JP3662150B2 - 処理システム - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば液晶ディスプレイ(Liquid Crystal Display:LCD)に使われるガラス基板上にレジストを塗布したり、現像処理を施す処理システムに関する。
【0002】
【従来の技術】
LCDの製造工程においては、LCD用のガラス基板上にITO(Indium Tin Oxide)の薄膜や電極パターンを形成するために、半導体デバイスの製造に用いられるものと同様のフォトリソグラフィ技術が利用される。フォトリソグラフィ技術では、レジストをガラス基板上に塗布し、これを露光し、さらに現像する。
【0003】
例えば、レジストをガラス基板に塗布するシステムでは、洗浄装置によりガラス基板に対してスクラバ洗浄を行い、加熱装置により加熱乾燥した後に冷却装置により冷却し、レジスト塗布装置によりレジストを塗布し、そして加熱装置によりポストベークを行った後に冷却装置により冷却している。
【0004】
このようなシステムは、例えば図7に示すように、搬送装置101が走行する搬送路102に沿って冷却装置103、レジスト塗布装置104、加熱装置105等が配置されている。
【0005】
そして、例えばレジスト塗布装置104を中心に考えると、冷却装置103から搬送路102を介してレジスト塗布装置104へガラス基板Gが搬送され(同図▲1▼の工程)、レジストが塗布される。その後、このガラス基板Gは搬送路102を介してレジスト塗布装置104から加熱装置105へ搬送される(同図▲2▼の工程)。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、このようなシステムでは、1つの搬送装置101がレジスト塗布装置104等の1つの処理部に対して搬入と搬出の2つの工程(図7(1)(2))を受け持つことになるため、システム全体の処理能力を向上させることが困難である、という課題があった。
【0007】
本発明は上記のような課題を解決するためになされたもので、システム全体の処理能力の向上を図ることができる処理システムを提供することを目的としている。
【0008】
また、本発明の別の目的は、システムの処理能力を段階的に拡張することができる処理システムを提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】
かかる課題を解決するため、本発明の処理システムは、被処理体が搬入される搬入部と、被処理体が搬出される搬出部と、前記搬入部と前記搬出部との間にほぼ平行に並べられた直線状の複数の搬送路と、前記各搬送路間に沿って配置され、かつ、これら搬送路の並びに沿って被処理体に対する処理の順番に配置された、被処理体に処理を施す複数種類の処理部と、前記搬送路上を移動可能に配置され、前記搬入部と前記処理部間、前記処理部間、或いは前記搬出部と前記処理部間で被処理体の受け渡しを行う搬送装置とを具備し、前記各処理部は、前記各搬送路に沿って、同一の処理を行う複数の処理ユニットを有するものであり、前記搬送装置は、常に、前記搬入部側の処理部から被処理体を搬出して、その搬出した被処理体を前記搬出部側の処理部へ搬入するものであり、各処理部に設けられた処理ユニットの台数は、処理ユニット毎の処理時間をその処理ユニットの台数で除した時間が、全ての処理部で略等しくなるように設定されており、各処理部に設けられた処理ユニットの台数は、処理ユニット毎の処理時間をその処理ユニットの台数で除した時間が、前記搬送装置による搬送時間に略等しくなるように設定されている。
【0010】
本発明では、処理部への被処理体の搬入と処理部からの被処理体の搬出とをそれぞれ別の搬送手段により行うことができ、さらに被処理体が順番に並べられた処理部に沿って一方向に搬送・処理されていくので、搬送手段の負荷を軽減でき、この結果システム全体の処理能力の向上を図ることができる。また、それそれの種類の処理部をそれぞれの搬送路に沿って配置したので、この搬送路に沿って処理部を搬送路方向、更には垂直方向に逐次拡張することができ、従ってシステムの処理能力を段階的に拡張することができる。さらに、搬送能力を含めてシステム内での各処理の処理能力の均一化を図ることができる。即ち、本発明によれば、システムが最適化され、システムの能力を最大限に引き出すことできる。
【0015】
本発明の処理システムは、さらに、前の処理部の処理ユニットから被処理基板を搬送する次の処理部の処理ユニットを選択するための選択ルールを格納する選択ルール格納部と、前記選択ルールに基づいて前記搬送装置を制御し、被処理基板を前の処理部の処理ユニットから次の処理部の処理ユニットに搬送させる制御装置とを有することを特徴とする。そして、前記選択ルールは、複数の条件を含み、少なくとも、前記搬送装置の移動距離が最短であるという条件を含むものであることを特徴とし、或いは前記選択ルールは、複数の条件を含み、少なくとも、前記搬送装置の移動時間が最短であるという条件を含むものであることを特徴とし、或いは前記各処理部の各処理ユニット内に被処理基板が存在するかを判断する判断手段を有し、前記制御装置は、この判断手段による判断結果を前記選択ルールに適用することで被処理体を搬送する処理ユニットを選択するものであることを特徴とする。
【0016】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づき説明する。
図1は本発明の一実施形態に係るレジスト液塗布システムの平面図である。
【0017】
図1に示すように、このレジスト液塗布システム1の前方(紙面左側)には、ガラス基板Gをレジスト液塗布システム1に搬入する搬入部2が設けられている。また、このレジスト液塗布システム1の後方(紙面右側)には、ガラス基板Gをレジスト液塗布システム1から搬出する搬出部3が設けられている。
【0018】
搬入部2には、ガラス基板Gを例えば25枚ずつ収納したカセットCを所定位置に整列させて載置させるカセット載置台4が設けられている。また、搬出部3には、ガラス基板Gを例えば25枚ずつ収納されるカセットCを所定位置に整列させて載置させるカセット載置台5が設けられている。
【0019】
搬入部2と搬出部3との間には、直線状の搬送路6〜12が複数、ここでは7本ほぼ平行に並べられている。そして、各搬送路間6〜12には、処理部13〜18が配置されている。処理部13〜18は、ガラス基板にGに対してそれぞれ異なる処理を施すものである。
【0020】
より具体的には、例えばこのレジスト液塗布システム1では、スクラバ洗浄→加熱乾燥→冷却→レジスト液塗布→ポストベーク→冷却の順番で処理が行われる。従って、第1列目の搬送路6と第2列目の搬送路7との間には、複数の洗浄処理ユニット(SCR)を有する洗浄処理部13が配置され、第2列目の搬送路7と第3列目の搬送路8との間には複数の加熱処理ユニット(HP)を有する第1の加熱処理部14が配置され、第3列目の搬送路8と第4列目の搬送路9との間には複数の冷却処理ユニット(COL)を有する第1の冷却処理装置15が配置され、第4列目の搬送路9と第5列目の搬送路10との間には複数のレジスト液塗布ユニット(CT)を有するレジスト液塗布処理部16が配置され、第5列目の搬送路10と第6列目の搬送路11との間には複数の加熱ユニット(HP)を有する第2の加熱処理部17が配置され、第6列目の搬送路11と第7列目の搬送路12との間には複数の冷却ユニット(COL)を有する第2の冷却処理部18が配置されている。
【0021】
ここで、前記洗浄処理部13における洗浄ユニット(SCR)は、カップ内でガラス基板Gを回転させながらこのガラス基板G上をスクラバ洗浄するものである。前記第1の加熱処理部14における加熱ユニット(HP)は、洗浄後のガラス基板Gを加熱乾燥するものである。前記第1の冷却処理部15における冷却ユニット(COL)は、加熱乾燥されたガラス基板Gを冷却するものである。レジスト液塗布ユニット(CT)は、カップ内で冷却されたガラス基板Gを回転させながらこのガラス基板G上にレジスト液を供給するものである。前記第2の加熱処理部17における加熱ユニット(HP)は、レジスト液が塗布されたガラス基板Gをポストベークするものである。前記第2の冷却処理部18における冷却ユニット(COL)は、ポストベークされたガラス基板Gを冷却するものである。
【0022】
これらの処理部13〜18のうち、カップ系の処理部である洗浄処理部13及びレジスト液塗布処理部16と比べ、オーブン系の処理部である第1、第2の加熱処理部14、17、第1、第2の冷却処理部15、18は高さが低いことから、多段、例えば上下に2段に構成されている。これにより、搬送路の短縮化を図ることができ、占有スペースを狭くするようにしている。
【0023】
また、図2に示すように、各処理部13〜18の一側には、ガラス基板Gを搬入するための搬入口31が設けられ、各処理部13〜18の他側には、ガラス基板Gを搬出するための搬出口32が設けられている。
【0024】
各搬送路6〜12には、搬送装置19が移動可能に配置されている。この搬送装置19は、図3に示すように、搬送路6〜12に沿って移動可能な本体20と、装置本体20に対して上下動および旋回動が可能なベース部材21と、ベース部材21上を水平方向に沿って移動可能な基板支持部材22とを有している。そして、ベース部材21の中央部と装置本体20とが連結部23により連結されている。本体20に内蔵された図示しないモータにより連結部23を上下動または回転させることにより、ベース部材21が上下動または旋回動される。このようなベース部材21の上下動および旋回動、ならびに基板支持部材22の水平移動によりガラス基板Gの搬送が行われる。参照符号24は、基板支持部材22をガイドするガイドレールである。
【0025】
ここで、搬送装置19の1動作が例えば10秒、洗浄処理部13の1動作が120秒、第1の加熱処理部14の1動作が180秒、第1の冷却処理部15の1動作が120秒、レジスト液塗布処理部16の1動作が60秒、第2の加熱処理部17の1動作が180秒、第2の冷却処理部18の1動作が180秒とする。そして、本実施形態のシステムでは、各処理部13〜18の処理時間(1動作)を当該処理部に設けられた各処理ユニットの台数で除した値が、1台の搬送装置19による搬送時間(1動作)にほぼ等しくなるように、各処理ユニットの台数を定めている。
【0026】
具体的には、洗浄処理部13は12台の洗浄処理ユニット(SCR)を有し、第1の加熱処理部14は18台の加熱処理ユニット(HP)を有し、第1の冷却処理部15は12台の冷却処理ユニット(COL)を有し、レジスト液塗布処理部は6台のレジスト液塗布ユニット(CT)を有し、第2の加熱処理部17は18台の加熱処理ユニット(HP)を有し、第2の冷却処理部18は18台の冷却処理ユニット(COL)を有している。これにより、システム全体の1動作は10秒となる。しかし、この台数はシステムを最適化した場合のものであって、システム導入時には必要な台数の処理ユニットを有する各処理装置13〜18を設置しておき、必要に応じて段階的に台数を増やすようにしても勿論構わない。これにより、段階的な投資、更にはプロセス性能にあった最適な投資が可能となる。
【0027】
次にこのように構成された処理システム1の動作について図4を参照しながら説明する。
【0028】
搬入部2のカセットCに収納されたガラス基板Gは、第1列目の搬送路6を介して洗浄処理部13の洗浄処理ユニット(SCR)へ搬送される(図4▲1▼の工程)。洗浄処理ユニット(SCR)で洗浄が行われたガラス基板Gは、第2列目の搬送路7を介して第1の加熱処理部14の加熱処理ユニット(HP)へ搬送される(図4▲2▼の工程)。加熱処理ユニット(HP)14で加熱乾燥されたガラス基板Gは、第3列目の搬送路8を介して第1の冷却処理部15の冷却処理ユニット(COL)15へ搬送される(図4▲3▼の工程)。冷却処理ユニット(COL)15で冷却されたガラス基板Gは、第4列目の搬送路9を介してレジスト液塗布処理部16のレジスト塗布処理ユニット(CT)へ搬送される(図4▲4▼の工程)。レジスト液塗布処理ユニット(CT)でレジスト液が塗布されたガラス基板Gは、第5列目の搬送路10を介して第2の加熱処理部17の加熱処理ユニット(HP)へ搬送される(図4▲5▼の工程)。加熱処理ユニット(HP)でポストベークされたガラス基板Gは、第6列目の搬送路11を介して第2の冷却処理部18の冷却処理ユニット(COL)へ搬送される(図4▲6▼の工程)。そして、この冷却処理ユニット(COL)18で冷却されたガラス基板Gは、第7列目の搬送路12を介して搬出部3へ搬送され(図4▲7▼の工程)、搬出部3のカセットCへ収納される。なお、搬出部3のカセットCは、ガラス基板Gが収容されると、自走搬送装置(AGV)により露光装置へ搬送される。
【0029】
次に、この処理システム1の制御系統について説明する。
上記処理システムの場合、各処理部13〜18がそれぞれ複数の処理ユニットを有するが、現実にはどの処理ユニットを用いて処理を行うかが重要になる。そこで、この装置では、図5に示す制御系統を有する。
【0030】
この制御系統は、中央制御装置40と、各処理部13〜18に設けられ各処理部13〜18の空いている処理ユニットを検出するためのセンサ41a〜41fと、処理ユニットの選択ルールを格納する処理ユニット選択ルール格納部42と、前記中央制御装置40に設けられ前記ユニット選択ルールと前記センサ41による検出結果に基づいて次の処理部13〜18において処理を行う処理ユニットを選択する処理ユニット選択部43と、この処理ユニット選択部43による決定に基づいて前記各処理部13〜18間の各搬送路7〜12に配置された搬送装置19を制御する搬送装置制御部44とからなる。
【0031】
前記選択ルール格納部42に格納された処理ユニットの選択ルールは、例えば、前の処理ユニットから最も近い(若しくは搬送時間が最も短い)処理ユニットが選択され、かつ全ての処理ユニットが満遍なく使用されるように決定される。このような選択ルールの例としては:
【0032】
▲1▼ 洗浄処理部1においては、紙面上側の洗浄処理ユニット(SCR)から紙面下側へ向かって順に使用していき、一番下側の洗浄処理ユニット(SCR)を使用した後は再び一番上側の処理ユニット(SCR)を使用し始める;
【0033】
▲2▼ 次の処理部14〜18の処理ユニットを選択するに当たっては、前の処理部の処理ユニットから最も近い処理ユニットを選択するようにする;
【0034】
▲3▼ 上記▲2▼において、同じ距離の処理ユニットが複数ある場合には、紙面上側に位置する処理ユニットを優先させる;
【0035】
▲4▼ 上記センサ41に基づいてエラーであると判断された処理ユニットは選択しない;
というルールが挙げられる。
【0036】
なお、前記センサ41a〜41fは、各処理部13〜18の各処理ユニット内に設けられて、そのユニット内に基板Gが収容されているかを判断するものであれば良い。また、センサに代えて各処理ユニット内の基板保持装置Gの動作信号を使用して各ユニット内に基板Gが存在するかを判断するようにしても良い。
【0037】
このように本実施形態の処理システム1では、各処理部13〜18へのガラス基板Gの搬入と処理部13〜18からのガラス基板Gの搬出とをそれぞれ異なる搬送装置19により行うことができ、さらに図4の▲1▼〜▲7▼の工程のようにガラス基板Gが処理の順番に並べられた処理部13〜18に沿って一方向に搬送・処理されていくので、搬送装置19の負荷を軽減できる。そして、通常、システムのタクト(1動作)は搬送装置のタクトに律速するので、このように搬送装置の負荷を軽減することで、システム全体の処理能力の向上を図ることができる。
【0038】
なお、本発明は上述した実施の形態には限定されず、その技術思想の範囲内で様々な変形が可能である。
【0039】
例えば、上述した実施の形態では、レジスト液塗布システムに本発明を適用したものであったが、他のシステム、例えば現像処理を行う処理システム等にも本発明を適用できる。
【0040】
また、図6に示すように、露光装置51の一側にガラス基板Gを搬入するための搬入口52を設け、他側にガラス基板Gを搬出するための搬出口53を設け、本発明を適用したレジスト液塗布システム54を露光装置51の搬入口52に接続し、本発明を適用した現像処理システム55を露光装置51の搬出口53に接続し、レジスト液塗布→露光処理→現像処理を一貫して行うように構成してもよい。
【0041】
さらに、本発明は、LCDのガラス基板Gに対する処理システムを例にとり説明したが、半導体ウェハ等の他の基板を処理するシステムにも当然適用できる。
【0042】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、被処理体に処理を施す複数種類の処理部を処理の順番に並べ、前記各処理部間に被処理体の受け渡しを行うための搬送手段を配置するように構成したので、システム全体の処理能力の向上を図ることができる。
【0043】
本発明によれば、ほぼ平行に並べられた直線状の複数の搬送路と、前記各搬送路間に沿って配置され、かつ、これら搬送路の並びに沿って被処理体に対する処理の順番に配置された、被処理体に処理を施す複数種類の処理部と、前記搬送路上を移動可能に配置され、前記処理部間で被処理体の受け渡しを行う搬送装置とを具備するように構成したので、システム全体の処理能力の向上を図ることができ、またシステムの処理能力を段階的に拡張することができる。
【0044】
本発明によれば、被処理体が搬入される搬入部と、被処理体が搬出される搬出部と、前記搬入部と前記搬出部との間にほぼ平行に並べられた直線状の複数の搬送路と、前記各搬送路間に沿って配置され、かつ、これら搬送路の並びに沿って被処理体に対する処理の順番に配置された、被処理体に処理を施す複数種類の処理部と、前記搬送路上を移動可能に配置され、前記搬入部と前記処理部間、前記処理部間、或いは前記搬出部と前記処理部間で被処理体の受け渡しを行う搬送装置とを具備するように構成したので、システム全体の処理能力の向上を図ることができ、またシステムの処理能力を段階的に拡張することができる。
【0045】
本発明によれば、前記各搬送路間に沿って、各処理部の処理時間に応じた数の処理部がそれぞれ配置するように構成したので、システム内での各処理の処理能力の均一化を図ることができる。
【0046】
本発明によれば、前記各処理部の処理時間を当該処理部の数で除した値が、前記搬送装置による被処理体の搬送時間にほぼ等しくなるように構成したので、搬送能力を含めてシステム内での各処理の処理能力の均一化を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態に係るレジスト塗布システムの平面図である。
【図2】図1に示した処理部の構成を示す斜視図である。
【図3】搬送装置の構成を示す斜視図である。
【図4】この実施形態に係るレジスト塗布システムの処理の流れを示す図である。
【図5】図1に示したレジスト塗布システムの制御系統を示すブロック図である。
【図6】本発明の他の実施形態に係る処理システムの平面図である。
【図7】従来のレジスト塗布システムの説明図である。
【符号の説明】
1 レジスト塗布システム
2 搬入部
3 搬出部
6〜12 搬送路
13 洗浄装置(SCR)
14 加熱装置(HP)
15 冷却装置(COL)
16 レジスト塗布装置(CT)
17 加熱装置(HP)
18 冷却装置(COL)
19 搬送装置
G ガラス基板
Claims (5)
- 被処理体が搬入される搬入部と、
被処理体が搬出される搬出部と、
前記搬入部と前記搬出部との間にほぼ平行に並べられた直線状の複数の搬送路と、
前記各搬送路間に沿って配置され、かつ、これら搬送路の並びに沿って被処理体に対する処理の順番に配置された、被処理体に処理を施す複数種類の処理部と、
前記搬送路上を移動可能に配置され、前記搬入部と前記処理部間、前記処理部間、或いは前記搬出部と前記処理部間で被処理体の受け渡しを行う搬送装置とを具備し、
前記各処理部は、前記各搬送路に沿って、同一の処理を行う複数の処理ユニットを有するものであり、
前記搬送装置は、常に、前記搬入部側の処理部から被処理体を搬出して、その搬出した被処理体を前記搬出部側の処理部へ搬入するものであり、
各処理部に設けられた処理ユニットの台数は、処理ユニット毎の処理時間をその処理ユニットの台数で除した時間が、全ての処理部で略等しくなるように設定されており、
各処理部に設けられた処理ユニットの台数は、処理ユニット毎の処理時間をその処理ユニットの台数で除した時間が、前記搬送装置による搬送時間に略等しくなるように設定されていることを特徴とする処理システム。 - 請求項1記載の処理システムにおいて、
さらに、
前の処理部の処理ユニットから被処理基板を搬送する次の処理部の処理ユニットを選択するための選択ルールを格納する選択ルール格納部と、
前記選択ルールに基づいて前記搬送装置を制御し、被処理基板を前の処理部の処理ユニットから次の処理部の処理ユニットに搬送させる制御装置と
を有することを特徴とする処理システム。 - 請求項2記載の処理システムにおいて、
前記選択ルールは、複数の条件を含み、
少なくとも、前記搬送装置の移動距離が最短であるという条件を含むものである
ことを特徴とする処理システム。 - 請求項2記載の処理システムにおいて、
前記選択ルールは、複数の条件を含み、
少なくとも、前記搬送装置の移動時間が最短であるという条件を含むものである
ことを特徴とする処理システム。 - 請求項2記載の処理システムにおいて、
前記各処理部の各処理ユニット内に被処理基板が存在するかを判断する判断手段を有し、
前記制御装置は、この判断手段による判断結果を前記選択ルールに適用することで被処理体を搬送する処理ユニットを選択するものである
ことを特徴とする処理システム。
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