TWI634462B - 顯示裝置及導電性膜的評價方法 - Google Patents

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Abstract

導電性膜包括透明基體及具有配線圖案的導電部，對於配線圖案而言，在至少1視點處，在根據規定資料的峰值頻率及峰值強度、與另一規定資料的峰值頻率及峰值強度而分別算出的雲紋的頻率及強度中，根據雲紋評價值而算出的雲紋評價指標為規定值以下，上述雲紋評價值是使人類的視覺響應特性對應於觀察距離來作用於根據顯示單元的顯示解析度而規定的雲紋的最高頻率以下的各雲紋的頻率中的雲紋的強度所獲得。

Description

顯示裝置及導電性膜的評價方法
本發明是有關於一種導電性膜(film)、具備其的顯示裝置及導電性膜的評價方法，上述導電性膜具備網孔圖案(mesh pattern)，該網孔圖案是在網狀透明導電膜的網狀配線圖案(以下亦稱作網孔圖案)的設計中，藉由將電極等導電性配線考慮在內來進行設計，從而使被視認到的雲紋(moire)的頻率/強度處於規定的頻率/強度範圍內。
作為設置於顯示裝置(以下亦稱作顯示器(display))的顯示單元(unit)上的導電性膜，例如可列舉電磁波屏蔽(shield)用的導電性膜或觸控面板(touch panel)用的導電性膜等(例如參照專利文獻1及專利文獻2)。
在本申請人申請的專利文獻1中，例如揭示有：自動選定藉由第2圖案資料而生成的第2圖案，該第2圖案資料是顯示器的畫素陣列圖案(例如黑矩陣(black matrix)(以下亦稱作BM)圖案)等第1圖案及例如電磁波屏蔽圖案等第2圖案各自的圖案 資料(pattern data)的二維傅立葉頻譜(Two Dimensional Fourier Spectrum，2DFFTSp)的頻譜峰值(spectrum peak)間的相對距離超過規定的空間頻率例如8cm-1的圖案資料。
再者，專利文獻1中還揭示有：在上述相對距離未超過規定的空間頻率的情況下，反覆進行使第2圖案資料的旋轉角度、間距(pitch)、圖案寬度中的任一個以上發生變化而生成新的第2圖案資料的操作，直至上述相對距離超過規定的空間頻率為止。
如此，於專利文獻1中，可自動選定能抑制雲紋的產生，且亦可避免表面電阻率的增大或透明性的劣化的電磁波屏蔽圖案。
另一方面，在本申請人申請的專利文獻2中，作為具有包含多個多邊形狀的網的網孔圖案之透明導電膜，揭示有以如下方式形成有網孔圖案的透明導電膜，即：關於各網的重心頻譜，比規定的空間頻率、例如人類的視覺響應特性相當於最大響應的5%的空間頻率高的空間頻帶側的平均強度，大於比規定的空間頻率低的空間頻帶側的平均強度。
如此，於專利文獻2中，可提供如下的透明導電膜，其能減輕因圖案引起的雜訊(noise)粒狀感，可大幅提高觀察對象物的視認性，並且在裁切後仍具有穩定的通電性能。
現有技術文獻
專利文獻
專利文獻1：日本專利特開2009-117683號公報
專利文獻2：日本專利特開2011-216379號公報
然而，專利文獻1是如下所述的技術，即，在生成導電性膜的配線圖案時，僅根據顯示器的BM(黑矩陣)/配線圖案的頻率資訊來控制雲紋頻率，從而提供視認性優異的配線圖案，但由於雲紋會/不會被視認到的判定僅依存於頻率，因此即使是在專利文獻1中判定為雲紋不會被視認到的頻率的情況下，由於人對雲紋的察覺不僅受到頻率的影響，亦會受到強度的影響，因而有時會因強度而視認到雲紋，從而存在雲紋的視認性未被充分提高的問題。尤其，當將專利文獻1中揭示的技術適用於觸控面板用的導電性膜時，亦存在如下問題，即，因被人的手指等按壓，而在BM/配線圖案間產生微妙的變形，從而助長因強度導致雲紋被視認到的現象，從而存在雲紋的視認性的提高不夠充分的問題。
而且，專利文獻2中，關於透明導電膜的網孔圖案的各網的重心頻譜，使人類視覺的響應特性急遽下降的、比規定的空間頻率高的中空間頻帶至高空間頻帶中的平均強度，高於人類視覺的響應特性高的低空間頻帶中的平均強度，藉此來減少人類在視覺上感覺到的雜訊感，但存在如下問題，即，其不過是謀求透明導電膜的網孔圖案自身的雜訊感的減少，而未抑制顯示器的BM圖案與透明導電膜的網孔圖案之間產生的雲紋以提高雲紋的視認性。
本發明的目的在於，消除上述現有技術的問題，提供一種導電性膜、具備該導電性膜的顯示裝置及導電性膜的評價方 法，該導電性膜即使對於不同解析度的顯示裝置，而且，無論觀察距離如何，均可抑制雲紋的產生，從而可大幅提高顯示單元的顯示畫面的視認性。
而且，本發明的目的在於提供一種導電性膜、具備該導電性膜的顯示裝置及導電性膜的評價方法，該導電性膜尤其在將具有配線的透明導電性膜用作觸控面板用電極時，即使對於不同解析度的顯示裝置，而且，無論觀察距離如何，均可抑制將導電性膜重疊於顯示裝置的顯示單元的黑矩陣而進行視認時成為大的畫質障礙的雲紋的產生，從而可大幅提高觸控面板上的顯示的視認性。
而且，除了上述目的以外，本發明的目的還在於提供一種導電性膜、具備該導電性膜的顯示裝置及導電性膜的評價方法，該導電性膜無論顯示裝置的顯示單元的黑矩陣是具有對稱性者，抑或是具有非對稱性者，在將導電性膜重疊於黑矩陣而進行視認時均可抑制雲紋的產生，從而可大幅提高觸控面板上的顯示的視認性。
作為達成上述目的之1個技術，本申請人已於日本專利特願2012-082711號說明書中提出具備下述配線圖案的導電性膜，即，算出顯示器的畫素矩陣及網孔圖案的空間頻率峰值，且藉由以各空間頻率峰值差值、峰值強度積算值所獲得的雲紋的二維頻率頻譜及強度與視覺傳達函數的卷積而算出的評價值滿足規定值。
然而，為了實現達成上述目的之進一步的技術，本申請人進 而反覆專心研究，結果發現，實際上在顯示器上被視認到的雲紋的空間頻帶視顯示器而不同，但在該技術中，此情況未被考慮在內。而且，本申請人發現，若只有依存於顯示器解析度(90dpi左右至500dpi左右)才能定義特定的評價值以內的雲紋，則難以對於解析度來普遍地改善雲紋視認性。換言之，本申請人發現，在該技術中存在如下的技術課題，即，高解析度顯示器本應為有利的設計(藉由高頻來消除雲紋)，但現實中並不能如此般一概而言。
其結果，本申請人基於該些見解發現，該技術課題在於所使用的評價值，從而完成本發明。
為了達成上述技術的課題，本發明的第1方案的導電性膜設置於顯示裝置的顯示單元上，上述導電性膜的特徵在於包括：透明基體；以及導電部，形成於透明基體的至少一個面上，且包含多根金屬細線，導電部具有由多根金屬細線形成為網狀且排列有多個開口部的配線圖案，配線圖案重疊於顯示單元的畫素陣列圖案，對於配線圖案而言，在根據該配線圖案的透過率圖像資料的二維傅立葉頻譜的多個頻譜峰值的峰值頻率及峰值強度、與畫素陣列圖案的透過率圖像資料的二維傅立葉頻譜的多個頻譜峰值的峰值頻率及峰值強度而分別算出的雲紋的頻率及強度中，根據雲紋的評價值而算出的雲紋的評價指標為規定值以下，該雲紋的評價值是使人類的視覺響應特性對應於觀察距離來作用於根據顯示單元的顯示解析度而規定的雲紋的最高頻率以下的各雲紋 的頻率中的雲紋的強度所獲得。
為了達成上述目的，本發明的第2方案的顯示裝置的特徵在於包括：顯示單元；以及上述第1方案的導電性膜，設置於該顯示單元上。
而且，為了達成上述目的，本發明的第3方案的導電性膜的評價方法中，該導電性膜被設置於顯示裝置的顯示單元上，且具有由多根金屬細線形成為網狀且排列有多個開口部的配線圖案，上述導電性膜的評價方法的特徵在於，獲取配線圖案的透過率圖像資料、與配線圖案所重疊的顯示單元的畫素陣列圖案的透過率圖像資料，對配線圖案的透過率圖像資料及畫素陣列圖案的透過率圖像資料進行二維傅立葉變換，算出配線圖案的透過率圖像資料的二維傅立葉頻譜的多個頻譜峰值的峰值頻率及峰值強度、與畫素陣列圖案的透過率圖像資料的二維傅立葉頻譜的多個頻譜峰值的峰值頻率及峰值強度，根據以此方式算出的配線圖案的峰值頻率及峰值強度與畫素陣列圖案的峰值頻率及峰值強度，分別算出雲紋的頻率及強度，從以此方式算出的雲紋的頻率及強度中，選出具備根據顯示單元的顯示解析度而規定的雲紋的最高頻率以下的頻率的雲紋，使人類的視覺響應特性對應於觀察距離而作用於以此方式選出的各雲紋的頻率中的雲紋的強度，從而分別獲得雲紋的評價值，根據以此方式獲得的多個雲紋的評價值來算出雲紋的評價指標，對以此方式算出的雲紋的評價指標為規定值以下的導電性膜進行評價。
在上述第1方案、第2方案及第3方案中，規定值可為-1.75，評價指標以常用對數計較佳為-1.75以下，進而較佳為-1.89以下，更佳為-2.05以下，最佳為-2.28以下。
而且，雲紋的最高頻率較佳為在將顯示單元的顯示間距設為p(μm)時，以1000/(2p)而給出。
而且，雲紋的評價值較佳為藉由如下方式而求出，對於雲紋的頻率及強度，將作為視覺響應特性的與觀察距離相應的視覺傳達函數以卷積積分進行加權。
而且，視覺傳達函數較佳為以下述式(1)而給出的能見度函數S(u)。
此處，u為空間頻率(週期/度(cycle/deg))，L為亮度(燭光/平方毫米(cd/mm2))，X0為觀察距離處的顯示單元的顯示面的視角(度(deg))，X0 2是在觀察距離處顯示面所形成的立體角(球面度(steradian，sr))。
而且，較佳為，雲紋的評價指標是使用對應於觀察距離 而對1個雲紋的頻率進行加權所得的多個雲紋的評價值中最差的評價值而算出，而且，較佳為，雲紋的評價指標是使針對1個雲紋的頻率而選擇的最差的評價值對於所有雲紋的頻率進行合計所得的合計值。
而且，較佳為，雲紋的頻率是以配線圖案的峰值頻率與畫素陣列圖案的峰值頻率的差值而給出，雲紋的強度是以配線圖案的峰值強度與畫素陣列圖案的峰值強度之積而給出。
而且，較佳為，為了使視覺響應特性發揮作用而選擇的雲紋是雲紋的強度具備-4以上的強度且具備最高頻率以下的頻率的雲紋。
而且，較佳為，峰值強度是峰值位置周邊的多個畫素內的強度的合計值，而且，較佳為，峰值強度是峰值位置周邊的7×7畫素內的上位5位為止的強度的合計值。
而且，較佳為，峰值強度是利用配線圖案及畫素陣列圖案的透過率圖像資料而標準化者。
而且，較佳為，畫素陣列圖案為黑矩陣圖案。
而且，較佳為，當畫素陣列圖案的二維傅立葉頻譜的多個頻譜峰值的峰值強度為對稱時，配線圖案具備對稱的圖案形狀。
而且，較佳為，當畫素陣列圖案的二維傅立葉頻譜的多個頻譜峰值的峰值強度為非對稱時，配線圖案具備非對稱的圖案形狀。
如以上所說明的，根據本發明，可抑制雲紋的產生，從而可大幅提高視認性。
尤其，根據本發明，當計算不會被視認到的雲紋評價值時，將顯示器等顯示裝置的解析度考慮在內，因此對於解析度不同的顯示裝置，可通用地改善雲紋視認性。而且，根據本發明，設置有依存於觀察距離的評價函數，因此能以高精度的評價指標來評價雲紋視認性，可實現雲紋的排序，無論觀察距離如何，均可大幅提高視認性。
即，於本發明中，算出藉由顯示裝置的畫素陣列圖案及導電性膜的配線圖案的頻率解析而獲得的雲紋頻率/強度，將顯示裝置的解析度及觀察距離考慮在內，以視認性優異的方式來對算出的雲紋的強度、頻率進行數值限定，因此無論顯示裝置的解析度及觀察距離如何，均可消除因雲紋的產生而造成的畫質障礙，獲得優異的視認性。
尤其，根據本發明，當使用導電性膜作為觸控面板用電極時，無論顯示裝置的解析度及觀察距離如何，均可抑止雲紋，從而可大幅提高觸控面板上的顯示的視認性，上述雲紋在將導電性膜重疊於顯示裝置的顯示單元的黑矩陣而視認時成為大的畫質障礙。
10、11、11A、11B、60‧‧‧導電性膜
12‧‧‧透明基體
14‧‧‧金屬製的細線(金屬細線)
16、16a、16b‧‧‧導電部
18、18a、18b‧‧‧接著層
20、20a、20b‧‧‧保護層
21‧‧‧網狀配線
22‧‧‧開口部
23a‧‧‧電極部
23b‧‧‧虛設電極部(非電極部)
24、62‧‧‧配線圖案
24a‧‧‧電極配線圖案
24b‧‧‧虛設電極配線圖案
25‧‧‧斷線部(切斷部)
26‧‧‧虛設電極部
28、28a、28b‧‧‧導電層
30‧‧‧顯示單元
32、32b、32g、32r‧‧‧畫素
34‧‧‧黑矩陣(BM)
36‧‧‧區域
38‧‧‧BM圖案
40‧‧‧顯示裝置
42‧‧‧輸入面
44‧‧‧觸控面板
46‧‧‧框體
48‧‧‧罩構件
50‧‧‧電纜
52‧‧‧撓性基板
54‧‧‧檢測控制部
56‧‧‧接著層
58‧‧‧接觸體
B‧‧‧藍
fI、fII‧‧‧頻率
fx、fy‧‧‧軸
G‧‧‧綠
p、p1、p2‧‧‧長度
P‧‧‧峰值
Pa、Pb、Pc、Pd、Pe、Pf、Pg、Ph、Pα、Pβ、Pγ、Pδ‧‧‧峰值位置
Ph、Pv‧‧‧畫素間距
R‧‧‧紅
S10、S12、S14、S16、S18、S20、S22‧‧‧步驟
Sp‧‧‧強度
Z1、Z2‧‧‧箭頭
θ、θ1、θ2‧‧‧角
圖1是示意性地表示本發明的第1實施方式的導電性膜的一例的平面圖。
圖2是圖1所示的導電性膜的示意局部剖面圖。
圖3是本發明的第2實施方式的導電性膜的一例的示意局部 剖面圖。
圖4是表示適用本發明的導電性膜的顯示單元的一部分的畫素陣列圖案的一例的概略說明圖。
圖5是裝入有圖3所示的導電性膜的顯示裝置的一實施例的概略剖面圖。
圖6是表示本發明的導電性膜的配線評價方法的一例的流程圖。
圖7(A)是表示適用本發明的導電性膜的顯示單元的畫素陣列圖案的一例的概略說明圖，圖7(B)是表示重疊於圖7(A)的畫素陣列圖案的導電性膜的配線圖案的一例的概略說明圖，圖7(C)是圖7(A)的畫素陣列圖案的局部放大圖，圖7(D)是在圖7(C)中僅利用G通道(channel)的子畫素時的畫素陣列圖案的示意說明圖。
圖8(A)是表示適用本發明的導電性膜的顯示單元的畫素陣列圖案的另一例的示意局部放大說明圖，圖8(B)是在圖8(A)中僅利用G通道的子畫素時的畫素陣列圖案的示意說明圖。
圖9(A)及圖9(B)是分別表示圖7(A)所示的畫素陣列圖案及圖7(B)所示的配線圖案的各透過率圖像資料的二維傅立葉頻譜的強度特性的圖。
圖10是表示圖7(A)所示的顯示單元的畫素陣列圖案的頻率峰值位置的圖表。
圖11(A)是說明輸入圖案圖像的頻率峰值位置的圖表，圖 11(B)是說明頻率峰值位置的峰值強度的計算的圖表。
圖12(A)及圖12(B)是分別以曲線及柱表示二維傅立葉頻譜的強度特性的一例的圖表及柱狀圖。
圖13是示意性地表示因圖7(A)所示的畫素陣列圖案與圖7(B)所示的配線圖案的干涉而產生的雲紋頻率及雲紋的強度的概略說明圖。
圖14是示意性地表示本發明的另一實施方式的導電性膜的一例的局部剖面圖。
圖15是示意性地表示本發明的另一實施方式的導電性膜的一例的局部放大平面圖，是表示其網孔圖案的多個斷線部的一例的示意圖。
圖16(A)、圖16(B)、圖16(C)及圖16(D)是分別表示在實施例中使用的配線圖案的一例的概略說明圖，圖16(E)、圖16(F)及圖16(G)是分別用於說明圖16(A)、圖16(B)及圖16(D)所示的配線圖案的局部放大圖。
圖17是示意性地表示本發明的導電性膜的配線圖案的另一例的平面圖。
圖18(A)、圖18(B)、圖18(C)是表示適用本發明的導電性膜的顯示單元的畫素陣列圖案的一例的概略說明圖，圖18(B)是說明圖18(A)的畫素陣列圖案圖像的頻率峰值位置的圖表，圖18(C)是圖18(B)的放大圖表，是疊加表示重疊於圖18(A)的畫素陣列圖案的導電性膜的網孔圖案的一例的頻率峰值的圖 表。
圖19(A)、圖19(B)、圖19(C)是表示適用本發明的導電性膜的顯示單元的畫素陣列圖案的另一例的概略說明圖，圖19(B)是說明圖19(A)的畫素陣列圖案圖像的頻率峰值位置的圖表，圖19(C)是圖19(B)的放大圖表，是疊加表示重疊於圖19(A)的畫素陣列圖案的導電性膜的網孔圖案的一例的頻率峰值的圖表。
以下，參照附圖所示的較佳的實施方式來詳細說明本發明的導電性膜及導電性膜的評價方法。
以下，對於本發明的導電性膜，以觸控面板用的導電性膜作為代表例來進行說明，本發明並不限定於此，只要是設置於液晶顯示器(Liquid Crystal Display，LCD)、電漿顯示器(Plasma Display Panel，PDP)、有機電致發光顯示器(Organic ElectroLuminescence Display，OELD)或無機電致發光顯示器等顯示裝置的顯示單元上的導電性膜，則為任何者皆可，例如當然亦可為電磁波屏蔽用的導電性膜等。
圖1及圖2是分別示意性地表示本發明的第1實施方式的導電性膜的一例的平面圖及其示意局部剖面圖。
如該些圖所示，本實施方式的導電性膜10是設置於顯示裝置的顯示單元上者，是具備相對於顯示單元的黑矩陣(Black Matrix，BM)而在抑制雲紋產生的方面優異的配線圖案，尤其具 備在重疊於BM圖案時相對於BM圖案而在雲紋的視認性方面經最佳化的配線圖案的導電性膜，該導電性膜10具有：透明基體12；導電部16，形成於透明基體12的一個面(圖2中的上側的面)且包含多根金屬製的細線(以下稱作金屬細線)14；以及保護層20，以包覆金屬細線14的方式，經由接著層18而黏結於導電部16的大致整個面。
透明基體12包含具有絕緣性且透光性高的材料，例如可列舉樹脂、玻璃(glass)、矽(silicon)等材料。作為樹脂，例如可列舉聚對苯二甲酸乙二酯(Polyethylene Terephthalate，PET)、聚甲基丙烯酸甲酯(Polymethyl methacrylate，PMMA)、聚丙烯(polypropylene，PP)、聚苯乙烯(polystyrene，PS)等。
導電部16包含導電層28，該導電層28具有網形狀的配線圖案24，該網形狀的配線圖案24是由金屬細線14及鄰接的金屬細線14間的開口部22構成。金屬細線14只要是導電性高的金屬製的細線，則並無特別限制，例如可列舉包含金(Au)、銀(Ag)或銅(Cu)的線材等者。考慮到視認性的觀點，金屬細線14的線寬越細越佳，但例如只要為30μm以下即可。再者，在觸控面板用途中，金屬細線14的線寬較佳為0.1μm以上、15μm以下，進而較佳為1μm以上、9μm以下，更佳為2μm以上、7μm以下。
詳細而言，導電部16具有將多根金屬細線14排列成網狀的配線圖案24。於圖示例中，開口部22的網形狀為菱形，但本發明並不限定於此，只要可構成相對於後述的規定的BM圖案而 雲紋視認性經最佳化的配線圖案24，且只要為具有至少3邊的多邊形狀，則為任何形狀皆可，而且，既可為相同的網形狀，亦可為不同的網形狀，例如可列舉正三角形、等腰三角形等三角形；正方形(正方格子：參照後述的圖16(D))、長方形、平行四邊形(參照後述的圖17)等四邊形(矩形)；五邊形；或者六邊形(正六邊形：參照後述的圖16(B)及圖16(C))等相同或不同的多邊形等。即，只要是相對於規定的BM圖案而雲紋視認性經最佳化的配線圖案，則既可為藉由有規則的開口部22的排列而構成的配線圖案，亦可為藉由不同形狀的開口部22的排列而無規則(random)化的配線圖案。
而且，配線圖案24的開口部22的網形狀既可為對稱，亦可為非對稱。再者，網形狀的非對稱性可藉由如下方式來定義，即，在xy二維座標上，已定義x軸及y軸的一者時，相對於x軸或y軸的至少一者為非對稱。
例如，在為非對稱圖案的平行四邊形的網形狀中，如圖17所示，當將平行四邊形的各邊的間距設為p1、p2，將平行四邊形的各邊相對於y軸的傾斜角度設為θ1、θ2時，只要滿足p1≠p2或θ1≠θ2中的至少一者即可，但更佳為滿足兩者。在圖示例的非對稱圖案的平行四邊形的網形狀中，p1≠p2且θ1=θ2。
即使在為非對稱圖案的其他多邊形的網形狀的情況下，只要根據間距及傾斜角度的至少一者不同的情況來進行定義即可。
而且，於配線圖案24中，亦可如後述的圖14所示般加入斷 線(斷裂(break))。作為此種具有斷裂的網狀配線圖案的形狀，可適用本申請人申請的日本專利特願2012-276175號說明書中記載的導電性膜的網狀配線圖案的形狀。
作為接著層18的材料，可列舉濕式積層(wet laminate)接著劑、乾式積層(dry laminate)接著劑、或熱熔(hot melt)接著劑等。
保護層20是與透明基體12同樣地，包含包括樹脂、玻璃、矽的透光性高的材料。較佳為，保護層20的折射率n1等於透明基體12的折射率n0，或者為與此相近的值。此時，透明基體12相對於保護層20的相對折射率nr1為接近1的值。
此處，本說明書中的折射率是指波長589.3nm(鈉的D線)的光的折射率，例如對於樹脂，以作為國際標準規格的ISO 14782：1999(對應於JIS K 7105)來定義。而且，透明基體12相對於保護層20的相對折射率nr1以nr1=(n1/n0)來定義。此處，相對折射率nr1只要處於0.86以上、1.15以下的範圍內即可，更佳為0.91以上、1.08以下。
藉由將相對折射率nr1的範圍限定於該範圍內，以控制透明基體12與保護層20的構件間的光的透過率，從而可進一步提高、改善雲紋的視認性。
上述第1實施方式的導電性膜10僅在透明基體12的一個面上具有導電部16，但本發明並不限定於此，亦可在透明基體12的兩面具有導電部。
圖3是表示本發明的第2實施方式的導電性膜的一例的示意局部剖面圖。再者，圖3所示的本第2實施方式的導電性膜的平面圖與圖1所示的本第1實施方式的導電性膜的平面圖相同，因此，此處省略。
如該圖3所示，本第2實施方式的導電性膜11具有：第1導電部16a及虛設(dummy)電極部26，形成於透明基體12的一個(圖3的上側的)面上；第2導電部16b，形成於透明基體12的另一(圖3的下側的)面上；第1保護層20a，經由第1接著層18a而接著於第1導電部16a及虛設電極部26的大致整個面；以及第2保護層20b，經由第2接著層18b而接著於第2導電部16b的大致整個面。
在導電性膜11中，第1導電部16a及虛設電極部26分別包含多根金屬細線14，且均在透明基體12的一個(圖3的上側的)面上作為導電層28a而形成，第2導電部16b包含多根金屬細線14，且在透明基體12的另一(圖3的下側的)面上作為導電層28b而形成。此處，虛設電極部26是與第1導電部16a同樣地，形成在透明基體12的一個(圖3的上側的)面上，但如圖示例般，包含在與形成於另一(圖3的下側的)面上的第2導電部16b的多根金屬細線14對應的位置同樣地排列的多根金屬細線14。
虛設電極部26是與第1導電部16a隔開規定間隔而配置，且處於與第1導電部16a電性絕緣的狀態下。
在本實施方式的導電性膜11中，於透明基體12的一個(圖3 的上側的)面上，形成有虛設電極部26，該虛設電極部26包含與形成於透明基體12的另一(圖3的下側的)面上的第2導電部16b的多根金屬細線14對應的多根金屬細線14，因此亦可控制透明基體12的一個(圖3的上側的)面上的金屬細線造成的散亂，從而可改善電極視認性。
此處，導電層28a的第1導電部16a及虛設電極部26具有由金屬細線14及開口部22構成的網狀的配線圖案24。而且，導電層28b的第2導電部16b是與第1導電部16a同樣地，具有由金屬細線14及開口部22構成的網狀的配線圖案24。如上所述，透明基體12包含絕緣性材料，第2導電部16b處於與第1導電部16a及虛設電極部26電性絕緣的狀態下。
再者，第1導電部16a、第2導電部16b及虛設電極部26分別可由與圖2所示的導電性膜10的導電部16同樣的材料同樣地形成。
第1保護層20a以包覆第1導電部16a及虛設電極部26各自的金屬細線14的方式，藉由第1接著層18a而接著於包含第1導電部16a及虛設電極部26的導電層28a的大致整個面上。
而且，第2保護層20b以包覆第2導電部16b的金屬細線14的方式，藉由第2接著層18b而接著於包含第2導電部16b的導電層28b的大致整個面上。
此處，第1接著層18a及第2接著層18b分別可由與圖2所示的導電性膜10的接著層18同樣的材料同樣地形成，但第1接 著層18a的材質與第2接著層18b的材質既可相同，亦可不同。
而且，第1保護層20a及第2保護層20b分別可由與圖2所示的導電性膜10的保護層20同樣的材料同樣地形成，但第1保護層20a的材質與第2保護層20b的材質既可相同，亦可不同。
第1保護層20a的折射率n2及第2保護層20b的折射率n3均與上述第1實施方式的導電膜10的保護層20同樣，為等於透明基體12的折射率n0或接近該折射率n0的值。此時，透明基體12相對於第1保護層20a的相對折射率nr2及透明基體12相對於第2保護層20b的相對折射率nr3均為接近1的值。此處，折射率及相對折射率的定義如同上述第1實施方式中的定義。因此，透明基體12相對於第1保護層20a的相對折射率nr2以nr2=(n2/n0)來定義，透明基體12相對於第1保護層20b的相對折射率nr3以nr2=(n3/n0)來定義。
此處，相對折射率nr2及相對折射率nr3與上述的相對折射率nr1同樣，只要處於0.86以上、1.15以下的範圍內即可，更佳為0.91以上、1.08以下。
再者，藉由將相對折射率nr2及相對折射率nr3的範圍限定為該範圍，從而可與相對折射率nr1的範圍的限定同樣地，進一步提高雲紋的視認性。
上述的本發明的第1實施方式的導電性膜10及第2實施方式的導電性膜11例如適用於在圖4中示意性地表示一部分的顯示單元30(顯示部)的觸控面板，至少於1視點處，具備相對 於顯示單元30的畫素陣列圖案、即相對於黑矩陣(以下亦稱作BM)圖案而在雲紋視認性方面經最佳化的配線圖案。再者，本發明中，相對於BM(畫素陣列)圖案而在雲紋視認性方面經最佳化的配線圖案是指：至少在1視點處，相對於規定的BM圖案而雲紋不會被人類的視覺察覺到的1或2以上的1群配線圖案。再者，本發明中，在經最佳化的2以上的1群配線圖案中，可自最不會被察覺到的配線圖案直至難以被察覺到的配線圖案為止進行排序，亦可確定最不會被察覺到雲紋的1個配線圖案。
再者，對於配線圖案相對於規定的BM圖案的雲紋視認性的最佳化，將於後文進行敘述。
本發明的導電性膜基本以如上方式構成。
圖4是示意性地表示適用本發明的導電性膜的顯示單元的一部分畫素陣列圖案的一例的概略說明圖。
如圖4中表示其一部分般，於顯示單元30中，多個畫素32呈矩陣(matrix)狀地排列而構成規定的畫素陣列圖案。1個畫素32是由3個子畫素(紅色子畫素32r、綠色子畫素32g及藍色子畫素32b)沿水平方向排列而構成。1個子畫素呈在垂直方向上為縱長的長方形狀，3個子畫素32r、32g及32b設為相同或同樣的長方形狀。畫素32在水平方向上的排列間距(水平畫素間距Ph)與畫素32在垂直方向上的排列間距(垂直畫素間距Pv)設為大致相同。即，由1個畫素32及包圍該1個畫素32的黑矩陣(BM)34(圖案材)構成的形狀(參照以影線所示的區域36)為正方形。 而且，1個畫素32的縱橫比(aspect ratio)並非為1，而是水平方向(橫)的長度>垂直方向(縱)的長度。
再者，於圖示例中，1個子畫素(32r、32g、32b)的形狀為長方形狀，但本發明並不限定於此，例如亦可為後述的圖7(C)所示的端部有缺口的長方形狀，還可如後述的圖8(A)所示，為以規定角度而屈曲或彎折的縱長的帶狀，或者亦可為彎曲的縱長的帶狀，而且，亦可在端部具有缺口，該缺口的形狀亦可為任何形狀皆可，只要是現有公知的畫素形狀，則為任何形狀皆可。
而且，畫素間距(水平畫素間距Ph及垂直畫素間距Pv)亦只要是與顯示單元30的解析度相應的間距，則為任何間距皆可，例如，可在84μm~264μm的範圍內提高間距。
由圖4可明確的是，由多個畫素32各自的子畫素32r、32g及32b所構成的畫素陣列圖案是由分別包圍這些子畫素32r、32g及32b的BM34的BM圖案38來規定，將顯示單元30與導電性膜10或導電性膜11重疊時產生的雲紋是因顯示單元30的BM34的BM圖案38與導電性膜10或導電性膜11的配線圖案24的干涉而產生，因此，嚴格而言，BM圖案38是畫素陣列圖案的反轉圖案，但此處作為表示同樣圖案的情況進行處理。
當在具有由上述BM34構成的BM圖案38的顯示單元30的顯示面板(panel)上，例如配置導電性膜10或導電性膜11時，導電性膜11的配線圖案24相對於BM(畫素陣列)圖案38而在雲紋視認性方面經最佳化，因此幾乎沒有畫素32的排列週期 與導電性膜10或導電性膜11的金屬細線14的配線排列之間的空間頻率的干涉，雲紋的產生得以抑制。
再者，圖4所示的顯示單元30亦可由液晶面板、電漿面板、有機EL面板、無機EL面板等顯示面板構成。
接下來，對於裝入有本發明的導電性膜的顯示裝置，參照圖5來進行說明。圖5中，作為顯示裝置40，舉裝入有本發明的第2實施方式的導電性膜11的投影型靜電電容式觸控面板為代表例來進行說明，但本發明當然不限定於此。
如圖5所示，顯示裝置40具有：顯示單元30(參照圖3)，可顯示彩色(color)圖像及/或單色(monochrome)圖像；觸控面板44，檢測來自輸入面42(箭頭Z1方向側)的接觸位置；以及框體46，收容顯示單元30及觸控面板44。經由框體46的一面(箭頭Z1方向側)上所設的大的開口部，用戶(user)可對觸控面板44進行接觸(access)。
觸控面板44除了上述導電性膜11(參照圖1及圖3)以外，還具備積層於導電性膜11的一面(箭頭Z1方向側)上的罩(cover)構件48、經由電纜(cable)50而電性連接於導電性膜11的撓性(flexible)基板52、及配置於撓性基板52上的檢測控制部54。
在顯示單元30的一面(箭頭Z1方向側)上，經由接著層56而接著有導電性膜11。導電性膜11是使另一主面側(第2導電部16b側)相向於顯示單元30而配置於顯示畫面上。
罩構件48包覆導電性膜11的一面，藉此發揮作為輸入面42的功能。而且，藉由防止接觸體58(例如手指或輸入筆(stylus pen))的直接接觸，可抑制劃痕的產生或塵埃的附著等，可使導電性膜11的導電性變得穩定。
罩構件48的材質例如亦可為玻璃、樹脂膜。亦可使罩構件48的一面(箭頭Z2方向側)在經氧化矽等塗佈(coat)的狀態下，密接於導電性膜11的一面(箭頭Z1方向側)。而且，為了防止因摩擦等造成的損傷，亦可將導電性膜11及罩構件48予以貼合而構成。
撓性基板52是具備可撓性的電子基板。本圖示例中，該撓性基板52被固定於框體46的側面內壁，但配設位置亦可進行各種變更。檢測控制部54構成下述電子電路，即，當使作為導體的接觸體58接觸(或接近)輸入面42時，捕捉接觸體58與導電性膜11之間的靜電電容的變化，以檢測該接觸位置(或接近位置)。
適用本發明的導電性膜的顯示裝置基本上以如上方式構成。
接下來，對在本發明中，導電性膜的配線圖案相對於顯示裝置的規定的BM圖案的雲紋視認性及最佳化的程序進行說明。即，說明對在本發明的導電性膜中，以如下方式進行了最佳化的配線圖案進行評價並確定的程序，即，至少於1視點處，相對於顯示裝置的規定的BM圖案而雲紋不會被人類的視覺察覺到。
圖6是表示本發明的導電性膜的評價方法的一例的流程圖。
本發明的導電性膜的配線圖案的評價方法是：自使用顯示裝置的顯示單元的BM(畫素陣列)圖案與導電性膜的配線圖案的高速傅立葉變換(Fast Fourier Transform，FFT)進行的頻率解析而獲得的雲紋的頻率、強度中，選出具備根據顯示單元的顯示解析度而規定的雲紋的最高頻率以下的頻率的雲紋(頻率、強度)，使人類的視覺響應特性對應於觀察距離而作用於所選出的各雲紋的頻率中的雲紋的強度，而分別獲得雲紋的評價值，根據所獲得的多個雲紋的評價值算出雲紋的評價指標，將算出的雲紋的評價指標滿足預先設定的條件的配線圖案，評價並確定為以雲紋不會被視認到的方式經最佳化的配線圖案。本發明的該方法中，對於雲紋的頻率/強度，一般利用FFT，但對象物的頻率/強度會視利用方法而大幅變化，因此規定以下的程序。
此處，作為1個視點，考慮自正面觀察顯示裝置的顯示單元的顯示畫面的情況，但本發明並不限定於此，只要可提高自至少1個視點觀察時的雲紋的視認性，則自任一視點觀察皆可。
於本發明的方法中，首先，作為程序1，進行BM圖案及配線圖案的各圖像(透過率圖像資料)的製作。即，如圖6所示，於步驟(step)S10中，製作並獲取圖5所示的顯示裝置40的顯示單元30的BM圖案38(BM34)(參照圖4)的透過率圖像資料、與導電性膜60的配線圖案62(金屬細線14)(參照圖7(B))的透過率圖像資料。再者，當預先準備或儲存有BM圖案38的透過率圖像資料與配線圖案62的透過率圖像資料時，亦可自所準備 或儲存的資料中獲取。
對於顯示單元30的BM圖案38，例如可如圖7(A)及其局部放大圖即圖7(C)所示，每1個畫素32設為包含RGB(紅、綠、藍)這3色的子畫素32r、32g及32b的圖案，但當利用單色時，例如當如圖7(D)所示僅利用G通道的子畫素32g時，R通道及B通道的透過率圖像資料較佳為設為0。於本發明中，作為BM34的圖像資料，即，作為BM圖案38的透過率圖像資料，並不限定於如圖7(C)所示般具備BM34的大致長方形(有缺口)的開口(子畫素32r、32g及32b)者，只要是可使用的BM圖案，則亦可不具備BM34的長方形的開口，還可指定使用具備任意形狀的BM開口的BM圖案。例如，如上所述，BM圖案38並不限定於如圖4及後述的圖18(A)所示般為單純的長方形等矩形狀者或者圖7(A)所示的具備有缺口的長方形的開口者，亦可如後述的圖19(A)所示，使長方形的開口傾斜規定角度，還可如圖8(A)所示，每1個畫素32為包含具備以規定角度屈曲的帶狀開口的RGB這3色的子畫素32r、32g及32b的圖案，亦可為具備彎曲的帶狀開口者或具備鉤狀的開口者。
再者，圖8(B)與圖7(D)同樣，表示僅利用G通道的子畫素32g的單色時的BM圖案。後述的圖18(A)及圖19(A)亦表示僅利用1通道、例如R通道的子畫素32r的單色時的BM圖案。
另一方面，導電性膜60的配線圖案62例如可如圖7(B) 所示，採用成為配線的金屬細線14相對於水平線而傾斜規定角度、例如小於45°[度]的角度的菱形圖案，但如上所述，配線圖案的開口的形狀為任何形狀皆可，例如亦可為後述的圖16(B)~圖16(D)所示的正六邊形或正方格子，當然，正方格子亦可為傾斜45°[度]的正方格子。
再者，此處，當製作BM圖案38的透過率圖像資料時，將其解析度例如設為作為高解析度的12700dpi，並規定透過率圖像資料的大小，例如，將畫素大小設為最接近8193(畫素)×8193(畫素)的BM圖案38的大小的整數倍。
而且，當製作配線圖案62的透過率圖像資料時，將其解析度例如設為與BM圖案38的解析度相同的12700dpi，並規定透過率圖像資料的大小，例如與BM圖案38同樣，將畫素大小設為最接近8193(畫素)×8193(畫素)的配線圖案62的大小的整數倍。
接下來，作為程序2，對於在程序1中製作的透過率圖像資料，進行二維高速傅立葉變換(2DFFT(底數：2))。即，如圖6所示，於步驟S12中，對於在步驟S10中製作的BM圖案38及配線圖案62的各透過率圖像資料進行2DFFT(底數：2)處理，算出BM圖案38及配線圖案62的各透過率圖像資料的二維傅立葉頻譜的多個頻譜峰值的峰值頻率及峰值強度。此處，峰值強度是作為絕對值來進行處理。
此處，圖9(A)及圖9(B)是分別表示BM圖案38及配線圖案62的各透過率圖像資料的二維傅立葉頻譜的強度特性的圖。
再者，於圖9(A)及圖9(B)中，白色部分的強度高，表示頻譜峰值，因此根據圖9(A)及圖9(B)所示的結果，針對BM圖案38及配線圖案62分別算出各頻譜峰值的峰值頻率及峰值強度。即，圖9(A)及圖9(B)分別所示的BM圖案38及配線圖案62的二維傅立葉頻譜的強度特性中頻譜峰值在頻率座標上的位置、即峰值位置表示峰值頻率，該峰值位置處的二維傅立葉頻譜的強度為峰值強度。
此處，BM圖案38及配線圖案62的各頻譜峰值的峰值的頻率及強度是以如下方式算出並獲取。
首先，於獲取峰值頻率時，在峰值的算出時，自BM圖案38及配線圖案62的基本頻率求出頻率峰值。這是因為，進行2DFFT處理的透過率圖像資料為離散值，因此峰值頻率依存於圖像大小的倒數。頻率峰值位置如圖10所示，能以獨立的二維基本頻率向量(vector)成分及為基礎來組合地表示。因此，所獲得的峰值位置當然呈格子狀。
即，如圖11(A)所示，BM圖案38及配線圖案62的頻譜峰值在頻率座標fxfy上的位置、即峰值位置，是作為將圖案間距的倒數(1/p(間距(pitch))作為格子間隔的頻率座標fxfy上的格子狀點的位置而給出。
再者，圖10是表示BM圖案38的情況下的頻率峰值位置的圖表，配線圖案62亦可同樣地求出。
另一方面，於獲取峰值強度時，在上述峰值頻率的獲取 時求出峰值位置，因此獲取峰值位置所具備的二維傅立葉頻譜的強度(絕對值)。此時，對數位資料(digital data)進行FFT處理，因此存在峰值位置跨及多個畫素(像素(pixel))的情況(case)。例如，當二維傅立葉頻譜的強度(Sp)特性是以圖12(A)所示的曲線(類比(analog)值)來表示時，經數位處理的相同的二維傅立葉頻譜的強度特性是以圖12(B)所示的柱狀圖(數位值)來表示，但圖12(A)所示的二維傅立葉頻譜的強度的峰值P在對應的圖12(B)中將跨及2個畫素。
因此，當獲取存在於峰值位置的強度時，如圖11(B)所示，較佳為將包含峰值位置周邊的多個畫素的區域內的多個畫素的頻譜強度自其上位算起的多點、例如7×7畫素的區域內的畫素的頻譜強度自其上位算起的5點的強度(絕對值)的合計值設為峰值強度。
此處，較佳為，所獲得的峰值強度以圖像面積(圖像大小)而標準化。上述的示例中，較佳為預先以8192×8192而標準化(巴色伐定理(Parseval's theorem))。
接下來，作為程序3，進行雲紋的頻率及強度的計算。即，如圖6所示，於步驟S14中，根據在步驟S12中算出的BM圖案38及配線圖案62的兩二維傅立葉頻譜的峰值頻率及峰值強度，分別算出雲紋的頻率及強度。再者，此處，峰值強度及雲紋的強度亦是作為絕對值來進行處理。
於實空間中，雲紋原本是因配線圖案62與BM圖案38的透 過率圖像資料的乘法而引起，因此於頻率空間中進行兩者的卷積積分(卷積(convolution))。然而，於步驟S12中，算出了BM圖案38及配線圖案62的兩二維傅立葉頻譜的峰值頻率及峰值強度，因此可求出兩者各自的頻率峰值彼此的差值(差的絕對值)，將求出的差值作為雲紋的頻率，求出兩者組合而成的2組向量強度的積，並將求出的積作為雲紋的強度(絕對值)。
此處，圖9(A)及圖9(B)分別所示的BM圖案38及配線圖案62這兩者的二維傅立葉頻譜的強度特性中各自的頻率峰值彼此的差值，在將兩者的二維傅立葉頻譜的強度特性重合而獲得的強度特性中，相當於兩者各自的頻譜峰值在頻率座標上的峰值位置間的相對距離。
再者，BM圖案38及配線圖案62的兩二維傅立葉頻譜的頻譜峰值分別存在多個，因此其相對距離的值即頻率峰值彼此的差值、即雲紋的頻率亦會求出多個。因此，若兩二維傅立葉頻譜的頻譜峰值存在多個，則求出的雲紋的頻率亦為多個，求出的雲紋的強度亦為多個。
然而，若求出的雲紋的頻率中的雲紋的強度弱，則雲紋不會被視認到，因此較佳為僅對將雲紋的強度視為弱時的規定值或比該規定值大的雲紋、例如強度為-4以上的雲紋進行處理。
而且，此處，於顯示裝置中，顯示器解析度已確定，因此顯示器可顯示的最高頻率相對於該解析度而被確定。因此，具備比該最高頻率高的頻率的雲紋將不會被顯示在該顯示器上，因此無 須設為本發明中的評價對象。因而，可根據顯示器解析度來規定雲紋的最高頻率。此處，於本發明中應考慮的雲紋的最高頻率在將顯示器的畫素陣列圖案的畫素間距設為p(μm)時，可設為1000/(2p)。
根據以上所述，本發明中，在根據兩二維傅立葉頻譜的頻譜峰值而求出的雲紋的頻率及強度中設為本發明中的評價對象的雲紋，是雲紋的頻率為根據顯示器解析度而規定的雲紋的最高頻率1000/(2p)以下的頻率的雲紋，且是雲紋的強度為-4以上的雲紋。
再者，若兩二維傅立葉頻譜的頻譜峰值存在多個，則求出的雲紋的頻率亦為多個，從而計算處理須耗費時間。此種情況下，亦可預先在兩二維傅立葉頻譜的頻譜峰值中，分別將峰值強度較弱者除外，而僅選定一定程度的峰值強度者。此時，僅求出所選定的峰值彼此的差值，因此可縮短計算時間。
將以此方式求出的雲紋頻率及雲紋的強度示於圖13。圖13是示意性地表示因圖7(A)所示的畫素陣列圖案與圖7(B)所示的配線圖案的干涉所產生的雲紋的頻率及雲紋的強度的概略說明圖，亦可稱作圖9(A)及圖9(B)所示的二維傅立葉頻譜的強度特性的卷積積分的結果。
於圖13中，雲紋的頻率是藉由縱橫軸上的位置來表示，雲紋的強度是以灰色(gray)(無彩色)的濃淡來表示，色越濃，則表示雲紋的強度越小，色越淡即越白，則表示雲紋的強度越大。
接下來，作為程序4，求出雲紋的評價指標，基於評價 指標來進行配線圖案的評價。
具體而言，首先，如圖6所示，於步驟S16中，使由下述式(1)所示的人類的視覺響應特性對應於觀察距離而作用於在步驟S14中獲得的雲紋的頻率及強度(絕對值)，即進行卷積積分而進行加權，算出對應於觀察距離而進行了加權的多個雲紋的評價值(副評價值)。即，將表示下述式(1)所示的人類的視覺響應特性的一例的視覺傳達函數(Visual Transfer Function，VTF)卷積於雲紋的頻率、強度。
此處，u為空間頻率(週期/度)，L為亮度(cd/mm2)，X0為觀察距離處的顯示器的顯示面的視角(度)，X0 2是在觀察距離處顯示器的顯示面所形成的立體角(sr)。
上述式(1)所示的視覺傳達函數是以論文“人眼的對比靈敏度的公式”彼得G.J.巴騰，影像品質與系統效能，由三宅洋一、D.勒內．拉斯穆森編輯，SPIE-IS&T電子成像會刊，SPIE Vol.5294 © 2004 SPIE及IS&T．0277-786X/04/$15.00，第231頁-第238頁("Formula for the contrast sensitivity of the human eye" Peter G.J.Barten,Image Quality and System Performance,edited by Yoichi Miyake,D.René Rasmussen,Proc.of SPIE-IS&T Electronic Imaging,SPIE Vol.5294 © 2004 SPIE and IS&T．0277-786X/04/$15.00,P.231-P.238)的第234頁中記載的式(11)所表示的能見度函數(contrast sensitivity function，CFS)S(u)。
該上述式(1)被良好地用於反射系統中，而且，不同於本申請人的日本專利特願2012-082711號說明書中記載的技術中所用的觀察距離已固定的多利．肖函數(Dooley-Shaw function)，該上述式(1)於顯示器之類的透過系統中亦可適當地使用，因此可將觀察距離考慮在內，且可將因顯示器的發光亮度引起的靈敏度的差異考慮在內。
即，本發明中，對於所獲得的1個雲紋的頻率，相對於多個觀察距離而以利用下述式(1)求出的能見度(對比靈敏度：contrast sensitivity)S(u)來進行加權，求出相對於多個觀察距離而進行了加權的多個雲紋的評價值。
具體而言，例如當雲紋的頻率為f、強度為I時，若以各觀察距離d，例如以通常用作觸控面板時存在可能性的150mm、200mm、250mm、300mm、400mm、500mm這6個觀察距離d1~觀察距離d6來進行卷積，並以依存於各觀察距離d1~觀察距離d6的係數S來進行加權，則可獲得與各觀察距離對應的I1至I6為止的6個評價值。
再者，本發明中，於上述式(1)中，對於自空間頻率u(週 期/度)的單位向(週期/毫米(cycle/mm))的單位的轉換，當空間頻率a(週期/度)是以空間頻率b(cycle/mm)來表示時，若將觀察距離設為d(mm)，則能以式a=b．(π．d/180)來進行。
而且，亮度L(cd/mm2)只要使用顯示器的亮度即可，例如只要設為雲紋容易被視認到的通常的顯示器的亮度等級(level)即500cd即可。
進而，觀察距離d處的顯示器的顯示面的視角X0(度)只要以評價面積成為顯示器的顯示面的方式，依存於上述觀察距離d來進行調整而求出即可，例如，只要以在用作觸控面板時雲紋容易被視認到的評價面積為40mm×40mm的方式，依存於觀察距離d來進行調整而求出即可。只要根據以此方式求出的X0而求出在觀察距離d處顯示器的顯示面所形成的立體角X0 2(sr)即可。
接下來，如圖6所示，於步驟S18中，為了算出用以代表雲紋的頻率為f時的評價值(代表評價值)，算出在步驟S16中獲得的且雲紋的頻率為f時的依存於多個(n)觀察距離d1~觀察距離dn的多個雲紋的評價值I1~評價值In中最差的評價值，並設定為雲紋的頻率為f時的代表評價值。
即，本發明的評價指標的算出方法中，首先，必須求出以多個(n)觀察距離d1~評價值dn進行卷積時的最差值，並設為雲紋的頻率f的代表評價值。
例如，於上述示例中，當雲紋的頻率為f、強度為I時，將以各觀察距離，即，上述6個觀察距離d1~觀察距離d6進行卷積並 以依存於各觀察距離d1~觀察距離d6的係數S進行加權所獲得的6個評價值I1~評價值I6中的最差值，設為雲紋的頻率為f時的代表評價值。即，該頻率f的雲紋的代表評價值能以max(最大值)(I1、I2、I3、I4、I5、I6)來確定。
如此，於步驟S18中，對於在步驟S14中獲得的所有雲紋的頻率f，算出依存於多個(n)觀察距離d1~觀察距離dn的多個雲紋的評價值I1~評價值In中的最差的評價值，並確定為該雲紋的頻率為f時的雲紋的代表評價值。
再者，於本發明中，之所以將依存於觀察距離d的多個雲紋的評價值中的最差的評價值設為雲紋的代表評價值，是為了不依存於觀察距離d來評價雲紋的視認性，以求出經最佳化的虛線圖案。
接下來，如圖6所示，於步驟S20中，對在步驟S18中針對該配線圖案62的所有雲紋的頻率f而分別獲得的所有雲紋的代表評價值(在多個觀察距離d處最差的評價值)進行合計，從而算出雲紋的評價指標。並且，以常用對數來表示雲紋的評價指標的值。即，求出雲紋的評價指標的以常用對數計的值(常用對數值)。
接下來，如圖6所示，於步驟S22中，若以此方式求出的該配線圖案62的雲紋的評價指標的常用對數值為規定值以下，則將該配線圖案62評價為本發明的導電性膜60(10)的經最佳化的配線圖案62(24)，並設定為經最佳化的配線圖案62(24)，且作為 本發明的導電性膜60(10)而進行評價。
再者，將雲紋的評價指標的值以常用對數來限定為規定值以下的理由是：若大於規定值，則因重疊的配線圖案與BM圖案的干涉產生的雲紋儘管微弱但仍會被視認到，被視認到的雲紋會讓目測的用戶在意。若雲紋的評價指標的值為規定值以下，則用戶不會太過在意。
此處，規定值是對應於導電性膜及顯示裝置的性狀，具體而言，是對應於配線圖案62的金屬細線14的線寬、開口部22的形狀或其大小(間距等)或角度、2個導電層的配線圖案的相位角(旋轉角、偏移角)等、及BM圖案38的形狀或其大小(間距等)或配置角度等來適當設定，例如較佳為以常用對數計為-1.75(以反對數計為10-1.75)以下。即，雲紋的評價指標的值例如較佳為以常用對數計為-1.75(以反對數計為10-1.75以下)以下，進而較佳為以常用對數計為-1.89以下，更佳為以常用對數計為-2.05以下，最佳為以常用對數計為-2.28以下即可。
再者，詳細情況後述，但對於多個配線圖案62，以模擬樣品(simulation sample)及實際樣品求出雲紋的評價指標，3名研究員藉由目測來對因配線圖案62與BM圖案的干涉造成的雲紋進行官能評價，若雲紋的評價指標以常用對數計為-1.75以下，則即使因重疊的配線圖案與BM圖案的干涉而產生的雲紋被視認到，亦為幾乎不會被人在意的等級以上，若以常用對數計為-1.89以下，則即使假設雲紋被視認到，亦為基本上不會被人在意的等 級以上，若以常用對數計為-2.05以下，則為不會被人在意的等級以上，若以常用對數計為-2.28以下，則為完全不會被人在意的等級。
因此，本發明中，對於雲紋的評價指標，作為較佳的範圍，以常用對數計而指定為-1.75(以反對數計為10-1.75)以下，作為進而較佳的範圍，以常用對數計而指定為-1.89以下，作為更佳的範圍，以常用對數計而指定為-2.05以下，作為最佳的範圍，以常用對數計而指定為-2.28以下。
當然，對應於配線圖案62的金屬細線14的線寬、開口部22的形狀或其大小(間距或角度)或2個導電層的配線圖案的相位角(旋轉角、偏移角)等，而獲得多個經最佳化的配線圖案62，而雲紋的評價指標的常用對數值小者為最佳的配線圖案62，亦可對多個經最佳化的配線圖案62進行排序。
如此，本發明的導電性膜的配線評價方法結束，可製作如下所述的本發明的導電性膜，該導電性膜即使重疊於顯示裝置的顯示單元的BM圖案亦可抑制雲紋的產生，且具備經最佳化的配線圖案，該配線圖案即使對於不同解析度的顯示裝置，而且，無論觀察距離如何，雲紋的視認性均優異。
再者，於上述圖3所示的本發明的導電性膜11的示例中，在導電層28b中，未形成第2導電部16b以外的部分，但本發明並不限定於此，亦可如圖14所示的導電性膜11A般，與導電層28a同樣地，在與第1導電部16a的多根金屬細線14對應的位 置，設置與第2導電部16b電性絕緣的虛設電極部26。此時，可使導電層28a的配線圖案24與導電層28b的配線圖案24相同，從而可進一步改善電極視認性。
而且，於圖14所示的示例中，導電層28a與導電層28b具備相同的配線圖案24，且不偏移地重疊而形成1個配線圖案24，但兩導電層28a及導電層28b各自的配線圖案只要滿足本發明的評價基準，則既可重疊於偏移的位置，各配線圖案自身亦可不同。
而且，上述本發明的導電性膜具備包含連續的金屬細線的網狀配線圖案，但本發明並不限定於此，如上所述，只要滿足本發明的評價基準，則亦可如本申請人申請的日本專利特願2012-276175號說明書中記載的導電性膜的網狀配線圖案的圖案形狀般，為具備在金屬細線中加入有斷線(斷裂)的網狀配線圖案。
圖15是示意性地表示本發明的另一實施方式的導電性膜的另一例的局部放大平面圖，是表示該網孔圖案的多個斷線部的一例的示意圖。再者，於圖15中，為了便於理解，以粗線表示導電性膜的網狀配線的網狀配線圖案中的電極配線圖案，以細線表示虛設電極圖案，但該些圖案是由相同的不透明的金屬細線所形成，在粗度上當然並無差異。
圖15所示的導電性膜11B在圖1所示的導電層28、圖3所示的導電層28a、或圖14所示的導電層28a及導電層28b中，分別具備包含多根金屬細線14的網狀配線21，詳細而言，網狀配 線21具有以交叉的方式配設有雙方向的多根金屬細線14的配線圖案，即，具有呈網狀地排列有多根金屬細線14的網狀配線圖案24。於圖示例中，由配線圖案24所形成的開口部22的網形狀為菱形，可稱作金剛石圖案(diamond pattern)。
網狀配線21具有：電極部23a，具備由多根金屬細線14以連續的方式形成為網狀的電極配線圖案24a；以及虛設電極部(非電極部)23b，具備虛設電極(非電極)配線圖案24b，該虛設電極(非電極)配線圖案24b是由多根金屬細線同樣地形成為網狀，並具備多個斷線部25，從而不連續，且該虛設電極部(非電極部)23b與電極部23a絕緣。此處，電極部23a的電極配線圖案24a與虛設電極部23b的虛設電極配線圖案24b是在圖示例中具備相同的網形狀(菱形)的配線圖案，兩者合成為網狀配線21的配線圖案24。
再者，電極部23a是由圖1所示的導電層28的導電部16、圖3所示的導電層28a的第1導電部16a、圖14所示的導電層28a及導電層28b各自的第1導電部16a及第2導電部16b所構成，虛設電極部(非電極部)23b是由圖3及圖14所示的虛設電極部26所構成。
此處，圖示例的電極部23a的電極配線圖案24a是構成X電極的電極圖案，但本發明並不限定於此，只要是用於靜電電容式觸摸感測器(touch sensor)(面板)的電極圖案，則為任何者皆可，例如亦可為條狀(strip)電極，條棒狀(bar and strip)電極、菱 形電極、雪花狀(snowflake)電極等現有公知的電極圖案。
於電極部23a中形成為網狀的金屬細線14不具備斷線部25而連續，與此相對，於虛設電極部23b中形成為網狀的金屬細線14中，設置有多個斷線部(切斷部)25，從而附加有多個斷線。在電極部23a中的金屬細線14與虛設電極部23b中的金屬細線14之間，必須設置有斷線部25，電極部23a的金屬細線14與虛設電極部23b的金屬細線14被斷開而不連續。即，虛設電極部23b與電極部23a電性絕緣。
根據以上所述，網狀配線21的配線圖案24成為包含多個斷線部25的網孔圖案。
此外，顯示單元30的BM圖案38的BM34的畫素32的開口(子畫素32r、32g、32b)的形狀例如圖4、圖7(C)及圖7(D)以及圖18(A)所示，為長方形或大致長方形，當以其長邊方向為y軸、短邊方向為x軸的方式配置於xy二維座標上時，BM34的空間頻率特性具備對稱或大致對稱的峰值強度。
例如，如圖18(A)所示，當BM34的畫素32的開口(子畫素32r)的形狀為長方形時，BM圖案38的頻譜峰值的位置、即頻率座標fxfy上的BM34的峰值位置及峰值強度如圖18(B)所示，相對於fx軸、fy軸分別對稱。圖中，峰值位置Pa、Pb、Pc及Pd的峰值強度Pa、Pb、Pc及Pd相同(Pa=Pb=Pc=Pd)。再者，在圖18(B)中，原本在各格子點處具備某些峰值強度，但僅記載說明所需的部分，而省略其他部分。
如此，較佳為，若BM的峰值強度分佈左右對稱，則如圖18(C)中放大所示，重疊於BM圖案38的導電性膜60(10、11)的配線網孔圖案62(24)的頻譜峰值的位置、即頻率座標fxfy上的網的峰值位置Pα、Pβ及峰值強度Pα、Pβ亦相對於fx軸、fy軸而分別對稱(左右對稱：Pα=Pβ)，因此，配線網孔圖案62較佳為對稱(左右對稱)網孔圖案。其理由是：BM的峰值位置Pa、Pb與網的峰值位置Pα、Pβ之間的各距離Pa-Pα、Pb-Pβ表示雲紋的頻率，兩者的頻率峰值的向量強度的積表示雲紋的強度，但由於兩者的雲紋的頻率及雲紋的強度為相同或類似的值，因此可容易地根據該些雲紋的頻率及雲紋的強度來求出雲紋的評價指標，從而求出所求出的雲紋的評價指標達到規定值(-1.75)以下的配線網孔圖案62。
另一方面，當BM圖案38的BM34的畫素32的開口(子畫素32r)的長方形的形狀例如圖19(A)所示，相對於y軸傾斜規定角度而同樣地配置於xy二維座標上時，BM34的空間頻率特性具備非對稱的峰值強度。
例如，如圖19(A)所示，當BM34的畫素32的開口(子畫素32g)的形狀為相對於y軸而傾斜規定角度的長方形時，BM圖案38的頻譜峰值的位置、即頻率座標fxfy上的BM34的峰值位置及峰值強度如圖19(B)所示，相對於fx軸、fy軸分別為非對稱。圖中，峰值位置Pa及峰值位置Pd的峰值強度Pe及峰值強度Ph相同(Pe=Ph)，峰值位置Pf及峰值位置Pg的峰值強度Pf及峰值 強度Pg相同(Pf=Pg)，但峰值位置Pe的峰值強度Pe與峰值位置Pf的峰值強度Pg的位置及強度均不同(Pf≠Pg)。再者，於圖19(B)中，原本亦在各格子點處具備某些峰值強度，但僅記載說明所需的部分，而省略其他部分。
如此，較佳為，若BM的峰值強度分佈為左右非對稱，則如圖19(C)中放大所示，重疊於BM圖案38的導電性膜60的配線網孔圖案62的頻譜峰值的位置、即頻率座標fxfy上的網的峰值位置Pγ、Pδ及峰值強度Pγ、Pδ亦相對於fx軸、fy軸而分別為非對稱(左右非對稱：Pγ≠Pδ)，因此，較佳為，配線網孔圖案62為非對稱(左右非對稱)網孔圖案。其理由是：BM的峰值位置Pe、Pf與網的峰值位置Pγ、Pδ之間的各距離Pe-Pγ、Pf-Pδ表示雲紋的頻率，兩者的頻率峰值的向量強度的積表示雲紋的強度，但BM的峰值強度Pe與峰值強度Pf不同，例如，當峰值強度Pf大於峰值強度Pe時，頻譜強度相對於fx軸、fy軸分別不對稱，因此若改變網的峰值位置Pγ、Pδ，換言之，若以圖中左側的雲紋的頻率fI(Pe-Pγ)與圖中右側的雲紋的頻率fII(Pf-Pδ)來改變頻率，則會改善雲紋的視認性。即，藉由以網的峰值位置Pγ、Pδ左右非對稱的方式，將配線網孔圖案62設為非對稱圖案，從而可改善雲紋的視認性。
如此，當BM的開口不左右對稱時，在BM的空間頻率特性具備非對稱的峰值強度，即頻譜強度相對於fx軸、fy軸分別不對稱的情況下，藉由使用左右非對稱的網孔圖案，可改善雲紋的視 認性。在此種情況下，當然亦可根據所求出的雲紋的頻率及雲紋的強度來求出雲紋的評價指標，從而求出所求出的雲紋的評價指標達到規定值(-1.75)以下的配線網孔圖案62。
再者，當然，於本發明中，若依照本發明所求出的雲紋的評價指標為規定值(-1.75)以下，則BM圖案38既可為具備對稱的峰值強度分佈的圖案，亦可為具備非對稱的峰值強度分佈的圖案，重疊於此種BM圖案38的導電性膜60的配線圖案62的峰值強度分佈亦既可為對稱，亦可為非對稱，因而，網孔圖案的圖案形狀亦既可為對稱，亦可為非對稱。
以下，基於實施例來具體說明本發明。
針對圖8(A)所示的BM圖案38，且對於具備圖16(A)、圖16(B)、圖16(C)及圖16(D)與圖17所示的各種圖案形狀(開口部22的形狀及大小不同)且金屬細線14的線寬不同的多個配線圖案62，在模擬樣品及實際樣品中，將配線圖案62與BM圖案38予以重疊，求出雲紋的評價指標，並且由3名研究員藉由目測來對因重疊的兩者的干涉而產生的雲紋進行官能評價。
將其結果示於表1~表4。
此處，官能評價結果是以1~6這6階段來進行，若至少有1名研究員評價為視認到雲紋而會在意，則評價為「會在意」而評價為1，若無研究員評價為1且至少有1名研究員評價為稍許視認到雲紋而稍許在意，則評價為「稍許在意」而評價為2，若無研究員評價為1及2且有2名以上的研究員評價為幾乎不會在意， 則評價為「幾乎不會在意」而評價為3，若有1名研究員評價為3且有2名研究員評價為不會在意，則評價為「基本不會在意」而評價為4，若有1名以上的研究員評價為不會在意且剩餘的研究員評價為完全不會在意，則評價為「不會在意」而評價為5，若所有人評價為完全不會在意，則評價為「完全不會在意」而評價為6。
本實施例中的實施條件是顯示器的亮度L設為500cd，觀察距離d設為150mm、200mm、250mm、300mm、400mm、500mm這6個觀察距離d1~觀察距離d6，觀察距離d處的顯示器的顯示面的視角X0(度)是以評價面積為40mm×40mm的方式，依存於觀察距離d來調整而求出。
本實施例中所用的BM圖案38是圖8(B)所示的屈曲的帶形狀，G濾光器(filter)的子畫素32g的形狀是在長度方向的中央相對於圖中水平方向而屈曲80°，帶寬為48μm，長度在圖中垂直方向上為92μm，1畫素的形狀(畫素間距Ph×Pv)為168μm×168μm。
表1、表2及表3分別表示配線圖案62的金屬細線14的線寬為2μm、4μm及6μm時的實施例及比較例，表4表示配線圖案62的金屬細線14的線寬為2μm、4μm及6μm時的實施例。
此處，表1所示的實施例1~實施例10均是金屬細線14的線寬為2μm，且配線圖案62的開口部22的形態為菱形1~菱形10的圖16(A)所示的菱形圖案，且是將圖16(E)中放大所示的開 口部22的菱形的1邊的長度p以及長的對角線與1邊所成的角θ記載為p/θ的參數各不相同的配線圖案62。
再者，無論是表2所示的實施例21~實施例30，亦或是表3所示的實施例41~實施例50，除了金屬細線14的線寬不同以外，均是分別具備菱形圖案的配線圖案62，該菱形圖案具備與表1所示的實施例1~實施例10相同的形態、即菱形1~菱形10。
表1所示的實施例11~實施例15均是金屬細線14的線寬為2μm，配線圖案62的開口部22的形態為正六邊形1~正六邊形5，由2層網狀配線圖案所形成的配線圖案62為圖16(B)及圖16(C)中任一圖所示的六邊形圖案，且是將圖16(F)中放大所示的開口部22的正六邊形的1邊的長度p、以及正六邊形相對於與正六邊形並列的1邊正交的方向(圖中水平方向)的旋轉角θ對於各層的網狀配線圖案而記載為p/θ的兩個參數各不相同的配線圖案62。
此處，實施例11及實施例15分別是開口部22的形態以六邊形1及六邊形5來表示，且如圖16(B)所示，2層網狀配線圖案是這兩者的開口部的六邊形狀、大小及旋轉角相同、且兩者不偏移地完全重合的配線圖案62。實施例12是開口部22的形態以六邊形2來表示，且如圖16(C)所示，2層網狀配線圖案是開口部的六邊形狀及旋轉角θ(26°)相同，但大小、即1邊的長度p為148μm與124μm而不同的配線圖案62。實施例13及實施例14分別是開口部22的形態以六邊形3及六邊形4來表示，且類似於 圖16(C)的2層網狀配線圖案是開口部的六邊形狀相同，但旋轉角θ及大小、即1邊的長度p不同的配線圖案62。
再者，無論是表2所示的實施例31及比較例1~比較例4，抑或是表3所示的實施例51及比較例11~比較例14，除了金屬細線14的線寬不同以外，均是分別具備正六邊形圖案的配線圖案62，該正六邊形圖案具備與表1所示的實施例11~實施例15相同的形態、即六邊形1~六邊形5。
表1所示的實施例16~實施例20均是金屬細線14的線寬為2μm，配線圖案62的開口部22的形態為正方形的正方格子1~正方格子5即圖16(D)所示的正方格子圖案，且是記載有圖16(G)中放大所示的開口部22的正方格子的1邊的長度p的參數各不相同的配線圖案62。
再者，無論是表2所示的比較例5~比較例9，抑或是表3所示的比較例15~比較例19，除了金屬細線14的線寬不同以外，均是分別具備正方格子圖案的配線圖案62，該正方格子圖案具備與表1所示的實施例16~實施例20相同的形態、即正方格子1~正方格子5。
表4所示的實施例61~實施例63分別是金屬細線14的線寬為2μm、4μm、6μm，配線圖案62的開口部22的形態為非對稱1~非對稱3即圖17所示的平行四邊形圖案，且是將圖17所示的開口部22的平行四邊形的長邊的長度p1以及長邊與y軸所成的角θ1、短邊的長度p2以及短邊與y軸所成的角θ2記載為 p2/θ2/p1/θ1的參數各不相同的配線圖案62。
由以上的表1~表4可知的是：無論BM圖案是何種圖 案，無論BM圖案的峰值強度分佈是對稱，抑或是非對稱，而且，無論配線圖案是何種圖案，即無論其金屬細線的線寬、開口部的形狀或其大小(間距或角度)、或者2個導電層的配線圖案的相位角(旋轉角、偏移角)等如何，而且，無論配線圖案的圖案形狀是對稱，抑或是非對稱，若雲紋的評價指標以常用對數計為-1.75以下，則即使因重疊的配線圖案與BM圖案的干涉所產生的雲紋會被視認到，亦是幾乎不會在意的等級以上，若雲紋的評價指標以常用對數計為-1.89以下，則即使假設雲紋會被視認到，亦是基本不會在意的等級以上，若雲紋的評價指標以常用對數計為-2.05以下，則是不會在意的等級以上，若雲紋的評價指標以常用對數計為-2.28以下，則是完全不會在意的等級。
根據以上所述，對於具備上述的雲紋的評價指標滿足上述範圍的配線圖案的本發明的導電性膜而言，即使顯示器的解析度不同，且無論觀察距離如何，均可抑制雲紋的產生，從而可大幅提高視認性。
根據以上所述，本發明的效果可明確。
再者，本發明中，如上述的實施例般，可預先準備各種圖案形狀的配線圖案，並藉由本發明的評價方法來確定具備經最佳化的配線圖案的導電性膜，但當1個配線圖案的雲紋的評價指標小於規定值時，亦可重複如下的操作，從而確定具備經最佳化的配線圖案的導電性膜，所述操作是：將配線圖案的透過率圖像資料更新為新的配線圖案的透過率圖像資料，並適用上述的本發 明的評價方法來求出雲紋的評價指標。
此處，所更新的新的配線圖案既可為預先準備的配線圖案，亦可為新製作的配線圖案。再者，當新製作時，既可使配線圖案的透過率圖像資料的旋轉角度、間距、圖案寬度中的任一個以上發生變化，亦可變更配線圖案的開口部的形狀或大小。進而，亦可使他們具備無規則性。
以上，舉各種實施方式及實施例對本發明的導電性膜、具備該導電性膜的顯示裝置及導電性膜的評價方法進行了說明，但本發明並不限定於上述的實施方式及實施例，只要不脫離本發明的主旨，當然亦可進行各種改良或設計的變更。

Claims (16)

  1. 一種顯示裝置，其包括：顯示單元；以及導電性膜，設置於上述顯示單元上；上述導電性膜具有：透明基體；以及導電部，形成於上述透明基體的至少一個面上，且包含多根金屬細線，上述導電部具有由上述多根金屬細線形成為網狀且排列有多個開口部的配線圖案，上述配線圖案重疊於上述顯示單元的畫素陣列圖案，對於上述配線圖案而言，在至少1視點處，在根據上述配線圖案的透過率圖像資料的二維傅立葉頻譜的多個頻譜峰值的峰值頻率及峰值強度、與上述畫素陣列圖案的透過率圖像資料的二維傅立葉頻譜的多個頻譜峰值的峰值頻率及峰值強度而分別算出的雲紋的頻率及強度中，根據雲紋的評價值而算出的雲紋的評價指標為規定值以下，上述雲紋的評價值是使人類的視覺響應特性對應於觀察距離來作用於根據上述顯示單元的顯示解析度而規定的雲紋的最高頻率以下的各雲紋的頻率中的上述雲紋的強度所獲得，上述規定值為-1.75，上述評價指標以常用對數計為-1.75以下， 上述雲紋的評價值是藉由如下方式而求出，對於上述雲紋的頻率及強度，將作為上述視覺響應特性的與上述觀察距離相應的視覺傳達函數以卷積積分進行加權，上述視覺傳達函數是以下述式(1)給出的能見度函數S(u)， 其中，u為空間頻率(cycle/deg)，L為亮度(cd/mm2)，X0為上述觀察距離處的上述顯示單元的顯示面的視角(deg)，X0 2是在上述觀察距離處上述顯示面所形成的立體角(sr)。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的顯示裝置，其中上述評價指標以常用對數計為-1.89以下。
  3. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的顯示裝置，其中上述雲紋的最高頻率是在將上述顯示單元的顯示間距設為p(μm)時，以1000/(2p)而給出。
  4. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的顯示裝置，其中上述雲紋的評價指標是使用對應於上述觀察距離而對1個上述雲紋的頻率進行加權所得的多個上述雲紋的評價值中最差的評價值而算出。
  5. 如申請專利範圍第4項所述的顯示裝置，其中 上述雲紋的評價指標是使針對上述1個上述雲紋的頻率而選擇的上述最差的評價值對於所有上述雲紋的頻率進行合計所得的合計值。
  6. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的顯示裝置，其中上述雲紋的頻率是以上述配線圖案的上述峰值頻率與上述畫素陣列圖案的上述峰值頻率的差值而給出，上述雲紋的強度是以上述配線圖案的上述峰值強度與上述畫素陣列圖案的上述峰值強度的積而給出。
  7. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的顯示裝置，其中為了使上述視覺響應特性發揮作用而選擇的雲紋是上述雲紋的強度具備-4以上的強度且具備上述最高頻率以下的頻率的雲紋。
  8. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的顯示裝置，其中上述配線圖案的上述峰值強度與上述畫素陣列圖案的上述峰值強度是上述頻譜峰值位置周邊的多個畫素內的強度的合計值。
  9. 如申請專利範圍第8項所述的顯示裝置，其中上述配線圖案的上述峰值強度與上述畫素陣列圖案的上述峰值強度是上述頻譜峰值位置周邊的7×7畫素內的上位5位為止的強度的合計值。
  10. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的顯示裝置，其中上述配線圖案的上述峰值強度與上述畫素陣列圖案的上述峰值強度是利用上述配線圖案及上述畫素陣列圖案的上述透過率圖 像資料而標準化者。
  11. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的顯示裝置，其中上述畫素陣列圖案為黑矩陣圖案。
  12. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的顯示裝置，其中當上述畫素陣列圖案的上述二維傅立葉頻譜的多個頻譜峰值的峰值強度分佈為對稱時，上述配線圖案具備對稱的圖案形狀。
  13. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的顯示裝置，其中當上述畫素陣列圖案的上述二維傅立葉頻譜的多個頻譜峰值的峰值強度分佈為非對稱時，上述配線圖案具備非對稱的圖案形狀。
  14. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的顯示裝置，其中上述金屬細線的線寬為2μm~6μm。
  15. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的顯示裝置，其中上述顯示單元的上述畫素陣列圖案的開口為以規定角度而屈曲的帶狀，上述配線圖案的上述開口部為菱形圖案、六邊形圖案、正方格子圖案及非對稱的平行四邊形圖案的任一者。
  16. 一種導電性膜的評價方法，上述導電性膜被設置於顯示裝置的顯示單元上，且具有由多根金屬細線形成為網狀且排列有多個開口部的配線圖案，上述導電性膜的評價方法的特徵在於，獲取上述配線圖案的透過率圖像資料、與上述配線圖案所重疊的上述顯示單元的畫素陣列圖案的透過率圖像資料， 對上述配線圖案的透過率圖像資料及上述畫素陣列圖案的透過率圖像資料進行二維傅立葉變換，算出上述配線圖案的透過率圖像資料的二維傅立葉頻譜的多個頻譜峰值的峰值頻率及峰值強度、與上述畫素陣列圖案的透過率圖像資料的二維傅立葉頻譜的多個頻譜峰值的峰值頻率及峰值強度，根據以此方式算出的上述配線圖案的上述峰值頻率及上述峰值強度與上述畫素陣列圖案的上述峰值頻率及上述峰值強度，分別算出雲紋的頻率及強度，從以此方式算出的上述雲紋的頻率及強度中，選出具備根據上述顯示單元的顯示解析度而規定的雲紋的最高頻率以下的頻率的雲紋，使人類的視覺響應特性對應於觀察距離而作用於以此方式選出的各雲紋的頻率中的上述雲紋的強度，從而分別獲得雲紋的評價值，根據以此方式獲得的多個上述雲紋的評價值來算出雲紋的評價指標，對以此方式算出的上述雲紋的評價指標為規定值以下的上述導電性膜進行評價，上述規定值為-1.75，上述評價指標以常用對數計為-1.75以下，上述雲紋的評價值是藉由如下方式而求出，對於上述雲紋的頻率及強度，將作為上述視覺響應特性的與上述觀察距離相應的 視覺傳達函數以卷積積分進行加權，上述視覺傳達函數是以下述式(1)給出的能見度函數S(u)， 其中，u為空間頻率(cycle/deg)，L為亮度(cd/mm2)，X0為上述觀察距離處的上述顯示單元的顯示面的視角(deg)，X0 2是在上述觀察距離處上述顯示面所形成的立體角(sr)。
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