KR20090072994A - 기판처리장치 - Google Patents
기판처리장치 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20090072994A KR20090072994A KR1020080132304A KR20080132304A KR20090072994A KR 20090072994 A KR20090072994 A KR 20090072994A KR 1020080132304 A KR1020080132304 A KR 1020080132304A KR 20080132304 A KR20080132304 A KR 20080132304A KR 20090072994 A KR20090072994 A KR 20090072994A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- substrate
- processing
- unit
- board
- conveyed
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70975—Assembly, maintenance, transport or storage of apparatus
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
- H01L21/67739—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations into and out of processing chamber
- H01L21/67745—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations into and out of processing chamber characterized by movements or sequence of movements of transfer devices
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/6715—Apparatus for applying a liquid, a resin, an ink or the like
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70733—Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
- G03F7/7075—Handling workpieces outside exposure position, e.g. SMIF box
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67155—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations
- H01L21/67161—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations characterized by the layout of the process chambers
- H01L21/67178—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations characterized by the layout of the process chambers vertical arrangement
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking
- H01L21/67276—Production flow monitoring, e.g. for increasing throughput
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
- H01L21/67739—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations into and out of processing chamber
- H01L21/67754—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations into and out of processing chamber horizontal transfer of a batch of workpieces
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
- H01L21/67739—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations into and out of processing chamber
- H01L21/6776—Continuous loading and unloading into and out of a processing chamber, e.g. transporting belts within processing chambers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Automation & Control Theory (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Public Health (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
Description
Claims (23)
- 기판에 처리를 행하는 기판처리장치로서,기판을 거의 수평방향으로 반송하면서 기판에 처리를 행하는 기판처리열을 복수 갖고, 각 기판처리열에서 기판을 병행하여 처리할 수 있는 처리부;상기 처리부에 인접하여 설치되어, 각 기판처리열로부터 불출(拂出)된 기판을, 본 장치와는 별체인 노광기로 반송하는 인터페이스부;를 포함하며,상기 노광기로 반송하는 기판의 순서는 상기 처리부에 반입된 기판의 순번대로인 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
- 제1항에 있어서,상기 복수의 기판처리열은 상하 방향으로 나란히 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
- 제1항에 있어서,상기 인터페이스부는 상기 기판처리열로부터 불출된 기판을, 상기 처리부에 반입된 기판의 순번으로 정리하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
- 제1항에 있어서,상기 인터페이스부는,각 기판처리열과 상기 노광기에 대하여 기판을 반송하는 인터페이스용 반송기구와,기판을 일시적으로 재치(載置)하는 버퍼부를 구비하고,상기 인터페이스용 반송기구는, 상기 기판처리열로부터 기판이 불출되면, 그 기판을 수취(受取)함과 아울러, 수취한 기판이 다음으로 상기 노광기로 반송해야 할 순번의 기판인 경우는 상기 수취한 기판을 노광기로 반송하고, 상기 수취한 기판이 다음으로 상기 노광기로 반송해야 할 순번의 기판이 아닌 경우는 상기 수취한 기판을 상기 버퍼부에 재치하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
- 제4항에 있어서,상기 인터페이스용 반송기구는, 상기 버퍼부에 재치되어 있는 기판이 다음으로 상기 노광기로 반송해야 할 순번의 기판으로 된 경우는 그 기판을 상기 버퍼부로부터 상기 노광기로 반송하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
- 제5항에 있어서,상기 인터페이스용 반송기구는, 상기 버퍼부에 재치한 기판이 다음으로 상기 노광기로 반송해야 할 순번의 기판으로 된 경우라도, 상기 기판처리열로부터 기판이 불출되어 있을 때는 불출된 기판의 수취를 우선하여 행하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
- 제4항에 있어서,상기 인터페이스용 반송기구는,각 기판처리열과 상기 버퍼부에 대하여 기판을 반송하는 제1 반송기구와,상기 제1 반송기구 사이에서 기판을 주고받음과 아울러, 상기 노광기에 대하여 기판을 반송하는 제2 반송기구를 구비하고,상기 제1 반송기구는, 상기 기판처리열로부터 수취한 기판이 다음으로 상기 노광기로 반송해야 할 순번의 기판인 경우는 상기 수취한 기판을 상기 제2 반송기구에 주고받고, 상기 수취한 기판이 다음으로 상기 노광기로 반송해야 할 순번의 기판이 아닌 경우는 상기 수취한 기판을 상기 버퍼부에 재치하고, 상기 버퍼부에 재치되어 있는 기판이 다음으로 상기 노광기로 반송해야 할 순번의 기판으로 된 경우는 그 기판을 상기 버퍼부로부터 상기 제2 반송기구에 주고받고,상기 제2 반송기구는, 상기 제1 반송기구로부터 기판을 주고받으면, 그 기판을 상기 노광기로 반송하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
- 제4항에 있어서,상기 인터페이스용 반송기구는,각 기판처리열과 상기 버퍼부에 대하여 기판을 반송하는 제1 반송기구와,상기 제1 반송기구 사이에서 기판을 주고받음과 아울러, 상기 버퍼부와 상기 노광기에 대하여 기판을 반송하는 제2 반송기구를 구비하고,상기 제1 반송기구는, 상기 기판처리열로부터 수취한 기판이 다음으로 상기 노광기로 반송해야 할 순번의 기판인 경우는 상기 수취한 기판을 상기 제2 반송기구에 주고받고, 상기 수취한 기판이 다음으로 상기 노광기로 반송해야 할 순번의 기판이 아닌 경우는 상기 수취한 기판을 상기 버퍼부에 재치하고,상기 제2 반송기구는, 상기 제1 반송기구로부터 기판을 주고받으면, 주고받아진 기판을 상기 노광기로 반송하고, 상기 버퍼부에 재치되어 있는 기판이 다음으로 상기 노광기로 반송해야 할 순번의 기판으로 된 경우는 그 기판을 상기 버퍼부로부터 상기 노광기로 반송하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
- 제4항에 있어서,상기 인터페이스용 반송기구는, 상기 버퍼부에 재치되는 기판의 위치를, 그 기판이 불출된 기판처리열에 따라 바꾸는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
- 제1항에 있어서,상기 처리부에 반입된 기판의 순번은 상기 처리부에 반입된 기판의 순번으로, 그 기판의 식별정보를 대응시킨 관계에 기초하여 특정하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
- 제1항에 있어서,상기 처리부에 반입된 기판의 순번은 상기 처리부에 반입된 기판의 순번으로, 그 기판이 반송된 기판처리열을 대응시킨 관계에 기초하여 특정하는 것을 특징 으로 하는 기판처리장치.
- 기판에 처리를 행하는 기판처리장치로서,상하 방향의 계층(階層)마다 설치되어, 기판에 처리를 행하는 처리유닛과, 각 계층에 설치되어, 그 계층의 처리유닛에 대하여 기판을 반송하는 주반송기구를 갖는 처리블록을 횡방향으로 복수개 나란히 하여, 인접하는 처리블록의 같은 계층의 주반송기구끼리로 기판을 주고받기할 수 있게 구성되어 있는 처리부로서, 양단(兩端)에 배치되는 각 처리블록을 각각 제1 처리블록과 제2 처리블록으로 하여, 상기 제1 처리블록의 각 계층에 반입된 기판을, 각 처리블록의 같은 계층을 통하여 상기 제2 처리블록까지 반송하면서, 각각의 계층에서 기판에 일련의 처리를 행하는 처리부;상기 제1 처리블록에 인접하여 설치되어, 상기 제1 처리블록의 각 계층에 대하여 기판을 반송가능한 인덱서부;상기 제2 처리블록의 각 계층 및 본 장치와는 별체인 노광기에 대하여 기판을 반송하는 인터페이스용 반송기구를 구비하고, 상기 제2 처리블록에 인접하여 설치되어 있는 인터페이스부;상기 인터페이스용 반송기구를 제어하여, 상기 제2 처리블록으로부터 불출된 기판을, 상기 제1 처리블록에 반입된 기판의 순번으로의 순서로 상기 노광기로 반송시키는 제어부를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
- 제12항에 있어서,상기 제어부에 의한 제어에 기초하여, 상기 인터페이스용 반송기구는, 상기 제2 처리블록으로부터 불출된 기판을, 상기 제1 처리블록에 반입된 기판의 순번으로 정리하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
- 제12항에 있어서,상기 인터페이스부는, 기판을 일시적으로 재치하는 버퍼부를 구비하고, 상기 제어부에 의한 제어에 기초하여, 상기 인터페이스용 반송기구는 상기 제2 처리블록으로부터 수취한 기판이 다음으로 상기 노광기로 반송해야 할 순번의 기판인 경우는 상기 수취한 기판을 상기 노광기로 반송하고, 상기 수취한 기판이 다음으로 상기 노광기로 반송해야 할 순번의 기판이 아닌 경우는 상기 수취한 기판을 상기 버퍼부에 재치하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
- 제14항에 있어서,상기 제어부에 의한 제어에 기초하여, 상기 인터페이스용 반송기구는, 상기 버퍼부에 재치되어 있는 기판이 다음으로 상기 노광기로 반송해야 할 순번의 기판으로 된 경우는 그 기판을 상기 버퍼부로부터 노광기로 반송하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
- 제15항에 있어서,상기 제어부에 의한 제어에 기초하여, 상기 인터페이스용 반송기구는, 상기 버퍼부에 재치한 기판이 다음으로 상기 노광기로 반송해야 할 순번의 기판으로 된 경우라도, 상기 제2 처리블록으로부터 기판이 불출되어 있을 때는 불출된 기판의 수취를 우선하여 행하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
- 제14항에 있어서,상기 인터페이스용 반송기구는,상기 제2 처리블록의 각 계층과 상기 버퍼부에 대하여 기판을 반송하는 제1 반송기구와,상기 제1 반송기구 사이에서 기판을 주고받음과 아울러, 상기 노광기에 대하여 기판을 반송하는 제2 반송기구를 구비하고,상기 제어부에 의한 제어에 기초하여, 상기 제1 반송기구는, 상기 제2 처리블록의 각 계층으로부터 수취한 기판이 다음으로 상기 노광기로 반송해야 할 순번의 기판인 경우는 상기 수취한 기판을 상기 제2 반송기구에 주고받고, 상기 수취한 기판이 다음으로 상기 노광기로 반송해야 할 순번의 기판이 아닌 경우는 상기 수취한 기판을 상기 버퍼부에 재치하고, 상기 버퍼부에 재치되어 있는 기판이 다음으로 상기 노광기로 반송해야 할 순번의 기판으로 된 경우는 그 기판을 상기 버퍼부로부터 상기 제2 반송기구에 주고받고,상기 제2 반송기구는, 상기 제1 반송기구로부터 기판을 주고받으면, 그 기판을 상기 노광기로 반송하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
- 제14항에 있어서,상기 인터페이스용 반송기구는,상기 제2 처리블록의 각 계층과 상기 버퍼부에 대하여 기판을 반송하는 제1 반송기구와,상기 제1 반송기구 사이에서 기판을 주고받음과 아울러, 상기 버퍼부와 상기 노광기에 대하여 기판을 반송하는 제2 반송기구를 구비하고,상기 제어부에 의한 제어에 기초하여, 상기 제1 반송기구는, 상기 제2 처리블록의 각 계층으로부터 수취한 기판이 다음으로 상기 노광기로 반송해야 할 순번의 기판인 경우는 상기 수취한 기판을 상기 제2 반송기구에 주고받고, 상기 수취한 기판이 다음으로 상기 노광기로 반송해야 할 순번의 기판이 아닌 경우는 상기 수취한 기판을 상기 버퍼부에 재치하고,상기 제2 반송기구는, 상기 제1 반송기구로부터 기판을 주고받으면, 주고받아진 기판을 상기 노광기로 반송하고, 상기 버퍼부에 재치되어 있는 기판이 다음으로 상기 노광기로 반송해야 할 순번의 기판으로 된 경우는 그 기판을 상기 버퍼부로부터 상기 노광기로 반송하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
- 제14항에 있어서,상기 제어부는 상기 버퍼부에 재치되어 있는 기판이 소정 매수를 초과하면, 상기 인덱서부로부터 상기 처리부에의 기판의 반입을 정지시키는 것을 특징으로 하 는 기판처리장치.
- 제12항에 있어서,상기 제어부는 상기 인덱서부로부터 상기 처리부에 반입된 순번으로, 그 기판의 식별정보를 대응시킨 관계에 기초하여, 상기 노광기로 반송시키는 각 기판의 순번을 정리하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
- 제12항에 있어서,상기 제어부는 상기 인덱서부로부터 상기 처리부에 반입된 기판의 순번으로, 그 기판이 반송된 상기 제1 처리블록의 계층을 대응시킨 관계에 기초하여, 상기 노광기로 반송시키는 기판의 순번을 정리하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
- 제12항에 있어서,상기 인덱서부는 상기 처리부에 반입하는 기판을 1매씩, 상기 제1 처리블록의 각 계층에 규칙적으로 나누는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
- 제12항에 있어서,상기 처리부는 상기 처리블록으로서 도포처리블록과 현상처리블록을 포함하고,상기 도포처리블록은 상기 처리유닛으로서 기판에 레지스트막재료를 도포하 는 레지스트막용 도포처리유닛을 구비하고,상기 현상처리블록은 상기 처리유닛으로서 기판에 현상액을 공급하는 현상처리유닛을 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JPJP-P-2007-340427 | 2007-12-28 | ||
JP2007340427A JP5001828B2 (ja) | 2007-12-28 | 2007-12-28 | 基板処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20090072994A true KR20090072994A (ko) | 2009-07-02 |
KR101047799B1 KR101047799B1 (ko) | 2011-07-07 |
Family
ID=40796578
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020080132304A KR101047799B1 (ko) | 2007-12-28 | 2008-12-23 | 기판처리장치 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US20090165711A1 (ko) |
JP (1) | JP5001828B2 (ko) |
KR (1) | KR101047799B1 (ko) |
TW (3) | TWI470724B (ko) |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5006122B2 (ja) | 2007-06-29 | 2012-08-22 | 株式会社Sokudo | 基板処理装置 |
JP5128918B2 (ja) | 2007-11-30 | 2013-01-23 | 株式会社Sokudo | 基板処理装置 |
JP5318403B2 (ja) * | 2007-11-30 | 2013-10-16 | 株式会社Sokudo | 基板処理装置 |
JP5179170B2 (ja) * | 2007-12-28 | 2013-04-10 | 株式会社Sokudo | 基板処理装置 |
JP5001828B2 (ja) | 2007-12-28 | 2012-08-15 | 株式会社Sokudo | 基板処理装置 |
JP2011009362A (ja) * | 2009-06-24 | 2011-01-13 | Tokyo Electron Ltd | インプリントシステム、インプリント方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 |
JP5666361B2 (ja) | 2011-03-29 | 2015-02-12 | 株式会社Screenセミコンダクターソリューションズ | 基板処理装置 |
JP5936853B2 (ja) * | 2011-12-05 | 2016-06-22 | 株式会社Screenセミコンダクターソリューションズ | 基板処理装置および基板処理方法 |
JP5565422B2 (ja) * | 2012-02-08 | 2014-08-06 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 |
JP5758509B2 (ja) * | 2014-01-17 | 2015-08-05 | 株式会社Screenセミコンダクターソリューションズ | 基板処理方法および基板処理装置 |
JP6123740B2 (ja) * | 2014-06-17 | 2017-05-10 | トヨタ自動車株式会社 | 半導体装置の製造ライン及び半導体装置の製造方法 |
JP5925869B2 (ja) * | 2014-12-10 | 2016-05-25 | 株式会社Screenセミコンダクターソリューションズ | 基板処理装置 |
US9956587B2 (en) * | 2016-08-29 | 2018-05-01 | The Aerospace Corporation | Fabrication assembly and methods for fabricating composite mirror objects |
JP6891006B2 (ja) * | 2017-03-08 | 2021-06-18 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理システム及び基板処理システムの搬入制御方法 |
JP7115966B2 (ja) * | 2018-11-30 | 2022-08-09 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置 |
Family Cites Families (298)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3249765B2 (ja) | 1997-05-07 | 2002-01-21 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置 |
US4409889A (en) | 1981-11-02 | 1983-10-18 | Burleson Maurice L | Modular clean room |
DE3347438A1 (de) | 1983-12-29 | 1985-07-18 | Ulrich 2814 Bruchhausen-Vilsen Grigat | Multivalenter heizkoerper zur raumluftbeheizung |
JPH065689Y2 (ja) | 1986-12-26 | 1994-02-16 | 小橋工業株式会社 | 正逆回転ロ−タリ作業機のフロントカバ− |
US5177514A (en) * | 1988-02-12 | 1993-01-05 | Tokyo Electron Limited | Apparatus for coating a photo-resist film and/or developing it after being exposed |
US5202716A (en) * | 1988-02-12 | 1993-04-13 | Tokyo Electron Limited | Resist process system |
KR970003907B1 (ko) | 1988-02-12 | 1997-03-22 | 도오교오 에레구토론 가부시끼 가이샤 | 기판처리 장치 및 기판처리 방법 |
JP2559617B2 (ja) | 1988-03-24 | 1996-12-04 | キヤノン株式会社 | 基板処理装置 |
US5536128A (en) | 1988-10-21 | 1996-07-16 | Hitachi, Ltd. | Method and apparatus for carrying a variety of products |
JPH02197599A (ja) * | 1989-01-25 | 1990-08-06 | Yamaha Motor Co Ltd | 金属表面の化学処理装置 |
JP2683675B2 (ja) | 1989-01-26 | 1997-12-03 | 東京エレクトロン株式会社 | 搬送装置 |
JPH085812Y2 (ja) | 1989-12-05 | 1996-02-21 | 沖電気工業株式会社 | 印字ヘッド駆動回路 |
JPH081921B2 (ja) | 1990-01-13 | 1996-01-10 | 東京エレクトロン株式会社 | 半導体製造装置 |
ES2020758A6 (es) | 1990-02-08 | 1991-09-16 | Balzola Elorza Martin | Msnipulador automatico para lamacenes. |
JP2704309B2 (ja) | 1990-06-12 | 1998-01-26 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置及び基板の熱処理方法 |
JP2919925B2 (ja) * | 1990-07-26 | 1999-07-19 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理装置 |
US5668056A (en) | 1990-12-17 | 1997-09-16 | United Microelectronics Corporation | Single semiconductor wafer transfer method and manufacturing system |
US5297910A (en) | 1991-02-15 | 1994-03-29 | Tokyo Electron Limited | Transportation-transfer device for an object of treatment |
US5275709A (en) * | 1991-11-07 | 1994-01-04 | Leybold Aktiengesellschaft | Apparatus for coating substrates, preferably flat, more or less plate-like substrates |
JP3338343B2 (ja) | 1992-12-21 | 2002-10-28 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置 |
KR970011065B1 (ko) * | 1992-12-21 | 1997-07-05 | 다이닛뽕 스크린 세이조오 가부시키가이샤 | 기판처리장치와 기판처리장치에 있어서 기판교환장치 및 기판교환방법 |
TW276353B (ko) * | 1993-07-15 | 1996-05-21 | Hitachi Seisakusyo Kk | |
EP0634699A1 (en) | 1993-07-16 | 1995-01-18 | Semiconductor Systems, Inc. | Clustered photolithography system |
US5565034A (en) * | 1993-10-29 | 1996-10-15 | Tokyo Electron Limited | Apparatus for processing substrates having a film formed on a surface of the substrate |
US5518542A (en) | 1993-11-05 | 1996-05-21 | Tokyo Electron Limited | Double-sided substrate cleaning apparatus |
JP2994553B2 (ja) | 1994-04-08 | 1999-12-27 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置 |
JPH07297258A (ja) * | 1994-04-26 | 1995-11-10 | Tokyo Electron Ltd | 板状体の搬送装置 |
US5826129A (en) * | 1994-06-30 | 1998-10-20 | Tokyo Electron Limited | Substrate processing system |
JP3122868B2 (ja) | 1994-09-29 | 2001-01-09 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布装置 |
JP3592771B2 (ja) | 1994-12-07 | 2004-11-24 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置 |
TW297910B (ko) * | 1995-02-02 | 1997-02-11 | Tokyo Electron Co Ltd | |
US5677758A (en) | 1995-02-09 | 1997-10-14 | Mrs Technology, Inc. | Lithography System using dual substrate stages |
JP3069945B2 (ja) | 1995-07-28 | 2000-07-24 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理装置 |
KR100310249B1 (ko) | 1995-08-05 | 2001-12-17 | 엔도 마코토 | 기판처리장치 |
US5788868A (en) * | 1995-09-04 | 1998-08-04 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Substrate transfer method and interface apparatus |
JPH09148240A (ja) | 1995-11-24 | 1997-06-06 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
JP3575717B2 (ja) | 1995-12-28 | 2004-10-13 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置 |
US5842917A (en) | 1996-01-11 | 1998-12-01 | United Microelectronics Corproration | Automated manufacturing plant for semiconductor devices |
JPH09251953A (ja) | 1996-01-12 | 1997-09-22 | Sony Corp | レジスト現像方法 |
JP3938409B2 (ja) * | 1996-01-22 | 2007-06-27 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置 |
JPH09199568A (ja) | 1996-01-22 | 1997-07-31 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
TW317644B (ko) | 1996-01-26 | 1997-10-11 | Tokyo Electron Co Ltd | |
JP3859800B2 (ja) | 1996-03-19 | 2006-12-20 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置のフロー管理方法及びフロー管理装置 |
US6176667B1 (en) * | 1996-04-30 | 2001-01-23 | Applied Materials, Inc. | Multideck wafer processing system |
TW333658B (en) * | 1996-05-30 | 1998-06-11 | Tokyo Electron Co Ltd | The substrate processing method and substrate processing system |
US6062798A (en) * | 1996-06-13 | 2000-05-16 | Brooks Automation, Inc. | Multi-level substrate processing apparatus |
JPH1050794A (ja) | 1996-08-01 | 1998-02-20 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置および方法 |
KR100269097B1 (ko) | 1996-08-05 | 2000-12-01 | 엔도 마코토 | 기판처리장치 |
JP3278714B2 (ja) | 1996-08-30 | 2002-04-30 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布膜形成装置 |
JP3571471B2 (ja) * | 1996-09-03 | 2004-09-29 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理方法,塗布現像処理システム及び処理システム |
JP3779393B2 (ja) | 1996-09-06 | 2006-05-24 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理システム |
JP3619346B2 (ja) | 1996-09-19 | 2005-02-09 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置及び方法 |
JP3082688B2 (ja) | 1996-11-05 | 2000-08-28 | ヤマハ株式会社 | 配線形成法 |
TW353777B (en) * | 1996-11-08 | 1999-03-01 | Tokyo Electron Ltd | Treatment device |
SG88824A1 (en) | 1996-11-28 | 2002-05-21 | Nikon Corp | Projection exposure method |
JP3429964B2 (ja) | 1996-12-26 | 2003-07-28 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置 |
US6099643A (en) | 1996-12-26 | 2000-08-08 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Apparatus for processing a substrate providing an efficient arrangement and atmospheric isolation of chemical treatment section |
JPH10209241A (ja) * | 1997-01-16 | 1998-08-07 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板搬送装置およびそれを備えた基板処理装置 |
JP3579228B2 (ja) * | 1997-01-24 | 2004-10-20 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置 |
JP4080021B2 (ja) | 1997-03-19 | 2008-04-23 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置 |
JPH10294351A (ja) | 1997-04-21 | 1998-11-04 | Sharp Corp | 半導体装置製造用クリーンボックス、及び半導体装置の製造システム並びに製造方法 |
TW420829B (en) | 1997-05-22 | 2001-02-01 | Tokyo Electron Ltd | Treatment device and method, impurity removing apparatus |
JPH10335415A (ja) | 1997-05-30 | 1998-12-18 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 処理時間の設定方法 |
JP3600711B2 (ja) | 1997-05-30 | 2004-12-15 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置 |
JPH113851A (ja) | 1997-06-11 | 1999-01-06 | Tokyo Electron Ltd | 液処理装置及び液処理方法 |
JPH1116978A (ja) | 1997-06-19 | 1999-01-22 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
JPH1126550A (ja) | 1997-07-04 | 1999-01-29 | Tokyo Electron Ltd | 基板搬送装置およびそれを用いた基板処理装置 |
US6151981A (en) | 1997-07-24 | 2000-11-28 | Costa; Larry J. | Two-axis cartesian robot |
JPH1154588A (ja) | 1997-07-30 | 1999-02-26 | Tokyo Electron Ltd | 基板搬送装置およびそれを用いた基板処理装置 |
TW385488B (en) | 1997-08-15 | 2000-03-21 | Tokyo Electron Ltd | substrate processing device |
US6287023B1 (en) | 1997-09-22 | 2001-09-11 | Tokyo Electron Limited | Processing apparatus and method |
US6235634B1 (en) | 1997-10-08 | 2001-05-22 | Applied Komatsu Technology, Inc. | Modular substrate processing system |
US6270306B1 (en) | 1998-01-14 | 2001-08-07 | Applied Materials, Inc. | Wafer aligner in center of front end frame of vacuum system |
AU3054999A (en) * | 1998-04-02 | 1999-10-25 | Nikon Corporation | Method and apparatus for wafer processing, and method and apparatus for exposure |
KR100265287B1 (ko) | 1998-04-21 | 2000-10-02 | 윤종용 | 반도체소자 제조용 식각설비의 멀티챔버 시스템 |
JP3381776B2 (ja) | 1998-05-19 | 2003-03-04 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理装置および処理方法 |
US6266125B1 (en) | 1998-05-25 | 2001-07-24 | Tokyo Electron Limited | Resist processing method and apparatus |
JP3481499B2 (ja) | 1998-05-25 | 2003-12-22 | 東京エレクトロン株式会社 | レジスト処理方法及びレジスト処理装置 |
JP3884570B2 (ja) | 1998-05-29 | 2007-02-21 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置 |
JP3445937B2 (ja) | 1998-06-24 | 2003-09-16 | 東京エレクトロン株式会社 | 多段スピン型基板処理システム |
JP3745167B2 (ja) | 1998-07-29 | 2006-02-15 | キヤノン株式会社 | ステージ装置、露光装置およびデバイス製造方法ならびにステージ駆動方法 |
KR100609766B1 (ko) | 1998-07-29 | 2006-08-09 | 동경 엘렉트론 주식회사 | 기판처리방법 및 기판처리장치 |
JP3441681B2 (ja) | 1998-08-14 | 2003-09-02 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理装置 |
KR100515740B1 (ko) | 1998-08-14 | 2005-09-20 | 동경 엘렉트론 주식회사 | 기판처리장치 |
JP3442669B2 (ja) | 1998-10-20 | 2003-09-02 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置 |
JP3662150B2 (ja) | 1998-10-30 | 2005-06-22 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理システム |
JP2000195925A (ja) * | 1998-12-28 | 2000-07-14 | Anelva Corp | 基板処理装置 |
JP3273031B2 (ja) | 1999-01-08 | 2002-04-08 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置 |
JP2000269297A (ja) | 1999-03-16 | 2000-09-29 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 処理ユニット構築体 |
JP3542919B2 (ja) * | 1999-03-18 | 2004-07-14 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置 |
JP3462426B2 (ja) | 1999-05-24 | 2003-11-05 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置 |
JP3442686B2 (ja) | 1999-06-01 | 2003-09-02 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置 |
US6464789B1 (en) | 1999-06-11 | 2002-10-15 | Tokyo Electron Limited | Substrate processing apparatus |
KR100557027B1 (ko) | 1999-06-30 | 2006-03-03 | 동경 엘렉트론 주식회사 | 기판전달장치 및 도포현상 처리시스템 |
JP4294837B2 (ja) | 1999-07-16 | 2009-07-15 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理システム |
US6426303B1 (en) | 1999-07-16 | 2002-07-30 | Tokyo Electron Limited | Processing system |
US6402401B1 (en) | 1999-10-19 | 2002-06-11 | Tokyo Electron Limited | Substrate processing apparatus and substrate processing method |
TW518639B (en) | 1999-11-18 | 2003-01-21 | Tokyo Electron Ltd | Heat treatment device, cooling treatment device and cooling treatment method |
KR100348938B1 (ko) * | 1999-12-06 | 2002-08-14 | 한국디엔에스 주식회사 | 포토리소그라피 공정을 위한 반도체 제조장치 |
US6402508B2 (en) | 1999-12-09 | 2002-06-11 | Tokyo Electron Limited | Heat and cooling treatment apparatus and substrate processing system |
US6485203B2 (en) | 1999-12-20 | 2002-11-26 | Tokyo Electron Limited | Substrate processing method and substrate processing apparatus |
EP1255294A4 (en) | 2000-01-17 | 2009-01-21 | Ebara Corp | SEMI-SLIDE TRANSPORT CONTROL APPARATUS AND METHOD OF TRANSPORTING SEMICONDUCTED DISCS |
SG106599A1 (en) * | 2000-02-01 | 2004-10-29 | Tokyo Electron Ltd | Substrate processing apparatus and substrate processing method |
US6432842B2 (en) | 2000-03-30 | 2002-08-13 | Tokyo Electron Limited | Coating method and coating apparatus |
US6919001B2 (en) | 2000-05-01 | 2005-07-19 | Intevac, Inc. | Disk coating system |
JP2002057100A (ja) * | 2000-05-31 | 2002-02-22 | Canon Inc | 露光装置、コートデベロップ装置、デバイス製造システム、デバイス製造方法、半導体製造工場および露光装置の保守方法 |
JP4915033B2 (ja) * | 2000-06-15 | 2012-04-11 | 株式会社ニコン | 露光装置、基板処理装置及びリソグラフィシステム、並びにデバイス製造方法 |
TW501194B (en) | 2000-08-23 | 2002-09-01 | Tokyo Electron Ltd | Processing system for object to be processed |
JP3587776B2 (ja) * | 2000-10-10 | 2004-11-10 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布装置及び塗布方法 |
JP2002134396A (ja) * | 2000-10-25 | 2002-05-10 | Sony Corp | 半導体装置の製造方法および半導体パターン自動調節装置 |
US6491451B1 (en) | 2000-11-03 | 2002-12-10 | Motorola, Inc. | Wafer processing equipment and method for processing wafers |
JP3616748B2 (ja) * | 2000-11-07 | 2005-02-02 | 東京エレクトロン株式会社 | 現像処理方法,現像処理装置及び処理装置 |
JP3943828B2 (ja) * | 2000-12-08 | 2007-07-11 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布、現像装置及びパターン形成方法 |
JP4124400B2 (ja) | 2001-01-19 | 2008-07-23 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置 |
US6558053B2 (en) * | 2001-04-19 | 2003-05-06 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Substrate processing apparatus |
KR100387418B1 (ko) | 2001-05-23 | 2003-06-18 | 한국디엔에스 주식회사 | 반도체 제조 공정에서 사용되는 스피너 시스템 |
JP2003022962A (ja) * | 2001-07-10 | 2003-01-24 | Canon Inc | 露光システム、デバイス製造方法、半導体製造工場および露光装置の保守方法 |
US6750155B2 (en) * | 2001-08-08 | 2004-06-15 | Lam Research Corporation | Methods to minimize moisture condensation over a substrate in a rapid cycle chamber |
JP2003059810A (ja) | 2001-08-20 | 2003-02-28 | Nec Kansai Ltd | 薬液処理装置 |
JP2003142547A (ja) | 2001-08-24 | 2003-05-16 | Hirata Corp | ワーク搬送装置 |
JP2003188229A (ja) | 2001-12-18 | 2003-07-04 | Hitachi Kasado Eng Co Ltd | ウエハ製造システムおよびウエハ製造方法 |
US20030131458A1 (en) | 2002-01-15 | 2003-07-17 | Applied Materials, Inc. | Apparatus and method for improving throughput in a cluster tool for semiconductor wafer processing |
JP3916473B2 (ja) | 2002-01-31 | 2007-05-16 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置および基板処理方法 |
JP4153781B2 (ja) * | 2002-01-31 | 2008-09-24 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 熱処理装置および基板処理装置 |
JP4195227B2 (ja) | 2002-02-22 | 2008-12-10 | 東京エレクトロン株式会社 | 被処理体の導入ポート構造 |
JP4162420B2 (ja) | 2002-04-16 | 2008-10-08 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置 |
JP3862596B2 (ja) | 2002-05-01 | 2006-12-27 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理方法 |
JP4342147B2 (ja) * | 2002-05-01 | 2009-10-14 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置 |
FR2839331B1 (fr) | 2002-05-02 | 2004-07-16 | Cit Alcatel | Installation de fabrication de composants semi-conducteurs a faux-plancher ventile |
JP3966211B2 (ja) * | 2002-05-08 | 2007-08-29 | 株式会社ニコン | 露光方法、露光装置及びデバイス製造方法 |
KR20030087418A (ko) | 2002-05-09 | 2003-11-14 | 엘지전자 주식회사 | 모뎀 라인을 이용한 펌웨어 갱신 방법 |
JP4073251B2 (ja) | 2002-05-21 | 2008-04-09 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置 |
JP2003347186A (ja) * | 2002-05-23 | 2003-12-05 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
JP2004015021A (ja) | 2002-06-11 | 2004-01-15 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
US6832863B2 (en) * | 2002-06-11 | 2004-12-21 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Substrate treating apparatus and method |
JP2004015023A (ja) | 2002-06-11 | 2004-01-15 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置およびその方法 |
US6807455B2 (en) | 2002-06-26 | 2004-10-19 | Dainippon Screen Mfg. Co. Ltd. | System for and method of processing substrate |
JP2004046450A (ja) | 2002-07-10 | 2004-02-12 | Fujitsu Ten Ltd | 救急搬送システム |
US6843882B2 (en) * | 2002-07-15 | 2005-01-18 | Applied Materials, Inc. | Gas flow control in a wafer processing system having multiple chambers for performing same process |
JP2004087675A (ja) * | 2002-08-26 | 2004-03-18 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
JP4025613B2 (ja) * | 2002-09-27 | 2007-12-26 | 株式会社アドバンテスト | 電子ビーム露光装置、電子ビーム露光装置校正方法、及び半導体素子製造方法 |
JP4133208B2 (ja) * | 2002-10-22 | 2008-08-13 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置 |
JP4018965B2 (ja) | 2002-10-28 | 2007-12-05 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置 |
JP4087328B2 (ja) | 2002-11-28 | 2008-05-21 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布、現像装置及び塗布、現像装置の運転方法 |
KR100974141B1 (ko) * | 2002-11-28 | 2010-08-04 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 기판 처리 장치 |
JP3999649B2 (ja) * | 2002-12-19 | 2007-10-31 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置とその動作方法、およびプログラム |
JP2004207279A (ja) | 2002-12-20 | 2004-07-22 | Rorze Corp | 薄板状物製造設備 |
JP4170864B2 (ja) * | 2003-02-03 | 2008-10-22 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置および基板処理装置における基板搬送方法および基板処理方法 |
JP2004241319A (ja) | 2003-02-07 | 2004-08-26 | Sony Corp | 成膜装置 |
JP2004304003A (ja) | 2003-03-31 | 2004-10-28 | Tokyo Electron Ltd | 処理システム |
JP4233908B2 (ja) * | 2003-04-02 | 2009-03-04 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理システム |
JP4357861B2 (ja) | 2003-04-07 | 2009-11-04 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置 |
JP4307132B2 (ja) | 2003-04-16 | 2009-08-05 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置 |
JP2004342654A (ja) * | 2003-05-13 | 2004-12-02 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
US6876439B2 (en) * | 2003-05-29 | 2005-04-05 | Asml Holding N.V. | Method to increase throughput in a dual substrate stage double exposure lithography system |
US20090143904A1 (en) | 2004-06-11 | 2009-06-04 | Donald Blust | Automated business system and method of vending and returning a consumer product |
KR100524875B1 (ko) | 2003-06-28 | 2005-10-31 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 청정시스템 |
US6879866B2 (en) * | 2003-08-04 | 2005-04-12 | Asml Netherlands B.V. | Method, computer program product and apparatus for scheduling maintenance actions in a substrate processing system |
US7145643B2 (en) * | 2003-08-07 | 2006-12-05 | Asml Netherlands B.V. | Interface unit, lithographic projection apparatus comprising such an interface unit and a device manufacturing method |
JP4137750B2 (ja) * | 2003-09-17 | 2008-08-20 | 株式会社Sokudo | 熱処理装置、熱処理方法および基板処理装置 |
JP4105617B2 (ja) | 2003-09-19 | 2008-06-25 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置 |
JP4079861B2 (ja) | 2003-09-22 | 2008-04-23 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置 |
JP4108027B2 (ja) | 2003-09-22 | 2008-06-25 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置 |
US7387485B2 (en) | 2003-09-29 | 2008-06-17 | Quantum Corporation | Cartridge transport assembly |
KR100521401B1 (ko) | 2003-11-24 | 2005-10-12 | 세메스 주식회사 | 기판세정시스템 |
JP4322086B2 (ja) | 2003-10-14 | 2009-08-26 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置およびその方法 |
KR100546503B1 (ko) | 2003-11-27 | 2006-01-26 | 다이닛뽕스크린 세이조오 가부시키가이샤 | 기판처리장치 및 그 방법 |
JP2005167083A (ja) * | 2003-12-04 | 2005-06-23 | Daifuku Co Ltd | ガラス基板用の搬送設備 |
JP4381121B2 (ja) * | 2003-12-11 | 2009-12-09 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置 |
JP4369325B2 (ja) | 2003-12-26 | 2009-11-18 | 東京エレクトロン株式会社 | 現像装置及び現像処理方法 |
JP4376072B2 (ja) | 2004-01-16 | 2009-12-02 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置及び基板処理方法 |
JP2005243690A (ja) | 2004-02-24 | 2005-09-08 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
US7326505B2 (en) * | 2004-05-26 | 2008-02-05 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
KR101037087B1 (ko) | 2004-06-29 | 2011-05-26 | 엘지디스플레이 주식회사 | 엠엠지용 기판 생산장비 |
JP4381909B2 (ja) * | 2004-07-06 | 2009-12-09 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置および基板処理方法 |
US20060011296A1 (en) | 2004-07-16 | 2006-01-19 | Tokyo Electron Limited | Substrate processing apparatus, substrate processing method, and computer program |
JP3870207B2 (ja) * | 2004-08-05 | 2007-01-17 | キヤノン株式会社 | 液浸露光装置及びデバイス製造方法 |
EP1796145A4 (en) * | 2004-08-30 | 2010-10-06 | Nikon Corp | EXPOSURE DEVICE, OPERATION DECISION METHOD, SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM, MAINTENANCE MANAGEMENT METHOD, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD |
US7623565B2 (en) * | 2004-09-20 | 2009-11-24 | Cypress Semiconductor Corporation | Method for providing packet framing in a communication system |
KR101069821B1 (ko) * | 2004-10-15 | 2011-10-04 | 세메스 주식회사 | 반도체 기판 제조에 사용되는 포토 리소그래피 장치 |
JP2006310724A (ja) * | 2004-11-10 | 2006-11-09 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置および基板処理方法 |
JP5154008B2 (ja) | 2004-11-10 | 2013-02-27 | 株式会社Sokudo | 基板処理装置および基板処理方法 |
JP4381285B2 (ja) * | 2004-11-11 | 2009-12-09 | 株式会社Sokudo | 基板処理装置および基板処理方法 |
KR20060058188A (ko) | 2004-11-24 | 2006-05-29 | 박미경 | 인터넷 웹사이트에서의 상품 판매방법 |
JP4926433B2 (ja) | 2004-12-06 | 2012-05-09 | 株式会社Sokudo | 基板処理装置および基板処理方法 |
JP5154007B2 (ja) | 2004-12-06 | 2013-02-27 | 株式会社Sokudo | 基板処理装置 |
US7798764B2 (en) * | 2005-12-22 | 2010-09-21 | Applied Materials, Inc. | Substrate processing sequence in a cartesian robot cluster tool |
US7371022B2 (en) * | 2004-12-22 | 2008-05-13 | Sokudo Co., Ltd. | Developer endpoint detection in a track lithography system |
US7699021B2 (en) | 2004-12-22 | 2010-04-20 | Sokudo Co., Ltd. | Cluster tool substrate throughput optimization |
US7651306B2 (en) * | 2004-12-22 | 2010-01-26 | Applied Materials, Inc. | Cartesian robot cluster tool architecture |
US7819079B2 (en) | 2004-12-22 | 2010-10-26 | Applied Materials, Inc. | Cartesian cluster tool configuration for lithography type processes |
US20060137726A1 (en) * | 2004-12-24 | 2006-06-29 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Substrate treating apparatus |
US7245348B2 (en) | 2005-01-21 | 2007-07-17 | Tokyo Electron Limited | Coating and developing system and coating and developing method with antireflection film and an auxiliary block for inspection and cleaning |
JP4955976B2 (ja) | 2005-01-21 | 2012-06-20 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布、現像装置及びその方法 |
JP4955977B2 (ja) | 2005-01-21 | 2012-06-20 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布、現像装置及びその方法 |
JP4356936B2 (ja) * | 2005-01-21 | 2009-11-04 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布、現像装置及びその方法 |
JP4459831B2 (ja) | 2005-02-01 | 2010-04-28 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布、現像装置 |
JP4414909B2 (ja) * | 2005-02-14 | 2010-02-17 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布、現像装置 |
JP4414910B2 (ja) | 2005-02-17 | 2010-02-17 | 東京エレクトロン株式会社 | 半導体製造装置及び半導体製造方法 |
JP4541931B2 (ja) | 2005-03-03 | 2010-09-08 | 株式会社日立国際電気 | 半導体装置の製造方法及び半導体製造装置 |
JP4566035B2 (ja) | 2005-03-11 | 2010-10-20 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布、現像装置及びその方法 |
JP4685584B2 (ja) | 2005-03-11 | 2011-05-18 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布、現像装置 |
US7403260B2 (en) | 2005-03-11 | 2008-07-22 | Tokyo Electron Limited | Coating and developing system |
JP4414921B2 (ja) | 2005-03-23 | 2010-02-17 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布、現像装置及び塗布、現像方法 |
US8353986B2 (en) * | 2005-03-31 | 2013-01-15 | Tokyo Electron Limited | Substrate processing apparatus |
TWI380939B (zh) * | 2005-05-31 | 2013-01-01 | Daifuku Kk | 物品搬運裝置 |
JP4273423B2 (ja) | 2005-05-31 | 2009-06-03 | 株式会社ダイフク | 搬送装置 |
JP4522329B2 (ja) | 2005-06-24 | 2010-08-11 | 株式会社Sokudo | 基板処理装置 |
KR100666355B1 (ko) | 2005-07-01 | 2007-01-11 | 세메스 주식회사 | 복층 구조의 반도체 제조 설비 및 그의 처리 방법 |
JP4519037B2 (ja) * | 2005-08-31 | 2010-08-04 | 東京エレクトロン株式会社 | 加熱装置及び塗布、現像装置 |
JP4616731B2 (ja) | 2005-09-01 | 2011-01-19 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布、現像装置 |
JP4937559B2 (ja) | 2005-09-14 | 2012-05-23 | 株式会社Sokudo | 基板処理装置および基板処理方法 |
JP4450784B2 (ja) | 2005-10-19 | 2010-04-14 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布、現像装置及びその方法 |
JP4542984B2 (ja) * | 2005-11-24 | 2010-09-15 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板搬送処理装置及び基板搬送処理装置における障害対策方法並びに基板搬送処理装置における障害対策用プログラム |
JP4654119B2 (ja) * | 2005-11-29 | 2011-03-16 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布・現像装置及び塗布・現像方法 |
JP2007184537A (ja) | 2005-12-07 | 2007-07-19 | Canon Inc | 露光方法、露光装置、複数の基板上にレジストを塗布する装置およびデバイス製造方法 |
JP4654120B2 (ja) | 2005-12-08 | 2011-03-16 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布、現像装置及び塗布、現像方法並びにコンピュータプログラム |
JP4704221B2 (ja) | 2006-01-26 | 2011-06-15 | 株式会社Sokudo | 基板処理装置および基板処理方法 |
JP4781832B2 (ja) | 2006-02-01 | 2011-09-28 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理システム、基板処理装置、プログラム及び記録媒体 |
JP2007208064A (ja) | 2006-02-02 | 2007-08-16 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置および基板処理方法 |
JP5132108B2 (ja) | 2006-02-02 | 2013-01-30 | 株式会社Sokudo | 基板処理装置 |
JP2007240519A (ja) * | 2006-02-08 | 2007-09-20 | Tokyo Electron Ltd | 欠陥検査方法、欠陥検査装置及びコンピュータプログラム |
JP2007234882A (ja) | 2006-03-01 | 2007-09-13 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置および基板取り扱い方法 |
JP4816217B2 (ja) | 2006-04-14 | 2011-11-16 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布、現像装置、塗布、現像方法及び記憶媒体 |
JP4614455B2 (ja) | 2006-04-19 | 2011-01-19 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板搬送処理装置 |
JP2007317987A (ja) | 2006-05-29 | 2007-12-06 | Sokudo:Kk | 基板処理装置および基板処理方法 |
KR100949505B1 (ko) * | 2006-06-05 | 2010-03-24 | 엘지디스플레이 주식회사 | 포토 장치 및 방법 |
KR100784389B1 (ko) | 2006-06-22 | 2007-12-11 | 삼성전자주식회사 | 포토 리소그래피 시스템 및 방법 |
US8220354B2 (en) | 2006-06-28 | 2012-07-17 | Genmark Automation, Inc. | Belt-driven robot having extended Z-axis motion |
JP2008034746A (ja) * | 2006-07-31 | 2008-02-14 | Tokyo Electron Ltd | 塗布、現像装置、その方法及び記憶媒体 |
JP4772620B2 (ja) | 2006-08-11 | 2011-09-14 | 東京エレクトロン株式会社 | 液浸露光用塗布膜の処理条件決定方法および処理条件決定装置 |
JP2008072016A (ja) * | 2006-09-15 | 2008-03-27 | Tokyo Electron Ltd | 液処理装置、液処理方法及び記憶媒体 |
US8419341B2 (en) * | 2006-09-19 | 2013-04-16 | Brooks Automation, Inc. | Linear vacuum robot with Z motion and articulated arm |
JP2008091508A (ja) * | 2006-09-29 | 2008-04-17 | Canon Inc | 処理装置 |
JP4999415B2 (ja) | 2006-09-29 | 2012-08-15 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置及び基板処理方法並びに基板処理装置の用力供給装置及び基板処理装置の用力供給方法 |
US20080158531A1 (en) | 2006-11-15 | 2008-07-03 | Nikon Corporation | Exposure apparatus, exposure method, and method for producing device |
JP5023679B2 (ja) * | 2006-12-05 | 2012-09-12 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布、現像装置及びその方法並びに記憶媒体 |
US7694688B2 (en) * | 2007-01-05 | 2010-04-13 | Applied Materials, Inc. | Wet clean system design |
JP2008198879A (ja) | 2007-02-15 | 2008-08-28 | Sokudo:Kk | 基板処理装置 |
JP5149513B2 (ja) * | 2007-02-15 | 2013-02-20 | 株式会社Sokudo | 基板処理装置 |
US7675048B2 (en) | 2007-03-06 | 2010-03-09 | Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. | Wafer holding robot end effecter vertical position determination in ion implanter system |
US20080224817A1 (en) | 2007-03-15 | 2008-09-18 | Sokudo Co., Ltd. | Interlaced rtd sensor for zone/average temperature sensing |
JP2008258208A (ja) * | 2007-03-30 | 2008-10-23 | Tokyo Electron Ltd | 塗布、現像装置及びその方法並びに記憶媒体 |
JP4908304B2 (ja) | 2007-04-27 | 2012-04-04 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板の処理方法、基板の処理システム及びコンピュータ読み取り可能な記憶媒体 |
US8636458B2 (en) | 2007-06-06 | 2014-01-28 | Asml Netherlands B.V. | Integrated post-exposure bake track |
JP2007227984A (ja) | 2007-06-14 | 2007-09-06 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
KR100904392B1 (ko) | 2007-06-18 | 2009-06-26 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 장치 |
KR100897850B1 (ko) | 2007-06-18 | 2009-05-15 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 장치 |
US20090001071A1 (en) * | 2007-06-28 | 2009-01-01 | Sokudo Co., Ltd | Method and System for Cooling a Bake Plate in a Track Lithography Tool |
JP5006122B2 (ja) * | 2007-06-29 | 2012-08-22 | 株式会社Sokudo | 基板処理装置 |
JP2009021275A (ja) | 2007-07-10 | 2009-01-29 | Sokudo:Kk | 基板処理装置 |
US7801633B2 (en) | 2007-07-10 | 2010-09-21 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Scheduling method and program for a substrate treating apparatus |
US7641406B2 (en) | 2007-07-26 | 2010-01-05 | Sokudo Co., Ltd. | Bevel inspection apparatus for substrate processing |
JP5148944B2 (ja) | 2007-08-14 | 2013-02-20 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理システム |
TW200919117A (en) * | 2007-08-28 | 2009-05-01 | Tokyo Electron Ltd | Coating-developing apparatus, coating-developing method and storage medium |
US7831135B2 (en) | 2007-09-04 | 2010-11-09 | Sokudo Co., Ltd. | Method and system for controlling bake plate temperature in a semiconductor processing chamber |
JP2009071235A (ja) * | 2007-09-18 | 2009-04-02 | Sokudo:Kk | 基板処理装置 |
JP5065167B2 (ja) | 2007-09-20 | 2012-10-31 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板の処理方法及び基板の処理システム |
JP5151383B2 (ja) | 2007-10-12 | 2013-02-27 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布、現像装置、その方法及び記憶媒体 |
JP2009135169A (ja) | 2007-11-29 | 2009-06-18 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理システムおよび基板処理方法 |
JP5318403B2 (ja) * | 2007-11-30 | 2013-10-16 | 株式会社Sokudo | 基板処理装置 |
JP5128918B2 (ja) | 2007-11-30 | 2013-01-23 | 株式会社Sokudo | 基板処理装置 |
JP5160204B2 (ja) * | 2007-11-30 | 2013-03-13 | 株式会社Sokudo | 基板処理装置 |
KR100892756B1 (ko) | 2007-12-27 | 2009-04-15 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 장치 및 이를 이용한 기판 이송 방법 |
JP5001828B2 (ja) | 2007-12-28 | 2012-08-15 | 株式会社Sokudo | 基板処理装置 |
JP5179170B2 (ja) | 2007-12-28 | 2013-04-10 | 株式会社Sokudo | 基板処理装置 |
JP5344734B2 (ja) | 2007-12-28 | 2013-11-20 | 株式会社Sokudo | 基板処理装置 |
JP5056582B2 (ja) | 2008-05-22 | 2012-10-24 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布、現像装置、塗布、現像方法及び記憶媒体 |
US9214372B2 (en) * | 2008-08-28 | 2015-12-15 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Substrate processing system, carrying device and coating device |
JP5225815B2 (ja) | 2008-11-19 | 2013-07-03 | 東京エレクトロン株式会社 | インターフェイス装置、基板を搬送する方法及びコンピュータ可読記憶媒体 |
WO2010085496A1 (en) | 2009-01-21 | 2010-07-29 | George Atanasoff | Methods and systems for control of a surface modification process |
JP4760919B2 (ja) | 2009-01-23 | 2011-08-31 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布、現像装置 |
US20100192844A1 (en) | 2009-01-30 | 2010-08-05 | Semes Co., Ltd. | Apparatus and method for treating substrate |
JP5181306B2 (ja) | 2009-01-30 | 2013-04-10 | セメス株式会社 | 基板処理システム、露光前後処理ユニット及び基板処理方法 |
JP5462506B2 (ja) | 2009-03-18 | 2014-04-02 | 株式会社Sokudo | 基板処理装置 |
JP5187274B2 (ja) | 2009-05-28 | 2013-04-24 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 |
JP5443070B2 (ja) * | 2009-06-19 | 2014-03-19 | 東京エレクトロン株式会社 | インプリントシステム |
JP5060517B2 (ja) * | 2009-06-24 | 2012-10-31 | 東京エレクトロン株式会社 | インプリントシステム |
JP2011009362A (ja) * | 2009-06-24 | 2011-01-13 | Tokyo Electron Ltd | インプリントシステム、インプリント方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 |
JP5050018B2 (ja) * | 2009-08-24 | 2012-10-17 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布現像装置及び塗布現像方法 |
JP5410212B2 (ja) * | 2009-09-15 | 2014-02-05 | 株式会社Sokudo | 基板処理装置、基板処理システムおよび検査周辺露光装置 |
JP5445006B2 (ja) | 2009-10-05 | 2014-03-19 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 |
JP5736687B2 (ja) * | 2009-10-06 | 2015-06-17 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置 |
JP5246184B2 (ja) | 2010-02-24 | 2013-07-24 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 |
JP5168300B2 (ja) | 2010-02-24 | 2013-03-21 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置及び基板処理方法 |
JP5575507B2 (ja) | 2010-03-02 | 2014-08-20 | 株式会社日立国際電気 | 基板処理装置、基板搬送方法、半導体装置の製造方法および基板処理装置のメンテナンス方法 |
JP5408059B2 (ja) | 2010-07-09 | 2014-02-05 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布、現像装置、塗布、現像方法及び記憶媒体 |
JP5479253B2 (ja) * | 2010-07-16 | 2014-04-23 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置、基板処理方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 |
JP5348083B2 (ja) | 2010-07-16 | 2013-11-20 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布、現像装置、塗布、現像方法及び記憶媒体 |
JP5296021B2 (ja) * | 2010-07-23 | 2013-09-25 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布処理方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体及び塗布処理装置 |
WO2012016031A1 (en) | 2010-07-28 | 2012-02-02 | Par Systems, Inc. | Robotic storage and retrieval systems |
JP5223897B2 (ja) | 2010-09-02 | 2013-06-26 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布、現像装置、塗布、現像方法及び記憶媒体 |
JP5293719B2 (ja) | 2010-10-01 | 2013-09-18 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置のデータ取得方法及びセンサ用基板 |
JP5616205B2 (ja) | 2010-11-29 | 2014-10-29 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理システム、基板処理方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 |
US8612807B2 (en) | 2011-01-12 | 2013-12-17 | Ncr Corporation | Entertainment kiosk error handling and troubleshooting method |
JP5883232B2 (ja) * | 2011-03-26 | 2016-03-09 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置 |
JP5821689B2 (ja) | 2011-04-20 | 2015-11-24 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 |
US9405194B2 (en) | 2012-11-30 | 2016-08-02 | Semes Co., Ltd. | Facility and method for treating substrate |
-
2007
- 2007-12-28 JP JP2007340427A patent/JP5001828B2/ja active Active
-
2008
- 2008-12-23 KR KR1020080132304A patent/KR101047799B1/ko active IP Right Review Request
- 2008-12-23 US US12/343,302 patent/US20090165711A1/en not_active Abandoned
- 2008-12-26 TW TW97150912A patent/TWI470724B/zh active
- 2008-12-26 TW TW102112827A patent/TWI538090B/zh active
- 2008-12-26 TW TW102117507A patent/TWI498994B/zh active
-
2014
- 2014-07-30 US US14/447,409 patent/US9368383B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2009164253A (ja) | 2009-07-23 |
US20140342558A1 (en) | 2014-11-20 |
JP5001828B2 (ja) | 2012-08-15 |
US20090165711A1 (en) | 2009-07-02 |
TW200935552A (en) | 2009-08-16 |
TWI470724B (zh) | 2015-01-21 |
TW201403740A (zh) | 2014-01-16 |
TWI498994B (zh) | 2015-09-01 |
KR101047799B1 (ko) | 2011-07-07 |
TWI538090B (zh) | 2016-06-11 |
TW201338086A (zh) | 2013-09-16 |
US9368383B2 (en) | 2016-06-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101047799B1 (ko) | 기판처리장치 | |
JP5318403B2 (ja) | 基板処理装置 | |
KR101483904B1 (ko) | 기판처리방법 | |
JP5128918B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP5344734B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP5160204B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP2009010291A (ja) | 基板処理装置 | |
JP5442890B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP5572666B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP5629675B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP2018160681A (ja) | 基板処理装置 | |
JP5893705B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP5608148B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP5964654B2 (ja) | 基板処理方法 | |
JP6557647B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP5442889B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP6049929B2 (ja) | 基板処理方法 | |
JP6209554B2 (ja) | 基板処理方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
J204 | Request for invalidation trial [patent] | ||
J301 | Trial decision |
Free format text: TRIAL DECISION FOR INVALIDATION REQUESTED 20111007 Effective date: 20130430 |
|
J2X1 | Appeal (before the patent court) |
Free format text: INVALIDATION |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20140630 Year of fee payment: 4 |
|
J302 | Written judgement (patent court) |
Free format text: JUDGMENT (PATENT COURT) FOR INVALIDATION REQUESTED 20130531 Effective date: 20140627 |
|
J221 | Remand (intellectual property tribunal) |
Free format text: REMAND (INTELLECTUAL PROPERTY TRIBUNAL) FOR INVALIDATION |
|
J303 | Written judgement (supreme court) |
Free format text: JUDGMENT (SUPREME COURT) FOR INVALIDATION REQUESTED 20140728 Effective date: 20141027 |
|
J301 | Trial decision |
Free format text: TRIAL DECISION FOR INVALIDATION REQUESTED 20141110 Effective date: 20141117 |