TWI634464B - 導電性膜、具備其的觸控面板及顯示裝置、以及導電性膜的評價方法 - Google Patents
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Abstract
形成於透明基體的兩面的第1配線圖案及第2配線圖案分別至少具有不同的第1圖案及第2圖案,且作為合成配線圖案而重疊於顯示單元的畫素排列圖案,畫素排列圖案與合成配線圖案的合成圖案,自其透過率圖像資料的2維傅立葉空間內的多個頻譜中,去除畫素排列圖案及合成配線圖案的透過率圖像資料的2維傅立葉空間內的多個頻譜,僅抽出由畫素排列圖案與合成配線圖案的干涉而產生的雲紋及雜訊的多個頻譜,求出所抽出的全部多個頻譜的合計值,根據該合計值算出的雲紋及雜訊的抽出定量值為規定範圍內。
Description
本發明是有關於一種導電性膜、具備其的觸控面板及顯示裝置、以及導電性膜的評價方法,詳細而言,是有關於如下的導電性膜、具備其的觸控面板及顯示裝置、以及導電性膜的評價方法,所述導電性膜在藉由多根金屬細線而形成為排列著多個開口部(網眼(cell))的網孔狀的網孔狀配線圖案(以下亦稱作網孔圖案(mesh pattern))的設計中,具有雲紋(moire)及雜訊的可見性優異的網孔圖案的配線。
作為設置於顯示裝置(以下亦稱作顯示器)的顯示單元上的導電性膜,例如可列舉電磁波屏蔽(shield)用的導電性膜或觸控面板用的導電性膜等(例如參照專利文獻1、專利文獻2及專利文獻3)。
觸控面板中,在其表面受到來自物體(例如手指)的推壓時,藉由導電性膜(感測器)來檢測該推壓位置。該導電性膜(感測器)中包含沿彼此正交的方向延伸的第1導電部(電極)及第2
導電部(電極)。
在該些第1導電部與第2導電部之間通常插入絕緣性的透明基體。
該些第1導電部及第2導電部包含藉由使金屬細線(線材)交叉而形成的網孔。藉由交叉的金屬細線而包圍的開口部(空間)亦被稱作網眼,該網眼一般而言為多邊形狀或不規則形狀。
此處,在網眼為四邊形等規定的相同形狀的情況下,網孔通常成為多個相同形狀的網眼重複相連的規則的配線圖案,即,定型的圖案。已知在此種規則的配線圖案中,例如與顯示器的畫素排列圖案(例如,黑矩陣(black matrix)(以下亦稱作BM)圖案)發生干涉而容易產生雲紋(干涉條紋)。
另一方面,在網眼的形狀為不規則形狀的情況下或包含各種形狀的情況下,網眼形狀並無規則性(統一性),對於網孔而言,因通常無法重複相同形狀的網眼,故成為不規則的配線圖案,即,無規(random)圖案。已知此種無規圖案中,容易看見雜訊顆粒感(感到粗糙),而且,透過率比定型的圖案小。
且說,本案申請人的申請的專利文獻1中揭示如下內容:自動地選定藉由相對距離超過規定的空間頻率、例如8cm-1的配線圖案資料而生成的配線圖案,所述相對距離是例如顯示器的BM圖案等畫素排列圖案、及例如電磁波屏蔽圖案等配線圖案的各自的圖案資料的2維傅立葉頻譜(二維高速傅立葉變換頻譜(Two-Dimensional Fast fourier Transform spectrum,2DFFTSp))
的頻譜峰值間的相對距離(例如亦可以說相當於雲紋的頻率)。
另外,專利文獻1中亦揭示如下內容:在所述相對距離未超過規定的空間頻率的情況下,重複進行如下動作直至所述相對距離超過規定的空間頻率為止,即,使配線圖案資料的旋轉角度、間距、圖案寬度中的任一者以上發生變化,而生成新的配線圖案資料。
如此,專利文獻1中,可自動地選定電磁波屏蔽圖案,該電磁波屏蔽圖案是將畫素排列圖案及配線圖案,例如規則地重複著規定畫素的BM圖案及規則的配線圖案(參照圖2及圖6)的頻譜峰值間的相對距離(雲紋的頻率)的頻率,設定得比規定的空間頻率高,藉此可抑制雲紋的產生,亦可避免表面電阻率的增大或透明性的劣化。
另一方面,本案申請人的申請的專利文獻2中,揭示了以如下方式形成著網孔圖案的透明導電膜,來作為包括具備多個多邊形狀的網孔的網孔圖案(例如,無規圖案:參照圖2及圖14)的透明導電膜,即,關於各網孔的重心頻譜,使比規定的空間頻率,例如人類視覺響應特性相當於最大響應的5%的空間頻率高的空間頻帶側的平均強度,大於比規定的空間頻率低的空間頻帶側的平均強度。
如此,專利文獻2中,可提供如下的透明導電膜,即,可減輕由無規圖案而引起的雜訊顆粒感,可大幅提高觀察對象物的可見性,並且裁切後亦具有穩定的通電性能。
專利文獻3中,藉由將規則的網孔圖案(參照圖2、圖11(A)~圖11(C)、及圖25等)或包含無規形狀的網眼的無規圖案(參照圖23)等導電性微小圖案要素的寬度減小至1μm~10μm,而使得導電性微小圖案要素更不易被看見,並且藉由設置使導電性微小圖案要素的可視性不明顯化或減小該可視性的構造而使導電性微小圖案要素更不易被看見。專利文獻3中亦揭示作為此種構造之一的導電性微小圖案的擬隨機(pseudorandom)變動。
[專利文獻1]日本專利特開2009-117683號公報
[專利文獻2]日本專利特開2011-216379號公報
[專利文獻3]日本專利特表2011-517355號公報
且說,專利文獻1中,每當生成導電性膜的配線圖案時,僅根據顯示器的BM(黑矩陣)/配線圖案的頻率資訊來控制雲紋頻率,且提供可見性優異的配線圖案,但因僅依存於頻率來判定是否看見雲紋,故即便在為被判定為未看見雲紋的頻率的情況下,因人對雲紋的察覺不僅受到頻率的影響,亦會受到強度的影響,故有時會因強度而看見雲紋,從而存在雲紋的可見性無法充分提高的問題。尤其在將專利文獻1中揭示的技術應用於觸控面板用的導電性膜的情況下,因人的手指等的推壓,故亦存在BM/
配線圖案間產生微小的變形,且因強度而促進雲紋被看見的問題,且存在雲紋的可見性的提高不充分的問題。
而且,專利文獻2中,關於透明導電膜的網孔圖案的各網孔的重心頻譜,藉由使人類視覺的響應特性急遽降低、且比規定的空間頻率高的中~高空間頻帶下的平均強度,高於人類視覺響應特性高的低空間頻帶的平均強度,減少對於人類而言視覺上所感受到的雜訊感,但仍存在如下問題:僅實現了透明導電膜的網孔圖案自身的雜訊感的減少,而無法抑制顯示器的BM圖案與透明導電膜的網孔圖案之間產生的雲紋,從而無法提高雲紋的可見性。
而且,專利文獻3中,在導電性微小圖案為規則的網孔圖案的情況下,只不過在與配置導電性微小圖案要素的透明基材不同的透明基材上設置所述構造,而使導電性微小圖案要素的可視性不明顯化或減小該可視性,且藉由使導電性微小圖案要素具有擬隨機變動,而實現導電性微小圖案要素的可視性的不明顯化或減小該可視性,但尚未充分揭示擬隨機變動與雲紋的抑制的對應關係,從而存在如下問題:無法藉由使導電性微小圖案要素具有擬隨機變動,來充分提高雲紋的可見性。
且說,在無規圖案等不規則的配線圖案中,存在會發生如下不良情況的問題:容易看見雜訊、即雜訊顆粒感(感到粗糙),而且,比起定型的圖案等規則配線圖案而透過率小。即,存在如下自相矛盾的關係:若採用規則的配線圖案,則雖不易看見雜訊
顆粒,且透過率增大,但不容易抑制雲紋的產生,另一方面,若採用不規則的配線圖案,則雖抑制雲紋(干涉條紋)的產生,但容易看見雜訊顆粒,且透過率減小。
而且,存在如下問題:只要不進行對準(alignment)(使顯示器BM圖案與網孔圖案的空間頻率特性完全一致),則原理上便會產生由顯示器BM圖案與網孔圖案的干涉而產生的雲紋。
而且,當觸控感測器(顯示器+觸控面板)的觀察距離為預先設定的觀察距離時,即便在充分提高了雲紋的可見性的狀態下,若觀察距離發生變化,則亦存在雲紋有時會被看見的問題。
本發明解決所述現有技術的問題,目的在於提供一種導電性膜、具備其的觸控面板及顯示裝置、以及導電性膜的評價方法,所述導電性膜可與顯示單元的顯示畫面的觀察距離無關地抑制雲紋的產生,進而即便為原理上無法避免的雲紋亦可改善其可見性,且可大幅提高雲紋及雜訊的可見性,因而可大幅提高顯示畫面的可見性。
而且,本發明的目的在於特別是提供如下的導電性膜、具備其的觸控面板及顯示裝置、以及導電性膜的評價方法,所述導電性膜在將具有配線的透明導電性膜用作觸控面板用電極的情況下,與觀察距離無關地抑制在顯示裝置的顯示單元的黑矩陣上重疊導電性膜而看見時成為大的畫質障礙的雲紋的產生,並且進而即便為原理上無法避免的雲紋亦可改善其可見性,不易看見雜訊顆粒,並且,可顯示充分的透過率,從而可大幅提高觸控面板上
的顯示的可見性。
進而,本發明的目的在於特別是提供如下的導電性膜、具備其的觸控面板及顯示裝置、以及導電性膜的評價方法,所述導電性膜在設計具有分別配置於兩主面上的第1導電部及第2導電部(電極)的導電性膜的導電部時,藉由將配置於第1導電部及第2導電部的配線圖案設為包含規則性的頻散(dispersion)不同的網孔圖案的混合網孔圖案,而可容易設計配線圖案。
且說,本發明者已在日本專利特願2013-020775號說明書中提出如下導電性膜來作為可大幅提高顯示裝置(顯示器)的顯示畫面的雲紋的可見性的一個技術,所述導電性膜具有滿足評價值為規定值以下的配線圖案,所述評價值藉由如下而算出:算出顯示器的畫素矩陣及網孔圖案的空間頻率峰值,並將由各自的空間頻率峰值差分、峰值強度累計值所得的雲紋的二維頻率頻譜及強度、與視覺傳遞函數(visual transfer function)進行卷積(convolution)。
然而,為了達成可達成所述目的又一技術,本發明者進一步反覆進行了積極研究,結果發現:以偏離人類視覺感度的方式而產生由規則的網孔圖案與顯示器的BM圖案的干涉而產生的雲紋,藉此,可設計出雲紋可見性優異的網孔圖案,然而,只要不進行對準(使顯示器的BM圖案與網孔圖案的空間頻率特性完全一致),則原理上便會產生由顯示器的BM圖案與網孔圖案的干涉
而產生的雲紋。
而且,本發明者發現:使用了現有技術的雲紋可見性優異的網孔圖案設計方法的設計概念是儘可能地使雲紋的空間頻率為高頻,然而,無論欲設為多高的頻率,若使觀察距離接近觸控感測器(顯示器+觸控面板),則會出現看見雲紋的情況。
結果,本發明者基於所述發現而發現如下情況:本發明的技術性課題在於,並非簡單地使由規則的網孔圖案與顯示器的BM圖案的干涉而產生的雲紋以偏離人類視覺感度的方式在高頻側產生,而是在導電性膜的兩面,分別對網孔圖案的網孔的開口部(網眼)的規則性的頻散不同的規則性相對高的網孔圖案與規則性相對低的網孔圖案,例如混合使用規則的配線圖案與不規則的配線圖案,藉此可利用後者的可見性低的雜訊(雜訊顆粒性)成分的遮蔽(mask)效果,來改善由前者產生的雲紋的可見性,尤其可改善原理上無法避免的情況下的雲紋的可見性,從而完成了本發明。
為了達成所述技術課題,本發明的第1形態的導電性膜設置於顯示裝置的顯示單元上,其特徵在於包括:透明基體;以及第1導電部及第2導電部,分別形成於該透明基體的兩面;第1導電部及第2導電部分別具有第1配線圖案及第2配線圖案,所述第1配線圖案及第2配線圖案藉由多根金屬細線而形成為排列著多個開口部的網孔狀,第1配線圖案及第2配線圖案分別至少具有第1圖案及第2圖案,所述第1圖案及第2圖案的透過率圖
像資料的2維傅立葉空間內的頻譜的頻散不同,第1配線圖案及第2配線圖案作為合成配線圖案而重疊於顯示單元的畫素排列圖案,畫素排列圖案與合成配線圖案的合成圖案,自合成圖案的透過率圖像資料的2維傅立葉空間內的多個頻譜中,去除畫素排列圖案的透過率圖像資料的2維傅立葉空間內的多個頻譜及合成配線圖案的透過率圖像資料的2維傅立葉空間內的多個頻譜,並僅抽出由畫素排列圖案與合成配線圖案的第1配線圖案及第2配線圖案的干涉而產生的雲紋及雜訊的多個頻譜,求出所抽出的全部多個頻譜的合計值,根據該合計值算出的雲紋及雜訊的抽出定量值為規定範圍內。
為了達成所述技術課題,本發明的第1形態的導電性膜設置於顯示裝置的顯示單元上,其特徵在於包括:透明基體;以及第1導電部及第2導電部,分別形成於該透明基體的兩面;第1導電部及第2導電部分別具有第1配線圖案及第2配線圖案,所述第1配線圖案及第2配線圖案藉由多根金屬細線而形成為排列著多個開口部的網孔狀,第1配線圖案及第2配線圖案分別至少具有第1圖案及第2圖案,所述第1圖案及第2圖案的透過率圖像資料的2維傅立葉空間內的頻譜的頻散不同,第1配線圖案及第2配線圖案作為合成配線圖案而重疊於顯示單元的畫素排列圖案,第1圖案的透過率圖像資料的2維傅立葉空間內的頻譜的標準偏差為-5.0以上,第2圖案的透過率圖像資料的2維傅立葉空間內的頻譜的標準偏差小於-5.0。
而且,為了達成所述目的,本發明的第2形態的觸控面板的特徵在於包括所述第1形態的導電性膜。
而且,為了達成所述目的,本發明的第3形態的顯示裝置的特徵在於包括:顯示單元,以及設置於該顯示單元上的所述第1形態的導電性膜。
而且,為了達成所述目的,本發明的第4形態的導電性膜的評價方法是設置於顯示裝置的顯示單元上的導電性膜的評價方法,其特徵在於:導電性膜包括:透明基體;以及第1配線圖案及第2配線圖案,分別形成於該透明基體的兩面,且藉由多根金屬細線而形成為排列著多個開口部的網孔狀,第1配線圖案及第2配線圖案分別至少具有第1圖案及第2圖案,所述第1圖案及第2圖案的透過率圖像資料的2維傅立葉空間內的頻譜的頻散不同,獲取第1配線圖案及第2配線圖案的各自的透過率圖像資料與顯示單元的畫素排列圖案的透過率圖像資料,該顯示單元的畫素排列圖案是將第1配線圖案及第2配線圖案作為合成配線圖案而重疊,根據所獲取的畫素排列圖案以及第1配線圖案及第2配線圖案的各自的透過率圖像資料,而求出畫素排列圖案與合成配線圖案的合成圖案的透過率圖像資料,進行所求出的合成圖案、畫素排列圖案及合成配線圖案的各自的透過率圖像資料的2維傅立葉變換,求出合成圖案的透過率圖像資料的2維傅立葉空間內的多個頻譜、畫素排列圖案的透過率圖像資料的2維傅立葉空間內的多個頻譜、及合成配線圖案的透過率圖像資料的2維傅
立葉空間內的多個頻譜,自合成圖案的多個頻譜中去除畫素排列圖案的多個頻譜及合成配線圖案的多個頻譜,僅求出由畫素排列圖案與合成配線圖案的第1配線圖案及第2配線圖案的干涉而產生的雲紋及雜訊的多個頻譜的合計值,根據如所述般獲得的合計值而算出雲紋及雜訊的抽出定量值,對如所述般算出的雲紋及雜訊的抽出定量值為規定範圍內的導電性膜進行評價。
所述第1形態、第2形態、第3形態及第4形態中,較佳為雲紋及雜訊的頻譜的合計值是僅將具有如下頻率的頻譜全部進行合計而求出者,所述頻率比畫素排列圖案的空間頻率低(根據顯示單元的顯示解析度而規定的雲紋的最高頻率以下的雲紋的頻率)。而且,雲紋及雜訊的頻譜的合計值較佳為自如所述般先求出的第1合計值中減去第2合計值而求出,所述第2合計值是將合成配線圖案的多個頻譜的全部進行合計而求出。
而且,較佳為在將定量值以常用對數值計而設為E時,規定範圍為E<-2.150,進而,更佳為E<-2.20425。
而且,較佳為第1圖案的透過率圖像資料的2維傅立葉空間內的頻譜的標準偏差為-5.0以上,第2圖案的透過率圖像資料的2維傅立葉空間內的頻譜的標準偏差小於-5.0。
而且,較佳為第1圖案為規則的圖案,第2圖案為不規則圖案。
而且,較佳為開口部藉由金屬細線相互交叉而形成,規則的圖案為以多個相同形狀的開口部相連的方式形成為網孔狀的
定型的圖案,不規則圖案為俯視時以包含多個形狀彼此不同的開口部的方式形成為網孔狀的無規圖案。
而且,較佳為具有第1配線圖案的第1導電部形成於透明基體的上表面,具有第2配線圖案的第2導電部形成於透明基體的下表面,第1配線圖案包含第1圖案,第2配線圖案包含第2圖案,第2配線圖案的寬度比第1配線圖案的寬度大。
而且,較佳為雲紋的頻率由合成配線圖案的峰值頻率與畫素排列圖案的峰值頻率的差分而提供,雲紋的強度由合成配線圖案的峰值強度與畫素排列圖案的峰值強度的乘積而提供。
而且,較佳為透過率圖像資料及頻譜的強度以合成圖案的透過率圖像的面積而標準化。
而且,較佳為畫素排列圖案為黑矩陣圖案。
而且,較佳為形成第2圖案的金屬細線的線寬為1μm~5μm。
而且,較佳為形成第2圖案的開口部彼此的平均間距處於100μm~500μm的範圍內。
而且,較佳為形成第1圖案的金屬細線的線寬為1μm~5μm。
而且,較佳為形成第1圖案的開口部為菱形。
而且,較佳為形成第1圖案的金屬細線及形成第2圖案的金屬細線包含銀。
以上所說明般,根據本發明,可與顯示單元的顯示畫面的觀察距離無關地抑制雲紋的產生,進而藉由雜訊效果可進一步
改善原理上無法避免的雲紋的可見性,結果,可大幅提高雲紋及雜訊的可見性,因而可大幅提高顯示畫面的可見性。
而且,根據本發明,尤其在將具有配線的透明導電性膜用作觸控面板用電極的情況下,可與觀察距離無關地抑制在顯示裝置的顯示單元的黑矩陣上重疊導電性膜而看見時成為大的畫質障礙的雲紋的產生,並且進而即便為原理上無法避免的雲紋亦可改善其可見性,不易看見雜訊顆粒,並且,可顯示充分的透過率,從而可大幅提高觸控面板上的顯示的可見性。
而且,根據本發明,尤其在設計具有分別配置於兩主面的第1導電部及第2導電部(電極)的導電性膜的導電部時,可將配置於第1導電部及第2導電部的配線圖案,設為包含規則性的頻散不同的網孔圖案的混合網孔圖案,因而可容易設計配線圖案。
而且,根據本發明,尤其將形成經由絕緣性透明基體而彼此相向的第1導電部及第2導電部(電極)中的一者的開口部(網眼)設為無規圖案,並且將形成剩餘一者的網眼設為定型的圖案,藉此可基於具有成為無規圖案的電極而抑制雲紋的產生,且,可基於具有成為定型的圖案的電極而不易看見雜訊顆粒,且可顯示充分的透過率。
10‧‧‧導電性膜
12‧‧‧透明基體
14‧‧‧金屬製的細線(金屬細線)
16、16a、16b‧‧‧導電部
18、18a、18b‧‧‧黏接層
20、20a、20b‧‧‧保護層
21、21a、21b‧‧‧網孔配線
22、22a、22b‧‧‧開口部(網眼)
24、24a、24b‧‧‧配線圖案
28、28a、28b‧‧‧導電層
30‧‧‧顯示單元(顯示部)(顯示器)
32‧‧‧畫素
32r、32g、32b‧‧‧子畫素
34‧‧‧黑矩陣(BM)
36‧‧‧區域
38‧‧‧BM圖案(畫素排列圖案)
40‧‧‧顯示裝置
42‧‧‧輸入面
44‧‧‧觸控面板
46‧‧‧框體
48‧‧‧蓋構件
50‧‧‧纜線
52‧‧‧可撓性基板
54‧‧‧檢測控制部
56‧‧‧黏接層
58‧‧‧接觸體
110A‧‧‧第1片材體
110B‧‧‧第2片材體
112‧‧‧積層導電性膜(導電性膜)
114A‧‧‧第1透明基體
114B‧‧‧第2透明基體
116A‧‧‧第1導電部(第1電極)
116B‧‧‧第2導電部(第2電極)
118A‧‧‧第1導電圖案
118B‧‧‧第2導電圖案
120‧‧‧細線
120p、120q、120r、120s‧‧‧細線
122A、122B‧‧‧網眼
122a、122b、122c、122d、122e、122f、122g‧‧‧網眼
130、154、158‧‧‧黏著劑(OCA)
140a‧‧‧第1接線部
140b‧‧‧第2接線部
142a‧‧‧第1端子配線圖案
142b‧‧‧第2端子配線圖案
150‧‧‧評價用積層導電片材
152‧‧‧下方電極
156‧‧‧上方電極
160‧‧‧玻璃
200‧‧‧觸控面板
202‧‧‧感測器本體
206‧‧‧保護層
208‧‧‧顯示裝置
210‧‧‧顯示面板
210a‧‧‧顯示畫面
212‧‧‧感測器部
214‧‧‧端子配線部
216a‧‧‧第1端子
216b‧‧‧第2端子
A‧‧‧觸控面板
C1~C4‧‧‧頂點
p‧‧‧間距、斜邊
Ph‧‧‧水平畫素間距
Pv‧‧‧垂直畫素間距
S10、S12、S14、S16‧‧‧步驟
u、v‧‧‧座標
WL‧‧‧寬度方向尺寸(線寬)
x、y‧‧‧方向
Z1、Z2‧‧‧箭頭
α‧‧‧鈍角交叉角度
β‧‧‧銳角交叉角度
θ‧‧‧對角
w1、w2‧‧‧電極寬度
圖1是示意性地表示本發明的第1實施形態的導電性膜的一
例的局部剖面圖。
圖2是示意性地表示圖1所示的導電性膜的一導電部的配線圖案的一例的平面圖。
圖3是示意性地表示圖1所示的導電性膜的另一導電部的配線圖案的一例的平面圖。
圖4(A)及圖4(B)分別是示意性地表示圖1所示的導電性膜的一導電部的配線圖案的另一例的平面圖。
圖5(A)及圖5(B)分別是示意性地表示圖1所示的導電性膜的另一導電部的配線圖案的另一例的平面圖。
圖6是表示應用本發明的導電性膜的顯示單元的一部分畫素排列圖案的一例的概略說明圖。
圖7是裝入圖1所示的導電性膜的顯示裝置的一實施例的概略剖面圖。
圖8(A)及圖8(C)分別是表示應用本發明的導電性膜的顯示單元的畫素排列圖案的一例的示意性局部放大說明圖,圖8(B)及圖8(D)分別是圖8(A)及圖8(C)中僅利用G通道的子畫素(sub-pixel)時的畫素排列圖案的示意性說明圖。
圖9(A)~圖9(H)分別是表示應用本發明的導電性膜的顯示單元的畫素排列圖案的又一例的示意性局部放大說明圖。
圖10是表示本發明的導電性膜的配線評價方法的一例的流程圖。
圖11(A)是示意性地表示應用本發明的導電性膜的顯示單
元的畫素排列圖案的一例的局部放大圖,圖11(B)及圖11(C)分別是示意性地表示重疊於圖11(A)的畫素排列圖案的導電性膜的配線圖案的一例的局部放大圖。
圖12(A)是示意性地表示圖11(B)及圖11(C)所示的配線圖案的合成配線圖案的局部放大圖,圖12(B)是以不同的比例尺來示意性地表示圖12(A)所示的合成配線圖案與圖11(A)所示的畫素排列圖案的合成圖案的概略說明圖。
圖13(A)及圖13(B)分別是示意性地表示圖12(A)所示的合成配線圖案及圖11(A)所示的畫素排列圖案的各透過率圖像資料的2維傅立葉頻譜的圖表。
圖14是示意性地表示因圖12(A)所示的合成配線圖案與圖11(A)所示的畫素排列圖案的干涉而產生的雲紋的頻譜、與顯示器的解析度及畫素排列圖案的頻譜的關係的圖表。
圖15是表示實施例中使用的導電性膜的配線圖案的2維傅立葉空間內的頻譜分佈的標準偏差的圖表。
圖16(A)、圖16(B)及圖16(C)分別是表示實施例中使用的導電性膜的配線圖案的一例的概略說明圖。
圖17是具備本發明的第2實施形態的導電性膜的觸控面板的要部分解立體圖。
圖18是構成圖17所示的觸控面板的導電性膜的要部分解立體圖。
圖19是圖18所示的導電性膜的概略縱剖面圖。
圖20是表示形成於圖19所示的導電性膜的第1導電部(電極)的網眼的一例的概略平面圖。
圖21是表示圖19所示的第1導電部(電極)的網眼的又一例的概略平面圖。
圖22是表示形成於圖19所示的導電性膜的第2導電部(電極)的網眼的一例的概略平面圖。
圖23是表示圖21所示的第1導電部(電極)與圖22所示的第2導電部(電極)的重合部分的概略平面圖。
圖24是與圖19所示的導電性膜為不同實施形態的導電性膜的概略縱剖面圖。
圖25是評價用導電性膜的概略縱剖面圖。
以下,參照附圖所示的較佳的實施形態來詳細說明本發明的導電性膜及導電性膜的評價方法。
以下,對本發明的導電性膜,以觸控面板用的導電性膜作為代表例來進行說明,但本發明並不限定於此,只要為如下的導電性膜,則可為任何者,例如當然亦可為電磁波屏蔽用的導電性膜等,所述導電性膜為配置於透明基體的兩面且包含具有規則性的頻散不同的配線圖案的導電部者,且設置於液晶顯示器(Liquid Crystal Display,LCD)、電漿顯示器(Plasma Display Panel,PDP)、有機電致發光顯示器(Organic ElectroLuminescence Display,OELD)或無機EL顯示器等顯示裝置的顯示單元上。
圖1是示意性地表示本發明的第1實施形態的導電性膜的一例的局部剖面圖,圖2及圖3分別是示意性地表示圖1所示的導電性膜的一導電部及另一導電部的配線圖案的一例的平面圖。
如該些圖所示,本實施形態的導電性膜10為如下導電性膜,即,設置於顯示裝置的顯示單元上,且具有相對於顯示單元的黑矩陣(BM:Black Matrix)而在抑制雲紋產生的方面優異的配線圖案,尤其具有在重疊於BM圖案時相對於BM圖案而在雲紋的可見性方面得到最佳化的配線圖案,該導電性膜具有:透明基體12;第1導電部(電極)16a,形成於透明基體12的一面(圖1中上側的面),且包含多根金屬製的細線(以下稱作金屬細線)14;第1保護層20a,以包覆金屬細線14的方式,經由第1黏接層18a而黏接於第1導電部16a的大致整個面;第2導電部(電極)16b,形成於透明基體12的另一面(圖1中下側的面),且包含多根金屬製的細線14;以及第2保護層20b,經由第2黏接層18b而黏接於第2導電部16b的大致整個面。
另外,以下,在統稱第1導電部16a及第2導電部16b時僅稱作導電部16,統稱第1黏接層18a及第2黏接層18b時僅稱作黏接層18,統稱第1保護層20a及第2保護層20b時僅稱作保護層20。
透明基體12包含具有絕緣性且透光性高的材料,例如可列舉樹脂、玻璃、矽等材料。作為樹脂,例如可列舉聚對苯二
甲酸乙二醇酯(Polyethylene Terephthalate,PET)、聚甲基丙烯酸甲酯(Polymethyl methacrylate,PMMA)、聚丙烯(polypropylene,PP)、聚苯乙烯(polystyrene,PS)等。
金屬細線14只要為導電性高的金屬製的細線則不作特別限制,例如可列舉包含金(Au)、銀(Ag)或銅(Cu)的線材等者。考慮到可見性的觀點,金屬細線14的線寬越細越佳,但例如只要為30μm以下即可。另外,在觸控面板用途中,金屬細線14的線寬較佳為0.1μm以上、15μm以下,更佳為1μm以上、9μm以下,進而較佳為2μm以上、7μm以下。
導電部16(16a、16b)具有由網孔配線21(21a、21b)形成的配線圖案24(24a、24b),所述網孔配線21(21a、21b)藉由將多根金屬細線14排列成網孔狀而成。詳細而言,配線圖案24(24a、24b)為如下網孔的圖案,即,排列著使多根金屬細線14彼此相互交叉而形成的規定形狀的開口部(網眼)22(22a、22b)。
第1導電部16a如圖2所示包含導電層28a(參照圖1),該導電層28a具有由金屬細線14、及鄰接的金屬細線14間的開口部(網眼)22a形成的網孔形狀的配線圖案24a,配線圖案24a為多個相同形狀的菱形的開口部22a規則地重複的規則的配線圖案,即所謂的定型的圖案。
另一方面,第2導電部16b包含導電層28b(參照圖1),該導電層28b具有由金屬細線14、及鄰接的金屬細線14間的開口部
22b形成的網孔形狀的配線圖案24b,配線圖案24b如圖3所示,為俯視時彼此形狀不同的開口部22b多個相連而成的不規則的配線圖案,即所謂的無規圖案。
另外,圖2所示的例中,配線圖案24a為開口部22a的網孔形狀為菱形的定型的圖案,圖3所示的例中,配線圖案24b為開口部22b的網孔形狀為不規則形狀的無規圖案,但本發明並不限定於此,配線圖案24a及配線圖案24b為開口部(網眼)22(22a、22b)的形狀或重複等圖案的規則性的頻散不同的網孔圖案,一者為規則性相對高的網孔圖案,一者為規則性相對低的網孔圖案即可。
此處,規則性相對高的網孔圖案(以下稱作高規則性圖案)在其透過率圖像資料的2維傅立葉空間內,因容易具有特定的峰值,故頻散增大,作為高規則性圖案,2維傅立葉空間內的頻譜(進行2維傅立葉變換而獲得的頻譜)的標準偏差較佳為-5.0以上,規則性相對低的網孔圖案(以下稱作低規則性圖案)在其透過率圖像資料的2維傅立葉空間內,因不易具有特定的峰值,故頻散減小,作為低規則性圖案,2維傅立葉空間內的頻譜(進行2維傅立葉變換而獲得的頻譜)的標準偏差較佳為小於-5.0。
另外,高規則性圖案及低規則性圖案的圖案的規則性的頻散不同,該些合成配線圖案只要構成相對於後述的顯示裝置的規定的畫素排列(BM)圖案而雲紋可見性得到最佳化的配線圖案,則該些開口部22的形狀可為任何形狀。即,配線圖案24的
開口部22只要為至少具有3邊的多邊形狀、圓、橢圓或封閉的不規則形狀,則可為任何形狀,而且,可為相同的網孔形狀,亦可為不同的網孔形狀,例如可列舉正三角形、等腰三角形等三角形,正方形(正方格子)、長方形等四邊形(矩形),或五邊形、六邊形(正六邊形)等相同或不同的多邊形等。即,高規則性圖案及低規則性圖案,只要形成圖案的規則性的頻散的高低中存在差異且相對於規定的BM圖案而雲紋可見性得到最佳化的合成配線圖案即可。
而且,配線圖案24中,亦可使構成開口部22的金屬細線14的邊(網孔配線21)含有斷線(斷開)(break)。作為具有此種斷開的網孔狀配線圖案的形狀,可應用本案申請人的申請的日本專利特願2012-276175號說明書中記載的導電性膜的網孔狀配線圖案的形狀。
另外,關於被用作配線圖案24a的高規則性圖案,更佳為開口部22a的形狀為相同形狀,且藉由具有規則性的相同形狀的開口部22a的排列而構成的定型的配線圖案,除圖2所示的菱形的開口部22a呈規則排列的菱形圖案外,例如,如圖4(A)及圖4(B)所示的配線圖案24a般,可列舉正方形的開口部呈規則排列的正方格子圖案,或正方六邊形的開口部呈規則排列的正六邊形圖案等。
而且,關於被用作配線圖案24b的低規則性圖案,更佳為開口部22b的形狀為不同的形狀,且藉由不同形狀的開口部22的排
列而無規化的配線圖案,除圖3所示的排列著不同的多邊形狀的開口部22b的無規圖案外,例如如圖5(A)及圖5(B)所示的配線圖案24b般,可列舉不同形狀的開口部22無規排列的無規圖案等。關於此種無規圖案,例如亦可使用利用奧多比(Adobe)公司製造的PS圖像處理軟體(Photoshop)(註冊商標)的染色玻璃(stained glass)功能製作而成的無規圖案等。
圖1所示的實施形態導電性膜10中,圖1中,在透明基體12的上側(觀察側)的第1導電部16a,配置規則性相對高的配線圖案24a,在透明基體12的下側(顯示器側)的第2導電部16b,配置規則性相對低的配線圖案24b,但本發明並不限定於此,相反,圖1中,亦可在透明基體12的上側(觀察側)的第1導電部16a,配置規則性相對低的配線圖案24b,在透明基體12的下側(顯示器側)的第2導電部16b,配置規則性相對高的配線圖案24a。
而且,在第1導電部16a及第2導電部16b上,分別配置至少1層的配線圖案24a及配線圖案24b即可,亦可包含其他配線圖案的層。即,在第1導電部16a及第2導電部16b上分別配置至少1層配線圖案24a及配線圖案24b即可。
另外,在本實施形態的導電性膜10中,第1導電部16a及第2導電部16b的至少一部分包含虛設電極部,該虛設電極部與該些導電部16a及導電部16b隔開規定間隔而配置,且與該些導電部16a及導電部16b處於電性絕緣狀態下並包含金屬細線
14。藉由設置此種虛設電極部,而可對應於第1導電部16a與第2導電部16b的各網孔配線21(21a、21b)來進行配置,因而可控制透明基體12的一(例如圖1的上側或下側)面的由金屬細線所引起的散射,從而可改善電極可見性。
如所述般,第1保護層20a以包覆第1導電部16a的金屬細線14的方式,藉由第1黏接層18a而黏接於包含第1導電部16a的導電層28a的大致整個面。而且,第2保護層20b以包覆第2導電部16b的金屬細線14的方式,藉由第2黏接層18b而黏接於包含第2導電部16b的導電層28b的大致整個面。
此處,作為黏接層18(第1黏接層18a及第2黏接層18b)的材料,可列舉濕式積層(wet laminate)黏接劑、乾式積層(dry laminate)黏接劑、或熱熔(hot melt)黏接劑等,第1黏接層18a的材質與第2黏接層18b的材質可相同亦可不同。
而且,保護層20(第1保護層20a及第2保護層20b)與透明基體12同樣地,包含具有樹脂、玻璃、矽的透光性高的材料,第1保護層20a的材質與第2保護層20b的材質可相同亦可不同。
較佳為第1保護層20a的折射率n1及第2保護層20b的折射率n2均為與透明基體12的折射率n0相等或與該折射率n0相近的值。該情況下,透明基體12相對於第1保護層20a的相對折射率nr1及透明基體12相對於第2保護層20b的相對折射率nr2均為接近1的值。
此處,本說明書中的折射率是指波長589.3nm(鈉的D線)
的光的折射率,例如對於樹脂,以作為國際標準規格的國際標準化組織(International Organization for Standardization,ISO)14782:1999(對應於日本工業標準(Japanese Industrial Standards,JIS)K 7105)來定義。而且,透明基體12相對於第1保護層20a的相對折射率nr1以nr1=(n1/n0)來定義,透明基體12相對於第2保護層20b的相對折射率nr2以nr2=(n2/n0)來定義。
此處,相對折射率nr1及相對折射率nr2只要處於0.86以上、1.15以下的範圍即可,更佳為0.91以上、1.08以下。
另外,將相對折射率nr1及相對折射率nr2的範圍限定於該範圍,以控制透明基體12與保護層20(20a、20b)的構件間的光的透過率,藉此可進一步提高、改善雲紋的可見性。
所述本發明的第1實施形態的導電性膜10例如應用於圖6中示意性地表示一部分的顯示單元30(顯示部)的觸控面板44(參照圖7),但當由構成觸控面板44的觸控感測器所需的金屬細線14來構成網孔配線的圖案(金屬網孔圖案)時,利用圖案的規則性的頻散不同的2種網孔圖案,即高規則性圖案與低規則性圖案。此處,高規則性圖案,較佳為規則的網孔圖案,與現有技術同樣地與顯示裝置(顯示器)的黑矩陣(以下亦稱作BM)發生干涉而產生雲紋。另一方面,低規則性圖案,較佳為不規則的網孔圖案,與BM發生干涉而產生雜訊。本發明的導電性膜中,藉由將兩者的圖案進行混合,而由高規則性圖案產生的高頻的雲紋在低規則性圖案的雜訊成分的遮蔽效果下,雲紋不易被看見。如
本發般,在藉由遮蔽雲紋而改善被看見的雲紋的情況下,當使雲紋的可見性進一步最佳化時,規則的網孔圖案與BM的干涉所引起的雲紋及不規則網孔圖案與BM的干涉所引起的雜訊的平衡性變得重要,因此本發明中,較佳為將各個圖案的特徵數值化而以數值來規定最終所獲得的畫質。
本發明的導電性膜10中,圖案的規則性的頻散不同的2種網孔圖案的合成配線圖案,具有相對於顯示單元30的畫素排列(BM)圖案而雲紋可見性方面得到最佳化的合成配線圖案。另外,本發明中,所謂相對於BM(畫素排列)圖案而雲紋可見性方面得到最佳化,是指相對於規定的BM圖案,高規則性圖案與低規則性圖案的1類組合或合成配線圖案,所述組合可使得因與高規則性圖案的干涉而不可避免地產生的高頻的雲紋,在因與低規則性圖案的干涉而同時產生的雜訊成分的遮蔽效果下,變得不易被看見。另外,本發明中,亦可對經最佳化的2個以上的1類組合或合成配線圖案,自最不會察覺的組合(合成配線圖案)到最難以察覺的組合(合成配線圖案)為止進行排序,從而可決定最不會察覺到雲紋的1個配線圖案的組合(合成配線圖案)。
另外,以後將敍述合成配線圖案相對於規定的BM圖案的雲紋可見性的最佳化。
本發明的導電性膜基本如以上般構成。
圖6是示意性地表示應用本發明的導電性膜的顯示單元的一部分畫素排列圖案的一例的概略說明圖。
如圖6中表示該一部分般,在顯示單元30上矩陣狀地排列著多個畫素32而構成規定的畫素排列圖案。1個畫素32是將3個子畫素(紅色子畫素32r、綠色子畫素32g及藍色子畫素32b)沿水平方向排列而構成。1個子畫素設為垂直方向上為縱長的長方形狀,3個子畫素32r、子畫素32g及子畫素32b設為相同或同樣的長方形狀。畫素32的水平方向的排列間距(水平畫素間距Ph)與畫素32的垂直方向的排列間距(垂直畫素間距Pv)大致相同。即,包含1個畫素32及包圍該1個畫素32的黑矩陣(BM)34(圖案材料)的形狀(參照由影線而表示的區域36)為正方形。而且,1個畫素32的縱橫比不為1,而為水平方向(橫向)的長度>垂直方向(縱向)的長度。
另外,圖示例中,1個子畫素(32r、32g、32b)的形狀為長方形狀,但本發明並不限定於此,例如,亦可為圖8(A)所示的在端部具有凹口的長方形狀,還可如圖8(C)所示為以規定角度彎曲或折彎的縱長的帶狀,或者可為彎曲的縱長的帶狀,而且亦可在端部具有凹口,該凹口的形狀還可為任何形狀,例如,亦可為如圖9(A)~圖9(H)所示的各種形狀,只要為現有公知的畫素形狀,則可為任何形狀。而且,1個畫素32的子畫素32r、子畫素32g、子畫素32b的形狀可為相同形狀,亦可針對每個子畫素而不同。
而且,畫素間距(水平畫素間距Ph及垂直畫素間距Pv)亦只要為與顯示單元30的解析度相應的間距,則可為任何間距,例
如,可提高84μm~264μm的範圍內的間距。
如根據圖6可知,包含多個畫素32的各自的子畫素32r、子畫素32g及子畫素32b的畫素排列圖案,藉由分別包圍該些子畫素32r、子畫素32g及子畫素32b的BM34的BM圖案38而規定,在將顯示單元30與導電性膜10重疊時產生的雲紋,因顯示單元30的BM34的BM圖案38與導電性膜10的合成配線圖案(配線圖案24a及配線圖案24b)的干涉而產生,故嚴格來說,BM圖案38為畫素排列圖案的反轉圖案,但此處,作為表示同樣的圖案者來進行處理。
當在具有包含所述BM34的BM圖案38的顯示單元30的顯示面板上,例如配置導電性膜10時,導電性膜10的配線圖案24相對於BM(畫素排列)圖案38而雲紋可見性方面得以最佳化,因而畫素32的排列週期與導電性膜10的金屬細線14的配線排列之間的空間頻率的干涉幾乎消除,從而抑制雲紋的產生。
另外,圖6所示的顯示單元30亦可包含液晶面板、電漿面板、有機EL面板、無機EL面板等顯示面板。
接下來,一邊參照圖7一邊對裝入了本發明的導電性膜的顯示裝置進行說明。圖7中,作為顯示裝置40,列舉裝入了本實施形態的導電性膜10的投影型靜電電容方式的觸控面板為代表例而進行說明,但本發明當然不限定於此。
如圖7所示,顯示裝置40包括:可顯示彩色圖像及/或單色圖像的顯示單元30(參照圖6),對來自輸入面42(箭頭Z1方向側)
的接觸位置進行檢測的觸控面板44,以及收容顯示單元30及觸控面板44的框體46。經由設置於框體46的一面(箭頭Z1方向側)的大的開口部,用戶可對觸控面板44進行存取。
觸控面板44除所述導電性膜10(參照圖1)外,亦包括:積層於導電性膜10的一面(箭頭Z1方向側)的蓋構件48,經由纜線50而與導電性膜10電性連接的可撓性基板52,以及配置於可撓性基板52上的檢測控制部54。
在顯示單元30的一面(箭頭Z1方向側)上,經由黏接層56而與導電性膜10黏接。導電性膜10使另一主面側(第2導電部16b側)與顯示單元30相向而配置於顯示畫面上。
蓋構件48藉由包覆導電性膜10的一面,而發揮作為輸入面42的功能。而且,藉由防止接觸體58(例如手指或觸控筆(stylus pen))的直接接觸,而可抑制擦傷的產生或灰塵的附著等,從而可使導電性膜10的導電性穩定。
蓋構件48的材質例如亦可為玻璃、樹脂膜。亦可在利用氧化矽等塗佈蓋構件48的一面(箭頭Z2方向側)的狀態下,密接於導電性膜10的一面(箭頭Z1方向側)。而且,為了防止刮擦等導致的損傷,亦可使導電性膜10及蓋構件48貼合而構成。
可撓性基板52為具備可撓性的電子基板。本圖示例中,固定於框體46的側面內壁,但配設位置亦可進行各種變更。檢測控制部54在將作為導體的接觸體58接觸(或接近)於輸入面42時,捕捉接觸體58與導電性膜10之間的靜電電容的變化,而構
成檢測其接觸位置(或接近位置)的電子電路。
應用本發明的導電性膜的顯示裝置基本如以上般而構成。
接下來,本發明中,對顯示裝置的導電性膜的配線圖案的組合(合成配線圖案)相對於規定的BM圖案的雲紋可見性的程度及最佳化的程序進行說明。即,對如下程序進行說明,所述程序是在本發明的導電性膜中,對相對於顯示裝置的規定的BM圖案而以雲紋不會被人類的視覺所察覺到的方式得到最佳化的合成配線圖案(配線圖案的組合)進行評價而決定的程序。
圖10是表示本發明的導電性膜的評價方法的一例的流程圖。
本發明的導電性膜的配線圖案的評價方法為如下:自BM圖案與導電性膜的合成配線圖案的合成圖案的2維傅立葉空間內的全部多個頻譜(具有頻率、強度)中,去除BM圖案的2維傅立葉空間內的全部多個頻譜(具有頻率、強度)及合成排列圖案的2維傅立葉空間內的多個全部頻譜(具有頻率、強度),僅抽出由BM圖案與合成配線圖案的干涉而產生的雲紋及雜訊的多個頻譜,並求出所抽出的全部多個頻譜的合計值,根據該合計值而算出雲紋及雜訊的抽出定量值,將形成所算出的定量值為規定範圍內的合成配線圖案的頻散不同的2種配線圖案的組合,評價並決定為以不會看見雲紋的方式得到最佳化的2種配線圖案的組合,所述BM圖案與導電性膜的合成配線圖案的合成圖案的2維傅立葉空間內的全部多個頻譜是藉由頻率解析所得,所述頻率解析中使用了顯示裝置的顯示單元的BM(畫素排列)圖案與導電性
膜的頻散不同的2種配線圖案的組合(合成配線圖案)的高速傅立葉變換(FFT)。
另外,圖7所示的構成的顯示裝置40的使用由金屬網孔形成的導電性膜10的觸控面板44中,最終到達觀察者的眼睛的光由來自BM34的放射光與導電性膜10的透過率的累計而表示。因此,等價於在頻率空間(傅立葉空間)上,進行卷積積分。因此,所述本發明法中,為了抽出雲紋及雜訊的頻譜(頻率/強度)而一般利用FFT,但根據利用方法的不同,對象物的頻譜(頻率/強度)會大幅發生變化,因而規定以下的程序。
本發明法中,首先,作為程序1,進行BM圖案及2種配線圖案的各圖像(透過率圖像資料:0-1)的製作。即,如圖10所示,步驟S10中,製作並獲取圖7所示的顯示裝置40的顯示單元30的BM圖案38(BM34)(參照圖11(A))的透過率圖像資料、導電性膜10的配線圖案24a及配線圖案24b(金屬細線14)(參照圖11(B)及圖11(C))的透過率圖像資料。另外,在預先準備或儲存BM圖案38的透過率圖像資料與配線圖案24a及配線圖案24b的各透過率圖像資料的情況下,亦可自所準備或儲存的資料中獲取。
顯示單元30的BM圖案38例如如圖6、圖8(A)及圖8(C)所示,可設為每1畫素32包含RGB這3種顏色的子畫素32r、子畫素32g及子畫素32b的圖案,但當利用單色,例如如圖11(A)、圖8(B)及圖8(D)所示,僅利用G通道的子畫素32g
時,R通道及B通道的透過率圖像資料較佳設為0。本發明中,作為BM34的圖像資料,即BM圖案38的透過率圖像資料,如圖6及圖11(A)所示,不限定於單純的矩形狀者,只要為可使用的BM圖案則亦可不具有BM34的長方形的開口,還可指定並使用具有任意的BM開口的BM圖案。例如,BM圖案38如所述般,不限定於圖6及圖11(A)所示的單純的矩形狀者,亦可如圖8(A)及圖8(B)所示,為具有BM34的大致長方形(具有切口)的開口(子畫素32r、子畫素32g及子畫素32b)者,或如圖8(C)及圖8(D)所示,為每1畫素32具有以規定角度彎曲的帶狀的開口且包含RGB這3種顏色的子畫素32r、子畫素32g及子畫素32b的圖案,還可為具有彎曲的帶狀開口者或具有鉤狀開口者。
另一方面,導電性膜10的頻散不同的2種配線圖案內的規則性相對高的配線圖案24a,例如如圖2及圖11(B)所示,可形成成為配線的金屬細線14相對於水平線以規定角度,例如小於45°[deg]的角度傾斜的菱形圖案,當然亦可如所述般,配線圖案24a的開口部22a的形狀為任一形狀,例如,亦可為如圖4(A)及圖4(B)所示的正方形(正方格子)或正六邊形,正方格子亦可為傾斜45°[deg]的正方格子。
另一方面,導電性膜10的頻散不同的2種配線圖案內的規則性相對低的配線圖案24b,例如如圖3及圖11(C)所示,可形成為包含不同形狀的開口部22b的排列的無規圖案,但當然亦可如所述般,配線圖案24b的開口部22b的形狀為任一形狀,例如,
亦可為如圖5(A)及圖5(B)所示的無規形狀。
另外,此處,在製作BM圖案38的透過率圖像資料時,將其解析度例如設為高解析度即12700dpi,對透過率圖像資料的尺寸加以規定,例如將畫素尺寸設為9944(畫素)×9944(226×44(重複數))(畫素)。此處,圖像資料的尺寸例如只要為最接近10000×10000的BM34的圖像資料(BM圖案38)的尺寸的整數倍便足夠。這是因為,當對各自的圖像尺寸進行累計時,圖像資料為週期性者在進行2DFFT(2維高速傅立葉變換)時,誤差為最小。另外,圖11(A)所示的顯示單元(顯示器)30的BM34的子畫素32g例如為112dpi,開口部的尺寸例如為28(畫素)×77(畫素)。
製作出所述BM圖案38的透過率圖像資料。
繼而,製作配線圖案24a及配線圖案24b的透過率圖像資料。準備該些2種圖像資料,最終進行兩者的累計。配線圖案24a及配線圖案24b分別為圖11(B)及圖11(C)所示的網孔圖案,其圖像解析度例如與BM圖案38的解析度相同,為12700dpi,畫素尺寸例如與BM圖案38相同,為9944(畫素)×9944(畫素)。配線圖案24a及配線圖案24b的金屬細線14的線寬例如為4μm。
圖11(B)所示的規則的網孔圖案為菱形圖案,間距(p:參照圖2)表示斜邊(p:參照圖2),例如為252μm,對角(θ:參照圖2)例如為50°[deg]。
圖11(C)所示的不規則網孔圖案為無規圖案,此種無規圖
案例如利用奧多比(Adobe)公司製造的PS圖像處理軟體(Photoshop)(註冊商標)的染色玻璃(stained glass)功能製作而成。
對如此獲得的圖11(B)及圖11(C)所示的配線圖案24a及配線圖案24b的透過率圖像資料進行累計,而求出圖12(A)所示的合成配線圖案的各透過率相乘所得的圖像資料。
然後,對如此獲得的圖12(A)所示的2者的合成配線圖案的各透過率相乘所得的圖像資料與BM圖案38的透過率圖像資料進行累計,而求出圖12(B)所示的3者的合成圖案的各透過率相乘所得的圖像資料。如此求出的圖12(B)所示的合成圖案的各透過率相乘所得的圖像資料包含含雜訊的雲紋的空間頻率。
接下來,作為程序2,對由程序1製作的各種透過率圖像資料,進行2維高速傅立葉變換(2DFFT(基底2))。即,如圖10所示,步驟S12中,分別對由步驟S10製作的BM圖案38的透過率圖像資料、2種配線圖案24a及配線圖案24b的合成配線圖案的各透過率相乘所得的圖像資料、以及BM圖案38與合成配線圖案的合成圖案的各透過率相乘所得的圖像資料進行2DFFT(基底2)處理,並算出BM圖案38的透過率圖像資料、2種配線圖案24a及配線圖案24b的合成配線圖案的各透過率相乘所得的圖像資料、以及BM圖案38與合成配線圖案的合成圖案的各透過率相乘所得的圖像資料的2維傅立葉頻譜(傅立葉空間內的多個2DFFT頻譜(頻率及強度))。
圖13(A)中示意性地表示此處獲得的合成配線圖案的各透過率相乘所得的圖像資料的2維傅立葉空間內的頻譜的多個頻譜峰值及雜訊成分。另外,圖13(A)中,箭頭所指的直線表示作為規則的圖案的配線圖案24a的基本頻率的向量(vector)方向。此處,圖13(A)所示的頻譜的多個頻譜峰值主要由規則的配線圖案24a引起,圖13(A)所示的圓內局部存在的雜訊成分主要由不規則的配線圖案24b引起。
而且,圖13(B)中示意性地表示如此獲得的BM圖案38的透過率圖像資料的2維傅立葉空間內的多個頻譜的頻譜峰值。
此處,如以下般算出並獲取BM圖案38及合成配線圖案的配線圖案24a的各頻譜峰值的頻譜頻率及頻譜強度。
首先,在獲取頻譜頻率時,在峰值的算出中考慮BM圖案38及合成配線圖案的配線圖案24a即可,根據BM圖案38及配線圖案24a的基本頻率而求出頻率峰值。這是因為進行2DFFT處理的透過率圖像資料為離散值,因而頻譜頻率依存於圖像尺寸的倒數。頻率峰值位置可基於獨立的2維基本頻率向量成分而加以組合來表示,當然,如圖13(A)及圖13(B)所示,所獲得的峰值位置為格子狀。
此處,所獲得的頻譜強度較佳為以圖像面積(圖像尺寸)而標準化。所述例中,較佳為以4944×4944而標準化(帕塞瓦爾定理(Parseval's theorem))。
另外,合成配線圖案的不規則的配線圖案24b的各頻譜不易
具有特定的峰值,因而如圖13(A)所示,作為強度小的雜訊成分而分佈於uv平面上以原點為中心的規定範圍(規定半徑的圓)內。
此處,若進行圖13(A)中示意性地表示的2種配線圖案24a及配線圖案24b的合成配線圖案的2DFFT頻譜、與圖13(B)中示意性地表示的BM圖案38的2DFFT頻譜的卷積積分(卷積(convolution)),則獲得由雲紋的頻譜、合成配線圖案的2DFFT頻譜及BM圖案38的2DFFT頻譜混合所得的頻譜。
換言之,在藉由所獲得的合成圖案的各透過率相乘所得的圖像資料的2DFFT而獲得的2維傅立葉空間內的多個頻譜中,包含雲紋的頻譜、合成配線圖案的2DFFT頻譜、及BM圖案38的2DFFT頻譜。因此,合成圖案的2DFFT頻譜中亦包含含雜訊的雲紋的多個頻譜。
接下來,作為程序3,進行雲紋的定量化,並算出含雜訊的雲紋的抽出定量值。即,如圖10所示,步驟S14中,將由步驟S12算出的BM圖案38與2種配線圖案24a及配線圖案24b的合成配線圖案的合成圖案的各透過率相乘所得的圖像資料(參照圖12(A))的2DFFT頻譜的絕對值,如所述般,以圖像尺寸(4944×4944)標準化後,在圖像區域內進行合計,從而獲取合成圖案的2DFFT頻譜(絕對值)的合計值。
如此獲得的合成圖案的2DFFT頻譜的合計值中,如所述般,包含雲紋的頻譜、合成配線圖案的2DFFT頻譜及BM圖案38的
2DFFT頻譜。
因此,接下來,自合成圖案的2DFFT頻譜的合計值中去除合成配線圖案的2DFFT頻譜、及BM圖案38的2DFFT頻譜,僅抽出包含雜訊的雲紋的頻譜(頻率及強度)。另外,此處,亦將雲紋的頻譜強度作為絕對值來進行處理。
僅求出如此抽出的含雜訊的雲紋(雲紋/雜訊)的頻譜的合計值。
僅求出如此獲得的雲紋/雜訊的頻譜的合計值的常用對數值,而獲得雲紋/雜訊抽出定量值(常用對數)。
另外,以後將敍述自合成圖案的2DFFT頻譜的合計值而僅求出雲紋/雜訊的頻譜的合計值的具體的方法。
且說,實際空間中,對於雲紋而言,本來由合成配線圖案的配線圖案24a與BM圖案38的透過率圖像資料的乘法運算而產生,因而在頻率空間內進行兩者的卷積積分(卷積)。然而,步驟S12中,因算出BM圖案38及合成配線圖案(配線圖案24a)的兩者的2維傅立葉頻譜的峰值頻譜(頻率及強度),故求出兩者各自的頻率峰值彼此的差分(差的絕對值),將所求出的差分設為雲紋的頻率,求出兩者的組合的2組向量強度的乘積,並將所求出的乘積設為雲紋的強度(絕對值),藉此可求出雲紋的頻譜。
此處,圖13(A)及圖13(B)中分別表示的合成配線圖案(配線圖案24a)及BM圖案38這兩者的2維傅立葉頻譜的強度特性的各自的頻率峰值彼此的差分,在將兩者的2維傅立葉
頻譜的強度特性重合所獲得的強度特性中,相當於兩者的各自的頻率峰值的頻率座標上的峰值位置間的相對距離。
另外,合成配線圖案(配線圖案24a)及BM圖案38這兩者的2維傅立葉頻譜的頻譜峰值分別如圖13(A)及圖13(B)所示,因分別存在多個,故亦求出多個作為其相對距離的值的頻率峰值彼此的差分,即雲紋的頻率。因此,若兩者2維傅立葉頻譜的頻譜峰值存在多個,則所求出的雲紋的頻率亦為許多個,所求出的雲紋的強度亦為許多個。
此處,為了自合成圖案的2DFFT頻譜的合計值而僅求出雲紋/雜訊的頻譜的合計值,而需要去除BM圖案38的2DFFT頻譜的峰值(參照圖13(B))及合成配線圖案、尤其作為規則的網孔圖案的配線圖案24a的2DFFT頻譜的峰值(參照圖13(A))。
首先,可如以下般來去除BM圖案38的2DFFT頻譜的峰值。
此處,顯示裝置中,因已決定顯示器解析度,故顯示器可顯示的最高的空間頻率(基本頻率)相對於該解析度而決定。因此,具有高於該最高的空間頻率的頻率的雲紋,不會由該顯示器顯示,因而不需要作為本發明的評價對象。因而,可對應於顯示器解析度來規定雲紋的最高頻率。
即,如圖14所示,表示在算出包含雲紋的頻譜和時,可僅求出比BM圖案38的空間頻率低的頻譜之和。據此,包含雲紋的頻譜的合計值中不再包含BM圖案38的頻譜峰值。這表示,利用BM圖案38的畫素遮蔽效果,可將雲紋可見性定量化時所需
的雲紋的頻率限定為畫素尺寸以下。
根據以上,可求出包含雲紋的頻譜的合計值(BM圖案峰值去除合計值),所述雲紋已自合成圖案的2DFFT頻譜的合計值中去除了BM圖案38的2DFFT頻譜的峰值。
另外,本發明中應考慮的雲紋的最高頻率,在將顯示器的BM圖案38的畫素間距例如設為p(μm)時,可設為1000/(2p)。如此,本發明中,在根據兩者2維傅立葉頻譜的頻譜峰值而求出的雲紋的頻率及強度中,作為本發明的評價對象的雲紋,可設為雲紋的頻率具有如下頻率的雲紋,該頻率為根據顯示器解析度而規定的雲紋的最高頻率1000/(2p)以下。
接下來,可如以下般自合成圖案的2DFFT頻譜的合計值中去除合成配線圖案(配線圖案24a)的2DFFT頻譜的峰值。
合成圖案的2DFFT頻譜中所包含的合成配線圖案(配線圖案24a)的頻譜的峰值,由圖13(A)所示的合成配線圖案的頻譜、與圖13(B)中的由(a)所示的BM圖案38的頻譜的中心值(uv座標的原點的值(平均值))的卷積積分(卷積)表示。因此,合成配線圖案的頻譜峰值的頻譜強度成為各個合成配線圖案的頻譜峰值、與圖13(B)中的由(a)所示的BM圖案38的頻譜的中心值的累計合計值。另外,該合成配線圖案的累計合計值為合成配線圖案的2DFFT頻譜內的BM圖案的基本頻率以下的累計合計值。
因此,自圖12(A)、圖12(B)所示的合成圖案的各透過率
相乘所得的圖像資料的2DFFT頻譜的合計值除以該累計合計值即可。
因此,若自所述的BM圖案峰值去除合計值除以該累計合計值,則可僅求出雲紋/雜訊的頻譜的合計值。
另外,關於來自合成圖案的2DFFT頻譜的合計值的、所述BM圖案38的2DFFT頻譜的峰值的去除及合成配線圖案(配線圖案24a)的2DFFT頻譜的峰值的去除,任一者可先進行。
求出如所述般僅求出的雲紋/雜訊的頻譜的合計值的常用對數值,而可獲得雲紋/雜訊抽出定量值(常用對數)。
接下來,作為程序4,基於雲紋的定量值進行配線圖案的評價。
如圖10所示,步驟S16中,若由步驟S14獲得的雲紋/雜訊抽出定量值(常用對數)(雲紋的定量值)為規定範圍內,則將該合成配線圖案,即配線圖案24a及配線圖案24b的組合評價為本發明的導電性膜10的經最佳化的配線圖案24a及配線圖案24b的組合,且設定為經最佳化的配線圖案24a及配線圖案24b的組合,從而評價為本發明的導電性膜10。
另外,將雲紋的定量值限定於規定範圍內的理由在於:若超出規定範圍,則由2種頻散不同的配線圖案內的一者的規則性相對高的網孔圖案與BM圖案的干涉而產生的雲紋,即便在所述2種頻散不同的配線圖案內的另一者的規則性相對低的網孔圖案所引起的雜訊的遮蔽效果下亦會被看見,從而被看見的雲紋會引起
目視的用戶的察覺,或者規則性相對低的網孔圖案所引起的雜訊變得明顯,而引起目視的用戶的察覺。使雲紋的定量值為規定範圍內,是為了即便觀察距離發生變化或產生雲紋,亦可利用雜訊的遮蔽效果而使其基本上不會察覺到。
此處,規定範圍為根據導電性膜及顯示裝置的性狀,具體而言,根據2個導電部16(16a、16b)的配線圖案24a及配線圖案24b的金屬細線14的線寬,開口部22(22a、22b)的形狀、其尺寸(間距等)或角度等,以及BM圖案38的形狀、其尺寸(間距等)或配置角度等而適當設定者,例如,在將雲紋的定量值設為E時,較佳為以常用對數計為E<-2.150(以真數計為10-2.150),更佳為以常用對數計為E<-2.20425(以真數計為10-2.20425)。
另外,詳情將於以後進行敍述,關於配線圖案24a及配線圖案24b的許多個組合,利用模擬(simulation)樣本及實際樣本而求出雲紋的評價指標,3名研究員利用目視對由配線圖案24a及配線圖案24b與BM圖案38的干涉而產生的雲紋進行官能評價後,若雲紋的定量值E以常用對數計為E<-2.150,則藉由規則性低的配線圖案(24b)所引起的雜訊來對由規則性高的配線圖案(24a)與BM圖案(38)的干涉而產生的雲紋進行遮蔽,從而不易被看見,且為幾乎不會察覺的水準以上,若以常用對數計為E<-2.20425,則亦具有雜訊的遮蔽效果,且為完全不會察覺的水準。
因此,本發明中,較佳為將雲紋的定量值E以常用對數計而特別規定為E<-2.150,更佳為特別規定為E<-2.20425。
這樣,本發明的導電性膜的配線評價方法結束,可製作本發明的導電性膜,該導電性膜即便重疊於顯示裝置的顯示單元的BM圖案上亦可抑制雲紋的產生,且具有相對於不同解析度的顯示裝置,與觀察距離無關而雲紋的可見性均優異且經最佳化的2種規則性不同的配線圖案。
接下來,對本發明的第2實施形態的導電性膜及觸控面板進行說明。另外,此處,表示數值範圍的「~」用作包含其前後記載的數值作為下限值及上限值的含義。而且,本發明的第2實施形態中,當然可應用本發明的第1實施形態的應用事項,相反,本發明的第1實施形態中,當然亦可應用本發明的第2實施形態的應用事項。
圖17是具備本發明的第2實施形態的導電性膜的本發明的觸控面板200的要部分解立體圖。該觸控面板200包括感測器本體202、及未圖示的控制電路(積體(integrated circuit,IC)電路等)。
感測器本體202包括:第1片材體110A與第2片材體110B自下方起依該順序積層而構成的積層導電性膜(導電性膜)112,及積層於第2片材體110B上的保護層206。即,感測器本體202中,自下方起積層著第1片材體110A、第2片材體110B、保護層206。
感測器本體202(積層導電性膜112及保護層206)例如配置於液晶顯示器等顯示裝置208的顯示面板210上。感測器本體202在自上表面觀看時,包括配置於與顯示面板210的顯示畫面210a
相對應的區域的觸控位置的感測器部212,及配置於與顯示面板210的外周部分相對應的區域的端子配線部214(所謂的邊框)。
此處,參照將要部放大的圖18及圖19對積層導電性膜112進行說明。
第1片材體110A包括作為第1導電部(第1電極)116A的第1導電圖案118A,該第1導電圖案118A形成於作為絕緣層的第1透明基體114A的一主面上。第2片材體110B亦同樣地,包括形成於絕緣性的第2透明基體114B的一主面上的第2導電圖案118B(第2導電部(第2電極)116B)。
第1透明基體114A及第2透明基體114B的厚度較佳為20μm~350μm以下,更佳為30μm~250μm,尤佳為40μm~200μm。
作為第1透明基體114A及第2透明基體114B,可列舉塑膠膜、塑膠板、玻璃板等。
作為所述塑膠膜及塑膠板的原料,例如可使用聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(Polyethylene naphthalate,PEN)等聚酯類;聚乙烯(polyethylene,PE)、聚丙烯(polypropylene,PP)、聚苯乙烯、聚乙烯-醋酸乙烯酯(polyEthylene Vinyl Acetate,EVA)等聚烯烴類;乙烯系樹脂;以及聚碳酸酯(polycarbonate,PC)、聚醯胺、聚醯亞胺、丙烯酸系樹脂、三乙醯纖維素(Triacetyl Cellulose,TAC)、環烯烴聚合物(Cycloolefin Polymer,COP)等。
作為第1透明基體114A及第2透明基體114B,較佳為PET(熔點:258℃)、PEN(熔點:269℃)、PE(熔點:135℃)、PP(熔點:163℃)、聚苯乙烯(熔點:230℃)、聚氯乙烯(熔點:180℃)、聚偏二氯乙烯(熔點:212℃)或TAC(熔點:290℃)等熔點約為290℃以下的塑膠膜或塑膠板,自光透過性或加工性等的觀點而言,尤佳為PET。如用於積層導電性膜112的第1片材體110A及第2片材體110B般的導電性膜要求透明性,因而較佳為第1透明基體114A及第2透明基體114B的透明度高。
在本實施形態的情況下,第1導電圖案118A如圖18所示,具有分別沿第1方向(x方向/長邊方向)延伸的多個帶狀的圖案。第1導電圖案118A具有朝向第2方向(與第1方向正交的方向:y方向)的規定的寬度方向尺寸(電極寬度W1),並且多個第1導電圖案118A沿該y方向並列配置。
各第1導電圖案118A藉由細線120(線材)彼此交叉而形成,所述細線120包含銀、銅、鉬、含該些中的1種以上的合金、或導電性纖維等。伴隨該交叉,形成著多個由細線120包圍的空間(開口部),即,網眼122A。
多個網眼122A的形狀如圖20所示彼此不同,且規則性(統一性)低。換言之,由細線120形成的第1導電圖案118A的網孔圖案為無規的。例如,網眼122a、網眼122f為梯形形狀,網眼122b、網眼122e為八邊形形狀。而且,網眼122d呈藉由網眼122b、網眼122f進入角部彎曲的長方形而折曲的形狀。此處,第
1導電圖案118A的無規網孔圖案宜為2DFFT頻譜的標準偏差小於-5.0者。
將網眼122A的又一例表示於圖21中。該情況下,由影線表示的網眼122A由以直線連結頂點C1及頂點C2的細線120p、以直線連結頂點C2及頂點C3的細線120q、以直線連結頂點C3及頂點C4的細線120r、及以直線連結頂點C4及頂點C1的細線120s而形成,且呈多邊形形狀。與其他網眼(網眼122A)亦同樣地,呈多邊形形狀。
在圖20或圖21所示的任一例中,細線120的寬度方向尺寸(線寬)未作特別限定,例如可設定為10μm以下,但較佳為5μm以下。網眼122A的形狀為無規的且細線120的線寬如此小相互發揮著作用,從而雲紋及雜訊顆粒感得到改善而可見性變得良好。線寬更佳設為3μm以下。另外,為了確保觸控面板200的檢測感度,細線120的線寬較佳為1μm以上。
根據以上,形成無規圖案的網眼的線寬較佳為1μm~5μm。藉此,減輕雜訊顆粒感並且透過率提高。
進而,鄰接的網眼122A彼此的間隔,即,平均網眼間距(鄰接網眼的重心間距離)較佳為100μm~500μm的範圍內。此處,無規圖案的平均網眼間距可作為內部包含1個網眼122A的最小的圓的直徑而求出。
藉由將平均網眼間距設定於所述範圍內,而可提高透過率。另外,平均網眼間距更佳為100μm~300μm的範圍內。藉此,
可進一步有助於透過率的提高。如圖18所示,各第1導電圖案118A的一端部經由第1接線部140a而與由細線120形成的第1端子配線圖案142a電性連接。
另一方面,形成於構成第2片材體110B的第2透明基體114B(參照圖19)的一主面上的第2導電圖案118B如圖18所示,具有分別沿第2方向(y方向)延伸的多個帶狀圖案。該些多個第2導電圖案118B沿第1方向(x方向)排列。即,積層導電性膜112中,如圖19所示,經由絕緣性的第2透明基體114B而第1導電圖案118A與第2導電圖案118B相向。
另外,第2導電圖案118B的朝x方向的寬度方向尺寸(電極寬度W2)較佳為設定得比第1導電圖案118A的電極寬度W1小,但亦可使電極寬度W1與電極寬度W2同等。
各第2導電圖案118B亦與第1導電圖案118A同樣地,藉由細線120彼此交叉而形成。伴隨該交叉,形成由細線120包圍的空間(開口部),即,網眼122B。
該情況下,網眼122B如圖22所示,較佳成為4邊的長度相等且具有2個鈍角與2個銳角的菱形形狀。當然,處於對角關係的鈍角的交叉角度α為超過90°的相同角度,銳角的交叉角度β為小於90°的相同角度。
作為銳角的交叉角度β較佳為70°以下。該情況下,對於減少雲紋而言有效。然而,在β過小的情況下亦容易產生雲紋。為了避免此問題,β較佳為設為30°~70°的範圍內,更佳為設為45°~
70°的範圍內。
網眼122B並不限定於圖22所例示的橫長的菱形,當然亦可為縱長的菱形。
網眼122B中,細線120的較佳的寬度方向尺寸(線寬)WL為4μm以下,更佳為2μm以下。藉此,改善由細線120形成的導電圖案的雲紋及銀細線視覺性,從而可見性變得良好(即,不易看見細線120)。另外,為了確保觸控面板200的檢測感度,細線120的寬度方向尺寸WL較佳為1μm以上。
根據以上,較佳為形成定型的圖案的網眼的線寬為1μm~5μm。藉此,改善雲紋及電極的視覺性,從而可見性變得良好。而且亦確保檢測感度。
進而,鄰接的網眼122B彼此的間隔,即,網眼間距(鄰接網眼的重心間距離)較佳為300μm以下。該情況下,對於減少雲紋及銀細線視覺性而言亦有效。
此處,第2導電圖案118B的定型的圖案中,2DFFT頻譜的標準偏差宜為-5.0以上。
如圖18所示,各第2導電圖案118B的一端部經由第2接線部140b而與由細線120形成的第2端子配線圖案142b電性連接。
應用於觸控面板200的第1片材體110A如圖18所示,在與感測器部212對應的部分排列著所述許多個第1導電圖案118A,在端子配線部214上排列著自各第1接線部140a導出的由細線120
而形成的多個第1端子配線圖案142a。
圖17的例中,在端子配線部214中的第1片材體110A的一長邊側的周緣部,在其長度方向中央部分,多個第1端子216a沿所述一長邊的長度方向排列形成。而且,沿著感測器部212的一短邊(離第1片材體110A的一短邊最近的短邊:y方向)直線狀地排列著多個第1接線部140a(例如第奇數個第1接線部140a),沿著感測器部212的另一短邊(離第1片材體110A的另一短邊最近的短邊:y方向)直線狀地排列著多個第1接線部140a(例如第偶數個第1接線部140a)。
多個第1導電圖案118A中的例如第奇數個第1導電圖案118A,與各自對應的第奇數個第1接線部140a連接,第偶數個第1導電圖案118A與各自對應的第偶數個第1接線部140a連接。自第奇數個第1接線部140a中導出的第1端子配線圖案142a以及自第偶數個第1接線部140a中導出的第1端子配線圖案142a,朝向第1片材體110A的一長邊的大致中央部引繞,且與各自對應的第1端子216a電性連接。因此,例如第1個與第2個第1端子配線圖案142a以大致相同的長度而引繞,以下同樣地,第2n-1個與第2n個第1端子配線圖案142a分別以大致相同的長度引繞。如此,藉由在第1片材體110A的一長邊的長度方向中央部分形成第1端子216a,而可與所述同樣地抑制局部的訊號傳遞的延遲。這將有助於響應速度的高速化。
另一方面,第2片材體110B的外形自上表面觀察具有
長方形狀,感測器部212的外形亦具有長方形狀。在端子配線部214中的第2片材體110B的一長邊側的周緣部,在其長度方向中央部分,多個第2端子216b沿所述一長邊的長度方向排列形成。而且,沿著感測器部212的一長邊(離第2片材體110B的一長邊最近的長邊:x方向)直線狀地排列著多個第2接線部140b。自各第2接線部140b導出的第2端子配線圖案142b朝向第2片材體110B的一長邊的大致中央部引繞,且與各自對應的第2端子216b電性連接。
因此,連接於與感測器部212的一長邊的兩側對應的各第2接線部140b的第2端子配線圖案142b,以大致相同的長度引繞。藉此,可抑制局部的訊號傳遞的延遲。這亦有助於響應速度的高速化。
另外,可使第1端子配線圖案142a的導出形態與所述第2端子配線圖案142b相同,相反地,亦可使第2端子配線圖案142b的導出形態與所述第1端子配線圖案142a相同。
積層導電性膜112如圖19所示,於第1片材體110A積層第2片材體110B而構成。此時,在第1片材體110A的上端面(即,第1導電圖案118A及第1透明基體114A上)與第2片材體110B的下端面之間,配置著作為黏著片材而貼附的黏著劑(亦指OCA)130。如此形成的積層導電性膜112中,將第1導電圖案118A與第2導電圖案118B重合的部位(重疊的部分)的一例作為平面圖而表示於圖23中。
在將該積層導電性膜112用作觸控面板200的情況下,在第2片材體110B上形成保護層206。另外,在第2片材體110B的上端面與保護層206的下端面之間,亦配置著作為黏著片材的黏著劑(光學透明膠Optical Clear Adhesive,OCA)130。而且,將自第1片材體110A的許多個第1導電圖案118A導出的第1端子配線圖案142a、與自第2片材體110B的許多個第2導電圖案118B導出的第2端子配線圖案142b,例如連接於控制掃描的控制電路。
作為觸控位置的檢測方式,較佳為採用自電容方式或相互電容方式。即,若為自電容方式,則對第1導電圖案118A依序供給用於觸控位置檢測的電壓訊號,對第2導電圖案118B依序供給用於觸控位置檢測的電壓訊號。指尖與保護層206的上表面接觸或接近,藉此與觸控位置相向的第1導電圖案118A及第2導電圖案118B與GND(接地)間的電容增加,因而來自該第1導電圖案118A及第2導電圖案118B的傳遞訊號的波形成為與來自其他導電圖案的傳遞訊號的波形不同的波形。因此,控制電路中,基於由第1導電圖案118A及第2導電圖案118B供給的傳遞訊號來運算觸控位置。
另一方面,在為相互電容方式的情況下,對例如第1導電圖案118A依序供給用於觸控位置檢測的電壓訊號,對第2導電圖案118B依序進行感測(傳遞訊號的檢測)。藉由指尖與保護層206的上表面接觸或接近,而對與觸控位置相向的第1導電圖案
118A和第2導電圖案118B間的寄生電容並列施加手指的雜散電容(stray capacitance),因而來自該第2導電圖案118B的傳遞訊號的波形成為與來自其他第2導電圖案118B的傳遞訊號的波形不同的波形。因此,控制電路中,基於供給電壓訊號的第1導電圖案118A的順序與來自所供給的第2導電圖案118B的傳遞訊號而運算觸控位置。
藉由採用此種自電容方式或相互電容方式的觸控位置的檢測方法,即便同時使2個指尖接觸或接近保護層206的上表面,亦可檢測各觸控位置。另外,作為關於投影型靜電電容方式的檢測電路的先前技術文獻,有美國專利第4,582,955號說明書、美國專利第4,686,332號說明書、美國專利第4,733,222號說明書、美國專利第5,374,787號說明書、美國專利第5,543,588號說明書、美國專利第7,030,860號說明書、美國專利申請公開第2004/0155871號說明書等。
第1導電圖案118A及第2導電圖案118B為了獲得線寬窄的圖案,較佳為可藉由微觸(microcontact)印刷圖案化法或銀鹽法來形成。為了反覆獲得大量的無規圖案,不使用消耗的印模(stamp)的銀鹽法更佳。
微觸印刷圖案化法是利用微觸印刷法而獲得線寬窄的圖案的方法。此處,微觸印刷法為如下方法,即,使用具有彈性的聚二甲基矽氧烷的印模,將硫醇溶液作為油墨而與金屬基材接觸並製作單分子膜的圖案(參照懷特塞茲(Whitesides)著,「德國應用
化學(Angew.Chem.Int.Ed.)」,1998年第37卷第550頁)。
微觸印刷圖案化法的代表性的製程例如為以下所示。即,首先,對基材塗佈金屬(例如,將銀濺鍍塗佈於PET基材上)。
接下來,使用微觸印刷法將單分子膜的遮蔽(masking)衝壓(stamping)至塗佈著金屬的基材。然後,去除遮蔽下的圖案,藉由蝕刻而將塗佈於基材的金屬去除。
根據以上,其具體操作等在日本專利特表2012-519329號公報的段落[0104]中進行詳細敍述。
另一方面,銀鹽法藉由對具有含感光性銀鹽的層的感光材料進行曝光.顯影,而獲得成為網孔狀的細線120的圖案。其具體的操作等在日本專利特開2009-4348號公報的段落[0163]~[0241]中進行詳細敍述。
將如此獲得的觸控面板200的特性,連同第1導電圖案及第2導電圖案的雙方為定型的圖案(菱形形狀)的觸控面板A、第1導電圖案及第2導電圖案的雙方為無規圖案的觸控面板B的特性一併表示於表1中。根據該表1可知,比起觸控面板A,觸控面板200的雲紋減少且可見性優異,並且比起觸控面板B,雲紋及雜訊顆粒感減輕且透過率良好。
即,將第1導電圖案118A設為無規圖案,另一方面,將第2導電圖案118B設為定型的圖案,藉此可獲得各特性良好的觸控面板200。
而且,在使用本發明,來對具有分別配置於兩主面的第1導
電部(電極)及第2導電部(電極)的導電性膜的導電部進行設計時,尤其可將配置於第1導電部及第2導電部的配線圖案如與無規圖案及定型的圖案的混合圖案般,設為包含規則性的頻散不同的網孔圖案的混合網孔圖案,因而可容易進行配線圖案的設計。
本發明並不特別限定於所述實施形態,在不脫離本發明的主旨的範圍內可進行各種變更。
例如,該實施形態中,將下方的第1導電圖案118A設為無規圖案,上方的第2導電圖案118B設為定型的圖案,相反地,亦可將下方的第1導電圖案118A設為定型的圖案,將上方的第2導電圖案118B設為無規圖案。
進而,積層導電性膜112並不限定於在第1透明基體114A的一主面形成第1導電圖案118A,在第2透明基體114B的一主面形成第2導電圖案118B而積層者(參照圖18及圖19)。即,如圖24所示,亦可為在第1透明基體114A的一主面形成第1導電圖案118A,且在該第1透明基體114A的另一主面形成第2導電圖案118B者。該情況下,成為如下形態,即,不存在第2透明基體114B,在第1導電圖案118A上積層第1透明基體114A,在第1透明基體114A上積層第2導電圖案118B。
進而,第1導電圖案118A與第2導電圖案118B亦可形成於第1透明基體114A的同一主面上。該情況下,第1導電圖案118A與第2導電圖案118B成為經由空間或虛設圖案等絕緣部而
相互絕緣的形態。
而且,網眼122B(或網眼122A)不限定於菱形形狀,例如亦可為平行四邊形(除菱形外)、多邊形、包含圓弧的形狀。
任一情況下,積層導電性膜112的用途並不特別限定於觸控面板200的感測器本體202,可用於無機EL元件、有機EL元件、或者太陽電池等各種電極。進而,除電極以外,亦可應用於藉由流動電流而發熱的透明發熱體(例如車輛的除霜裝置)、阻斷電磁波的電磁波屏蔽材。
以下,基於實施例對本發明進行具體說明。
另外,以下的實施例所示的材料、使用量、比例、處理內容、處理程序等只要不脫離本發明的主旨則可進行適當變更。即,本發明的範圍不應限定性地被解釋為以下所示的具體例。
(第1實施例)
關於具有合成配線圖案的本發明的第1實施形態的導電性膜10,其中所述合成配線圖案是相對於圖11(A)所示的BM圖案38,而將圖16(A)所示的不規則圖案設為配線圖案24b且將圖16(C)所示的規則的圖案設為配線圖案24a的組合,使配線圖案24a及配線圖案24b的組合改為圖案的規則性不同的各種組合,在模擬樣本及實際樣本中,將配線圖案24a及配線圖案24b的組合與BM圖案38進行重疊,求出雲紋的定量值,並且3名研究員利用目視來對因重疊的兩者的干涉而產生的雲紋進行官能評價。
此處,官能評價結果以○(1)、△(2)、×(3)這3個階段來進行,在評價為所有人均未察覺到的情況下,作為「未察覺到」的評價,而評價為○(1),在評價為所有人幾乎未察覺到的情況下或評價為至少1名研究員未察覺到且評價為剩餘研究員幾乎未察覺到的情況下,作為「幾乎未察覺到」的評價而評價為△(2),在評價為即便有1名研究員看見並察覺到雲紋的情況下,作為「察覺到」的評價,而評價為×(3)。
本實施例中使用的BM圖案38為圖11(A)所示的矩形狀圖案,其解析度為12700dpi,圖像尺寸為9944(畫素)×9944(畫素),G濾波器的子畫素32g為112dpi,其形狀為矩形(長方形),其尺寸為28(畫素)×77(畫素)。
被用作配線圖案24a的規則圖案在表2中作為規則參數25、規則參數27、規則參數30及規則參數45而表示,規則參數25如圖16(C)所示,為間距(p)252μm、對角(θ)25°[deg]的定型的菱形圖案。
表2中作為規則參數25(0.0284)、規則參數27(0.018622)、規則參數30(0.014924)及規則參數45(0.008493)而表示的規則圖案,亦如圖15所示,頻譜的標準偏差均為-5(-5.000)以上。
被用作配線圖案24b的不規則圖案在表2中作為不規則參數40(0.017093)、不規則參數42(0.015673)、不規則參數44(0.01072)及不規則參數46(0.006503)而表示,不規則參數40及不規則參數44分別為圖16(A)及圖16(B)所示的無規圖案。
表2中作為不規則參數40、不規則參數42、不規則參數44及不規則參數46而表示的不規則圖案亦如圖15所示,頻譜的標準偏差均小於-5(-5.000)。
而且,配線圖案24a及配線圖案24b的金屬細線14的線寬為4μm。
表2中,分別對不規則參數40、不規則參數42、不規則參數44及不規則參數46的不規則圖案,分別將規則參數25、規則參數27、規則參數30及規則參數45的規則圖案進行組合,從而對合計16個的組合求出重疊於BM圖案38時的雲紋的定量值,而且,可利用目視進行評價。
將其結果表示於表2中。
根據所述表2可知,在BM圖案與規則性不同的2種配線圖案的組合中,若雲紋的定量值E以常用對數計為E<-2.150的範圍內,則即便看見由重疊的配線圖案(24a)與BM圖案(38)的干涉而產生的雲紋,在雜訊的遮蔽效果下亦為幾乎不會察覺到的水準(△(2))以上,若於以常用對數計為E<-2.20425的範圍內,則亦具有雜訊的遮蔽效果,且為完全未察覺到的水準(○(1))。
根據以上可知,具有所述雲紋定量值滿足所述範圍的規則性不同的2種配線圖案的本發明的導電性膜,即便顯示器的解析度不同,亦可與觀察距離無關地抑制雲紋的產生,即便為原理上無法避免的雲紋,亦可藉由雜訊的遮蔽效果而改善其可見性,從而可大幅提高可見性。
根據以上可知本發明的效果。
另外,本發明中,如所述實施例般,預先準備各種圖案形狀的配線圖案的組合,可決定具有藉由本發明的評價方法而最佳化的配線圖案的組合的導電性膜,但在配線圖案的1個組合的雲紋的定量值為規定範圍外的情況下,將配線圖案的組合的至少一個配線圖案的透過率圖像資料更新為新的配線圖案的透過率圖像資料,使應用所述本發明的評價方法而求出雲紋的定量值重複進行,從而可決定具有經最佳化的配線圖案的組合的導電性膜。
此處,被更新的新的配線圖案可為預先準備者,亦可為新製作者。另外,在新製作的情況下,可為規則的配線圖案,亦可為不規則的配線圖案,可使其透過率圖像資料的旋轉角度、間距、
圖案寬度中的任一者以上發生變化,還可變更配線圖案的開口部的形狀或尺寸。進而,在為不規則的配線圖案的情況下,不僅開口部的形狀或尺寸具有無規性,亦可使開口部(網眼)的重複圖案具有無規性。
(第2實施例)
(鹵化銀感光材料)
製備如下乳劑,該乳劑於水介質中,相對於150g的銀(Ag)而包含10.0g的明膠,且含有球相當徑(sphere-equivalent diameter)平均值為0.1μm的碘溴氯化銀粒子(I=0.2莫耳%,Br=40莫耳%)。
對該乳劑中添加K3Rh2Br9及K2IrCl6使得濃度為10-7(莫耳/莫耳銀),將Rh離子與Ir離子摻雜至溴化銀粒子。向該乳劑中添加Na2PdCl4,進而使用氯金酸與硫代硫酸鈉來進行金硫增感後,以使銀的塗佈量達到10g/m2的方式,與明膠硬膜劑一併塗佈至基體(此處均為聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET))上。此時,將Ag/明膠體積比設為2/1。
在寬度為30cm的PET支持體上以寬度25cm進行20m的塗佈,以殘留24cm的塗佈的中央部的方式來將兩端分別截去3cm,獲得卷狀的鹵化銀感光材料。
(曝光)
關於曝光的圖案,製作後述電極圖案1~電極圖案4的圖案的光罩,經由該光罩使用將高壓水銀燈作為光源的平行光來進行曝
光。
(顯影處理)
.1L顯影液的配方
.1L定影液的配方
使用富士軟片公司製造的自動顯影機FG-710PTS,於如下的處理條件下,對使用所述處理劑進行曝光的感光材料進行處理,即,於35℃進行30秒的顯影,於34℃進行23秒的定影,於5L/min的流水中進行20秒的水洗。
另外,電極圖案1~電極圖案4為如下所述。
電極圖案1:各網眼為一邊的長度為0.4mm、角度為60°、線寬為5.0μm的菱形。
電極圖案2:各網眼為一邊的長度為0.4mm、角度為60°、線寬為2.0μm的菱形。
在電極圖案1、電極圖案2的情況下,以各網眼(菱形)不重疊的方式排列。
電極圖案3:各網眼包含形狀無規的多邊形,在將內部包含各種多邊形的最小的圓的直徑設為R時,R為200μm~500μm的範圍內。線寬為5.0μm。
電極圖案4:各網眼包含形狀無規的多邊形,在將內部包含各種多邊形的最小的圓的直徑設為R時,R為200μm~500μm的範圍內。線寬為2.0μm。
將該些4種電極圖案設定於曝光機,以與遮蔽為相同線寬的方式進行曝光,製作具有包含電極圖案1至電極圖案4中任一者的電極的導電片材。
自該些導電片材中選定2塊,製作圖25所示的評價用積層導電片材150。此處,圖25中的參照符號152、參照符號154、參照符號156、參照符號158、參照符號160分別表示下方電極、OCA、上方電極、OCA、玻璃。
將組合有作為下方電極152的電極圖案2(菱形)、作為上方電極156的電極圖案4(無規)的評價用積層導電片材150作為實
施例1。而且,將下方電極152為電極圖案4(無規)、上方電極156為電極圖案2(菱形)者作為實施例2,將下方電極152為電極圖案1(菱形)、上方電極156為電極圖案4(無規)者作為實施例3。進而,將下方電極152為電極圖案2(菱形)、上方電極156為電極圖案3(無規)者作為實施例4。
為了進行比較,製作將下方電極152及上方電極156雙方的電極圖案設為菱形者(比較例1),將下方電極152及上方電極156雙方的電極圖案設為無規者(比較例2)。即,比較例1中,下方電極152及上方電極156雙方包含電極圖案2,另一方面,比較例2中,下方電極152及上方電極156雙方包含電極圖案4。
(評價)
在使AUO製的液晶顯示器(Liquid Crystal Display,LCD)面板「B156XW04」白色點燈的狀態下,將以上的實施例1~實施例4及比較例1、比較例2載置於該LCD面板上,在距離LCD面板30cm~50cm的部位利用目視進行觀察。
此時,關於被觀察為波紋狀等特定圖案的「雲紋」、感覺為閃爍或顆粒狀的「雜訊」、電極圖案自身的可見性,將為未察覺到程度者評價為○,將為稍微察覺到但為可容許的水準評價為△,將無法容許的水準評價為×。
進而,使用由村上色彩技術研究所出售的透過率測定器,對實施例1~實施例4及比較例1、比較例2測定透過率。
進而,關於實施例1~實施例4及比較例1、比較例2,將在
進行電極圖案設計及操作方面操作時間為8小時以內的情況評價為○,需要比8小時~20小時長的時間但為容許範圍內的情況評價為△,將需要20小時以上的非常長的時間的情況評價為×。
將以上的評價結果一併表示於表3。根據該表3可知,藉由將無規圖案的電極與菱形圖案的電極進行組合,而可效率佳地獲得雲紋減少且雜訊少、進而電極圖案不易被看見的導電片材。
以上,列舉各種實施形態及實施例對本發明的導電性膜、具備其的顯示裝置及導電性膜的評價方法進行了說明,但本發明並不限定於所述實施形態及實施例,只要不脫離本發明的主旨,則當然可進行各種改良或設計的變更。
Claims (20)
- 一種導電性膜,設置於顯示裝置的顯示單元上,其特徵在於包括:透明基體;以及第1導電部及第2導電部,分別形成於所述透明基體的兩面;所述第1導電部及第2導電部分別具有第1配線圖案及第2配線圖案,所述第1配線圖案及第2配線圖案藉由多根金屬細線而形成為排列著多個開口部的網孔狀,所述第1配線圖案及第2配線圖案分別至少具有第1圖案及第2圖案,所述第1圖案及第2圖案的透過率圖像資料的2維傅立葉空間內的頻譜的頻散不同,所述第1配線圖案及第2配線圖案作為合成配線圖案而重疊於所述顯示單元的畫素排列圖案,所述畫素排列圖案與所述合成配線圖案的合成圖案,自所述合成圖案的透過率圖像資料的2維傅立葉空間內的多個頻譜中,去除所述畫素排列圖案的透過率圖像資料的2維傅立葉空間內的多個頻譜及所述合成配線圖案的透過率圖像資料的2維傅立葉空間內的多個頻譜,並僅抽出由所述畫素排列圖案與所述合成配線圖案的所述第1配線圖案及第2配線圖案的干涉而產生的雲紋及雜訊的多個頻譜,求出所抽出的全部多個頻譜的合計值,根據所述合計值算出的雲紋及雜訊的抽出定量值為規定範圍內。
- 如申請專利範圍第1項所述的導電性膜,其中所述雲紋及雜訊的頻譜的合計值是僅將具有如下頻率的頻譜全部進行合計並求出而所得,所述頻率低於所述畫素排列圖案的空間頻率。
- 如申請專利範圍第1項或第2項所述的導電性膜,其中在將所述定量值以常用對數值計而設為E時,所述規定範圍為E<-2.150。
- 如申請專利範圍第3項所述的導電性膜,其中在將所述定量值以常用對數值計而設為E時,所述規定範圍為E<-2.20425。
- 如申請專利範圍第1項或第2項所述的導電性膜,其中所述第1圖案的透過率圖像資料的2維傅立葉空間內的頻譜的標準偏差為-5.0以上,所述第2圖案的透過率圖像資料的2維傅立葉空間內的頻譜的標準偏差小於-5.0。
- 如申請專利範圍第1項或第2項所述的導電性膜,其中所述第1圖案為規則的圖案,所述第2圖案為不規則圖案。
- 如申請專利範圍第6項所述的導電性膜,其中所述開口部藉由金屬細線相互交叉而形成,所述規則的圖案為以多個相同形狀的所述開口部相連的方式形成為網孔狀的定型的圖案,所述不規則圖案為俯視時以包含多個形狀彼此不同的所述開口部的方式形成為網孔狀的無規圖案。
- 如申請專利範圍第1項或第2項所述的導電性膜,其中具有所述第1配線圖案的所述第1導電部形成於所述透明基體的上表面,具有所述第2配線圖案的所述第2導電部形成於所述透明基體的下表面,所述第1配線圖案包含所述第1圖案,所述第2配線圖案包含所述第2圖案,所述第2配線圖案的寬度比所述第1配線圖案的寬度大。
- 如申請專利範圍第1項或第2項所述的導電性膜,其中所述雲紋及雜訊的頻率由所述合成配線圖案的峰值頻率與所述畫素排列圖案的峰值頻率的差分而提供,所述雲紋及雜訊的強度由所述合成配線圖案的峰值強度與所述畫素排列圖案的峰值強度的乘積而提供。
- 如申請專利範圍第1項或第2項所述的導電性膜,其中所述透過率圖像資料及所述頻譜的強度以所述合成圖案的透過率圖像的面積而標準化。
- 如申請專利範圍第1項或第2項所述的導電性膜,其中所述畫素排列圖案為黑矩陣圖案。
- 如申請專利範圍第1項或第2項所述的導電性膜,其中形成所述第2圖案的所述金屬細線的線寬為1μm~5μm。
- 如申請專利範圍第1項或第2項所述的導電性膜,其中形成所述第2圖案的所述開口部彼此的平均間距處於100μm~500μm的範圍內。
- 如申請專利範圍第1項或第2項所述的導電性膜,其中形成所述第1圖案的所述金屬細線的線寬為1μm~5μm。
- 如申請專利範圍第1項或第2項所述的導電性膜,其中形成所述第1圖案的所述開口部為菱形。
- 如申請專利範圍第1項或第2項所述的導電性膜,其中形成所述第1圖案的所述金屬細線及形成所述第2圖案的所述金屬細線包含銀。
- 一種觸控面板,其特徵在於包括如申請專利範圍第1項至第16項中任一項所述的導電性膜。
- 一種顯示裝置,其特徵在於包括:顯示單元;以及如申請專利範圍第1項至第16項中任一項所述的導電性膜,設置於所述顯示單元上。
- 一種導電性膜的評價方法,是設置於顯示裝置的顯示單元上的導電性膜的評價方法,其特徵在於:所述導電性膜包括:透明基體;以及第1配線圖案及第2配線圖案,分別形成於所述透明基體的兩面,且藉由多根金屬細線而形成為排列著多個開口部的網孔狀,所述第1配線圖案及第2配線圖案分別至少具有第1圖案及第2圖案,所述第1圖案及第2圖案的透過率圖像資料的2維傅立葉空間內的頻譜的頻散不同,獲取所述第1配線圖案及第2配線圖案的各自的透過率圖像資料與所述顯示單元的畫素排列圖案的透過率圖像資料,所述顯示單元的畫素排列圖案是將所述第1配線圖案及第2配線圖案作為合成配線圖案而重疊,根據所獲取的所述畫素排列圖案、以及所述第1配線圖案及第2配線圖案的各自的透過率圖像資料,而求出所述畫素排列圖案與所述合成配線圖案的合成圖案的透過率圖像資料,進行所求出的所述合成圖案、所述畫素排列圖案及所述合成配線圖案的各自的透過率圖像資料的2維傅立葉變換,求出所述合成圖案的透過率圖像資料的2維傅立葉空間內的多個頻譜、所述畫素排列圖案的透過率圖像資料的2維傅立葉空間內的多個頻譜、及所述合成配線圖案的透過率圖像資料的2維傅立葉空間內的多個頻譜,自所述合成圖案的多個頻譜中去除所述畫素排列圖案的多個頻譜及所述合成配線圖案的多個頻譜,僅求出由所述畫素排列圖案與所述合成配線圖案的所述第1配線圖案及第2配線圖案的干涉而產生的雲紋及雜訊的多個頻譜的合計值,根據如所述般獲得的合計值而算出雲紋及雜訊的抽出定量值,對如所述般算出的所述雲紋及雜訊的抽出定量值為規定範圍內的導電性膜進行評價。
- 一種導電性膜,設置於顯示裝置的顯示單元上,其特徵在於包括:透明基體;以及第1導電部及第2導電部,分別形成於所述透明基體的兩面;所述第1導電部及第2導電部分別具有第1配線圖案及第2配線圖案,所述第1配線圖案及第2配線圖案藉由多根金屬細線而形成為排列著多個開口部的網孔狀,所述第1配線圖案及第2配線圖案分別至少具有第1圖案及第2圖案,所述第1圖案及第2圖案的透過率圖像資料的2維傅立葉空間內的頻譜的頻散不同,所述第1配線圖案及第2配線圖案作為合成配線圖案而重疊於所述顯示單元的畫素排列圖案,所述第1圖案的透過率圖像資料的2維傅立葉空間內的頻譜的標準偏差為-5.0以上,所述第2圖案的透過率圖像資料的2維傅立葉空間內的頻譜的標準偏差小於-5.0。
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