TWI657422B - 導電性膜、具備該導電性膜的顯示裝置以及導電性膜的評價方法 - Google Patents
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Abstract
導電性膜中,當顯示單元是對於互不相同的兩色而言,子畫素的樣式不同者,或者各色的子畫素陣列圖案的週期不同者,或者在一畫素內,一個子畫素的重心位於與連結剩餘子畫素的重心而成的直線上不同的位置者時,配線圖案為:在根據其透過率圖像資料與各色的子畫素陣列圖案的亮度圖像資料各自的二維傅立葉頻譜的峰值頻率及峰值強度而分別算出的各色中的每一色的雲紋的頻率及強度中,根據雲紋的評價值而算出的雲紋評價指標為規定值以下。
Description
本發明是有關於一種導電性膜、具備該導電性膜的顯示裝置以及導電性膜的評價方法,詳細而言,本發明是有關於下述導電性膜、具備該導電性膜的顯示裝置以及導電性膜的評價方法,所述導電性膜被重疊於顯示裝置,且具備在與顯示裝置的畫素陣列圖案的組合中提供最佳畫質的網(mesh)狀配線圖案(pattern),所述顯示裝置的R(紅)、G(綠)及B(藍)的彩色濾光片(color filter)、即子畫素(sub pixel)的開口分別具備不同的頻率、強度。
作為設置於顯示裝置(以下亦稱作顯示器(display))的顯示單元(unit)上的導電性膜,例如可列舉觸控面板(touch panel)用的導電性膜或電磁波屏蔽(shield)用的導電性膜等,該些導電性膜具有導電膜,該導電膜包含具備網狀配線圖案(以下亦稱作網圖案)的金屬細線。
該些導電性膜中,因網圖案與顯示器的畫素陣列圖案(例如RGB彩色濾光片的陣列圖案或者其反轉圖案、即可稱為黑矩陣(Black Matrix,以下亦稱作BM)圖案)的干涉造成的雲紋(moiré的視認成為問題,因此提出有具備雲紋不會被視認到或者難以被視認到的網圖案的各種導電性膜(例如參照專利文獻1)。
在本申請人申請的專利文獻1中,揭示有具備下述網圖案的導電性膜,即,相對於使人類的視覺響應特性作用於雲紋的頻率資訊及強度資訊而獲得的雲紋的頻率及強度,雲紋的頻率進入根據視覺響應特性而確定的規定頻率範圍內的雲紋的強度之和為規定值以下,所述雲紋的頻率資訊及強度資訊根據導電性膜的網圖案及顯示器的畫素陣列(BM)圖案中各圖案的透過率圖像資料(data)的二維傅立葉頻譜(Two Dimensional Fourier Spectrum,2DFFTSp)的頻譜峰值(spectrum peak)的峰值頻率及峰值強度而分別算出。
如此,專利文獻1中,可抑制雲紋的產生,從而可大幅提高視認性。
[現有技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2013-213858號公報
此外,專利文獻1提出:在顯示器的畫素陣列圖案與導
電性膜的配線圖案的組合中,預測會被視認到的雲紋並加以數值化。然而,在專利文獻1中,是以一色的子畫素、例如G通道(channel)的子畫素陣列圖案來代表預測雲紋時所用的顯示器的畫素陣列圖案。因此,在專利文獻1中,預測雲紋時算出的顯示器的傅立葉頻譜成為依存於單色子畫素、例如G通道的空間頻率特性的結果。
其結果,存在下述課題:能以專利文獻1中算出的雲紋數值來改善視認性的條件限於下述情況,即,顯示器的畫素中所含的RGB彩色濾光片的開口形狀大致相同,且各開口的位置相對於具備週期性的方向僅相位不同。即,存在下述課題:成為對象的顯示器限於如下所述者,即,一畫素中的RGB彩色濾光片的開口形狀、即子畫素的開口形狀為相同形狀,且該些子畫素的重複圖案(子畫素陣列圖案)儘管彼此存在相位偏移,但均可視為與畫素陣列圖案相同。
此外,近年來,例如以有機電致發光顯示器(Organic ElectroLuminescence Display,OELD)的畫素為代表,正使用如下所述的畫素,即:RGB彩色濾光片的開口形狀、即子畫素的形狀無須大致相同,且其相位、即重複圖案的相位或週期亦為任意(無規則(random))。在如此般任意構成的畫素中,因將具備網狀配線圖案的導電性膜積層於顯示器的畫素而被視認到的雲紋視認性對於RGB各子畫素陣列圖案而言全部不同,但在專利文獻1所揭示的技術中,僅考慮到了G的子畫素陣列圖案,因此存在無法改
善雲紋視認性的問題。
即,在使用具備此種無規則結構的畫素的顯示器中,為了改善積層於顯示器的顯示畫面上的導電性膜的雲紋視認性,必須將相對於RGB的雲紋視認性分別數值化,並將該些數值全部考慮在內,但在專利文獻1中存在未全部考慮在內的問題。
本發明的目的在於提供一種導電性膜、具備該導電性膜的顯示裝置以及導電性膜的評價方法,所述導電性膜可消除所述習知技術的問題,即便對於具有下述顯示單元的顯示裝置,而且,不論觀察距離如何,均可抑制雲紋的產生,從而可大幅提高顯示單元的顯示畫面的視認性,所述顯示單元滿足下述條件中的至少一個條件,即:顯示器的畫素結構(形狀、相位)不均等,即包含子畫素的形狀例如RGB彩色濾光片的開口形狀互不相同的至少兩個子畫素,或者,至少一個子畫素的重複週期與畫素的重複週期不同,或者,在一畫素內,一個子畫素的重心位於與連結剩餘子畫素的重心而成的直線上不同的位置。
而且,除了所述目的以外,本發明的另一目的在於提供一種具備下述網圖案的導電性膜、具備該導電性膜的顯示裝置以及導電性膜的評價方法,所述網圖案在顯示器的RGB子畫素的開口形狀分別具備不同的頻率.強度的情況下的導電性膜的網圖案的設計時,可在與顯示器的子畫素陣列圖案的組合中提供最佳畫質。
為了達成所述目的,本申請人反覆進行了專心研究,結
果發現,在包含子畫素的形狀或週期為任意或無規則的畫素的顯示單元中,為了改善因積層具備金屬細線的網圖案的導電膜而會被視認到的雲紋視認性,必須將相對於RGB子畫素的雲紋視認性分別數值化,並以其中雲紋最容易被視認到的最差值即最大值來進行評價,從而完成本發明。
即,本發明的第1形態的導電性膜是被設置在顯示裝置的顯示單元上的導電性膜,其特徵在於包括:透明基體;以及導電部,形成於該透明基體的至少一個面上,且具有多根金屬細線,多根金屬細線具有包含網狀的配線圖案,藉此,在導電部上排列有多個開口部,顯示單元是由畫素陣列圖案排列而成,所述畫素陣列圖案是由包含多個子畫素的畫素在其中一個方向及與其中一個方向垂直的方向上反覆排列而成,所述多個子畫素射出互不相同的至少三色的多色光,顯示單元滿足下述條件中的至少任一個條件,即:對於多色中的互不相同的至少兩色而言,子畫素的樣式不同者;或者,由多色的各色的子畫素的陣列所形成的子畫素陣列圖案的週期不同者;或者,在畫素的一畫素內,多個子畫素的重心中的至少一者位於與連結剩餘子畫素的重心的至少兩者而成的直線上不同的位置者,導電性膜以導電部的配線圖案與顯示單元的畫素陣列圖案相重疊的方式而設置於顯示單元上,配線圖案以如下方式構成,即,在至少一視點處,在根據配線圖案的透過率圖像資料的二維傅立葉頻譜的多個第1頻譜峰值的第1峰值頻率及第1峰值強度、與多色的各色的子畫素陣列圖案的亮度圖
像資料的二維傅立葉頻譜的多個第2頻譜峰值的第2峰值頻率及第2峰值強度而針對各色中的每一色算出的雲紋的頻率及強度中,根據各色的雲紋的評價值而算出的雲紋評價指標為評價臨限值以下,各色的雲紋的評價值是分別使人類的視覺響應特性對應於觀察距離,來作用於根據顯示單元的顯示解析度而規定的頻率臨限值以下的各雲紋頻率中的雲紋強度內的第1強度臨限值以上的雲紋強度所獲得。
而且,為了達成所述目的,本發明的第2形態的顯示裝置的特徵在於包括:顯示單元,由畫素陣列圖案排列而成,所述畫素陣列圖案是由包含多個子畫素的畫素在其中一個方向及與其中一個方向垂直的方向上反覆排列而成,所述多個子畫素射出互不相同的至少三色的多色光,且所述顯示單元是下述者中的至少一者,即,對於互不相同的至少兩色而言,子畫素的樣式不同者、以及由各色的子畫素的陣列所形成的子畫素陣列圖案的週期不同者;以及所述第1形態的導電性膜,被設置在該顯示單元上。
而且,為了達成所述目的,本發明的第3形態的導電性膜的評價方法中,所述導電性膜被設置在顯示裝置的顯示單元上,藉由多根金屬細線形成網狀的配線圖案,從而具有排列有多個開口部的配線圖案,所述導電性膜的評價方法的特徵在於,顯示單元是由畫素陣列圖案排列而成,所述畫素陣列圖案是由包含多個子畫素的畫素在其中一個方向及與其中一個方向垂直的方向上反覆排列而成,所述多個子畫素射出互不相同的至少三色的多
色光,且所述顯示單元滿足下述條件中的至少任一個條件,即,對於多色中的互不相同的至少兩色而言,子畫素的樣式不同者,或者,由多色的各色的子畫素的陣列所形成的子畫素陣列圖案的週期不同者,或者,在畫素的一畫素內,多個子畫素的重心中的至少一者位於與連結剩餘子畫素的重心的至少兩者而成的直線上不同的位置者,獲取配線圖案的透過率圖像資料、以及顯示單元的多色的各色的子畫素陣列圖案的亮度圖像資料,在至少一視點處,對配線圖案的透過率圖像資料及子畫素陣列圖案的透過率圖像資料進行二維傅立葉轉換,算出配線圖案的透過率圖像資料的二維傅立葉頻譜的多個第1頻譜峰值的第1峰值頻率及第1峰值強度,並針對各色中的每一色而算出多色的各色的子畫素陣列圖案的亮度圖像資料的二維傅立葉頻譜的多個第2頻譜峰值的第2峰值頻率及第2峰值強度,根據如此般算出的配線圖案的第1峰值頻率及第1峰值強度、與多色各自的子畫素陣列圖案的第2峰值頻率及第2峰值強度,分別算出多色的各色的雲紋的頻率及強度,從如此般算出的各色的雲紋的頻率及強度中,選出如下雲紋,該雲紋具備根據顯示單元的顯示解析度而規定的頻率臨限值以下的頻率及第1強度臨限值以上的強度,對應於觀察距離而使人類的視覺響應特性作用於如此般選出的各個各色雲紋頻率中的雲紋強度,而分別獲得各色的雲紋的評價值,根據如此般獲得的各色中的每一色的雲紋的評價值來算出雲紋評價指標,對如此般算出的雲紋評價指標為規定值以下的導電性膜進行評價。
所述第3形態中,較佳為,顯示單元的多色的各色的子畫素陣列圖案的亮度圖像資料是藉由如下方式而獲得的標準化亮度資料,即:針對各色中的每一色,對顯示在顯示單元的顯示畫面上的顏色的子畫素陣列圖案的圖像進行拍攝而獲得拍攝圖像資料,將所獲得的拍攝圖像資料轉換為亮度值而獲得亮度圖像資料,對所獲得的亮度圖像資料進行標準化。
所述第1形態、第2形態及第3形態中,較佳為,評價臨限值為-2.70,評價指標以常用對數計為-2.70以下,進而較佳為,評價臨限值為-2.80,評價指標以常用對數計為-2.80以下,更佳為,評價臨限值為-3.00,評價指標以常用對數計為-3.00以下。
而且,較佳為,子畫素的樣式不同者包含子畫素的尺寸或面積不同者。
而且,較佳為,子畫素陣列圖案的週期不同者包含如下者,即:在顯示單元的顯示畫面中,其中一個方向為水平方向,當將該水平方向設為x方向,將相對於x方向而垂直的方向設為y方向時,對於互不相同的至少兩色而言,子畫素在x方向及y方向中的至少一個方向上,子畫素的週期不一致者。
而且,較佳為,滿足至少任一個條件是指:對於多色內的任意兩色而言,滿足下述中的任一個,即,在其中一個方向上,當將畫素陣列圖案的畫素間距設為P時,則其中一色的子畫素的重心位置與另一色的子畫素的重心位置之差小於3P/10,或者大於11P/30且小於3P/5,或者大於11P/15,或者,對於多色內的任一
色而言,滿足下述中的任一個,即,在與其中一個方向垂直的方向上,所述一色的子畫素的重心位置與鄰接畫素的所述一色的子畫素的重心位置之差小於9P/10,或者大於11P/10。
而且,較佳為,多色的各色的子畫素陣列圖案的亮度圖像資料是將藉由如下方式而獲得的亮度圖像資料標準化而成的標準化亮度資料,即,針對各色中的每一色,將對顯示在顯示單元的顯示畫面上的顏色的子畫素陣列圖案的圖像進行拍攝所得的拍攝圖像資料轉換為亮度值。
而且,較佳為,多色為紅、綠及藍這三色,顯示在顯示單元的顯示畫面上的顏色的子畫素陣列圖案的圖像是以顯示單元中可設定的最大亮度而顯示,各色的標準化亮度資料是以綠的最大亮度值而標準化者。
而且,較佳為,紅、綠及藍各色的子畫素陣列圖案的圖像的拍攝圖像資料是將白平衡(white balance)調整為白高亮度陳列箱(Schaukasten)來拍攝所得的圖像資料,當設紅的圖像資料為R、綠的圖像資料為G、藍的圖像資料為B、亮度值為Y時,紅、綠及藍的圖像資料R、G及B是根據下述式(1)而轉換為亮度值Y者,Y=0.300R+0.590G+0.110B......(1)
各色的亮度圖像資料是將綠的最大亮度值設為1.0而標準化
者。
而且,較佳為,紅、綠及藍各色的子畫素陣列圖案的圖像的亮度圖像資料是藉由如下方式而求出的資料,即,將紅、綠及藍的各色分光頻譜資料分別乘以XYZ配色函數的亮度而積分求出的積分值,設為根據拍攝圖像資料而製作成的遮罩資料的值,所述紅、綠及藍的各色分光頻譜資料是對紅、綠及藍各色的子畫素來使所述顏色單獨顯示並以分光計進行測量所獲取,所述拍攝圖像資料是對紅、綠及藍各色的子畫素來使所述顏色單獨顯示並以顯微鏡拍攝所得,各色的亮度圖像資料是將綠的最大的亮度圖像資料設為1.0而加以標準化者。
例如,當設波長為λ,紅R、綠G及藍B各色的RGB分光頻譜資料為Pr(λ)、Pg(λ)及Pb(λ),計算三激值X、Y、Z時所用的配色函數為y(λ)時,成為RGB各色的亮度值的積分值Yr、Yg及Yb以下述式(3)表示。
Yr=ʃPr(λ)y(λ)dλ Yg=ʃPg(λ)y(λ)dλ Yb=ʃPb(λ)y(λ)dλ......(3)
而且,較佳為,多個第1頻譜峰值具有從對配線圖案的透過率圖像資料進行二維傅立葉轉換而獲得的多個頻譜峰值中選擇的第1臨限值以上的峰值強度,對於多色的各個而言,多個第2
頻譜峰值具有從對子畫素陣列圖案的亮度圖像資料進行二維傅立葉轉換而獲得的多個頻譜峰值中選擇的第2臨限值以上的峰值強度。
而且,較佳為,對應於各色的雲紋的頻率是作為第1峰值頻率與對應於各色的第2峰值頻率之差而給出,對應於各色的雲紋的強度是作為第1峰值強度與對應於各色的第2峰值強度之積而給出。
而且,較佳為,雲紋的評價值是藉由如下方式而求出,即,對於雲紋的頻率及強度,將作為視覺響應特性的與觀察距離相應的視覺傳達函數以卷積積分進行加權。
而且,較佳為,視覺傳達函數VTF是以下述式(2)而給出。
其中,u為以立體角而定義的空間頻率(cycle/deg),以所述式(2)來表示,fr為以長度而定義的空間頻率(cycle/mm),L為觀察距離(mm)。
較佳為,雲紋評價指標是對於各色,使用對應於觀察距離而對一個雲紋的頻率進行加權所得的多個雲紋的評價值中的最
大評價值來算出,而且,較佳為,雲紋評價指標是對於各色中的每一色,使針對一個雲紋的頻率而選擇的最大評價值對於所有雲紋的頻率進行合計所得的多色的合計值中最大的合計值。
而且,較佳為,第1強度臨限值以常用對數計為-5,頻率臨限值為雲紋的最高頻率,為了使視覺響應特性發揮作用而選擇的雲紋是雲紋的強度具備-5以上的強度且具備最高頻率以下的頻率的雲紋。
而且,較佳為,當將顯示單元的顯示畫素間距設為Pd μm時,雲紋的最高頻率是以1000/Pd cycle/mm而給出。
較佳為,評價值是在正面觀察及斜向觀察的至少兩視點處,針對多色的各色中的每一色而獲得者,評價指標是所獲得的至少兩視點處的各色的評價值中最大的評價值。
而且,較佳為,畫素陣列圖案為黑矩陣圖案。
如以上所說明般,根據本發明,即便對於具有下述顯示單元的顯示裝置,而且,不論觀察距離如何,均可抑制雲紋的產生,從而可大幅提高顯示單元的顯示畫面的視認性,所述顯示單元滿足下述條件中的至少一個條件,即:顯示器的畫素結構(形狀、相位)不均等,即包含子畫素的形狀例如RGB彩色濾光片的開口形狀互不相同的至少兩個子畫素,或者,至少一個子畫素的重複週期與畫素的重複週期不同,或者,在一畫素內,一個子畫素的重心位於與連結剩餘子畫素的重心而成的直線上不同的位
置。
而且,根據本發明的另一形態,除了所述效果以外,在顯示器的RGB子畫素的開口分別具備不同的頻率.強度的情況下的導電性膜的網圖案的設計時,可在與顯示器的子畫素陣列圖案的組合中提供最佳畫質。
尤其,根據本發明,當使用導電性膜來作為觸控面板用電極時,對於將導電性膜重疊於顯示裝置的顯示單元的黑矩陣而視認時的成為大的畫質障礙的雲紋,即便顯示裝置的黑矩陣的各色的子畫素陣列圖案的週期或強度不同亦可予以抑制,從而可大幅提高觸控面板上的顯示的視認性。
10、11、11A、11B‧‧‧導電性膜
12‧‧‧透明支持體(透明基體)
14‧‧‧金屬製的細線(金屬細線)
16、16a、16b‧‧‧導電部
18、18a、18b‧‧‧黏著層
20、20a、20b‧‧‧保護層
21‧‧‧網狀配線
22‧‧‧開口部
23a‧‧‧電極部
23b‧‧‧虛設電極部(非電極部)
24‧‧‧配線圖案(網圖案)
24a‧‧‧電極配線圖案
24b‧‧‧虛設電極(非電極)配線圖案
25‧‧‧斷線部(切斷部)
26‧‧‧虛設電極部
28、28a、28b‧‧‧導電層
30‧‧‧顯示單元
32、32r、32g、32b‧‧‧畫素
34‧‧‧黑矩陣(BM)
36‧‧‧畫素區區域
38‧‧‧BM圖案(畫素陣列圖案)
38a、38b、38c、38d‧‧‧畫素陣列圖案
38b、38g、38r‧‧‧標準化亮度圖像
40‧‧‧顯示裝置
42‧‧‧輸入面
44‧‧‧觸控面板
46‧‧‧框體
48‧‧‧罩構件
50‧‧‧電纜
52‧‧‧撓性基板
54‧‧‧檢測控制部
56‧‧‧黏著層
58‧‧‧接觸體
B‧‧‧藍
fx、fy‧‧‧軸
G‧‧‧綠
p、p1、p2‧‧‧間距
P‧‧‧峰值
Ph‧‧‧水平畫素間距
Pv‧‧‧垂直畫素間距
R‧‧‧紅
S10~S26‧‧‧步驟
Sp‧‧‧強度
u‧‧‧空間頻率
Z1、Z2‧‧‧箭頭
θ、θ1、θ2‧‧‧角度
圖1是示意性地表示本發明的第1實施形態的導電性膜的一例的平面圖。
圖2是圖1所示的導電性膜的示意性局部剖面圖。
圖3是本發明的第2實施形態的導電性膜的一例的示意性局部剖面圖。
圖4(A)及圖4(B)是分別表示適用本發明的導電性膜的顯示單元的一部分畫素陣列圖案的一例的概略說明圖,圖4(B)是圖4(A)的畫素陣列圖案的局部放大圖。
圖5(A)是表示構成三個子畫素的樣式及週期相同的畫素陣列圖案的畫素的一例的概略說明圖,圖5(B)~圖5(D)是分別
表示構成適用於本發明的畫素陣列圖案的單位的一例的概略說明圖,所述畫素陣列圖案的三個子畫素的形及週期中的至少一個不同。
圖6是組裝有圖3所示的導電性膜的顯示裝置的一實施例的概略剖面圖。
圖7是表示本發明的導電性膜的配線評價方法的一例的流程圖。
圖8(A)是表示適用本發明的導電性膜的點燈狀態的顯示單元的子畫素陣列圖案的一例的概略說明圖,圖8(B)是表示圖8(A)的G色的子畫素陣列圖案的概略說明圖,圖8(C)是表示圖8(A)的R色的子畫素陣列圖案的概略說明圖,圖8(D)是表示圖8(A)的B色的子畫素陣列圖案的概略說明圖。
圖9是表示適用本發明的導電性膜的顯示單元的RGB子畫素的分光頻譜的一例的曲線圖。
圖10是表示適用於本發明的XYZ配色函數的一例的曲線圖。
圖11(A)及圖11(B)是分別表示圖8(A)所示的畫素陣列圖案及圖1所示的配線圖案的各透過率圖像資料的二維傅立葉頻譜的強度特性的圖。
圖12是表示圖8(A)所示的顯示單元的畫素陣列圖案的頻率峰值位置的曲線圖。
圖13(A)是說明輸入圖案圖像的頻率峰值位置的曲線圖,圖13(B)是說明頻率峰值位置的峰值強度的計算的曲線圖。
圖14(A)及圖14(B)是分別以曲線表示二維傅立葉頻譜的強度特性的一例的曲線圖以及以柱表示二維傅立葉頻譜的強度特性的一例的柱狀圖。
圖15是示意性地表示因圖8(A)所示的畫素陣列圖案與圖1所示的配線圖案的干涉所產生的雲紋頻率及雲紋強度的概略說明圖。
圖16是示意性地表示本發明的另一實施形態的導電性膜的一例的局部剖面圖。
圖17是示意性地表示本發明的另一實施形態的導電性膜的一例的局部放大平面圖,是表示該網圖案的多個斷線部的一例的示意圖。
圖18(A)、圖18(B)、圖18(C)及圖18(D)是分別表示本發明中所用的配線圖案的一例的概略說明圖,圖18(E)、圖18(F)及圖18(G)是分別用於說明圖18(A)、圖18(B)及圖18(D)所示的配線圖案的局部放大圖。
圖19是示意性地表示本發明的導電性膜的配線圖案的另一例的平面圖。
以下,參照附圖所示的較佳的實施形態來詳細說明本發明的導電性膜及導電性膜的評價方法。
以下,對於本發明的導電性膜,以觸控面板用的導電性膜作為代表例來進行說明,但本發明並不限定於此,只要是設置於液
晶顯示器(Liquid Crystal Display,LCD)、電漿顯示器(Plasma Display Panel,PDP)、有機電致發光顯示器(Organic Electro-Luminescence Display,OELD)或無機EL顯示器等顯示裝置的顯示單元之具備下述畫素陣列圖案(BM圖案)的顯示單元上的導電性膜,則為任何者皆可,例如當然亦可為電磁波屏蔽用的導電性膜等,所述畫素陣列圖案(BM圖案)的詳細情況將後述,但包含如下所述的子畫素陣列圖案,即:子畫素(彩色濾光片)的重複週期及強度、即子畫素陣列圖案(子畫素的樣式、週期)在RGB等多色中並不全部相同,即對於至少兩色而言不同。
圖1及圖2是分別示意性地表示本發明的第1實施形態的導電性膜的一例的平面圖及其示意性局部剖面圖。
如該些圖所示,本實施形態的導電性膜10是設置於顯示裝置的顯示單元上者,是具備相對於顯示單元的下述畫素陣列圖案而在抑制雲紋產生方面優異的配線圖案,尤其具備在重疊於畫素陣列圖案時,相對於畫素陣列圖案中所含的各色具備不同樣式及週期的子畫素陣列圖案而在雲紋的視認性方面經最佳化的配線圖案的導電性膜,所述畫素陣列圖案包含RGB等多色的彩色濾光片的重複圖案即子畫素陣列圖案,且所述導電性膜10具有:透明基體12;導電部16,形成於透明基體12的其中一面(圖2中的上側的面)且包含多根金屬製的細線(以下稱作金屬細線)14;以及保護層20,以包覆金屬細線14的方式,經由黏著層18而黏著於導電部16的大致整個面。
透明基體12包含具有絕緣性且透光性高的材料,例如可列舉樹脂、玻璃(glass)、矽(silicon)等材料。作為樹脂,例如可列舉聚對苯二甲酸乙二酯(Polyethylene Terephthalate,PET)、聚甲基丙烯酸甲酯(Polymethyl methacrylate,PMMA)、聚丙烯(polypropylene,PP)、聚苯乙烯(polystyrene,PS)等。
導電部16包含導電層28,該導電層28具有網形狀的配線圖案24,該網形狀的配線圖案24是由金屬細線14及鄰接的金屬細線14間的開口部22構成。金屬細線14只要是導電性高的金屬製的細線,則並無特別限制,例如可列舉包含金(Au)、銀(Ag)或銅(Cu)的線材等者。考慮到視認性的觀點,金屬細線14的線寬越細越佳,但例如只要為30μm以下即可。再者,在觸控面板用途中,金屬細線14的線寬較佳為0.1μm以上且15μm以下,進而較佳為1μm以上且9μm以下,更佳為2μm以上且7μm以下。
詳細而言,導電部16具有將多根金屬細線14排列成網狀的配線圖案24。於圖示例中,開口部22的網形狀為菱形,但本發明並不限定於此,只要可構成相對於包含後述的規定子畫素陣列圖案的畫素陣列圖案而雲紋視認性經最佳化的配線圖案24,且只要為具有至少三邊的多邊形狀,則為任何形狀皆可,而且,既可為相同的網形狀,亦可為不同的網形狀,例如可列舉正三角形、等腰三角形等三角形;正方形(正方格子:參照後述的圖18(D))、長方形、平行四邊形(參照後述的圖19)等四邊形(矩形);五邊
形;六邊形(正六邊形:參照後述的圖18(B)及圖18(C))等相同或不同的多邊形等。即,只要是相對於包含不同子畫素陣列圖案的規定畫素陣列圖案而雲紋視認性經最佳化的配線圖案,則既可為由有規則的開口部22的陣列所構成的配線圖案,亦可為由不同形狀的開口部22的陣列而無規則化的配線圖案。
而且,配線圖案24的開口部22的網形狀既可為對稱,亦可為非對稱。再者,網形狀的非對稱性可藉由如下方式來定義,即,在xy二維座標上,已定義x軸及y軸的一者時,相對於x軸或y軸的至少一者為非對稱。
例如,在為非對稱圖案的平行四邊形的網形狀中,如圖19所示,當將平行四邊形的各邊的間距設為p1、p2,將平行四邊形的各邊相對於y軸的傾斜角度設為θ1、θ2時,只要滿足p1≠p2或θ1≠θ2中的至少一者即可,但更佳為滿足兩者。在圖示例的非對稱圖案的平行四邊形的網形狀中,p1≠p2且θ1=θ2。
即使在為非對稱圖案的其他多邊形的網形狀的情況下,只要根據間距及傾斜角度的至少一者不同的情況來進行定義即可。
而且,於配線圖案24中,亦可如後述的圖16所示般加入斷線(斷裂(break))。作為此種斷裂的網狀配線圖案的形狀,可適用本申請人申請的日本專利特願2012-276175號說明書中記載的導電性膜的網狀配線圖案的形狀。
作為黏著層18的材料,可列舉濕式積層(wet laminate)黏著劑、乾式積層(dry laminate)黏著劑、或熱熔(hot melt)黏
著劑等。
保護層20是與透明基體12同樣地,包含包括樹脂、玻璃、矽的透光性高的材料。較佳為,保護層20的折射率n1等於透明基體12的折射率n0,或者為與此相近的值。此時,透明基體12相對於保護層20的相對折射率nr1為接近1的值。
此處,本說明書中的折射率是指波長589.3nm(鈉的D線)的光中的折射率,例如對於樹脂,以作為國際標準規格的ISO 14782:1999(對應於JIS K 7105)來定義。而且,透明基體12相對於保護層20的相對折射率nr1以nr1=(n1/n0)來定義。此處,相對折射率nr1只要處於0.86以上、1.15以下的範圍內即可,更佳為0.91以上、1.08以下。
藉由將相對折射率nr1的範圍限定於該範圍內,以控制透明基體12與保護層20的構件間的光的透過率,從而可進一步提高、改善雲紋的視認性。
所述第1實施形態的導電性膜10僅在透明基體12的其中一個面上具有導電部16,但本發明並不限定於此,亦可在透明基體12的兩面具有導電部。
圖3是表示本發明的第2實施形態的導電性膜的一例的示意性局部剖面圖。再者,圖3所示的本第2實施形態的導電性膜的平面圖與圖1所示的本第1實施形態的導電性膜的平面圖相同,因此,此處省略。
如該圖3所示,本第2實施形態的導電性膜11具有:
第1導電部16a及虛設(dummy)電極部26,形成於透明基體12的其中一(圖3的上側的)面上;第2導電部16b,形成於透明基體12的另一(圖3的下側的)面上;第1保護層20a,經由第1黏著層18a而黏著於第1導電部16a及虛設電極部26的大致整個面;以及第2保護層20b,經由第2黏著層18b而黏著於第2導電部16b的大致整個面。
在導電性膜11中,第1導電部16a及虛設電極部26分別包含多根金屬細線14,且均在透明基體12的其中一(圖3的上側的)面上作為導電層28a而形成,第2導電部16b包含多根金屬細線14,且在透明基體12的另一(圖3的下側的)面上作為導電層28b而形成。此處,虛設電極部26是與第1導電部16a同樣地,形成在透明基體12的其中一(圖3的上側的)面上,但如圖示例般,包含在與形成於另一(圖3的下側的)面上的第2導電部16b的多根金屬細線14對應的位置同樣地排列的多根金屬細線14。
虛設電極部26是與第1導電部16a隔開規定間隔而配置,且處於與第1導電部16a電性絕緣的狀態下。
在本實施形態的導電性膜11中,於透明基體12的其中一(圖3的上側的)面上,形成有虛設電極部26,該虛設電極部26包含與形成於透明基體12的另一(圖3的下側的)面上的第2導電部16b的多根金屬細線14對應的多根金屬細線14,因此亦可控制透明基體12的其中一(圖3的上側的)面上的金屬細線造成的散亂,
從而可改善電極視認性。
此處,導電層28a的第1導電部16a及虛設電極部26具有由金屬細線14及開口部22構成的網狀的配線圖案24。而且,導電層28b的第2導電部16b是與第1導電部16a同樣地,具有由金屬細線14及開口部22構成的網狀的配線圖案24。如上所述,透明基體12包含絕緣性材料,第2導電部16b處於與第1導電部16a及虛設電極部26電性絕緣的狀態下。
再者,第1導電部16a、第2導電部16b及虛設電極部26分別可由與圖2所示的導電性膜10的導電部16同樣的材料同樣地形成。
第1保護層20a以包覆第1導電部16a及虛設電極部26各自的金屬細線14的方式,藉由第1黏著層18a而黏著於包含第1導電部16a及虛設電極部26的導電層28a的大致整個面上。
而且,第2保護層20b以包覆第2導電部16b的金屬細線14的方式,藉由第2黏著層18b而黏著於包含第2導電部16b的導電層28b的大致整個面上。
此處,第1黏著層18a及第2黏著層18b分別可由與圖2所示的導電性膜10的黏著層18同樣的材料同樣地形成,但第1黏著層18a的材質與第2黏著層18b的材質既可相同,亦可不同。
而且,第1保護層20a及第2保護層20b分別可由與圖2所示的導電性膜10的保護層20同樣的材料同樣地形成,但第1保護層20a的材質與第2保護層20b的材質既可相同,亦可不同。
第1保護層20a的折射率n2及第2保護層20b的折射率n3均與所述第1實施形態的導電性膜10的保護層20同樣,為等於透明基體12的折射率n0或接近該折射率n0的值。此時,透明基體12相對於第1保護層20a的相對折射率nr2及透明基體12相對於第2保護層20b的相對折射率nr3均為接近1的值。此處,折射率及相對折射率的定義如同所述第1實施形態中的定義。因此,透明基體12相對於第1保護層20a的相對折射率nr2以nr2=(n2/n0)來定義,透明基體12相對於第2保護層20b的相對折射率nr3以nr3=(n3/n0)來定義。
此處,相對折射率nr2及相對折射率nr3與所述的相對折射率nr1同樣,只要處於0.86以上、1.15以下的範圍內即可,更佳為0.91以上、1.08以下。
再者,藉由將相對折射率nr2及相對折射率nr3的範圍限定為該範圍,從而可與相對折射率nr1的範圍的限定同樣地,進一步提高雲紋的視認性。
所述的本發明的第1實施形態的導電性膜10及第2實施形態的導電性膜11例如適用於在圖4(A)中示意性地表示的顯示單元30(顯示部)的觸控面板,在至少一視點處,具備相對於顯示單元30的畫素陣列圖案、詳細而言相對於各色的子畫素陣列圖案(參照圖4(B))而在雲紋視認性方面經最佳化的配線圖案。再者,本發明中,相對於包含各色的不同子畫素陣列圖案的畫素陣列圖案(BM圖案)而在雲紋視認性方面經最佳化的配線圖
案是指:在至少一視點處,相對於規定的畫素陣列圖案而雲紋不會被人類的視覺察覺到的1個或2個以上的一群的配線圖案。再者,本發明中,在經最佳化的2個以上的一群配線圖案中,可從最不會被察覺到的配線圖案直至難以被察覺到的配線圖案為止進行排序,亦可確定最不會被察覺到雲紋的一個配線圖案。
再者,關於配線圖案相對於規定的畫素陣列圖案的雲紋視認性的最佳化,將於後文進行敍述,所述規定的畫素陣列圖案包含各色的不同子畫素陣列圖案。
本發明的導電性膜基本以如上方式構成。
圖4(A)及圖4(B)是分別示意性地表示適用本發明的導電性膜的顯示單元的畫素陣列圖案的一例的概略說明圖及其一部分的局部放大圖。
如圖4(A)所示,在顯示單元30中,多個畫素32呈矩陣(matrix)狀地排列而構成規定的畫素陣列圖案。如圖4(A)所示,一個畫素32是由三個子畫素(紅色子畫素32r、綠色子畫素32g及藍色子畫素32b)沿水平方向排列而構成。
在本發明中,必須滿足下述三個條件中的任一條件,即:顯示單元的畫素陣列圖案中,一畫素內的多個、圖示例中為三個子畫素內的至少兩個子畫素具有不同的形狀;或者對於一畫素內的多個(三個)子畫素內的至少兩個而言,由各子畫素的陣列所形成的子畫素陣列圖案的週期不同;或者一畫素內的多個(三個)子畫素並未沿一個方向排列成一行。再者,本發明中,子畫素陣
列圖案的週期、即子畫素(彩色濾光片)的週期亦包含一畫素內的子畫素的週期。
圖4(B)所示的示例中,子畫素32r採用沿圖中y(垂直)方向設為縱長的菱形形狀,且配置在正方形的畫素32的圖中左側,子畫素32g採用圓形狀,且配置在畫素32的圖中右下側,子畫素32b採用矩形狀(正方形狀),且配置在畫素32的圖中右上側。圖4(A)及圖4(B)所示的顯示單元30相當於其畫素陣列圖案38的一畫素內的三個子畫素32r、32g及32b的樣式不同、強度不同的情況,且相當於一畫素內的多個(三個)子畫素並未沿一個方向排成一行的情況。
圖示例中,畫素32的水平方向的陣列間距(水平畫素間距Ph)與畫素32的垂直方向的陣列間距(垂直畫素間距Pv)設為大致相同,可以畫素間距Pd來表示。即,畫素區域36呈正方形,該畫素區域36包含:包括一個畫素32的三個子畫素32r、32g及32b的區域;以及包圍該些子畫素32r、32g及32b的黑矩陣(BM)34(圖案材料)。再者,畫素區域36對應於一個畫素32,故以下將畫素區域36亦稱作畫素。
再者,畫素間距Pd(水平及垂直畫素間距Ph、Pv)只要是與顯示單元30的解析度相應的間距,則為任何間距皆可,例如可列舉84μm~264μm的範圍內的間距。
再者,圖示例中,一個畫素內的子畫素32r、32g、32b的形狀分別為菱形、圓形、正方形,但本發明並不限定於此,只
要並非為具備圖5(A)所示的畫素陣列圖案38a者,即,只要是滿足所述三個條件中的至少一個者,則為任何形狀皆可,所述畫素陣列圖案38a是由相同樣式的三個子畫素沿圖中水平方向排列成一行的一個畫素32沿著圖中水平方向及垂直方向反覆排列而成,且子畫素(彩色濾光片)的週期及強度在RGB這三個子畫素中全部相同。
例如,既可為圖5(B)~圖5(D)所示的被稱作銷瓦(pin tile)結構的開口形狀的子畫素(彩色濾光片)32r、32g、32b,亦可為後述的圖8(A)所示的開口形狀的子畫素(彩色濾光片)32r、32g、32b,抑或可為具備包含該些子畫素32r、32g、32b的子畫素陣列圖案者。
如圖5(B)所示,畫素32的三個子畫素32r、32g、32b的樣式亦可不同(形狀為長方形但大小不同)。此時,相當於強度不同的情況。再者,此時,可以說子畫素的週期相同。
即,圖5(B)所示的示例中,將此種樣式不同的三個子畫素32r、32g、32b作為一畫素而形成畫素陣列圖案38b,三個子畫素32r、32g、32b各自的子畫素陣列圖案的週期均與畫素陣列圖案38b的週期相同。
再者,本發明中,子畫素的形不同被定義為:不僅包含子畫素的形狀不同的情況,亦包含子畫素的大小不同的情況。
而且,亦可如圖5(C)所示,三個子畫素32r、32g、32b的樣式相同,但子畫素32g與子畫素32r、32b的重複週期(子
畫素陣列圖案的週期)不同。本例中,子畫素32g的週期為子畫素32r、32b的週期的一半。再者,此時,可以說子畫素的強度相同。
即,圖5(C)所示的示例中,將兩個子畫素32g與子畫素32r、32b這四個子畫素作為一畫素32而形成畫素陣列圖案38c,子畫素32r、32b各自的子畫素陣列圖案的週期均與畫素陣列圖案38b的週期相同,但子畫素32g的子畫素陣列圖案的週期為畫素陣列圖案38b的週期的一半。
進而,如圖5(D)所示,亦可為子畫素32g與子畫素32r、32b的重複週期(子畫素圖案的週期)與樣式(無論是形狀抑或是大小)皆不同。此時,相當於子畫素的週期及強度皆不同的情況。
即,圖5(D)所示的示例中,與圖5(C)所示的示例同樣地,將兩個子畫素32g與子畫素32r、32b這四個子畫素作為一畫素32而形成畫素陣列圖案38d,子畫素32r、32b各自的子畫素陣列圖案的週期均與畫素陣列圖案38b的週期相同,但子畫素32g的子畫素陣列圖案的週期為畫素陣列圖案38b的週期的一半。
根據以上的說明,圖5(A)~圖5(D)所示的畫素32的子畫素32r、32g、32b的子畫素陣列圖案可以如下方式定義。
再者,子畫素32r、32g、32b的開口形狀存在各種形狀,因此本發明中,如在圖4(B)的子畫素32r中所示,以長方形來包圍子畫素的開口的最外廓,將內包開口的長方形的重心定義為開
口的重心。
如圖4(B)所示,當將三個子畫素32g、32r、32b的長方形狀開口的重心位置分別在xy座標上以(Ggx,Ggy)、(Grx,Gry)、(Gbx,Gby)來表示,且將畫素間距設為Pd時,在圖5(A所示的示例中,對於子畫素32g、32r、32b的各畫素而言,在x方向上鄰接的第n-1個畫素、第n個畫素以及在y方向上鄰接的第m-1個畫素、第m個畫素中,滿足下述式(4)。
Ggx(n)=Ggx(n-1)+Pd (x方向) Ggy(m)=Ggy(m-1)+Pd (y方向) Grx(n)=Ggx(n)+Pd/3=Grx(n-1)+Pd (x方向) Gry(m)=Gry(m-1)+Pd (y方向) Gbx(n)=Grx(n)+Pd/3=Ggx(n)+2Pd/3=Gbx(n-1)+Pd (x方向) Gby(m)=Gry(m-1)+Pd (y方向)......(4)
再者,本發明中,作為誤差,允許畫素間距Pd的10%,亦可偏離10%。
例如,相對於子畫素32g,子畫素32r及子畫素32b的位置可以下述式(5)來表示。
Grx(n)=Ggx(n)+Pd/3(1-1/10)~Ggx(n)+Pd/3(1+1/10)
=Ggx(n)+3Pd/10~Ggx(n)+11Pd/30 Gry(m)=Gry(m-1)+Pd(1-1/10)~Gry(m-1)+Pd(1+1/10)=Gry(m-1)+9Pd/10~Gry(m-1)+11Pd/10 Gbx(n)=Ggx(n)+2Pd/3(1-1/10)~Ggx(n)+2Pd/3(1+1/10)=Ggx(n)+3Pd/5~Ggx(n)+11Pd/15 Gby(m)=Gby(m-1)+Pd(1-1/10)~Gby(m-1)+Pd(1+1/10)=Gby(m-1)+9Pd/10~Gby(m-1)+11Pd/10......(5)
以上的式是圖5(A)所示的現有情況,因此本發明的子畫素陣列圖案在子畫素32g、子畫素32r及子畫素32b依此順序沿x方向排列時,可以說是不滿足所述式(5)的範圍,且可以說是滿足下述式(6)所示的不等式的範圍。
Ggx(n)+3Pd/10<Grx(n)<Ggx(n)+11Pd/30 Gry(m-1)+9Pd/10<Gry(m)<Gry(m-1)+11Pd/10 Ggx(n)+3Pd/5<Gbx(n)<Ggx(n)+11Pd/15 Gby(m-1)+9Pd/10<Gby(m)<Gby(m-1)+11Pd/10......(6)
根據以上所述,關於本發明的子畫素陣列圖案,較佳為,對於RGB等多色內的互不相同的至少兩色而言,子畫素的樣式不同者以及由各色的子畫素的陣列所形成的子畫素陣列圖案的
週期不同者中的至少一者是指:對於RGB等多色內的任意兩色而言,滿足下述中的任一個,即,在其中一個方向、例如在x方向上,當將畫素陣列圖案的畫素間距設為Pd時,其中一色的子畫素的重心位置與另一色的子畫素的重心位置之差小於3Pd/10,或大於11Pd/30且小於3Pd/5,或大於11Pd/15;或者,對於多色內的任一色而言,滿足下述中的任一個,即,在與其中一個方向垂直的方向、例如在y方向上,該一色的子畫素的重心位置與鄰接畫素的該一色的子畫素的重心位置之差小於9Pd/10,或大於11Pd/10。
由圖4(B)可明確的是,包含多個畫素32的各個子畫素32r、32g及32b的畫素陣列圖案38亦可由分別包圍該些子畫素32r、32g及32b的BM 34的BM圖案來規定。將顯示單元30與導電性膜10或導電性膜11重疊時產生的雲紋是因顯示單元30的BM 34的BM圖案與導電性膜10或導電性膜11的配線圖案24的干涉而產生,因此,嚴格而言,BM圖案是畫素陣列圖案38的反轉圖案,但此處作為表示同樣圖案情況進行處理。
當在具有BM圖案38的顯示單元30的顯示面板上,例如配置導電性膜10或導電性膜11時,所述BM圖案38包含對所述RGB子畫素陣列圖案進行定義的BM 34,導電性膜11的配線圖案24相對於包含RGB子畫素陣列圖案的BM(畫素陣列)圖案38而在雲紋視認性方面經最佳化,因此幾乎沒有畫素32的排列週期與導電性膜10或導電性膜11的金屬細線14的配線排列之間的
空間頻率的干涉,雲紋的產生得以抑制。
再者,圖4(A)、圖4(B)所示的顯示單元30亦可由液晶面板、電漿面板、有機EL面板、無機EL面板等顯示面板構成。
接下來,對於裝入有本發明的導電性膜的顯示裝置,參照圖6來進行說明。圖6中,作為顯示裝置40,列舉裝入有本發明的第2實施形態的導電性膜11的投影型靜電電容式觸控面板為代表例來進行說明,但本發明當然不限定於此。
如圖6所示,顯示裝置40具有:顯示單元30(參照圖4(A)),可顯示彩色(color)圖像及/或單色(monochrome)圖像;觸控面板44,檢測來自輸入面42(箭頭Z1方向側)的接觸位置;以及框體46,收容顯示單元30及觸控面板44。經由框體46的一面(箭頭Z1方向側)上所設的大的開口部,用戶(user)可對觸控面板44進行接觸(access)。
觸控面板44除了所述導電性膜11(參照圖1及圖3)以外,還具備積層於導電性膜11的一面(箭頭Z1方向側)上的罩(cover)構件48、經由電纜(cable)50而電性連接於導電性膜11的撓性(flexible)基板52、及配置於撓性基板52上的檢測控制部54。
在顯示單元30的一面(箭頭Z1方向側)上,經由黏著層56而黏著有導電性膜11。導電性膜11是使另一主面側(第2導電部16b側)相向於顯示單元30而配置於顯示畫面上。
罩構件48包覆導電性膜11的一面,藉此發揮作為輸入
面42的功能。而且,藉由防止接觸體58(例如手指或輸入筆(stylus pen))的直接接觸,可抑制劃痕的產生或塵埃的附著等,可使導電性膜11的導電性變得穩定。
罩構件48的材質例如亦可為玻璃、樹脂膜。亦可使罩構件48的一面(箭頭Z2方向側)在經氧化矽等塗佈(coat)的狀態下,密接於導電性膜11的一面(箭頭Z1方向側)。而且,為了防止因摩擦等造成的損傷,亦可將導電性膜11及罩構件48予以貼合而構成。
撓性基板52是具備可撓性的電子基板。本圖示例中,該撓性基板52被固定於框體46的側面內壁,但配設位置亦可進行各種變更。檢測控制部54構成下述電子電路,即,當使作為導體的接觸體58接觸(或接近)輸入面42時,捕捉接觸體58與導電性膜11之間的靜電電容的變化,以檢測該接觸位置(或接近位置)。
適用本發明的導電性膜的顯示裝置基本上以如上方式構成。
接下來,對在本發明中,導電性膜的配線圖案相對於顯示裝置的規定畫素陣列(BM)圖案的雲紋視認性的最佳化的程序進行說明。即,說明對在本發明的導電性膜中,以如下方式進行了最佳化的配線圖案進行評價並確定的程序,即,在至少一視點處,相對於顯示裝置的規定畫素陣列(BM)圖案而雲紋不會被人類的視覺察覺到。
圖7是表示本發明的導電性膜的評價方法的一例的流程圖。
本發明的導電性膜的配線圖案的評價方法是:從藉由使用顯示裝置的顯示單元的BM(畫素陣列)圖案的多色(例如RGB)的各色的子畫素陣列圖案與導電性膜的配線圖案的高速傅立葉轉換(FFT)的頻率分析而獲得的雲紋的頻率、強度中,選出具備根據顯示單元的顯示解析度而規定的雲紋的最高頻率以下的頻率及規定強度的針對各色的雲紋(頻率、強度),使人類的視覺響應特性對應於觀察距離而作用於所選出的針對各色的各個雲紋頻率中的雲紋強度,而分別獲得各色的雲紋的評價值,根據所獲得的多個雲紋的評價值算出雲紋評價指標,將算出的雲紋評價指標滿足預先設定的條件的配線圖案評價並確定為以雲紋不會被視認到的方式經最佳化的配線圖案。本發明的該方法中,對於雲紋的頻率/強度,一般利用FFT,但對象物的頻率/強度會視利用方法而大幅變化,因此規定以下的程序。
本發明中,首先,作為一個視點,只要考慮從正面觀察顯示裝置的顯示單元的顯示畫面的情況即可,但本發明並不限定於此,只要可提高從至少一個視點觀察時的雲紋的視認性,則從任一視點觀察皆可。
當然,本發明中,較佳為考慮從正面觀察顯示畫面的情況與從斜向觀察顯示畫面的情況。
以下,對下述情況進行說明,即,如圖7所示,考慮到正面觀察時與斜向觀察時,且拍攝是對於將RGB三色作為子畫素的BM(畫素陣列)圖案,針對各色中的每一色來進行。
在本發明的方法中,首先,最初作為程序1,從拍攝圖像獲取RGB亮度畫素資訊(標準化亮度圖像資料)。
即,如圖7所示,首先,在步驟S10中,針對RGB各色中的每一色,拍攝顯示裝置的顯示單元的顯示畫面(各色的子畫素陣列圖案的圖像)。
該步驟S10中,首先使顯示裝置40的顯示單元30對應於RGB各色中的每一色而點燈。此時,較佳為在發光側(顯示裝置40)的設定變更中可進行的範圍內將亮度設為最大。
繼而,在RGB各色各自的子畫素點燈狀態下進行子畫素圖像的拍攝。即,使用顯微鏡,對圖8(A)所示的顯示單元30的畫素陣列圖案38的子畫素(RGB彩色濾光片)32r、32g、32b各自的透過光進行拍攝。在拍攝時,較佳為使顯微鏡的白平衡與麥克伯圖(Macbeth chart)的白一致。
在圖8(A)所示的畫素陣列圖案38中,G子畫素32g是細長的長方形,R子畫素32r是與G子畫素32g相比寬度寬而長度短的長方形,B子畫素32b是寬度與R子畫素32r相同且具備與G子畫素32g相同的長度,且在圖中右下方具備小的正方形切口的矩形。G子畫素32g以必然介隔在R子畫素32r與B子畫素32b之間的方式而配置,具備R子畫素32r及B子畫素32b的重複週期的1/2的重複週期。在該畫素陣列圖案38中,一畫素32是由虛線所包圍的正方形的區域。
用於拍攝的顯微鏡、鏡頭(lens)、相機(camera)並無特別
限制,例如顯微鏡可使用STM6(奧林帕斯(OLYMPUS)公司製造),鏡頭可使用UMPlanFlx10(奧林帕斯公司製造),相機可使用QIC-F-CLR-12-C(林卡姆科學儀器(Linkam Scientific Instruments)公司製造)。此時,拍攝條件例如可設為增益(gain)1.0、白平衡(G、R、B)為(1.00、2.17、1.12)。再者,較為理想的是,對拍攝圖像進行陰影(shading)修正。
繼而,在步驟S12中,從拍攝所得的各色的子畫素陣列圖案的圖像的拍攝圖像資料轉換為各色(RGB)的亮度值,以G=1.0為基準來製作RGB的亮度資料(合計三種)。
從拍攝圖像向亮度值的轉換是:當設紅的圖像資料為R、綠的圖像資料為G、藍的圖像資料為B、亮度值為Y時,使用下述的轉換式(1)來算出Y(亮度值),以製作R、G、B彩色濾光片圖像(亮度比圖像)。
Y=0.300R+0.590G+0.110B......(1)
將如此般獲得的G子畫素(彩色濾光片)圖像(亮度比圖像)的最大值設為1.0(=0.25 * 255)、即設為基準,對R、G、B子畫素的亮度圖像進行標準化,藉此來製作RGB子畫素各自的標準化亮度圖像(圖像資料)。
將如此般獲得的G、R、B標準化亮度圖像38g、38r、38b分別示於圖8(B)、圖8(C)及圖8(D)。
拍攝顯示單元30的RGB子畫素陣列圖案以獲取RGB亮度畫素資訊(標準化亮度圖像資料)的方法並不限定於此,亦可使用分光計來進行各子畫素圖像的分光頻譜的測量,並使用測量所得的分光頻譜資料來進行亮度轉換。
例如,亦可如以下般利用分光計來製作RGB子畫素(BM)輸入資料(input data)。
1.當使顯示單元30的RGB子畫素分別以單色點燈,並以分光計進行測量時,對於RGB,例如可獲得圖9所示的分光頻譜資料。
2.繼而,由RGB單色點燈時利用BM顯微鏡所拍攝並分別獲得的拍攝圖像的圖像資料來製作遮罩圖像。遮罩圖像的製作方法是:在G通道的情況下,對於拍攝圖像資料的G通道,算出點燈BM的畫素尺寸下的平均值,將該值作為臨限值而求出遮罩資料,並製作遮罩圖像。
3.繼而,對於在所述2.中獲得的遮罩圖像的(0,1)遮罩資料的1的部位,以將在所述1.中獲得的頻譜資料乘以圖10所示的XYZ配色函數所得者的積分值進行置換。例如,當製作G子畫素的輸入資料時,只要求出圖9所示的G的分光頻譜資料G與圖10所示的XYZ配色函數的亮度Y的分光頻譜資料Y之積(G×Y)即可,當製作B子畫素的輸入資料時,只要求出圖9所示的B的分光頻譜資料B與圖10所示的XYZ配色函數的亮度Y的分光頻譜資料Y之積(B×Y)即可。R子畫素的輸入資料亦只要同樣地
製作即可。此時,所算出的亮度Y與分光計的感測器內所含的畫素數及子畫素的開口面積成比例,因此以畫素數與開口面積來標準化而給出。這是因為,在將子畫素視為無限小的光源的集合時,宏觀(macro)的亮度可被認為是子畫素的開口面積×感測器中所含的畫素數。
4.繼而,對於所獲得的RGB子畫素的輸入資料,以G子畫素的輸入資料的最大值成為1.0的方式,對R與B的輸入資料進行標準化。
如此,可獲取RGB亮度畫素資訊(標準化亮度圖像資料)。
接下來,作為程序2,對於在程序1(步驟S10及步驟S12)中製作而成的子畫素的標準化亮度圖像資料,進行二維高速傅立葉轉換(2DFFT(底數2)),算出峰值頻率、強度。
即,如圖7所示,在步驟S14中,針對RGB各色中的每一色,對BM圖案38的各色的子畫素陣列圖案(BM圖案)的圖像資料進行2DFFT,算出傅立葉頻譜。
在該步驟S14中,首先,對於在程序1(步驟S10及步驟S12)中獲得的各色的標準化亮度圖像,針對各色中的每一色,藉由雙線性(bilinear)插值而設為高解析度即解析度12700dpi,從而將標準化亮度圖像的圖像尺寸以雙三次(bicubic)轉換為109pix(畫素)×109pix(畫素)。再者,只要拍攝光學系統的解析度為已知,便可據此算出該些數值。
繼而,針對RGB各色中的每一色,將圖像尺寸為109
pix×109pix且解析度為12700dpi的標準化亮度圖像反覆複製(copy)接近圖像尺寸20000pix×20000pix的整數倍(183次),製作雲紋評價用亮度圖像資料。
對如此般獲得的雲紋評價用亮度圖像資料進行2DFFT,獲得峰值頻率及其峰值強度。此處,峰值強度是作為傅立葉頻譜的絕對值來進行處理。
針對RGB各色而反覆進行該處理。此時,若全部使用對雲紋無幫助的強度小者,則不僅計算變得繁瑣,而且精度提高的效果亦會飽和,因此較佳為在強度上設置臨限值。例如,較佳為僅採用以常用對數計而大於-2.2(log10(強度)>-2.2)者。
將如此般獲得的G色(子畫素陣列圖案)的亮度圖像資料的二維傅立葉頻譜的強度特性的一例示於圖11(A)。
接下來,作為程序3,對於網狀配線圖案的透過率圖像資料進行2DFFT,算出峰值頻率、強度。
即,如圖7所示,在步驟S16中,對於導電性膜11的網狀配線圖案(網圖案)24的透過率圖像資料進行2DFFT,算出傅立葉頻譜。
在該步驟S16中,首先,製作網圖案24的圖像(透過率圖像資料)。即,製作並獲取導電性膜11的網狀配線圖案24(金屬細線14)(參照圖1)的透過率圖像資料。再者,在預先準備或保存有網圖案24的透過率圖像資料的情況下,亦可從所準備或保存的資料中獲取。
網圖案24例如如圖1所示,可採用成為配線的金屬細線14相對於水平線而傾斜規定角度、例如傾斜小於45°[deg]的角度的菱形圖案,但如上所述,配線圖案的開口形狀為任何形狀皆可,例如亦可為後述的圖18(B)~圖18(D)所示的正六邊形或正方格子,當然,正方格子亦可為傾斜45°[deg]的正方格子。
而且,在製作網圖案24的透過率圖像資料時,例如將其解析度設為與畫素陣列(BM)圖案38的解析度相同的12700dpi,並對透過率圖像資料的尺寸進行規定,例如與BM圖案38同樣地,將畫素尺寸設為接近20000pix×20000pix的網圖案24的尺寸(例如109pix×109pix)的整數倍。
繼而,對於如此般製作的網圖案24的各透過率圖像資料進行2DFFT(底數2)處理,算出網圖案24的各透過率圖像資料的二維傅立葉頻譜的多個頻譜峰值的峰值頻率及峰值強度。此處,峰值強度是作為絕對值來進行處理。為了簡化計算,例如對於強度的臨限值,較佳為僅對以常用對數計而大於-2.0者進行處理。
將如此般獲得的網圖案24的各透過率圖像資料的二維傅立葉頻譜的強度特性的一例示於圖11(B)。
如上所述,圖11(A)及圖11(B)是分別表示BM圖案38的G色(子畫素陣列圖案)的亮度圖像資料及網圖案24的各透過率圖像資料的二維傅立葉頻譜的強度特性的圖。
再者,在圖11(A)及圖11(B)中,白色部分的強度高,
表示頻譜峰值,因此根據圖11(A)及圖11(B)所示的結果,對於BM圖案38的RGB三色的子畫素陣列圖案及網圖案24,分別算出各頻譜峰值的峰值頻率及峰值強度。即,圖11(A)及圖11(B)中分別所示的BM圖案38的各子畫素陣列圖案及網圖案24的二維傅立葉頻譜的強度特性中的頻譜峰值在頻率座標上的位置、即峰值位置表示峰值頻率,該峰值位置處的二維傅立葉頻譜的強度為峰值強度。
此處,BM圖案38的各子畫素陣列圖案及網圖案24的各頻譜峰值的峰值頻率及強度是以下述方式同樣地算出並獲取。以下進行匯總說明。
首先,在獲取峰值頻率時,在峰值的算出時,由BM圖案38的各子畫素陣列圖案及網圖案24的基本頻率求出頻率峰值。這是因為,進行2DFFT處理的亮度圖像資料及透過率圖像資料為離散值,因此峰值頻率依存於圖像尺寸的倒數。頻率峰值位置如圖12所示,能以獨立的二維基本頻率向量(vector)成分及為基礎來組合地表示。因此,所獲得的峰值位置當然呈格子狀。
即,如圖13(A)所示,BM圖案38的各子畫素陣列圖案及網圖案24的頻譜峰值在頻率座標fxfy上的位置、即峰值位置,是作為將圖案間距的倒數(1/p(間距(pitch)))作為格子間隔的頻率座標fxfy上的格子狀點的位置而給出。
再者,圖12是表示BM圖案38的G色的子畫素陣列圖案的情況下的頻率峰值位置的曲線圖,網圖案24亦可同樣地求出。
另一方面,在獲取峰值強度時,在所述峰值頻率的獲取時求出峰值位置,因此獲取峰值位置所具備的二維傅立葉頻譜的強度(絕對值)。此時,對數位資料(digital data)進行FFT處理,因此存在峰值位置跨及多個畫素(像素(pixel))的情況(case)。例如,當二維傅立葉頻譜的強度(Sp)特性是以圖14(A)所示的曲線(類比(analog)值)來表示時,經數位處理的相同的二維傅立葉頻譜的強度特性是以圖14(B)所示的柱狀圖(數位值)來表示,但圖14(A)所示的二維傅立葉頻譜的強度的峰值P在對應的圖14(B)中跨及兩個畫素。
因此,當獲取存在於峰值位置的強度時,如圖13(B)所示,較佳為,將包含峰值位置周邊的多個畫素的區域內的多個畫素的頻譜強度自上位算起的多個點、例如7×7畫素的區域內的畫素的頻譜強度自上位算起的五個點的強度(絕對值)的合計值設為峰值強度。
此處,較佳為,所獲得的峰值強度以圖像面積(圖像尺寸)而標準化。例如,較佳為預先以所述的圖像尺寸而標準化(巴色伐定理(Parseval's theorem))。
接下來,作為程序4,根據在程序2(步驟S14)中獲得的RGB各色的子畫素陣列圖案的峰值頻率及峰值強度、與在程序3(步驟16)中獲得的網圖案24的峰值頻率及峰值強度,來算出雲紋的頻率及強度。
即,如圖7所示,在步驟S18中,根據在步驟S14及步驟S16
中分別算出的BM圖案38的RGB各色的子畫素陣列圖案及網圖案24這兩者的二維傅立葉頻譜的峰值頻率及峰值強度,針對各色分別算出雲紋的頻率及強度。再者,此處,峰值強度及雲紋的強度亦是作為絕對值來進行處理。
在實空間中,雲紋原本是因網圖案24與BM圖案38的各色的子畫素陣列圖案的圖像資料(透過率圖像資料與亮度圖像資料)的乘法而引起,因此在頻率空間中進行兩者的卷積積分(卷積(convolution))。然而,在步驟S14及步驟S16中,算出了BM圖案38的各色的子畫素陣列圖案及網圖案24這兩者的二維傅立葉頻譜的峰值頻率及峰值強度,因此可求出RGB中的一色的子畫素陣列圖案與網圖案24這兩者各自的頻率峰值彼此的差值(差的絕對值),將求出的差值作為雲紋的頻率,求出兩者組合而成的兩組向量強度的積,並將求出的積作為雲紋的強度(絕對值)。
該些雲紋的頻率及雲紋的強度是針對RGB各色中的每一色而求出。
此處,關於圖11(A)及圖11(B)分別所示的BM圖案38的各色的子畫素陣列圖案與網圖案24這兩者的二維傅立葉頻譜的強度特性中各自的頻率峰值彼此的差值,在針對各色而將兩者的二維傅立葉頻譜的強度特性重合而獲得的強度特性中,相當於兩者各自的頻率峰值在頻率座標上的峰值位置間的相對距離。
再者,BM圖案38的各色的子畫素陣列圖案與網圖案24這
兩者的二維傅立葉頻譜的頻譜峰值對應於各色中的每一色而分別存在多個,因此作為其相對距離的值的頻率峰值彼此的差值、即雲紋的頻率亦會求出多個。因此,若兩者的二維傅立葉頻譜的頻譜峰值存在多個,則求出的雲紋的頻率亦為多個,且求出的雲紋的強度亦為多個。
然而,若求出的雲紋頻率中的雲紋的強度弱,則雲紋不會被視認到,因此較佳為,僅對將雲紋強度視為弱時的規定值或比其規定值大的雲紋、例如強度為-4.5以上的雲紋進行處理。
而且,此處,在顯示裝置中,顯示器解析度已確定,因此顯示器可顯示的最高頻率相對於其解析度而被確定。因此,具備比該最高頻率高的頻率的雲紋將不會被顯示在該顯示器上,因此無須作為本發明中的評價對象。因而,可根據顯示器解析度來規定雲紋的最高頻率。此處,在將顯示器的畫素陣列圖案的畫素間距設為Pd(μm)時,本發明中應考慮的雲紋的最高頻率可設為1000/Pd(cycle/mm)。
根據以上所述,本發明中,在根據兩者的二維傅立葉頻譜的頻譜峰值而求出的雲紋的頻率及強度中設為本發明中的評價對象的雲紋,是雲紋的頻率具備根據顯示器解析度而規定的雲紋的最高頻率1000/Pd以下的頻率的雲紋,且是雲紋的強度為-4.5以上的雲紋。本發明中,將雲紋的強度為-4.5以上的雲紋作為對象的理由是:強度小於-4.5的雲紋亦會大量產生,若取合計值,則評分至原本便不可見的雲紋為止。因此,本發明中,根據經驗上的視
認極限而設置-4.5以上這一臨限值。
再者,若兩者的二維傅立葉頻譜的頻譜峰值存在多個,則求出的雲紋的頻率亦為多個,從而計算處理須耗費時間。此種情況下,亦可預先在兩者的二維傅立葉頻譜的頻譜峰值中,分別將峰值強度較弱者除外,而僅選定一定程度上峰值強度較強者。此時,僅求出所選定的峰值彼此的差值,因此可縮短計算時間。
例如,作為對象,可僅對在設觀察距離為400mm而將視覺傳達函數(Visual Transfer Function,VTF)(低頻為1.0)卷積至雲紋頻譜後為-3.8以上者進行處理。
此處,為了僅提取人眼可見的雲紋,依據系統內的散射效果,代用相當於400mm觀察距離的VTF。
如此,可將剩餘的頻譜峰值作為雲紋評價用頻譜峰值。此時,頻譜強度較佳為僅使用以常用對數計為-3.8以上的峰值。
將如此般求出的雲紋頻率及雲紋的強度示於圖15。圖15是示意性地表示因圖8(A)所示的畫素陣列圖案與圖1所示的配線圖案的干涉所產生的雲紋的頻率及雲紋的強度的概略說明圖,亦可稱作圖11(A)及圖11(B)所示的二維傅立葉頻譜的強度特性的卷積積分的結果。
在圖15中,雲紋的頻率是藉由縱橫軸上的位置來表示,雲紋的強度是以灰色(gray)(無彩色)的濃淡來表示,色越濃,則表示雲紋的強度越小,色越淡即越白,則表示雲紋的強度越大。
接下來,作為程序5,使用在程序4(步驟S18)中算出
的RGB各色的每個子畫素的雲紋的頻率及強度,進行雲紋的數值化,來求出雲紋評價指標。
即,如圖7所示,在步驟S20中,將視覺傳達函數(Visual Transfer Function,VTF)卷積至在步驟S18中剩餘的雲紋評價用頻譜峰值而進行量化。
具體而言,在步驟S20中,分別使下述式(2)所表示的表示人類視覺響應特性的一例的相當於750mm觀察距離的人類視覺響應特性(VTF)作用於在步驟S18中獲得的RGB各色的每個子畫素的雲紋的頻率及強度(絕對值),即進行卷積積分,算出各色中的每一色的多個雲紋的評價值(副評價值)。此處,為了進行雲紋的評分,代用相當於750mm觀察距離的VTF。
如此,針對RGB各色中的每一色,求出採用強度的常用對數的雲紋的副評價值,將RGB的雲紋的副評價值中的最差值作為雲紋評價指標(雲紋值)。雲紋評價指標的值亦是以常用對數來表示,是作為以雲紋評價指標的常用對數來計的值(常用對數值)而求出。再者,較佳為,伴隨最差值的計算,評價圖像亦在RGB顯示中一併進行評價。
其中,u為以立體角而定義的空間頻率(cycle/deg),以所述式(2)來表示,fr為以長度來定義的空間頻率(cycle/mm),L為觀察距離(mm)。
所述式(2)所示的視覺傳達函數被稱作多利.肖(Dooley-Shaw)函數,可藉由參照參考文獻(R.P.多利、R.肖:電子照相術中的雜訊感知(Noise Perception in Electrophotography),「照相術工程應用期刊(J.Appl.Photogr.Eng.)」,5,4(1979),pp.190-196.)的記載而求出。
以上的雲紋評價指標是從顯示畫面的正面觀察積層於顯示器40的顯示單元30的顯示畫面上的導電性膜11的情況,但本發明並不限定於此,亦可求出相對於正面而從斜向進行觀察時的雲紋評價指標。
再者,在求出從斜向觀察時的雲紋評價指標的情況下,以正面觀察時的亮度的90%來計算斜向觀察時的顯示器40的RGB的強度,並返回步驟S14,再次算出各色的傅立葉頻譜的峰值頻率.強度。隨後,同樣重複步驟S16~步驟S20,算出斜向觀察時的雲紋評價指標。
如此,當在步驟S22中,算出正面觀察時及斜向觀察時的雲紋評價指標時,在步驟S24中,算出正面觀察時及斜向觀察時的雲紋評價指標內大的值(最差值),以作為供雲紋評價的雲紋評價指標。
再者,在僅進行正面觀察時及斜向觀察時中的一者的情況下,正面觀察時或斜向觀察時的雲紋評價指標直接成為供雲紋評價的雲紋評價指標。
接下來,作為程序6,基於在程序5(步驟S24)中算出的雲紋評價指標(最差值)來進行配線圖案的評價。
即,如圖7所示,在步驟S26中,若在步驟S24中求出的該網圖案24的雲紋評價指標的常用對數值為規定的評價臨限值以下,則將該網圖案24評價為本發明的導電性膜11經最佳化的網圖案24,並設定為經最佳化的網圖案24,從而評價為本發明的導電性膜11。
再者,將雲紋評價指標的值以常用對數來限定為規定的評價臨限值以下的理由是:若大於規定的評價臨限值,則會視認到存在因重疊的配線圖案與BM圖案各子畫素陣列圖案的干涉所產生的雲紋,被視認到的雲紋會讓目測的用戶在意。若雲紋評價指標的值為規定的評價臨限值以下,則即便有些在意,但不會太在意。
此處,規定值是對應於導電性膜及顯示裝置的性狀,具體而言,是對應於網圖案24的金屬細線14的線寬、開口部22的形狀或其尺寸(間距等)或角度、兩個導電層的配線圖案的相位角(旋轉角、偏移角)等、及BM圖案38的形狀或其尺寸(間距等)或配置角度等來適當設定,例如較佳為以常用對數計為-2.70(以反對數計為10-2.70)以下。即,雲紋評價指標的值例如較佳為以常用對數計為-2.70(以反對數計為10-2.70)以下,進而較佳為
以常用對數計為-2.80以下,更佳為以常用對數計為-3.00以下即可。
再者,詳細情況後述,但對於多個網圖案24而言,以模擬樣品(simulation sample)及實際樣品求出雲紋評價指標,三名官能評價者藉由目測來對因網圖案24與BM圖案的RGB三色的各色的子畫素陣列圖案的干涉造成的雲紋進行官能評價,若雲紋評價指標以常用對數計為-2.70以下,則即使因重疊的配線圖案與BM圖案的RGB三色的各色的子畫素陣列圖案的干涉而產生的雲紋被視認到,亦為儘管有些在意但不會太被人在意的等級(level)以上,若以常用對數計為-2.80以下,則為基本上不會被人在意的等級以上,若以常用對數計為-3.00以下,則為不會被人在意的等級。
因此,本發明中,對於雲紋評價指標,作為較佳的範圍,以常用對數計而指定為-2.70(以反對數計為10-2.70)以下,作為進而較佳的範圍,以常用對數計而指定為-2.80以下,作為更佳的範圍,以常用對數計而指定為-3.00以下。
當然,對應於網圖案24的金屬細線14的線寬、開口部22的形狀或其尺寸(間距或角度)、或者兩個導電層的配線圖案的相位角(旋轉角、偏移角)等,而獲得多個經最佳化的網圖案24,而雲紋評價指標的常用對數值小者為最佳的網圖案24,亦可對多個經最佳化的網圖案24進行排序。
如此,本發明的導電性膜的配線評價方法結束,可製作具備
經最佳化的配線圖案的本發明的導電性膜,所述配線圖案即便重疊於顯示裝置的顯示單元的BM圖案的各色的子畫素陣列圖案,亦可抑制雲紋的產生,且即便對於不同解析度的顯示裝置,而且,不論觀察距離如何,雲紋的視認性均優異。
再者,在所述圖3所示的本發明的導電性膜11的示例中,在導電層28b中,未形成第2導電部16b以外的部分,但本發明並不限定於此,亦可如圖16所示的導電性膜11A般,與導電層28a同樣地,在與第1導電部16a的多根金屬細線14對應的位置,設置與第2導電部16b電性絕緣的虛設電極部26。此時,可使導電層28a的配線圖案24與導電層28b的配線圖案24相同,從而可進一步改善電極視認性。
而且,在圖16所示的示例中,導電層28a與導電層28b具備相同的配線圖案24,且不偏移地重疊而形成一個配線圖案24,但兩導電層28a及導電層28b各自的配線圖案只要滿足本發明的評價基準,則可重疊於偏移的位置,且各配線圖案自身亦可不同。
而且,所述本發明的導電性膜具備包含連續的金屬細線的網狀配線圖案,但本發明並不限定於此,如上所述,只要滿足本發明的評價基準,則亦可如本申請人申請的日本專利特願2012-276175號說明書中記載的導電性膜的網狀配線圖案的圖案形狀般,為具備在金屬細線中加入有斷線(斷裂)的網狀配線圖案的導電性膜。
圖17是示意性地表示本發明的另一實施形態的導電性膜的
另一例的局部放大平面圖,是表示該網圖案的多個斷線部的一例的示意圖。再者,在圖17中,為了便於理解,以粗線表示導電性膜的網狀配線圖案中的電極配線圖案,以細線表示虛設電極圖案,但該些圖案是由相同的不透明的金屬細線所形成,在粗度上當然並無差異。
圖17所示的導電性膜11B在圖2所示的導電層28、圖3所示的導電層28a、或圖16所示的導電層28a及導電層28b中,分別具備包含多根金屬細線14的網狀配線21,詳細而言,網狀配線21具有以交叉的方式配設有雙方向的多根金屬細線14的配線圖案,即,具有呈網狀地排列有多根金屬細線14的網狀配線圖案24。於圖示例中,由配線圖案24所形成的開口部22的網形狀為菱形,可稱作菱形圖案(diamond pattern)。
網狀配線21具有:電極部23a,具備由多根金屬細線14以連續的方式形成為網狀的電極配線圖案24a;以及虛設電極部(非電極部)23b,具備虛設電極(非電極)配線圖案24b,該虛設電極(非電極)配線圖案24b是由多根金屬細線同樣地形成為網狀,並具備多個斷線部25,從而不連續,且該虛設電極部(非電極部)23b與電極部23a絕緣。此處,電極部23a的電極配線圖案24a與虛設電極部23b的虛設電極配線圖案24b是在圖示例中具備相同的網形狀(菱形)的配線圖案,兩者合成為網狀配線21的配線圖案24。
再者,電極部23a包含圖1所示的導電層28的導電部
16、圖3所示的導電層28a的第1導電部16a、圖16所示的導電層28a及導電層28b各自的第1導電部16a及第2導電部16b,虛設電極部(非電極部)23b包含圖3及圖16所示的虛設電極部26。
此處,圖示例的電極部23a的電極配線圖案24a是構成X電極的電極圖案,但本發明並不限定於此,只要是用於靜電電容式觸摸感測器(touch sensor)(面板)的電極圖案,則為任何者皆可,例如亦可為條狀(stripe)電極,條棒狀(bar and stripe)電極、菱形電極、雪花狀(snowflake)電極等現有公知的電極圖案。
在電極部23a中形成為網狀的金屬細線14不具備斷線部25而連續,與此相對,於虛設電極部23b中形成為網狀的金屬細線14中,設置有多個斷線部(切斷部)25,從而附加有多個斷線。在電極部23a中的金屬細線14與虛設電極部23b中的金屬細線14之間,必須設置有斷線部25,電極部23a的金屬細線14與虛設電極部23b的金屬細線14被斷開而不連續。即,虛設電極部23b與電極部23a電性絕緣。
根據以上所述,網狀配線21的配線圖案24成為包含多個斷線部25的網圖案。
(實施例)
以下,基於實施例來具體說明本發明。
針對圖8(A)所示的223dpi的顯示器的BM圖案38的子畫素32g、32r、32b的各子畫素陣列圖案,且對於具備圖18(A)所示的菱形圖案形狀且開口部22的形狀及尺寸(間距p及角度θ)
不同且金屬細線14的線寬不同的多個網圖案24,在模擬樣品及實際樣品中,將網圖案24與BM圖案38的各色的子畫素陣列圖案予以重疊,求出雲紋評價指標,並且由三名官能評價者藉由目測來對在雲紋的模擬圖像中因重疊的兩者的干涉所產生的雲紋進行官能評價。
此處,雲紋的評價是如圖7所示,將在步驟S16中使用的網圖案24的透過率資料重疊於在步驟S14中使用的畫素陣列(BM)圖案38的各色的子畫素陣列圖案的亮度圖像資料上,製作在亮度圖像上重疊有透過率圖像的雲紋的逆轉換圖像並顯示於顯示器上,由三名官能評價者目測所顯示的逆轉換圖像以進行官能評價。
將其結果示於表1。
此處,官能評價結果是以1~5這5階段來進行,只要有一名官能評價者評價為視認到雲紋而造成妨礙,則評價為「會造成妨礙」而評價為5,若無官能評價者評價為5且只要有一名官能評價者評價為視認到雲紋而會在意,則評價為「會在意」而評價為4,若無官能評價者評價為4及5且只要有一人評價為儘管有些在意但並不會太在意,則評價為「不會太在意」而評價為3,若無官能評價者評價為3~5且只要有一人評價為幾乎不會在意,即,若所有人評價為幾乎不會在意或不會在意,則評價為「幾乎不會在意」而評價為2,若所有人評價為不會在意,則評價為「不會在意」而評價為1。
作為雲紋的視認性,若為評價3以下則合格,較為理想的是評價2以下,最理想的是評價1。
在本實施例中,對於網圖案24的開口部22的形狀,使間距p在100μm~200μm的範圍內以20μm為單位而變化,角度θ變化為30°、35°及40°。
而且,網圖案24的線寬變化為2μm與4μm。
再者,在圖8(A)所示的233dpi的BM圖案38中,G子畫素(G通道彩色濾光片)32g是寬度為8μm、長度為43μm的尺寸的長方形,R子畫素(R通道彩色濾光片)32r是寬度為21μm、長度為28μm的尺寸的長方形,B子畫素(B通道彩色濾光片)32b是在圖中右下方具備5μm×5μm的尺寸的正方形切口且寬度為21μm、長度為43μm的尺寸的長方形,圖中以虛線所示的一畫素32為110μm×110μm的尺寸的正方形。
再者,在拍攝畫素陣列(BM)圖案38的各色的子畫素陣列圖案時,作為顯微鏡,使用STM6(奧林帕斯公司製造),作為鏡頭,使用UMPlanFlx10(奧林帕斯公司製造),作為相機,使用QIC-F-CLR-12-C(林卡姆科學儀器公司製造)。此時,拍攝條件設為:增益為1.0,白平衡(G、R、B)為(1.00、2.17、1.12)。而且,對拍攝圖像進行陰影處理。
雲紋評價指標的計算是依照圖7所示的方法,如上所述般進行。
表1表示與各種網圖案24相關的實施例1~實施例19
及比較例1~比較例17。
此處,表1所示的實施例1~實施例8中,金屬細線14的線寬為2μm及4μm,網圖案24的開口部22的形態為圖18(A)所示的菱形圖案,間距p為100μm~180μm,角度θ為30°~40°,而雲紋的評價值(評價指標)以常用對數計均為-3.00以下,官能評價值為1,是所有人評價為不會在意的最高的「不會在意」等級的評價。
接下來,表1所示的實施例9~實施例14中,金屬細線14的線寬為2μm及4μm,網圖案24的開口部22的形態為圖18(A)所示的菱形圖案,間距p為120μm~200μm,角度θ為30°~40°,而雲紋的評價值(評價指標)以常用對數計均超過-3.00且為-2.80以下,官能評價值為2,是所有人評價為幾乎不會在意以上的「幾乎不會在意」等級的評價。
而且,表1所示的實施例15~實施例19中,金屬細線14的線寬為2μm及4μm,網圖案24的開口部22的形態為圖18(A)所示的菱形圖案,間距p為100μm~200μm,角度θ為30°~40°,而雲紋的評價值(評價指標)以常用對數計均超過-2.80且為-2.70以下,官能評價值為3,是所有人評價為儘管有些在意但並不會太在意以上的「不會太在意」等級的評價。
與此相對,比較例1~比較例11中,金屬細線14的線寬為2μm及4μm,網圖案24的開口部22的形態為圖18(A)所示的菱形圖案,間距p為100μm~200μm,角度θ為30°~40°,
而雲紋的評價值(評價指標)以常用對數計均超過-2.70且為-2.30以下,官能評價值為4,是「會在意」等級的評價。
而且,比較例12~比較例17中,金屬細線14的線寬為2μm及4μm,網圖案24的開口部22的形態為圖18(A)所示的菱形圖案,間距p為100μm~200μm,角度θ為30°~40°,而雲紋的評價值(評價指標)以常用對數計均超過-2.30,官能評價值為5,是「會造成妨礙」等級的評價。
由以上的表1可知的是,即便在BM圖案的各色的子畫素圖案的週期或強度不同的情況下,而且,無論配線圖案為何種圖案、即無論其金屬細線的線寬或者開口部的形狀或其尺寸(間距或角度)等如何,若雲紋評價指標以常用對數計為-2.70以下,則因重疊的配線圖案與BM圖案的各色的子畫素圖案的干涉所產生的雲紋會被視認到,且是儘管有些在意但不會太在意的等級以上,若以常用對數計為-2.80以下,則即便雲紋會被視認到亦是幾乎不會在意的等級以上,若以常用對數計為-3.00以下,則是不會在意的等級。
根據以上所述,具備所述雲紋評價指標滿足所述範圍的配線圖案的本發明的導電性膜,即便顯示器的BM圖案的各色的子畫素圖案的週期或強度不同,而且,無論是在正面觀察時,抑或是在斜向觀察時,皆可抑制雲紋的產生,從而可大幅提高視認性。
根據以上所述,本發明的效果明確。
再者,本發明中,如所述的實施例般,可預先準備各種
圖案形狀的配線圖案,並藉由本發明的評價方法來確定具備經最佳化的配線圖案的導電性膜,但當一個配線圖案的雲紋評價指標小於規定值時,亦可重複如下的操作,從而確定具備經最佳化的配線圖案的導電性膜,所述操作是:將配線圖案的透過率圖像資料更新為新的配線圖案的透過率圖像資料,並適用所述的本發明的評價方法來求出雲紋評價指標。
此處,所更新的新的配線圖案既可為預先準備的配線圖案,亦可為新製作的配線圖案。再者,當新製作時,既可使配線圖案的透過率圖像資料的旋轉角度、間距、圖案寬度中的任一個以上發生變化,亦可變更配線圖案的開口部的形狀或大小。進而,亦可使他們具備無規則性。
以上,舉各種實施形態及實施例對本發明的導電性膜、具備該導電性膜的顯示裝置及導電性膜的評價方法進行了說明,但本發明並不限定於所述的實施形態及實施例,只要不脫離本發明的主旨,當然亦可進行各種改良或設計的變更。
Claims (22)
- 一種導電性膜,被設置在顯示裝置的顯示單元上,所述導電性膜的特徵在於包括: 透明基體;以及導電部,形成於所述透明基體的至少一個面上,且具有多根金屬細線, 所述多根金屬細線具有包含網狀的配線圖案,藉此,在所述導電部上排列有多個開口部, 所述顯示單元是由畫素陣列圖案排列而成,所述畫素陣列圖案是由包含多個子畫素的畫素在其中一個方向及與所述其中一個方向垂直的方向上反覆排列而成,所述多個子畫素射出互不相同的至少三色的多色光, 所述顯示單元滿足下述條件中的至少任一個條件,即:對於所述多色中的互不相同的至少兩色而言,所述子畫素的樣式不同者;或者,由所述多色的各色的所述子畫素的陣列所形成的子畫素陣列圖案的週期不同者;或者,在所述畫素的一畫素內,所述多個子畫素的重心中的至少一者位於與連結剩餘子畫素的重心的至少兩者而成的直線上不同的位置者, 所述導電性膜以所述導電部的所述配線圖案與所述顯示單元的所述畫素陣列圖案相重疊的方式而設置於所述顯示單元上, 所述配線圖案以如下方式構成,即,在至少一視點處,在根據所述配線圖案的透過率圖像資料的二維傅立葉頻譜的多個第1頻譜峰值的第1峰值頻率及第1峰值強度、與所述多色的各色的所述子畫素陣列圖案的亮度圖像資料的二維傅立葉頻譜的多個第2頻譜峰值的第2峰值頻率及第2峰值強度而針對各色中的每一色算出的雲紋的頻率及強度中,根據各色的雲紋的評價值而算出的雲紋評價指標為評價臨限值以下,所述各色的雲紋的評價值是分別使人類的視覺響應特性對應於觀察距離,來作用於根據所述顯示單元的顯示解析度而規定的頻率臨限值以下的各雲紋頻率中的雲紋強度內的第1強度臨限值以上的雲紋強度所獲得。
- 如申請專利範圍第1項所述的導電性膜,其中 所述評價臨限值為-2.70, 所述評價指標以常用對數計為-2.70以下。
- 如申請專利範圍第1項或第2項所述的導電性膜,其中 所述子畫素的樣式不同者包含所述子畫素的尺寸或面積不同者。
- 如申請專利範圍第1項或第2項所述的導電性膜,其中 所述子畫素陣列圖案的週期不同者包含如下所述者,即:在所述顯示單元的顯示畫面中,所述其中一個方向為水平方向,當將所述水平方向設為x方向,將相對於所述x方向而垂直的方向設為y方向時,對於互不相同的至少兩色而言,所述子畫素在所述x方向及所述y方向中的至少一個方向上,所述子畫素的週期不一致者。
- 如申請專利範圍第1項或第2項所述的導電性膜,其中 滿足所述至少任一個條件是指:對於所述多色內的任意兩色而言,滿足下述中的任一個,即,在所述其中一個方向上,當將所述畫素陣列圖案的畫素間距設為P時,則其中一色的子畫素的重心位置與另一色的子畫素的重心位置之差小於3P/10,或者大於11P/30且小於3P/5,或者大於11P/15,或者 對於所述多色內的任一色而言,滿足下述中的任一個,即,在與所述其中一個方向垂直的方向上,所述一色的子畫素的重心位置與鄰接畫素的所述一色的子畫素的重心位置之差小於9P/10,或者大於11P/10。
- 如申請專利範圍第1項或第2項所述的導電性膜,其中 所述多色的各色的所述子畫素陣列圖案的亮度圖像資料是將藉由如下方式而獲得的亮度圖像資料標準化而成的標準化亮度資料,即,針對各色中的每一色,將對顯示在所述顯示單元的顯示畫面上的顏色的所述子畫素陣列圖案的圖像進行拍攝所得的拍攝圖像資料轉換為亮度值。
- 如申請專利範圍第6項所述的導電性膜,其中 所述多色為紅、綠及藍這三色, 顯示在所述顯示單元的顯示畫面上的顏色的所述子畫素陣列圖案的圖像是以所述顯示單元中可設定的最大亮度而顯示, 各色的標準化亮度資料是以所述綠的最大亮度值而標準化者。
- 如申請專利範圍第7項所述的導電性膜,其中 所述紅、綠及藍各色的所述子畫素陣列圖案的圖像的所述拍攝圖像資料是將白平衡調整為麥克伯圖的白來拍攝所得的圖像資料, 當設所述紅的圖像資料為R、所述綠的圖像資料為G、所述藍的圖像資料為B、亮度值為Y時,所述紅、所述綠及所述藍的圖像資料R、圖像資料G及圖像資料B是根據下述式(1)而轉換為亮度值Y者, Y=0.300R+0.590G+0.110B……(1) 各色的所述亮度圖像資料是將所述綠的最大亮度值設為1.0而標準化者。
- 如申請專利範圍第7項所述的導電性膜,其中 所述紅、綠及藍各色的所述子畫素陣列圖案的圖像的所述亮度圖像資料是藉由如下方式而求出的資料,即, 將所述紅、綠及藍的各色分光頻譜資料分別乘以XYZ配色函數的亮度而積分求出的積分值,設為根據拍攝圖像資料而製作成的遮罩資料的值,所述紅、綠及藍的各色分光頻譜資料是對所述紅、綠及藍各色的子畫素來使所述顏色單獨顯示並以分光計進行測量所獲取,所述拍攝圖像資料是對所述紅、綠及藍各色的子畫素來使所述顏色單獨顯示並以顯微鏡拍攝所得, 各色的所述亮度圖像資料是將所述綠的最大的所述亮度圖像資料設為1.0而加以標準化者。
- 如申請專利範圍第1項或第2項所述的導電性膜,其中 所述多個第1頻譜峰值具有從對所述配線圖案的透過率圖像資料進行二維傅立葉轉換而獲得的多個頻譜峰值中選擇的第1臨限值以上的峰值強度, 對於所述多色的各個而言,所述多個第2頻譜峰值具有從對所述子畫素陣列圖案的所述亮度圖像資料進行二維傅立葉轉換而獲得的多個頻譜峰值中選擇的第2臨限值以上的峰值強度。
- 如申請專利範圍第1項或第2項所述的導電性膜,其中 對應於各色的雲紋的頻率是作為所述第1峰值頻率與對應於各色的所述第2峰值頻率之差而給出, 對應於各色的雲紋的強度是作為所述第1峰值強度與對應於各色的所述第2峰值強度之積而給出。
- 如申請專利範圍第1項或第2項所述的導電性膜,其中 所述雲紋的評價值是藉由如下方式而求出,即,對於所述雲紋的頻率及強度,將作為所述視覺響應特性的與所述觀察距離相應的視覺傳達函數以卷積積分進行加權。
- 如申請專利範圍第1項或第2項所述的導電性膜,其中 所述雲紋評價指標是對於各色,使用對應於所述觀察距離而對一個所述雲紋的頻率進行加權所得的多個所述雲紋的評價值中的最大評價值來算出。
- 如申請專利範圍第14項所述的導電性膜,其中 所述雲紋評價指標是對於各色中的每一色,使針對所述一個所述雲紋的頻率而選擇的所述最大評價值對於所有所述雲紋的頻率進行合計所得的所述多色的合計值中最大的合計值。
- 如申請專利範圍第1項或第2項所述的導電性膜,其中 所述第1強度臨限值以常用對數計為-5,所述頻率臨限值為雲紋的最高頻率, 為了使所述視覺響應特性發揮作用而選擇的雲紋是所述雲紋的強度具備-5以上的強度且具備所述最高頻率以下的頻率的雲紋。
- 如申請專利範圍第16項所述的導電性膜,其中 當將所述顯示單元的顯示畫素間距設為Pd μm時,所述雲紋的最高頻率是以1000/Pd cycle/mm而給出。
- 如申請專利範圍第1項或第2項所述的導電性膜,其中 所述評價值是在正面觀察及斜向觀察的至少兩視點處,針對所述多色的各色中的每一色而獲得者, 所述評價指標是所獲得的至少兩視點處的各色的評價值中最大的評價值。
- 如申請專利範圍第1項或第2項所述的導電性膜,其中 所述畫素陣列圖案為所述黑矩陣圖案。
- 一種顯示裝置,其特徵在於包括: 顯示單元,由畫素陣列圖案排列而成,所述畫素陣列圖案是由包含多個子畫素的畫素在其中一個方向及與所述其中一個方向垂直的方向上反覆排列而成,所述多個子畫素射出互不相同的至少三色的多色光,且所述顯示單元是下述者中的至少一者,即,對於互不相同的至少兩色而言,所述子畫素的樣式不同者、以及由各色的所述子畫素的陣列所形成的子畫素陣列圖案的週期不同者;以及 如申請專利範圍第1項或第2項所述的導電性膜,被設置在所述顯示單元上。
- 一種導電性膜的評價方法,所述導電性膜被設置在顯示裝置的顯示單元上,藉由多根金屬細線形成網狀的配線圖案,從而具有排列有多個開口部的配線圖案,所述導電性膜的評價方法的特徵在於, 所述顯示單元是由畫素陣列圖案排列而成,所述畫素陣列圖案是由包含多個子畫素的畫素在其中一個方向及與所述其中一個方向垂直的方向上反覆排列而成,所述多個子畫素射出互不相同的至少三色的多色光,且所述顯示單元滿足下述條件中的至少任一個條件,即,對於所述多色中的互不相同的至少兩色而言,所述子畫素的樣式不同者,或者,由所述多色的各色的所述子畫素的陣列所形成的子畫素陣列圖案的週期不同者,或者,在所述畫素的一畫素內,所述多個子畫素的重心中的至少一者位於與連結剩餘子畫素的重心的至少兩者而成的直線上不同的位置者, 獲取所述配線圖案的透過率圖像資料、以及所述顯示單元的所述多色的各色的所述子畫素陣列圖案的亮度圖像資料, 在至少一視點處,對所述配線圖案的透過率圖像資料及所述子畫素陣列圖案的亮度圖像資料進行二維傅立葉轉換,算出所述配線圖案的透過率圖像資料的二維傅立葉頻譜的多個第1頻譜峰值的第1峰值頻率及第1峰值強度,並針對各色中的每一色而算出所述多色的各色的所述子畫素陣列圖案的亮度圖像資料的二維傅立葉頻譜的多個第2頻譜峰值的第2峰值頻率及第2峰值強度, 根據如此般算出的所述配線圖案的所述第1峰值頻率及所述第1峰值強度、與所述多色各自的所述子畫素陣列圖案的所述第2峰值頻率及所述第2峰值強度,分別算出所述多色的各色的雲紋的頻率及強度, 從如此般算出的各色的所述雲紋的頻率及強度中,選出一雲紋,所述雲紋具備根據所述顯示單元的顯示解析度而規定的頻率臨限值以下的頻率及第1強度臨限值以上的強度, 對應於觀察距離而使人類的視覺響應特性作用於如此般選出的各個各色雲紋頻率中的所述雲紋強度,而分別獲得各色的雲紋的評價值, 根據如此般獲得的各色中的每一色的雲紋的評價值來算出雲紋評價指標, 對如此般算出的所述雲紋評價指標為規定值以下的導電性膜進行評價。
- 如申請專利範圍第21項所述的導電性膜的評價方法,其中 所述顯示單元的所述多色的各色的所述子畫素陣列圖案的亮度圖像資料是藉由如下方式而獲得的標準化亮度資料,即: 針對各色中的每一色,對顯示在所述顯示單元的顯示畫面上的顏色的所述子畫素陣列圖案的圖像進行拍攝而獲得拍攝圖像資料, 將所獲得的拍攝圖像資料轉換為亮度值而獲得亮度圖像資料, 對所獲得的亮度圖像資料進行標準化。
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