JP5410353B2 - 透明導電膜の製造方法、導電性フイルム、透明発熱体及びプログラム - Google Patents

Description

本発明は、線材からなるメッシュパターンを透明基材上に設けた透明導電膜の製造方法、導電性フイルム、透明発熱体及びプログラムに関する。

近時、線材からなるメッシュパターンを透明基材上に設けた透明導電膜が開発されている。この透明導電膜は、電極や発熱シートとして使用可能である。例えば、タッチパネル用電極、無機ＥＬ素子、有機ＥＬ素子又は太陽電池の電極のみならず、車両のデフロスタ（霜取り装置）、窓ガラス等の一部に適用してもよい。

上記した各種物品の使用者にとって、その用途の性質上、前記メッシュパターンの模様は、観察対象物の視認性を妨げる粒状ノイズに相当する。そこで、同一の又は異なるメッシュ形状を規則的又は不規則的に配置することで、粒状ノイズを抑止し、観察対象物の視認性を向上させるための技術が種々提案されている。

例えば、特許文献１には、円の一部を切り欠いた円弧状の導電性を有する線材が格子状に繰り返し配置されるとともに、前記円弧状の線材の端部は、隣接する円弧状の線材の中央部近傍に接続されるメッシュ層が設けられている乗用移動体用窓が開示されている。これにより、視認性のみならず、電磁波のシールド性及び耐破損性を向上できる旨が記載されている（特許文献１の［００２９］及び図３を参照）。

また、特許文献２には、離散パターンのディスクレパンシ（ｄｉｓｃｒｅｐａｎｃｙ）を数学的に定式化して、この値を低くするような初期位置を決定し、斥力緩和法によりドット間の重なりを解消する離散パターンの作成方法が開示されている。これにより、ドットの一様性に起因する面内むらや粒状感を低減できる旨が記載されている（特許文献２の［００６８］〜［００７３］等を参照）。

特開２００９−１３７４５５号公報 特開２００３−６２２０８号公報

ところで、透明導電膜の用途に応じて、前記粒状ノイズ以外にも別の光学的特性が要求される場合がある。例えば、車両用のフロントガラスでは、光の干渉性が特に問題となる。以下、詳細に説明する。

車外からの外光は、フロントガラスに設けられたメッシュパターンの各開口部を介して車内に入射する。各開口部からの入射光（回折光）が互いに干渉すると、フロントガラスに干渉縞の光像が発生する場合がある。この干渉縞の発生部位によっては運転者の前方の視界が著しく遮断されて、車両の運転操作に影響するおそれがある。

これに対し、本発明者は、特許文献１に記載されたメッシュパターンを形成した導電性フイルムを作製し、ガラスの一面に該導電性フイルムを貼り合わせ、このガラスを介して外光を透過観察した。すると、視野の全方位に対して一様に弱い干渉縞が発生することを確認した。さらに、ガラス前方の視界が靄かかったように視認されるので、観察対象物の視認性を却って低下させることを見出した。なお、特許文献２に記載された離散パターンを用いてメッシュパターンを形成した場合も、同様の結果が得られた。

このように、透明導電膜の一部の用途において、粒状ノイズとは別に、光干渉の指向性をも考慮してメッシュパターンを形成する必要があるという問題が顕在化している。

本発明は上記した問題を解決するためになされたもので、メッシュパターンにより形成される複数の開口部による光干渉の指向性を適切に制御可能である透明導電膜の製造方法、導電性フイルム、透明発熱体及びプログラムを提供することを目的とする。

本発明に係る透明導電膜の製造方法は、所定の二次元画像領域の中から複数の位置を選択する位置選択ステップと、複数の開口部を有するメッシュパターンの模様を表す画像データを、選択された前記複数の位置に基づいて作成する画像データ作成ステップと、前記複数の開口部を介して発生する光干渉の指向性について、交叉する２軸方向に対して定量化した第１評価値を、作成された前記画像データに基づいて算出する評価値算出ステップと、算出された前記第１評価値と所定の評価条件とに基づいて１つの前記画像データを出力用画像データとして決定する画像データ決定ステップと、決定された前記出力用画像データに基づいて透明基材上に線材を出力形成し、前記メッシュパターンを有する透明導電膜を製造する製造ステップとを備えることを特徴とする。

このように、複数の開口部を介して発生する光干渉の指向性について、交叉する２軸方向に対して定量化した第１評価値を、作成された前記画像データに基づいて算出する評価値算出ステップと、算出された前記第１評価値と所定の評価条件とに基づいて１つの画像データを出力用画像データとして決定する画像データ決定ステップとを設けたので、前記所定の評価条件を満たす光干渉を発生させるメッシュパターンの形状を決定できる。換言すれば、メッシュパターンにより形成される複数の開口部を介して発生する光干渉の指向性を適切に制御できる。

また、前記メッシュパターンの視認性に関わる前記線材の視認情報を入力する第１入力ステップと、前記メッシュパターンの視認性に関わる前記透明基材の視認情報を入力する第２入力ステップと、入力された前記線材及び前記透明基材の視認情報に基づいて前記メッシュパターンに応じた画像情報を推定する画像情報推定ステップと、を備え、前記画像データ作成ステップは、推定された前記画像情報に基づいて前記画像データを作成することが好ましい。

さらに、前記線材の視認情報には、該線材の種類、色値、光透過率、若しくは光反射率、又は配線の断面形状若しくは太さの少なくとも１つが含まれ、前記透明基材の視認情報には、該透明基材の種類、色値、光透過率、光反射率又は膜厚の少なくとも１つが含まれることが好ましい。

さらに、前記第１評価値は、前記画像データの二次元パワースペクトルを用いて算出される評価値であることが好ましい。

さらに、前記第１評価値は、前記二次元パワースペクトルの前記２軸方向に対する各モーメントを用いて算出される評価値であることが好ましい。

さらに、前記第１評価値は、前記２軸方向に対する前記モーメントの比を用いて算出される評価値であることが好ましい。

さらに、前記第１評価値は、前記二次元パワースペクトルの空間周波数領域の一部を用いて算出される評価値であることが好ましい。

さらに、前記評価値算出ステップは、前記メッシュパターンのノイズ特性を定量化した第２評価値を前記画像データに基づいてさらに算出し、前記画像データ決定ステップは、算出された前記第１評価値、前記第２評価値及び所定の評価条件に基づいて、１つの前記画像データを出力用画像データとして決定することが好ましい。これにより、メッシュパターンにより形成される複数の開口部を介して発生する光干渉の指向性のみならず、前記メッシュパターンのノイズ特性をも考慮した上で適切に制御できる。

さらに、前記第２評価値は、粒状度を表す評価値であることが好ましい。

さらに、前記第２評価値は、ＲＭＳ粒状度であることが好ましい。

さらに、前記第２評価値は、人間の視覚応答特性関数により補正されたＲＭＳ粒状度であることが好ましい。

さらに、前記人間の視覚応答特性関数は、Ｄｏｏｌｅｙ−Ｓｈａｗ関数であることが好ましい。

さらに、前記画像データ作成ステップは、ドロネー三角形分割法を用いて前記複数の位置からメッシュ状の模様を形成し、該模様を表す画像データを作成することが好ましい。

さらに、前記画像データ作成ステップは、ボロノイ図を用いて前記複数の位置からメッシュ状の模様を形成し、該模様を表す画像データを作成することが好ましい。

さらに、前記第１評価値又は／及び前記第２評価値に基づいて前記複数の位置のうちの一部を別の位置にそれぞれ更新する位置更新ステップを備え、前記位置更新ステップ、前記画像データ作成ステップ及び前記評価値算出ステップを順次繰り返し、前記画像データ決定ステップにより前記出力用画像データを決定することが好ましい。

さらに、前記位置更新ステップは、擬似焼きなまし法を用いて、前記複数の位置のうちの一部を別の位置にそれぞれ更新することが好ましい。

本発明に係る導電性フイルムは、上記したいずれかの製造方法を用いて製造することを特徴とする。

本発明に係る透明発熱体は、上記した導電性フイルムを備えることを特徴とする。

本発明に係るプログラムは、コンピュータを、所定の二次元画像領域の中から複数の位置を選択する手段、複数の開口部を有するメッシュパターンの模様を表す画像データを、選択された前記複数の位置に基づいて作成する手段、前記複数の開口部を介して発生する光干渉の指向性について、交叉する２軸方向に対して定量化した第１評価値を、作成された前記画像データに基づいて算出する手段、算出された前記第１評価値と所定の評価条件とに基づいて１つの前記画像データを出力用画像データとして決定する手段、決定された前記出力用画像データに基づいて透明基材上に線材を出力形成する手段として機能させることを特徴とする。

本発明に係る透明導電膜の製造方法及びプログラムによれば、所定の二次元画像領域の中から複数の位置を選択し、複数の開口部を有するメッシュパターンの模様を表す画像データを、選択された前記複数の位置に基づいて作成し、前記複数の開口部を介して発生する光干渉の指向性について、交叉する２軸方向に対して定量化した第１評価値を、作成された前記画像データに基づいて算出し、算出された前記第１評価値と所定の評価条件とに基づいて１つの前記画像データを出力用画像データとして決定し、決定された前記出力用画像データに基づいて透明基材上に線材を出力形成し、前記メッシュパターンを有する透明導電膜を製造するようにしたので、前記所定の評価条件を満たす光干渉を発生させるメッシュパターンの形状を決定できる。換言すれば、メッシュパターンにより形成される複数の開口部を介して発生する光干渉の指向性を適切に制御できる。

本発明に係る導電性フイルム及び透明発熱体によれば、光干渉の指向性に関して、用途に応じた適切な光学特性を有する部材として使用できる。

本実施の形態に係る導電性フイルムを製造するための製造装置の概略構成ブロック図である。 図２Ａは、図１の導電性フイルムの一部拡大平面図である。図２Ｂは、図１の導電性フイルムを透明発熱体とした場合の一構成例を示す平面図である。 図２Ａの導電性フイルムの概略断面図である。 図１のメッシュ模様評価部及びデータ更新指示部の機能ブロック図である。 画像データ作成条件の設定画面の一例を示す図である。 図１の製造装置の動作についてのフローチャートである。 図７Ａは、メッシュパターンの模様を表す画像データを可視化した概略説明図である。図７Ｂは、図７Ａの画像データに対してＦＦＴを施して得られる二次元パワースペクトルの分布図である。図７Ｃは、図７Ｂに示す二次元パワースペクトル分布のＶＩＩＣ−ＶＩＩＣ線に沿う断面図である。 二次元パワースペクトルの所定の軸方向でのモーメントを算出する際における演算範囲を表す概略説明図である。 Ｄｏｏｌｅｙ−Ｓｈａｗ関数（観察距離３００ｍｍ）のグラフである。 出力用画像データの作成方法を説明するフローチャートである。 シード点の配置密度と全体透過率との関係の一例を表すグラフである。 図１２Ａ及び図１２Ｂは、ボロノイ図を用いて、８つの点をそれぞれ囲繞する８つの領域を画定した結果の説明図である。 図１３Ａ及び図１３Ｂは、ドロネー三角形分割法を用いて、８つの点をそれぞれ頂点とする８つの三角形状領域を画定した結果の説明図である。 図１４Ａは、画像データにおける画素アドレスの定義を表す説明図である。図１４Ｂは、画像データにおける画素値の定義を表す説明図である。 図１５Ａは、シード点の初期位置の模式図である。図１５Ｂは、図１５Ａのシード点を基準とするボロノイ図である。 図１０に示すステップＳ２６の詳細フローチャートである。 図１７Ａは、画像領域内の第１シード点、第２シード点及び候補点の位置関係を表す説明図である。図１７Ｂは、第２シード点と候補点とを交換してシード点の位置を更新した結果の説明図である。 図１８Ａは、γ＝０．５に設定して得られたメッシュパターンの模様を表す画像データを可視化した概略説明図である。図１８Ｂは、図１８Ａの画像データに対してＦＦＴを施して得られる二次元パワースペクトルの分布図である。 図１９Ａ〜図１９Ｅは、本実施の形態に係る導電性フイルムの第１の製造方法を示す工程図である。 図２０Ａ及び図２０Ｂは、本実施の形態に係る導電性フイルムの第２の製造方法を示す工程図である。 図２１Ａ及び図２１Ｂは、本実施の形態に係る導電性フイルムの第３の製造方法を示す工程図である。 本実施の形態に係る導電性フイルムの第４の製造方法を示す工程図である。 図２３Ａは、第１のメッシュパターンを有する導電性フイルムの一部拡大平面図である。図２３Ｂ及び図２３Ｃは、第１のメッシュパターンを有する導電性フイルムの観察写真を示す図である。 図２４Ａは、第２のメッシュパターンを有する導電性フイルムの一部拡大平面図である。図２４Ｂ及び図２４Ｃは、第２のメッシュパターンを有する導電性フイルムの観察写真を示す図である。 図２５Ａは、第３のメッシュパターンを有する導電性フイルムの一部拡大平面図である。図２５Ｂ及び図２５Ｃは、第３のメッシュパターンを有する導電性フイルムの観察写真を示す図である。

以下、本実施の形態に係る透明導電膜の製造方法についてそれを実施する製造装置との関係において好適な実施形態を挙げ、添付の図面を参照しながら詳細に説明する。

図１は、本実施の形態に係る導電性フイルム１４を製造するための製造装置１０の概略構成ブロック図である。

製造装置１０は、メッシュパターンＭに応じた模様を表す画像データＩｍｇ（出力用画像データＩｍｇＯｕｔを含む。）を作成する画像処理装置１２と、該画像処理装置１２により作成された前記出力用画像データＩｍｇＯｕｔに基づいて製造工程下の導電性フイルム１４（透明導電膜）に光１６を照射して露光する露光部１８と、前記画像データＩｍｇを作成するための各種条件（メッシュパターンＭの視認情報を含む。）を画像処理装置１２に入力する入力部２０と、該入力部２０による入力作業を補助するＧＵＩ画像や、記憶された出力用画像データＩｍｇＯｕｔ等を表示する表示部２２とを基本的に備える。

画像処理装置１２は、画像データＩｍｇ、出力用画像データＩｍｇＯｕｔ、候補点ＳＰの位置データＳＰｄ、及びシード点ＳＤの位置データＳＤｄを記憶する記憶部２４と、擬似乱数を発生して乱数値を生成する乱数発生部２６と、該乱数発生部２６により生成された前記乱数値を用いて、所定の二次元画像領域の中からシード点ＳＤの初期位置を選択する初期位置選択部２８と、前記乱数値を用いて前記二次元画像領域の中から候補点ＳＰの位置（シード点ＳＤの位置を除く。）を決定する更新候補位置決定部３０と、出力用画像データＩｍｇＯｕｔを露光部１８の制御信号（露光データ）に変換する露光データ変換部３２と、表示部２２に各種画像を表示する制御を行う表示制御部３４とを備える。

なお、シード点ＳＤは、更新対象でない第１シード点ＳＤＮと、更新対象である第２シード点ＳＤＳとからなる。換言すれば、シード点ＳＤの位置データＳＤｄは、第１シード点ＳＤＮの位置データＳＤＮｄと、第２シード点ＳＤＳの位置データＳＤＳｄとから構成されている。

画像処理装置１２は、入力部２０から入力された視認情報（詳細は後述する。）に基づいてメッシュパターンＭに応じた画像情報を推定する画像情報推定部３６と、該画像情報推定部３６から供給された前記画像情報及び記憶部２４から供給されたシード点ＳＤの位置に基づいてメッシュパターンＭに応じた模様を表す画像データＩｍｇを作成する画像データ作成部３８と、該画像データ作成部３８により作成された画像データＩｍｇに基づいてメッシュ状の模様を評価するための評価値ＥＶＰを算出するメッシュ模様評価部４０と、該メッシュ模様評価部４０により算出された評価値ＥＶＰに基づいてシード点ＳＤや評価値ＥＶＰ等のデータの更新／非更新を指示するデータ更新指示部４２とをさらに備える。

図１の導電性フイルム１４は、図２Ａに示すように、複数の導電部５０と複数の開口部５２とを有している。複数の導電部５０は、複数の金属細線５４が互いに交叉したメッシュパターンＭ（メッシュ状の配線）を形成している。すなわち、１つの開口部５２と、該１つの開口部５２を囲む少なくとも２つの導電部５０の組み合わせ形状がメッシュ形状となっている。このメッシュ形状は開口部５２毎に異なっており、それぞれ不規則（すなわち非周期的）に配列されている。以下、導電部５０を構成する材料を「線材」という場合がある。

金属細線５４の線幅は、５μｍ以上２００μｍ（０．２ｍｍ）以下から選択可能である。もちろん、透光性を向上させたい場合は、５μｍ以上５０μｍ以下から選択してもよい。また、開口部５２の面積は、０．０２ｍｍ²以上４０ｍｍ²以下が好ましく、さらに好ましくは、０．１ｍｍ²以上１ｍｍ²以下である。

このように構成しているので、導電性フイルム１４の全体の光透過率は７０％以上９９％未満であり、８０％以上９９％未満、さらには、８５％以上９９％未満を実現することができる。

この導電性フイルム１４は、車両のデフロスタ（霜取り装置）や、窓ガラス等の一部として使用可能な導電性フイルムである。この導電性フイルム１４は、電流を流すことで発熱する透明発熱体としても機能し、図３に示すように、透明フイルム基材５６（透明基材）と、該透明フイルム基材５６上に形成された前記導電部５０及び開口部５２を備える。

図２Ｂに示すように、この導電性フイルム１４を透明発熱体５８として使用する場合は、導電性フイルム１４の対向する端部（例えば、図２Ｂの左右両端）に第１電極６０ａ及び第２電極６０ｂを形成し、第１電極６０ａから第２電極６０ｂに電流を流す。これにより、透明発熱体５８が発熱し、透明発熱体５８に接する又は透明発熱体５８を組み込んだ加熱対象物（例えば、建物の窓ガラス、車両用の窓ガラス、車両用灯具の前面カバー等）が加熱される。その結果、加熱対象物に付着していた雪等が取り除かれることになる。

図４は、図１に示すメッシュ模様評価部４０及びデータ更新指示部４２の詳細機能ブロック図である。

メッシュ模様評価部４０は、画像データ作成部３８から供給された画像データＩｍｇに高速フーリエ変換（Ｆａｓｔ Ｆｏｕｒｉｅｒ Ｔｒａｎｓｆｏｒｍａｔｉｏｎ；以下、ＦＦＴという。）を施して二次元スペクトルデータ（以下、単に「スペクトルＳｐｃ」という。）を取得するＦＦＴ演算部１００と、該ＦＦＴ演算部１００から供給されたスペクトルＳｐｃに基づいて第１評価値ＥＶ１を算出する第１評価値算出部１０２と、該ＦＦＴ演算部１００から供給されたスペクトルＳｐｃに基づいて第２評価値ＥＶ２を算出する第２評価値算出部１０４と、第１評価値算出部１０２から供給された第１評価値ＥＶ１と、第２評価値算出部１０４から供給された第２評価値ＥＶ２とを重み付け加算して評価値ＥＶＰを取得する重み付け加算部１０６とを備える。

データ更新指示部４２は、メッシュ模様評価部４０による評価回数を計上するカウンタ１０８と、後述する擬似焼きなまし法で用いる擬似温度Ｔの値を管理する擬似温度管理部１１０と、メッシュ模様評価部４０から供給された評価値ＥＶＰ及び擬似温度管理部１１０から供給された擬似温度Ｔに基づいてシード点ＳＤの更新確率を算出する更新確率算出部１１２と、該更新確率算出部１１２から供給された前記更新確率に基づいてシード点ＳＤの位置データＳＤｄ等の更新／非更新を判定する位置更新判定部１１４と、擬似温度管理部１１０からの通知に応じて１つの画像データＩｍｇを出力用画像データＩｍｇＯｕｔとして決定する出力用画像データ決定部１１６とを備える。

図５は、画像データ作成条件の設定画面の一例を示す図である。

設定画面１２０は、上方から順番に、左側のプルダウンメニュー１２２と、左側の表示欄１２４と、右側のプルダウンメニュー１２６と、右側の表示欄１２８と、７個のテキストボックス１３０、１３２、１３４、１３６、１３８、１４０、１４２と、［設定］、［中止］と表示されたボタン１４４、１４６とを備える。

プルダウンメニュー１２２、１２６の左方部には、「種類」なる文字列が表示されている。入力部２０（例えば、マウス）の所定の操作により、プルダウンメニュー１２２、１２６の下方部に図示しない選択欄が併せて表示され、その中の項目を選択自在である。

表示欄１２４は、５つの欄１４８ａ、１４８ｂ、１４８ｃ、１４８ｄ、１４８ｅから構成されており、これらの左方部には、「光透過率」、「光反射率」、「色値Ｌ^*」、「色値ａ^*」及び「色値ｂ^*」なる文字列がそれぞれ表示されている。

表示欄１２８は、表示欄１２４と同様に、５つの欄１５０ａ、１５０ｂ、１５０ｃ、１５０ｄ、１５０ｅから構成されており、これらの左方部には、「光透過率」、「光反射率」、「色値Ｌ^*」、「色値ａ^*」及び「色値ｂ^*」なる文字列がそれぞれ表示されている。

テキストボックス１３０の左方部には「全体透過率」と表示され、その右方部には「％」と表示されている。テキストボックス１３２の左方部には「膜厚」と表示され、その右方部には「μｍ」と表示されている。テキストボックス１３４の左方部には「配線の幅」と表示され、その右方部には「μｍ」と表示されている。テキストボックス１３６の左方部には「配線の厚さ」と表示され、その右方部には「μｍ」と表示されている。テキストボックス１３８の左方部には「パターンサイズＨ」と表示され、その右方部には「ｍｍ」と表示されている。テキストボックス１４０の左方部には「パターンサイズＶ」と表示され、その右方部には「ｍｍ」と表示されている。テキストボックス１４２の左方部には「画像解像度」と表示され、その右方部には「ｄｐｉ」と表示されている。

なお、７個のテキストボックス１３０、１３２、１３４、１３６、１３８、１４０、１４２のいずれにも、入力部２０（例えば、キーボード）の所定の操作により算用数字の入力が自在である。

基本的には、以上のように構成される製造装置１０の動作について、図６のフローチャートを参照して説明する。

先ず、メッシュパターンＭに応じた模様を表す画像データＩｍｇ（出力用画像データＩｍｇＯｕｔを含む。）を作成する際に必要な各種条件を入力する（ステップＳ１）。

作業者は、表示部２２に表示された設定画面１２０（図５参照）を介して、適切な数値等を入力する。これにより、メッシュパターンＭの視認性に関わる視認情報を入力することができる。ここで、視認情報とは、メッシュパターンＭの形状や光学濃度に寄与する各種情報であり、線材（金属細線５４）の視認情報や、透明基材（透明フイルム基材５６）の視認情報が含まれる。線材の視認情報として、例えば、該線材の種類、色値、光透過率、若しくは光反射率、又は金属細線５４の断面形状若しくは太さの少なくとも１つが含まれる。透明基材の視認情報として、例えば、該透明基材の種類、色値、光透過率、光反射率又は膜厚の少なくとも１つが含まれる。

作業者は、製造しようとする導電性フイルム１４に関して、プルダウンメニュー１２２を用いて線材の種類を１つ選択する。図５の例では、「銀（Ａｇ）」が選択されている。線材の種類を１つ選択すると、表示欄１２４が即時に更新され、該線材の物性に応じた既知の数値が新たに表示される。欄１４８ａ、１４８ｂ、１４８ｃ、１４８ｄ、１４８ｅには、１００μｍの厚さを有する銀の光透過率（単位：％）、光反射率（単位：％）、色値Ｌ^*、色値ａ^*、色値ｂ^*（ＣＩＥＬＡＢ）がそれぞれ表示される。

また、作業者は、製造しようとする導電性フイルム１４に関して、プルダウンメニュー１２６を用いて膜材（透明基材）の種類を１つ選択する。図５の例では、「ＰＥＴフイルム」が選択されている。膜材の種類を１つ選択すると、表示欄１２８が即時に更新され、該膜材の物性に応じた既知の数値が新たに表示される。欄１５０ａ、１５０ｂ、１５０ｃ、１５０ｄ、１５０ｅには、１ｍｍの厚さを有するＰＥＴフイルムの光透過率（単位：％）、光反射率（単位：％）、色値Ｌ^*、色値ａ^*、色値ｂ^*（ＣＩＥＬＡＢ）がそれぞれ表示される。

なお、プルダウンメニュー１２２、１２６の図示しない「マニュアル入力」の項目を選択することで、表示欄１２４、１２８から各物性値を直接入力できるようにしてもよい。

さらに、作業者は、製造しようとする導電性フイルム１４に関して、テキストボックス１３０等を用いてメッシュパターンＭの各種条件をそれぞれ入力する。

テキストボックス１３０、１３２、１３４、１３６の入力値は、全体の光透過率（単位：％）、透明フイルム基材５６の膜厚（単位：μｍ）、金属細線５４の線幅（単位：μｍ）、金属細線５４の厚さ（単位：μｍ）にそれぞれ対応する。

テキストボックス１３８、１４０、１４２の入力値は、メッシュパターンＭの横サイズ、メッシュパターンＭの縦サイズ、出力用画像データＩｍｇＯｕｔの画像解像度（画素サイズ）に相当する。

作業者による［設定］ボタン１４４のクリック動作に応じて、画像情報推定部３６は、メッシュパターンＭに応じた画像情報を推定する。この画像情報は、画像データＩｍｇ（出力用画像データＩｍｇＯｕｔを含む。）を作成する際に参照される。

例えば、メッシュパターンＭの縦サイズ（テキストボックス１３８の入力値）と出力用画像データＩｍｇＯｕｔの画像解像度（テキストボックス１４２の入力値）とに基づいて、出力用画像データの横方向の画素数を算出できるし、配線の幅（テキストボックス１３４の入力値）と前記画像解像度とに基づいて金属細線５４の線幅に相当する画素数を算出できる。

また、線材の光透過率（欄１４８ａの表示値）と配線の厚さ（テキストボックス１３６の入力値）とに基づいて金属細線５４単体の光透過率を推定できる。これに加えて、膜材の光透過率（欄１５０ａの表示値）と膜厚（テキストボックス１３２の入力値）とに基づいて、透明フイルム基材５６上に金属細線５４を積層した状態での光透過率を推定できる。

さらに、線材の光透過率（欄１４８ａの表示）と、膜材の光透過率（欄１５０ａの表示）と、全体透過率（テキストボックス１３０の入力値）と、配線の幅（テキストボックス１３２の入力値）とに基づいて、開口部５２の個数を推定するとともに、シード点ＳＤの個数を推定できる。なお、開口部５２の領域を決定するアルゴリズムに応じて、シード点ＳＤの個数を推定するようにしてもよい。

次いで、メッシュパターンＭを形成するための出力用画像データＩｍｇＯｕｔを作成する（ステップＳ２）。

出力用画像データＩｍｇＯｕｔの作成方法の説明に先立って、画像データＩｍｇの評価方法について始めに説明する。本実施の形態では、複数の開口部５２を介して発生する光干渉の指向性について、交叉する２軸方向に対して定量化した第１評価値ＥＶ１と、メッシュパターンＭのノイズ特性（例えば、粒状ノイズ）を定量化した第２評価値ＥＶ２とに基づいて評価を行う。

図７Ａは、メッシュパターンＭの模様を表す画像データＩｍｇを可視化した概略説明図である。以下、この画像データＩｍｇを例に挙げて説明する。

第１評価値ＥＶ１の算出方法について説明する。先ずは、図７Ａに示す画像データＩｍｇに対してＦＦＴを施す。これにより、開口部５２を透過した光の回折像を得ることができる。ここで、開口部５２の形状が極めて微小で、無数の開口部５２が連続的に配置されたものと考えてもよい。したがって、前記回折像の特性は、複数の開口部５２を介して発生する干渉縞の発生領域と高い相関関係を有するといえる。

図７Ｂは、図７Ａの画像データＩｍｇに対してＦＦＴを施して得られるスペクトルＳｐｃの分布図である。ここで、当該分布図の横軸はＸ軸方向に対する空間周波数を示し、その縦軸はＹ軸方向に対する空間周波数を示す。また、空間周波数帯域毎の表示濃度が薄いほど強度レベル（スペクトルＳｐｃの値）が小さくなり、表示濃度が濃いほど強度レベルが大きくなっている。本図の例では、このスペクトルＳｐｃの分布は、等方的であるとともに環状のピークを２個有している。

図７Ｃは、図７Ｂに示すスペクトルＳｐｃの分布のＸ軸断面図である。スペクトルＳｐｃは等方的であるので、図７Ｃはあらゆる角度方向に対する動径方向分布に相当する。本図から諒解されるように、低空間周波数帯域及び高空間周波数帯域での強度レベルが小さくなり、中間の空間周波数帯域のみ強度レベルが高くなるいわゆるバンドパス型の特性を有する。すなわち、図７Ａに示す画像データＩｍｇは、画像工学分野の技術用語によれば、「グリーンノイズ」の特性を有する模様を表すものといえる。

第１評価値ＥＶ１を算出すべく、次いで、スペクトルＳｐｃの任意の角度θ方向におけるｍ次モーメントＭｏｍ（θ，ｍ）を算出する。ここで、θは０≦θ＜２πの範囲内の値であり、ｍは１以上の整数である。具体的には、次の（１）式で算出される。

ここで、スペクトルＳｐｃの所定の軸方向でのモーメントを算出する際の積分範囲について、図８を参照しながら説明する。（１）式に示すように、−ｕ_max≦ｕ≦ｕ_maxを積分範囲としている。ここで、ｕ_maxは、積分計算の上限値・下限値を決定するパラメータである。例えば、全空間周波数帯域で計算する場合は、ｕ_max＝∞に相当する。画像データＩｍｇは離散データであるから、ｕ_maxの値を０＜ｕ_max≦ｕ_nyq／２の範囲内にある任意の値に設定することができる。なお、ｕ_nyqは、画像データＩｍｇのナイキスト周波数である。

例えば、本実施の形態では、互いに直交するＸ軸及びＹ軸方向における１次モーメントの比を評価値とする。すなわち、第１評価値ＥＶ１は、次の（２）式で表される。
ＥＶ１＝｜Ｍｏｍ（π／２，１）／Ｍｏｍ（０，１）−γ｜ ‥‥（２）

この第１評価値ＥＶ１のうちの第１項は、干渉縞の発生領域のＸ軸−Ｙ軸アスペクト比に相当する。ここで、γは、アスペクト比の目標値に相当する。一例として、γ＝０とすると、スペクトルＳｐｃがＸ軸近傍に局在するほど、第１評価値ＥＶ１の値が小さくなる。一方、スペクトルＳｐｃが二次元方向に均一に分散する場合は、第１評価値ＥＶ１の値が大きくなる。

例えば、車両用のフロントガラスに発生する干渉縞について、二次元領域に広く発生するよりも、Ｘ軸近傍に局在するように発生する方が好ましい。なぜならば、運転者は、遠方（Ｙ軸上方）又は近方（Ｙ軸下方）の視界を確保することができるからである。この場合は、第１評価値ＥＶ１が小さくなるようなメッシュパターンＭを選択すればよい。

なお、メッシュパターンＭに対する評価内容（目標特性）に応じて、モーメントの次数ｍや、軸方向、積分範囲等を任意に定めることができる。例えば、２軸方向が直交しないように設定してもよい。この場合は、特定の角度方向でのスペクトルＳｐｃの異方度を求めることができる。

続いて、第２評価値ＥＶ２の算出方法について説明する。この第２評価値ＥＶ２は、メッシュパターンＭのノイズ特性を評価するための評価値である。

ノイズ特性を評価する例として、画像データＩｍｇの所定の領域範囲を定め、該領域範囲内の画素値に対してＲＭＳ（Ｒｏｏｔ Ｍｅａｎ Ｓｑｕａｒｅ）を求めてもよい。本実施の形態では、人間の視覚応答特性を評価に採り入れ、さらに改良した評価値ＥＶ２を用いている。

先ず、第１評価値ＥＶ１を算出する場合と同様に、画像データＩｍｇに対してＦＦＴを施す。これにより、メッシュパターンＭの形状について、部分的形状ではなく、全体の傾向（空間周波数分布）として把握できる。

なお、第１評価値ＥＶ１での注目箇所は開口部５２であるのに対し、第２評価値ＥＶ２での注目箇所は導電部５０である。つまり、第１評価値ＥＶ１と第２評価値ＥＶ２とは、同一画像データＩｍｇ内での注目箇所が異なるにすぎない。結局、評価値の算出に用いるスペクトルＳｐｃは同じである。

図９は、Ｄｏｏｌｅｙ−Ｓｈａｗ関数（観察距離３００ｍｍ）を表すグラフである。

Ｄｏｏｌｅｙ−Ｓｈａｗ関数は、ＶＴＦ（Ｖｉｓｕａｌ Ｔｒａｎｓｆｅｒ Ｆｕｎｃｔｉｏｎ）の一種であり、人間の視覚応答特性を模した代表的な関数である。具体的には、輝度のコントラスト比特性の２乗値に相当する。なお、グラフの横軸は空間周波数（単位：ｃｙｃｌｅ／ｍｍ）であり、縦軸はＶＴＦの値（単位は無次元）である。

観察距離を３００ｍｍとすると、０〜１．０ｃｙｃｌｅ／ｍｍの範囲ではＶＴＦの値は一定（１に等しい。）であり、空間周波数が高くなるにつれて次第にＶＴＦの値が減少する傾向がある。すなわち、この関数は、中〜高空間周波数帯域を遮断するローパスフィルタとして機能する。

なお、実際の人間の視覚応答特性は、０ｃｙｃｌｅ／ｍｍ近傍で１より小さい値になっており、いわゆるバンドパスフィルタの特性を有する。しかし、本実施の形態において、図９に例示するように、極めて低い空間周波数帯域であってもＶＴＦの値を１にすることで、第２評価値ＥＶ２への寄与度を高くしている。これにより、メッシュパターンＭの繰り返し配置に起因する周期性を抑制する効果が得られる。

第２評価値ＥＶ２は、スペクトルＳｐｃの値をＦ（Ｕｘ，Ｕｙ）とするとき、次の（３）式で算出される。

ウィナー・ヒンチン（Ｗｉｅｎｅｒ−Ｋｈｉｎｔｃｈｅｎ）の定理によれば、スペクトルＳｐｃを全空間周波数帯域で積分した値は、ＲＭＳの２乗値に一致する。このスペクトルＳｐｃに対してＶＴＦを乗算し、この新たなスペクトルＳｐｃを全空間周波数帯域で積分した値は、人間の視覚特性に略一致する評価指標となる。この第２評価値ＥＶ２は、人間の視覚応答特性で補正したＲＭＳということができる。通常のＲＭＳと同様に、第２評価値ＥＶ２は、常に０以上の値を取り、０に近づくほどノイズ特性が良好であるといえる。

また、図９に示すＶＴＦに対して逆フーリエ変換（例えば、ＩＦＦＴ）を施すことで、ＶＴＦに対応する実空間上のマスクを算出し、評価しようとする画像データＩｍｇに対して該マスクを作用して畳み込み演算を行い、新たな画像データＩｍｇに対してＲＭＳを求めてもよい。これにより、（３）式を用いた上記方法と同等の演算結果を得ることができる。

以上説明した第１評価値ＥＶ１と、第２評価値ＥＶ２とを組み合わせて、メッシュパターンＭの模様についての評価値ＥＶＰを算出することができる。評価値ＥＶＰの一例として、次の（４）式で与えられる。
ＥＶＰ＝α×ＥＶ１＋β×ＥＶ２ ‥‥（４）

例えば、第１評価値ＥＶ１、第２評価値ＥＶ２はともに必ず０以上の値を取り、０に近づくほど望ましいと仮定する。そうすると、α及びβはいずれも正の値とした上で、各評価の重要度に応じて各値を定めることができる。また、第１評価値ＥＶ１のみを用いる場合はβ＝０とし、第２評価値ＥＶ２のみを用いる場合はα＝０とすればよい。さらに、α、βは、理論的に定めた値であるか、経験的に見出した値であるかは問わない。

なお、メッシュパターンＭを決定するための目標レベル（許容範囲）や評価関数に応じて、評価値ＥＶＰの算出式を種々変更し得ることはいうまでもない。

以下、上記した評価値ＥＶＰに基づいて出力用画像データＩｍｇＯｕｔを決定する具体的方法について説明する。例えば、模様が異なる画像データＩｍｇの作成と、評価値ＥＶＰによる評価とを順次繰り返す方法を用いることができる。かかる場合、出力用画像データＩｍｇＯｕｔを決定する最適化問題として、構成的アルゴリズムや逐次改善アルゴリズム等の種々の探索アルゴリズムを用いることができる。

本実施の形態では、擬似焼きなまし法（Ｓｉｍｕｌａｔｅｄ Ａｎｎｅａｌｉｎｇ；以下、ＳＡ法という。）によるメッシュパターンＭの最適化方法について、図１０のフローチャート及び図１の機能ブロック図を主に参照しながら説明する。なお、ＳＡ法は、高温状態で鉄を叩くことで頑健な鉄を得る「焼きなまし法」を模した確率的探索アルゴリズムである。

先ず、初期位置選択部２８は、シード点ＳＤの初期位置を選択する（ステップＳ２１）。

初期位置の選択に先立って、乱数発生部２６は、擬似乱数の発生アルゴリズムを用いて乱数値を発生する。ここで、擬似乱数の発生アルゴリズムとしてメルセンヌ・ツイスタ（Ｍｅｒｓｅｎｎｅ Ｔｗｉｓｔｅｒ）、ＳＦＭＴ（ＳＩＭＤ−ｏｒｉｅｎｔｅｄ Ｆａｓｔ Ｍｅｒｓｅｎｎｅ Ｔｗｉｓｔｅｒ）やＸｏｒｓｈｉｆｔ法等の種々のアルゴリズムを用いてもよい。そして、初期位置選択部２８は、乱数発生部２６から供給された乱数値を用いて、シード点ＳＤの初期位置をランダムに決定する。ここで、初期位置選択部２８は、シード点ＳＤの初期位置を画像データＩｍｇ上の画素のアドレスとして選択し、シード点ＳＤが互いに重複しない位置にそれぞれ設定する。

なお、初期位置選択部２８は、画像情報推定部３６から供給される画像データＩｍｇの縦方向・横方向の画素数に基づいて、二次元画像領域の範囲を予め決定しておく。また、初期位置選択部２８は、シード点ＳＤの個数を画像情報推定部３６から予め取得し、その個数を決定しておく。

図１１は、シード点ＳＤの配置密度と、メッシュパターンＭの全体透過率との関係の一例を表すグラフである。本図は、配置密度が高くなるにしたがって、配線の被覆面積が増加し、その結果、メッシュパターンＭの全体透過率が低下することを示している。

このグラフ特性は、膜材の光透過率（図５の欄１５０ａの表示）、配線の幅（図５のテキストボックス１３２の入力値）及び領域決定アルゴリズム（例えば、ボロノイ図）に応じて変化する。よって、配線の幅等の各パラメータに応じた特性データを、関数やテーブル等の種々のデータ形式で、記憶部２４に予め記憶してもよい。

また、シード点ＳＤの配置密度とメッシュパターンＭの電気抵抗値との対応を予め取得しておき、該電気抵抗値の指定値に基づいてシード点ＳＤの個数を決定するようにしてもよい。電気抵抗値は、導電部５０の通電性を表す１つのパラメータであり、メッシュパターンＭの設計に不可欠だからである。

なお、初期位置選択部２８は、乱数値を用いることなくシード点ＳＤの初期位置を選択してもよい。例えば、図示しないスキャナや記憶装置を含む外部装置から取得したデータを参照しながら、初期位置を決定することができる。このデータは、例えば、所定の２値画像データであってもよく、具体的には印刷用の網点データであってもよい。

次いで、画像データ作成部３８は、初期データとしての画像データＩｍｇＩｎｉｔを作成する（ステップＳ２２）。画像データ作成部３８は、記憶部２４から供給されたシード点ＳＤの個数や位置データＳＤｄ、並びに画像情報推定部３６から供給された画像情報に基づいて、メッシュパターンＭに応じた模様を表す画像データＩｍｇＩｎｉｔ（初期データ）を作成する。

複数のシード点ＳＤからメッシュ状の模様を決定するアルゴリズムは、種々の方法を採り得る。以下、図１２Ａ〜図１３Ｂを参照しながら詳細に説明する。

図１２Ａに示すように、例えば、正方形状の二次元画像領域２００内に８つの点Ｐ₁〜Ｐ₈を無作為に選択したとする。

図１２Ｂは、ボロノイ図を用いて８つの点Ｐ₁〜Ｐ₈をそれぞれ囲繞する８つの領域Ｖ₁〜Ｖ₈を画定した結果を示す説明図である。なお、距離関数としてユークリッド距離を用いた。本図から諒解されるように、領域Ｖ_i（ｉ＝１〜８）内の任意の点において、点Ｐ_iが最も近接する点であることを示している。

また、ドロネー三角形分割法を用いて、図１３Ａ（図１２Ａと同図）の点Ｐ₁〜Ｐ₈をそれぞれ頂点とする８つの三角形状の領域を画定した結果を図１３Ｂに示す。

ドロネー三角形分割法とは、点Ｐ₁〜Ｐ₈のうち、隣接する点同士を繋いで領域を画定する方法である。この方法によっても、点Ｐ₁〜Ｐ₈の個数と同数の領域Ｖ₁〜Ｖ₈を決定することができる。

ところで、画像データＩｍｇ（初期画像データＩｍｇＩｎｉｔを含む。）を作成する前に、画素のアドレス及び画素値の定義を予め決定しておく。

図１４Ａは、画像データＩｍｇにおける画素アドレスの定義を表す説明図である。例えば、画素サイズが１０μｍであり、画像データの縦横の画素数はそれぞれ８１９２個とする。後述するＦＦＴの演算処理の便宜のため、２の冪乗（例えば、２の１３乗）となるように設けている。このとき、画像データＩｍｇの画像領域全体は、約８２ｍｍ四方の矩形領域に対応する。

図１４Ｂは、画像データＩｍｇにおける画素値の定義を表す説明図である。例えば、１画素当たりの階調数を８ビット（２５６階調）とする。光学濃度０を画素値０（最小値）と対応させ、光学濃度４．５を画素値２５５（最大値）と対応させておく。その中間の画素値１〜２５４では、光学濃度に対して線形関係となるように値を定めておく。ここで、光学濃度とは、透過濃度のみならず、反射濃度であってもよいことはいうまでもなく、導電性フイルム１４の使用態様等に応じて適宜選択できる。また、光学濃度の他に、三刺激値ＸＹＺや色値ＲＧＢ、Ｌ^*ａ^*ｂ^*等であっても、上記と同様にして各画素値を定義することができる。

このようにして、画像データ作成部３８は、画像データＩｍｇのデータ定義と、画像情報推定部３６で推定された画像情報（ステップＳ１の説明を参照）に基づいて、メッシュパターンＭに応じた画像データＩｍｇＩｎｉｔを作成する（ステップＳ２２）。画像データ作成部３８は、シード点ＳＤの初期位置（図１５Ａ参照）を基準とするボロノイ図を用いて、図１５Ｂに示すメッシュパターンＭの初期状態を決定する。なお、画像の端部については、上下方向、左右方向に繰り返し配列されるように適切な処理を行う。例えば、画像の左端（又は右端）近傍のシード点ＳＤについては、画像の右端（又は左端）近傍のシード点ＳＤとの間で領域Ｖ_iを得るようにする。同様に、画像の上端（又は下端）近傍のシード点ＳＤについては、画像の下端（上端）近傍のシード点ＳＤとの間で領域Ｖ_iを得るようにする。

以下、画像データＩｍｇ（画像データＩｍｇＩｎｉｔを含む。）は、光学濃度ＯＤ、色値Ｌ^*、色値ａ^*、色値ｂ^*の４チャンネルの各データを備える画像データであるとする。

次いで、メッシュ模様評価部４０は、評価値ＥＶＰＩｎｉｔを算出する（ステップＳ２３）。なお、ＳＡ法において、評価値ＥＶＰは、対価関数（Ｃｏｓｔ Ｆｕｎｃｔｉｏｎ）としての役割を担う。

具体的には、図４に示すＦＦＴ演算部１００は、画像データＩｍｇＩｎｉｔに対してＦＦＴを施す。そして、第１評価値算出部１０２は、ＦＦＴ演算部１００から供給されたスペクトルＳｐｃに基づいて第１評価値ＥＶ１を算出する。画像データＩｍｇのうち、光学濃度ＯＤのチャンネルに対して、上述した第１評価値ＥＶＰ１を算出する。なお、光学濃度ＯＤの代わりに色値Ｌ^*を用いてもよい。

第１評価値ＥＶ１に関しては既に説明したので、詳細な説明を割愛する｛（１）式及び（２）式を参照｝。

そして、第２評価値算出部１０４は、ＦＦＴ演算部１００から供給されたスペクトルＳｐｃに基づいて第２評価値ＥＶ２を算出する。画像データＩｍｇのうち、色値Ｌ^*、色値ａ^*、色値ｂ^*の各チャンネルに対して、上述した評価値ＥＶＰ２（Ｌ^*）、ＥＶＰ２（ａ^*）、ＥＶＰ２（ｂ^*）をそれぞれ算出する｛（３）式を参照｝。そして、所定の重み係数を用いて積和演算することで、評価値ＥＶＰ２を得る。

なお、色値Ｌ^*、色値ａ^*、色値ｂ^*の代わりに光学濃度ＯＤを用いてもよい。第２評価値ＥＶ２に関しては、観察態様の種別、具体的には、補助光源は透過光が支配的であるか、反射光が支配的であるか、あるいは透過光・反射光の混合光であるかに応じて、人間の視感度により適合した演算手法を適宜選択することができる。

そして、重み付け加算部１０６は、（４）式に示すように、係数αで重み付けされた第１評価値ＥＶ１と、係数βで重み付けされた第２評価値ＥＶ２とを加算し、評価値ＥＶＰＩｎｉｔを得る。なお、メッシュパターンＭを決定するための目標レベル（許容範囲）や評価関数に応じて、評価値ＥＶＰの算出式を種々変更し得ることはいうまでもない。

このようにして、メッシュ模様評価部４０は、評価値ＥＶＰＩｎｉｔを算出する（ステップＳ２３）。

次いで、記憶部２４は、ステップＳ２２で作成された画像データＩｍｇＩｎｉｔと、ステップＳ２３で算出された評価値ＥＶＰＩｎｉｔとを一時的に記憶する（ステップＳ２４）。あわせて、擬似温度Ｔに初期値ｎΔＴ（ｎは自然数、ΔＴは正の実数値である。）を代入する。

次いで、カウンタ１０８は、変数Ｋを初期化する（ステップＳ２５）。すなわち、Ｋに０を代入する。

次いで、シード点ＳＤの一部（第２シード点ＳＤＳ）を候補点ＳＰに置き換えた状態で、画像データＩｍｇＴｅｍｐを作成し、評価値ＥＶＰＴｅｍｐを算出した後に、シード点ＳＤの「更新」又は「非更新」を判断する（ステップＳ２６）。このステップＳ２６について、図１、図４の機能ブロック図及び図１６のフローチャートを参照しながら、更に詳細に説明する。

先ず、更新候補位置決定部３０は、所定の二次元画像領域２００から候補点ＳＰを決定する（ステップＳ２６１）。更新候補位置決定部３０は、例えば、乱数発生部２６から供給された乱数値を用いて、シード点ＳＤのいずれの位置とも重複しない位置を決定する。なお、候補点ＳＰの個数は１つであっても複数であってもよい。図１７Ａに示す例では、現在のシード点ＳＤが８個（点Ｐ₁〜Ｐ₈）に対して、候補点ＳＰは２個（点Ｑ₁と点Ｑ₂）である。

次いで、シード点ＳＤの一部と候補点ＳＰとを無作為に交換する（ステップＳ２６２）。更新候補位置決定部３０は、各候補点ＳＰと交換（あるいは更新）される各シード点ＳＤを無作為に対応付けておく。図１７Ａでは、点Ｐ₁と点Ｑ₁とが対応付けられ、点Ｐ₃と点Ｑ₂とが対応付けられたとする。図１７Ｂに示すように、点Ｐ₁と点Ｑ₁とが交換されるとともに、点Ｐ₃と点Ｑ₂とが交換される。ここで、交換（あるいは更新）対象でない点Ｐ₂、点Ｐ₄〜Ｐ₈を第１シード点ＳＤＮといい、交換（あるいは更新）対象である点Ｐ₁及び点Ｐ₃を第２シード点ＳＤＳという。

次いで、画像データ作成部３８は、交換された新たなシード点ＳＤ（図１７Ｂ参照）を用いて、画像データＩｍｇＴｅｍｐを作成する（ステップＳ２６３）。このとき、ステップＳ２２（図１０参照）の場合と同一の方法を用いるので、説明を割愛する。

次いで、メッシュ模様評価部４０は、画像データＩｍｇＴｅｍｐに基づいて、評価値ＥＶＰＴｅｍｐを算出する（ステップＳ２６４）。ステップＳ２３（図１０参照）の場合と同一の方法を用いるので、説明を割愛する。

次いで、更新確率算出部１１２は、シード点ＳＤの位置の更新確率Ｐｒｏｂを算出する（ステップＳ２６５）。ここで、「位置の更新」とは、ステップＳ２６２で暫定的に交換して得たシード点ＳＤ（すなわち、第１シード点ＳＤＮ及び候補点ＳＰ）を新たなシード点ＳＤとして決定することをいう。

具体的には、メトロポリス基準に従って、シード点ＳＤを更新する確率又は更新しない確率をそれぞれ算出する。更新確率Ｐｒｏｂは、次の（５）式で与えられる。

ここで、Ｔは擬似温度を表し、絶対温度（Ｔ＝０）に近づくに従って、更新則が確率論的から決定論的に変化する。

次いで、位置更新判定部１１４は、更新確率算出部１１２により算出された更新確率Ｐｒｏｂに従って、シード点ＳＤの位置を更新するか否かについて判断する（ステップ２６６）。例えば、乱数発生部２６から供給された乱数値を用いて、確率的に判断してもよい。

シード点ＳＤを更新する場合は「更新」の旨を、更新しない場合は「非更新」の旨を記憶部２４側にそれぞれ指示する（ステップＳ２６７、Ｓ２６８）。

このようにして、ステップＳ２６が完了する。

図１０に戻って、「更新」又は「非更新」のいずれか一方の指示に従って、シード点ＳＤを更新するか否かが判定される（ステップＳ２７）。シード点ＳＤを更新しない場合は、ステップＳ２８を行うことなく、次のステップＳ２９に進む。

一方、シード点ＳＤを更新する場合は、記憶部２４は、現在記憶している画像データＩｍｇに対し、ステップＳ２６３で求めた画像データＩｍｇＴｅｍｐを上書き更新する（ステップＳ２８）。また、記憶部２４は、現在記憶している評価値ＥＶＰに対し、ステップＳ２６３で求めた評価値ＥＶＰＴｅｍｐを上書き更新する（ステップＳ２８）。さらに、記憶部２４は、現在記憶している第２シード点ＳＤＳの位置データＳＤＳｄに対し、ステップＳ２６１で求めた候補点ＳＰの位置データＳＰｄを上書き更新する（ステップＳ２８）。その後、次のステップＳ２９に進む。

次いで、カウンタ１０８は、現時点でのＫの値を１だけ加算する（ステップＳ２９）。

次いで、カウンタ１０８は、現時点でのＫの値と予め定められたＫｍａｘの値との大小関係を比較する（ステップＳ３０）。Ｋの値の方が小さい場合はステップＳ２６まで戻り、以下ステップＳ２６〜Ｓ３０を繰り返す。なお、この最適化演算における収束性を十分確保するため、例えば、Ｋｍａｘ＝１００００と定めることができる。

それ以外の場合は、擬似温度管理部１１０は、擬似温度ＴをΔＴだけ減算し（ステップＳ３１）、次のステップＳ３２に進む。なお、擬似温度Ｔの変化量は、ΔＴの減算のみならず、定数δ（０＜δ＜１）の乗算であってもよい。この場合は、（５）式に示す確率Ｐｒｏｂ（下段）が一定値だけ減算される。

次いで、擬似温度管理部１１０は、現時点での擬似温度Ｔが０に等しいか否かを判定する（ステップＳ３２）。Ｔが０と等しくない場合はステップＳ２５に戻って、以下ステップＳ２５〜Ｓ３２を繰り返す。

一方、Ｔが０に等しい場合は、擬似温度管理部１１０は、出力用画像データ決定部１１６に対し、ＳＡ法によるメッシュ模様の評価が終了した旨を通知する。そして、記憶部２４は、ステップＳ２８で最後に更新された画像データＩｍｇの内容を出力用画像データＩｍｇＯｕｔに上書き更新する（ステップＳ３３）。

このようにして、出力用画像データＩｍｇＯｕｔの作成を終了する（ステップＳ２）。なお、この出力用画像データＩｍｇＯｕｔは、その後、露光データ変換部３２側に供給され、露光部１８の制御信号に変換される画像データである。

なお、作業者が目視確認するために、得られた出力用画像データＩｍｇＯｕｔを表示部２２に表示させ、メッシュパターンＭを擬似的に可視化してもよい。

図１８Ａは、（２）式において、γ＝０．５に設定して得られたメッシュパターンＭの模様を表す画像データＩｍｇＯｕｔを可視化した概略説明図である。図１８Ｂは、図１８Ａの画像データに対してＦＦＴを施して得られるスペクトルＳｐｃの分布図である。このように、スペクトルＳｐｃの分布は、異方的であるとともに略楕円状のピークを２個有している。この楕円の長辺と短辺との比は概ね２：１であり、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向の１次モーメントの比も２：１である。すなわち、（２）式におけるγ＝０．５の値と対応している。

図６に戻って、露光部１８は、メッシュパターンＭの露光処理を行い（ステップＳ３）、その後、現像処理を行う（ステップＳ４）。

ここで、透明フイルム基材５６上に金属細線５４によるメッシュパターンＭを形成するいくつの方法（第１方法〜第４方法）について図１９Ａ〜図２２を参照しながら説明する。

第１方法は、透明フイルム基材５６上に設けられた銀塩感光層を露光し、現像、定着することによって形成された金属銀部にてメッシュパターンＭを構成する方法である。

具体的には、図１９Ａに示すように、ハロゲン化銀６２（例えば臭化銀粒子、塩臭化銀粒子や沃臭化銀粒子）をゼラチン６４に混ぜてなる銀塩感光層６６を透明フイルム基材５６上に塗布する。なお、図１９Ａ〜図１９Ｃでは、ハロゲン化銀６２を「粒々」として表記してあるが、あくまでも本発明の理解を助けるために誇張して示したものであって、大きさや濃度等を示したものではない。

その後、図１９Ｂに示すように、銀塩感光層６６に対して導電部５０の形成に必要な露光を行う。すなわち、図１０に示すパターン生成処理を経て得られた露光パターンに対応したマスクパターンを介して光１６を銀塩感光層６６に照射する。あるいは、銀塩感光層６６に対するデジタル書込み露光によって、銀塩感光層６６に、前記パターン生成処理にて生成された露光パターンを露光する。ハロゲン化銀６２は、光エネルギーを受けると感光して「潜像」と称される肉眼では観察できない微小な銀核を生成する。

その後、潜像を肉眼で観察できる可視化された画像に増幅するために、図１９Ｃに示すように、現像処理を行う。具体的には、潜像が形成された銀塩感光層６６を現像液（アルカリ性溶液と酸性溶液のどちらもあるが通常はアルカリ性溶液が多い）にて現像処理する。この現像処理とは、ハロゲン化銀粒子ないし現像液から供給された銀イオンが現像液中の現像主薬と呼ばれる還元剤により潜像銀核を触媒核として金属銀に還元されて、その結果として潜像銀核が増幅されて可視化された銀画像（現像銀６８）を形成する。

現像処理を終えたあとに銀塩感光層６６中には光に感光できるハロゲン化銀６２が残存するのでこれを除去するために図１９Ｄに示すように定着処理液（酸性溶液とアルカリ性溶液のどちらもあるが通常は酸性溶液が多い）により定着を行う。

この定着処理を行うことによって、露光された部位には金属銀部７０が形成され、露光されていない部位にはゼラチン６４のみが残存し、透光部７２となる。すなわち、透明フイルム基材５６上に金属銀部７０と透光部７２との組み合わせによるメッシュパターンＭが形成されることになる。

ハロゲン化銀６２として臭化銀を用い、チオ硫酸塩で定着処理した場合の定着処理の反応式を以下に示す。
ＡｇＢｒ（固体）＋２個のＳ₂Ｏ₃イオン → Ａｇ（Ｓ₂Ｏ₃）₂
（易水溶性錯体）

すなわち、２個のチオ硫酸イオンＳ _２ Ｏ _３ とゼラチン６４中の銀イオン（ＡｇＢｒからの銀イオン）が、チオ硫酸銀錯体を生成する。チオ硫酸銀錯体は水溶性が高いのでゼラチン６４中から溶出されることになる。その結果、現像銀６８が金属銀部７０として定着されて残ることになる。この金属銀部７０にてメッシュパターンＭが構成されることになる。

したがって、現像工程は、潜像に対し還元剤を反応させて現像銀６８を析出させる工程であり、定着工程は、現像銀６８にならなかったハロゲン化銀６２を水に溶出させる工程である。詳細は、Ｔ．Ｈ．Ｊａｍｅｓ， Ｔｈｅ Ｔｈｅｏｒｙ ｏｆ ｔｈｅ Ｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｃ Ｐｒｏｃｅｓｓ， ４ｔｈ ｅｄ．， Ｍａｃｍｉｌｌｉａｎ Ｐｕｂｌｉｓｈｉｎｇ Ｃｏ．，Ｉｎｃ， ＮＹ，Ｃｈａｐｔｅｒ１５， ｐｐ．４３８−４４２． １９７７を参照されたい。

なお、現像処理は多くの場合アルカリ性溶液で行われることから、現像処理工程から定着処理工程に入る際に、現像処理にて付着したアルカリ溶液が定着処理溶液（多くの場合は酸性溶液である）に持ち込まれるため、定着処理液の活性が変わるといった問題がある。また、現像処理槽を出た後、膜に残留した現像液により意図しない現像反応が更に進行する懸念もある。そこで、現像処理後で、定着処理工程に入る前に、酢酸（酢）溶液等の停止液で銀塩感光層６６を中和もしくは酸性化することが好ましい。

そして、図１９Ｅに示すように、例えばめっき処理（無電解めっきや電気めっきを単独ないし組み合わせる）を行って、金属銀部７０のみに導電性金属７４を担持させることによって、金属銀部７０と該金属銀部７０に担持された導電性金属７４にてメッシュパターンＭを形成するようにしてもよい。

ここで、上述した銀塩感光層６６を用いた方法（銀塩写真技術）と、フォトレジストを用いた方法（レジスト技術）との違いを説明する。

レジスト技術では、露光処理により光重合開始剤が光を吸収して反応が始まりフォトレジスト膜（樹脂）自体が重合反応して現像液に対する溶解性の増大又は減少させ、現像処理により露光部分又は未露光部分の樹脂を除去する。なお、レジスト技術で現像液とよばれる液は還元剤を含まず、未反応の樹脂成分を溶解する例えばアルカリ性溶液である。一方、本発明の銀塩写真技術の露光処理では上記に記載したように、光を受けた部位のハロゲン化銀６２内において発生した光電子と銀イオンからいわゆる「潜像」と呼ばれる微小な銀核が形成され、その潜像銀核が現像処理（この場合の現像液は必ず現像主薬と呼ばれる還元剤を含む）により増幅されて可視化された銀画像になる。このように、レジスト技術と銀塩写真技術とでは、露光処理から現像処理での反応が全く異なる。

レジスト技術の現像処理では露光部分又は未露光部分の重合反応しなかった樹脂部分が除去される。一方、銀塩写真技術の現像処理では、潜像を触媒核にして現像液に含まれる現像主薬と呼ばれる還元剤により還元反応がおこり、目に見える大きさまで現像銀６８が成長するものであって、未露光部分のゼラチン６４の除去は行われない。このように、レジスト技術と銀塩写真技術とでは、現像処理での反応も全く異なる。

なお、未露光部分のゼラチン６４に含まれるハロゲン化銀６２は、その後の定着処理によって溶出されるものであって、ゼラチン６４自体の除去は行われない。

このように、銀塩写真技術では反応（感光）主体がハロゲン化銀であるのに対し、レジスト技術では光重合開始剤である。また、現像処理では、銀塩写真技術ではバインダ（ゼラチン６４）は残存するが、レジスト技術ではバインダがなくなる。このような点で、銀塩写真技術とフォトレジスト技術は大きく相違する。

その他の製造方法（第２の製造方法）としては、図２０Ａに示すように、例えば透明フイルム基材５６上に形成された銅箔７５上のフォトレジスト膜７６を形成して感光材料を得る。その後、感光材料に対して露光を行う。すなわち、図１０に示すパターン生成処理を経て得られた露光パターンに対応したマスクパターンを介して光をフォトレジスト膜７６に照射する。あるいは、フォトレジスト膜７６に対するデジタル書込み露光によって、フォトレジスト膜７６に、パターン生成装置にて生成された露光パターンを露光する。その後、現像処理することで、透明フイルム基材５６上に導電部５０に対応したレジストパターン７８を形成し、図２０Ｂに示すように、レジストパターン７８から露出する銅箔７５をエッチングする。この段階で、透明フイルム基材５６上に、銅箔７５による導電部５０（メッシュパターンＭ）が形成される。

また、第３の製造方法としては、図２１Ａに示すように、透明フイルム基材５６上に金属微粒子を含むペースト８０を印刷し、図２１Ｂに示すように、印刷されたペースト８０に、金属めっき８２を行うことによって、導電部５０（メッシュパターンＭ）を形成するようにしてもよい。

あるいは、第４の製造方法として、図２２に示すように、透明フイルム基材５６に金属薄膜８４をスクリーン印刷版又はグラビア印刷版によって印刷してメッシュパターンＭを形成するようにしてもよい。

次に、本実施の形態に係る導電性フイルム１４において、特に好ましい態様であるハロゲン化銀写真感光材料を用いる導電性金属薄膜の作製方法を中心にして述べる。

本実施の形態に係る導電性フイルム１４は、上述したように、透明フイルム基材５６上に感光性ハロゲン化銀塩を含有する乳剤層を有する感光材料を露光し、現像処理を施すことによって露光部及び未露光部に、それぞれ金属銀部７０及び透光部７２を形成し、さらに金属銀部７０に物理現像及び／又はめっき処理を施すことによって金属銀部７０に導電性金属７４を担持させることで製造することができる。

本実施の形態に係る導電性フイルム１４の形成方法は、感光材料と現像処理の形態によって、次の３通りの形態が含まれる。

（１） 物理現像核を含まない感光性ハロゲン化銀黒白感光材料を化学現像又は物理現像して金属銀部７０を該感光材料上に形成させる態様。

（２） 物理現像核をハロゲン化銀乳剤層中に含む感光性ハロゲン化銀黒白感光材料を物理現像して金属銀部７０を該感光材料上に形成させる態様。

（３） 物理現像核を含まない感光性ハロゲン化銀黒白感光材料と、物理現像核を含む非感光性層を有する受像シートを重ね合わせて拡散転写現像して金属銀部７０を非感光性受像シート上に形成させる態様。

上記（１）の態様は、一体型黒白現像タイプであり、感光材料上に透光性電磁波シールド膜や光透過性導電膜等の透光性導電膜が形成される。得られる現像銀は化学現像銀又は物理現像銀であり、高比表面のフィラメントである点で後続するめっき又は物理現像過程で活性が高い。

上記（２）の態様は、露光部では、物理現像核近縁のハロゲン化銀が溶解されて現像核上に沈積することによって感光材料上に透光性導電膜が形成される。これも一体型黒白現像タイプである。現像作用が、物理現像核上への析出であるので高活性であるが、現像銀の比表面は小さい球形である。

上記（３）の態様は、未露光部においてハロゲン化銀が溶解されて拡散して受像シート上の現像核上に沈積することによって受像シート上に透光性導電膜が形成される。いわゆるセパレートタイプであって、受像シートを感光材料から剥離して用いる態様である。

いずれの態様もネガ型現像処理及び反転現像処理のいずれの現像を選択することもできる（拡散転写方式の場合は、感光材料としてオートポジ型感光材料を用いることによってネガ型現像処理が可能となる）。

ここでいう化学現像、熱現像、溶解物理現像、拡散転写現像は、当業界で通常用いられている用語どおりの意味であり、写真化学の一般教科書、例えば菊地真一著「写真化学」（共立出版社、１９５５年刊行）、Ｃ．Ｅ．Ｋ．Ｍｅｅｓ編「Ｔｈｅ Ｔｈｅｏｒｙ ｏｆ Ｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｃ Ｐｒｏｃｅｓｓ， ４ｔｈ ｅｄ．」（Ｍａｃｍｉｌｌａｎ社、１９７７年刊行）に解説されている。本件は液処理に係る発明であるが、その他の現像方式として熱現像方式を適用する技術も参考にすることができる。例えば、特開２００４−１８４６９３号、同２００４−３３４０７７号、同２００５−０１０７５２号の各公報、特願２００４−２４４０８０号、同２００４−０８５６５５号の各明細書に記載された技術を適用することができる。

（感光材料）
被めっき素材としての感光材料（感光ウエブ）は、例えば、透明フイルム基材５６上に銀塩（例えばハロゲン化銀）が含有した銀塩含有層を設けた長尺フレキシブル基材である。また、銀塩含有層上には保護層が設けられていてもよく、この保護層とは例えばゼラチンや高分子ポリマーといったバインダからなる層を意味し、擦り傷防止や力学特性を改良する効果を発現するために銀塩含有層上に形成される。保護層の厚みは０．０２〜２０μｍであることが好ましい。

これらの銀塩含有層や保護層の組成等は、銀塩写真フイルム、印画紙、印刷製版用フイルム、フォトマスク用エマルジョンマスク等に適用されるハロゲン化銀乳剤層（銀塩含有層）や保護層を適宜適用することができる。

特に、感光材料としては、銀塩写真フイルム（銀塩感光材料）が好ましく、白黒銀塩写真フィルム（白黒銀塩感光材料）が最もよい。また、銀塩含有層に適用する銀塩としては、特にハロゲン化銀が最も好適である。なお、感光材料の幅は、例えば、２０ｃｍ以上とし、厚みは５０〜２００μｍとすることがよい。

［透明フイルム基材５６］
本実施の形態の製造方法に用いられる透明フイルム基材５６としては、フレキシブルなプラスチックフイルムを用いることができる。

上記プラスチックフイルムの原料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルブチラール、ポリアミド、ポリエーテル、ポリスルフォン、ポリエーテルスルフォン、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ＥＶＡ等のポリオレフィン類、ポリカーボネート、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、アクリル樹脂、ポリイミド、又はアラミド等を用いることができる。

本実施の形態においては、透光性、耐熱性、取り扱い易さ及び価格の点から、上記プラスチックフイルムはポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フイルム又はトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フイルムであることが好ましい。

窓ガラス用の透明発熱体では透光性が要求されるため、透明フイルム基材５６の透光性は高いことが望ましい。この場合におけるプラスチックフイルムの全可視光透過率は７０〜１００％が好ましく、さらに好ましくは８５〜１００％であり、特に好ましくは９０〜１００％である。また、本発明では、前記プラスチックフイルムとして本発明の目的を妨げない程度に着色したものを用いることもできる。

本実施の形態におけるプラスチックフイルムは、単層で用いることもできるが、２層以上を組み合わせた多層フイルムとして用いることも可能である。

［保護層］
用いられる感光材料は、後述する乳剤層上に保護層を設けていてもよい。本実施の形態において「保護層」とは、ゼラチンや高分子ポリマーといったバインダからなる層を意味し、擦り傷防止や力学特性を改良する効果を発現するために感光性を有する乳剤層に形成される。上記保護層は、めっき処理する上では設けない方が好ましく、設けるとしても薄い方が好ましい。その厚みは０．２μｍ以下が好ましい。上記保護層の塗布方法の形成方法は特に限定されず、公知の塗布方法を適宜選択することができる。

［乳剤層］
本実施の形態の製造方法に用いられる感光材料は、透明フイルム基材５６上に、光センサとして銀塩を含む乳剤層（銀塩感光層６６）を有することが好ましい。本実施の形態における乳剤層には、銀塩のほか、必要に応じて、染料、バインダ、溶媒等を含有することができる。

＜銀塩＞
本実施の形態で用いられる銀塩としては、ハロゲン化銀等の無機銀塩が好ましく、特に銀塩がハロゲン化銀写真感光材料用ハロゲン化銀粒子の形で用いられるのが好ましい。ハロゲン化銀は、光センサとしての特性に優れている。

ハロゲン化銀写真感光材料の写真乳剤の形で好ましく用いられるハロゲン化銀について説明する。

本実施の形態では、光センサとして機能させるためにハロゲン化銀を使用することが好ましく、ハロゲン化銀に関する銀塩写真フイルムや印画紙、印刷製版用フイルム、フォトマスク用エマルジョンマスク等で用いられる技術は、本実施の形態においても用いることができる。

上記ハロゲン化銀に含有されるハロゲン元素は、塩素、臭素、ヨウ素及びフッ素のいずれであってもよく、これらの組み合わせでもよい。例えば、ＡｇＣｌ、ＡｇＢｒ、ＡｇＩを主体としたハロゲン化銀が好ましく用いられ、さらにＡｇＢｒやＡｇＣｌを主体としたハロゲン化銀が好ましく用いられる。塩臭化銀、沃塩臭化銀、沃臭化銀もまた好ましく用いられる。より好ましくは、塩臭化銀、臭化銀、沃塩臭化銀、沃臭化銀であり、最も好ましくは、塩化銀５０モル％以上を含有する塩臭化銀、沃塩臭化銀が用いられる。

なお、ここで、「ＡｇＢｒ（臭化銀）を主体としたハロゲン化銀」とは、ハロゲン化銀組成中に占める臭化物イオンのモル分率が５０％以上のハロゲン化銀をいう。このＡｇＢｒを主体としたハロゲン化銀粒子は、臭化物イオンのほかに沃化物イオン、塩化物イオンを含有していてもよい。

本実施の形態に用いられるハロゲン化銀乳剤は、ＶＩＩＩ族、ＶＩＩＢ族に属する金属を含有してもよい。特に、４以上の階調を得るためや低かぶりを達成するために、ロジウム化合物、イリジウム化合物、ルテニウム化合物、鉄化合物、オスミウム化合物等を含有することが好ましい。

また、高感度化のためにはＫ₄〔Ｆｅ（ＣＮ）₆〕やＫ₄〔Ｒｕ（ＣＮ）₆〕、Ｋ₃〔Ｃｒ（ＣＮ）₆〕のごとき六シアノ化金属錯体のドープが有利に行われる。

これらの化合物の添加量はハロゲン化銀１モル当り１０^-10〜１０^-2モル／モルＡｇであることが好ましく、１０^-9〜１０^-3モル／モルＡｇであることがさらに好ましい。

その他、本実施の形態では、Ｐｄ（ＩＩ）イオン及び／又はＰｄ金属を含有するハロゲン化銀も好ましく用いることができる。Ｐｄはハロゲン化銀粒子内に均一に分布していてもよいが、ハロゲン化銀粒子の表層近傍に含有させることが好ましい。ここで、Ｐｄが「ハロゲン化銀粒子の表層近傍に含有する」とは、ハロゲン化銀粒子の表面から深さ方向に５０ｎｍ以内において、他層よりもパラジウムの含有率が高い層を有することを意味する。

このようなハロゲン化銀粒子は、ハロゲン化銀粒子を形成する途中でＰｄを添加することにより作製することができ、銀イオンとハロゲンイオンとをそれぞれ総添加量の５０％以上添加した後に、Ｐｄを添加することが好ましい。また、Ｐｄ（ＩＩ）イオンを後熟時に添加する等の方法でハロゲン化銀表層に存在させることも好ましい。

このＰｄ含有ハロゲン化銀粒子は、物理現像や無電解めっきの速度を速め、所望の発熱体の生産効率を上げ、生産コストの低減に寄与する。Ｐｄは、無電解めっき触媒としてよく知られて用いられているが、本発明では、ハロゲン化銀粒子の表層にＰｄを偏在させることが可能なため、極めて高価なＰｄを節約することが可能である。

本実施の形態において、ハロゲン化銀に含まれるＰｄイオン及び／又はＰｄ金属の含有率は、ハロゲン化銀の、銀のモル数に対して１０^-4〜０．５モル／モルＡｇであることが好ましく、０．０１〜０．３モル／モルＡｇであることがさらに好ましい。

使用するＰｄ化合物の例としては、ＰｄＣｌ₄や、Ｎａ₂ＰｄＣｌ₄等が挙げられる。

本実施の形態では、さらに光センサとしての感度を向上させるため、写真乳剤で行われる化学増感を施すこともできる。化学増感の方法としては、硫黄増感、セレン増感、テルル増感等のカルコゲン増感、金増感等の貴金属増感、還元増感等を用いることができる。これらは、単独又は組み合わせて用いられる。上記化学増感の方法を組み合わせて使用する場合には、例えば、硫黄増感法と金増感法、硫黄増感法とセレン増感法と金増感法、硫黄増感法とテルル増感法と金増感法等の組み合わせが好ましい。

＜バインダ＞
乳剤層には、銀塩粒子を均一に分散させ、且つ、乳剤層と支持体との密着を補助する目的でバインダを用いることができる。本発明において、上記バインダとしては、非水溶性ポリマー及び水溶性ポリマーのいずれもバインダとして用いることができるが、水溶性ポリマーを用いることが好ましい。

上記バインダとしては、例えば、ゼラチン、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）、澱粉等の多糖類、セルロース及びその誘導体、ポリエチレンオキサイド、ポリサッカライド、ポリビニルアミン、キトサン、ポリリジン、ポリアクリル酸、ポリアルギン酸、ポリヒアルロン酸、カルボキシセルロース等が挙げられる。これらは、官能基のイオン性によって中性、陰イオン性、陽イオン性の性質を有する。

乳剤層中に含有されるバインダの含有量は、特に限定されず、分散性と密着性を発揮し得る範囲で適宜決定することができる。例えば、乳剤層中に含有されるバインダの含有量として、銀塩感光層６６中のＡｇ／バインダ体積比が１／４以上になるように調節することが好ましく、１／２以上になるように調節することがさらに好ましい。

＜溶媒＞
上記乳剤層の形成に用いられる溶媒は、特に限定されるものではないが、例えば、水、有機溶媒（例えば、メタノール等のアルコール類、アセトン等のケトン類、ホルムアミド等のアミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、酢酸エチル等のエステル類、エーテル類等）、イオン性液体、及びこれらの混合溶媒を挙げることができる。

本発明の乳剤層に用いられる溶媒の含有量は、前記乳剤層に含まれる銀塩、バインダ等の合計の質量に対して３０〜９０質量％の範囲であり、５０〜８０質量％の範囲であることが好ましい。

次に、導電部５０（メッシュパターンＭ）を形成するための各工程について説明する。

［露光］
本実施の形態では、露光部１８により、透明フイルム基材５６上に設けられた銀塩感光層６６を有する感光材料への露光が行われる。露光は、電磁波を用いて行うことができる。電磁波としては、例えば、可視光線、紫外線等の光、Ｘ線等の放射線等が挙げられる。さらに露光には波長分布を有する光源を利用してもよく、特定の波長の光源を用いてもよい。

パターン像を形成させる露光方式としては、均一光をマスクパターンを介して感光面に照射してマスクパターンを像様形成させる面露光方式と、レーザ光等のビームを走査してパターン状の照射部を感光性面上に形成させる走査露光方式とがある。

露光は、種々のレーザビームを用いて行うことができる。例えば、本実施の形態における露光は、ガスレーザ、発光ダイオード、半導体レーザ、半導体レーザ又は半導体レーザを励起光源に用いた固体レーザと非線形光学結晶を組み合わせた第２高調波発光光源（ＳＨＧ）等の単色高密度光を用いた走査露光方式を好ましく用いることができ、さらに、ＫｒＦエキシマレーザ、ＡｒＦエキシマレーザ、Ｆ２レーザ等も用いることができる。システムをコンパクトで、安価なものにするために、露光は、半導体レーザ、半導体レーザあるいは固体レーザと非線形光学結晶を組合わせた第２高調波発生光源（ＳＨＧ）を用いて行うことがより好ましい。特に、コンパクトで、安価、さらに寿命が長く、安定性が高い装置を設計するためには、露光は半導体レーザを用いて行うことが最も好ましい。

銀塩感光層６６をパターン状に露光する方法は、レーザビームによる走査露光が好ましい。特に特開２０００−３９６７７号公報記載のキャプスタン方式のレーザ走査露光装置が好ましく、さらには該キャプスタン方式においてポリゴンミラーの回転によるビーム走査の代わりに特開２００４−１２２４号公報記載のＤＭＤを光ビーム走査系に用いることも好ましい。特に、３ｍ以上の長尺フレキシブルフイルムヒータを作製する場合には、湾曲した露光ステージ上において、感光材料を搬送しながらレーザビームで露光するのが好ましい。

メッシュパターンＭは、後述するように、実質的に平行の直線状細線が交叉してなす三角形、四角形（菱形、正方形等）、六角形等の格子紋様や、平行な直線やジグザグ線、波線等、電圧の印加される電極間に電流を流せる構造であれば特に限定されない。

［現像処理］
本実施の形態では、乳剤層を露光した後、さらに現像処理が行われる。現像処理は、銀塩写真フイルムや印画紙、印刷製版用フイルム、フォトマスク用エマルジョンマスク等に用いられる通常の現像処理の技術を用いることができる。現像液については特に限定はしないが、ＰＱ現像液、ＭＱ現像液、ＭＡＡ現像液等を用いることもでき、市販品では、例えば、富士フイルム社処方のＣＮ−１６、ＣＲ−５６、ＣＰ４５Ｘ、ＦＤ−３、パピトール、ＫＯＤＡＫ社処方のＣ−４１、Ｅ−６、ＲＡ−４、Ｄ−１９、Ｄ−７２等の現像液、又はそのキットに含まれる現像液を用いることができる。

リス現像液を用いることもできる。リス現像液としては、ＫＯＤＡＫ社処方のＤ８５等を用いることができる。本発明では、上記の露光及び現像処理を行うことにより露光部に金属銀部７０、好ましくはパターン状の金属銀部７０が形成されると共に、未露光部に後述する透光部７２が形成される。

現像処理で用いられる現像液は、画質を向上させる目的で、画質向上剤を含有することができる。画質向上剤としては、例えばベンゾトリアゾール等の含窒素へテロ環化合物を挙げることができる。また、リス現像液を利用する場合、特に、ポリエチレングリコールを使用することも好ましい。

現像処理後の露光部に含まれる金属銀の質量は、露光前の露光部に含まれていた銀の質量に対して５０質量％以上の含有率であることが好ましく、８０質量％以上であることがさらに好ましい。露光部に含まれる銀の質量が露光前の露光部に含まれていた銀の質量に対して５０質量％以上であれば、高い導電性を得ることができるため好ましい。

本実施の形態における現像処理後の階調は、特に限定されるものではないが、４．０を超えることが好ましい。現像処理後の階調が４．０を超えると、透光部の透光性を高く保ったまま、導電性金属部の導電性を高めることができる。階調を４．０以上にする手段としては、例えば、前述のロジウムイオン、イリジウムイオンのドープが挙げられる。

［物理現像及びめっき処理］
本実施の形態では、上述した露光及び現像処理により形成された金属銀部７０の導電性を向上させる目的で、金属銀部７０に導電性金属粒子を担持させるための物理現像及び／又はめっき処理を行ってもよい。本実施の形態では物理現像又はめっき処理のいずれか一方のみで導電性金属粒子を金属銀部７０に担持させることが可能であるが、さらに物理現像とめっき処理とを組み合わせて導電性金属粒子を金属銀部７０に担持させることもできる。

本実施の形態における「物理現像」とは、金属や金属化合物の核上に、銀イオン等の金属イオンを還元剤で還元して金属粒子を析出させることをいう。この物理現象は、インスタントＢ＆Ｗフイルム、インスタントスライドフイルムや、印刷版製造等に利用されており、本発明ではその技術を用いることができる。

［カレンダー処理］
現像処理済みの金属銀部７０（全面金属銀部、金属メッシュパターン部又は金属配線パターン部）にカレンダー処理を施して平滑化するようにしてもよい。これによって金属銀部７０の導電性が顕著に増大する。カレンダー処理は、カレンダーロールにより行うことができる。カレンダーロールは通常一対のロールからなる。

カレンダー処理に用いられるロールとしては、エポキシ、ポリイミド、ポリアミド、ポリイミドアミド等のプラスチックロール又は金属ロールが用いられる。特に、両面に乳剤層を有する場合は、金属ロール同士で処理することが好ましい。片面に乳剤層を有する場合は、シワ防止の点から金属ロールとプラスチックロールの組み合わせとすることもできる。線圧力の上限値は１９６０Ｎ／ｃｍ（２００ｋｇｆ／ｃｍ、面圧に換算すると６９９．４ｋｇｆ／ｃｍ²）以上、さらに好ましくは２９４０Ｎ／ｃｍ（３００ｋｇｆ／ｃｍ、面圧に換算すると９３５．８ｋｇｆ／ｃｍ²）以上である。線圧力の上限値は、６８８０Ｎ／ｃｍ（７００ｋｇｆ／ｃｍ）以下である。

カレンダーロールで代表される平滑化処理の適用温度は１０℃（温調なし）〜１００℃が好ましく、より好ましい温度は、金属メッシュパターンや金属配線パターンの画線密度や形状、バインダ種によって異なるが、おおよそ１０℃（温調なし）〜５０℃の範囲にある。

［蒸気接触処理］
カレンダー処理の直前あるいは直後に蒸気に接触させるとカレンダー処理による効果をより引き出すことができる。すなわち、導電性を著しく向上させることができる。使用する蒸気の温度は８０℃以上が好ましく、１００℃以上１４０℃以下がさらに好ましい。蒸気への接触時間は１０秒から５分程度が好ましく、１分から５分がさらに好ましい。

なお、本発明は、下記表１及び表２に記載の公開公報及び国際公開パンフレットの技術と適宜組み合わせて使用することができる。「特開」、「号公報」、「号パンフレット」等の表記は省略する。

以下に、本発明の実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。なお、以下の実施例に示される材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。

［ハロゲン化銀感光材料］
水媒体中のＡｇ６０ｇに対してゼラチン１０．０ｇを含む、球相当径平均０．１μｍの沃臭塩化銀粒子（Ｉ＝０．２モル％、Ｂｒ＝４０モル％）を含有する乳剤を調製した。

また、この乳剤中にはＫ₃Ｒｈ₂Ｂｒ₉及びＫ₂ＩｒＣｌ₆を濃度が１０^-7（モル／モル銀）になるように添加し、臭化銀粒子にＲｈイオンとＩｒイオンをドープした。この乳剤にＮａ₂ＰｄＣｌ₄を添加し、さらに塩化金酸とチオ硫酸ナトリウムを用いて金硫黄増感を行った後、ゼラチン硬膜剤と共に、銀の塗布量が１ｇ／ｍ²となるようにポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）上に塗布した。この際、Ａｇ／ゼラチン体積比は１／２とした。

幅３０ｃｍのＰＥＴ支持体に２５ｃｍの幅で２０ｍ分塗布を行ない、塗布の中央部２４ｃｍを残すように両端を３ｃｍずつ切り落としてロール状のハロゲン化銀感光材料を得た。

［露光パターンの作成］
３種類のメッシュパターンＭ１〜Ｍ３を表す出力用画像データＩｍｇＯｕｔをそれぞれ作成した。

図２３Ａに示すように、上下方向又は左右方向に延在する直線状の配線からなるメッシュパターンＭ１は、正方格子状である。

図２４Ａに示すように、正弦波状の複数の配線からなるメッシュパターンＭ２は、縦縞状である。これらの正弦波は、互いに交叉することなく上下方向に平行して進行しているが、中心線の離間距離、正弦波の振幅・位相がそれぞれ異なっている。例えば、これらの値は、一様分布に従ってランダムに定められている。

図２５Ａに示すように、不規則に配置された配線からなるメッシュパターンＭ３は、ランダムな形状である。このメッシュパターンＭ３は、本実施の形態で説明したＳＡ法（図１０等参照）を用いて実際に得られた模様である。

メッシュパターンＭ３の設定条件は、全体透過率９３％、透明フイルム基材５６の厚さを２０μｍ、金属細線５４の幅を２０μｍ、金属細線５４の厚さを１０μｍとした。パターンサイズを縦横とも５ｍｍ、画像解像度を３５００ｄｐｉ（ｄｏｔ ｐｅｒ ｉｎｃｈ）とした。シード点ＳＤの初期位置はメルセンヌ・ツイスタを用いてランダムに決定し、ボロノイ図を用いて多角形状の各メッシュ領域を画定した。第１評価値ＥＶ１は画像データＩｍｇの色値Ｌ^*に基づいて算出し、第２評価値ＥＶ１は画像データＩｍｇの色値Ｌ^*、色値ａ^*、色値ｂ^*に基づいて算出した。そして、同一の出力画像データＩｍｇＯｕｔを上下方向及び左右方向に並べて配置することで、周期的な露光パターンを形成した。

［露光］
ハロゲン化銀感光材料に対する露光パターンの露光は、特開２００４−１２２４号公報の発明の実施の形態記載のＤＭＤ（デジタル・ミラー・デバイス）を用いた露光ヘッドを２５ｃｍ幅になるように並べ、感光材料の感光層上にレーザ光が結像するように露光ヘッド及び露光ステージを湾曲させて配置し、感材送り出し機構及び巻取り機構を取り付けた上、露光面のテンション制御及び巻取り、送り出し機構の速度変動が露光部分の速度に影響しないようにバッファ作用を有する撓みを設けた連続露光装置にて行った。露光の波長は４００ｎｍで、ビーム形は１２μｍの略正方形、及びレーザ光源の出力は１００μＪであった。

［現像液の組成］
現像液１リットル中に、以下の化合物が含まれる。
ハイドロキノン ２０ ｇ
亜硫酸ナトリウム ５０ ｇ
炭酸カリウム ４０ ｇ
エチレンジアミン・四酢酸 ２ ｇ
臭化カリウム ３ ｇ
ポリエチレングリコール２０００ １ ｇ
水酸化カリウム ４ ｇ
ｐＨ １０．３に調整

［定着液の組成］
定着液１リットル中に、以下の化合物が含まれる。
チオ硫酸アンモニウム液（７５％） ３００ ｍｌ
亜硫酸アンモニウム・１水塩 ２５ ｇ
１，３−ジアミノプロパン・四酢酸 ８ ｇ
酢酸 ５ ｇ
アンモニア水（２７％） １ ｇ
ｐＨ ６．２に調整

［現像処理］
上記処理剤を用いて露光済み感材を、富士フイルム社製自動現像機 ＦＧ−７１０ＰＴＳを用いて処理条件：現像３５℃ ３０秒、定着３４℃ ２３秒、水洗 流水（５Ｌ／分）の２０秒処理で行った。

ランニング条件として、感材の処理量を１００ｍ²／日で現像液の補充を５００ｍｌ／ｍ²、定着液を６４０ｍｌ／ｍ²で３日間行った。このとき、めっき処理後の銅のパターンが１２μｍ線幅３００ミクロンピッチであることが確認された。

さらに、めっき液（硫酸銅０．０６モル／Ｌ，ホルマリン０．２２モル／Ｌ，トリエタノールアミン０．１２モル／Ｌ，ポリエチレングリコール１００ｐｐｍ、黄血塩５０ｐｐｍ、α、α‘−ビピリジン２０ｐｐｍを含有する、ｐＨ＝１２．５の無電解Ｃｕめっき液）を用い、４５℃にて無電解銅めっき処理を行った後、１０ｐｐｍのＦｅ（ＩＩＩ）イオンを含有する水溶液で酸化処理を行ない、導電性フイルムの各試料を得た。

以下、メッシュパターンＭ１〜Ｍ３を有する導電性フイルム１４を第１〜第３サンプルという。

［撮影］
第１〜第３サンプルを設置するための透明板を配置する。透明板は厚さ５ｍｍのガラスでできており、窓ガラスを模している。透明板に第１〜第３サンプルをそれぞれ貼り付け、部屋を暗室にした。

メッシュパターンＭによる回折光の干渉性を確認するために、透明板から３ｍ離れた距離に白熱灯（４０ワット球）を点灯させ、透明板越しにカメラを用いて撮影した（以下、第１撮影という。）。

また、メッシュパターンＭのノイズ特性を評価するために、前記白熱灯を消灯させた状態で、前記カメラのフラッシュ光（補助光）を用いて、透明板を撮影した（以下、第２撮影という。）。

［結果］
図２３Ｂ、図２４Ｂ及び図２５Ｂは、メッシュパターンＭ１、Ｍ２及びＭ３を有する導電性フイルム１４の第１撮影写真である。

図２３Ｂ及び図２４Ｂに示すように、Ｘ軸又はＹ軸方向に対して周期性を有するメッシュパターンＭ１、Ｍ２では、干渉縞の発生領域は狭くなるとともに、光強度が大きい傾向があることがわかった。一方、図２５Ｃに示すように、非周期性を有するメッシュパターンＭ３では、干渉縞の発生領域は広くなるとともに、光強度が小さい傾向があることがわかった。

図２３Ｃ、図２４Ｃ及び図２５Ｃは、メッシュパターンＭ１、Ｍ２及びＭ３を有する導電性フイルム１４の第２撮影写真である。

このように、所定の二次元画像領域２００の中から複数の位置（シード点ＳＤ）を選択し、複数の開口部５２を有するメッシュパターンＭの模様を表す画像データＩｍｇを、選択された前記複数の位置（シード点ＳＤ）に基づいて作成し、複数の開口部５２を介して発生する光干渉の指向性について、交叉する２軸方向に対して定量化した第１評価値ＥＶ１を、作成された画像データＩｍｇに基づいて算出し、算出された第１評価値ＥＶ１と所定の評価条件とに基づいて１つの画像データＩｍｇを出力用画像データＩｍｇＯｕｔとして決定し、決定された出力用画像データＩｍｇＯｕｔに基づいて透明フイルム基材５６上に線材を出力形成するようにしたので、前記所定の評価条件を満たす光干渉を発生させるメッシュパターンＭの形状を決定できる。換言すれば、メッシュパターンＭにより形成される複数の開口部５２を介して発生する光干渉の指向性を適切に制御できる。

なお、この発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく、この発明の主旨を逸脱しない範囲で自由に変更できることは勿論である。

１０…製造装置 １２…画像処理装置
１４…導電性フイルム １６…光
１８…露光部 ２０…入力部
２４…記憶部 ２８…初期位置選択部
３０…更新候補位置決定部 ３２…露光データ変換部
３６…画像情報推定部 ３８…画像データ作成部
４０…メッシュ模様評価部 ４２…データ更新指示部
５０…導電部 ５２…開口部
５４…金属細線 ５６…透明フイルム基材
５８…透明発熱体 ６２…ハロゲン化銀
６４…ゼラチン ６６…銀塩感光層
６８…現像銀 ７０…金属銀部
７２…透光部 ７４…導電性金属
７５…銅箔 ７６…フォトレジスト膜
７８…レジストパターン ８０…ペースト
８２…金属めっき ８４…金属薄膜
１００…ＦＦＴ演算部 １０２…第１評価値算出部
１０４…第２評価値算出部 １０６…重み付け加算部
１０８…カウンタ １１０…擬似温度管理部
１１２…更新確率算出部 １１４…位置更新判定部
１１６…出力用画像データ決定部 １２０…設定画面
１２２、１２６…プルダウンメニュー １２４、１２８…表示欄
１３０、１３２、１３４、１３６、１３８、１４０、１４２…テキストボックス
１４４、１４６…ボタン ２００…二次元画像領域
Ｉｍｇ、ＩｍｇＩｎｉｔ…画像データ ＩｍｇＯｕｔ…出力用画像データ
Ｍ、Ｍ１〜Ｍ３…メッシュパターン ＳＤ…シード点
ＳＤｄ、ＳＤＮｄ、ＳＤＳｄ、ＳＰｄ…位置データ
ＳＤＮ…第１シード点 ＳＤＳ…第２シード点
ＳＰ…候補点 Ｓｐｃ…スペクトル

Claims (19)

1. 所定の二次元画像領域の中から複数の位置を選択する位置選択ステップと、
   複数の開口部を有するメッシュパターンの模様を表す画像データを、選択された前記複数の位置に基づいて作成する画像データ作成ステップと、
   前記複数の開口部を介して発生する光干渉の指向性について、交叉する２軸方向に対して定量化した第１評価値を、作成された前記画像データに基づいて算出する評価値算出ステップと、
   算出された前記第１評価値と所定の評価条件とに基づいて１つの前記画像データを出力用画像データとして決定する画像データ決定ステップと、
   決定された前記出力用画像データに基づいて透明基材上に線材を出力形成し、前記メッシュパターンを有する透明導電膜を製造する製造ステップと
   を備えることを特徴とする透明導電膜の製造方法。
2. 請求項１記載の製造方法において、
   前記メッシュパターンの視認性に関わる前記線材の視認情報を入力する第１入力ステップと、
   前記メッシュパターンの視認性に関わる前記透明基材の視認情報を入力する第２入力ステップと、
   入力された前記線材及び前記透明基材の視認情報に基づいて前記メッシュパターンに応じた画像情報を推定する画像情報推定ステップと、を備え、
   前記画像データ作成ステップは、推定された前記画像情報に基づいて前記画像データを作成する
   ことを特徴とする透明導電膜の製造方法。
3. 請求項２記載の製造方法において、
   前記線材の視認情報には、該線材の種類、色値、光透過率、若しくは光反射率、又は配線の断面形状若しくは太さの少なくとも１つが含まれ、
   前記透明基材の視認情報には、該透明基材の種類、色値、光透過率、光反射率又は膜厚の少なくとも１つが含まれる
   ことを特徴とする透明導電膜の製造方法。
4. 請求項１〜３のいずれか１項に記載の製造方法において、
   前記第１評価値は、前記画像データの二次元パワースペクトルを用いて算出される評価値である
   ことを特徴とする透明導電膜の製造方法。
5. 請求項４記載の製造方法において、
   前記第１評価値は、前記二次元パワースペクトルの前記２軸方向に対する各モーメントを用いて算出される評価値である
   ことを特徴とする透明導電膜の製造方法。
6. 請求項４記載の製造方法において、
   前記第１評価値は、前記２軸方向に対する前記モーメントの比を用いて算出される評価値である
   ことを特徴とする透明導電膜の製造方法。
7. 請求項４〜６のいずれか１項に記載の製造方法において、
   前記第１評価値は、前記二次元パワースペクトルの空間周波数領域の一部を用いて算出される評価値である
   ことを特徴とする透明導電膜の製造方法。
8. 請求項１〜７のいずれか１項に記載の製造方法において、
   前記評価値算出ステップは、前記メッシュパターンのノイズ特性について評価するための第２評価値を前記画像データに基づいてさらに算出し、
   前記画像データ決定ステップは、算出された前記第１評価値、前記第２評価値及び所定の評価条件に基づいて、１つの前記画像データを出力用画像データとして決定する
   ことを特徴とする透明導電膜の製造方法。
9. 請求項８記載の製造方法において、
   前記第２評価値は、粒状度を表す評価値である
   ことを特徴とする透明導電膜の製造方法。
10. 請求項９記載の製造方法において、
    前記第２評価値は、ＲＭＳ粒状度である
    ことを特徴とする透明導電膜の製造方法。
11. 請求項９記載の製造方法において、
    前記第２評価値は、人間の視覚応答特性関数により補正されたＲＭＳ粒状度である
    ことを特徴とする透明導電膜の製造方法。
12. 請求項１１記載の製造方法において、
    前記人間の視覚応答特性関数は、Ｄｏｏｌｅｙ−Ｓｈａｗ関数である
    ことを特徴とする透明導電膜の製造方法。
13. 請求項１１記載の製造方法において、
    前記画像データ作成ステップは、ドロネー三角形分割法を用いて前記複数の位置からメッシュ状の模様を形成し、該模様を表す画像データを作成する
    ことを特徴とする透明導電膜の製造方法。
14. 請求項１１記載の製造方法において、
    前記画像データ作成ステップは、ボロノイ図を用いて前記複数の位置からメッシュ状の模様を形成し、該模様を表す画像データを作成する
    ことを特徴とする透明導電膜の製造方法。
15. 請求項１〜１４のいずれか１項に記載の製造方法において、
    前記第１評価値又は／及び前記第２評価値に基づいて前記複数の位置のうちの一部を別の位置にそれぞれ更新する位置更新ステップを備え、
    前記位置更新ステップ、前記画像データ作成ステップ及び前記評価値算出ステップを順次繰り返し、前記画像データ決定ステップにより前記出力用画像データを決定する
    ことを特徴とする透明導電膜の製造方法。
16. 請求項１５記載の製造方法において、
    前記位置更新ステップは、擬似焼きなまし法を用いて、前記複数の位置のうちの一部を別の位置にそれぞれ更新する
    ことを特徴とする透明導電膜の製造方法。
17. 請求項１〜１６のいずれか１項に記載の製造方法を用いて製造することを特徴とする導電性フイルム。
18. 請求項１７記載の導電性フイルムを備えることを特徴とする透明発熱体。
19. コンピュータを、
    所定の二次元画像領域の中から複数の位置を選択する手段、
    複数の開口部を有するメッシュパターンの模様を表す画像データを、選択された前記複数の位置に基づいて作成する手段、
    前記複数の開口部を介して発生する光干渉の指向性について、交叉する２軸方向に対して定量化した第１評価値を、作成された前記画像データに基づいて算出する手段、
    算出された前記第１評価値と所定の評価条件とに基づいて１つの前記画像データを出力用画像データとして決定する手段、
    決定された前記出力用画像データに基づいて透明基材上に線材を出力形成する手段
    として機能させることを特徴とするプログラム。

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