WO2004093513A1 - 電磁波遮蔽用シート、ディスプレイ用前面板及び電磁波遮蔽用シートの製造方法 - Google Patents

電磁波遮蔽用シート、ディスプレイ用前面板及び電磁波遮蔽用シートの製造方法 Download PDF

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WO2004093513A1
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layer
metal layer
mesh
electromagnetic wave
wave shielding
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Fumihiro Arakawa
Yasuhiko Ishii
Daisuke Hashimoto
Yukihiro Kyouden
Eiji Oishi
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Dai Nippon Printing Co. Ltd.
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Definitions

  • Electromagnetic wave shielding sheet front panel for display, and manufacturing method of electromagnetic wave shielding sheet
  • the present invention relates to a sheet for shielding electromagnetic waves (also referred to as a shield), and more particularly, to a sheet for image display such as a cathode ray tube (CRT) and a plasma display panel (PDP) to shield electromagnetic waves generated from the display.
  • a sheet for electromagnetic wave shielding using a metal layer (thin film) mesh a method for manufacturing the same, and a front plate for a display, in which an image on a display can be viewed easily.
  • Electromagnetic noise is roughly divided into conduction noise and radiation noise.
  • conduction noise there is a method using a noise filter.
  • radiation noise electromagnetically insulates the space, and there are methods such as using a metal case for the housing, inserting a metal plate between circuit boards, and winding a cable with metal foil.
  • the PDP display body is a combination of glass having a transparent electrode and a fluorescent electrode, and glass having a transparent electrode.
  • a front panel is provided in front of the PDP to shield electromagnetic waves.
  • the display front panel is required to have an electromagnetic wave shielding property, a near-infrared absorption property, and visibility.
  • the shielding of electromagnetic waves generated from the front of the display must have a function of 30 dB or more in the range of 30 MHz to 1 GHz.
  • near-infrared light with a wavelength of 900 to 1,100 nm generated from the front of the display may cause malfunctions of other devices such as VTRs, so they need to be shielded.
  • appropriate transparency (visible light transmittance, visible light transmittance) and brightness are required to make the display image visually recognizable.
  • the electromagnetic wave shielding sheet used for the front panel for displays is not only electromagnetically shielded, but also has a modest metal mesh frame (line portion) that is hard to see and reflects light in order to make the displayed image visually chewy. It is required to have high transparency and brightness.
  • the electromagnetic shielding sheet has been roughly divided into conductive members, and a transparent conductor thin film made of metal or metal oxide is formed on a transparent plate.
  • the fine wire mesh of the formed and opaque conductor made of metal is known.
  • the former specification using a transparent conductor thin film has a drawback that it is impossible to achieve both electromagnetic shielding properties and transparency.
  • the latter specification using an opaque conductor mesh has become mainstream.
  • the mesh lines (here opaque but conductive) provide electromagnetic wave shielding, while the mesh openings The section gives the transparency of the displayed image.
  • a blackening layer is provided on the side opposite to the mesh line image to prevent external light such as sunlight from being reflected on the mesh line portion (here, light reflectivity) and reducing image contrast.
  • an electromagnetic wave shielding material comprising a substrate Z, a transparent anchor layer, and a Z-mesh pattern of an electroless plating layer, in which the transparent anchor layer below the electroless plating layer is changed to a black pattern portion by the electroless plating.
  • Patent Document 1 a method is known in which a copper oxide film is formed on the surface of a metal mesh of an electromagnetic wave shielding sheet to suppress the reflection of external light (for example, see Patent Document 2). Also, the black resist used when forming the metal mesh of the electromagnetic wave shielding sheet by the photoresist method is left as it is even after the mesh is opened, and the frame portion (also referred to as a line portion) of the mesh is blackened. There is a known method (for example, see Patent Document 3). Further, an electromagnetic wave shielding structure is known in which a plastic film with a copper foil in which a geometric figure is formed on a copper foil by a photolithography method is laminated on a plastic plate (for example, see Patent Document 4).
  • the electric A mesh-like convex pattern made of a radiation-curable resin is formed, a metal layer is formed on the surface by electroless plating to form a metal mesh, and the metal layer surface is oxidized or sulfurized to form a metal mesh.
  • the surface and side surfaces are blackened (for example, see Patent Document 5).
  • the blackness of the metal mesh frame (line portion) of the electromagnetic wave shielding sheet is low, and the visibility of the display image in the presence of external light is not sufficient. There is a drawback.
  • Patent Document 1 Japanese Patent Publication No. 5-2 8 3 8 8 9
  • Patent Document 2 Japanese Patent Application Laid-Open No. 61-154480
  • Patent Document 3 Japanese Patent Application Laid-Open No. 09-293939
  • Patent Document 4 Japanese Patent Publication No. 10 0 3 3 5 8 8 5
  • Patent Document 5 Japanese Patent Application Laid-Open No. H11-17474174
  • Patent Document 6 Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-94484 Disclosure of Invention
  • the objective is to produce a high-precision product in a short process with high yield, to place it on the front of the display to shield the electromagnetic waves generated from the display, and to provide good visibility of the display image.
  • An object of the present invention is to provide a method and a method for manufacturing the same, and a front panel for a display.
  • the present invention provides a transparent substrate and a mesh-shaped metal layer provided on one surface of the transparent substrate, wherein a blackening treatment layer is provided on a surface and a side surface of the metal layer opposite to the transparent substrate, An electromagnetic wave shielding sheet, wherein the reflection Y value of the blackening treatment layer is larger than 0 and equal to or smaller than 20.
  • an electromagnetic wave shielding sheet that shields electromagnetic waves, does not absorb display image light from a display, and does not reduce the brightness of a display image even when external light is applied, reduces the number of processes and the yield. Provided without consent.
  • the present invention provides an electromagnetic wave shielding sheet, characterized in that the blackening layer contains at least one element selected from copper, cobalt, nickel, zinc, tin, or chromium, or a compound. It is.
  • the surface for a metal layer and the side surface (cross section) of a mesh are uniformly blackened, and the sheet
  • the present invention is the electromagnetic wave shielding sheet, wherein the metal layer is copper.
  • seat which can be arrange
  • the present invention includes an electromagnetic wave shielding sheet, and a visible light and / or near-infrared absorbing layer or an antireflection layer provided on the electromagnetic wave shielding sheet, wherein the electromagnetic wave shielding sheet comprises a transparent base material, A mesh-shaped metal layer provided on one side of the transparent substrate, and a blackening layer provided on a surface and a side of the metal layer opposite to the transparent substrate, and the reflection Y of the blackening layer is provided.
  • a front panel for a display characterized in that a value is greater than 0 and not more than 20.
  • an electromagnetic wave shielding sheet that absorbs moiré and unnecessary visible and / or near-infrared light of a specific wavelength and that allows a display image on a display to be more easily viewed.
  • the present invention provides: (a) a step of laminating a metal layer and a transparent substrate directly or via an adhesive; and (b) a step of forming a resist layer on a metal layer of the laminated metal layer and the transparent substrate. (C) forming a mesh-shaped metal layer by removing a portion of the metal layer that is not covered with the resist layer by etching, and then removing the resist layer to form a mesh-shaped metal layer; A blackening layer is provided on the surface and side surfaces of the metal layer by plating. And a method for producing an electromagnetic wave shielding sheet. ADVANTAGE OF THE INVENTION According to the present invention, there is little unevenness in application of adhesive and mixing of air bubbles, and the lamination quality is excellent.
  • FIG. 1 is a plan view of the electromagnetic wave shielding sheet of the present invention.
  • FIG. 2 is a perspective view schematically showing a part of the electromagnetic wave shielding sheet of the present invention.
  • FIG. 3 is a cross-sectional view of a main part of a conventional electromagnetic wave shielding sheet.
  • FIG. 4 is a sectional view of a main part showing an embodiment of the electromagnetic wave shielding sheet of the present invention.
  • Japanese Patent Application Laid-Open No. H11-174174 Patent Document 5
  • Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-210988 uses a mesh-like metal foil which is blackened and etched.
  • Japanese Patent Application No. 2002-23084 a patent application is made in which copper-cobalt particles are deposited and blackened.
  • the present invention is an invention in which these are further improved. Embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
  • FIG. 1 is a plan view showing one embodiment of the electromagnetic wave shielding sheet of the present invention.
  • FIG. 2 is a perspective view schematically showing a part of one embodiment of the electromagnetic wave shielding sheet of the present invention.
  • the electromagnetic wave shielding sheet 1 of the present invention includes a transparent base material 11 and a mesh-shaped conductive material layer 1 provided on one surface of the transparent base material 11. 09, and the conductive material layer 109 includes the metal layer 21.
  • the mesh-shaped conductive material layer 109 forms a mesh part 103 as shown in FIG. 1, and a grounding frame part 101 is provided around the mesh part 103.
  • the mesh part 103 has a plurality of openings (also referred to as cells) 105 surrounded by a line part 107.
  • the grounding frame 101 is grounded when installed on a display.
  • the metal layer 2 is directly or through an adhesive layer 13 on one side of the substrate 11.
  • a conductive material layer 109 including 1 is laminated.
  • the conductive material layer 109 is composed of a frame-shaped line portion 107 forming an opening 105, and the openings 105 are densely arranged.
  • the width of the line portion 107 is referred to as a line width W as shown in FIG. 2, and the interval between adjacent line portions is referred to as a pitch P.
  • FIG. 3 is a cross-sectional view of a main part of a conventional electromagnetic wave shielding sheet.
  • FIG. 4 is a cross-sectional view of a main part showing one embodiment of the electromagnetic wave shielding sheet of the present invention.
  • FIG. 3 shows a conventional section
  • FIG. 4 shows a cross section of a main part crossing an opening of the present invention, in which openings 105 and line sections 107 are alternately formed.
  • these cross-sectional views exaggerate the width and thickness of the line portion as compared with the width of the opening.
  • a blackening layer 23 A and a blackening layer 23 B are provided on both sides of the metal layer 21, respectively.
  • the metal layer 21 is exposed on the side of the metal layer 21. '
  • the metal mesh described in the prior art “Patent Literature 6”, in which all of the surface, the back surface, and the side surfaces of the metal mesh are blackened, is an adhesive-applied mullet bubble.
  • the lamination quality is deteriorated due to contamination of the mesh, the mesh is easily broken, the yield is reduced by the two blackening steps, and furthermore, the display luminance is lowered.
  • the metal layer 21 is laminated on one surface of the transparent substrate 11 directly or via the adhesive layer 13.
  • a resist layer is provided on the metal layer 21 in a mesh pattern.
  • a mesh is formed by a so-called photolithography method for removing the resist layer.
  • the blackening treatment layer 23 can be provided on the surface and the side surface of the metal layer 21 by subjecting the mesh-shaped metal layer 21 to the blackening treatment.
  • the blackening process is completed in one step, the mesh is not interrupted, there is no unevenness in adhesive application and no air bubbles are mixed, and excellent lamination quality, good yield, and high production efficiency can be achieved.
  • a blackening layer 23 is provided on the opposite surface (referred to as the surface) of the transparent substrate 11 of the metal layer 21.
  • the blackening layer 23 is also provided on the cross section of 21.
  • a blackening treatment layer A protective layer 25A, 25B may be provided so as to cover 23 and on the surface of the transparent substrate 11 of the Z or metal layer 21.
  • the electromagnetic wave shielding sheet 1 of the present invention by providing the blackening layer 23 also on the side surface of the metal layer 21, the electromagnetic wave generated from the display is shielded, and the metal mesh for electromagnetic wave shielding is provided.
  • the frame (line portion) is difficult to see, and even if external light (sunlight, electric light) is incident on the display surface, it is not reflected and glows.
  • both the electromagnetic wave shielding property and the transparency property are satisfied, and the display image can be seen clearly, with high contrast, and clearly in the presence of external light.
  • a flattening treatment is performed as described later, and a light absorber layer for absorbing visible light and / or near-infrared light having a specific wavelength is provided as necessary.
  • the method for manufacturing the electromagnetic wave shielding sheet of the present invention in which the surface of the metal layer opposite to the transparent substrate and the side surface of the mesh are treated as a blackening treatment layer, is described in detail in the order of steps, including the use and related materials. explain.
  • polyester As the material of the transparent substrate 11, various materials can be applied as long as they have usage conditions, transparency, insulation, heat resistance, mechanical strength, and the like that can withstand production.
  • Resin (where (meth) acrylate
  • the Akurireto, or means a methacrylate polyimide, polyamide Imid-based resins such as doimide and polyetherimide, polyarylate, polysulfone, polyestersulfone, polyphenylene ether, polyphenylene sulfide (PPS), polyaramide, polyester ketone, polyester nitrile, and polyether
  • There are engineering resins such as tereether ketone and polyether sulphite, styrene resins such as polystyrene, and polycarbonate resins.
  • the transparent substrate 11 is a copolymer resin or a mixture containing these resins as a main component.
  • the transparent substrate 11 may be a stretched film or an unstretched film, but is preferably a film stretched uniaxially or biaxially for the purpose of improving strength.
  • the thickness of the transparent base material is usually from about 12 to about L 0 Om, but is preferably from 50 to 700 m, most preferably from 100 to 500 Om. . If the thickness is less than this, the mechanical strength is insufficient, causing warpage or sagging. If the thickness is more than this, the performance becomes excessive and the cost is wasted.
  • the transparent substrate 11 is used as a film, a sheet, or a board composed of at least one layer of these resins, and these shapes are collectively referred to as a film in this specification.
  • a polyester-based biaxially stretched film such as polyethylene terephthalate or polyethylene naphtholate is preferably used because of its transparency, heat resistance and low cost, and polyethylene terephthalate is most suitable.
  • the transparent substrate 11 is subjected to a corona discharge treatment, a plasma treatment, an ozone treatment, a flame treatment, a primer (also referred to as an anchor coat, an adhesion promoter, and an easy-adhesive) before the application,
  • a corona discharge treatment such as a plasma treatment, an ozone treatment, a flame treatment, a primer (also referred to as an anchor coat, an adhesion promoter, and an easy-adhesive) before the application
  • An easy adhesion treatment such as a preheat treatment, a dust removal treatment, a vapor deposition treatment, and an alkali treatment may be performed.
  • additives such as an ultraviolet absorber, a filler, a plasticizer, and an antistatic agent may be added to the resin film.
  • the conductive material 109 that shields electromagnetic waves is, for example, a metal layer 21 that has sufficient conductivity to shield electromagnetic waves, such as gold, silver, copper, iron, nickel, chrome, and aluminum.
  • the metal layer 21 is not limited to a simple substance, but may be an alloy or a multilayer. In general, the metal layer 21 is generally formed as a single metal layer in advance, and this is laminated with the transparent substrate 11 via the adhesive layer 13. However, in addition, The metal layer 21 can also be directly laminated on the bright base material 11 by a method such as electroless plating or vapor deposition without using an adhesive layer.
  • the metal layer 21 in the case of iron, low-carbon steel such as low-carbon rimmed steel or low-carbon aluminum-killed steel, Ni_Fe alloy, and Invar alloy are preferable.
  • copper or a copper alloy foil is preferable from the viewpoint of easy electrodeposition.
  • the copper foil a rolled copper foil or an electrolytic copper box can be used, but from the viewpoint of uniformity of thickness, adhesion with blackening treatment and Z or chromate treatment, and thinning of 10 m or less, Electrolytic copper foil is preferred.
  • the thickness of the metal layer 21 is about 1 to 100 / m, preferably 5 to 20 m.
  • the thickness is less than this, mesh processing by photolithography becomes easy, but the electrical resistance of the metal increases and the electromagnetic wave shielding effect is impaired. If the thickness is greater than this, the desired high-definition mesh shape can be obtained. As a result, the effective aperture ratio is reduced, the light transmittance is reduced, the visual angle is also reduced, and the visibility of the image is reduced.
  • the surface roughness of the metal layer 21 is preferably 0.5 to 10 zm in 12 values. Below this, it is difficult to keep the reflection Y value at 20 or less even when the blackening process is performed, and external light is specularly reflected, thereby deteriorating the visibility of the image. Above this, when applying adhesives or resists, it may not spread all over the surface or bubbles may be generated.
  • the surface roughness Rz is an average value of 10 points measured according to JIS-B0601.
  • Lamination method As a method of laminating the transparent substrate 11 and the metal layer 21 (also referred to as lamination), an adhesive or tackiness is applied to one of the transparent substrate 11 and the metal layer 21. It may be dried if necessary, pressurized with or without heating, and then subjected to aging at a temperature of 30 to 80 ° C as necessary. Thus, the adhesive layer 13 is provided between the transparent substrate 11 and the metal layer 21.
  • a method referred to by those skilled in the art as a dry lamination method also referred to as dry lamination.
  • ionizing radiation-curable resins that are cured (reacted) by ionizing radiation such as ultraviolet rays (UV) and electron beams (EB) are also preferable. .
  • thermosetting resin or an ionizing radiation-curable resin adhesive can be used as an adhesive for the adhesive layer used in the dry lamination method or the non-solvent lamination method.
  • thermosetting resin adhesives include two-component curable acrylic urethane adhesives, polyester urethane adhesives, and polyether urethanes.
  • Urethane adhesives such as tan adhesives, acrylic adhesives, polyester adhesives, polyamide adhesives, polyvinyl acetate adhesives, epoxy adhesives, rubber adhesives, etc. can be used. Liquid curable adhesives are preferred.
  • the pressure-sensitive adhesive As the pressure-sensitive adhesive, a known pressure-sensitive adhesive that can be adhered with pressure sensitivity can be used.
  • the pressure-sensitive adhesive is not particularly limited. Examples thereof include natural rubber, synthetic rubber resins such as butyl rubber, polyisoprene, polyisobutylene, polychloroprene, styrene-butadiene copolymer resin, and silicone-based resins such as dimethylpolysiloxane.
  • Resin acrylic resin, polyvinyl acetate, vinyl acetate resin such as ethylene-vinyl acetate copolymer, urethane resin, acrylonitrile, hydrocarbon resin, alkylphenol resin, rosin, rosin triglyceride, hydrogenated rosin, etc. Rosin-based resin can be applied.
  • the above adhesive or pressure sensitive adhesive resin or a mixture thereof is used as a latex, aqueous dispersion or organic solvent liquid by screen printing or comma coating, roll coating, force coating. After printing or coating by a known printing or coating method, such as one coat, and drying if necessary, it is sufficient to apply pressure by overlapping with one of the materials. As a specific lamination method, it is usually performed in a continuous belt shape (called winding), and then unwound from a winding roll, stretched and then applied to one of the metal layer 21 or the base material 11. After applying the adhesive and drying, the other material may be overlaid and pressed.
  • aging for several hours to several days is performed in an atmosphere at 30 to 80 ° C. to form a winding roll-shaped laminate.
  • the thickness of the adhesive layer 13 is about 0.1 to 20 zm (dry state), and preferably 1 to 10 / m.
  • bonding is performed by laminating a bonded substrate, further aging at 30 to 120 ° C. for several hours to several days, curing the adhesive, or curing.
  • the surface on which the adhesive is applied may be either the transparent substrate side or the metal layer side.
  • the adhesive layer 13 is omitted.
  • a resist layer 109a was provided in a mesh pattern on the surface of the metal layer 21 of the laminate, and a portion of the metal layer not covered with the resist layer was removed by etching. Later, the process of removing the resist layer to form a mesh-like metal layer
  • the metal layer 21 surface of the laminate of the base material 11 and the metal layer 21 is formed into a mesh by photolithography.
  • a belt-shaped laminated body continuously wound in a belt shape is processed. While the laminate is continuously or intermittently conveyed, a resist layer is formed, masked, etched, and resist peeled sequentially in a stretched state without looseness.
  • a photosensitive resist is applied onto the metal layer 21, dried, and then tightly exposed with a predetermined pattern (mesh line portion) master (photomask), and then developed with water to form a resist layer. Is patterned and subjected to dura treatment, etc., and then backed.
  • the resist is applied by transporting the winding roll-shaped band-shaped laminate (base material 11 and metal layer 21) continuously or intermittently to the metal layer 21, casein, PVA, gelatin, etc.
  • the resist is applied by diving (dipping), curtain coating, pouring, etc.
  • a dry film resist may be used instead of applying the resist, and workability can be improved.
  • baking is performed at a temperature of 200 to 300 ° C., but a temperature as low as possible is preferable in order to prevent warpage of the laminate.
  • the etching solution used for the etching is preferably a solution of ferric chloride or cupric chloride which can be easily used for circulation in the present invention in which etching is performed continuously.
  • the etching is basically the same as the equipment for manufacturing a strip-shaped continuous steel material, in particular, a shadow mask for a blank tube of a color TV for etching a thin plate having a thickness of 20 to 8 ° m. It is a process. In other words, the existing manufacturing equipment for the shadow mask can be used, and continuous production from masking to etching can be performed, which is extremely efficient.
  • the resist may be washed with water, stripped of resist with an alkaline solution, washed, and then dried.
  • the mesh portion 103 is composed of a frame-shaped line portion 107 forming an opening 105.
  • the shape of the opening 107 is not particularly limited, and is, for example, a triangle such as a regular triangle, a square such as a square, a rectangle, a rhombus, a trapezoid, an n-shape such as a hexagon (a natural number of n ⁇ 3), and a circle. , Oval, etc. can be applied.
  • a plurality of these openings Combine to make a mesh.
  • the line width should be 25 m or less, preferably 20 m / m or less, and the line spacing (line pitch) should be 150 zm or more from light transmittance, preferably 20 m / m. 0 zm or more is preferable.
  • the angle between the line and the side around the electromagnetic wave shielding sheet 1 is, for example, 45 degrees in the illustration of FIG. 1, but is not limited thereto. It may be appropriately selected in consideration of characteristics.
  • Blackening treatment Next, the surface of the metal layer of the laminate and the side surface of the mesh (cross section exposed by etching) are subjected to blackening treatment.
  • the blackening treatment roughening and blackening or blackening may be used, and formation of metals, alloys, metal oxides, and metal sulfides, coating of a resin containing a black colorant, and various methods can be applied.
  • a preferred blackening treatment is a plating method. According to the plating method, the adhesion to the metal layer is excellent, and the blackening is uniformly, easily and simultaneously applied to the surface of the metal layer and the side surface (cross section) of the mesh. Can be Either electrolytic plating or electroless plating can be used as the plating method.
  • At least one selected from copper, cobalt, nickel, zinc, tin, or chromium, or a compound is used.
  • the blackening is insufficient or the adhesion to the metal layer is lacking, for example, it is remarkable in force plating.
  • a preferred plating method is to perform cathodic electrolytic treatment on the copper foil in an electrolytic solution composed of sulfuric acid, copper sulfate, cobalt sulfate, etc. to adhere the cationic particles. It is a cathodic dick electrodeposition. By providing the cationic particles, roughening is achieved, and at the same time, black color is obtained.
  • the cationic particles copper particles and alloy particles of copper and other metals can be used, but copper-cobalt alloy particles are preferable.
  • the particles can be suitably adhered with the average particle diameter of 0.1 to lzm.
  • the copper foil surface becomes cathodic, generates and activates reducing hydrogen, and can significantly improve the adhesion between the copper foil and the particles.
  • the average particle diameter of the copper-cobalt alloy particles is preferably 0.1 to l / zm. This If the particle size of the copper-cobalt alloy particles is further increased, the thickness of the metal layer 21 becomes thinner, and the metal layer is cut in the step of laminating the metal layer 21 with the base material 11 to deteriorate workability. Moreover, the dense particles lack the fineness of appearance, and the unevenness of the appearance and light absorption becomes conspicuous. Below this, roughening is insufficient and the visibility of the image deteriorates.
  • the applicant has already disclosed the details of the blackening layer 23 in the Japanese Patent Application No. 2002-230842 for copper-cobalt alloy particles and in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-23290 for the copper-cobalt alloy particles. Further, the copper particles and the copper-cobalt alloy particles may be further blackened.
  • the above-mentioned method can be applied to the formation of the blackening treatment layer 23 on the surface and side surface of the line portion 107 of the mesh portion 103 after etching.
  • the electrode at the time of the printing is preferably a roll-shaped electrode and is preferably grounded in front of the mesh. Further, it is more preferable to continuously perform the plating process in a roll shape even after the etching, in consideration of a post-process such as adhesion, transparency treatment, and lamination with another sheet.
  • the color tone was represented by a color system “L *, a *, b *, ⁇ *” based on JIS-Z8729.
  • L *, a *, b *, ⁇ * based on JIS-Z8729.
  • the roughening and the blackening are collectively referred to as a blackening process.
  • the preferred reflection Y value of the blackening treatment is greater than 0 and less than or equal to 20 and more preferably 4 or more and 12 or less.
  • the surface is set so as to face outward, the contrast of the image in the presence of sunlight or external light is not prevented from being lowered, and the visibility of the image is insufficient.
  • the lower limit of the reflection Y value does not exist in principle, but it is technically difficult to make it completely zero in practice.
  • the reflection Y value is based on JIS-Z 8722
  • the measuring method is a reflection mode using a chromaticity meter CM-3700d (trade name, manufactured by Minoru Yusha Co., Ltd.).
  • the measurement is performed with the mesh surface as the light incident surface.
  • the light reflectance of the blackening treatment is preferably 5% or less.
  • the light reflectance is measured using a haze meter HM150 (trade name, manufactured by Murakami Color Co., Ltd.) in accordance with JIS-K7105.
  • the protection layer 25A and / or the protection layer 25 B may be provided, and at least the blackening layer 23 may be provided.
  • the protective layers 25 A and 25 B have a protective function of the metal layer 21 and the blackening layer 23, and if the blackening layer 23 is a particle, it is prevented from falling off or deformed. To prevent. In this way, the conductive material is formed from the metal layer 21, the blackening layer 23, and the protection layers 25 A, 25 B provided as needed, which are laminated as constituent layers of the mesh portion 103. 1 0 9 is configured o
  • protective layers 25A and 25B known protective layers can be applied, and nickel, zinc, and / or copper oxide or chromate-treated layers are preferable.
  • Nickel, zinc, and oxides of Z or copper may be formed by a known plating method, and have a thickness of about 0.001 to lzm, and preferably 0.001 to 0.1zm.
  • the chromate treatment for the blackening treatment layer 23 is performed by applying a close treatment liquid to the material to be treated.
  • a coating method a roll coat, a curtain coat, a squeeze coat, an electrostatic atomization method, an immersion method, or the like can be applied. After the application, the coating may be dried without washing with water.
  • the chromate treatment solution using an aqueous solution containing normal C r 0 2 only 3 gZ l. Specific examples include Alsurf 100 (manufactured by Nippon Paint Co., Ltd., trade name of chromate treatment agent) and PM-2284 (manufactured by Nippon Pharmaceutical Co., Ltd., trade name of chromate treatment liquid).
  • the chromate treatment enhances the effect of the blackening treatment.
  • the transparent substrate 11 is placed on the display side such that the blackened surface is on the observation side.
  • the electromagnetic wave shielding sheet 1 may be flattened, if necessary, and further integrated or combined with a visible light and / or near infrared absorbing layer having a specific wavelength, and / or an anti-reflection layer, if necessary. It is placed on the front of the display as a display front panel. In this case, it shields electromagnetic waves generated from the display, has appropriate transparency, absorbs unnecessary visible light and Z or near-infrared light of a specific wavelength, is antireflective, and has a display image on the display. Can be more visually recognized.
  • the line portion 107 of the mesh has a thickness of the metal layer, but the opening portion 105 becomes a cavity (recess) by removing the metal layer 21 and becomes a conductive material.
  • the portion 109 becomes uneven. This unevenness is coated with an adhesive or adhesive in the next step. In this case, it is filled with the adhesive or the like. However, at this time, if the viscosity of the adhesive or the like is high or the bonding process conditions sufficient for the replacement of the adhesive with the air in the concave portion are not satisfied, air remains in the concave portion of the mesh portion and bubbles are generated.
  • the concave portion is filled by applying and embedding a transparent resin in the concave portion of the mesh portion opening 105. If the transparent resin does not penetrate into every corner of the recess, bubbles will remain and the transparency will deteriorate. For this reason, a flattening layer 29 is formed by diluting with a solvent or the like and applying with low viscosity and drying, or by applying while degassing air.
  • the flattening layer 29 has a high transparency, the contact ratio is close to that of the adhesive layer 13 and the base material 11, and the adhesiveness with the mesh agent is good, and the adhesiveness with the adhesive in the next step is good. It just needs to be something. However, if the surface of the flattening layer 29 has protrusions, dents, and unevenness, it is not preferable because, when the flattening layer 29 is installed on the front of the display, moire and interference unevenness occur with the display.
  • the resin is laminated with a base material having excellent flatness and releasability, and the applied resin is cured with heat or ultraviolet light to peel the base material. Remove. On the surface of the flattening layer 29, the surface of the flat base material is transferred to form a smooth surface.
  • the resin used for the flattening layer 29 is not particularly limited, and various natural or synthetic resins, thermosetting or ionizing radiation curable resins can be used, but the resin has durability, transparency, refraction with various resins.
  • UV-curable resins composed of acrylic or epoxy monomers, prepolymers, or a mixture of these are preferred because of their closeness in ratio, applicability, ease of flattening, and flatness. .
  • NIR Absorbing Layer a light absorbing agent that absorbs visible light and a specific wavelength of Z or near infrared rays may be added to the resin used for the planarizing layer 29. Absorption of a specific wavelength of visible light reduces unnaturalness and discomfort in the color tone of the image, improving the visibility of the image. This depends on the type of display. For example, in the case of a PDP, in principle, the emission spectrum of neon atoms in the image light has a wavelength of 570 to 65 nm. When the light is mixed, the color tone of the image shifts to orange. Therefore, by absorbing this wavelength range, the image can be made closer to a natural color.
  • the specific wavelength of near-infrared rays is about 780 to 110 Onm. Since near-infrared rays in this wavelength range are also used for signal transmission of various remote control devices, if they are emitted, the remote control devices will malfunction. Therefore, it is desirable to absorb at least 80% of the wavelength range of 780 to 110 Onm.
  • the near-infrared absorbing agent also referred to as NIR absorbing agent
  • the near-infrared absorbing agent is not particularly limited, but has a sharp rising edge near the boundary where the visible light region shifts to the near-infrared region, and has a low transmittance in the near-infrared region and visible light. In the visible light region, dyes that do not have large absorption at a specific wavelength can be used.
  • a phthalocyanine compound As the dye that absorbs a specific wavelength in the visible light region, a phthalocyanine compound, an anthraquinone compound, a coumarin compound, and a methine compound are preferable. Dyes that absorb a specific wavelength of near-infrared light include immonium compounds, dimonium compounds, cyanine compounds, phthalocyanine compounds, naphthocyanine compounds, naphthoquinone compounds, anthraquinone compounds, and dithiol compounds. System complex. Although the NIR absorber is added to the flattening layer 29, when not added, another layer having an NIR absorber (referred to as an NIR absorption layer) may be provided on at least one side.
  • an NIR absorption layer another layer having an NIR absorber
  • the NIR absorption layer is provided on the flattening layer 29 side and / or on the opposite substrate 11 side.
  • the NIR absorption layer becomes the NIR absorption layer 31B shown in FIG. 4, and when the NIR absorption layer is provided on the substrate 11, the NIR absorption layer shown in FIG. 31 A
  • the NI J and the NIR absorbing layer 31B and the NIR absorbing layer 31A can be formed by laminating a commercially available film having an NIR absorbing agent (for example, Toyobo Co., Ltd., trade name No. 2832) with an adhesive or by transferring the NIR absorbing agent to a binder. It may be contained and applied.
  • an NIR absorbing agent for example, Toyobo Co., Ltd., trade name No. 2832
  • a polyester resin, a polyurethane resin, an acrylic resin, or a cured resin utilizing a reaction of an epoxy, acrylate, methyl acrylate, isocyanate group or the like which is cured by heat or ultraviolet rays can be applied.
  • the flattening layer 29 and the NIR layer 31As3IB to which these light absorbers are added become the visible or near infrared absorbing layer.
  • an antireflection layer (referred to as an AR layer) 2 may be provided on the observation side of the electromagnetic wave shielding sheet.
  • the anti-reflection (AR) layer is for preventing reflection of visible light such as sunlight or electric light incident as external light, and many single-layer and multi-layer structures are commercially available.
  • the multilayer has a high refractive index layer and a low refractive index layer that are alternately laminated. Examples of the high refractive index layer include niobium oxide, titanium oxide, zirconium oxide, and ITO. Are magnesium fluoride, silicon oxide and the like.
  • a layer 3 such as a hard coat layer, an antifouling layer, and an antiglare layer may be provided.
  • the hard coat layer is a layer having a hardness of H or more in the pencil hardness test of JIS-K540
  • a multifunctional (meth) acrylate monomer such as (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, or prepolymer is cured by heat or ionizing radiation.
  • the antifouling layer is a water-repellent and oil-repellent coat to which a siloxane-based or fluorinated alkylsilyl compound can be applied.
  • the anti-glare layer is a layer having a fine uneven surface that irregularly reflects external light.
  • a transparent substrate such as glass
  • a transparent substrate such as glass
  • a NIR absorption layer an AR layer
  • a hard coat layer an antifouling layer
  • an antiglare layer to constitute a display front panel.
  • Substrates and large displays have a rigidity of 1 to 10 mm in thickness, while small displays such as character display tubes have a thickness of 0.0.
  • a plastic film of 1 to 0.5 mm is used and may be selected as appropriate according to the size and use of the display.
  • Example 1 A metal layer 21 made of electrolytic copper foil having a thickness of 10 m and a surface roughness of 2 m with Rz of 2 m, and a continuous belt-like PET film having a thickness of 100 zm A430 ( After laminating a transparent substrate 11 made of Toyobo Co., Ltd. made of polyethylene terephthalate) with a polyurethane-based adhesive layer 13, aged at 50 ° C for 3 stitches, A layered body was obtained.
  • the adhesive used was a polyol (Takeradik A-310) as the base material and isocyanate (A-10) as the curing agent (both trade names, manufactured by Takeda Pharmaceutical Co., Ltd.). The applied amount was 4 zm in thickness after drying. did.
  • a copper mesh is formed on the copper foil of the laminate by a photolithography method.
  • the production line for color TV shadow masks is diverted from masking to etching in a continuous band (winding).
  • a casein positive photosensitive resist was applied over the entire surface of the metal layer 21 of the laminate by a coating method.
  • the stack is intermittently conveyed to the next station, and the opening is square, with a line width of W22 / m, a line interval (pitch P) of 300 m, and a mesh angle of 49 degrees to the side of the transparent substrate.
  • contact exposure was performed using ultraviolet light from a mercury lamp.
  • the laminate was successively transported to the station, developed with water, hardened, and baked at 100 ° C.
  • the laminate is further transported to the next station, and using a ferric chloride solution having a liquid temperature of 50 ° C and a specific gravity of 42 ° Baume as an etching solution, the non-resist part is etched by spraying, and the opening 105 , And a line portion 107 surrounding it. While transporting the laminate one after another between stations, it was washed with water, the resist was peeled off, washed, and dried at 100 ° C to form a copper metal mesh 103 shaped as shown in Figures 1 and 2. .
  • a ferric chloride solution having a liquid temperature of 50 ° C and a specific gravity of 42 ° Baume
  • the surface and side surfaces of the metal mesh line portion 107 are blackened.
  • Blackening treatment As a plating bath, immersed in a mixed aqueous solution of copper sulfate aqueous solution (100 g / 1 (liter)) and sulfuric acid aqueous solution (120), at a bath temperature of 35 ° C and a current density of 2 OA / dm 2 The treatment was performed for 10 seconds, and the same treatment was repeated twice, and the electroplating process was performed three times in total to form the blackening treatment layer 23. Thus, the electromagnetic wave shielding sheet 1 of Example 1 was obtained.
  • Example 2 Except for using a mixed aqueous solution of an aqueous solution of copper sulfate (85 g / 1 (liter)), an aqueous solution of cobalt sulfate (15 g / l) and an aqueous solution of sulfuric acid (120 g / l) as a blackening treatment bath In the same manner as in Example 1, an electromagnetic wave shielding sheet was obtained.
  • Example 3 As a blackening treatment bath, an aqueous solution of copper sulfate (85 g / 1 (liter)), an aqueous solution of nickel sulfate (15 gZl) and an aqueous solution of sulfuric acid (120) were used. An electromagnetic wave shielding sheet was obtained in the same manner as in Example 1 except that a mixed aqueous solution was used.
  • Example 4 A blackening treatment bath was prepared in the same manner as in Example 1 except that an aqueous solution of copper sulfate (85 gZl (liter)) and an aqueous solution of zinc sulfate (a mixed solution of 15 and an aqueous solution of sulfuric acid (120) were used. Thus, an electromagnetic wave shielding sheet was obtained.
  • Example 5 Example 1 was repeated except that a mixed aqueous solution of an aqueous solution of copper sulfate (85 gZl (liter)) and an aqueous solution of chromium sulfate (15 and an aqueous solution of sulfuric acid (120 gZl) was used as the blackening treatment bath. In the same manner as in the above, an electromagnetic wave shielding sheet was obtained.
  • Example 6 An electromagnetic wave shielding sheet was obtained in the same manner as in Example 1 except that the electrolytic plating of the blackening treatment was performed twice.
  • Example 7 As a blackening treatment, a chemical conversion treatment of immersing in a mixed aqueous solution (90 ° C) of an aqueous solution of sodium chlorite (50 g / l (liter)) and an aqueous solution of sodium hydroxide (20 g / l) for 2 minutes. A sheet for shielding electromagnetic waves was obtained in the same manner as in Example 1 except that this was performed. The surface and side surfaces of the copper mesh became copper oxide and had been blackened.
  • Comparative Example 1 instead of the copper foil of Example 1, copper-cobalt alloy particles (average particle diameter: 0.3 ⁇ m) were electrodeposited on the front and back surfaces of the copper foil, and further —Electromagnetic shielding of Comparative Example 1 in the same manner as in Example 1 except that the 10 mm thick electrolytic copper foil was used, and the blackening treatment was not performed on the side of the line 107 after forming the copper mesh. Sheet was obtained.
  • the evaluation was made based on the reflection Y value, visibility, presence / absence of air bubbles, etching unevenness, blackening unevenness, and powder removal on the blackened surface.
  • the reflection Y value was measured by the method described above.
  • Visibility is set on the front of PDP; WOOO (trade name, manufactured by Hitachi, Ltd.), and the test pattern, white, and black are displayed in sequence, and the screen is displayed from the screen in a fluorescent lamp illuminated room. At a distance of 50 cm, visual observation was made at a viewing angle of 0 to 80 degrees with the normal of the screen. Observe the brightness, contrast, reflection of external light (fluorescent light) in black display, glare, and unevenness in blackening processing in white display. Indicated by x, good samples were evaluated as pass and indicated by ⁇ , and those that had no practical problem were evaluated as pass and indicated by ⁇ .
  • Etching unevenness was observed by visually observing the transmitted light while standing on a light table. If no unevenness was observed, the sample was evaluated as acceptable and indicated by a mark. If unevenness was observed, an optical microscope of 100 times magnification was used. The line width of the mesh was visually observed by using, and those with a remarkable change in the line width were rejected and indicated by an X mark.
  • Blackening unevenness was visually observed under a fluorescent lamp, and marked unevenness was marked as X and marked as unacceptable, and unacceptable was marked as ⁇ if unacceptable. ⁇
  • Example 17 the reflection Y value was 20 or less, and the surface and side surfaces of the line portion 107 had a blackening layer, and visibility, bubbles, etching unevenness, and blackening La, and powder fall were all passed. Comparative Example 2 shows the surface and side Although it has a blackening layer, the reflection Y value is 22.0, and the visibility is clearly X, which is clearly worse than that of the other examples and has a practical problem, but bubbles, uneven etching, black All of the chemical treatment unevenness and powder drop were acceptable.
  • the reflection Y value was 20 or less, but there was no blackening layer on the side surface of the line portion, and instead a blackening layer on the back surface, and the viewing angle was 0 (in the normal direction of the screen). Although the image had good visibility, the image was reddish when viewed from the side (viewing angle> 0 °), and the image was reddish, and the contrast was lowered. In fact, bubbles and uneven etching were also rejected.
  • the method for producing the electromagnetic wave shielding sheet 1 of the present invention unevenness in application of the adhesive and mixing of air bubbles are small, and the lamination quality is excellent.
  • the blackening process is completed in one step, there is no unevenness such as discontinuity of the mesh, the yield is good, and the production efficiency is high.
  • the electromagnetic wave shielding sheet 1 of the present invention since the electromagnetic wave is shielded and the blackening layer 23 is provided also on the surface and the side surface (cross section) of the metal layer 21, the electromagnetic wave shielding sheet 1 The display light is not absorbed and the brightness of the displayed image does not decrease.
  • the front panel for a display using the electromagnetic wave shielding sheet 1 of the present invention is arranged on the front of the display to shield the electromagnetic waves generated from the display and to allow the display image on the display to be viewed well. Can be.

Abstract

金属層２１と透明基材１１とを、直接又は接着剤１３を介して積層する。積層体の金属層２１ヘレジスト層１０９ａをメッシュパターン状に設け、エッチングし、レジスト層１０９ａを除去して、メッシュ状の金属層とする。該メッシュ状の金属層２１の表面及び側面へ、黒化処理層２３を設ける。

Description

明 細 書 電磁波遮蔽用シート、 ディスプレイ用前面板及び電磁波遮蔽用シートの製造方法 技 術 分 野
本発明は、 電磁波遮蔽 （シールドともいう） 用シートに関し、 さらに詳しくは、 CRT (陰極線管） 、 PDP (プラズマディスプレイパネル） などの画像ディス プレイの前面に配置して、 ディスプレイから発生する電磁波を遮蔽し、 かつ、 デ イスプレイの画像を良好に視認できる、 金属層 （薄膜） メッシュを用いた電磁波 遮蔽用シート及びその製造方法、 並びにディスプレイ用前面板に関するものであ る。
背 景 技 術
(技術の背景） 近年、 電気電子機器の機能高度化と増加利用に伴い、 電磁気的 なノィズ妨害 (E l e c t ro Magne t i c I nt e rf e r enc e ； EMI) が増えている。 電磁波ノイズは大きく分けて伝導ノイズと放射ノィ ズがある。 伝導ノイズはノイズフィル夕などを用いる方法がある。 一方、 放射ノ ィズは電磁気的に空間を絶縁するため、 筐体を金属にしたり、 回路基板間に金属 板を揷入したり、 ケーブルを金属箔で卷きなどの方法がある。 これらの方法は回 路ゃ電源ブロックの電磁波遮蔽の効果はあるが、 CRT、 PDPなどの、 デイス プレイ前面より発生する電磁波遮蔽用には、 不透明であるため適さない。
PDP表示本体は、 デ一夕電極と蛍光層を有するガラスと、 透明電極を有する ガラスとを組合わせたもので、 作動すると電磁波、 近赤外線、 及び熱が大量に発 生する。 通常、 電磁波を遮蔽するために P DPの前面に前面板を設ける。 該ディ スプレイ用前面板には、 電磁波遮蔽性、 近赤外線吸収性、 視認性が求められてい る。 ディスプレイ前面から発生する電磁波の遮蔽性は、 30MHz〜lGHzに おける 30 dB以上の機能が必要である。 また、 ディスプレイ前面より発生する 波長 900〜1, 100 nmの近赤外線も、 他の V T Rなどの機器を誤作動させ るので、 遮蔽する必要がある。 さらに、 ディスプレイの表示画像を視認しゃすく するため、 適度な透明性 （可視光透過性、 可視光透過率） や輝度が必要である。 また、 ディスプレイ用前面板に用いる電磁波遮蔽用シートには、 電磁波遮蔽性 に加え、 表示画像を視認しゃすくするために、 金属メッシュ枠 （ライン部） 部分 が見えにくく、 かつ光を反射しにくい適度な透明性と輝度を有することが求めら れている。 しかし、 電磁波遮蔽性、 視認性の両特性を実使用レベルで同時に満た すものはもちろん、 電磁波遮蔽性、 赤外線遮蔽性、 視認性の特性を同時に満すも のはなかった。 さらに、 電磁波遮蔽用シートは、 短い工程で、 高精度のものを安 定して製造できる製造方法が求められている。
(先行技術） 従来、 電磁波遮蔽用シートは、 電磁波遮蔽性と透明性を両立させ るために、 導電性部材は大きく分けて、 金属、 又は金属酸化物から成る透明導電 体の薄膜を透明板に形成したものと、 金属から成る不透明導電体の微細線メッシ ュが知られている。 しかしながら、 前者の透明導電体の薄膜を用いる仕様では電 磁波遮蔽性と透明性とを両立できないという欠点があり、 近年は、 後者の不透明 導電体メッシュを用いる仕様が主流になって来ている。
また、 これら不透明導電体仕様に於いてもディスプレイ画像の視認性を向上さ せるために、 メッシュのライン部 （ここは、 不透明であるが導電性） で電磁波遮 蔽性を出し、 一方メッシュの開口部で表示画像の透明性を出す。 そして更に、 日 光等の外光がメッシュのライン部 （ここは光反射性） で反射し画像コントラスト を低下させることを防ぐ為、 メッシュライン部の画像とは反対側に黒化処理層を 設ける設計としている。 例えば、 基板 Z透明アンカー層 Zメッシュパ夕一ン状の 無電解メツキ層からなり、 無電解メツキにより無電解メツキ層下の透明アンカー 層が黒色パターン部に変えられている電磁波シールド材料が知られている （例え ば、 特許文献 1参照。 ） 。 また、 電磁波遮蔽シートの金属メッシュの表面に酸化 銅被膜を形成して、 外光の反射を押さえる方法が知られている （例えば、 特許文 献 2参照。 ） 。 また、 電磁波遮蔽シートの金属メッシュをフォトレジスト法で形 成する際に用いた黒色レジストを、 メッシュを開孔した後もそのまま残存させて、 メッシュの枠部分 （ライン部ともいう） を黒くしておく方法が知られている （例 えば、 特許文献 3参照。 ） 。 また、 銅箔に幾何学図形をフォトリソグラフィ法で 形成した銅箔付きプラスチックフィルムをプラスチック板に積層した電磁波遮蔽 構成体が知られている （例えば、 特許文献 4参照） 。 また、 透明フィルム上に電 離放射線硬化性樹脂によるメッシュ状の凸状パターンを形成し、 その表面に無電 解メツキにより金属層を形成して金属メッシュとし、 更に該金属層表面を酸化又 は硫化させることにより、 金属メッシュの表面及び側面に黒化処理したものが知 られている （例えば、 特許文献 5参照。 ） 。 しかしながら、 特許文献 1〜5いず れの方法でも、 電磁波遮蔽シートの金属メッシュ枠 （ライン部） 部分の黒さが低 く、 外光存在下に於いてディスプレイの画像の視認性は十分ではないという欠点 がある。
さらに、 金属メッシュの表面、 裏面、 及び側面の全ての面を黒化処理するもの も知られている （例えば、 特許文献 6参照。 ） 。 しかしながら、 銅箔へ予め施し た黒化処理面と透明基材とを、 接着剤を介して貼り合せるので、 黒化処理で粗面 化された銅箔表面に起因して、 接着剤の塗布ムラや気泡の混入などによる積層品 質が低下する。 また、 エッチング時にはメッシュが途切れやすく、 さらに、 積層 後、 銅箔の他の面及び側面を再度黒化処理するので、 黒化工程が倍増して二度手 間であり、 煩雑で歩留りが低下するという問題点がある。 さらにまた、 メッシュ のディスプレイ側にも黒化処理層があるので、 ディスプレイからの表示光が吸収 されてしまうために、 輝度が低下してしまうという欠点がある。
[特許文献 1 ] 特閧平 5— 2 8 3 8 8 9号公報
[特許文献 2 ] 特開昭 6 1 - 1 5 4 8 0号公報
[特許文献 3 ] 特開平 0 9— 2 9 3 9 8 9号公報
[特許文献 4 ] 特閧平 1 0— 3 3 5 8 8 5号公報
[特許文献 5 ] 特開平 1 1— 1 7 4 1 7 4号公報
[特許文献 6 ] 特開 2 0 0 2 - 9 4 8 4号公報 発 明 の 開 示
そこで、 本発明はこのような問題点を解消するためになされたものである。 そ の目的は、 短い工程で高精度のものが歩留りよく製造でき、 ディスプレイの前面 に配置して、 ディスプレイから発生する電磁波を遮蔽し、 かつ、 ディスプレイ画 像を良好に視認性できる電磁波遮蔽用シ一ト及びその製造方法、 並びにディスプ レイ用前面板を提供することである。 本発明は、 透明基材と、 透明基材の一方の面に設けられたメッシュ状の金属層 とを備え、 金属層の透明基材と反対の面および側面に黒化処理層が設けられ、 上 記黒化処理層の反射 Y値が、 0より大きく 2 0以下であることを特徴とする電磁 波遮蔽用シートである。
本発明によれば、 電磁波を遮蔽すると共に、 ディスプレイからの表示画像光が 吸収されず、 且つ外光によっても表示画像の輝度が低下しない電磁波遮蔽用シ一 トが、 工程増と歩留低下をともなうこと無く提供される。
本発明は、 上記黒化処理層が、 銅、 コバルト、 ニッケル、 亜鉛、 スズ、 若しく はクロムから選択された少なくとも 1種の単体、 又は化合物を含有することを特 徴とする電磁波遮蔽用シートである。
本発明によれば、 金属層の表面及びメッシュの側面 （断面） が均一に黒化し、 しかも金属層への密着力に優れる電磁波遮蔽用シートが提供される。
本発明は、 上記金属層が、 銅であることを特徴とする電磁波遮蔽用シートであ る。
本発明によれば、 ィスプレイの前面に配置して、 ディスプレイから発生する 電磁波を良好に遮蔽できる電磁波遮蔽用シートが提供される。
本発明は、 電磁波遮蔽用シートと、 この電磁波遮蔽用シートに設けられた、 可 視光線及び/若しくは近赤外線吸収層、 または反射防止層とを備え、 電磁波遮蔽 用シートは、 透明基材と、 透明基材の一方の面に設けられたメッシュ状の金属層 とを備え、 金属層の透明基材と反対の面および側面に黒化処理層が設けられ、 上 記黒化処理層の反射 Y値が、 0より大きく 2 0以下であることを特徴.とするディ スプレイ用前面板である。 本発明によれば、 モアレや不要な特定波長の可視及び /又は近赤外線が吸収された、 ディスプレイの表示画像をより良好に視認できる 電磁波遮蔽用シートが提供される。
本発明は、 （a ) 金属層と透明基材とを、 直接又は接着剤を介して積層するェ 程と、 （b ) 積層された金属層と透明基材のうち、 金属層へレジスト層をメッシ ュパターン状に設け、 レジスト層で覆われていない部分の金属層をエッチングに より除去した後に、 レジスト層を除去して、 メッシュ状の金属層を形成する工程 と、 （c ) 該メッシュ状の金属層の表面及び側面へ、 メツキ法で黒化処理層を設 ける工程とからなることを特徴とする電磁波遮蔽用シートの製造方法である。 本発明によれば、 接着剤の塗布ムラや気泡の混入が少なく積層品質に優れ、 ま た、 黒化処理が 1工程で済み、 メッシュの途切れなどのムラがなく、 歩留りがよ く、 生産効率が高い電磁波遮蔽用シートの製造方法が提供される。 図面の簡単な説明
図 1は、 本発明の電磁波遮蔽用シートの平面図である。
図 2は、 本発明の電磁波遮蔽用シートの一部を模式的に示す斜視図である。 図 3は、 従来の電磁波遮蔽用シートの要部の断面図である。
図 4は、 本発明の電磁波遮蔽用シートの実施例を示す要部の断面図である。 発明を実施するための最良の形態
本件出願人はディスプレイの電磁 ¾遮蔽用シートについて、 開発を継続して行 つている。 前記特開平 1 1— 1 7 4 1 7 4号公報 （特許文献 5 ) の他、 特開 2 0 0 1 - 2 1 0 9 8 8号公報では黒化しェヅチングしたメッシュ状金属箔を用いた ものを示し、 特願 2 0 0 2 - 2 3 0 8 4 2号では銅-コバルト粒子を付着させて 黒化したものを出願している。 本発明はこれらをさらに改良した発明である。 本発明の実施態様について、 図面を参照して詳細に説明する。
図 1は、 本発明の電磁波遮蔽用シートの 1形態を示す平面図である。
図 2は、 本発明の電磁波遮蔽用シートの 1形態の一部を模式的に示す斜視図で める。
(全体の層構成） 図 2に示すように、 本発明の電磁波遮蔽用シート 1は、 透明 基材 1 1と、 透明基材 1 1の一方の面に設けられたメッシュ状の導電材層 1 0 9 とを備え、 導電材層 1 0 9は金属層 2 1を含んでいる。 メッシュ状の導電材層 1 0 9は図 1に示すようにメッシュ部 1 0 3を構成し、 メッシュ部 1 0 3の周囲に 接地用枠部 1 0 1が設けられている。 メッシュ部 1 0 3は、 図 2に示すように、 ライン部 1 0 7で囲まれた複数の開口部 （セルともいう） 1 0 5を有している。 接地用枠部 1 0 1はディスプレイへ設置した場合にアースがとられる。
上述のように基材 1 1の一方の面へ、 直接又は接着剤層 1 3を介して金属層 2 1を含む導電材層 1 0 9が積層されている。 該導電材層 1 0 9は開口部 1 0 5を 形成する枠状のライン部 1 0 7からなり、 開口部 1 0 5は密に配列されている。 ライン部 1 0 7の幅は、 図 2に示すようにライン幅 Wと称し、 隣接するライン部 とライン部との間隔をピヅチ Pと称する。
図 3は、 従来の電磁波遮蔽用シートの要部の断面図である。
図 4は、 本発明の電磁波遮蔽用シートの 1実施例を示す要部の断面図である。 (層の構成） 図 3は従来の、 図 4は本発明の、 開口部を横断する要部の断面を 示し、 共に開口部 1 0 5とライン部 1 0 7が交互に構成されている。 尚、 図を見 易くする為にこれらの断面図は、 開口部の幅に比べてライン部の幅及び厚みを誇 張して図示してある。 図 3に示すように、 従来のライン部 1 0 7において、 金属 層 2 1の両面へ、 それぞれ黒化処理層 2 3 A及び黒化処理層 2 3 Bが設けられて いるが、 金属層 2 1の側面部分は、 金属層 2 1のが露出している。 '
また、 図示していないが、 先行技術 「特許文献 6」 で述べた金属メッシュのラ イン部の表面、 裏面及び側面の全ての面を黒化処理したものは、 接着剤の塗布ム ラゃ気泡の混入などによる積層品質の低下、 メッシュの途切れやすさ、 2度の黒 化工程による歩留りが低下の問題点があり、 さらに、 ディスプレイ輝度の低下と いう欠点がある。
(発明のポイント） 本発明の電磁波遮蔽用シート 1の製造方法は、 まず、 金属 層 2 1を透明基材 1 1の一方の面へ、 直接又は接着剤層 1 3を介して積層した後 に、 金属層 2 1面へレジスト層をメッシュパターン状に設ける。 次にレジスト層 で覆われていない部分の金属層 2 1をエッチングにより除去した後に、 レジスト 層を除去する所謂フォトリソグラフィ法でメッシュを形成する。 このように、 メ' ッシュ状にした金属層 2 1を黒化処理することで、 金属層 2 1の表面及び側面へ 黒化処理層 2 3を設けることができる。
黒化処理が 1工程で済み、 メッシュが途切れず、 接着剤の塗布ムラや気泡の混 入などがなく積層品質に優れ、 歩留りがよく、 生産効率が高く生産できる。
図 4に示すように、 本発明のライン部 1◦ 7は、 金属層 2 1の透明基材 1 1の 反対面 （表面と呼称） へ、 黒化処理層 2 3が設けられ、 さらに金属層 2 1の断面 部分にも、 黒化処理層 2 3を設けるようにする。 また必要に応じて、 黒化処理層 2 3を覆うように、 及び Z又は金属層 2 1の透明基材 1 1の面に、 防鲭層 2 5 A、 2 5 Bを設けてもよい。
本発明の電磁波遮蔽用シート 1によれば、 金属層 2 1の側面部分にも黒化処理 層 2 3を設けることで、 ディスプレイから発生する電磁波を遮蔽し、 かつ、 電磁 波遮蔽用の金属メッシュ枠 （ライン部） 部分が見えにくく、 外光 （日光、 電燈 光） がディスプレイ表面に入射してもこれを反射させて光らせることがない。 こ のため電磁波遮蔽性、 透明性の両特性を満たし、 且つ、 外光存在下でもディスプ レイ画像を高コントラストで鮮明、 良好にネ見認することができる。
さらに必要に応じて、 後述の如く平坦化の処理をし、 さらに必要に応じて特定 波長の可視光線及び/又は近赤外線を吸収する光線吸収剤層を設ける。 このよう な電磁波遮蔽用シートをディスプレイの前面に配置すると、 ディスプレイから発 生する電磁波を遮蔽し、 かつ、 適度の透明性を有しディスプレイに表示された画 像を良好に視認性できる。
金属層の透明基材と反対の面及びメッシュの側面を黒化処理層とする、'本発明 の電磁波遮蔽用シートの製造方法について、 工程順に、 使用及び関連する材料な ども含めて、 詳細に説明する。
( a ) 金属層と透明基材とを、 直接又は接着剤を介して積層する工程
(透明基材） まず、 透明基材 1 1の材料としては、 使用条件や製造に耐える透 明性、 絶縁性、 耐熱性、 機械的強度などがあれば、 種々の材料が適用できる。 例 えば、 ポリエチレンテレフ夕レート、 ポリプチレンテレフ夕レート、 ポリエチレ ンナフ夕レート、 ェチレングリコール -テレフ夕ル酸 -イソフ夕ル酸共重合体、 テレフタル酸-シクロへキサンジメ夕ノール-エチレングリコ一ル共重合体、 ポ リエチレンテレフ夕レ一卜/ポリエチレンナフ夕レートの共押し出しフィルムな どのポリエステル系樹 β旨、 ナイロン 6、 ナイロン 6 6、 ナイロン 6 1 0などのポ リアミ ド系樹脂、 ポリプロピレン、 ポリメチルペンテンなどのポリオレフイン系 樹脂、 ポリ塩化ビニルなどのビニル系樹脂、 ポリメチル （メタ） ァクリレート、 ポリブチル （メ夕） ァクリレート、 メチル （メタ） ァクリレート -ブチル （メ 夕） ァクリレート共重合体などのァクりル系樹脂 （ここで、 （メタ） ァクリレー 卜とはァクリレート、 又はメタクリレートを意味する） 、 ポリイミ ド、 ポリアミ ドイミド、 ポリエーテルイミ ドなどのイミ ド系樹脂、 ポリアリレート、 ポリスル ホン、 ポリエ一テルスルホン、 ポリフエ二レンエーテル、 ポリフエ二レンスルフ イ ド （P P S ) 、 ポリアラミ ド、 ポリェ一テルケトン、 ポリエ一テルニトリル、 ポリエ一テルエ一テルケトン、 ポリエーテルサルフアイトなどのエンジニアリン グ樹脂、 ポリスチレンなどのスチレン系樹脂、 ポリカーボネート樹脂などがある 該透明基材 1 1は、 これら樹脂を主成分とする共重合樹脂、 または、 混合体
(ァロイでを含む） 、 若しくは複数層からなる積層体であっても良い。 該透明基 材 1 1は、 延伸フィルムでも、 未延伸フィルムでも良いが、 強度を向上させる目 的で、 一軸方向または二軸方向に延伸したフィルムが好ましい。 該透明基材の厚 さは、 通常、 1 2〜： L 0 0 O m程度が適用できるが、 5 0〜7 0 0〃mが好適 で、 1 0 0〜5 0 O mが最適である。 これ以下の厚さでは、 機械的強度が不足 して反りやたるみなどが発生し、 これ以上では、 過剰な性能となってコスト的に も無駄である。
該透明基材 1 1は、 これら樹脂の少なくとも 1層からなるフィルム、 シート、 ボード状として使用するが、 これらの形状を本明細書ではフィルムと総称する。 通常は、 ポリエチレンテレフ夕レート、 ポリエチレンナフ夕レート等のポリエス テル系の 2軸延伸フィルムが透明性、 耐熱性がよくコストも安いので好適に使用 され、 ポリエチレンテレフ夕レートが最適である。 また、 透明性は高いほどよい が、 好ましくは可視光線透過率で 8 0 %以上である。
該透明基材 1 1は、 塗布に先立って塗布面へ、 コロナ放電処理、 プラズマ処理、 オゾン処理、 火炎処理、 プライマ一 （アンカ一コート、 接着促進剤、 易接着剤と も呼ばれる） 塗布処理、 予熱処理、 除麈埃処理、 蒸着処理、 アルカリ処理、 など の易接着処理を行ってもよい。 該樹脂フィルムは、 必要に応じて、 紫外線吸収剤、 充填剤、 可塑剤、 帯電防止剤などの添加剤を加えても良い。
(金属層） 電磁波を遮蔽する導電材 1 0 9は、 例えば金、 銀、 銅、 鉄、 ニッケ ル、 クロム、 アルミニウムなど充分に電磁波をシールドできる程度の導電性を持 つ金属層 2 1.を有している。 金属層 2 1は単体でなくても、 合金あるいは多層で あってもよい。 又金属層 2 1は予め金属層を単層で形成し、 これを透明基材 1 1 と接着剤層 1 3を介して積層することが一般的である。 しかし、 その他にも、 透 明基材 1 1上に、 接着剤層を介さずに、 無電解メツキ、 蒸着等の方法により、 直 接金属層 2 1を積層することも出来る。 金属層 2 1としては、 鉄の場合には低炭 素リムド鋼ゃ低炭素アルミキルド鋼などの低炭素鋼、 N i _ F e合金、 インバー 合金が好ましく、 また、 黒化処理としてカソーディック電着を行う場合には、 電 着のし易さから銅又は銅合金箔が好ましい。 該銅箔としては、 圧延銅箔、 電解銅 箱が使用できるが、 厚さの均一性、 黒化処理及び Z又はクロメート処理との密着 性、 及び 1 0 m以下の薄膜化ができる点から、 電解銅箔が好ましい。 該金属層 2 1の厚さは 1〜 1 0 0 / m程度、 好ましくは 5〜2 0 mである。 これ以下の 厚さでは、 フォトリソグラフィ法によるメッシュ加工は容易になるが、 金属の電 気抵抗値が増え電磁波遮蔽効果が損なわれ、 これ以上では、 所望する高精細なメ ッシュの形状が得られず、 その結果、 実質的な開口率が低くなり、 光線透過率が 低下し、 さらに視角も低下して、 画像の視認性が低下する。
金属層 2 1の表面粗さとしては、 1 2値で0 . 5〜 1 0 z mが好ましい。 これ 以下では、 黒化処理しても反射 Y値を 2 0以下とすることが難しくなり、 外光が 鏡面反射して、 画像の視認性が劣化する。 これ以上では、 接着剤やレジストなど を塗布する際に、 表面全体へ行き渡らなかったり、 気泡が発生したりしてする。 表面粗さ R zは、 J I S— B 0 6 0 1に準拠して測定した 1 0点の平均値である。
(積層法） 上記の透明基材 1 1と金属層 2 1との積層 （ラミネートともいう） 法としては、 透明基材 1 1又は金属層 2 1の一方に、 接着剤又は粘着性を塗布し 必要に応じて乾燥して、 加熱又は加熱しないで加圧し、 その後必要に応じて 3 0 〜8 0 °Cの温度下で、 ェ一ジング （養生） してもよい。 このようにして透明基材 1 1と金属層 2 1との間に接着剤層 1 3を設ける。 好ましくは、 当業者がドライ ラミネ一シヨン法 （ドライラミともいう） と呼ぶ方法である。 さらに、 紫外線 ( U V) 、 電子線 （E B ) などの電離放射線で硬化 （反応） する電離放射線硬化 型樹脂も好ましい。 .
(接着剤） ドライラミネーシヨン法、 またはノンソルベントラミネ一シヨン法 で用いる接着層の接着剤として、 熱硬化型樹脂、 または電離放射線硬化型樹脂の 接着剤が適用できる。 熱硬化型樹脂接着剤としては、 具体的には、 2液硬化型の、 アクリルウレタン系接着剤、 ポリエステルウレタン系接着剤、 ポリエーテルウレ タン系接着剤等のウレタン系接着剤、 アクリル系接着剤、 ポリエステル系接着剤、 ポリアミ ド系接着剤、 ポリ酢酸ビニル系接着剤、 エポキシ系接着剤、 ゴム系接着 剤などが適用できるが、 2液硬化型ゥレ夕ン系接着剤が好適である。
(粘着剤） 粘着剤としては、 公知の感圧で接着する粘着剤が適用できる。 粘着 剤としては、 特に限定されるものではなく、 例えば、 天然ゴム系、 プチルゴム、 ポリイソプレン、 ポリイソプチレン、 ポリクロ口プレン、 スチレン-ブタジエン 共重合樹脂などの合成ゴム系樹脂、 ジメチルポリシロキサンなどのシリコーン系 樹脂、 アクリル系樹脂、 ポリ酢酸ビニール、 エチレン-酢酸ビニール共重合体な どの酢酸ビニール系樹脂、 ウレタン系樹脂、 ァクリロニトリル、 炭化水素樹脂、 アルキルフエノール樹脂、 ロジン、 ロジントリグリセリ ド、 水素化ロジンなどの ロジン系樹脂が適用できる。
(接着剤又は粘着剤層の形成） 上記の接着剤又は粘着剤の樹脂、 またはこれら の混合物を、 ラテックス、 水分散液、 または有機溶媒液として、 スクリーン印刷 またはコンマコート、 ロールコート、 力一テンフロ一コートなどの、 公知の印刷 またはコーティング法で、 印刷または塗布し必要に応じて乾燥した後に、 一方の 材料と重ねて加圧すれば良い。 具体的な積層方法としては、 通常、 連続した帯状 (巻取という） で行い、.卷取ロールから巻きほく、されて伸張された状態で、 金属 層 2 1又は基材 1 1の一方へ、 接着剤を塗布し乾燥した後に、 他方の材料を重ね 合わせて加圧すればよい。 さらに、 必要に応じて 3 0〜8 0 °Cの雰囲気で数時間 〜数日のエージング （養生、 硬化） を行って、 卷取ロール状の積層体とする。 該接着剤層 1 3の膜厚としては、 0 . 1〜2 0 z m (乾燥状態） 程度、 好まし くは 1〜 1 0 / mである。 該接着層を形成したら直ちに、 貼り合せ基材を積層し たり、 さらに 3 0〜 1 2 0 °Cで数時間〜数日間エージングしたり、 接着剤を硬化 させたり、 することで接着する。 該接着剤の塗布面は、 透明基材側、 金属層側の いずれでもよい。
尚、 無電解メツキ等により、 直接、 透明基材上に金属層を形成する場合は、 接 着剤層 1 3は省略される。 .
( b ) 該積層体の金属層 2 1表面へレジスト層 1 0 9 aをメッシュパターン状 に設け、 レジスト層で覆われていない部分の金属層をエッチングにより除去した 後に、 レジスト層を除去して、 メッシュ状の金属層とする工程
(マスキング） 基材 1 1と金属層 2 1の積層体の金属層 2 1面を、 フォトリソ グラフィ法でメッシュ状とする。 この工程も、 帯状で連続して巻き取られた口一 ル状の積層体を加工して行く。 該積層体を連続的又は間歇的に搬送しながら、 緩 みなく伸張した状態で、 順次、 レジスト層形成、 マスキング、 エッチング、 レジ スト剥離する。
まず、 マスキングは、 例えば、 感光性レジストを金属層 2 1上へ塗布し、 乾燥 した後に、 所定のパターン （メッシュのライン部） 原版 （フォトマスク） にて密 着露光し、 水現像しレジスト層をパターン状にして、 硬膜処理などを施し、 ベ一 キングする。
レジストの塗布は、 卷取りロール状の帯状の積層体 （基材 1 1と金属層 2 1 ) を連続又は間欠で搬送させながら、 その金属層 2 1面へ、 カゼイン、 P VA、 ゼ ラチンなどのレジストをディヅビング （浸漬） 、 カーテンコート、 掛け流しなど の方法で行う。 また、 レジストは塗布ではなく、 ドライフィルムレジストを用い てもよく、 作業性が向上できる。 ベ一キングはカゼインレジストの場合、 2 0 0 〜3 0 0 °Cで行うが、 積層体の反りを防止するために、 できるだけ低温度が好ま しい。
(エッチング) マスキング後にエッチングを行う。 該エッチングに用いるェヅ チング液としては、 エッチングを連続して行う本発明には循環使用が容易にでき る塩化第二鉄、 塩化第二銅の溶液が好ましい。 また、 該エッチングは、 帯状で連 続する鋼材、 特に厚さ 2 0〜8◦〃mの薄板をエッチングするカラ一 T Vのブラ ゥン管用のシャドウマスクを製造する設備と、 基本的に同様の工程である。 即ち、 該シャドウマスクの既存の製造設備を流用でき、 マスキングからエッチングまで がー貫して連続生産できて、 極めて効率が良い。 エッチング後は、 水洗、 アル力 リ液によるレジスト剥離、 洗浄を行ってから乾燥すればよい。
(メヅシュ） メヅシュ部 1 0 3は、 開口部 1 0 5を形成する枠状のライン部 1 0 7からなつている。 開口部 1 0 7の形状は特に限定されず、 例えば、 正 3角形 等の 3角形、 正方形、 長方形、 菱形、 台形などの 4角形、 6角形等の n角形 （n ≥ 3の自然数） 、 円形、 楕円形などが適用できる。 これらの開口部の複数を、 組 み合わせてメヅシュとする。 開口率及びメッシュの非視認性から、 ライン幅は 2 5〃m以下、 好ましくは 2 0 /m以下が、 ライン間隔 （ラインピッチ） は光線透 過率から 1 5 0 z m以上、 好ましくは 2 0 0 zm以上が好ましい。 また、 ライン の電磁波遮蔽シート 1の周囲の辺となす角度は、 図 1の図示では 4 5度を例示し ているが、 これに限られず、 モアレの解消などのために、 ディスプレイの画素や 発光特性を加味して適宜、 選択すればよい。
( c ) 該メヅシュ状の金属層 2 1の表面及び側面へ、 黒化処理層 2 3を設ける 工程-
(黒化処理） 次に、 上記積層体の金属層の表面及びメッシュの側面 （エツチン グで露出した断面） を黒化処理をする。 該黒化処理としては、 粗化及びノ又は黒 化すればよく、 金属、 合金、 金属酸化物、 金属硫化物の形成、 黒色着色剤を含む 樹脂の塗工や種々の手法が適用できる。 好ましい黒化処理としてはメツキ法であ り、 該メツキ法によれば、 金属層への密着力に優れ、 金属層の表面及びメッシュ の側面 （断面） へ、 同時に、 均一に、 かつ容易に黒化することができる。 メヅキ 法としては電解メツキ、 無電解メツキのいずれも可能である。 該メツキの材料と しては、 銅、 コバルト、 ニッケル、 亜鉛、 スズ、 若しくはクロムから選択された 少なくとも 1種、 又は化合物を用いる。 他の金属又は化合物では、 黒化が不充分、 又は金属層との密着に欠け、 例えば力ドミゥムメヅキでは顕著である。
金属層 2 1として銅箔を用いる場合の、 好ましいメツキ法としては、 銅箔を硫 酸、 硫酸銅及び硫酸コバルトなどからなる電解液中で、 陰極電解処理を行って、 カチオン性粒子を付着させるカソ一ディック電着メツキである。 該カチオン性粒 子を設けることでより粗化し、 同時に黒色が得られる。 カチオン性粒子としては、 銅粒子、，銅と他の金属との合金粒子が適用できるが、 好ましくは銅-コバルト合 金の粒子である。
カソ一ディック電着によれば、 粒子を平均粒子径 0 . l〜 l zmに揃えて好適 に付着することができる。 また、 銅箔表面に高電流密度で処理することにより、 銅箔表面がカソ一ディックとなり、 還元性水素を発生し活性化して、 銅箔と粒子 との密着性が著しく向上できる。
ざらに、 銅-コバルト合金粒子の平均粒子径は 0 . l ~ l /z mが好ましい。 こ れ以上に銅-コバルト合金粒子の粒子径を大きくすると金属層 21の厚さが薄く なり、 基材 11と積層する工程で金属層が切断したりして加工性が悪化する。 ま た、 密集粒子の外観の緻密さが欠けて、 外観及び光吸収のムラが目立ってくる。 これ以下では、 粗化が不足するので、 画像の視認性が悪くなる。
なお、 黒化処理層 23の詳細は、 既に本件出願人が、 銅-コバルト合金粒子は 特願 2002-230842号公報で、 銅粒子は特開 2003— 23290号公 報で開示している。 さらに、 銅粒子、 銅-コバルト合金粒子をさらに黒化処理し てもよい。
(メツキ法黒化処理） エッチング後のメヅシュ部 103のライン部 107表面 及び側面への黒化処理層 23の形成は、 前述の方法が適用できる。 但し、 エッチ ング後なので、 金属層はメッシュ状となっているので、 メヅキ時の電極はロール 状の電極で、 メッシュの前面に接地させることが好ましい。 また、 エッチング後 もロール状で連続的にメツキ処理をすることが、 粘着や透明化処理や他のシート との積層などの後工程を考慮してより好ましい。
電磁波遮蔽用シートの視認性を評価する光学特性として、 色調を J I S-Z 8 729に準拠した表色系 「L*、 a*、 b*、 ΔΕ*」 で表わした。 「a*」 及び 「b*」 の絶対値が小さい方が導電材部 109が非視認性となり、 コントラスト 感が高まり、 結果として画像の視認性が優れる。
本明細書では、 粗化及び黒色化を合わせて黒化処理という。 黒化処理の好まし い反射 Y値は 0より大きく 20以下より好ましくは 4以上 12以下である。 表面 が外方を向くようにして設定した場合に、 日光、 或は電燈光の外光存在下での画 像のコントラストの低下を防げず、 画像の視認性は不十分となる。 一方、 反射 Y 値の下限値は原理的には存在し無いが、 現実に完全に 0にすることは技術的に困 難である。 なお、 反射 Y値は、 J I S— Z 8722に準拠して、 その測定方法は、 色度計 CM— 3700 d (ミノル夕社製、 商品名） を用いた反射モードで、 光源 D65、 視野 2度でメッシュ面を入光面とし測定する。 また、 該黒化処理の光線 反射率としては 5%以下が好ましい。 光線反射率は、 J I S— K7105に準拠 して、 ヘイズメーター HM150 (村上色彩社製、 商品名） を用いて測定する。 金 jS層 21面及び/又は黒化処理層 23上へ、 防鲭層 25 A及び/又は防鲭層 2 5 Bを設けてもよく、 少なくとも黒化処理層 2 3へ設ければよい。
該防鲭層 2 5 A、 2 5 Bは、 金属層 2 1及び黒化処理層 2 3の防鲭機能を持ち、 かつ、 黒化処理層 2 3が粒子であれば、 その脱落や変形を防止する。 このように してメッシュ部 1 0 3の構成層として積層された、 金属層 2 1、 黒化処理層 2 3、 及び必要に応じて設けられる防鲭層 2 5 A、 2 5 Bから導電材 1 0 9が構成され る o
該防鲭層 2 5 A、 2 5 Bとしては公知の防鲭層が適用できるが、 ニッケル、 亜 鉛、 及び/又は銅の酸化物、 又はクロメート処理層が好適である。 ニッケル、 亜 鉛及び Z又は銅の酸化物の形成は公知のメツキ法でよく、 厚さとしては 0 . 0 0 l〜 l z m程度、 好ましくは 0 . 0 0 1〜0 . 1 z mである。
(クロメート処理） 黒化処理層 2 3に対するクロメート処理は、 被処理材へク 口メート処理液を塗布し処理する。 塗布方法としては、 ロールコート、 カーテン コート、 スクイズコート、 静電霧化法、 浸漬法などが適用でき、 塗布後は水洗せ ずに乾燥すればよい。 クロメート処理液としては、 通常 C r 0 2を 3 gZ lだけ 含む水溶液を使用する。 具体的には、 アルサーフ 1 0 0 0 (日本ペイント社製、 クロメート処理剤商品名） 、 P M—2 8 4 (日本パ一カライジング社製、 クロメ —ト処理液商品名） などが例示できる。 また、 クロメート処理は黒化処理の効果 をより高める。
以上のようにして得られた電磁波遮蔽用シート 1は、 透明基材 1 1面をデイス プレイ側に配置し、 黒化処理面が観察側になるようにする。 また、 電磁波遮蔽用 シート 1は、 必要に応じて、 平坦化し、 さらに必要に応じて特定波長の可視光線 及び/若しくは近赤外線吸収層、 並びに 又は反射防止層を一体化するか、 組合 わせて、 ディスプレイ用前面板として、 ディスプレイの前面に配置する。 この場 合、 ディスプレイから発生する電磁波を遮蔽し、 適度の透明性を有し、 かつ、 不 要な特定波長の可視光線及び Z若しくは近赤外線を吸収し、 反射防止されて、 デ イスプレイの表示画像をより良好に視認することができる。
(平坦化） メッシュが形成されると、 メッシュのライン部 1 0 7は金属層の厚 みがあるが、 開口部 1 0 5は金属層 2 1が除去されて空洞 （凹部） となり、 導電 材部 1 0 9は凹凸状態となる。 この凹凸は次工程で接着剤又は粘着剤が塗布され る場合には、 該接着剤などで埋まる。 しかし、 その際、 接着剤等の粘度が高かつ たり、 接着剤による凹部内空気との置換に十分な接着工程条件が満たされないと メッシュ部凹部内に空気が残留して気泡が生じる。 気泡が生じると空気と接着剤 との屈折率差により、 光が散乱され画像光の鮮明度が低下し、 白化する不都合を 生じる。 接着剤の粘度を稀釈し、 塗工条件を調整したり、 加圧、 真空吸引するこ とによって接着時の気泡混入を防ぐことも可能ではある。 但し、 これでは作業性 が悪いので、 凹部を埋めて平坦化することが好ましい。
平坦化としては、 透明樹脂をメッシュ部開口部 1 0 5の凹部に塗布して埋め込 むことによって凹部を充填する。 透明樹脂が凹部の隅々まで侵入しないと、 気泡 が残り透明性が劣化する。 このため、 溶剤などで稀釈して低粘度で塗布し乾燥し たり、 空気を脱気しながら塗布したりして、 平坦化層 2 9を形成する
平坦化層 2 9は透明性が高く、 屈接率が接着剤層 1 3及び基材 1 1と近似する と共に、 メッシュ剤との接着性が良く、 次工程の接着剤との接着性がよいもので あればよい。 但し、 平坦化層 2 9の表面が、 突起、 凹み、 ムラがあると、 デイス プレイ前面へ設置した際に、 ディスプレイとモヮレや干渉ムラが発生したりする ので好ましくない。 好ましい方法としては、 樹脂として熱硬化型又は紫外線硬化 型樹脂を塗布した後に、 平面性に優れ剥離性のある基材で積層し、 塗布樹脂を熱 又は紫外線で硬化させて、 基材を剥離し除去する。 平坦化層 2 9の表面は、 平面 性基材の表面が転写されて、 平滑な面が形成される。
平坦化層 2 9に用いる樹脂としては、 特に限定されず各種の天然又は合成樹脂、 熱硬化型又は電離放射線硬化型樹脂などが適用できるが、 樹脂の耐久性、 透明性、 各種樹脂との屈折率の近似性、 塗布性、 平坦化しやすさ、 平面性などから、 ァク リル系、 エポキシ系等の単量体、 プレボリマ一、 或はこれらの混合系からなる紫 外線硬化樹脂が好適である。
(N I R吸収層） さらに、 平坦化層 2 9に用いる樹脂中へ、 可視光線及び Z又 は近赤外線の特定波長を吸収する光線吸収剤を添加してもよい。 可視光線の特定 波長を吸収することで、 画像の色調の不自然さ、 不快感が抑えちれ、 画像の視認 性が向上する。 これはディスプレイの種類によって異なる。 例えば P D Pの場合、 原理的に画像光中にネオン原子の発光スぺクトルの波長 5 7 0〜6 0 5 nm域の 光が混入することにより画像の色調は橙色に偏移する。 そこで、 この波長域は吸 収することにより画像を天然色に近づけることが出来る。 又近赤外線 （NIRと も呼称） の特定波長とは、 780~1 10 Onm程度である。 此の波長域の近赤 外線は、 各種の遠隔操作機器の信号伝達用にも使用される為、 これが放出される と遠隔操作機器の誤動作を起こす。 よって、 780〜110 Onmの波長領域の 80%以上を吸収することが望ましい。 近赤外線吸収剤 （NIR吸収剤ともい う） としては、 特に限定されないが、 可視光線領域から近赤外線領域に移る境界 近傍に急峻な吸収の立上りがあり、 近赤外線領域の透過率は低く、 可視光領域の 光透過性が高く、 かつ、 可視光領域には特定の波長の大きな吸収がない色素など が適用できる。 可視光領域の特定波長を吸収する色素としては、 フタロシアニン 系化合物アントラキノン系化合物、 クマリン系化合物、 メチン系化合物が好まし い。 また、 近赤外線の特定波長を吸収する色素としては、 インモニゥム系、 ジィ モニゥム系化合物、 シァニン系化合物、 フ夕ロシアニン系化合物、 ナフ夕ロシア ニン系化合物、 ナフトキノン系化合物、 アントラキノン系化合物、 ジチォ一ル系 錯体などがある。 平坦化層 29へ N I R吸収剤を添加したが、 添加しない場合に は、 NIR吸収剤を有する別の層 （NIR吸収層という） を、 少なくとも一方の' 面へ設ければよい。
(NIR吸収別層） NIR吸収層は、 平坦化層 29側及び/又は逆側の基材 1 1側へ設けられる。 NIR吸収層を平坦化層 29面へ設けた場合は、 NIR吸収 層は図 4に図示する N I R吸収層 31 Bとなり、 基材 11面へ設けた場合は、 図 4に図示する N IR吸収層 31 Aとなる。 NI J及収層 31B及びNIR吸収層 31 Aは、 NIR吸収剤を有する市販フィルム （例えば、 東洋紡績社製、 商品名 No 2832) を接着剤で積層したり、 先の NIR吸収剤をバインダへ含有させ て塗布してもよい。 該バインダとしては、 ポリエステル樹脂、 ポリウレ夕ン樹脂、 アクリル樹脂や、 熱又は紫外線などで硬化するエポキシ、 ァクリレート、 メ夕ァ クリレート、 イソシァネート基などの反応を利用した硬化夕ィプなどが適用でき る。
これら光吸収剤を添加した平坦化層 29および N I R層 3 1 As 3 IBが可視 光線または近赤外線の吸収層となる。 (A R層） さらに、 電磁波遮蔽用シートの観察側へ、 反射防止層 （A R層とい う） 2を設けてもよい。 反射防止 （A R ) 層は、 外光として入射する日光、 電燈 光等の可視光線の反射を防止するためのもので、 その構成としては、 単層、 多層 の多くが市販されている。 多層のものは、 高屈折率層と低屈折率層を交互に積層 したもので、 高屈折率層としては、 酸化ニオブ、 チタン酸化物、 酸化ジルコニゥ ム、 I T Oなどがあり、 低屈折率層としては、 弗化マグネシウム、 珪素酸化物等 がある。
(ハードコート層、 防汚層、 防眩層） さらに、 反射防止 （A R ) 層 2上には、 ハードコート層、 防汚層、 防眩層等の層 3を設けてもよい。 ハードコート層は、 J I S - K 5 4 0 0の鉛筆硬度試験で H以上の硬度を有する層で、 ポリエステル
(メタ） ァクリレート、 ウレタン (メタ) ァクリレート、 エポキシ （メタ） ァク リレートなどの多官能 （メ夕） ァクリレートの単量体、 又はプレボリマ一を、 熱 又は電離放射線で硬化させる。 防汚層は、 撥水性、 撥油性のコートで、 シロキサ ン系、 フッ素化アルキルシリル化合物などが適用できる。 防眩層は外光を乱反射 する微細な凹凸表面を有する層である。
(シート化） 以上のように、 連続した帯状の卷取りロール状態で製造してきた 部材を切断して、 1枚毎の電磁波遮蔽用シート 1を得る。 該電磁波遮蔽用シート
1は、 ガラスなどの透明な基板へ貼り付けられ、 また必要に応じて、 N I R吸収 層、 A R層、 ハードコート層、 防汚層、 防眩層と組み合されてディスプレイ前面 板を構成する。 基板ほ、 大型のディスプレイには厚さが 1〜1 0 mmの剛性を持 つものが、 また、 キャラクタ表示管などの小型のディスプレイには厚さが 0 . 0
1〜0 . 5 mmのプラスチックフィルムが用いられ、 ディスプレイの大きさや用 途に応じて、 適宜選択すればよい。 実 施 _例
(実施例 1 ) 厚さ 1 0 mの表面粗さが R zで 2 mの電解銅箔から成る金属 層 2 1と、 厚さ 1 0 0 z mの連続帯状の P E Tフィルム A 4 3 0 0 (東洋紡績社 製、 ポリエチレンテレフ夕レート商品名） から成る透明基材 1 1とを、 ポリウレ タン系接着剤層 1 3でラミネートした後に、 5 0 °Cで 3目間エージングして、 積 層体を得た。 接着剤としては主剤はポリオール （タケラヅク A— 310) と硬化 剤はイソシァネート （A— 10) (いずれも武田薬品工業社製、 商品名） を用い、 塗布量は乾燥後の厚さで 4 zmとした。
積層体の銅箔をフォトリソグラフィ法により銅メヅシュを形成する。 カラー T Vシャドウマスク用の製造ラインを流用して、 連続した帯状 （卷取） でマスキン グからエッチングまでを行う。 まず、 積層体の金属層 21表面の全体へカゼイン のポジ型感光性レジストを掛け流し法で塗布した。 積層体を次のステーションへ 間欠搬送し、 開口部が正方形でライン幅 W22 /m、 ライン間隔 （ピヅチ P) 3 00 m、 透明基材の辺に対するメッシュ角度 49度の図 1の如き正方格子のネ ガパターン原版を用いて、 水銀燈からの紫外線により密着露光した。 積層体を 次々にステーションを搬送しながら、 水現像し、 硬膜処理し、 さらに、 100°C でべ一キングした。
積層体をさらに次のステーションへ搬送し、 エッチング液として液温 50 °C、 比重 42° ボーメの塩化第二鉄溶液を用いて、 スプレイ法で吹きかけて非レジス ト部をエッチングし、 開口部 105、 及びそれを包囲するライン部 107を形成 した。 積層体を次々とステーション間で搬送しながら、 水洗し、 レジストを剥離 し、 洗浄し、 さらに 100°Cで乾燥して、 図 1、 図 2の如き形状の銅の金属メッ シュ 103を形成した。
次いで、 金属メッシュライン部 107表面及び側面を黒化処理する。 黒化処理 メツキ浴として、 硫酸銅水溶液 （ 100 g/1 (リットル） ） と硫酸水溶液 （ 1 20 との混合水溶液に浸潰し、 浴温 35°C、 電流密度 2 OA/dm2の 条件下で 10秒間処理し、 さらに同じ処理を 2回繰り返して、 累計 3回の電解メ ツキを行って黒化処理層 23を形成して、 実施例 1の電磁波遮蔽用シート 1を得 た。
(実施例 2) 黒化処理メツキ浴として、 硫酸銅水溶液 （85 g/1 (リット ル） ） と硫酸コバルト水溶液 （15 g/l) と硫酸水溶液 （120g/l) との 混合水溶液を用いる以外は、 実施例 1と同様にして、 電磁波遮蔽用シートを得た。
(実施例 3) 黒化処理メツキ浴として、 硫酸銅水溶液 （85 g/1 (リット ル） ） と硫酸ニッケル水溶液 （ 15 gZl) と硫酸水溶液 （ 120 との 混 水溶液を用いる以外は、 実施例 1と同様にして、 電磁波遮蔽用シートを得た
(実施例 4) 黒化処理メツキ浴として、 硫酸銅水溶液 （85 gZl (リット ル） ） と硫酸亜鉛水溶液 （ 15 と硫酸水溶液 （ 120 との混合 水溶液を用いる以外は、 実施例 1と同様にして、 電磁波遮蔽用シートを得た。
(実施例 5) 黒化処理メヅキ浴として、 硫酸銅水溶液 （85 gZl (リッ ト ル） ） と硫酸クロム水溶液 （ 15 と硫酸水溶液 （ 120 gZl) との混 合水溶液を用いる以外は、 実施例 1と同様にして、 電磁波遮蔽用シートを得た。
(実施例 6) 黒化処理の電解メツキを 2回の行う以外は、 実施例 1と同様にし て、 電磁波遮蔽用シートを得た。
(実施例 7) 黒化処理として、 亜塩素酸ナトリウム水溶液 （50g/l (リツ トル） ） と水酸化ナトリウム水溶液 （20g/l) との混合水溶液 （90°C) に 2分間浸漬する化成処理を行う以外は、 実施例 1と同様にして、 電磁波遮蔽用シ —トを得た。 なお、 銅メッシュの表面及び側面は銅酸化物となり黒化処理されて いた。
(比較例 1) 実施例 1の銅箔の代りに、 銅箔の表裏両面に銅-コバルト合金粒 子 （平均粒 径 0. 3〃m) をカソ一ディヅク電着させ、 さらにその上にクロメ —ト処理された厚さ 10〃m電解銅箔を用い、 銅メッシュ形成後のライン部 10 7側面の黒化処理を行わない以外は、 実施例 1と同様にして、 比較例 1の電磁波 遮蔽用シートを得た。
(比較例 2) 黒化処理の電解メツキを 1回行う以外は、 実施例 1と同様にして、 電磁波遮蔽用シートを得た。
(評価） 評価は、 反射 Y値、 視認性、 気泡の有無、 エッチングムラ、 黒化処理 ムラ、 黒化処理面の粉落ちで評価した。
反射 Y値は前述した方法で測定した。
視認性は PDP ; WOOO (日立製作所社製、 商品名） の前面に載置して、 テ ストパターン、 白、 及び黒を順次表示させて、 螢光燈照明された室内に於いて画 面から 50 cm離れた距離で、 画面の法線とのなす視認角度 0〜 80度の範囲で、 目視で観察した。 輝度、 コントラスト、 黒表示での外光 （螢光燈の光） の反射及 びギラツキ、 白表示での黒化処理のムラを観察し、 著しく悪いものを不合格とし x印で示し、 良好なものを合格とし〇印で示し、 また、 実用上支障がないものも 合格とし Δ印で示した。
気泡の有無は 2 0 0倍の光学顕微鏡を用い目視で観察し、 直径 5 0 m以上の 気泡が認められるものを不合格とし X印で示し、 認められないものを合格とし〇 印で示した。
エッチングムラはライ トテーブルに静置して透過光を目視で観察し、 ムラが認 められないものを合格とし〇印で示し、 ムラが認められた場合には 1 0 0倍の光 学顕微鏡を用い、 メッシュの線幅を目視で観察して、 線幅に著しい変化が認めら れるものを不合格とし X印で示した。
黒化処理ムラは蛍光灯下で目視で観察し、 著しくムラが認められるものを不合 格とし X印で示し、 認められないものを合格とし〇印で示した。 ·
黒化処理面の粉落ちはエチルアルコールを染み込ませた脱脂綿でメッシュ面を 手で強く 1 0回擦った後に、 目視で観察して、 著しく汚れているものを不合格と し X印で示した。 汚れが認められないか、 少ないものを合格とし〇印で示した。 これらの結果を 「表 1」 に記載した。
表 1
Figure imgf000022_0001
(結果） 実施例 1 7は、 反射 Y値が 2 0以下であり、 且つライン部 1 0 7の 表面及び側面に黒化処理層を有し、 視認性、 気泡、 エッチングムラ、 黒化処理ム ラ、 及び粉落ちのいずれも合格であった。 比較例 2は、 ライン部の表面及び側面 黒化処理層は有するが、 反射 Y値が 2 2 . 0であり、 視認性が明らかに他の例の ものより悪く実用上支障有る程度の X印であつたが、 気泡、 エッチングムラ、 黒 化処理ムラ、 及び粉落ちのいずれも合格であった。 比較例 1では反射 Y値が 2 0 以下であつたが、 ライン部の側面に黒化処理層が無く、 代りに裏面に黒化処理層 を有し、 視認角度 0 (画面の法線方向） では視認性良好であつたが側面 （視認角 > 0 ° で見ると画像全体が赤味がかってコントラストの低下が認められ不合格で あった。 実に、 気泡及びエッチングムラも不合格であった。
本発明の電磁波遮蔽用シート 1の製造方法によれば、 接着剤の塗布ムラや気泡 の混入が少なく積層品質に優れる。 また、 黒化処理が 1工程で済み、 メッシュの 途切れなどのムラがなく、 歩留りがよく、 生産効率が高く生産できる。
本発明の電磁波遮蔽用シート 1によれば、 電磁波を遮蔽し、 かつ、 金属層 2 1 の表面及び側面 （断面） 部にも黒化処理層 2 3が設けられているので、 ディスプ レイからの表示光が吸収されず、 表示画像の輝度が低下しない。
本発明の電磁波遮蔽用シート 1を用いたディスプレイ用前面板によれば、'ディ スプレイの前面に配置して、 ディスプレイから発生する電磁波を遮蔽し、 かつ、 デイスプレイの表示画像を良好に視認することができる。
さらに必要に応じて、 平坦化し、 さらに必要に応じて特定波長の可視及びノ又 は近赤外線を吸収する光線吸収剤層を設けることで、 モアレや不要な特定波長の 可視及び Z又は近赤外線が吸収された、 ディスプレイの表示画像をより良好に視 認することができる。

Claims

請 求 の 範 囲
1 . 透明基材と、
透明基材の一方の面に設けられたメッシュ状の金属層とを備え、
金属層の透明基材と反対の面および側面に黒化処理層が設けられ、
上記黒化処理層の反射 Y値が、 0より大きく 2 0以下であることを特徴とする 電磁波遮蔽用シート。
•
2 . 上記黒化処理層が、 銅、 コバルト、 ニッケル、 亜鉛、 スズ、 若しくはク ロムから選択された少なくとも 1種の単体、 又は化合物を含有することを特徴と する請求項 1に記載の電磁波遮蔽用シート。
3 . 上記金属層が、 銅であることを特徴とする請求項 1または 2に記載の電 磁波遮蔽用シート。
4 . 電磁波遮蔽用シートと、
この電磁波遮蔽用シートに設けられた、 可視光線及びノ若しくは近赤外線吸収 層、 または反射防止層とを備え、
電磁波遮蔽用シートは、
透明基材と、
透明基材の一方の面に設けられたメッシュ状の金属層とを備え、
金属層の透明基材と反対の面および側面に黒化処理層が設けられ、
上記黒化処理層の反射 Y値が、 0より大きく 2 0以下であることを特徴とする ディスプレイ用前面板。
5 . ( a ) 金属層と透明基材とを、 直接又は接着剤を介して積層する工程と、
( b ) 積層された金属層と透明基材のうち、 金属層へレジスト層をメッシュパ夕 —ン状に設け、 レジスト層で覆われていない部分の金属層をェヅチングにより除 去した後に、 レジスト層を除去して、 メッシュ状の金属層を形成する工程と、
( c ) 該メッシュ状の金属層の表面及び側面へ、 メツキ法で黒化処理層を設ける 工程とからなることを特徴とする電磁波遮蔽用シートの製造方法。
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