TWI236023B - Electromagnetic shielding sheet, front plate for display, and method for producing electromagnetic shielding sheet - Google Patents

Description

1236023 (1) 玖、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明係有關，電磁波遮蔽（亦稱密封）用薄片者； 更詳細的說，係有關配置於陰極射線管（CRT )、電漿顯 示面板（PDP )等之畫像顯示器的前面，遮蔽顯示器所發 生之電磁波，而且能使顯示器之畫像淸晰的辨識之使用金 屬層（薄膜）篩眼的電磁波遮蔽用薄片及其製造方法，以 及顯示器用前面板者。 【先前技術】 近年來，隨著電·電子機器之功能高度化與使用量之 增加，電磁之雜波干擾亦跟著增多；電磁波之雜波，大體 上分爲傳導雜波、與放射雜波；傳導雜波有使用雜波過濾 器等之方法；另一方面，放射雜波係於電磁上使空間絕緣 之故，有使用金屬籠筐，於電路基板間插入金屬板，以金 屬箔將電纜卷繞等之方法；此等方法雖有遮蔽電路、電源 單元之電磁波的效果，但做爲遮蔽發生在CRT、PDP等之 顯示器前面的電磁波使用，因不透明之故極不適合。 PDP顯示主體，係由具數據電極與螢光層之玻璃、及 具透明電極的玻璃組合而成之故，操作時發生大量之電磁 波，近紅外線及熱；通常，爲遮蔽電磁波，在PDP之正面 設置前面板；要求該顯示器用前面板之電磁波遮蔽性’近 紅外線吸收性、辨識性；由顯示器正面發生之電磁波的遮 蔽性，必要在30 MHz〜]GHz中具有30 dB以上之功能； (2) 1236023 又，由顯示器正面發生之波長9 0 0〜1 1 0 0 H m之近紅外線， 亦會使其他之磁帶錄像機（V TR )等機器錯誤操作之故， 必要加以遮蔽；而且，爲容易辨識顯示器之顯示畫像，必 要適度之透明性（可見光穿透性、可見光穿透率）、及亮 度；又，使用爲顯示器用前面板之電磁波遮蔽用薄片，除 電磁波遮蔽性之外，加上爲使顯示畫像容易辨識，要求金 屬餘眼框（線部）之部份不易發現，而且光難以反射，且 具適度之透明性及亮度；在實際使用水平上同時滿足電磁 波遮蔽性、辨識性兩特性爲當然者；但是，不能同時滿足 電磁波遮蔽性、紅外線遮蔽性、辨識性等特性；進而謀求 電磁波遮蔽用薄片，在較短步驟，可安定的製造高精確度 者之製造方法。 以往，電磁波遮蔽用薄片，爲使電磁波遮蔽性與透明 性並存，導電性材料大致分成，將金屬或金屬氧化物所成 透明導電體之薄膜形成於透明板者、與金屬所成不透明導 電體之精細線篩眼；不過，在使用前者之透明導電體的薄 膜之規格，有電磁波遮蔽性與透明性不能並存之缺點；近 年來，以使用後者的不透明導電體篩眼之規格爲主流。 又’在此等不透明導電體規格中，爲提升顯示器畫像 之辨識性，利用篩眼之線邰（此爲不透明之導電性）做爲 電磁波遮敝性之工具，另一方面利用篩眼之開口部做爲顯 示畫像之透明性的工具；而且，爲防止日光等之外光在餘 眼的線部（此爲光反射性）反射以致畫像之對比降低，在 餘眼線部之畫像的相反側設»黑化處理層；例如，有由基 -6 - (3) 1236023 板/透明增黏塗層/篩眼圖型狀之無電解電鍍層所成，藉 由無電解電鍍使無電解電鍍層下之透明增黏塗層改變爲黑 色圖型部的電磁波密封材料（例如參照專利文獻1 );又 ，有在電磁波遮蔽性之金屬篩眼的表面形成氧化銅被膜， 將外光之反射鎭壓的方法（例如參照專利文獻2 ).;又， 有將以光致抗蝕法形成電磁波遮蔽薄片的金屬篩眼之際所 用的黑色抗蝕，篩眼開口後保持原狀餘留，而使篩眼之框 部（亦稱線部）黑化的方法（例如參照專利文獻3 ) •，又 ，有將以光致抗蝕法在銅箔上形成幾何圖型之附置銅箔的 塑料薄膜，層合於塑料板之電磁波遮蔽構成體（例如參照 專利文獻4 );又，有在透明薄膜上，以電離放射線硬化 性樹脂形成篩眼狀之凸狀圖型，於其表面以無電解電鍍形 成金屬層做爲金屬篩眼，更藉由將該金屬層表面氧化或硫 化’使金屬篩眼之表面及側面經黑化處理者（例如參照專 利文獻5 );不過，專利文獻1〜5之任一種方法均有，電 磁波遮蔽薄片之金屬篩眼框部（線部）的黑度低，於外光 存在下顯示器之畫像的辨識性不足之缺點。 進而’有將金屬篩眼的表面、背面及側面之全面，經 黑化處理者（例如參照專利文獻6 );不過，由於將預先 施行黑化處理之銅箔與透明基材，以黏著劑介入其間而膠 I占之故’在黑化處理時成爲銅箔表面粗糙化的原因，黏著 齊!1之塗佈不勻、氣泡之混合使層合品質降低；又，蝕刻時 餘眼容易中斷，而且層合後，銅箔之另一面及側面再度施 行黑化處理之故，黑化步驟倍增，爲重覆費事者，有煩雜 -7- (4) 1236023 且收率降低之問題；還有，篩眼的顯示器側 層之故，會吸收來自顯示器之顯示光，有亮 〇 〔專利文獻1〕特開平5 - 2 8 3 8 8 9號公報 〔專利文獻2〕特開昭6 1 - 1 5 4 8 0號公報 〔專利文獻3〕特開平09-293 9 8 9號公報 〔專利文獻4〕特開平1 0 - 3 3 5 8 8 5號公報 〔專利文獻5〕特開平1卜1 74 1 74號公報 〔專利文獻6〕特開2 0 0 2 - 9 4 8 4號公報 [發明內容】 〔發明之揭示〕 因此，本發明爲解決如此之問題，其目 在較短之步驟使高精確度者收率良好的製造 器正面、能遮蔽顯示器所發生之電磁波，而 具有良好之辨識性的電磁波遮蔽用薄片及其 及顯不器用前面板者。 本發明係，以具備透明基材、與在透明 上設置篩眼狀之金屬層，在金屬層的透明基 側面上設置黑化處理層，上述黑化處理層之 於〇而在2 0以下，爲其特徵的電磁波遮蔽用薄 依本發明可提供，能遮蔽電磁波，同時 示器之顯示光，而且不會因外光而使顯示畫 ，並且不增加步驟同時不使收率下降的電磁 冬 亦有黑化處理 度降低的缺點 的爲提供，可 、配置於顯示 且顯示器畫像 製造方法，以 基材一邊的面 材之相反面及 反射Y値爲大 :片者。 不吸收來自顯 像之亮度降低 波遮蔽用薄片 (5) 1236023 本發明之電磁波遮蔽用薄片，其特徵爲，上述黑化處 理層，係含有至少一種選自銅、鈷、鎳、鋅、錫、或鉻之 單體或化合物者。 依本發明可提供，在金屬層之表面及篩眼之側面（剖 面）均勻的黑化，並且對金屬層之密著力優越的電磁波遮 蔽用薄片。 本發明之電磁波遮蔽用薄片，其特徵爲，上述金屬層 係銅者。 依本發明可提供，配置於顯示器之正面，能良好的遮 蔽顯示器所發生之電磁波的電磁波遮蔽用薄片。 本發明可提供，具備電磁波遮蔽用薄片、與設置於此 電磁波遮蔽用薄片之上的可見光線及/或近紅外線吸收層 、或防反射層；電磁波遮蔽用薄片係具備透明基材、與在 透明基材一邊之面上設置的篩眼狀之金屬層；在金屬層之 透明基材與相反面及側面設置黑化處理層；上述黑化處理 層之反射Y値爲〇以上20以下，是其特徵的顯示器用前面 板者；依本發明可提供，能吸收波紋，不必要的特定波長 之可見光及/或近紅外線，顯示器之顯示畫像可更淸晰的 辨識之電磁波遮蔽用薄片。 本發明係，電磁波遮蔽用薄片之製造方法，其特徵爲 由（a )將金屬層與透明基材、直接或以黏著劑介入其間 而層合之步驟、與（b)在層合的金屬層與透明基材之中 的金屬層設置篩眼圖型狀之抗鈾層，而不被抗蝕層覆蓋之 (6) 1236023 部份的金屬層藉由鈾刻去除後，去除抗触層，形成舖眼狀 之金屬層的步驟、與（C )該篩眼狀之金屬層的表面及側 面，以電鍍法設置黑化處理層之步驟所成者。 依本發明可提供，黏著劑之塗佈不勻及氣泡之混入極 少、層合品質優良、黑化處理只以一步驟完成、篩眼之中 斷等的不勻極少、收率良好、生產效率高之電磁波遮蔽用 薄片的製造方法。 〔用以實施發明之最佳形態〕 本案件之申請人針對顯示器的電磁波遮蔽用薄片，繼 續進行開發；除上述特開平1卜1 74 1 74號公報（專利文獻5 )以外，特開200 1 -2 1 09 8 8號公報上有使用經黑化、蝕刻 之篩眼狀金屬箔的揭示；特願2 002-2 3 0 842號上有附著銅 -鈷粒子黑化者之申請；本發明係將此等改良之發明者。 就本發明之實施形態，參考圖樣詳細說明如下。 圖1爲本發明之電磁波遮蔽用薄片的一種型態之示意 平面圖；圖2爲本發明電磁波遮蔽用薄片的部份模式透射 圖。 <整體之層的構成> 如圖2所示，本發明之電磁波遮蔽用薄片！，具備透明 基材1 1、與設置於透明基材1 1 一邊之面上的篩眼狀導電材 料層1 0 9，導電材料層1 〇 9包含金屬層2 1 ;篩眼狀之導電材 料層1 0 9如圖1所示構成篩眼部1 〇 3，在篩眼部]〇 3之四周設 -10- (7) 1236023 置接地用框部1 0 1 ;餘眼部1 0 3如圖2所示，在線部]〇 7圍著 複數之開口部（亦稱網眼）1 0 5 ;接地用框部丨,在設置 顯示器之處所連接地線。 如上所述’在基材1 1之一邊的面上，直接或以黏著劑 13介入其間’層合包含金屬層21之導電材料層該導 電材料層1 0 9係由形成開口部1 〇 5之框狀的線部！ 〇 7所成， 開口部1 0 5爲緊密構型；線部1 〇 7之寬度如圖2所示稱爲線 寬W，鄰接之線部與線部的間隔稱爲間距P。 圖3爲以往之電磁波遮蔽用薄片的重點剖面圖；圖4爲 本發明電磁波遮蔽用薄片之一種實施例的重點剖面圖。 <層之構成> 圖3爲以往之、圖4爲本發明之將開口部橫剖的重點剖 面圖，同爲開口部1 0 5與線部1 0 7相互交錯而構成；還有， 爲使圖樣容易瞭解，此等剖面圖中，與開口部之寬度相比 ’將線部之寬度及厚度略予放大而圖示；如圖3所示，在 以往之線部1 07中，金屬層2 ；!之兩面分別設置黑化處理層 2 3 A及黑化處理層2 3 B，金屬層2 1之側面部份，則露出金 屬層2 1。 又，圖中未顯示的，先前技術「專利文獻6」中所述 金屬篩眼之線部的表面、背面及側面全面黑化處理者，有 由於黏著劑之塗佈不勻、氣泡之混入等導致層合品質的降 低、篩眼之容易中斷、重覆之黑化步驟使收率下降等之問 題；而且，有造成顯示器之亮度降低的缺點。 -11 - (8) 1236023 <發明之要點> 本發明之電磁波遮蔽用薄片1的製造方法爲，首先， 將金屬層2 1直接或以黏著劑1 3介入其間，層合於透明基材 1 1之一邊的面上後’對金屬層2 1設置篩眼圖型狀之抗蝕層 ;其次，將不被抗蝕層覆蓋之部份的金屬層2 1以蝕刻去除 後，用去除抗蝕層之所謂光致抗蝕微影法，形成篩眼；如 此，將篩眼狀之金屬層2 1進行黑化處理，可在金屬層2 1之 表面及側面設置黑化處理層23。 黑化處理僅以一步驟完成，篩眼不會中斷，無黏著劑 之塗佈不勻、氣泡之混入等情況，層合品質優越，收率良 好，可高生產效率的生產。 如圖4所示，本發明之線部1 0 7爲，在金屬層2 1之透明 基材11的相反面（稱爲表面）設置黑化處理層23，甚至金 屬層2 1之剖面部份亦設置黑化處理層2 3 ;又，因應需求， 亦可設置防銹層25A、25B覆蓋於黑化處理層23、及/或 金屬層21之透明基材11的面上。 依本發明之電磁波遮蔽用薄片，在金屬層2 1之側面部 份亦設置黑化處理層2 3，可將顯示器所發生之電磁波遮蔽 ，而且電磁波遮蔽用之金屬篩眼框（線部）部份很難發現 ，外光（日光、電燈光）射入顯示器表面，亦無將其反射 之光；因此滿足電磁波遮蔽性及透明性之兩特性，並且在 外光之存在下亦能使顯示器畫像呈高對比而鮮明，可淸晰 的辨識。 甚至，因應需求可進行後述之平坦化處理；因應需求 -12- 1236023 Ο) 可設置吸收特定波長之可見光線及/或近紅外線的光線吸 收劑層；將如此之電磁波遮蔽用薄片，配置於顯示器之正 面，能遮蔽顯示器所發生之電磁波，而且可獲得具有適度 透明性之顯示器中顯示的畫像之良好的辨識性。 針對在金屬層之透明基材與相反面及篩眼的側面形成 黑化處理層之本發明電磁波遮蔽用薄片的製造方法，依步 驟之順序，亦包含所使用及相關之材料，詳細說明如下。 (a ) 將金屬層與透明基材，直接或以黏著劑介入其間 而層合之步驟 <透明基材> 首先，透明基材1 1之材料，只要能勝任使用條件及製 造上之透明性、絕緣性' 耐熱性、機械強度等，各種材料 均可使用；例如有聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚對苯二甲酸 丁二醇酯、聚萘二羧酸乙二醇酯、乙二醇一對苯二甲酸一 異苯二甲酸共聚物、聚對苯二甲酸乙二醇酯/聚萘二羧酸 乙二醇酯之共擠壓薄膜等聚酯系樹脂；尼龍6、尼龍6 6、 尼龍6 1 0等聚醯胺系樹脂；聚丙烯、聚甲基戊烯等聚烯烴 系樹脂；聚氯乙烯等乙烯基系樹脂；聚甲基（甲基）丙烯 酸酯、聚丁基（甲基）丙烯酸酯、甲基（甲基）丙烯酸酯 -丁基（甲基）丙烯酸酯共聚物等丙烯酸系樹脂〔（（甲 基）丙烯酸酯係指丙烯酸酯、或（甲基）丙烯酸酯而言〕 ;聚醯亞胺、聚醯胺醯亞胺、聚醚醯亞胺等醯亞胺系樹脂 ;聚烯丙酸酯、聚碼、聚醚碼、聚亞苯基醚、聚亞苯基硫 -13 - (10) 1236023 化物（PPs)、聚阿拉密得、聚醚酮、聚醚腈、聚醚醚酮 、聚醚硫化物等之工程樹脂；聚苯乙烯等乙烯系樹脂、聚 碳酸酯等等。 該透明基材1 1，亦可爲以此等樹脂爲主成份之共聚樹 脂、或混合物（包含摻合物）、或者由複數層所成之層合 物，該透明基材11爲拉伸薄膜或未拉伸薄膜均可，爲提升 強度之目的，以單軸拉伸或雙軸拉伸之薄膜，較爲適合； 該透明基材之厚度，通常使用12〜looovm之程度，以5〇 〜7 0 0 μ m更適合，以1 〇 〇〜5 0 0从m最理想；低於此範圍 時，強度不足，會發生翹曲、鬆弛等情況；超過此範圍時 ，性能過剩，造成成本上之浪費。 該透明基材11，使用由此等樹脂之至少一層所成的薄 膜、薄片、板狀，此等形狀在本說明書中總稱爲薄膜；通 常以使用聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二羧酸乙二醇酯等 聚酯系之雙軸拉伸薄膜，因透明性、耐熱性優越，成本亦 低廉較爲適合；以使用聚對苯二甲酸乙二醇酯最爲理想； 又，透明性愈高愈好，以可見光穿透率爲8 0 %以上更佳。 該透明基材1 1，亦可在塗佈於塗佈面之前，施行電暈 放電處理、電漿處理、臭氧處理、火焰處理 '底層塗料（ 亦稱爲增黏塗層、黏著促進劑、易黏著劑）塗佈處理、預 熱處理、除塵處理、蒸鍍處理、鹼處理等之易黏著處理； 該樹脂薄膜，因應需求亦可加入吸收紫外線劑、塡充劑' 增塑劑、防帶電劑等之添加劑。 -14- (11) !236023 <金屬層> 遮蔽電磁波之導電材料層1 09，含有具例如金、銀、 銅、鐵、鎳、鉻、鋁等充分可將電磁波密封之程度的導電 性之金屬層21 ;金屬層21爲單體、或合金或者多層均可； 又，金屬層21—般而言，以單層形成預備之金屬層，將其 與透明基材1 1以黏著劑層1 3介入其間而層合；但是，除此 而外，亦可在透明基材11上，不以黏著劑層介入，而藉由 無電解電鍍或蒸鍍等方法，直接將金屬層21層合；金屬層 2 1爲鐵時，以低碳不脫氧鋼或低碳鋁鎭靜鋼等低碳鋼、Ni 一 Fe合金，因瓦合金較爲適合；又，進行陰極電沉積之黑 化處理時，從電沉積之難易度而言，以銅或銅合金箔較爲 適合；該銅箔，雖可使用壓延銅箔、電解銅箔，但從厚度 之均勻性、與黑化處理及/或鉻處理之密著力、及可達1 0 μ .m下之薄膜化的觀點而言，以電解銅箔較爲適合；該金 屬層21之厚度爲1〜100// m，以5〜20// m較爲適合；在 低於此之厚度時，雖以光致抗蝕微影法容易進行篩眼加工 ，但金屬之電阻增加，會損及遮蔽電磁波之效果；在此範 圍以上時，不能獲得所期望之高精細的篩眼形狀；其結果 ’使實質上之開口率減低、光線穿透率下降，而且視角減 小' 畫像之辨識性降低。 金屬層21之表面粗糙度，Rz値以〇.5〜1〇//rn較爲適 合；在此以下時’即使經黑化處理亦難以獲得20以下之反 射Y値；外光由鏡面反射，畫像之辨識性劣化；在此以上 時，於塗佈黏著劑或抗蝕等之際，不能遍及整體之表面、 -15- (12) 1236023 會有氣泡產生；表面粗糙度Rz ’係依據ns - B 0 60 1之標準 ，測定1 0點之平均値。 <層合法> 上述之透明基材11與金屬層21之層合（亦稱層壓）法 ，係在透明基材1 1或金屬層2 1之一邊上，塗佈黏著劑或膠 黏劑，因應需求乾燥之，在加熱或不加熱下加壓，其後亦 可因應需求，在3 0〜8 0 °c之溫度下進行老化（熟化）；如 此，在透明基材1 1與金屬層2 1之間設置黏著劑層1 3 ;適合 的是’業者稱爲乾式層壓法（亦稱乾層壓）之方法；進而 ，以紫外線（UV )、電子束（EB )等之電離放射線硬化 的電離放射線硬化型樹亦甚適合。 <黏著劑> 使用乾式層壓法、或無溶劑層壓法之黏著層的黏著劑 ’可使用熱硬化型樹脂、或電離放射線硬化型樹脂之黏著 劑；熱硬化型樹脂黏著劑，具體的有，二液硬化型之丙烯 酸氨基甲酸酯系黏著劑、聚酯氨基甲酸酯系黏著劑、聚醚 氨基甲酸酯系黏著劑等之氨基甲酸酯系黏著劑、丙烯酸系 黏著劑、聚酯系黏著劑、聚醯胺系黏著劑、聚醋酸乙烯系 黏著劑、環氧系黏著劑、橡膠系黏著劑等可以使用，以二 液硬化型之氨基甲酸酯系黏著劑爲最適合。 <膠黏劑> -16— (13) 1236023 膠黏劑可以使用眾所周知以感壓黏著之膠黏劑；膠黏 劑沒有特別的限制，例如可以使用天然橡膠系、丁基橡膠 、聚異戊二烯、聚異丁烯、聚氯丁二烯、苯乙烯一 丁二烯 共聚樹脂等之合成橡膠系樹脂；二甲基聚矽氧烷等之矽系 樹脂；丙烯酸系樹脂、聚醋酸乙烯、乙烯—醋酸乙烯共聚 物等之醋酸乙烯系樹脂；氨基甲酸酯系樹脂、丙烯腈、烴 系樹脂、烷基苯酚樹脂、松香、松香三甘油酯、氫化松香 寺之松香系樹脂。 <黏著劑層或膠黏劑層之形成> 將上述之黏著劑或膠黏劑之樹脂、或其混合物，調成 膠乳、水分散液或有機溶媒液，以網版印刷或小點塗佈、 滴筒塗佈、幕流式塗佈等眾所周知的印刷或塗佈方法，經 印刷或塗佈及因應需求之乾燥後，與另一邊之材料重疊加 壓即可；具體的層合方法，通常以連續之帶狀（稱爲捲取 )進行，由捲取滾筒解開卷捆呈擴張狀態，在金屬層2 }或 基材1 1之一邊，將黏著劑塗佈、乾燥後，將另一材料重疊 加壓即可；而且，因應需求在3 0〜8 0 °c之大氣下進行數小 時〜數天之老化（熟化、硬化），即得捲取滾筒狀之層合 物。 該黏著劑層1 3之膜厚，爲〇·丨〜20 # 1Ώ (乾燥狀態） ’以1〜1 0 // m更適合；形成該黏著層後立即層合膠黏基 材’且於3 0〜1 2 0 X：下進行數小時〜數天之熟化，使黏著 劑硬化而黏著；該黏著劑之塗佈面，爲透明基材側、金屬 -17- (14) 1236023 層側之任一種均可。 還有，藉由無電解電鍍，直接在透明基材上形成時’ 可省略黏著層1 3。 (b ) 在該層合物之金屬層21表面上，設置篩眼圖型狀 之抗蝕層1 〇 9 a，不被抗蝕層覆蓋之部份的金屬層 以蝕刻去除後，去除抗蝕層，成爲篩眼狀之金屬 層的步驟 <遮蔽> 將基材11與金屬層21之層合物的金屬層21，以光致抗 蝕微影法形成篩眼狀；此步驟亦以帶狀連續捲取滾筒狀之 層合物進行加工；將該層合體連續或間歇的輸送，在不鬆 弛之擴張狀態下，依序進行形成抗蝕層、遮蔽、蝕刻、剝 離抗蝕。 首先，遮蔽（層）係，例如將感光性抗蝕塗佈於金屬 層2 1上’乾燥後，在所定之圖型（篩眼之線部）的底版（ 光致遮敝罩）上密著曝光’以水顯像，抗蝕層形成圖型狀 ，施行堅膜處理、烘烤。 抗触之塗佈，係將捲取滾筒狀之帶狀層合物（基材n 與金屬層21)連續或間歇的輸送，同時在其金屬層2i面， 將酪蛋白、P V A、明膠等之抗蝕，以浸漬、幕流式塗佈、 吊流式塗佈等方法進行·’又，抗蝕不用塗佈方法，而使用 乾薄膜抗蝕亦佳，可提升操作性；烘烤，係酪蛋白抗蝕時 在 dooc下進行，爲防止層合物之鍾曲，儘可能以 -18- (15) 1236023 低溫爲佳。 <蝕刻> 遮蔽後進行蝕刻；該蝕刻所用蝕刻液，以可連續進行 蝕刻之本發明中循環使用的氯化鐵、氯化銅溶液較爲適合 ;又，該蝕刻係，基本上與將帶狀連續鋼材，尤其是厚2 〇 〜8 0 μ m之薄板，蝕刻之彩色電視的陰極射線管用遮蔽屏 之製造設備，相同的步驟；即，可沿用該遮蔽屏既有之製 造設備，由遮蔽至鈾刻一貫連續生產，效率極爲良好；蝕 刻後經水洗、鹼液處理，施行抗蝕剝離、洗淨，經乾燥即 可 ° <篩眼> 篩眼部1 03，係由形成開口部1 05之框狀線部1 〇7所成 ;開口部1 〇5之形狀沒有特別的限制，可以使用例如，正 三角形等之三角形、正方形、長方形、菱形、梯形等之四 角形、六角形等之η角形（η爲23之自然數）、圓形、橢 圓形等之；將此等開口部之複數組合而成篩眼；從開口率 及篩眼之非辨識性的觀點而言，線寬以2 5 // m以下爲宜， 以2 〇 m以下更爲適合；線之間隔（線之間距），從光線 芽透率的觀點而言，以1 5 0 // m以上爲宜，以2 0 0 β m以上 更爲適合；又，線與電磁波遮蔽用薄片1四周之邊所成的 角度，圖1之圖示例爲45度，沒有任何限制，爲消除波紋 等’提升顯示器之畫素、發光特性，以適當選擇爲佳。 -19- (16) 1236023 (c ) 在該篩眼狀之金屬層2 1的表面及側面，設置黑化 處理層2 3之步驟 <黑化處理> 其次，將上述層合物之金屬層的表面及篩眼之側面（ 經蝕刻露出之剖面）施行黑化處理；該黑化處理，可爲粗 糙化及/或黑化；可使用形成金屬、合金、金屬氧化物、 金屬硫化物之方法，以含有黑色著色劑之樹脂塗佈的方法 等之各種方法；適合的是，以電鍍法做爲黑化處理，依該 電鍍法’對金屬層之密著力優越，能使金屬層之表面及篩 眼之側面（剖面）同時且均勻的黑化；電鍍法可爲電解電 鍍、無電解電鍍之任一種；該電鍍之材料，可使用至少一 種選自銅、鈷 '鎳、鋅、錫或鉻，或者其化合物者；其他 之金屬或化合物，有黑化不足或與金屬層之密著不佳的缺 點，例如鎘電鍍較爲顯著。 使用銅箔做爲金屬層2 1時，適合之電鍍法爲，將銅箔 置入由硫酸、硫酸銅及硫酸鈷等所成的電解液中，施行陰 極電解處理，係附著陽離子性粒子之陰極電沉積電鍍者； 藉由設置該陽離子性粒子而粗糙化，同時獲得黑色；陽離 子性粒子，可使用銅粒子、銅與其他金屬之合金粒子，以 銅-鈷合金粒子最爲理想。 依陰極電沉積，可使粒子之平均粒徑都在適合的〇. ；! 〜1 μ m之範圍附著；又，藉由於銅箔表面以高電流密度 處理、銅箔表面成爲陰極’發生還原性氫氣而活性化，可 -20- (17) 1236023 顯著的提升銅箔與粒子之密著性。 進而，銅一鈷合金粒子之平均粒徑，以0.1〜1 /i m爲 佳；大於此範圍時，銅-鈷合金粒子之粒徑增大，金屬層 21之厚度減薄，在與基材11層合之步驟中，會使金屬層斷 裂而致加工性惡化；又，密集粒子之外觀缺乏細緻，外觀 及光吸收之不勻甚爲顯眼；小於此範圍時，粗糙化不足之 故，畫像之辨識性劣化。 還有，黑化處理層23之詳細情況，其銅-鈷合金粒子 在特願2002-23 0842號公報上、銅粒子在特開2003 -2 3 290 號公報上有所揭示；而且，將銅粒子、銅-鈷合金粒子施 行黑化處理亦可。 <電鍍法黑化處理> 蝕刻後篩眼部1 03之線部1 07表面及側面的黑化處理層 2 3之形成，可使用上述的方法；但是，蝕刻後之金屬層已 成篩眼狀之故，電鍍時之電極爲滾筒狀之電極，以在篩眼 之前面接地線爲佳；又，蝕刻後亦以滾筒狀連續進行電鍍 處理，以考量膠粘、透明化處理、與其他薄片層合等之後 步驟更佳。 做爲評估電磁波遮蔽用薄片之辨識性的光學特性，色 調係依JIS-Z8729之標準，以表色系「L*、a*、b*、△£* 」表示；「a*」及「b*」之絕對値小者，導電材料部109 成爲非辨識性，對比感提高，結果使畫像之辨識性優異。 本說明書中，係將粗糙化及黑色化加在一起的黑化處 -21 - (18) 1236023 理；黑化處理之適合的反射Y値爲〇以上20以下，以4以上 1 2以下更佳；表面設定於面向外方時，不能防止在日光、 或電燈光等之外光存在下的畫像對比之降低、畫像的辨識 性亦不足；另一方面，反射Υ値之下限値，在原理上並不 存在，但是現實上很難有完全爲零之技術；還有，反射γ 値係依據JIS-Z 8 7 22之標準；其測定方法爲，以使用色度 計C Μ — 3 7 0 0 d (密諾魯達公司製，商品名）之反射模式， 在光源D 6 5、視場2度下’將篩眼面做爲光射入面而測定 ;又，該黑化處理之光線反射率以5 %以下爲宜；光線反 射率，係依據JIS-K7105之標準，使用霾霧度計HM 150 ( 村上色彩公司製，商品名）測定。 在金屬層21表面及/或黑化處理層23上，設置防銹層 2 5 A及/或防銹層2 5 B亦可，至少設置黑化處理層亦可。 該防銹層25A、25B，具有金屬層21及黑化處理層23 之防銹功能；而且黑化處理層23爲粒子時，能防止其脫落 、變形；如此做爲篩眼部1 0 3之構成層而層合，由金屬層 2 1、黑化處理層2 3、及因應需求設置之防銹層2 5 A、2 5 B 構成導電材料層109。 眾所周知的防銹層，雖可做爲該防銹層25 A、25B使 用，但是以鎳、鋅、及/或銅之氧化物’或者鉻處理層更 爲適合；鎳、鋅、及/或銅之氧化物的形成，以眾所周知 的電鍍法爲宜，厚度爲〇. 〇 0 1〜1 M m之範圍，以〇.0 0 1〜 0. ] μ m更佳。 -22- (19) 1236023 <鉻處理> 對黑化處理層23，鉻處理係將鉻處理液，塗佈於被處 理材料之處理；塗佈方法可以使用滾筒塗佈法、幕流式塗 佈法、擠壓塗佈法、靜電噴霧法、浸漬法等等，塗佈後不 經水洗直接乾燥即可；鉻處理液，通常使用僅含以〇2之3 g / 1水溶液；具體的說，可以使用阿魯薩夫一 i 〇 〇 〇 (日本 塗料公司製，鉻處理劑商品名）、PM - 284 (日本帕卡來 吉恩庫公司製，鉻處理液商品名）；又，鉻處理比黑化處 理之效果還高。 如上所述而得之電磁波遮蔽用薄片1，將透明基材1 1 之面配置於顯示器側，黑化處理面則配置於觀察側；又， 電磁波遮蔽用薄片1，因應需求，可將平坦化層、與因應 需求特定波長之可見光線及/或近紅外線吸收層、以及/ 或防反射層，整體化而組合，做爲顯示器用前面板配置於 顯示器之正面；此情況，能遮蔽顯示器所發生之電磁波、 具有適度之透明性；而且，能吸收不必要之特定波長的可 見光及/或近紅外線、防止反射、顯示器之顯示畫像可更 淸晰的辨識。 <平坦化> 形成篩眼時，篩眼之線部1 〇 7具有金屬層之厚度，開 口部1 0 5由於去除金屬層2 1而成空洞（凹部）、導電材料 層1 〇 9呈現凹凸之狀態；此凹凸在下一步驟中，塗佈黏著 劑或膠黏劑時，以該黏著劑等埋沒；但是，此時黏著劑等 -23- (20) 1236023 之黏度過高，藉由黏著劑與凹部內空氣之取代，不能充分 滿足黏著步驟之條件時，篩眼部凹部之空氣餘留而產生氣 泡；產生氣泡時，藉由空氣與黏著劑之折射率差，因光散 射而使畫像光之解明度下降，產生霧白等不適合的情況； 將黏著劑之黏度稀釋、調整塗佈條件、加壓、抽真空等， 可防止黏著時之氣泡混入；但是，其操作性不佳之故，以 將凹部埋沒而平坦化爲佳。 平坦化後，將透明樹脂塗佈於篩眼部之開口部1 0 5的 凹部並埋置，而塡充凹部；透明樹脂不能遍及凹部之各角 落時，氣泡會餘留以致透明性惡化；因此，用溶劑等稀釋 ，以低黏度塗佈、乾燥、或將空氣脫氣同時塗佈，形成平 坦化層2 9。 平坦化層2 9，只爲爲透明性高、折射率與黏著劑層1 3 及基材1 1近似，同時與篩眼部之黏著性良好，與下步驟之 黏著劑的黏著性佳即可；但是，平坦化層之表面有突起、 凹陷、不勻時，設置於顯示器正面之際，與顯示器會發生 波紋、干擾不穩之故極不洽當；適合的方法爲，將做爲樹 脂之熱硬化型或紫外線硬化型樹脂塗佈後，以平面性優越 且具剝離性之基材層合，將塗佈樹脂以熱或紫外線硬化， 使基材剝離而去除；平坦化層2 9之表面，由平面性基材的 表面複製，形成平滑之面。 平坦化層2 9所使用之樹脂，沒有特別的限制，可以使 用各種之天然或合成樹脂、熱硬化型或電離放射線硬化型 樹脂等等；從樹脂之耐久性、透明性、與各種樹脂之折射 -24- (21) 1236023 率的近似性、塗佈性、平坦化難易度、平面性等的觀點而 言，以使用丙烯酸系、環氧系等之單體、預聚物、或由其 混合系所成的紫外線硬化樹脂較爲理想。 <近紅外線（NIR)吸收層> 進而，亦可在平坦化層2 9所用之樹脂中，添加吸收可 見光線及/或近紅外線之特定波長的光線吸收劑；吸收可 見光線之特定波長，能抑止畫像之色調的不自然度及不快 感，提升畫像之辨識性；此隨顯示器之種類而異；例如， 爲PDP時，理論上畫像光中氖原子發光光譜的波長5 7 0〜 60 5 nm領域之光混入，使畫像之色調偏移至橙色；因此， 吸收此波長領域之光，可使畫像接近天然色；又，近紅外 線（亦稱NIR )之特定波長爲7 8 0〜100 nm之範圍；此波 長領域之近紅外線，亦使用於各種遙控機器的信號傳輸之 故，其發射時會引起遙控機器之錯誤操作；因而，期望能 吸收80%以上之7 8 0〜1 100 nm波長領域之光；近紅外線吸 收劑（亦稱NIR吸收劑）沒有特別的限制，可以使用具有 自可見光領域轉換至近紅外線領域之邊界附近有急峭吸收 之開始，近紅外線領域之光的穿透率低，可見光領域之光 穿透性高，而且，可見光領域之特定波長沒有較大吸收的 色素等等；吸收可見光領域之特定波長的色素，以酞菁系 化合物、蒽醌化合物、香豆素系化合物、次甲基系化合物 較爲適合；又，吸收近紅外線之特定波長的色素有，因莫 尼姆系化合物、二依莫尼姆系化合物、菁系化合物、酞菁 -25- (22) 1236023 系化合物、萘菁系化合物、萘醌系化合物' 蒽醌系化合物 、二噻茂系配位化合物等等；平坦化層29添加有近紅外線 (N I R )吸收齊U ;在未添力p之情況，以至少在一邊之面設 置含有NIR吸收劑之別層（NIR吸收層）爲宜。 <近紅外線（NI R )吸收別層> 近紅外線吸收層，設置於平坦化層2 9側及/或相反側 之基材1 1側；近紅外線吸收層設置於平坦化層2 9時，即如 Η 4所不之近紅外線吸收層3 1 b ;設置於基材1 1面時，即如 圖4所示之近紅外線吸收層3 i a ;近紅外線吸收層3〗β及近 紅外線吸收層3 1 A，係將含有近紅外線吸收劑之市售薄膜 (例如，東洋紡績公司製，商品名N 〇 · 2 8 3 2 )以黏著劑層 合’以含有上述之近紅外線吸收劑之黏著成份塗佈亦可； 該黏著成份可以使用聚酯樹脂、聚氨基甲酸酯樹脂、丙烯 酸系樹脂、及利用以熱或紫外線等硬化之環氧化合物 '丙 錄酸醋（甲基）丙烯酸酯、異氰酸酯基等之反應的硬化型 化合物等等。 此等添加光吸收劑之平坦化層2 9及近紅外線吸收層 3 1 A、3 ] B，即成爲可見光或近紅外層之吸收層。 <防反射（AR )層> 而且’亦可在電磁波遮蔽用薄片之觀察側，設置防反 射層2 (亦稱六11層）；防反射層，係爲防止外光之射入日 光、電燈光等可見光線的反射者，其構成有單層、多層之 -26- (23) 1236023 爲數甚多的市售品；多層者，爲高折射率層與低折射率層 父互層合考；高折射率層有，氧化鈮、鈦氧化物、氧化鉻 、I TO等等；低折射率層有，氟化鎂、矽氧化物等等。 〈硬塗層、防污層、防眩光層> 進而，亦可在防反射層（AR層）2之上，設置硬塗層 防污層、防眩光層等之層3 ;硬塗層係，以JIS-K5400之 給筆硬度試驗，具有Η以上硬度之層；爲將聚酯（甲基） 丙燦酸酯、氨基甲酸酯（甲基）丙烯酸酯、環氧（甲基） 丙燃酸目旨等多功能（甲基）丙烯酸酯之單體或預聚物，以 熱電離放射線硬化而得；防污層，可以使用塗佈防水性、 防油性之矽氧烷或氟化烷基甲矽烷基化合物等等；防眩光 層係，具有將外光散射的微細凹凸表面之層者。 <薄片化> 如上所述，將以連續帶狀之捲取滾筒狀態製造而得的 材料切斷，即得一張張之電磁波遮蔽用薄片1 ;該電磁波 遮蔽用薄片1，膠黏於玻璃等之透明基材；又，因應需求 ，與近紅外線吸收層、防反射層、硬塗層、防污層、防眩 光層組合構成顯示器前面板；基板係’使用大型之顯示器 用的具有厚1〜1 0 mm之剛性者’或使用字符顯示管之小 型顯示器的厚0 · 0 1〜0.5 m m之塑料薄膜’隨顯示器之大小 及用途，做適當之選擇即可。 (24) 1236023 【實施方式】 〔實施例〕 〔實施例1〕 將由厚度1 0 β ηι、表面粗糙度R z爲2 // ηι之電解銅箔 而成的金屬層21、與厚度100μΠ}之連續帶狀的PET薄膜 A 4 3 0 0 (東洋紡績公司製、聚對苯二甲酸乙二醇酯商品名 )所成透明基材1 i，以聚氨基甲酸酯系黏著劑層〗3層壓後 ’於5 0 °C下經3天之熟化，即得層合物；使用之黏著劑， 其主劑爲聚醇（達凱拉庫A — 3 1 0 )、硬化劑爲異氰酸酯 (A — 1 0 )(任一種均爲武田藥品工業公司製，商品名） ，塗佈量爲乾燥後之厚度4 # m。 以光致微影法使層合物之銅箔形成銅篩眼；沿用彩色 電視遮蔽屏用之製造生產線，以連續帶狀捲取進行自遮蔽 至触刻的步驟；首先，以吊流式塗佈法將酪蛋白之正型感 光性抗鈾’塗佈於層合物之金屬層2〗表面的全面；將層合 物間歇輸送至下一步驟；使用開口部爲正方形、線寬…爲 2 2 # m、線與線之間隔（間距p )爲3 〇 〇 a nl、與透明基材 之邊成篩眼角度49度，如圖丨之近正方格的負型圖型底版 ’以水銀燈之紫外線密著曝光；將層合物輸送至下步驟， 同時經水顯像、硬膜處理，更於1 〇 〇它下烘烤。 再將層合物輸送至下一步驟，使用液溫5 〇它、比重 42 °波美度之氯化鐵溶液做爲蝕刻液，以噴霧法吹噴將非 抗蝕部蝕刻，形成開口部105及將其色圍之線部1〇7 ;再將 層合物輸送至下下步驟，同時水洗、剝離抗蝕、洗淨，更 - 28- (25) 1236023 於100°C下乾燥，形成如圖1、圖2之形狀的銅金屬篩眼103 〇 接著，將金屬篩眼線部1 07之表面及側面黑化處理； 浸瀆於做爲黑化處理電鍍浴之硫酸銅水溶液（1 〇〇 g/ 1 ) 與硫酸水溶液（1 2 0 g./ 1 )之混合水溶液中，在浴溫3 5 °c 、電流密度20A/ dm2之條件下處理10秒鐘，而且同一處 理重覆2次，施行合計3次之電解電鍍形成黑化處理層23， 即得實施例1之電磁波遮蔽用薄片1。 〔實施例2〕 除使用硫酸銅水溶液（8 5 g / 1 )、與硫酸鈷水溶液 (1 5 g / 1 )、及硫酸水溶液（1 2 0 g / 1 )之混合水溶液做 爲黑化處理電鍍浴以外，其他都和實施例1同樣的進行， 即得電磁波遮蔽用薄片。 〔實施例3〕 除使用硫酸銅水溶液（8 5 g / 1 )、與硫酸鎳水溶液 (1 5 g / 1 )、及硫酸水溶液（1 2 〇 g / 1 )之混合水溶液做 爲黑化處理電鍍浴以外，其他都和實施例1同樣的進行， 即得電磁波遮蔽用薄片。 〔實施例4〕 除使用硫酸銅水溶液（8 5 g / 1 )、與硫酸鋅水溶液 (]5 g / 1 )、及硫酸水溶液（12〇 g / 1 )之混合水溶液做 -29- (26) 1236023 爲黑化處理電鍍浴以外，其他都和實施例1同樣的進行， 即得電磁波遮蔽用薄片。 〔實施例5〕 除使用硫酸銅水溶液（8 5 g / 1 )、與硫酸鉻水溶液 (1 5 g / 1 )、及硫酸水溶液（1 2 0 g / 1 )之混合水溶液做 爲黑化處理電鍍浴以外，其他都和實施例1同樣的進行， 即得電磁波遮蔽用薄片。 〔實施例6〕 除施行2次之黑化處理的電解電鍍以外，其他都和實 施例1同樣的進行，即得電磁波遮蔽用薄片。 〔實施例7〕 除在做爲黑化處理之亞氯酸鈉水溶液（5 0 g / 1 )、 與氫氧化鈉水溶液（2 0 g / 1 )的混合水溶液（9 0 °C )中 ，進行2小時浸漬之形成處理以外，其他都和實施例1同樣 的進行，即得電磁波遮蔽用薄片；還有，銅篩眼之表面及 側面經黑化處理而成銅氧化物。 〔比較例1〕 除實施例1之銅箔以，在銅箔之上下兩面將銅-鈷合 金粒子（平均粒徑0 · 3 V m )陰極電沉積，且於其上徑鉻 處理之厚度1 〇 β Π1的電解銅箔替代使用，銅篩眼形成後之

•3CK (27) 1236023 線部1 〇 7側面上不施行黑化處理以外，其他都和實施例]同 樣的進行，即得比較例1之電磁波遮蔽用薄片。 〔比較例2〕 除進行1次之黑化處理的電解電鍍以外，其他都和實 施例1同樣的進行，即得電磁波遮蔽用薄片。 <評估> 評估係就反射Y値、辨識性、氣泡之有無、飩刻不勻 、黑化處理不勻 '黑化處理面之落粉予以評估。（反射Y 値）以上述之方法測定。 (辨識性）裝配於P D P - W Ο Ο Ο (日立製作所公司製 ，商品名）之正面，依試驗圖型、白、及黑之順序顯示， 在螢光燈照明之室內，離畫面5 0 cm之距離、與畫面之法 線成辨識角度〇〜8 0度的範圍，以目視觀察·，觀察以亮度 、對比、黑色顯示之外光的反射及閃光、以白色顯示之黑 化處理的不勻；顯著不佳者爲不合格之X號，良好者爲合 格之〇號，又，實用上沒有妨礙者亦爲合格之△號。 (氣泡之有無）使用200倍之光學顯微鏡，以目視觀 察，認定直徑在5 0 // m以上之氣泡爲不合格之X號，確認 沒有者爲合格之〇號。 (蝕刻不勻）靜置於燈桌上，以目視觀察穿透光，不 能確認不勻者爲合格之〇號，確認爲不勻時，使用1 〇 〇倍 之光學顯微鏡，以目視觀察篩眼之線寬，確認線寬有顯著 -31 - (28) 1236023 改變者爲不合格之x號。 (黑化不句）在螢光燈下’以目視觀察，確認不勻者 爲不合格之X號，確認無不勻者爲合格之〇號。 (黑化處理面之落粉）以沾滿乙醇之脫脂棉，用手強 力擦拭篩眼面1 〇次後，以目視觀察，顯著污染者爲不合格 之X號，確認無污染、或污染極少者爲合格之〇號。 此等之結果，如表1之記載。 表1 項目 反射Y値 黑化處理f 辨識性 氣泡 蝕刻 不勻 黑化處 理不勻 落粉 表面 側面 背面 實施例1 5.0 有 有 ίκ J \ \\ 〇 〇 〇 〇 〇 實施例2 5.3 有 有 Μ 〇 〇 〇 〇 〇 實施例3 5.5 有 有 ίκ J\ \\ 〇 〇 〇 〇 〇 實施例4 6.0 有 有 M 〇 〇 〇 〇 〇 實施例5 6.0 有 有 〇 〇 〇 〇 〇 實施例6 12.0 有 有 J \ w 〇 〇 〇 〇 〇 實施例7 4.0 有 有 M 〇 〇 〇 〇 〇 比較例1 4.8 有 Ατντ 無 有 X X X 〇 〇 比較例2 22.0 有 有 無 X 〇 〇 〇 0 -32- (29) 1236023 (結果）實施例1〜7之反射Y値都在2 0以下，而且線 部1 0 7之表面及側面均具有黑化處理層，其任一種之辨識 性、氣泡、蝕刻不勻、黑化處理不勻、及落粉亦都合格； 比較例2之線部的表面及側面雖具有黑化處理層，但是， 反射Υ値爲22.0，辨識性很明顯的比其他之例差，係實用 上有妨礙之不合格者的X號；氣泡、蝕刻不勻、黑化處理 不勻、及落粉之任一項亦均爲合格者；比較例1之反射Υ値 雖爲20以下，但是，線部之側面並無黑化處理層，倒是背 面具有黑化處理層；在辨識角度〇 ° (畫面之法線方向） 之辨識性良好，而在側面（辨識角度> 〇 ° )觀察時，畫 像整體帶有紅色，確認對比降低，爲不合格者；氣泡及蝕 刻不勻都不合格。 〔產業上利用性〕 依本發明之電磁波遮蔽用薄片的製造方法、黏著劑之 塗佈不均、氣泡之混入極少，層合品質甚爲優越；又，黑 化處理僅以一步驟完成、篩眼的中斷等之不勻甚少、收率 良好，能以高度生產效率生產。 依本發明之電磁波遮蔽用薄片1，能遮蔽電磁波，而 且在金屬層2 1之表面及側面（剖面）亦設置黑化處理層23 之故，不吸收由顯示器而來之顯示光，顯示畫像之亮度不 會降低。 依使用本發明之電磁波遮蔽用薄片1的顯示器用前面扳 ，配置於顯示器之正面，能遮蔽顯示器所發生之電磁波， -33- (30) 1236023 Μ & _示器的顯示畫像可良好的辨識。 而且因應需求可設置平坦化層，因應需求更可以設® 吸收特定波長之可視光及/或近紅外線的光線吸收層’將 1紋及不必要之特定波長的可見光及/或近紅外線吸收， 顯示器之顯示畫像，能更良好的辨識。 【圖式簡單說明】 圖1爲本發明之電磁波遮蔽用薄片的平面圖。 圖2爲本發明之電磁波遮蔽用薄片的局部模式透視圖 〇 圖3爲以往之電磁波遮蔽用薄片的重點剖面圖。 圖4爲本發明電旅波遮敝用薄片之實施例的重點剖面 圖0 〔主要元件對照表〕 1 電磁波遮蔽用薄片 2 防反射層 3 硬塗層、防污層、防眩光層等之層 11 透明基材 13 黏著劑 21 金屬層 23 黑化處理層 23 A 黑化處理層 23B 黑化處理層 - 34 - (31) 1236023 25 A 防 銹 層 25B 防 銹 層 29 平 坦 化 層 3 1 A 近 紅 外 線 吸 收 層 32B 近 紅 外 線 吸 收 層 10 1 接 地 用 框 部 103 篩 眼 部 105 開 □ 部 107 線 部 109 導 電 材 料 層 109a 抗 蝕 層 -35-

Claims (1)

1. (1) 1236023 拾、申請專利範圍 1· 一種電磁波遮蔽用薄片，其特徵爲， 具備透明基材、與在透明基材一邊的面上設置之篩眼 狀的金屬層； 在金屬層之透明基材的相反面及側面上設置黑化處理 層； 上述黑化處理層之反射Y値爲大於0在20以下者。 2·如申請專利範圍第1項之電磁波遮蔽用薄片，其中 黑化處理層爲，含有至少一種選自銅、鈷、鎳、鋅、錫、 或鉻之單體、或化合物者。 3. 如申請專利範圍第1或2項之電磁波遮蔽用薄片，. 其中上述金屬層爲銅者。 4. 一種顯示器用前面板，其特徵爲， 具備電磁波遮蔽用薄片、與設置於此電磁波遮蔽用薄 片之上的可見光線及/或近紅外線吸收層或防反射層；電 磁波遮蔽用薄片係， 具備透明基材、與在透明基材一邊的面上設置之篩眼 狀的金屬層； 在金屬層之透明基材的相反面及側面上設置黑化處理 層； 上述黑化處理層之反射Y値，爲大於0在20以下者。 5· —種電磁波遮蔽用薄片之製造方法，其特徵爲由 (a )將金屬層與透明基材，直接或以黏著劑介入其 間而層合之步驟，與 -36- 1236023 (2) (b)在層合的金屬層與透明基材之中的金屬層，設 置篩眼圖型狀之抗蝕層，藉由蝕刻將不被抗蝕層覆蓋之部 份的金屬層去除後，去除抗蝕層，形成篩眼狀之金屬層的 步驟，及 (c )使用電鍍法，在該篩眼狀之金屬層的表面及側 面，設置黑化處理層之步驟，所成者。

   -37-