枠 （ライン部） 部分 が見えにくく、 かつ光を反射しにくい適度な透明性と輝度を有することが求めら れている。 しかし、 電磁波遮蔽性、 視認性の両特性を実使用レベルで同時に満た すものはもちろん、 電磁波遮蔽性、 赤外線遮蔽性、 視認性の特性を同時に満すも のはなかった。 さらに、 電磁波遮蔽用シートは、 短い工程で、 高精度のものを安 定して製造できる製造方法が求められている。

(先行技術） 従来、 電磁波遮蔽用シートは、 電磁波遮蔽性と透明性を両立させ るために、 導電性部材は大きく分けて、 金属、 又は金属酸化物から成る透明導電 体の薄膜を透明板に形成したものと、 金属から成る不透明導電体の微細線メッシ ュが知られている。 しかしながら、 前者の透明導電体の薄膜を用いる仕様では電 磁波遮蔽性と透明性とを両立できないという欠点があり、 近年は、 後者の不透明 導電体メッシュを用いる仕様が主流になって来ている。

また、 これら不透明導電体仕様に於いてもディスプレイ画像の視認性を向上さ せるために、 メッシュのライン部 （ここは、 不透明であるが導電性） で電磁波遮 蔽性を出し、 一方メッシュの開口部で表示画像の透明性を出す。 そして更に、 日 光等の外光がメッシュのライン部 （ここは光反射性） で反射し画像コントラスト を低下させることを防ぐ為、 メッシュライン部の画像とは反対側に黒化処理層を 設ける設計としている。 例えば、 基板 Z透明アンカー層 Zメッシュパ夕一ン状の 無電解メツキ層からなり、 無電解メツキにより無電解メツキ層下の透明アンカー 層が黒色パターン部に変えられている電磁波シールド材料が知られている （例え ば、 特許文献 1参照。 ） 。 また、 電磁波遮蔽シートの金属メッシュの表面に酸化 銅被膜を形成して、 外光の反射を押さえる方法が知られている （例えば、 特許文 献 2参照。 ） 。 また、 電磁波遮蔽シートの金属メッシュをフォトレジスト法で形 成する際に用いた黒色レジストを、 メッシュを開孔した後もそのまま残存させて、 メッシュの枠部分 （ライン部ともいう） を黒くしておく方法が知られている （例 えば、 特許文献 3参照。 ） 。 また、 銅箔に幾何学図形をフォトリソグラフィ法で 形成した銅箔付きプラスチックフィルムをプラスチック板に積層した電磁波遮蔽 構成体が知られている （例えば、 特許文献 4参照） 。 また、 透明フィルム上に電 離放射線硬化性樹脂によるメッシュ状の凸状パターンを形成し、 その表面に無電 解メツキにより金属層を形成して金属メッシュとし、 更に該金属層表面を酸化又 は硫化させることにより、 金属メッシュの表面及び側面に黒化処理したものが知 られている （例えば、 特許文献 5参照。 ） 。 しかしながら、 特許文献 1〜5いず れの方法でも、 電磁波遮蔽シートの金属メッシュ枠 （ライン部） 部分の黒さが低 く、 外光存在下に於いてディスプレイの画像の視認性は十分ではないという欠点 がある。

さらに、 金属メッシュの表面、 裏面、 及び側面の全ての面を黒化処理するもの も知られている （例えば、 特許文献 6参照。 ） 。 しかしながら、 銅箔へ予め施し た黒化処理面と透明基材とを、 接着剤を介して貼り合せるので、 黒化処理で粗面 化された銅箔表面に起因して、 接着剤の塗布ムラや気泡の混入などによる積層品 質が低下する。 また、 エッチング時にはメッシュが途切れやすく、 さらに、 積層 後、 銅箔の他の面及び側面を再度黒化処理するので、 黒化工程が倍増して二度手 間であり、 煩雑で歩留りが低下するという問題点がある。 さらにまた、 メッシュ のディスプレイ側にも黒化処理層があるので、 ディスプレイからの表示光が吸収 されてしまうために、 輝度が低下してしまうという欠点がある。

[特許文献 1 ] 特閧平 5— 2 8 3 8 8 9号公報

[特許文献 2 ] 特開昭 6 1 - 1 5 4 8 0号公報

[特許文献 3 ] 特開平 0 9— 2 9 3 9 8 9号公報

[特許文献 4 ] 特閧平 1 0— 3 3 5 8 8 5号公報

[特許文献 5 ] 特開平 1 1— 1 7 4 1 7 4号公報

[特許文献 6 ] 特開 2 0 0 2 - 9 4 8 4号公報 発 明 の 開 示

そこで、 本発明はこのような問題点を解消するためになされたものである。 そ の目的は、 短い工程で高精度のものが歩留りよく製造でき、 ディスプレイの前面 に配置して、 ディスプレイから発生する電磁波を遮蔽し、 かつ、 ディスプレイ画 像を良好に視認性できる電磁波遮蔽用シ一ト及びその製造方法、 並びにディスプ レイ用前面板を提供することである。 本発明は、 透明基材と、 透明基材の一方の面に設けられたメッシュ状の金属層 とを備え、 金属層の透明基材と反対の面および側面に黒化処理層が設けられ、 上 記黒化処理層の反射 Y値が、 0より大きく 2 0以下であることを特徴とする電磁 波遮蔽用シートである。

本発明によれば、 電磁波を遮蔽すると共に、 ディスプレイからの表示画像光が 吸収されず、 且つ外光によっても表示画像の輝度が低下しない電磁波遮蔽用シ一 トが、 工程増と歩留低下をともなうこと無く提供される。

本発明は、 上記黒化処理層が、 銅、 コバルト、 ニッケル、 亜鉛、 スズ、 若しく はクロムから選択された少なくとも 1種の単体、 又は化合物を含有することを特 徴とする電磁波遮蔽用シートである。

本発明によれば、 金属層の表面及びメッシュの側面 （断面） が均一に黒化し、 しかも金属層への密着力に優れる電磁波遮蔽用シートが提供される。

本発明は、 上記金属層が、 銅であることを特徴とする電磁波遮蔽用シートであ る。

本発明によれば、 ィスプレイの前面に配置して、 ディスプレイから発生する 電磁波を良好に遮蔽できる電磁波遮蔽用シートが提供される。

本発明は、 電磁波遮蔽用シートと、 この電磁波遮蔽用シートに設けられた、 可 視光線及び/若しくは近赤外線吸収層、 または反射防止層とを備え、 電磁波遮蔽 用シートは、 透明基材と、 透明基材の一方の面に設けられたメッシュ状の金属層 とを備え、 金属層の透明基材と反対の面および側面に黒化処理層が設けられ、 上 記黒化処理層の反射 Y値が、 0より大きく 2 0以下であることを特徴.とするディ スプレイ用前面板である。 本発明によれば、 モアレや不要な特定波長の可視及び /又は近赤外線が吸収された、 ディスプレイの表示画像をより良好に視認できる 電磁波遮蔽用シートが提供される。

本発明は、 （a ) 金属層と透明基材とを、 直接又は接着剤を介して積層するェ 程と、 （b ) 積層された金属層と透明基材のうち、 金属層へレジスト層をメッシ ュパターン状に設け、 レジスト層で覆われていない部分の金属層をエッチングに より除去した後に、 レジスト層を除去して、 メッシュ状の金属層を形成する工程 と、 （c ) 該メッシュ状の金属層の表面及び側面へ、 メツキ法で黒化処理層を設 ける工程とからなることを特徴とする電磁波遮蔽用シートの製造方法である。 本発明によれば、 接着剤の塗布ムラや気泡の混入が少なく積層品質に優れ、 ま た、 黒化処理が 1工程で済み、 メッシュの途切れなどのムラがなく、 歩留りがよ く、 生産効率が高い電磁波遮蔽用シートの製造方法が提供される。 図面の簡単な説明

図 1は、 本発明の電磁波遮蔽用シートの平面図である。

図 2は、 本発明の電磁波遮蔽用シートの一部を模式的に示す斜視図である。 図 3は、 従来の電磁波遮蔽用シートの要部の断面図である。

図 4は、 本発明の電磁波遮蔽用シートの実施例を示す要部の断面図である。 発明を実施するための最良の形態

本件出願人はディスプレイの電磁 ¾遮蔽用シートについて、 開発を継続して行 つている。 前記特開平 1 1— 1 7 4 1 7 4号公報 （特許文献 5 ) の他、 特開 2 0 0 1 - 2 1 0 9 8 8号公報では黒化しェヅチングしたメッシュ状金属箔を用いた ものを示し、 特願 2 0 0 2 - 2 3 0 8 4 2号では銅-コバルト粒子を付着させて 黒化したものを出願している。 本発明はこれらをさらに改良した発明である。 本発明の実施態様について、 図面を参照して詳細に説明する。

図 1は、 本発明の電磁波遮蔽用シートの 1形態を示す平面図である。

図 2は、 本発明の電磁波遮蔽用シートの 1形態の一部を模式的に示す斜視図で める。

(全体の層構成） 図 2に示すように、 本発明の電磁波遮蔽用シート 1は、 透明 基材 1 1と、 透明基材 1 1の一方の面に設けられたメッシュ状の導電材層 1 0 9 とを備え、 導電材層 1 0 9は金属層 2 1を含んでいる。 メッシュ状の導電材層 1 0 9は図 1に示すようにメッシュ部 1 0 3を構成し、 メッシュ部 1 0 3の周囲に 接地用枠部 1 0 1が設けられている。 メッシュ部 1 0 3は、 図 2に示すように、 ライン部 1 0 7で囲まれた複数の開口部 （セルともいう） 1 0 5を有している。 接地用枠部 1 0 1はディスプレイへ設置した場合にアースがとられる。

上述のように基材 1 1の一方の面へ、 直接又は接着剤層 1 3を介して金属層 2 1を含む導電材層 1 0 9が積層されている。 該導電材層 1 0 9は開口部 1 0 5を 形成する枠状のライン部 1 0 7からなり、 開口部 1 0 5は密に配列されている。 ライン部 1 0 7の幅は、 図 2に示すようにライン幅 Wと称し、 隣接するライン部 とライン部との間隔をピヅチ Pと称する。

図 3は、 従来の電磁波遮蔽用シートの要部の断面図である。

図 4は、 本発明の電磁波遮蔽用シートの 1実施例を示す要部の断面図である。 (層の構成） 図 3は従来の、 図 4は本発明の、 開口部を横断する要部の断面を 示し、 共に開口部 1 0 5とライン部 1 0 7が交互に構成されている。 尚、 図を見 易くする為にこれらの断面図は、 開口部の幅に比べてライン部の幅及び厚みを誇 張して図示してある。 図 3に示すように、 従来のライン部 1 0 7において、 金属 層 2 1の両面へ、 それぞれ黒化処理層 2 3 A及び黒化処理層 2 3 Bが設けられて いるが、 金属層 2 1の側面部分は、 金属層 2 1のが露出している。 '

また、 図示していないが、 先行技術 「特許文献 6」 で述べた金属メッシュのラ イン部の表面、 裏面及び側面の全ての面を黒化処理したものは、 接着剤の塗布ム ラゃ気泡の混入などによる積層品質の低下、 メッシュの途切れやすさ、 2度の黒 化工程による歩留りが低下の問題点があり、 さらに、 ディスプレイ輝度の低下と いう欠点がある。

(発明のポイント） 本発明の電磁波遮蔽用シート 1の製造方法は、 まず、 金属 層 2 1を透明基材 1 1の一方の面へ、 直接又は接着剤層 1 3を介して積層した後 に、 金属層 2 1面へレジスト層をメッシュパターン状に設ける。 次にレジスト層 で覆われていない部分の金属層 2 1をエッチングにより除去した後に、 レジスト 層を除去する所謂フォトリソグラフィ法でメッシュを形成する。 このように、 メ' ッシュ状にした金属層 2 1を黒化処理することで、 金属層 2 1の表面及び側面へ 黒化処理層 2 3を設けることができる。

黒化処理が 1工程で済み、 メッシュが途切れず、 接着剤の塗布ムラや気泡の混 入などがなく積層品質に優れ、 歩留りがよく、 生産効率が高く生産できる。

図 4に示すように、 本発明のライン部 1◦ 7は、 金属層 2 1の透明基材 1 1の 反対面 （表面と呼称） へ、 黒化処理層 2 3が設けられ、 さらに金属層 2 1の断面 部分にも、 黒化処理層 2 3を設けるようにする。 また必要に応じて、 黒化処理層 2 3を覆うように、 及び Z又は金属層 2 1の透明基材 1 1の面に、 防鲭層 2 5 A、 2 5 Bを設けてもよい。

本発明の電磁波遮蔽用シート 1によれば、 金属層 2 1の側面部分にも黒化処理 層 2 3を設けることで、 ディスプレイから発生する電磁波を遮蔽し、 かつ、 電磁 波遮蔽用の金属メッシュ枠 （ライン部） 部分が見えにくく、 外光 （日光、 電燈 光） がディスプレイ表面に入射してもこれを反射させて光らせることがない。 こ のため電磁波遮蔽性、 透明性の両特性を満たし、 且つ、 外光存在下でもディスプ レイ画像を高コントラストで鮮明、 良好にネ見認することができる。

さらに必要に応じて、 後述の如く平坦化の処理をし、 さらに必要に応じて特定 波長の可視光線及び/又は近赤外線を吸収する光線吸収剤層を設ける。 このよう な電磁波遮蔽用シートをディスプレイの前面に配置すると、 ディスプレイから発 生する電磁波を遮蔽し、 かつ、 適度の透明性を有しディスプレイに表示された画 像を良好に視認性できる。

金属層の透明基材と反対の面及びメッシュの側面を黒化処理層とする、'本発明 の電磁波遮蔽用シートの製造方法について、 工程順に、 使用及び関連する材料な ども含めて、 詳細に説明する。

( a ) 金属層と透明基材とを、 直接又は接着剤を介して積層する工程

(透明基材） まず、 透明基材 1 1の材料としては、 使用条件や製造に耐える透 明性、 絶縁性、 耐熱性、 機械的強度などがあれば、 種々の材料が適用できる。 例 えば、 ポリエチレンテレフ夕レート、 ポリプチレンテレフ夕レート、 ポリエチレ ンナフ夕レート、 ェチレングリコール -テレフ夕ル酸 -イソフ夕ル酸共重合体、 テレフタル酸-シクロへキサンジメ夕ノール-エチレングリコ一ル共重合体、 ポ リエチレンテレフ夕レ一卜/ポリエチレンナフ夕レートの共押し出しフィルムな どのポリエステル系樹 β旨、 ナイロン 6、 ナイロン 6 6、 ナイロン 6 1 0などのポ リアミ ド系樹脂、 ポリプロピレン、 ポリメチルペンテンなどのポリオレフイン系 樹脂、 ポリ塩化ビニルなどのビニル系樹脂、 ポリメチル （メタ） ァクリレート、 ポリブチル （メ夕） ァクリレート、 メチル （メタ） ァクリレート -ブチル （メ 夕） ァクリレート共重合体などのァクりル系樹脂 （ここで、 （メタ） ァクリレー 卜とはァクリレート、 又はメタクリレートを意味する） 、 ポリイミ ド、 ポリアミ ドイミド、 ポリエーテルイミ ドなどのイミ ド系樹脂、 ポリアリレート、 ポリスル ホン、 ポリエ一テルスルホン、 ポリフエ二レンエーテル、 ポリフエ二レンスルフ イ ド （P P S ) 、 ポリアラミ ド、 ポリェ一テルケトン、 ポリエ一テルニトリル、 ポリエ一テルエ一テルケトン、 ポリエーテルサルフアイトなどのエンジニアリン グ樹脂、 ポリスチレンなどのスチレン系樹脂、 ポリカーボネート樹脂などがある 該透明基材 1 1は、 これら樹脂を主成分とする共重合樹脂、 または、 混合体

(ァロイでを含む） 、 若しくは複数層からなる積層体であっても良い。 該透明基 材 1 1は、 延伸フィルムでも、 未延伸フィルムでも良いが、 強度を向上させる目 的で、 一軸方向または二軸方向に延伸したフィルムが好ましい。 該透明基材の厚 さは、 通常、 1 2〜： L 0 0 O m程度が適用できるが、 5 0〜7 0 0〃mが好適 で、 1 0 0〜5 0 O mが最適である。 これ以下の厚さでは、 機械的強度が不足 して反りやたるみなどが発生し、 これ以上では、 過剰な性能となってコスト的に も無駄である。

該透明基材 1 1は、 これら樹脂の少なくとも 1層からなるフィルム、 シート、 ボード状として使用するが、 これらの形状を本明細書ではフィルムと総称する。 通常は、 ポリエチレンテレフ夕レート、 ポリエチレンナフ夕レート等のポリエス テル系の 2軸延伸フィルムが透明性、 耐熱性がよくコストも安いので好適に使用 され、 ポリエチレンテレフ夕レートが最適である。 また、 透明性は高いほどよい が、 好ましくは可視光線透過率で 8 0 %以上である。

該透明基材 1 1は、 塗布に先立って塗布面へ、 コロナ放電処理、 プラズマ処理、 オゾン処理、 火炎処理、 プライマ一 （アンカ一コート、 接着促進剤、 易接着剤と も呼ばれる） 塗布処理、 予熱処理、 除麈埃処理、 蒸着処理、 アルカリ処理、 など の易接着処理を行ってもよい。 該樹脂フィルムは、 必要に応じて、 紫外線吸収剤、 充填剤、 可塑剤、 帯電防止剤などの添加剤を加えても良い。

(金属層） 電磁波を遮蔽する導電材 1 0 9は、 例えば金、 銀、 銅、 鉄、 ニッケ ル、 クロム、 アルミニウムなど充分に電磁波をシールドできる程度の導電性を持 つ金属層 2 1.を有している。 金属層 2 1は単体でなくても、 合金あるいは多層で あってもよい。 又金属層 2 1は予め金属層を単層で形成し、 これを透明基材 1 1 と接着剤層 1 3を介して積層することが一般的である。 しかし、 その他にも、 透 明基材 1 1上に、 接着剤層を介さずに、 無電解メツキ、 蒸着等の方法により、 直 接金属層 2 1を積層することも出来る。 金属層 2 1としては、 鉄の場合には低炭 素リムド鋼ゃ低炭素アルミキルド鋼などの低炭素鋼、 N i _ F e合金、 インバー 合金が好ましく、 また、 黒化処理としてカソーディック電着を行う場合には、 電 着のし易さから銅又は銅合金箔が好ましい。 該銅箔としては、 圧延銅箔、 電解銅 箱が使用できるが、 厚さの均一性、 黒化処理及び Z又はクロメート処理との密着 性、 及び 1 0 m以下の薄膜化ができる点から、 電解銅箔が好ましい。 該金属層 2 1の厚さは 1〜 1 0 0 / m程度、 好ましくは 5〜2 0 mである。 これ以下の 厚さでは、 フォトリソグラフィ法によるメッシュ加工は容易になるが、 金属の電 気抵抗値が増え電磁波遮蔽効果が損なわれ、 これ以上では、 所望する高精細なメ ッシュの形状が得られず、 その結果、 実質的な開口率が低くなり、 光線透過率が 低下し、 さらに視角も低下して、 画像の視認性が低下する。

金属層 2 1の表面粗さとしては、 1 2値で0 . 5〜 1 0 z mが好ましい。 これ 以下では、 黒化処理しても反射 Y値を 2 0以下とすることが難しくなり、 外光が 鏡面反射して、 画像の視認性が劣化する。 これ以上では、 接着剤やレジストなど を塗布する際に、 表面全体へ行き渡らなかったり、 気泡が発生したりしてする。 表面粗さ R zは、 J I S— B 0 6 0 1に準拠して測定した 1 0点の平均値である。

(積層法） 上記の透明基材 1 1と金属層 2 1との積層 （ラミネートともいう） 法としては、 透明基材 1 1又は金属層 2 1の一方に、 接着剤又は粘着性を塗布し 必要に応じて乾燥して、 加熱又は加熱しないで加圧し、 その後必要に応じて 3 0 〜8 0 °Cの温度下で、 ェ一ジング （養生） してもよい。 このようにして透明基材 1 1と金属層 2 1との間に接着剤層 1 3を設ける。 好ましくは、 当業者がドライ ラミネ一シヨン法 （ドライラミともいう） と呼ぶ方法である。 さらに、 紫外線 ( U V) 、 電子線 （E B ) などの電離放射線で硬化 （反応） する電離放射線硬化 型樹脂も好ましい。 .

(接着剤） ドライラミネーシヨン法、 またはノンソルベントラミネ一シヨン法 で用いる接着層の接着剤として、 熱硬化型樹脂、 または電離放射線硬化型樹脂の 接着剤が適用できる。 熱硬化型樹脂接着剤としては、 具体的には、 2液硬化型の、 アクリルウレタン系接着剤、 ポリエステルウレタン系接着剤、 ポリエーテルウレ タン系接着剤等のウレタン系接着剤、 アクリル系接着剤、 ポリエステル系接着剤、 ポリアミ ド系接着剤、 ポリ酢酸ビニル系接着剤、 エポキシ系接着剤、 ゴム系接着 剤などが適用できるが、 2液硬化型ゥレ夕ン系接着剤が好適である。

(粘着剤） 粘着剤としては、 公知の感圧で接着する粘着剤が適用できる。 粘着 剤としては、 特に限定されるものではなく、 例えば、 天然ゴム系、 プチルゴム、 ポリイソプレン、 ポリイソプチレン、 ポリクロ口プレン、 スチレン-ブタジエン 共重合樹脂などの合成ゴム系樹脂、 ジメチルポリシロキサンなどのシリコーン系 樹脂、 アクリル系樹脂、 ポリ酢酸ビニール、 エチレン-酢酸ビニール共重合体な どの酢酸ビニール系樹脂、 ウレタン系樹脂、 ァクリロニトリル、 炭化水素樹脂、 アルキルフエノール樹脂、 ロジン、 ロジントリグリセリ ド、 水素化ロジンなどの ロジン系樹脂が適用できる。

(接着剤又は粘着剤層の形成） 上記の接着剤又は粘着剤の樹脂、 またはこれら の混合物を、 ラテックス、 水分散液、 または有機溶媒液として、 スクリーン印刷 またはコンマコート、 ロールコート、 力一テンフロ一コートなどの、 公知の印刷 またはコーティング法で、 印刷または塗布し必要に応じて乾燥した後に、 一方の 材料と重ねて加圧すれば良い。 具体的な積層方法としては、 通常、 連続した帯状 (巻取という） で行い、.卷取ロールから巻きほく、されて伸張された状態で、 金属 層 2 1又は基材 1 1の一方へ、 接着剤を塗布し乾燥した後に、 他方の材料を重ね 合わせて加圧すればよい。 さらに、 必要に応じて 3 0〜8 0 °Cの雰囲気で数時間 〜数日のエージング （養生、 硬化） を行って、 卷取ロール状の積層体とする。 該接着剤層 1 3の膜厚としては、 0 . 1〜2 0 z m (乾燥状態） 程度、 好まし くは 1〜 1 0 / mである。 該接着層を形成したら直ちに、 貼り合せ基材を積層し たり、 さらに 3 0〜 1 2 0 °Cで数時間〜数日間エージングしたり、 接着剤を硬化 させたり、 することで接着する。 該接着剤の塗布面は、 透明基材側、 金属層側の いずれでもよい。

尚、 無電解メツキ等により、 直接、 透明基材上に金属層を形成する場合は、 接 着剤層 1 3は省略される。 .

( b ) 該積層体の金属層 2 1表面へレジスト層 1 0 9 aをメッシュパターン状 に設け、 レジスト層で覆われていない部分の金属層をエッチングにより除去した 後に、 レジスト層を除去して、 メッシュ状の金属層とする工程

(マスキング） 基材 1 1と金属層 2 1の積層体の金属層 2 1面を、 フォトリソ グラフィ法でメッシュ状とする。 この工程も、 帯状で連続して巻き取られた口一 ル状の積層体を加工して行く。 該積層体を連続的又は間歇的に搬送しながら、 緩 みなく伸張した状態で、 順次、 レジスト層形成、 マスキング、 エッチング、 レジ スト剥離する。

まず、 マスキングは、 例えば、 感光性レジストを金属層 2 1上へ塗布し、 乾燥 した後に、 所定のパターン （メッシュのライン部） 原版 （フォトマスク） にて密 着露光し、 水現像しレジスト層をパターン状にして、 硬膜処理などを施し、 ベ一 キングする。

レジストの塗布は、 卷取りロール状の帯状の積層体 （基材 1 1と金属層 2 1 ) を連続又は間欠で搬送させながら、 その金属層 2 1面へ、 カゼイン、 P VA、 ゼ ラチンなどのレジストをディヅビング （浸漬） 、 カーテンコート、 掛け流しなど の方法で行う。 また、 レジストは塗布ではなく、 ドライフィルムレジストを用い てもよく、 作業性が向上できる。 ベ一キングはカゼインレジストの場合、 2 0 0 〜3 0 0 °Cで行うが、 積層体の反りを防止するために、 できるだけ低温度が好ま しい。

(エッチング) マスキング後にエッチングを行う。 該エッチングに用いるェヅ チング液としては、 エッチングを連続して行う本発明には循環使用が容易にでき る塩化第二鉄、 塩化第二銅の溶液が好ましい。 また、 該エッチングは、 帯状で連 続する鋼材、 特に厚さ 2 0〜8◦〃mの薄板をエッチングするカラ一 T Vのブラ ゥン管用のシャドウマスクを製造する設備と、 基本的に同様の工程である。 即ち、 該シャドウマスクの既存の製造設備を流用でき、 マスキングからエッチングまで がー貫して連続生産できて、 極めて効率が良い。 エッチング後は、 水洗、 アル力 リ液によるレジスト剥離、 洗浄を行ってから乾燥すればよい。

(メヅシュ） メヅシュ部 1 0 3は、 開口部 1 0 5を形成する枠状のライン部 1 0 7からなつている。 開口部 1 0 7の形状は特に限定されず、 例えば、 正 3角形 等の 3角形、 正方形、 長方形、 菱形、 台形などの 4角形、 6角形等の n角形 （n ≥ 3の自然数） 、 円形、 楕円形などが適用できる。 これらの開口部の複数を、 組 み合わせてメヅシュとする。 開口率及びメッシュの非視認性から、 ライン幅は 2 5〃m以下、 好ましくは 2 0 /m以下が、 ライン間隔 （ラインピッチ） は光線透 過率から 1 5 0 z m以上、 好ましくは 2 0 0 zm以上が好ましい。 また、 ライン の電磁波遮蔽シート 1の周囲の辺となす角度は、 図 1の図示では 4 5度を例示し ているが、 これに限られず、 モアレの解消などのために、 ディスプレイの画素や 発光特性を加味して適宜、 選択すればよい。

( c ) 該メヅシュ状の金属層 2 1の表面及び側面へ、 黒化処理層 2 3を設ける 工程-

(黒化処理） 次に、 上記積層体の金属層の表面及びメッシュの側面 （エツチン グで露出した断面） を黒化処理をする。 該黒化処理としては、 粗化及びノ又は黒 化すればよく、 金属、 合金、 金属酸化物、 金属硫化物の形成、 黒色着色剤を含む 樹脂の塗工や種々の手法が適用できる。 好ましい黒化処理としてはメツキ法であ り、 該メツキ法によれば、 金属層への密着力に優れ、 金属層の表面及びメッシュ の側面 （断面） へ、 同時に、 均一に、 かつ容易に黒化することができる。 メヅキ 法としては電解メツキ、 無電解メツキのいずれも可能である。 該メツキの材料と しては、 銅、 コバルト、 ニッケル、 亜鉛、 スズ、 若しくはクロムから選択された 少なくとも 1種、 又は化合物を用いる。 他の金属又は化合物では、 黒化が不充分、 又は金属層との密着に欠け、 例えば力ドミゥムメヅキでは顕著である。

金属層 2 1として銅箔を用いる場合の、 好ましいメツキ法としては、 銅箔を硫 酸、 硫酸銅及び硫酸コバルトなどからなる電解液中で、 陰極電解処理を行って、 カチオン性粒子を付着させるカソ一ディック電着メツキである。 該カチオン性粒 子を設けることでより粗化し、 同時に黒色が得られる。 カチオン性粒子としては、 銅粒子、，銅と他の金属との合金粒子が適用できるが、 好ましくは銅-コバルト合 金の粒子である。

カソ一ディック電着によれば、 粒子を平均粒子径 0 . l〜 l zmに揃えて好適 に付着することができる。 また、 銅箔表面に高電流密度で処理することにより、 銅箔表面がカソ一ディックとなり、 還元性水素を発生し活性化して、 銅箔と粒子 との密着性が著しく向上できる。

ざらに、 銅-コバルト合金粒子の平均粒子径は 0 . l ~ l /z mが好ましい。 こ れ以上に銅-コバルト合金粒子の粒子径を大きくすると金属層 21の厚さが薄く なり、 基材 11と積層する工程で金属層が切断したりして加工性が悪化する。 ま た、 密集粒子の外観の緻密さが欠けて、 外観及び光吸収のムラが目立ってくる。 これ以下では、 粗化が不足するので、 画像の視認性が悪くなる。

なお、 黒化処理層 23の詳細は、 既に本件出願人が、 銅-コバルト合金粒子は 特願 2002-230842号公報で、 銅粒子は特開 2003— 23290号公 報で開示している。 さらに、 銅粒子、 銅-コバルト合金粒子をさらに黒化処理し てもよい。

(メツキ法黒化処理） エッチング後のメヅシュ部 103のライン部 107表面 及び側面への黒化処理層 23の形成は、 前述の方法が適用できる。 但し、 エッチ ング後なので、 金属層はメッシュ状となっているので、 メヅキ時の電極はロール 状の電極で、 メッシュの前面に接地させることが好ましい。 また、 エッチング後 もロール状で連続的にメツキ処理をすることが、 粘着や透明化処理や他のシート との積層などの後工程を考慮してより好ましい。

電磁波遮蔽用シートの視認性を評価する光学特性として、 色調を J I S-Z 8 729に準拠した表色系 「L*、 a*、 b*、 ΔΕ*」 で表わした。 「a*」 及び 「b*」 の絶対値が小さい方が導電材部 109が非視認性となり、 コントラスト 感が高まり、 結果として画像の視認性が優れる。

本明細書では、 粗化及び黒色化を合わせて黒化処理という。 黒化処理の好まし い反射 Y値は 0より大きく 20以下より好ましくは 4以上 12以下である。 表面 が外方を向くようにして設定した場合に、 日光、 或は電燈光の外光存在下での画 像のコントラストの低下を防げず、 画像の視認性は不十分となる。 一方、 反射 Y 値の下限値は原理的には存在し無いが、 現実に完全に 0にすることは技術的に困 難である。 なお、 反射 Y値は、 J I S— Z 8722に準拠して、 その測定方法は、 色度計 CM— 3700 d (ミノル夕社製、 商品名） を用いた反射モードで、 光源 D65、 視野 2度でメッシュ面を入光面とし測定する。 また、 該黒化処理の光線 反射率としては 5%以下が好ましい。 光線反射率は、 J I S— K7105に準拠 して、 ヘイズメーター HM150 (村上色彩社製、 商品名） を用いて測定する。 金 jS層 21面及び/又は黒化処理層 23上へ、 防鲭層 25 A及び/又は防鲭層 2 5 Bを設けてもよく、 少なくとも黒化処理層 2 3へ設ければよい。

該防鲭層 2 5 A、 2 5 Bは、 金属層 2 1及び黒化処理層 2 3の防鲭機能を持ち、 かつ、 黒化処理層 2 3が粒子であれば、 その脱落や変形を防止する。 このように してメッシュ部 1 0 3の構成層として積層された、 金属層 2 1、 黒化処理層 2 3、 及び必要に応じて設けられる防鲭層 2 5 A、 2 5 Bから導電材 1 0 9が構成され る o

該防鲭層 2 5 A、 2 5 Bとしては公知の防鲭層が適用できるが、 ニッケル、 亜 鉛、 及び/又は銅の酸化物、 又はクロメート処理層が好適である。 ニッケル、 亜 鉛及び Z又は銅の酸化物の形成は公知のメツキ法でよく、 厚さとしては 0 . 0 0 l〜 l z m程度、 好ましくは 0 . 0 0 1〜0 . 1 z mである。

(クロメート処理） 黒化処理層 2 3に対するクロメート処理は、 被処理材へク 口メート処理液を塗布し処理する。 塗布方法としては、 ロールコート、 カーテン コート、 スクイズコート、 静電霧化法、 浸漬法などが適用でき、 塗布後は水洗せ ずに乾燥すればよい。 クロメート処理液としては、 通常 C r 0 ₂を 3 gZ lだけ 含む水溶液を使用する。 具体的には、 アルサーフ 1 0 0 0 (日本ペイント社製、 クロメート処理剤商品名） 、 P M—2 8 4 (日本パ一カライジング社製、 クロメ —ト処理液商品名） などが例示できる。 また、 クロメート処理は黒化処理の効果 をより高める。

以上のようにして得られた電磁波遮蔽用シート 1は、 透明基材 1 1面をデイス プレイ側に配置し、 黒化処理面が観察側になるようにする。 また、 電磁波遮蔽用 シート 1は、 必要に応じて、 平坦化し、 さらに必要に応じて特定波長の可視光線 及び/若しくは近赤外線吸収層、 並びに 又は反射防止層を一体化するか、 組合 わせて、 ディスプレイ用前面板として、 ディスプレイの前面に配置する。 この場 合、 ディスプレイから発生する電磁波を遮蔽し、 適度の透明性を有し、 かつ、 不 要な特定波長の可視光線及び Z若しくは近赤外線を吸収し、 反射防止されて、 デ イスプレイの表示画像をより良好に視認することができる。

(平坦化） メッシュが形成されると、 メッシュのライン部 1 0 7は金属層の厚 みがあるが、 開口部 1 0 5は金属層 2 1が除去されて空洞 （凹部） となり、 導電 材部 1 0 9は凹凸状態となる。 この凹凸は次工程で接着剤又は粘着剤が塗布され る場合には、 該接着剤などで埋まる。 しかし、 その際、 接着剤等の粘度が高かつ たり、 接着剤による凹部内空気との置換に十分な接着工程条件が満たされないと メッシュ部凹部内に空気が残留して気泡が生じる。 気泡が生じると空気と接着剤 との屈折率差により、 光が散乱され画像光の鮮明度が低下し、 白化する不都合を 生じる。 接着剤の粘度を稀釈し、 塗工条件を調整したり、 加圧、 真空吸引するこ とによって接着時の気泡混入を防ぐことも可能ではある。 但し、 これでは作業性 が悪いので、 凹部を埋めて平坦化することが好ましい。

平坦化としては、 透明樹脂をメッシュ部開口部 1 0 5の凹部に塗布して埋め込 むことによって凹部を充填する。 透明樹脂が凹部の隅々まで侵入しないと、 気泡 が残り透明性が劣化する。 このため、 溶剤などで稀釈して低粘度で塗布し乾燥し たり、 空気を脱気しながら塗布したりして、 平坦化層 2 9を形成する

平坦化層 2 9は透明性が高く、 屈接率が接着剤層 1 3及び基材 1 1と近似する と共に、 メッシュ剤との接着性が良く、 次工程の接着剤との接着性がよいもので あればよい。 但し、 平坦化層 2 9の表面が、 突起、 凹み、 ムラがあると、 デイス プレイ前面へ設置した際に、 ディスプレイとモヮレや干渉ムラが発生したりする ので好ましくない。 好ましい方法としては、 樹脂として熱硬化型又は紫外線硬化 型樹脂を塗布した後に、 平面性に優れ剥離性のある基材で積層し、 塗布樹脂を熱 又は紫外線で硬化させて、 基材を剥離し除去する。 平坦化層 2 9の表面は、 平面 性基材の表面が転写されて、 平滑な面が形成される。

平坦化層 2 9に用いる樹脂としては、 特に限定されず各種の天然又は合成樹脂、 熱硬化型又は電離放射線硬化型樹脂などが適用できるが、 樹脂の耐久性、 透明性、 各種樹脂との屈折率の近似性、 塗布性、 平坦化しやすさ、 平面性などから、 ァク リル系、 エポキシ系等の単量体、 プレボリマ一、 或はこれらの混合系からなる紫 外線硬化樹脂が好適である。

(N I R吸収層） さらに、 平坦化層 2 9に用いる樹脂中へ、 可視光線及び Z又 は近赤外線の特定波長を吸収する光線吸収剤を添加してもよい。 可視光線の特定 波長を吸収することで、 画像の色調の不自然さ、 不快感が抑えちれ、 画像の視認 性が向上する。 これはディスプレイの種類によって異なる。 例えば P D Pの場合、 原理的に画像光中にネオン原子の発光スぺクトルの波長 5 7 0〜6 0 5 nm域の 光が混入することにより画像の色調は橙色に偏移する。 そこで、 この波長域は吸 収することにより画像を天然色に近づけることが出来る。 又近赤外線 （NIRと も呼称） の特定波長とは、 780~1 10 Onm程度である。 此の波長域の近赤 外線は、 各種の遠隔操作機器の信号伝達用にも使用される為、 これが放出される と遠隔操作機器の誤動作を起こす。 よって、 780〜110 Onmの波長領域の 80%以上を吸収することが望ましい。 近赤外線吸収剤 （NIR吸収剤ともい う） としては、 特に限定されないが、 可視光線領域から近赤外線領域に移る境界 近傍に急峻な吸収の立上りがあり、 近赤外線領域の透過率は低く、 可視光領域の 光透過性が高く、 かつ、 可視光領域には特定の波長の大きな吸収がない色素など が適用できる。 可視光領域の特定波長を吸収する色素としては、 フタロシアニン 系化合物アントラキノン系化合物、 クマリン系化合物、 メチン系化合物が好まし い。 また、 近赤外線の特定波長を吸収する色素としては、 インモニゥム系、 ジィ モニゥム系化合物、 シァニン系化合物、 フ夕ロシアニン系化合物、 ナフ夕ロシア ニン系化合物、 ナフトキノン系化合物、 アントラキノン系化合物、 ジチォ一ル系 錯体などがある。 平坦化層 29へ N I R吸収剤を添加したが、 添加しない場合に は、 NIR吸収剤を有する別の層 （NIR吸収層という） を、 少なくとも一方の' 面へ設ければよい。

(NIR吸収別層） NIR吸収層は、 平坦化層 29側及び/又は逆側の基材 1 1側へ設けられる。 NIR吸収層を平坦化層 29面へ設けた場合は、 NIR吸収 層は図 4に図示する N I R吸収層 31 Bとなり、 基材 11面へ設けた場合は、 図 4に図示する N IR吸収層 31 Aとなる。 NI J及収層 31B及びNIR吸収層 31 Aは、 NIR吸収剤を有する市販フィルム （例えば、 東洋紡績社製、 商品名 No 2832) を接着剤で積層したり、 先の NIR吸収剤をバインダへ含有させ て塗布してもよい。 該バインダとしては、 ポリエステル樹脂、 ポリウレ夕ン樹脂、 アクリル樹脂や、 熱又は紫外線などで硬化するエポキシ、 ァクリレート、 メ夕ァ クリレート、 イソシァネート基などの反応を利用した硬化夕ィプなどが適用でき る。

これら光吸収剤を添加した平坦化層 29および N I R層 3 1 As 3 IBが可視 光線または近赤外線の吸収層となる。 (A R層） さらに、 電磁波遮蔽用シートの観察側へ、 反射防止層 （A R層とい う） 2を設けてもよい。 反射防止 （A R ) 層は、 外光として入射する日光、 電燈 光等の可視光線の反射を防止するためのもので、 その構成としては、 単層、 多層 の多くが市販されている。 多層のものは、 高屈折率層と低屈折率層を交互に積層 したもので、 高屈折率層としては、 酸化ニオブ、 チタン酸化物、 酸化ジルコニゥ ム、 I T Oなどがあり、 低屈折率層としては、 弗化マグネシウム、 珪素酸化物等 がある。

(ハードコート層、 防汚層、 防眩層） さらに、 反射防止 （A R ) 層 2上には、 ハードコート層、 防汚層、 防眩層等の層 3を設けてもよい。 ハードコート層は、 J I S - K 5 4 0 0の鉛筆硬度試験で H以上の硬度を有する層で、 ポリエステル

(メタ） ァクリレート、 ウレタン (メタ) ァクリレート、 エポキシ （メタ） ァク リレートなどの多官能 （メ夕） ァクリレートの単量体、 又はプレボリマ一を、 熱 又は電離放射線で硬化させる。 防汚層は、 撥水性、 撥油性のコートで、 シロキサ ン系、 フッ素化アルキルシリル化合物などが適用できる。 防眩層は外光を乱反射 する微細な凹凸表面を有する層である。

(シート化） 以上のように、 連続した帯状の卷取りロール状態で製造してきた 部材を切断して、 1枚毎の電磁波遮蔽用シート 1を得る。 該電磁波遮蔽用シート

1は、 ガラスなどの透明な基板へ貼り付けられ、 また必要に応じて、 N I R吸収 層、 A R層、 ハードコート層、 防汚層、 防眩層と組み合されてディスプレイ前面 板を構成する。 基板ほ、 大型のディスプレイには厚さが 1〜1 0 mmの剛性を持 つものが、 また、 キャラクタ表示管などの小型のディスプレイには厚さが 0 . 0

1〜0 . 5 mmのプラスチックフィルムが用いられ、 ディスプレイの大きさや用 途に応じて、 適宜選択すればよい。 実 施 _例

(実施例 1 ) 厚さ 1 0 mの表面粗さが R zで 2 mの電解銅箔から成る金属 層 2 1と、 厚さ 1 0 0 z mの連続帯状の P E Tフィルム A 4 3 0 0 (東洋紡績社 製、 ポリエチレンテレフ夕レート商品名） から成る透明基材 1 1とを、 ポリウレ タン系接着剤層 1 3でラミネートした後に、 5 0 °Cで 3目間エージングして、 積 層体を得た。 接着剤としては主剤はポリオール （タケラヅク A— 310) と硬化 剤はイソシァネート （A— 10) (いずれも武田薬品工業社製、 商品名） を用い、 塗布量は乾燥後の厚さで 4 zmとした。

積層体の銅箔をフォトリソグラフィ法により銅メヅシュを形成する。 カラー T Vシャドウマスク用の製造ラインを流用して、 連続した帯状 （卷取） でマスキン グからエッチングまでを行う。 まず、 積層体の金属層 21表面の全体へカゼイン のポジ型感光性レジストを掛け流し法で塗布した。 積層体を次のステーションへ 間欠搬送し、 開口部が正方形でライン幅 W22 /m、 ライン間隔 （ピヅチ P) 3 00 m、 透明基材の辺に対するメッシュ角度 49度の図 1の如き正方格子のネ ガパターン原版を用いて、 水銀燈からの紫外線により密着露光した。 積層体を 次々にステーションを搬送しながら、 水現像し、 硬膜処理し、 さらに、 100°C でべ一キングした。

積層体をさらに次のステーションへ搬送し、 エッチング液として液温 50 °C、 比重 42° ボーメの塩化第二鉄溶液を用いて、 スプレイ法で吹きかけて非レジス ト部をエッチングし、 開口部 105、 及びそれを包囲するライン部 107を形成 した。 積層体を次々とステーション間で搬送しながら、 水洗し、 レジストを剥離 し、 洗浄し、 さらに 100°Cで乾燥して、 図 1、 図 2の如き形状の銅の金属メッ シュ 103を形成した。

次いで、 金属メッシュライン部 107表面及び側面を黒化処理する。 黒化処理 メツキ浴として、 硫酸銅水溶液 （ 100 g/1 (リットル） ） と硫酸水溶液 （ 1 20 との混合水溶液に浸潰し、 浴温 35°C、 電流密度 2 OA/dm²の 条件下で 10秒間処理し、 さらに同じ処理を 2回繰り返して、 累計 3回の電解メ ツキを行って黒化処理層 23を形成して、 実施例 1の電磁波遮蔽用シート 1を得 た。

(実施例 2) 黒化処理メツキ浴として、 硫酸銅水溶液 （85 g/1 (リット ル） ） と硫酸コバルト水溶液 （15 g/l) と硫酸水溶液 （120g/l) との 混合水溶液を用いる以外は、 実施例 1と同様にして、 電磁波遮蔽用シートを得た。

(実施例 3) 黒化処理メツキ浴として、 硫酸銅水溶液 （85 g/1 (リット ル） ） と硫酸ニッケル水溶液 （ 15 gZl) と硫酸水溶液 （ 120 との 混 水溶液を用いる以外は、 実施例 1と同様にして、 電磁波遮蔽用シートを得た

(実施例 4) 黒化処理メツキ浴として、 硫酸銅水溶液 （85 gZl (リット ル） ） と硫酸亜鉛水溶液 （ 15 と硫酸水溶液 （ 120 との混合 水溶液を用いる以外は、 実施例 1と同様にして、 電磁波遮蔽用シートを得た。

(実施例 5) 黒化処理メヅキ浴として、 硫酸銅水溶液 （85 gZl (リッ ト ル） ） と硫酸クロム水溶液 （ 15 と硫酸水溶液 （ 120 gZl) との混 合水溶液を用いる以外は、 実施例 1と同様にして、 電磁波遮蔽用シートを得た。

(実施例 6) 黒化処理の電解メツキを 2回の行う以外は、 実施例 1と同様にし て、 電磁波遮蔽用シートを得た。

(実施例 7) 黒化処理として、 亜塩素酸ナトリウム水溶液 （50g/l (リツ トル） ） と水酸化ナトリウム水溶液 （20g/l) との混合水溶液 （90°C) に 2分間浸漬する化成処理を行う以外は、 実施例 1と同様にして、 電磁波遮蔽用シ —トを得た。 なお、 銅メッシュの表面及び側面は銅酸化物となり黒化処理されて いた。

(比較例 1) 実施例 1の銅箔の代りに、 銅箔の表裏両面に銅-コバルト合金粒 子 （平均粒 径 0. 3〃m) をカソ一ディヅク電着させ、 さらにその上にクロメ —ト処理された厚さ 10〃m電解銅箔を用い、 銅メッシュ形成後のライン部 10 7側面の黒化処理を行わない以外は、 実施例 1と同様にして、 比較例 1の電磁波 遮蔽用シートを得た。

(比較例 2) 黒化処理の電解メツキを 1回行う以外は、 実施例 1と同様にして、 電磁波遮蔽用シートを得た。

(評価） 評価は、 反射 Y値、 視認性、 気泡の有無、 エッチングムラ、 黒化処理 ムラ、 黒化処理面の粉落ちで評価した。

反射 Y値は前述した方法で測定した。

視認性は PDP ; WOOO (日立製作所社製、 商品名） の前面に載置して、 テ ストパターン、 白、 及び黒を順次表示させて、 螢光燈照明された室内に於いて画 面から 50 cm離れた距離で、 画面の法線とのなす視認角度 0〜 80度の範囲で、 目視で観察した。 輝度、 コントラスト、 黒表示での外光 （螢光燈の光） の反射及 びギラツキ、 白表示での黒化処理のムラを観察し、 著しく悪いものを不合格とし x印で示し、 良好なものを合格とし〇印で示し、 また、 実用上支障がないものも 合格とし Δ印で示した。

気泡の有無は 2 0 0倍の光学顕微鏡を用い目視で観察し、 直径 5 0 m以上の 気泡が認められるものを不合格とし X印で示し、 認められないものを合格とし〇 印で示した。

エッチングムラはライ トテーブルに静置して透過光を目視で観察し、 ムラが認 められないものを合格とし〇印で示し、 ムラが認められた場合には 1 0 0倍の光 学顕微鏡を用い、 メッシュの線幅を目視で観察して、 線幅に著しい変化が認めら れるものを不合格とし X印で示した。

黒化処理ムラは蛍光灯下で目視で観察し、 著しくムラが認められるものを不合 格とし X印で示し、 認められないものを合格とし〇印で示した。 ·

黒化処理面の粉落ちはエチルアルコールを染み込ませた脱脂綿でメッシュ面を 手で強く 1 0回擦った後に、 目視で観察して、 著しく汚れているものを不合格と し X印で示した。 汚れが認められないか、 少ないものを合格とし〇印で示した。 これらの結果を 「表 1」 に記載した。

表 1

(結果） 実施例 1 7は、 反射 Y値が 2 0以下であり、 且つライン部 1 0 7の 表面及び側面に黒化処理層を有し、 視認性、 気泡、 エッチングムラ、 黒化処理ム ラ、 及び粉落ちのいずれも合格であった。 比較例 2は、 ライン部の表面及び側面 黒化処理層は有するが、 反射 Y値が 2 2 . 0であり、 視認性が明らかに他の例の ものより悪く実用上支障有る程度の X印であつたが、 気泡、 エッチングムラ、 黒 化処理ムラ、 及び粉落ちのいずれも合格であった。 比較例 1では反射 Y値が 2 0 以下であつたが、 ライン部の側面に黒化処理層が無く、 代りに裏面に黒化処理層 を有し、 視認角度 0 (画面の法線方向） では視認性良好であつたが側面 （視認角 > 0 ° で見ると画像全体が赤味がかってコントラストの低下が認められ不合格で あった。 実に、 気泡及びエッチングムラも不合格であった。

本発明の電磁波遮蔽用シート 1の製造方法によれば、 接着剤の塗布ムラや気泡 の混入が少なく積層品質に優れる。 また、 黒化処理が 1工程で済み、 メッシュの 途切れなどのムラがなく、 歩留りがよく、 生産効率が高く生産できる。

本発明の電磁波遮蔽用シート 1によれば、 電磁波を遮蔽し、 かつ、 金属層 2 1 の表面及び側面 （断面） 部にも黒化処理層 2 3が設けられているので、 ディスプ レイからの表示光が吸収されず、 表示画像の輝度が低下しない。

本発明の電磁波遮蔽用シート 1を用いたディスプレイ用前面板によれば、'ディ スプレイの前面に配置して、 ディスプレイから発生する電磁波を遮蔽し、 かつ、 デイスプレイの表示画像を良好に視認することができる。

さらに必要に応じて、 平坦化し、 さらに必要に応じて特定波長の可視及びノ又 は近赤外線を吸収する光線吸収剤層を設けることで、 モアレや不要な特定波長の 可視及び Z又は近赤外線が吸収された、 ディスプレイの表示画像をより良好に視 認することができる。

Claims

請 求 の 範 囲

1 . 透明基材と、

透明基材の一方の面に設けられたメッシュ状の金属層とを備え、

金属層の透明基材と反対の面および側面に黒化処理層が設けられ、

上記黒化処理層の反射 Y値が、 0より大きく 2 0以下であることを特徴とする 電磁波遮蔽用シート。

•

2 . 上記黒化処理層が、 銅、 コバルト、 ニッケル、 亜鉛、 スズ、 若しくはク ロムから選択された少なくとも 1種の単体、 又は化合物を含有することを特徴と する請求項 1に記載の電磁波遮蔽用シート。

3 . 上記金属層が、 銅であることを特徴とする請求項 1または 2に記載の電 磁波遮蔽用シート。

4 . 電磁波遮蔽用シートと、

この電磁波遮蔽用シートに設けられた、 可視光線及びノ若しくは近赤外線吸収 層、 または反射防止層とを備え、

電磁波遮蔽用シートは、

透明基材と、

透明基材の一方の面に設けられたメッシュ状の金属層とを備え、

金属層の透明基材と反対の面および側面に黒化処理層が設けられ、

上記黒化処理層の反射 Y値が、 0より大きく 2 0以下であることを特徴とする ディスプレイ用前面板。

5 . ( a ) 金属層と透明基材とを、 直接又は接着剤を介して積層する工程と、

( b ) 積層された金属層と透明基材のうち、 金属層へレジスト層をメッシュパ夕 —ン状に設け、 レジスト層で覆われていない部分の金属層をェヅチングにより除 去した後に、 レジスト層を除去して、 メッシュ状の金属層を形成する工程と、

( c ) 該メッシュ状の金属層の表面及び側面へ、 メツキ法で黒化処理層を設ける 工程とからなることを特徴とする電磁波遮蔽用シートの製造方法。