CN105519249B - 导电性膜、触摸屏、显示装置、以及导电性膜的评价方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种导电性膜、触摸屏、显示装置、以及导电性膜的评价方法。形成于透明基体的两面的第1配线图案及第2配线图案分别至少具有不同的第1图案及第2图案,且作为合成配线图案而重叠于显示单元的像素排列图案,像素排列图案与合成配线图案的合成图案,自其透过率图像数据的2维傅立叶空间内的多个频谱中,去除像素排列图案及合成配线图案的透过率图像数据的2维傅立叶空间内的多个频谱,仅抽出由像素排列图案与合成配线图案的干涉而产生的云纹及噪声的多个频谱,求出所抽出的全部多个频谱的合计值,根据所述合计值算出的云纹及噪声的抽出定量值为规定范围内。本发明可大幅提高显示画面的可见性。
Description
技术领域
本发明涉及一种导电性膜、触摸屏、显示装置、以及导电性膜的评价方法,详细而言,涉及如下的导电性膜、具备其的触摸屏及显示装置、以及导电性膜的评价方法,所述导电性膜在由多根金属细线而形成为排列着多个开口部(网眼(cell))的网孔状的网孔状配线图案(以下也称作网孔图案(mesh pattern))的设计中,具有云纹(moire)及噪声的可见性优异的网孔图案的配线。
背景技术
作为设置于显示装置(以下也称作显示器)的显示单元上的导电性膜,例如可列举电磁波屏蔽(shield)用的导电性膜或触摸屏用的导电性膜等(例如参照专利文献1、专利文献2及专利文献3)。
触摸屏中,在其表面受到来自物体(例如手指)的推压时,利用导电性膜(传感器)来检测所述推压位置。所述导电性膜(传感器)中包含沿彼此正交的方向延伸的第1导电部(电极)及第2导电部(电极)。
在这些第1导电部与第2导电部之间通常插入绝缘性的透明基体。
这些第1导电部及第2导电部包含通过使金属细线(线材)交叉而形成的网孔。由交叉的金属细线而包围的开口部(空间)也被称作网眼,所述网眼一般而言为多边形状或不规则形状。
此处,在网眼为四边形等规定的相同形状的情况下,网孔通常成为多个相同形状的网眼重复相连的规则的配线图案,即,定型的图案。已知在此种规则的配线图案中,例如与显示器的像素排列图案(例如,黑矩阵(blackmatrix)(以下也称作BM)图案)发生干涉而容易产生云纹(干涉条纹)。
另一方面,在网眼的形状为不规则形状的情况下或包含各种形状的情况下,网眼形状并无规则性(统一性),对于网孔而言,因通常无法重复相同形状的网眼,故成为不规则的配线图案,即,无规(random)图案。已知此种无规图案中,容易看见噪声颗粒感(感到粗糙),而且,透过率比定型的图案小。
且说,本案申请人的申请的专利文献1中揭示如下内容:自动地选定由相对距离超过规定的空间频率、例如8cm-1的配线图案数据而生成的配线图案,所述相对距离是例如显示器的BM图案等像素排列图案、及例如电磁波屏蔽图案等配线图案的各自的图案数据的2维傅立叶频谱(二维高速傅立叶变换频谱(Two-Dimensional Fast fourier Transformspectrum,2DFFTSp))的频谱峰值间的相对距离(例如也可以说相当于云纹的频率)。
另外,专利文献1中还揭示如下内容:在所述相对距离未超过规定的空间频率的情况下,重复进行如下动作直至所述相对距离超过规定的空间频率为止,即,使配线图案数据的旋转角度、间距、图案宽度中的任一个以上发生变化,而生成新的配线图案数据。
如此,专利文献1中,可自动地选定电磁波屏蔽图案,所述电磁波屏蔽图案是将像素排列图案及配线图案,例如规则地重复着规定像素的BM图案及规则的配线图案(参照图2及图6)的频谱峰值间的相对距离(云纹的频率)的频率,设定得比规定的空间频率高,由此可抑制云纹的产生,还可避免表面电阻率的增大或透明性的劣化。
另一方面,本案申请人的申请的专利文献2中,揭示了以如下方式形成着网孔图案的透明导电膜,来作为包括具备多个多边形状的网孔的网孔图案(例如,无规图案:参照图2及图14)的透明导电膜,即,关于各网孔的重心频谱,使比规定的空间频率,例如人类视觉响应特性相当于最大响应的5%的空间频率高的空间频带侧的平均强度,大于比规定的空间频率低的空间频带侧的平均强度。
如此,专利文献2中,可提供如下的透明导电膜,即,可减轻由无规图案而引起的噪声颗粒感,可大幅提高观察对象物的可见性,并且裁切后也具有稳定的通电性能。
专利文献3中,通过将规则的网孔图案(参照图2、图11、及图25等)或包含无规形状的网眼的无规图案(参照图23)等导电性微小图案要素的宽度减小至1μm~10μm,而使得导电性微小图案要素更不易被看见,并且通过设置使导电性微小图案要素的可视性不明显化或减小所述可视性的构造而使导电性微小图案要素更不易被看见。专利文献3中还揭示作为此种构造之一的导电性微小图案的伪随机(pseudorandom)变动。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本专利特开2009-117683号公报
专利文献2:日本专利特开2011-216379号公报
专利文献3:日本专利特表2011-517355号公报
发明内容
发明要解决的课题
且说,专利文献1中,每当生成导电性膜的配线图案时,仅根据显示器的BM(黑矩阵)/配线图案的频率信息来控制云纹频率,且提供可见性优异的配线图案,但因仅依存于频率来判定是否看见云纹,故即便在为被判定为未看见云纹的频率的情况下,因人对云纹的察觉不仅受到频率的影响,还会受到强度的影响,故有时会因强度而看见云纹,从而存在云纹的可见性无法充分提高的问题。尤其在将专利文献1中揭示的技术应用于触摸屏用的导电性膜的情况下,因人的手指等的推压,故也存在BM/配线图案间产生微小的变形,且因强度而促进云纹被看见的问题,且存在云纹的可见性的提高不充分的问题。
而且,专利文献2中,关于透明导电膜的网孔图案的各网孔的重心频谱,通过使人类视觉的响应特性急剧降低、且比规定的空间频率高的中~高空间频带下的平均强度,高于人类视觉响应特性高的低空间频带的平均强度,减少对于人类而言视觉上所感受到的噪声感,但仍存在如下问题:仅实现了透明导电膜的网孔图案自身的噪声感的减少,而无法抑制显示器的BM图案与透明导电膜的网孔图案之间产生的云纹,从而无法提高云纹的可见性。
而且,专利文献3中,在导电性微小图案为规则的网孔图案的情况下,只不过在与配置导电性微小图案要素的透明基材不同的透明基材上设置所述构造,而使导电性微小图案要素的可视性不明显化或减小所述可视性,且通过使导电性微小图案要素具有伪随机变动,而实现导电性微小图案要素的可视性的不明显化或减小所述可视性,但尚未充分揭示伪随机变动与云纹的抑制的对应关系,从而存在如下问题:无法通过使导电性微小图案要素具有伪随机变动,来充分提高云纹的可见性。
且说,在无规图案等不规则的配线图案中,存在会发生如下不良情况的问题:容易看见噪声、即噪声颗粒感(感到粗糙),而且,比起定型的图案等规则配线图案而透过率小。即,存在如下自相矛盾的关系:若采用规则的配线图案,则虽不易看见噪声颗粒,且透过率增大,但不容易抑制云纹的产生,另一方面,若采用不规则的配线图案,则虽抑制云纹(干涉条纹)的产生,但容易看见噪声颗粒,且透过率减小。
而且,存在如下问题:只要不进行对准(alignment)(使显示器BM图案与网孔图案的空间频率特性完全一致),则原理上便会产生由显示器BM图案与网孔图案的干涉而产生的云纹。
而且,当触摸传感器(显示器+触摸屏)的观察距离为预先设定的观察距离时,即便在充分提高了云纹的可见性的状态下,若观察距离发生变化,则也存在云纹有时会被看见的问题。
本发明解决所述现有技术的问题,目的在于提供一种导电性膜、具备其的触摸屏及显示装置、以及导电性膜的评价方法,所述导电性膜可与显示单元的显示画面的观察距离无关地抑制云纹的产生,进而即便为原理上无法避免的云纹也可改善其可见性,且可大幅提高云纹及噪声的可见性,因而可大幅提高显示画面的可见性。
而且,本发明的目的在于特别是提供如下的导电性膜、具备其的触摸屏及显示装置、以及导电性膜的评价方法,所述导电性膜在将具有配线的透明导电性膜用作触摸屏用电极的情况下,与观察距离无关地抑制在显示装置的显示单元的黑矩阵上重叠导电性膜而看见时成为大的画质障碍的云纹的产生,并且进而即便为原理上无法避免的云纹也可改善其可见性,不易看见噪声颗粒,并且,可显示充分的透过率,从而可大幅提高触摸屏上的显示的可见性。
进而,本发明的目的在于特别是提供如下的导电性膜、具备其的触摸屏及显示装置、以及导电性膜的评价方法,所述导电性膜在设计具有分别配置于两主面上的第1导电部及第2导电部(电极)的导电性膜的导电部时,通过将配置于第1导电部及第2导电部的配线图案设为包含规则性的频散(dispersion)不同的网孔图案的混合网孔图案,而可容易设计配线图案。
解决问题的技术手段
且说,本发明人已在日本专利特愿2013-020775号说明书中提出如下导电性膜来作为可大幅提高显示装置(显示器)的显示画面的云纹的可见性的一个技术,所述导电性膜具有满足评价值为规定值以下的配线图案,所述评价值通过如下而算出:算出显示器的像素矩阵及网孔图案的空间频率峰值,并将由各自的空间频率峰值差分、峰值强度累计值所得的云纹的二维频率频谱及强度、与视觉传递函数(visual transfer function)进行卷积(convolution)。
然而,为了达成可达成所述目的又一技术,本发明人进一步反复进行了积极研究,结果发现:以偏离人类视觉感度的方式而产生由规则的网孔图案与显示器的BM图案的干涉而产生的云纹,由此,可设计出云纹可见性优异的网孔图案,然而,只要不进行对准(使显示器的BM图案与网孔图案的空间频率特性完全一致),则原理上便会产生由显示器的BM图案与网孔图案的干涉而产生的云纹。
而且,本发明人发现:使用了现有技术的云纹可见性优异的网孔图案设计方法的设计概念是尽可能地使云纹的空间频率为高频,然而,无论欲设为多高的频率,若使观察距离接近触摸传感器(显示器+触摸屏),则会出现看见云纹的情况。
结果,本发明人基于所述发现而发现如下情况:本发明的技术性课题在于,并非简单地使由规则的网孔图案与显示器的BM图案的干涉而产生的云纹以偏离人类视觉感度的方式在高频侧产生,而是在导电性膜的两面,分别对网孔图案的网孔的开口部(网眼)的规则性的频散不同的规则性相对高的网孔图案与规则性相对低的网孔图案,例如混合使用规则的配线图案与不规则的配线图案,由此可利用后者的可见性低的噪声(噪声颗粒性)成分的遮蔽(mask)效果,来改善由前者产生的云纹的可见性,尤其可改善原理上无法避免的情况下的云纹的可见性,从而完成了本发明。
为了达成所述技术课题,本发明的第1形态的导电性膜设置于显示装置的显示单元上,其特征在于包括:透明基体;以及第1导电部及第2导电部,分别形成于所述透明基体的两面;第1导电部及第2导电部分别具有第1配线图案及第2配线图案,所述第1配线图案及第2配线图案由多根金属细线而形成为排列着多个开口部的网孔状,第1配线图案及第2配线图案分别至少具有第1图案及第2图案,所述第1图案及第2图案的透过率图像数据的2维傅立叶空间内的频谱的频散不同,第1配线图案及第2配线图案作为合成配线图案而重叠于显示单元的像素排列图案,像素排列图案与合成配线图案的合成图案,自合成图案的透过率图像数据的2维傅立叶空间内的多个频谱中,去除像素排列图案的透过率图像数据的2维傅立叶空间内的多个频谱及合成配线图案的透过率图像数据的2维傅立叶空间内的多个频谱,并仅抽出由像素排列图案与合成配线图案的第1配线图案及第2配线图案的干涉而产生的云纹及噪声的多个频谱,求出所抽出的全部多个频谱的合计值,根据所述合计值算出的云纹及噪声的抽出定量值为规定范围内。
为了达成所述技术课题,本发明的第1形态的导电性膜设置于显示装置的显示单元上,其特征在于包括:透明基体;以及第1导电部及第2导电部,分别形成于所述透明基体的两面;第1导电部及第2导电部分别具有第1配线图案及第2配线图案,所述第1配线图案及第2配线图案由多根金属细线而形成为排列着多个开口部的网孔状,第1配线图案及第2配线图案分别至少具有第1图案及第2图案,所述第1图案及第2图案的透过率图像数据的2维傅立叶空间内的频谱的频散不同,第1配线图案及第2配线图案作为合成配线图案而重叠于显示单元的像素排列图案,第1图案的透过率图像数据的2维傅立叶空间内的频谱的标准偏差为-5.0以上,第2图案的透过率图像数据的2维傅立叶空间内的频谱的标准偏差小于-5.0。
而且,为了达成所述目的,本发明的第2形态的触摸屏的特征在于包括所述第1形态的导电性膜。
而且,为了达成所述目的,本发明的第3形态的显示装置的特征在于包括:显示单元,以及设置于所述显示单元上的所述第1形态的导电性膜。
而且,为了达成所述目的,本发明的第4形态的导电性膜的评价方法是设置于显示装置的显示单元上的导电性膜的评价方法,其特征在于:导电性膜包括:透明基体;以及第1配线图案及第2配线图案,分别形成于所述透明基体的两面,且由多根金属细线而形成为排列着多个开口部的网孔状,第1配线图案及第2配线图案分别至少具有第1图案及第2图案,所述第1图案及第2图案的透过率图像数据的2维傅立叶空间内的频谱的频散不同,获取第1配线图案及第2配线图案的各自的透过率图像数据与显示单元的像素排列图案的透过率图像数据,所述显示单元的像素排列图案是将第1配线图案及第2配线图案作为合成配线图案而重叠,根据所获取的像素排列图案以及第1配线图案及第2配线图案的各自的透过率图像数据,而求出像素排列图案与合成配线图案的合成图案的透过率图像数据,进行所求出的合成图案、像素排列图案及合成配线图案的各自的透过率图像数据的2维傅立叶变换,求出合成图案的透过率图像数据的2维傅立叶空间内的多个频谱、像素排列图案的透过率图像数据的2维傅立叶空间内的多个频谱、及合成配线图案的透过率图像数据的2维傅立叶空间内的多个频谱,自合成图案的多个频谱中去除像素排列图案的多个频谱及合成配线图案的多个频谱,仅求出由像素排列图案与合成配线图案的第1配线图案及第2配线图案的干涉而产生的云纹及噪声的多个频谱的合计值,根据如所述般获得的合计值而算出云纹及噪声的抽出定量值,对如所述般算出的云纹及噪声的抽出定量值为规定范围内的导电性膜进行评价。
所述第1形态、第2形态、第3形态及第4形态中,优选为云纹及噪声的频谱的合计值是仅将具有如下频率的频谱全部进行合计而求出,所述频率比像素排列图案的空间频率低(根据显示单元的显示分辨率而规定的云纹的最高频率以下的云纹的频率)。而且,云纹及噪声的频谱的合计值优选为自如所述般先求出的第1合计值中减去第2合计值而求出,所述第2合计值是将合成配线图案的多个频谱的全部进行合计而求出。
而且,优选为在将定量值以常用对数值计而设为E时,规定范围为E<-2.150,进而,更优选为E<-2.20425。
而且,优选为第1图案的透过率图像数据的2维傅立叶空间内的频谱的标准偏差为-5.0以上,第2图案的透过率图像数据的2维傅立叶空间内的频谱的标准偏差小于-5.0。
而且,优选为第1图案为规则的图案,第2图案为不规则图案。
而且,优选为开口部通过金属细线相互交叉而形成,规则的图案为以多个相同形状的开口部相连的方式形成为网孔状的定型的图案,不规则图案为俯视时以包含多个形状彼此不同的开口部的方式形成为网孔状的无规图案。
而且,优选为具有第1配线图案的第1导电部形成于透明基体的上表面,具有第2配线图案的第2导电部形成于透明基体的下表面,第1配线图案包含第1图案,第2配线图案包含第2图案,第2配线图案的宽度比第1配线图案的宽度大。
而且,优选为云纹的频率由合成配线图案的峰值频率与像素排列图案的峰值频率的差分而提供,云纹的强度由合成配线图案的峰值强度与像素排列图案的峰值强度的乘积而提供。
而且,优选为透过率图像数据及频谱的强度以合成图案的透过率图像的面积而标准化。
而且,优选为像素排列图案为黑矩阵图案。
而且,优选为形成第2图案的金属细线的线宽为1μm~5μm。
而且,优选为形成第2图案的开口部彼此的平均间距处于100μm~500μm的范围内。
而且,优选为形成第1图案的金属细线的线宽为1μm~5μm。
而且,优选为形成第1图案的开口部为菱形。
而且,优选为形成第1图案的金属细线及形成第2图案的金属细线包含银。
发明的效果
如以上所说明般,根据本发明,可与显示单元的显示画面的观察距离无关地抑制云纹的产生,进而通过噪声效果可进一步改善原理上无法避免的云纹的可见性,结果,可大幅提高云纹及噪声的可见性,因而可大幅提高显示画面的可见性。
而且,根据本发明,尤其在将具有配线的透明导电性膜用作触摸屏用电极的情况下,可与观察距离无关地抑制在显示装置的显示单元的黑矩阵上重叠导电性膜而看见时成为大的画质障碍的云纹的产生,并且进而即便为原理上无法避免的云纹也可改善其可见性,不易看见噪声颗粒,并且,可显示充分的透过率,从而可大幅提高触摸屏上的显示的可见性。
而且,根据本发明,尤其在设计具有分别配置于两主面的第1导电部及第2导电部(电极)的导电性膜的导电部时,可将配置于第1导电部及第2导电部的配线图案,设为包含规则性的频散不同的网孔图案的混合网孔图案,因而可容易设计配线图案。
而且,根据本发明,尤其将形成经由绝缘性透明基体而彼此相向的第1导电部及第2导电部(电极)中的一个的开口部(网眼)设为无规图案,并且将形成剩余一个的网眼设为定型的图案,由此可基于具有成为无规图案的电极而抑制云纹的产生,且,可基于具有成为定型的图案的电极而不易看见噪声颗粒,且可显示充分的透过率。
附图说明
图1是示意性地表示本发明的第1实施形态的导电性膜的一例的局部剖面图。
图2是示意性地表示图1所示的导电性膜的一导电部的配线图案的一例的平面图。
图3是示意性地表示图1所示的导电性膜的另一导电部的配线图案的一例的平面图。
图4(A)及图4(B)分别是示意性地表示图1所示的导电性膜的一导电部的配线图案的另一例的平面图。
图5(A)及图5(B)分别是示意性地表示图1所示的导电性膜的另一导电部的配线图案的另一例的平面图。
图6是表示应用本发明的导电性膜的显示单元的一部分像素排列图案的一例的概略说明图。
图7是装入图1所示的导电性膜的显示装置的一实施例的概略剖面图。
图8(A)及图8(C)分别是表示应用本发明的导电性膜的显示单元的像素排列图案的一例的示意性局部放大说明图,图8(B)及图8(D)分别是图8(A)及图8(C)中仅利用G通道的子像素(sub-pixel)时的像素排列图案的示意性说明图。
图9(A)~图9(H)分别是表示应用本发明的导电性膜的显示单元的像素排列图案的又一例的示意性局部放大说明图。
图10是表示本发明的导电性膜的配线评价方法的一例的流程图。
图11(A)是示意性地表示应用本发明的导电性膜的显示单元的像素排列图案的一例的局部放大图,图11(B)及图11(C)分别是示意性地表示重叠于图11(A)的像素排列图案的导电性膜的配线图案的一例的局部放大图。
图12(A)是示意性地表示图11(B)及图11(C)所示的配线图案的合成配线图案的局部放大图,图12(B)是以不同的比例尺来示意性地表示图12(A)所示的合成配线图案与图11(A)所示的像素排列图案的合成图案的概略说明图。
图13(A)及图13(B)分别是示意性地表示图12(A)所示的合成配线图案及图11(A)所示的像素排列图案的各透过率图像数据的2维傅立叶频谱的图表。
图14是示意性地表示因图12(A)所示的合成配线图案与图11(A)所示的像素排列图案的干涉而产生的云纹的频谱、与显示器的分辨率及像素排列图案的频谱的关系的图表。
图15是表示实施例中使用的导电性膜的配线图案的2维傅立叶空间内的频谱分布的标准偏差的图表。
图16(A)、图16(B)及图16(C)分别是表示实施例中使用的导电性膜的配线图案的一例的概略说明图。
图17是具备本发明的第2实施形态的导电性膜的触摸屏的主要部分分解立体图。
图18是构成图17所示的触摸屏的导电性膜的主要部分分解立体图。
图19是图18所示的导电性膜的概略纵剖面图。
图20是表示形成于图19所示的导电性膜的第1导电部(电极)的网眼的一例的概略平面图。
图21是表示图19所示的第1导电部(电极)的网眼的又一例的概略平面图。
图22是表示形成于图19所示的导电性膜的第2导电部(电极)的网眼的一例的概略平面图。
图23是表示图21所示的第1导电部(电极)与图22所示的第2导电部(电极)的重合部分的概略平面图。
图24是与图19所示的导电性膜为不同实施形态的导电性膜的概略纵剖面图。
图25是评价用导电性膜的概略纵剖面图。
符号的说明
10:导电性膜
12:透明基体
14:金属制的细线(金属细线)
16、16a、16b:导电部
18、18a、18b:粘接层
20、20a、20b:保护层
21、21a、21b:网孔配线
22、22a、22b:开口部
24、24a、24b:配线图案
28、28a、28b:导电层
30:显示单元
32:像素
32r、32g、32b:子像素
34:黑矩阵(BM)
38:BM图案
40:显示装置
44:触摸屏
110A:第1片材体
110B:第2片材体
112:层叠导电性膜(导电性膜)
114A:第1透明基体
114B:第2透明基体
118A:第1导电图案
118B:第2导电图案
120:细线
122A、122B:网眼
130、154、158:粘着剂(OCA)
150:评价用层叠导电片材
152:下方电极
156:上方电极
200:触摸屏
202:传感器本体
206:保护层
208:显示装置
210:显示面板
214:端子配线部
具体实施方式
以下,参照附图所示的优选的实施形态来详细说明本发明的导电性膜及导电性膜的评价方法。
以下,对本发明的导电性膜,以触摸屏用的导电性膜作为代表例来进行说明,但本发明并不限定于此,只要为如下的导电性膜,则可为任何,例如当然也可为电磁波屏蔽用的导电性膜等,所述导电性膜为配置于透明基体的两面且包含具有规则性的频散不同的配线图案的导电部,且设置于液晶显示器(Liquid Crystal Display,LCD)、等离子体显示器(Plasma Display Panel,PDP)、有机电致发光显示器(Organic ElectroLuminescenceDisplay,OELD)或无机EL显示器等显示装置的显示单元上。
图1是示意性地表示本发明的第1实施形态的导电性膜的一例的局部剖面图,图2及图3分别是示意性地表示图1所示的导电性膜的一导电部及另一导电部的配线图案的一例的平面图。
如这些图所示,本实施形态的导电性膜10为如下导电性膜,即,设置于显示装置的显示单元上,且具有相对于显示单元的黑矩阵(BM:Black Matrix)而在抑制云纹产生的方面优异的配线图案,尤其具有在重叠于BM图案时相对于BM图案而在云纹的可见性方面得到最佳化的配线图案,所述导电性膜具有:透明基体12;第1导电部(电极)16a,形成于透明基体12的一面(图1中上侧的面),且包含多根金属制的细线(以下称作金属细线)14;第1保护层20a,以包覆金属细线14的方式,经由第1粘接层18a而粘接于第1导电部16a的大致整个面;第2导电部(电极)16b,形成于透明基体12的另一面(图1中下侧的面),且包含多根金属制的细线14;以及第2保护层20b,经由第2粘接层18b而粘接于第2导电部16b的大致整个面。
另外,以下,在统称第1导电部16a及第2导电部16b时仅称作导电部16,统称第1粘接层18a及第2粘接层18b时仅称作粘接层18,统称第1保护层20a及第2保护层20b时仅称作保护层20。
透明基体12包含具有绝缘性且透光性高的材料,例如可列举树脂、玻璃、硅等材料。作为树脂,例如可列举聚对苯二甲酸乙二醇酯(Polyethylene Terephthalate,PET)、聚甲基丙烯酸甲酯(Polymethyl methaerylate,PMMA)、聚丙烯(polypropylene,PP)、聚苯乙烯(polystyrene,PS)等。
金属细线14只要为导电性高的金属制的细线则不作特别限制,例如可列举包含金(Au)、银(Ag)或铜(Cu)的线材等。考虑到可见性的观点,金属细线14的线宽越细越佳,但例如只要为30μm以下即可。另外,在触摸屏用途中,金属细线14的线宽优选为0.1μm以上、15μm以下,更优选为1μm以上、9μm以下,进而优选为2μm以上、7μm以下。
导电部16(16a、16b)具有由网孔配线21(21a、21b)形成的配线图案24(24a、24b),所述网孔配线21(21a、21b)通过将多根金属细线14排列成网孔状而成。详细而言,配线图案24(24a、24b)为如下网孔的图案,即,排列着使多根金属细线14彼此相互交叉而形成的规定形状的开口部(网眼)22(22a、22b)。
第1导电部16a如图2所示包含导电层28a(参照图1),所述导电层28a具有由金属细线14、及邻接的金属细线14间的开口部(网眼)22a形成的网孔形状的配线图案24a,配线图案24a为多个相同形状的菱形的开口部22a规则地重复的规则的配线图案,即所谓的定型的图案。
另一方面,第2导电部16b包含导电层28b(参照图1),所述导电层28b具有由金属细线14、及邻接的金属细线14间的开口部22b形成的网孔形状的配线图案24b,配线图案24b如图3所示,为俯视时彼此形状不同的开口部22b多个相连而成的不规则的配线图案,即所谓的无规图案。
另外,图2所示的例中,配线图案24a为开口部22a的网孔形状为菱形的定型的图案,图3所示的例中,配线图案24b为开口部22b的网孔形状为不规则形状的无规图案,但本发明并不限定于此,配线图案24a及配线图案24b为开口部(网眼)22(22a、22b)的形状或重复等图案的规则性的频散不同的网孔图案,一个为规则性相对高的网孔图案,一个为规则性相对低的网孔图案即可。
此处,规则性相对高的网孔图案(以下称作高规则性图案)在其透过率图像数据的2维傅立叶空间内,因容易具有特定的峰值,故频散增大,作为高规则性图案,2维傅立叶空间内的频谱(进行2维傅立叶变换而获得的频谱)的标准偏差优选为-5.0以上,规则性相对低的网孔图案(以下称作低规则性图案)在其透过率图像数据的2维傅立叶空间内,因不易具有特定的峰值,故频散减小,作为低规则性图案,2维傅立叶空间内的频谱(进行2维傅立叶变换而获得的频谱)的标准偏差优选为小于-5.0。
另外,高规则性图案及低规则性图案的图案的规则性的频散不同,这些合成配线图案只要可构成相对于后述的显示装置的规定的像素排列(BM)图案而云纹可见性得到最佳化的配线图案,则这些开口部22的形状可为任何形状。即,配线图案24的开口部22只要为至少具有3边的多边形状、圆、椭圆或封闭的不规则形状,则可为任何形状,而且,可为相同的网孔形状,也可为不同的网孔形状,例如可列举正三角形、等腰三角形等三角形,正方形(正方格子)、长方形等四边形(矩形),或五边形、六边形(正六边形)等相同或不同的多边形等。即,高规则性图案及低规则性图案,只要可形成图案的规则性的频散的高低中存在差异且相对于规定的BM图案而云纹可见性得到最佳化的合成配线图案即可。
而且,配线图案24中,也可使构成开口部22的金属细线14的边(网孔配线21)含有断线(断开(break))。作为具有此种断开的网孔状配线图案的形状,可应用本案申请人的申请的日本专利特愿2012-276175号说明书中记载的导电性膜的网孔状配线图案的形状。
另外,关于被用作配线图案24a的高规则性图案,更优选为开口部22a的形状为相同形状,且通过具有规则性的相同形状的开口部22a的排列而构成的定型的配线图案,除图2所示的菱形的开口部22a呈规则排列的菱形图案外,例如,如图4(A)及图4(B)所示的配线图案24a般,可列举正方形的开口部呈规则排列的正方格子图案,或正方六边形的开口部呈规则排列的正六边形图案等。
而且,关于被用作配线图案24b的低规则性图案,更优选为开口部22b的形状为不同的形状,且通过不同形状的开口部22的排列而无规化的配线图案,除图3所示的排列着不同的多边形状的开口部22b的无规图案外,例如如图5(A)及图5(B)所示的配线图案24b般,可列举不同形状的开口部22无规排列的无规图案等。关于此种无规图案,例如也可使用利用奥多比(Adobe)公司制造的PS图像处理软件(Photoshop)(注册商标)的染色玻璃(stained glass)功能制作而成的无规图案等。
图1所示的实施形态导电性膜10中,图1中,在透明基体12的上侧(观察侧)的第1导电部16a,配置规则性相对高的配线图案24a,在透明基体12的下侧(显示器侧)的第2导电部16b,配置规则性相对低的配线图案24b,但本发明并不限定于此,相反,图1中,也可在透明基体12的上侧(观察侧)的第1导电部16a,配置规则性相对低的配线图案24b,在透明基体12的下侧(显示器侧)的第2导电部16b,配置规则性相对高的配线图案24a。
而且,在第1导电部16a及第2导电部16b上,分别配置至少一层的配线图案24a及配线图案24b即可,还可包含其他配线图案的层。即,在第1导电部16a及第2导电部16b上分别配置至少一层配线图案24a及配线图案24b即可。
另外,在本实施形态的导电性膜10中,第1导电部16a及第2导电部16b的至少一部分包含虚设电极部,所述虚设电极部与这些导电部16a及导电部16b隔开规定间隔而配置,且与这些导电部16a及导电部16b处于电性绝缘状态下并包含金属细线14。通过设置此种虚设电极部,而可对应于第1导电部16a与第2导电部16b的各网孔配线21(21a、21b)来进行配置,因而可控制透明基体12的一(例如图1的上侧或下侧)面的由金属细线所引起的散射,从而可改善电极可见性。
如所述般,第1保护层20a以包覆第1导电部16a的金属细线14的方式,利用第1粘接层18a而粘接于包含第1导电部16a的导电层28a的大致整个面。而且,第2保护层20b以包覆第2导电部16b的金属细线14的方式,利用第2粘接层18b而粘接于包含第2导电部16b的导电层28b的大致整个面。
此处,作为粘接层18(第1粘接层18a及第2粘接层18b)的材料,可列举湿式层叠(wet laminate)粘接剂、干式层叠(dry laminate)粘接剂、或热熔(hot melt)粘接剂等,第1粘接层18a的材质与第2粘接层18b的材质可相同也可不同。
而且,保护层20(第1保护层20a及第2保护层20b)与透明基体12同样地,包含具有树脂、玻璃、硅的透光性高的材料,第1保护层20a的材质与第2保护层20b的材质可相同也可不同。
优选为第1保护层20a的折射率n1及第2保护层20b的折射率n2均为与透明基体12的折射率n0相等或与所述折射率n0相近的值。所述情况下,透明基体12相对于第1保护层20a的相对折射率nr1及透明基体12相对于第2保护层20b的相对折射率nr2均为接近1的值。
此处,本说明书中的折射率是指波长589.3nm(钠的D线)的光的折射率,例如对于树脂,以作为国际标准规格的国际标准化组织(International Organization forStandardization,ISO)14782:1999(对应于日本工业标准(Japanese IndustrialStandards,JIS)K 7105)来定义。而且,透明基体12相对于第1保护层20a的相对折射率nr1以nr1=(n1/n0)来定义,透明基体12相对于第2保护层20b的相对折射率nr2以nr2=(n2/n0)来定义。
此处,相对折射率nf1及相对折射率nr2只要处于0.86以上、1.15以下的范围即可,更优选为0.91以上、1.08以下。
另外,将相对折射率nr1及相对折射率nr2的范围限定于所述范围,以控制透明基体12与保护层20(20a、20b)的构件间的光的透过率,由此可进一步提高、改善云纹的可见性。
所述本发明的第1实施形态的导电性膜10例如应用于图6中示意性地表示一部分的显示单元30(显示部)的触摸屏44(参照图7),但当由构成触摸屏44的触摸传感器所需的金属细线14来构成网孔配线的图案(金属网孔图案)时,利用图案的规则性的频散不同的2种网孔图案,即高规则性图案与低规则性图案。此处,高规则性图案,优选为规则的网孔图案,与现有技术同样地与显示装置(显示器)的黑矩阵(以下也称作BM)发生干涉而产生云纹。另一方面,低规则性图案,优选为不规则的网孔图案,与BM发生干涉而产生噪声。本发明的导电性膜中,通过将两者的图案进行混合,而由高规则性图案产生的高频的云纹在低规则性图案的噪声成分的遮蔽效果下,云纹不易被看见。如本发明般,在通过遮蔽云纹而改善被看见的云纹的情况下,当使云纹的可见性进一步最佳化时,规则的网孔图案与BM的干涉所引起的云纹及不规则网孔图案与BM的干涉所引起的噪声的平衡性变得重要,因此本发明中,优选为将各个图案的特征数值化而以数值来规定最终所获得的画质。
本发明的导电性膜10中,图案的规则性的频散不同的2种网孔图案的合成配线图案,具有相对于显示单元30的像素排列(BM)图案而云纹可见性方面得到最佳化的合成配线图案。另外,本发明中,所谓相对于BM(像素排列)图案而云纹可见性方面得到最佳化,是指相对于规定的BM图案,高规则性图案与低规则性图案的1类组合或合成配线图案,所述组合可使得因与高规则性图案的干涉而不可避免地产生的高频的云纹,在因与低规则性图案的干涉而同时产生的噪声成分的遮蔽效果下,变得不易被看见。另外,本发明中,也可对经最佳化的2个以上的1类组合或合成配线图案,自最不会察觉的组合(合成配线图案)到最难以察觉的组合(合成配线图案)为止进行排序,从而可决定最不会察觉到云纹的1个配线图案的组合(合成配线图案)。
另外,以后将叙述合成配线图案相对于规定的BM图案的云纹可见性的最佳化。
本发明的导电性膜基本如以上般构成。
图6是示意性地表示应用本发明的导电性膜的显示单元的一部分像素排列图案的一例的概略说明图。
如图6中表示所述一部分般,在显示单元30上矩阵状地排列着多个像素32而构成规定的像素排列图案。1个像素32是将3个子像素(红色子像素32r、绿色子像素32g及蓝色子像素32b)沿水平方向排列而构成。1个子像素设为垂直方向上为纵长的长方形状,3个子像素32r、子像素32g及子像素32b设为相同或同样的长方形状。像素32的水平方向的排列间距(水平像素间距Ph)与像素32的垂直方向的排列间距(垂直像素间距Pv)大致相同。即,包含1个像素32及包围所述1个像素32的黑矩阵(BM)34(图案材料)的形状(参照由影线而表示的区域36)为正方形。而且,1个像素32的纵横比不为1,而为水平方向(横向)的长度>垂直方向(纵向)的长度。
另外,图示例中,1个子像素(32r、32g、32b)的形状为长方形状,但本发明并不限定于此,例如,也可为图8(A)所示的在端部具有凹口的长方形状,还可如图8(C)所示为以规定角度弯曲或折弯的纵长的带状,或者可为弯曲的纵长的带状,而且也可在端部具有凹口,所述凹口的形状还可为任何形状,例如,也可为如图9(A)~图9(H)所示的各种形状,只要为现有公知的像素形状,则可为任何形状。而且,1个像素32的子像素32r、子像素32g、子像素32b的形状可为相同形状,也可针对每个子像素而不同。
而且,像素间距(水平像素间距Ph及垂直像素间距Pv)也只要为与显示单元30的分辨率相应的间距,则可为任何间距,例如,可提高84μm~264μm的范围内的间距。
如根据图6可知,包含多个像素32的各自的子像素32r、子像素32g及子像素32b的像素排列图案,由分别包围这些子像素32r、子像素32g及子像素32b的BM34的BM图案38而规定,在将显示单元30与导电性膜10重叠时产生的云纹,因显示单元30的BM34的BM图案38与导电性膜10的合成配线图案(配线图案24a及配线图案24b)的干涉而产生,故严格来说,BM图案38为像素排列图案的反转图案,但此处,作为表示同样的图案来进行处理。
当在具有包含所述BM34的BM图案38的显示单元30的显示面板上,例如配置导电性膜10时,导电性膜10的配线图案24相对于BM(像素排列)图案38而云纹可见性方面得以最佳化,因而像素32的排列周期与导电性膜10的金属细线14的配线排列之间的空间频率的干涉几乎消除,从而抑制云纹的产生。
另外,图6所示的显示单元30也可包含液晶面板、等离子体面板、有机EL面板、无机EL面板等显示面板。
接下来,一边参照图7一边对装入了本发明的导电性膜的显示装置进行说明。图7中,作为显示装置40,列举装入了本实施形态的导电性膜10的投影型静电电容方式的触摸屏为代表例而进行说明,但本发明当然不限定于此。
如图7所示,显示装置40包括:可显示彩色图像及/或单色图像的显示单元30(参照图6),对来自输入面42(箭头Z1方向侧)的接触位置进行检测的触摸屏44,以及收容显示单元30及触摸屏44的框体46。经由设置于框体46的一面(箭头Z1方向侧)的大的开口部,用户可对触摸屏44进行访问。
触摸屏44除所述导电性膜10(参照图1)外,还包括:层叠于导电性膜10的一面(箭头Z1方向侧)的盖构件48,经由缆线50而与导电性膜10电性连接的可挠性基板52,以及配置于可挠性基板52上的检测控制部54。
在显示单元30的一面(箭头Z1方向侧)上,经由粘接层56而与导电性膜10粘接。导电性膜10使另一主面侧(第2导电部16b侧)与显示单元30相向而配置于显示画面上。
盖构件48通过包覆导电性膜10的一面,而发挥作为输入面42的功能。而且,通过防止接触体58(例如手指或触控笔(stylus pen))的直接接触,而可抑制擦伤的产生或灰尘的附着等,从而可使导电性膜10的导电性稳定。
盖构件48的材质例如也可为玻璃、树脂膜。也可在利用氧化硅等涂布盖构件48的一面(箭头Z2方向侧)的状态下,密接于导电性膜10的一面(箭头Z1方向侧)。而且,为了防止刮擦等导致的损伤,也可使导电性膜10及盖构件48贴合而构成。
可挠性基板52为具备可挠性的电子基板。本图示例中,固定于框体46的侧面内壁,但配设位置也可进行各种变更。检测控制部54在将作为导体的接触体58接触(或接近)于输入面42时,捕捉接触体58与导电性膜10之间的静电电容的变化,而构成检测其接触位置(或接近位置)的电子电路。
应用本发明的导电性膜的显示装置基本如以上般而构成。
接下来,本发明中,对显示装置的导电性膜的配线图案的组合(合成配线图案)相对于规定的BM图案的云纹可见性及最佳化的程序进行说明。即,对如下程序进行说明,所述程序是在本发明的导电性膜中,对相对于显示装置的规定的BM图案而以云纹不会被人类的视觉所察觉到的方式得到最佳化的合成配线图案(配线图案的组合)进行评价而决定的程序。
图10是表示本发明的导电性膜的评价方法的一例的流程图。
本发明的导电性膜的配线图案的评价方法为如下:自BM图案与导电性膜的合成配线图案的合成图案的2维傅立叶空间内的全部多个频谱(具有频率、强度)中,去除BM图案的2维傅立叶空间内的全部多个频谱(具有频率、强度)及合成排列图案的2维傅立叶空间内的多个全部频谱(具有频率、强度),仅抽出由BM图案与合成配线图案的干涉而产生的云纹及噪声的多个频谱,并求出所抽出的全部多个频谱的合计值,根据所述合计值而算出云纹及噪声的抽出定量值,将形成所算出的定量值为规定范围内的合成配线图案的频散不同的2种配线图案的组合,评价并决定为以不会看见云纹的方式得到最佳化的2种配线图案的组合,所述BM图案与导电性膜的合成配线图案的合成图案的2维傅立叶空间内的全部多个频谱是通过频率分析所得,所述频率分析中使用了显示装置的显示单元的BM(像素排列)图案与导电性膜的频散不同的2种配线图案的组合(合成配线图案)的高速傅立叶变换(FFT)。
另外,图7所示的构成的显示装置40的使用由金属网孔形成的导电性膜10的触摸屏44中,最终到达观察者的眼睛的光由来自BM34的放射光与导电性膜10的透过率的累计而表示。因此,等价于在频率空间(傅立叶空间)上,进行卷积积分。因此,所述本发明法中,为了抽出云纹及噪声的频谱(频率/强度)而一般利用FFT,但根据利用方法的不同,对象物的频谱(频率/强度)会大幅发生变化,因而规定以下的程序。
本发明法中,首先,作为程序1,进行BM图案及2种配线图案的各图像(透过率图像数据:0-1)的制作。即,如图10所示,步骤S10中,制作并获取图7所示的显示装置40的显示单元30的BM图案38(BM34)(参照图11(A))的透过率图像数据、导电性膜10的配线图案24a及配线图案24b(金属细线14)(参照图11(B)及图11(C))的透过率图像数据。另外,在预先准备或存储BM图案38的透过率图像数据与配线图案24a及配线图案24b的各透过率图像数据的情况下,也可自所准备或存储的数据中获取。
显示单元30的BM图案38例如如图6、图8(A)及图8(C)所示,可设为每1像素32包含RGB这3种颜色的子像素32r、子像素32g及子像素32b的图案,但当利用单色,例如如图11(A)、图8(B)及图8(D)所示,仅利用G通道的子像素32g时,R通道及B通道的透过率图像数据优选设为0。本发明中,作为BM34的图像数据,即BM图案38的透过率图像数据,如图6及图11(A)所示,不限定于单纯的矩形状,只要为可使用的BM图案则也可不具有BM34的长方形的开口,还可指定并使用具有任意的BM开口的BM图案。例如,BM图案38如所述般,不限定于图6及图11(A)所示的单纯的矩形状,也可如图8(A)及图8(B)所示,为具有BM34的大致长方形(具有切口)的开口(子像素32r、子像素32g及子像素32b),或如图8(C)及图8(D)所示,为每1像素32具有以规定角度弯曲的带状的开口且包含RGB这3种颜色的子像素32r、子像素32g及子像素32b的图案,还可为具有弯曲的带状开口或具有钩状开口。
另一方面,导电性膜10的频散不同的2种配线图案内的规则性相对高的配线图案24a,例如如图2及图11(B)所示,可形成成为配线的金属细线14相对于水平线以规定角度,例如小于45°[deg]的角度倾斜的菱形图案,当然也可如所述般,配线图案24a的开口部22a的形状为任一形状,例如,也可为如图4(A)及图4(B)所示的正方形(正方格子)或正六边形,正方格子也可为倾斜45°[deg]的正方格子。
另一方面,导电性膜10的频散不同的2种配线图案内的规则性相对低的配线图案24b,例如如图3及图11(C)所示,可形成为包含不同形状的开口部22b的排列的无规图案,但当然也可如所述般,配线图案24b的开口部22b的形状为任一形状,例如,也可为如图5(A)及图5(B)所示的无规形状。
另外,此处,在制作BM图案38的透过率图像数据时,将其分辨率例如设为高分辨率即12700dpi,对透过率图像数据的尺寸加以规定,例如将像素尺寸设为9944(像素)×9944(226×44(重复数))(像素)。此处,图像数据的尺寸例如只要为最接近10000×10000的BM34的图像数据(BM图案38)的尺寸的整数倍便足够。这是因为,当对各自的图像尺寸进行累计时,图像数据为周期性,在进行2DFFT(2维高速傅立叶变换)时,误差为最小。另外,图11(A)所示的显示单元(显示器)30的BM34的子像素32g例如为112dpi,开口部的尺寸例如为28(像素)×77(像素)。
制作出所述BM图案38的透过率图像数据。
继而,制作配线图案24a及配线图案24b的透过率图像数据。准备这些2种图像数据,最终进行两者的累计。配线图案24a及配线图案24b分别为图11(B)及图11(C)所示的网孔图案,其图像分辨率例如与BM图案38的分辨率相同,为12700dpi,像素尺寸例如与BM图案38相同,为9944(像素)×9944(像素)。配线图案24a及配线图案24b的金属细线14的线宽例如为4μm。
图11(B)所示的规则的网孔图案为菱形图案,间距(p:参照图2)表示斜边(p:参照图2),例如为252μm,对角(θ:参照图2)例如为50°[deg]。
图11(C)所示的不规则网孔图案为无规图案,此种无规图案例如利用奥多比(Adobe)公司制造的PS图像处理软件(Photoshop)(注册商标)的染色玻璃(stained glass)功能制作而成。
对如此获得的图11(B)及图11(C)所示的配线图案24a及配线图案24b的透过率图像数据进行累计,而求出图12(A)所示的合成配线图案的各透过率相乘所得的图像数据。
然后,对如此获得的图12(A)所示的2者的合成配线图案的各透过率相乘所得的图像数据与BM图案38的透过率图像数据进行累计,而求出图12(B)所示的3者的合成图案的各透过率相乘所得的图像数据。如此求出的图12(B)所示的合成图案的各透过率相乘所得的图像数据包含含噪声的云纹的空间频率。
接下来,作为程序2,对由程序1制作的各种透过率图像数据,进行2维高速傅立叶变换(2DFFT(基底2))。即,如图10所示,步骤S12中,分别对由步骤S10制作的BM图案38的透过率图像数据、2种配线图案24a及配线图案24b的合成配线图案的各透过率相乘所得的图像数据、以及BM图案38与合成配线图案的合成图案的各透过率相乘所得的图像数据进行2DFFT(基底2)处理,并算出BM图案38的透过率图像数据、2种配线图案24a及配线图案24b的合成配线图案的各透过率相乘所得的图像数据、以及BM图案38与合成配线图案的合成图案的各透过率相乘所得的图像数据的2维傅立叶频谱(傅立叶空间内的多个2DFFT频谱(频率及强度))。
图13(A)中示意性地表示此处获得的合成配线图案的各透过率相乘所得的图像数据的2维傅立叶空间内的频谱的多个频谱峰值及噪声成分。另外,图13(A)中,箭头所指的直线表示作为规则的图案的配线图案24a的基本频率的矢量(vector)方向。此处,图13(A)所示的频谱的多个频谱峰值主要由规则的配线图案24a引起,图13(A)所示的圆内局部存在的噪声成分主要由不规则的配线图案24b引起。
而且,图13(B)中示意性地表示如此获得的BM图案38的透过率图像数据的2维傅立叶空间内的多个频谱的频谱峰值。
此处,如以下般算出并获取BM图案38及合成配线图案的配线图案24a的各频谱峰值的频谱频率及频谱强度。
首先,在获取频谱频率时,在峰值的算出中考虑BM图案38及合成配线图案的配线图案24a即可,根据BM图案38及配线图案24a的基本频率而求出频率峰值。这是因为进行2DFFT处理的透过率图像数据为离散值,因而频谱频率依存于图像尺寸的倒数。频率峰值位置可基于独立的2维基本频率矢量成分而加以组合来表示,当然,如图13(A)及图13(B)所示,所获得的峰值位置为格子状。
此处,所获得的频谱强度优选为以图像面积(图像尺寸)而标准化。所述例中,优选为以4944×4944而标准化(帕塞瓦尔定理(Parseval′s theorem))。
另外,合成配线图案的不规则的配线图案24b的各频谱不易具有特定的峰值,因而如图13(A)所示,作为强度小的噪声成分而分布于uv平面上以原点为中心的规定范围(规定半径的圆)内。
此处,若进行图13(A)中示意性地表示的2种配线图案24a及配线图案24b的合成配线图案的2DFFT频谱、与图13(B)中示意性地表示的BM图案38的2DFFT频谱的卷积积分(卷积(convolution)),则获得由云纹的频谱、合成配线图案的2DFFT频谱及BM图案38的2DFFT频谱混合所得的频谱。
换言之,在由所获得的合成图案的各透过率相乘所得的图像数据的2DFFT而获得的2维傅立叶空间内的多个频谱中,包含云纹的频谱、合成配线图案的2DFFT频谱、及BM图案38的2DFFT频谱。因此,合成图案的2DFFT频谱中也包含含噪声的云纹的多个频谱。
接下来,作为程序3,进行云纹的定量化,并算出含噪声的云纹的抽出定量值。即,如图10所示,步骤S14中,将由步骤S12算出的BM图案38与2种配线图案24a及配线图案24b的合成配线图案的合成图案的各透过率相乘所得的图像数据(参照图12(A))的2DFFT频谱的绝对值,如所述般,以图像尺寸(4944×4944)标准化后,在图像区域内进行合计,从而获取合成图案的2DFFT频谱(绝对值)的合计值。
如此获得的合成图案的2DFFT频谱的合计值中,如所述般,包含云纹的频谱、合成配线图案的2DFFT频谱及BM图案38的2DFFT频谱。
因此,接下来,自合成图案的2DFFT频谱的合计值中去除合成配线图案的2DFFT频谱、及BM图案38的2DFFT频谱,仅抽出包含噪声的云纹的频谱(频率及强度)。另外,此处,也将云纹的频谱强度作为绝对值来进行处理。
仅求出如此抽出的含噪声的云纹(云纹/噪声)的频谱的合计值。
仅求出如此获得的云纹/噪声的频谱的合计值的常用对数值,而获得云纹/噪声抽出定量值(常用对数)。
另外,以后将叙述自合成图案的2DFFT频谱的合计值而仅求出云纹/噪声的频谱的合计值的具体的方法。
且说,实际空间中,对于云纹而言,本来由合成配线图案的配线图案24a与BM图案38的透过率图像数据的乘法运算而产生,因而在频率空间内进行两者的卷积积分(卷积)。然而,步骤S12中,因算出BM图案38及合成配线图案(配线图案24a)的两者的2维傅立叶频谱的峰值频谱(频率及强度),故求出两者各自的频率峰值彼此的差分(差的绝对值),将所求出的差分设为云纹的频率,求出两者的组合的2组矢量强度的乘积,并将所求出的乘积设为云纹的强度(绝对值),由此可求出云纹的频谱。
此处,图13(A)及图13(B)中分别表示的合成配线图案(配线图案24a)及BM图案38这两者的2维傅立叶频谱的强度特性的各自的频率峰值彼此的差分,在将两者的2维傅立叶频谱的强度特性重合所获得的强度特性中,相当于两者的各自的频率峰值的频率座标上的峰值位置间的相对距离。
另外,合成配线图案(配线图案24a)及BM图案38这两者的2维傅立叶频谱的频谱峰值分别如图13(A)及图13(B)所示,因分别存在多个,故也求出多个作为其相对距离的值的频率峰值彼此的差分,即云纹的频率。因此,若两者2维傅立叶频谱的频谱峰值存在多个,则所求出的云纹的频率也为许多个,所求出的云纹的强度也为许多个。
此处,为了自合成图案的2DFFT频谱的合计值而仅求出云纹/噪声的频谱的合计值,而需要去除BM图案38的2DFFT频谱的峰值(参照图13(B))及合成配线图案、尤其作为规则的网孔图案的配线图案24a的2DFFT频谱的峰值(参照图13(A))。
首先,可如以下般来去除BM图案38的2DFFT频谱的峰值。
此处,显示装置中,因已决定显示器分辨率,故显示器可显示的最高的空间频率(基本频率)相对于所述分辨率而决定。因此,具有高于所述最高的空间频率的频率的云纹,不会由所述显示器显示,因而不需要作为本发明的评价对象。因而,可对应于显示器分辨率来规定云纹的最高频率。
即,如图14所示,表示在算出包含云纹的频谱和时,可仅求出比BM图案38的空间频率低的频谱的和。据此,包含云纹的频谱的合计值中不再包含BM图案38的频谱峰值。这表示,利用BM图案38的像素遮蔽效果,可将云纹可见性定量化时所需的云纹的频率限定为像素尺寸以下。
根据以上,可求出包含云纹的频谱的合计值(BM图案峰值去除合计值),所述云纹已自合成图案的2DFFT频谱的合计值中去除了BM图案38的2DFFT频谱的峰值。
另外,本发明中应考虑的云纹的最高频率,在将显示器的BM图案38的像素间距例如设为p(μm)时,可设为1000/(2p)。如此,本发明中,在根据两者2维傅立叶频谱的频谱峰值而求出的云纹的频率及强度中,作为本发明的评价对象的云纹,可设为云纹的频率具有如下频率的云纹,所述频率为根据显示器分辨率而规定的云纹的最高频率1000/(2p)以下。
接下来,可如以下般自合成图案的2DFFT频谱的合计值中去除合成配线图案(配线图案24a)的2DFFT频谱的峰值。
合成图案的2DFFT频谱中所包含的合成配线图案(配线图案24a)的频谱的峰值,由图13(A)所示的合成配线图案的频谱、与图13(B)中的由(a)所示的BM图案38的频谱的中心值(uv座标的原点的值(平均值))的卷积积分(卷积)表示。因此,合成配线图案的频谱峰值的频谱强度成为各个合成配线图案的频谱峰值、与图13(B)中的由(a)所示的BM图案38的频谱的中心值的累计合计值。另外,所述合成配线图案的累计合计值为合成配线图案的2DFFT频谱内的BM图案的基本频率以下的累计合计值。
因此,自图12所示的合成图案的各透过率相乘所得的图像数据的2DFFT频谱的合计值除以所述累计合计值即可。
因此,若自所述的BM图案峰值去除合计值除以所述累计合计值,则可仅求出云纹/噪声的频谱的合计值。
另外,关于来自合成图案的2DFFT频谱的合计值的、所述BM图案38的2DFFT频谱的峰值的去除及合成配线图案(配线图案24a)的2DFFT频谱的峰值的去除,任一者可先进行。
求出如所述般仅求出的云纹/噪声的频谱的合计值的常用对数值,而可获得云纹/噪声抽出定量值(常用对数)。
接下来,作为程序4,基于云纹的定量值进行配线图案的评价。
如图10所示,步骤S16中,若由步骤S14获得的云纹/噪声抽出定量值(常用对数)(云纹的定量值)为规定范围内,则将所述合成配线图案,即配线图案24a及配线图案24b的组合评价为本发明的导电性膜10的经最佳化的配线图案24a及配线图案24b的组合,且设定为经最佳化的配线图案24a及配线图案24b的组合,从而评价为本发明的导电性膜10。
另外,将云纹的定量值限定于规定范围内的理由在于:若超出规定范围,则由2种频散不同的配线图案内的一个的规则性相对高的网孔图案与BM图案的干涉而产生的云纹,即便在所述2种频散不同的配线图案内的另一个的规则性相对低的网孔图案所引起的噪声的遮蔽效果下也会被看见,从而被看见的云纹会引起目视的用户的察觉,或者规则性相对低的网孔图案所引起的噪声变得明显,而引起目视的用户的察觉。使云纹的定量值为规定范围内,是为了即便观察距离发生变化或产生云纹,也可利用噪声的遮蔽效果而使其基本上不会察觉到。
此处,规定范围为根据导电性膜及显示装置的性状,具体而言,根据2个导电部16(16a、16b)的配线图案24a及配线图案24b的金属细线14的线宽,开口部22(22a、22b)的形状、其尺寸(间距等)或角度等,以及BM图案38的形状、其尺寸(间距等)或配置角度等而适当设定,例如,在将云纹的定量值设为E时,优选为以常用对数计为E<-2.150(以真数计为10-2.150),更优选为以常用对数计为E<-2.20425(以真数计为10-2.20425)。
另外,详情将于以后进行叙述,关于配线图案24a及配线图案24b的许多个组合,利用模拟(simulation)样本及实际样本而求出云纹的评价指标,3名研究员利用目视对由配线图案24a及配线图案24b与BM图案38的干涉而产生的云纹进行官能评价后,若云纹的定量值E以常用对数计为E<-2.150,则利用规则性低的配线图案(24b)所引起的噪声来对由规则性高的配线图案(24a)与BM图案(38)的干涉而产生的云纹进行遮蔽,从而不易被看见,且为几乎不会察觉的水平以上,若以常用对数计为E<-2.20425,则也具有噪声的遮蔽效果,且为完全不会察觉的水平。
因此,本发明中,优选为将云纹的定量值E以常用对数计而特别规定为E<-2.150,更优选为特别规定为E<-2.20425。
这样,本发明的导电性膜的配线评价方法结束,可制作本发明的导电性膜,所述导电性膜即便重叠于显示装置的显示单元的BM图案上也可抑制云纹的产生,且具有相对于不同分辨率的显示装置,与观察距离无关而云纹的可见性均优异且经最佳化的2种规则性不同的配线图案。
接下来,对本发明的第2实施形态的导电性膜及触摸屏进行说明。另外,此处,表示数值范围的“~”用作包含其前后记载的数值作为下限值及上限值的含义。而且,本发明的第2实施形态中,当然可应用本发明的第1实施形态的应用事项,相反,本发明的第1实施形态中,当然也可应用本发明的第2实施形态的应用事项。
图17是具备本发明的第2实施形态的导电性膜的本发明的触摸屏200的主要部分分解立体图。所述触摸屏200包括传感器本体202、及未图示的控制电路(集成(integratedcircuit,IC)电路等)。
传感器本体202包括:第1片材体110A与第2片材体110B自下方起依此顺序层叠而构成的层叠导电性膜(导电性膜)112,及层叠于第2片材体110B上的保护层206。即,传感器本体202中,自下方起层叠着第1片材体110A、第2片材体110B、保护层206。
传感器本体202(层叠导电性膜112及保护层206)例如配置于液晶显示器等显示装置208的显示面板210上。传感器本体202在自上表面观看时,包括配置于与显示面板210的显示画面210a相对应的区域的触摸位置的传感器部212,及配置于与显示面板210的外周部分相对应的区域的端子配线部214(所谓的边框)。
此处,参照将主要部分放大的图18及图19对层叠导电性膜112进行说明。
第1片材体110A包括作为第1导电部(第1电极)116A的第1导电图案118A,所述第1导电图案118A形成于作为绝缘层的第1透明基体114A的一主面上。第2片材体110B也同样地,包括形成于绝缘性的第2透明基体114B的一主面上的第2导电图案118B(第2导电部(第2电极)116B)。
第1透明基体114A及第2透明基体114B的厚度优选为20μm~350μm以下,更优选为30μm~250μm,尤其优选为40μm~200μm。
作为第1透明基体114A及第2透明基体114B,可列举塑料膜、塑料板、玻璃板等。
作为所述塑料膜及塑料板的原料,例如可使用聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(Polyethylene naphthalate,PEN)等聚酯类;聚乙烯(polyethylene,PE)、聚丙烯(polypropylene,PP)、聚苯乙烯、聚乙烯-醋酸乙烯酯(polyEthylene VinylAcetate,EVA)等聚烯烃类;乙烯系树脂;以及聚碳酸酯(polycarbonate,PC)、聚酰胺、聚酰亚胺、丙烯酸系树脂、三乙酰纤维素(Triacetyl Cellulose,TAC)、环烯烃聚合物(Cycloolefin Polymer,COP)等。
作为第1透明基体114A及第2透明基体114B,优选为PET(熔点:258℃)、PEN(熔点:269℃)、PE(熔点:135℃)、PP(熔点:163℃)、聚苯乙烯(熔点:230℃)、聚氯乙烯(熔点:180℃)、聚偏二氯乙烯(熔点:212℃)或TAC(熔点:290℃)等熔点约为290℃以下的塑料膜或塑料板,自光透过性或加工性等的观点而言,尤其优选为PET。如用于层叠导电性膜112的第1片材体110A及第2片材体110B般的导电性膜要求透明性,因而优选为第1透明基体114A及第2透明基体114B的透明度高。
在本实施形态的情况下,第1导电图案118A如图18所示,具有分别沿第1方向(x方向/长边方向)延伸的多个带状的图案。第1导电图案118A具有朝向第2方向(与第1方向正交的方向:v方向)的规定的宽度方向尺寸(电极宽度W1),并且多个第1导电图案118A沿所述v方向并列配置。
各第1导电图案118A通过细线120(线材)彼此交叉而形成,所述细线120包含银、铜、钼、含这些中的1种以上的合金、或导电性纤维等。伴随所述交叉,形成着多个由细线120包围的空间(开口部),即,网眼122A。
多个网眼122A的形状如图20所示彼此不同,且规则性(统一性)低。换言之,由细线120形成的第1导电图案118A的网孔图案为无规的。例如,网眼122a、网眼122f为梯形形状,网眼122b、网眼122e为八边形形状。而且,网眼122d呈因网眼122b、网眼122f进入角部弯曲的长方形而折曲的形状。此处,第1导电图案118A的无规网孔图案宜为2DFFT频谱的标准偏差小于-5.0。
将网眼122A的又一例表示于图21中。所述情况下,由影线表示的网眼122A由以直线连结顶点C1及顶点C2的细线120p、以直线连结顶点C2及顶点C3的细线120q、以直线连结顶点C3及顶点C4的细线120r、及以直线连结顶点C4及顶点C1的细线120s而形成,且呈多边形形状。与其他网眼(网眼122A)也同样地,呈多边形形状。
在图20或图21所示的任一例中,细线120的宽度方向尺寸(线宽)未作特别限定,例如可设定为10μm以下,但优选为5μm以下。网眼122A的形状为无规的情况与细线120的线宽如此小的情况相互发挥着作用,从而云纹及噪声颗粒感得到改善而可见性变得良好。线宽更优选设为3μm以下。另外,为了确保触摸屏200的检测感度,细线120的线宽优选为1μm以上。
根据以上,形成无规图案的网眼的线宽优选为1μm~5μm。由此,减轻噪声颗粒感并且透过率提高。
进而,邻接的网眼122A彼此的间隔,即,平均网眼间距(邻接网眼的重心间距离)优选为100μm~500μm的范围内。此处,无规图案的平均网眼间距可作为内部包含1个网眼122A的最小的圆的直径而求出。
通过将平均网眼间距设定于所述范围内,而可提高透过率。另外,平均网眼间距更优选为100μm~300μm的范围内。由此,可进一步有助于透过率的提高。如图18所示,各第1导电图案118A的一端部经由第1接线部140a而与由细线120形成的第1端子配线图案142a电性连接。
另一方面,形成于构成第2片材体110B的第2透明基体114B(参照图19)的一主面上的第2导电图案118B如图18所示,具有分别沿第2方向(v方向)延伸的多个带状图案。这些多个第2导电图案118B沿第1方向(x方向)排列。即,层叠导电性膜112中,如图19所示,经由绝缘性的第2透明基体114B而第1导电图案118A与第2导电图案118B相向。
另外,第2导电图案118B的朝x方向的宽度方向尺寸(电极宽度W2)优选为设定得比第1导电图案118A的电极宽度W1小,但也可使电极宽度W1与电极宽度W2同等。
各第2导电图案118B也与第1导电图案118A同样地,通过细线120彼此交叉而形成。伴随所述交叉,形成由细线120包围的空间(开口部),即,网眼122B。
所述情况下,网眼122B如图22所示,优选成为4边的长度相等且具有2个钝角与2个锐角的菱形形状。当然,处于对角关系的钝角的交叉角度α为超过90°的相同角度,锐角的交叉角度β为小于90°的相同角度。
作为锐角的交叉角度β优选为70°以下。所述情况下,对于减少云纹而言有效。然而,在β过小的情况下也容易产生云纹。为了避免此问题,β优选为设为30°~70°的范围内,更优选为设为45°~70°的范围内。
网眼122B并不限定于图22所例示的横长的菱形,当然也可为纵长的菱形。
网眼122B中,细线120的优选的宽度方向尺寸(线宽)WL为4μm以下,更优选为2μm以下。由此,改善由细线120形成的导电图案的云纹及银细线视觉性,从而可见性变得良好(即,不易看见细线120)。另外,为了确保触摸屏200的检测感度,细线120的宽度方向尺寸WL优选为1μm以上。
根据以上,优选为形成定型的图案的网眼的线宽为1μm~5μm。由此,改善云纹及电极的视觉性,从而可见性变得良好。而且也确保检测感度。
进而,邻接的网眼122B彼此的间隔,即,网眼间距(邻接网眼的重心间距离)优选为300μm以下。所述情况下,对于减少云纹及银细线视觉性而言也有效。
此处,第2导电图案118B的定型的图案中,2DFFT频谱的标准偏差宜为-5.0以上。
如图18所示,各第2导电图案118B的一端部经由第2接线部140b而与由细线120形成的第2端子配线图案142b电性连接。
应用于触摸屏200的第1片材体110A如图18所示,在与传感器部212对应的部分排列着所述许多个第1导电图案118A,在端子配线部214上排列着自各第1接线部140a导出的由细线120而形成的多个第1端子配线图案142a。
图17的例中,在端子配线部214中的第1片材体110A的一长边侧的周缘部,在其长度方向中央部分,多个第1端子216a沿所述一长边的长度方向排列形成。而且,沿着传感器部212的一短边(离第1片材体110A的一短边最近的短边:v方向)直线状地排列着多个第1接线部140a(例如第奇数个第1接线部140a),沿着传感器部212的另一短边(离第1片材体110A的另一短边最近的短边:v方向)直线状地排列着多个第1接线部140a(例如第偶数个第1接线部140a)。
多个第1导电图案118A中的例如第奇数个第1导电图案118A,与各自对应的第奇数个第1接线部140a连接,第偶数个第1导电图案118A与各自对应的第偶数个第1接线部140a连接。自第奇数个第1接线部140a中导出的第1端子配线图案142a以及自第偶数个第1接线部140a中导出的第1端子配线图案142a,朝向第1片材体110A的一长边的大致中央部引绕,且与各自对应的第1端子216a电性连接。因此,例如第1个与第2个第1端子配线图案142a以大致相同的长度而引绕,以下同样地,第2n-1个与第2n个第1端子配线图案142a分别以大致相同的长度引绕。如此,通过在第1片材体110A的一长边的长度方向中央部分形成第1端子216a,而可与所述同样地抑制局部的信号传递的延迟。这将有助于响应速度的高速化。
另一方面,第2片材体110B的外形自上表面观察具有长方形状,传感器部212的外形也具有长方形状。在端子配线部214中的第2片材体110B的一长边侧的周缘部,在其长度方向中央部分,多个第2端子216b沿所述一长边的长度方向排列形成。而且,沿着传感器部212的一长边(离第2片材体110B的一长边最近的长边:x方向)直线状地排列着多个第2接线部140b。自各第2接线部140b导出的第2端子配线图案142b朝向第2片材体110B的一长边的大致中央部引绕,且与各自对应的第2端子216b电性连接。
因此,连接于与传感器部212的一长边的两侧对应的各第2接线部140b的第2端子配线图案142b,以大致相同的长度引绕。由此,可抑制局部的信号传递的延迟。这也有助于响应速度的高速化。
另外,可使第1端子配线图案142a的导出形态与所述第2端子配线图案142b相同,相反地,也可使第2端子配线图案142b的导出形态与所述第1端子配线图案142a相同。
层叠导电性膜112如图19所示,在第1片材体110A层叠第2片材体110B而构成。此时,在第1片材体110A的上端面(即,第1导电图案118A及第1透明基体114A上)与第2片材体110B的下端面之间,配置着作为粘着片材而贴附的粘着剂(也指OCA(Optical ClearAdhesive,光学透明胶))130。如此形成的层叠导电性膜112中,将第1导电图案118A与第2导电图案118B重合的部位(重叠的部分)的一例作为平面图而表示于图23中。
在将所述层叠导电性膜112用作触摸屏200的情况下,在第2片材体110B上形成保护层206。另外,在第2片材体110B的上端面与保护层206的下端面之间,也配置着作为粘着片材的粘着剂(OCA)130。而且,将自第1片材体110A的许多个第1导电图案118A导出的第1端子配线图案142a、与自第2片材体110B的许多个第2导电图案118B导出的第2端子配线图案142b,例如连接于控制扫描的控制电路。
作为触摸位置的检测方式,优选为采用自电容方式或相互电容方式。即,若为自电容方式,则对第1导电图案118A依序供给用于触摸位置检测的电压信号,对第2导电图案118B依序供给用于触摸位置检测的电压信号。指尖与保护层206的上表面接触或接近,由此与触摸位置相向的第1导电图案118A及第2导电图案118B与GND(接地)间的电容增加,因而来自所述第1导电图案118A及第2导电图案118B的传递信号的波形成为与来自其他导电图案的传递信号的波形不同的波形。因此,控制电路中,基于由第1导电图案118A及第2导电图案118B供给的传递信号来运算触摸位置。
另一方面,在为相互电容方式的情况下,对例如第1导电图案118A依序供给用于触摸位置检测的电压信号,对第2导电图案118B依序进行感测(传递信号的检测)。通过指尖与保护层206的上表面接触或接近,而对与触摸位置相向的第1导电图案118A和第2导电图案118B间的寄生电容并列施加手指的杂散电容(stray capacitance),因而来自所述第2导电图案118B的传递信号的波形成为与来自其他第2导电图案118B的传递信号的波形不同的波形。因此,控制电路中,基于供给电压信号的第1导电图案118A的顺序与来自所供给的第2导电图案118的传递信号而运算触摸位置。
通过采用此种自电容方式或相互电容方式的触摸位置的检测方法,即便同时使2个指尖接触或接近保护层206的上表面,也可检测各触摸位置。另外,作为关于投影型静电电容方式的检测电路的现有技术文献,有美国专利第4,582,955号说明书、美国专利第4,686,332号说明书、美国专利第4,733,222号说明书、美国专利第5,374,787号说明书、美国专利第5,543,588号说明书、美国专利第7,030,860号说明书、美国专利申请公开第2004/0155871号说明书等。
第1导电图案118A及第2导电图案118B为了获得线宽窄的图案,优选为可利用微触(microcontact)印刷图案化法或银盐法来形成。为了反复获得大量的无规图案,不使用消耗的印模(stamp)的银盐法更优选。
微触印刷图案化法是利用微触印刷法而获得线宽窄的图案的方法。此处,微触印刷法为如下方法,即,使用具有弹性的聚二甲基硅氧烷的印模,将硫醇溶液作为油墨而与金属基材接触并制作单分子膜的图案(参照怀特塞兹(Whitesides)著,《德国应用化学(Angew.Chem.Iht.Ed.)》,1998年第37卷第550页)。
微触印刷图案化法的代表性的工艺例如为以下所示。即,首先,对基材涂布金属(例如,将银溅镀涂布于PET基材上)。
接下来,使用微触印刷法将单分子膜的遮蔽(masking)冲压(stamping)至涂布着金属的基材。然后,去除遮蔽下的图案,利用蚀刻而将涂布于基材的金属去除。
根据以上,其具体操作等在日本专利特表2012-519329号公报的段落[0104]中进行详细叙述。
另一方面,银盐法通过对具有含感光性银盐的层的感光材料进行曝光·显影,而获得成为网孔状的细线120的图案。其具体的操作等在日本专利特开2009-4348号公报的段落[0163]~[0241]中进行详细叙述。
将如此获得的触摸屏200的特性,连同第1导电图案及第2导电图案的双方为定型的图案(菱形形状)的触摸屏A、第1导电图案及第2导电图案的双方为无规图案的触摸屏B的特性一并表示于表1中。根据所述表1可知,比起触摸屏A,触摸屏200的云纹减少且可见性优异,并且比起触摸屏B,云纹及噪声颗粒感减轻且透过率良好。
即,将第1导电图案118A设为无规图案,另一方面,将第2导电图案118B设为定型的图案,由此可获得各特性良好的触摸屏200。
而且,在使用本发明,来对具有分别配置于两主面的第1导电部(电极)及第2导电部(电极)的导电性膜的导电部进行设计时,尤其可将配置于第1导电部及第2导电部的配线图案如与无规图案及定型的图案的混合图案般,设为包含规则性的频散不同的网孔图案的混合网孔图案,因而可容易进行配线图案的设计。
[表1]
本发明并不特别限定于所述实施形态,在不脱离本发明的主旨的范围内可进行各种变更。
例如,所述实施形态中,将下方的第1导电图案118A设为无规图案,上方的第2导电图案118B设为定型的图案,相反地,也可将下方的第1导电图案118A设为定型的图案,将上方的第2导电图案118B设为无规图案。
进而,层叠导电性膜112并不限定于在第1透明基体114A的一主面形成第1导电图案118A,在第2透明基体114B的一主面形成第2导电图案118B而层叠(参照图18及图19)。即,如图24所示,也可为在第1透明基体114A的一主面形成第1导电图案118A,且在所述第1透明基体114A的另一主面形成第2导电图案118B。所述情况下,成为如下形态,即,不存在第2透明基体114B,在第1导电图案118A上层叠第1透明基体114A,在第1透明基体114A上层叠第2导电图案118B。
进而,第1导电图案118A与第2导电图案118B也可形成于第1透明基体114A的同一主面上。所述情况下,第1导电图案118A与第2导电图案118B成为经由空间或虚设图案等绝缘部而相互绝缘的形态。
而且,网眼122B(或网眼122A)不限定于菱形形状,例如也可为平行四边形(除菱形外)、多边形、包含圆弧的形状。
任一情况下,层叠导电性膜112的用途并不特别限定于触摸屏200的传感器本体202,可用于无机EL元件、有机EL元件、或者太阳电池等各种电极。进而,除电极以外,还可应用于通过流动电流而发热的透明发热体(例如车辆的除霜装置)、阻断电磁波的电磁波屏蔽材。
实施例
以下,基于实施例对本发明进行具体说明。
另外,以下的实施例所示的材料、使用量、比例、处理内容、处理程序等只要不脱离本发明的主旨则可进行适当变更。即,本发明的范围不应限定性地被解释为以下所示的具体例。
(第1实施例)
关于具有合成配线图案的本发明的第1实施形态的导电性膜10,其中所述合成配线图案是相对于图11(A)所示的BM图案38,而将图16(A)所示的不规则图案设为配线图案24b且将图16(C)所示的规则的图案设为配线图案24a的组合,使配线图案24a及配线图案24b的组合改为图案的规则性不同的各种组合,在模拟样本及实际样本中,将配线图案24a及配线图案24b的组合与BM图案38进行重叠,求出云纹的定量值,并且3名研究员利用目视来对因重叠的两者的干涉而产生的云纹进行官能评价。
此处,官能评价结果以○(1)、△(2)、×(3)这3个阶段来进行,在评价为所有人均未察觉到的情况下,作为“未察觉到”的评价,而评价为○(1),在评价为所有人几乎未察觉到的情况下或评价为至少一名研究员未察觉到且评价为剩余研究员几乎未察觉到的情况下,作为“几乎未察觉到”的评价而评价为△(2),在评价为即便有1名研究员看见并察觉到云纹的情况下,作为“察觉到”的评价,而评价为×(3)。
本实施例中使用的BM图案38为图11(A)所示的矩形状图案,其分辨率为12700dpi,图像尺寸为9944(像素)×9944(像素),G滤波器的子像素32g为112dpi,其形状为矩形(长方形),其尺寸为28(像素)×77(像素)。
被用作配线图案24a的规则图案在表2中作为规则参数25、规则参数27、规则参数30及规则参数45而表示,规则参数25如图16(C)所示,为间距(p)252μm、对角(θ)25°[deg]的定型的菱形图案。
表2中作为规则参数25(0.0284)、规则参数27(0.018622)、规则参数30(0.014924)及规则参数45(0.008493)而表示的规则图案,也如图15所示,频谱的标准偏差均为-5(-5.000)以上。
被用作配线图案24b的不规则图案在表2中作为不规则参数40(0.017093)、不规则参数42(0.015673)、不规则参数44(0.01072)及不规则参数46(0.006503)而表示,不规则参数40及不规则参数44分别为图16(A)及图16(B)所示的无规图案。
表2中作为不规则参数40、不规则参数42、不规则参数44及不规则参数46而表示的不规则图案也如图15所示,频谱的标准偏差均小于-5(-5.000)。
而且,配线图案24a及配线图案24b的金属细线14的线宽为4μm。
表2中,分别对不规则参数40、不规则参数42、不规则参数44及不规则参数46的不规则图案,分别将规则参数25、规则参数27、规则参数30及规则参数45的规则图案进行组合,从而对合计16个的组合求出重叠于BM图案38时的云纹的定量值,而且,可利用目视进行评价。
将其结果表示于表2中。
[表2]
根据所述表2可知,在BM图案与规则性不同的2种配线图案的组合中,若云纹的定量值E以常用对数计为E<-2.150的范围内,则即便看见由重叠的配线图案(24a)与BM图案(38)的干涉而产生的云纹,在噪声的遮蔽效果下也为几乎不会察觉到的水平(△(2))以上,若在以常用对数计为E<-2.20425的范围内,则也具有噪声的遮蔽效果,且为完全未察觉到的水平(○(1))。
根据以上可知,具有所述云纹定量值满足所述范围的规则性不同的2种配线图案的本发明的导电性膜,即便显示器的分辨率不同,也可与观察距离无关地抑制云纹的产生,即便为原理上无法避免的云纹,也可利用噪声的遮蔽效果而改善其可见性,从而可大幅提高可见性。
根据以上可知本发明的效果。
另外,本发明中,如所述实施例般,预先准备各种图案形状的配线图案的组合,可决定具有利用本发明的评价方法而最佳化的配线图案的组合的导电性膜,但在配线图案的1个组合的云纹的定量值为规定范围外的情况下,将配线图案的组合的至少一个配线图案的透过率图像数据更新为新的配线图案的透过率图像数据,使应用所述本发明的评价方法而求出云纹的定量值重复进行,从而可决定具有经最佳化的配线图案的组合的导电性膜。
此处,被更新的新的配线图案可为预先准备,也可为新制作。另外,在新制作的情况下,可为规则的配线图案,也可为不规则的配线图案,可使其透过率图像数据的旋转角度、间距、图案宽度中的任一个以上发生变化,还可变更配线图案的开口部的形状或尺寸。进而,在为不规则的配线图案的情况下,不仅开口部的形状或尺寸具有无规性,也可使开口部(网眼)的重复图案具有无规性。
(第2实施例)
(卤化银感光材料)
制备如下乳剂,所述乳剂在水介质中,相对于150g的银(Ag)而包含10.0g的明胶,且含有球相当径(sphere-equivalent diameter)平均值为0.1μm的碘溴氯化银粒子(I=0.2摩尔%,Br=40摩尔%)。
对所述乳剂中添加K3Rh2Br9及K2IrCl6使得浓度为10-7(摩尔/摩尔银),将Rh离子与Ir离子掺杂至溴化银粒子。向所述乳剂中添加Na2PdCl4,进而使用氯金酸与硫代硫酸钠来进行金硫增感后,以使银的涂布量达到10g/m2的方式,与明胶硬膜剂一并涂布至基体(此处均为聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET))上。此时,将Ag/明胶体积比设为2/1。
在宽度为30cm的PET支持体上以宽度25cm进行20m的涂布,以残留24cm的涂布的中央部的方式来将两端分别截去3cm,获得卷状的卤化银感光材料。
(曝光)
关于曝光的图案,制作后述电极图案1~电极图案4的图案的光掩模,经由所述光掩模使用将高压水银灯作为光源的平行光来进行曝光。
(显影处理)
·1L显影液的配方
使用富士胶片株式会社制造的自动显影机FG-710PTS,在如下的处理条件下,对使用所述处理剂进行曝光的感光材料进行处理,即,在35℃进行30秒的显影,在34℃进行23秒的定影,在5L/min的流水中进行20秒的水洗。
另外,电极图案1~电极图案4为如下所述。
电极图案1:各网眼为一边的长度为0.4mm、角度为60°、线宽为5.0μm的菱形。
电极图案2:各网眼为一边的长度为0.4mm、角度为60°、线宽为2.0μm的菱形。
在电极图案1、电极图案2的情况下,以各网眼(菱形)不重叠的方式排列。
电极图案3:各网眼包含形状无规的多边形,在将内部包含各种多边形的最小的圆的直径设为R时,R为200μm~500μm的范围内。线宽为5.0μm。
电极图案4:各网眼包含形状无规的多边形,在将内部包含各种多边形的最小的圆的直径设为R时,R为200μm~500μm的范围内。线宽为2.0μm。
将这些4种电极图案设定于曝光机,以与遮蔽为相同线宽的方式进行曝光,制作具有包含电极图案1至电极图案4中任一个的电极的导电片材。
自这些导电片材中选定2块,制作图25所示的评价用层叠导电片材150。此处,图25中的参照符号152、参照符号154、参照符号156、参照符号158、参照符号160分别表示下方电极、OCA、上方电极、OCA、玻璃。
将组合有作为下方电极152的电极图案2(菱形)、作为上方电极156的电极图案4(无规)的评价用层叠导电片材150作为实施例1。而且,将下方电极152为电极图案4(无规)、上方电极156为电极图案2(菱形)作为实施例2,将下方电极152为电极图案1(菱形)、上方电极156为电极图案4(无规)作为实施例3。进而,将下方电极152为电极图案2(菱形)、上方电极156为电极图案3(无规)作为实施例4。
为了进行比较,制作将下方电极152及上方电极156双方的电极图案设为菱形(比较例1),将下方电极152及上方电极156双方的电极图案设为无规(比较例2)。即,比较例1中,下方电极152及上方电极156双方包含电极图案2,另一方面,比较例2中,下方电极152及上方电极156双方包含电极图案4。
(评价)
在使AUO制的液晶显示器(Liquid Crystal Display,LCD)面板“B156XW04”白色点灯的状态下,将以上的实施例1~实施例4及比较例1、比较例2载置于所述LCD面板上,在距离LCD面板30cm~50cm的部位利用目视进行观察。
此时,关于被观察为波纹状等特定图案的“云纹”、感觉为闪烁或颗粒状的“噪声”、电极图案自身的可见性,将为未察觉到程度评价为○,将为稍微察觉到但为可容许的水平评价为△,将无法容许的水平评价为×。
进而,使用由村上色彩技术研究所出售的透过率测定器,对实施例1~实施例4及比较例1、比较例2测定透过率。
进而,关于实施例1~实施例4及比较例1、比较例2,将在进行电极图案设计及操作方面操作时间为8小时以内的情况评价为○,将需要8小时~20小时的相对长的时间但为容许范围内的情况评价为△,将需要20小时以上的非常长的时间的情况评价为×。
将以上的评价结果一并表示于表3。根据所述表3可知,通过将无规图案的电极与菱形图案的电极进行组合,而可效率佳地获得云纹减少且噪声少、进而电极图案不易被看见的导电片材。
[表3]
以上,列举各种实施形态及实施例对本发明的导电性膜、具备其的显示装置及导电性膜的评价方法进行了说明,但本发明并不限定于所述实施形态及实施例,只要不脱离本发明的主旨,则当然可进行各种改良或设计的变更。
Claims (18)
1.一种导电性膜,设置于显示装置的显示单元上,其特征在于包括:
透明基体;以及
第1导电部及第2导电部,分别形成于所述透明基体的两面;
所述第1导电部具有第1配线图案,所述第2导电部具有第2配线图案,所述第1配线图案及第2配线图案由多根金属细线而形成为排列着多个开口部的网孔状,
所述第1配线图案至少具有第1图案,所述第2配线图案至少具有第2图案,所述第1图案及第2图案的透过率图像数据的2维傅立叶空间内的频谱的频散不同,
所述第1配线图案及第2配线图案作为合成配线图案而重叠于所述显示单元的像素排列图案,
所述像素排列图案与所述合成配线图案的合成图案,自所述合成图案的透过率图像数据的2维傅立叶空间内的多个频谱中,去除所述像素排列图案的透过率图像数据的2维傅立叶空间内的多个频谱及所述合成配线图案的透过率图像数据的2维傅立叶空间内的多个频谱,并仅抽出由所述像素排列图案与所述合成配线图案的所述第1配线图案及第2配线图案的干涉而产生的云纹及噪声的多个频谱,求出所抽出的全部多个频谱的合计值,根据所述合计值算出的云纹及噪声的抽出定量值为规定范围内,其中在将所述定量值以常用对数值计而设为E时,所述规定范围为E<-2.150。
2.根据权利要求1所述的导电性膜,其中所述云纹及噪声的频谱的合计值是仅将具有如下频率的频谱全部进行合计并求出而所得,所述频率低于所述像素排列图案的空间频率。
3.根据权利要求1所述的导电性膜,其中在将所述定量值以常用对数值计而设为E时,所述规定范围为E<-2.20425。
4.根据权利要求2所述的导电性膜,其中所述第1图案的透过率图像数据的2维傅立叶空间内的频谱的标准偏差为-5.0以上,
所述第2图案的透过率图像数据的2维傅立叶空间内的频谱的标准偏差小于-5.0。
5.根据权利要求1或2所述的导电性膜,其中所述第1图案为规则的图案,
所述第2图案为不规则图案,
所述开口部通过金属细线相互交叉而形成,
所述规则的图案为以多个相同形状的所述开口部相连的方式形成为网孔状的定型的图案,
所述不规则图案为俯视时以包含多个形状彼此不同的所述开口部的方式形成为网孔状的无规图案。
6.根据权利要求1或2所述的导电性膜,其中具有所述第1配线图案的所述第1导电部形成于所述透明基体的上表面,
具有所述第2配线图案的所述第2导电部形成于所述透明基体的下表面,
所述第1配线图案包含所述第1图案,
所述第2配线图案包含所述第2图案,
朝向y方向的所述第2配线图案的电极宽度比朝向x方向的所述第1配线图案的电极宽度大。
7.根据权利要求1或2所述的导电性膜,其中所述云纹及噪声的频率由所述合成配线图案的峰值频率与所述像素排列图案的峰值频率的差分而提供,所述云纹及噪声的强度由所述合成配线图案的峰值强度与所述像素排列图案的峰值强度的乘积而提供。
8.根据权利要求1或2所述的导电性膜,其中所述透过率图像数据及所述频谱的强度以所述合成图案的透过率图像的面积而标准化。
9.根据权利要求1或2所述的导电性膜,其中所述像素排列图案为黑矩阵图案。
10.根据权利要求1或2所述的导电性膜,其中形成所述第2图案的所述金属细线的线宽为1μm~5μm。
11.根据权利要求1或2所述的导电性膜,其中形成所述第2图案的所述开口部彼此的平均间距处于100μm~500μm的范围内。
12.根据权利要求1或2所述的导电性膜,其中形成所述第1图案的所述金属细线的线宽为1μm~5μm。
13.根据权利要求1或2所述的导电性膜,其中形成所述第1图案的所述开口部为菱形。
14.根据权利要求1或2所述的导电性膜,其中形成所述第1图案的所述金属细线及形成所述第2图案的所述金属细线包含银。
15.一种触摸屏,其特征在于包括根据权利要求1至14中任一项所述的导电性膜。
16.一种显示装置,其特征在于包括:显示单元;以及
根据权利要求1至14中任一项所述的导电性膜,设置于所述显示单元上。
17.一种导电性膜的评价方法,是设置于显示装置的显示单元上的导电性膜的评价方法,其特征在于:
所述导电性膜包括:透明基体;以及第1配线图案及第2配线图案,分别形成于所述透明基体的两面,且由多根金属细线而形成为排列着多个开口部的网孔状,
所述第1配线图案至少具有第1图案,所述第2配线图案至少具有第2图案,所述第1图案及第2图案的透过率图像数据的2维傅立叶空间内的频谱的频散不同,
获取所述第1配线图案及第2配线图案的各自的透过率图像数据与所述显示单元的像素排列图案的透过率图像数据,所述显示单元的像素排列图案是将所述第1配线图案及第2配线图案作为合成配线图案而重叠,
根据所获取的所述像素排列图案、以及所述第1配线图案及第2配线图案的各自的透过率图像数据,而求出所述像素排列图案与所述合成配线图案的合成图案的透过率图像数据,
进行所求出的所述合成图案、所述像素排列图案及所述合成配线图案的各自的透过率图像数据的2维傅立叶变换,求出所述合成图案的透过率图像数据的2维傅立叶空间内的多个频谱、所述像素排列图案的透过率图像数据的2维傅立叶空间内的多个频谱、及所述合成配线图案的透过率图像数据的2维傅立叶空间内的多个频谱,
自所述合成图案的多个频谱中去除所述像素排列图案的多个频谱及所述合成配线图案的多个频谱,仅求出由所述像素排列图案与所述合成配线图案的所述第1配线图案及第2配线图案的干涉而产生的云纹及噪声的多个频谱的合计值,
根据如所述般获得的合计值而算出云纹及噪声的抽出定量值,
对如所述般算出的所述云纹及噪声的抽出定量值为规定范围内的导电性膜进行评价。
18.一种导电性膜,设置于显示装置的显示单元上,其特征在于包括:
透明基体;以及
第1导电部及第2导电部,分别形成于所述透明基体的两面;
所述第1导电部具有第1配线图案,所述第2导电部具有第2配线图案,所述第1配线图案及第2配线图案由多根金属细线而形成为排列着多个开口部的网孔状,
所述第1配线图案至少具有第1图案,所述第2配线图案至少具有第2图案,所述第1图案及第2图案的透过率图像数据的2维傅立叶空间内的频谱的频散不同,
所述第1配线图案及第2配线图案作为合成配线图案而重叠于所述显示单元的像素排列图案,
所述第1图案的透过率图像数据的2维傅立叶空间内的频谱的标准偏差为-5.0以上,
所述第2图案的透过率图像数据的2维傅立叶空间内的频谱的标准偏差小于-5.0,
所述像素排列图案与所述合成配线图案的合成图案,自所述合成图案的透过率图像数据的2维傅立叶空间内的多个频谱中,去除所述像素排列图案的透过率图像数据的2维傅立叶空间内的多个频谱及所述合成配线图案的透过率图像数据的2维傅立叶空间内的多个频谱,并仅抽出由所述像素排列图案与所述合成配线图案的所述第1配线图案及第2配线图案的干涉而产生的云纹及噪声的多个频谱,求出所抽出的全部多个频谱的合计值,根据所述合计值算出的云纹及噪声的抽出定量值为规定范围内,其中在将所述定量值以常用对数值计而设为E时,所述规定范围为E<-2.150。
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