JPH11340297A - 基板搬送装置および方法 - Google Patents

基板搬送装置および方法

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JPH11340297A
JPH11340297A JP13992198A JP13992198A JPH11340297A JP H11340297 A JPH11340297 A JP H11340297A JP 13992198 A JP13992198 A JP 13992198A JP 13992198 A JP13992198 A JP 13992198A JP H11340297 A JPH11340297 A JP H11340297A
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JP
Japan
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substrate
unit
holding
hand
transfer
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Application number
JP13992198A
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English (en)
Inventor
Hiroo Nakamura
宏生 中村
Masashi Nakayama
正志 中山
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Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
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Publication date
Application filed by Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd filed Critical Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 基板搬送に要する時間を短縮化することがで
きる基板搬送装置および方法を提供する。 【解決手段】 ハンドが基板を保持しているか否かを検
出するセンサが設けられている。そして、このセンサの
検出結果に基づき、ハンドが基板を保持している時には
基板を振り落とさない程度の速度でハンドはインデクサ
ー部2内を移動するため、基板を破損させることなく確
実に搬送することができる。しかも、ハンドが基板を保
持しない時には、ハンドの移動速度を、基板を保持して
いる時の移動速度よりも高くなるように制御しているの
で、基板搬送に要する時間を短縮して基板処理装置のス
ループットを向上させることができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置用ガ
ラス基板、半導体基板およびプラズマディスプレイ用基
板などの基板を第1基板位置から第2基板位置に搬送す
る基板搬送装置および方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来より周知のように、プラズマディス
プレイ用基板、液晶表示基板や半導体基板などの精密電
子基板(以下、単に「基板」という)の製造プロセスに
おいては、例えば回転式塗布処理部,回転式現像処理
部,密着強化ユニット,クーリングプレートおよびホッ
トプレートなどを適当に配置し、基板搬送ロボットなど
の基板搬送装置により基板をカセットから取出し、それ
らの処理部の間を所定の搬送順序で搬送しつつ、それら
の処理部に出入れして一連の処理を行った後、当該処理
済みの基板をカセットに戻す基板処理装置が使用され
る。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記基板処
理装置に用いられている基板搬送装置は、互いに異なる
基板位置(例えば、カセットと処理部、あるいは互いに
異なる処理部)の間で基板を搬送するものであり、基板
を保持可能なハンドを一方の基板位置に移動させて基板
を受取り、この基板を保持したままで当該ハンドを別の
基板位置に移動させて基板搬送を行っている。また、こ
の基板搬送装置では、基板搬送を行っている際にハンド
から基板が脱落しない範囲内で、基板搬送に要する時間
を短縮して基板処理装置の高スループット化を図るべ
く、移動可能なハンドの移動速度を定めている。
【0004】しかしながら、従来の基板搬送装置はハン
ドの移動速度を一律に設定しており、ハンドが基板を保
持していない時、例えば基板を第1基板位置に受取りに
行く際においても、基板の脱落防止を考慮した移動速度
で移動するように構成しており、基板搬送装置の搬送能
力を最大限に引出した状態で基板搬送を行っているとは
言えず、現状では基板搬送に要する時間のさらなる短縮
化の余地を残しているといわざるを得ない。
【0005】この発明は、上記のような問題に鑑みてな
されたものであり、基板搬送に要する時間を短縮化する
ことができる基板搬送装置および方法を提供することを
目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】請求項1の発明は、第1
基板位置にある基板を、前記第1基板位置とは異なる第
2基板位置に搬送する基板搬送装置であって、上記目的
を達成するため、基板を保持可能な基板保持手段と、前
記基板保持手段を移動させる移動機構と、前記移動機構
を制御して前記基板保持手段によって前記第1基板位置
にある基板を受け取り、前記第2基板位置に搬送する制
御手段とを備え、前記制御手段によって、基板受取から
第2基板位置までの基板搬送中、前記基板保持手段の動
作状況に応じて前記基板保持手段の移動速度を変更して
いる。
【0007】請求項2の発明は、前記基板保持手段が基
板を保持しているか否かを検出する検出手段をさらに備
え、前記制御手段によっては、前記検出手段による検出
結果に基づき、基板を保持しない時の前記基板保持手段
の移動速度が基板を保持している時の移動速度よりも高
くなるようにしている。
【0008】請求項3の発明は、基板受取から第2基板
位置までの基板搬送を複数の運転ステップに分割し、記
憶する記憶手段を備え、前記制御手段によって、各運転
ステップ毎に前記基板保持手段の移動速度を制御してい
る。
【0009】請求項4の発明は、前記制御手段によっ
て、基板を保持しないで前記基板保持手段を移動させる
運転ステップにおける前記基板保持手段の移動速度が、
基板を保持して前記基板保持手段を移動させる運転ステ
ップにおける移動速度よりも高くなるようにしている。
【0010】請求項5の発明は、基板保持手段によって
第1基板位置にある基板を受け取り、前記第1基板位置
とは異なる第2基板位置に搬送する基板搬送方法であっ
て、上記目的を達成するため、基板受取から第2基板位
置までの基板搬送中、前記基板保持手段の動作状況に応
じて前記基板保持手段の移動速度を変更している。
【0011】この発明では、基板保持手段が第1基板位
置にある基板を受け取り、第2基板位置に搬送して一連
の基板搬送処理を行うが、この基板搬送中、基板保持手
段の動作状況に応じて基板保持手段の移動速度が変更制
御される。このため、基板保持手段は基板を有している
時には基板が基板保持手段から脱落しない範囲内で最高
速度で移動させる一方、基板を有していない時には基板
の脱落を考慮することなく装置の最大能力で基板保持手
段を移動させることができ、基板を有していない時の基
板保持手段の移動速度がより一層高速化されて基板搬送
に要する時間が短縮される。
【0012】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態について図面
を用いて説明する。図1は、本発明にかかる基板搬送装
置の一の実施形態が適用された基板処理装置の一例を示
している。この図に示す基板処理装置1は、例えば、液
晶表示器用のガラス基板の処理においてフォトリソグラ
フィ工程を担う装置で、レジスト塗布前の洗浄処理から
レジスト塗布・露光・現像までを連続して順次行うよう
に構成されている。
【0013】基板処理装置1は、同図に示すように、本
発明の供給部としてのインデクサー部2と、単位処理部
としての洗浄ユニット10、脱水ベークユニット20、
レジスト塗布ユニット30、プリベークユニット40、
露光ユニット60、現像ユニット80およびポストベー
クユニット90と、プリベークユニット40および露光
ユニット60の間に介設されるバッファ(バッファ部)
50とを有しており、インデクサー部2から供給される
所定の搬送順序で各単位処理部に搬送しながら各単位処
理部で処理した後、再度、上記インデクサー部2に基板
を戻すように、インデクサー部2に対して他の処理部が
U字型に接続されたレイアウト構成となっている。
【0014】上記インデクサー部2には、基板を収納し
たカセット4を載置するカセット載置部と、本発明にか
かる基板搬送装置3が設けられ、上記カセット載置部に
セットされたカセット4から基板搬送装置3により基板
を取り出して洗浄ユニット10に受け渡すとともに、処
理後の基板をポストベークユニット90から受け取って
もとのカセット4に収納するように構成されている。な
お、この基板搬送装置3の機械的および電気的構成、な
らびに動作については、後で詳述する。
【0015】上記洗浄ユニット10は、搬入部11、U
Vオゾン洗浄部12、水洗部13、液滴除去部14およ
び搬出部15を有し、上記インデクサー部2から供給さ
れた基板を例えば水平姿勢で搬送しながら洗浄処理を施
すように構成されている。
【0016】上記脱水ベークユニット20は、搬入部2
1、加熱部22、密着強化処理部23および冷却部24
を有しており、洗浄処理を終えた基板に対し、まず、加
熱部22において加熱処理を施して水分を除去し、レジ
スト液の密着性を向上させるべく密着強化処理部23に
おいてHMDS(ヘキサメチルジシラザン)を塗布す
る。そして、最後に冷却部24において基板に冷却処理
を施すように構成されている。
【0017】上記レジスト塗布ユニット30は、搬入部
31、スピンコータ部32、減圧乾燥部33、エッジリ
ンス部34および搬出部35を有しており、まず、スピ
ンコータ部32において基板の表面に均一なレジスト膜
を形成し、これを減圧乾燥部33で減圧ベークした後、
エッジリンス部34において基板周縁の不要なレジスト
膜を除去するように構成されている。
【0018】上記プリベークユニット40は、加熱部と
冷却部とを多段に備えた2つの処理部41を有してお
り、これら処理部41の間に介設されたロボット42に
より、該処理部41に対して基板を出し入れして基板に
加熱および冷却処理を施すように構成されている。
【0019】上記バッファ50は、多数の基板を収納可
能とする2つの収納部51と、これら収納部51の間に
介設されるロボット52とから構成されており、露光前
の基板および露光後の基板をロボット52により各収納
部51に収納して一時的に基板を待機させるように構成
されている。
【0020】上記露光ユニット60は、例えば、縮小投
影露光機等の露光機や、露光機での露光パターンの焼き
付けのための位置決め行うアライメント機構等を備えて
おり、プリベーク後の基板を露光するように構成されて
いる。
【0021】上記現像ユニット80は、搬入部81、現
像部82、水洗乾燥部83および搬出部84を有してお
り、現像部82では、例えば、現像液を基板に対して噴
霧しながら現像処理を施すように構成されている。
【0022】上記ポストベークユニット90は、搬入部
91、加熱部92、冷却部93及び搬出部94を有して
おり、まず、現像処理の後の基板に対して加熱処理を施
して基板上に残留した現像液や洗浄液を蒸発除去し、そ
の後、冷却処理を施すように構成されている。
【0023】なお、図1中、符号7および8は、基板の
載置テーブルであり、レジスト塗布ユニット30とプリ
ベークユニット40との間での基板の受渡し、あるいは
プリベークユニット40とバッファ50との間での基板
の受渡しの際に、一時的に基板を載置するようになって
いる。また、符号70は、露光処理後の基板を現像ユニ
ット80まで搬送するコンベアである。
【0024】図2は図1の基板処理装置に適用された基
板搬送装置を示す斜視図である。この基板搬送装置3
は、インデクサー部2において、カセット4の配列方向
Yに沿って移動するとともに、ハンド3aを配列方向Y
および上下方向Zの両方向と直交するX方向に移動させ
てカセット4と搬入部11および搬出部94との間で基
板搬送を行うように構成されている。このような機能を
有する基板搬送装置3は、具体的には以下のように構成
されている。
【0025】基板搬送装置3が配置されている搬送領域
では、方向Yに延びるガイドレール3bがインデクサー
部2の本体底部に固定され、そのガイドレール3bに沿
って基台3cが往復移動自在となっている。また、この
基台3cには、後で説明するロボットコントローラが連
結されており、インデクサ−部2全体を制御するインデ
クサー制御部からの指令に応じてロボットコントローラ
が動作し、基台3cを方向Yに移動させる。また、この
基台3cには、ハンド3aを備えた4軸搬送ロボット3
dが固定されており、上記ロボットコントローラにより
この搬送ロボット3dを方向Yに往復移動させ、任意の
処理部の前に位置させることができるようになってい
る。
【0026】この搬送ロボット3dは、ロボット本体3
eから上下方向Zに進退するコラム3fを有しており、
コラム3fに連結されたロボットコントローラがインデ
クサー制御部からの指令を受け、コラム3fを上下方向
Zに進退駆動する。このコラム3fの先端には、水平方
向に伸びる第1アーム3gの一方端が回転軸A1回りに
回転自在に取り付けられている。また、第1アーム3g
の他方端に第2アーム3hの一方端が、また第2アーム
3hの他方端にハンド3aの後端部がそれぞれ回転軸A
2、A3回りに回転自在となっている。そして、搬送ロボ
ット3dには、図示を省略しているが、各回転軸A1、
A2、A3の回りに各部を回転させるための駆動源たるモ
ータが組み込まれている。このため、この搬送ロボット
3dでは、続いて説明するようにしてハンド3aにより
基板を吸着保持した状態で、インデクサー制御部からの
指令に応じて、ハンド3aを三次元的に移動させること
ができ、搬送ロボット3dの停止位置に対応するカセッ
ト4、搬入部11、搬出部94の間で基板の受渡しを行
うことができる。
【0027】図3は、インデクサ−部全体を制御する制
御ユニットの電気的構成を示すブロック図である。この
制御ユニット100は、CPU、ROMおよびRAMを
備えたインデクサー制御部101を備えている。このイ
ンデクサー制御部101は、LAN・I/F102を介
して他の処理部およびホストコンピュータと電気的に接
続されてローカルエリアネットワーク(LAN)が形成
されており、他の処理部やホストコンピュータと各種の
データを相互にやり取りしながら、インデクサー部2の
基本的な動作を制御する。また、このインデクサー制御
部101には、CPU、ROMおよびRAMを備えたロ
ボットコントローラ103が接続されており、インデク
サー制御部101から基板搬送装置3の動作に関する搬
送命令を受けると、次に説明する動作フローチャートに
したがってハンド3aの動作速度を2段階に変更しなが
ら基板搬送を行う。なお、同図中の符号104は、ハン
ド3aに取り付けられてハンド3a上に基板が保持され
ているか否かを検出するセンサである。
【0028】図4は、図2の基板搬送装置の動作を示す
フローチャートである。以下、このフローチャートを参
照しつつ基板搬送装置3の動作について説明する。この
基板搬送装置3では、インデクサー制御部101から搬
送命令がロボットコントローラ103に与えられる(ス
テップS1)と、ロボットコントローラ103はROM
に記憶されているプログラムにしたがってステップS2
〜S6を実行する。すなわち、ハンド3a上に基板が存
在するか否かを示す検出信号がセンサ104からロボッ
トコントローラ103に与えられ(ステップS2)、こ
の検出信号を受けてロボットコントローラ103は、ハ
ンド3aが基板を保持しているか否かを判断する(ステ
ップS3)。
【0029】そして、このステップS3で「YES」、
つまり基板を保持していると判断した場合には、基板搬
送装置3の各部に低速で動作する旨の指令を与える(ス
テップS4)一方、ステップS3で「NO」、つまり基
板を保持していないと判断した場合には、基板搬送装置
3の各部に高速で動作する旨の指令を与える(ステップ
S5)。こうして、動作指令が与えられると、ステップ
S6で動作指令に応じて基板搬送装置3の各部(モータ
など)を駆動してハンド3aを移動させる。ここで、低
速動作指令が与えられた場合(ステップS4)には、基
板を保持したハンド3aは基板を振り落とさない程度の
速度でインデクサー部2内を移動するため、基板を破損
させることなく確実に、カセット4から受取った基板を
搬入部11に搬送したり、搬出部94から受取った基板
をカセット4に戻すことができる。一方、高速動作指令
が与えられた場合(ステップS5)には、基板を保持し
ていないハンド3aは低速移動させる場合(ステップS
4)よりも速い速度で移動し、カセット4から次の基板
を取出すべく高速でカセット4の手前まで移動したり、
搬出部94に高速で移動して搬出部94からの基板搬出
に備えることができる。
【0030】このような一連の動作(ステップS2〜S
6)が、ステップS7で搬送完了の判断がなされるまで
繰り返されて、インデクサー制御部101からの搬送命
令に対応する基板搬送がハンド3aによって行われる。
【0031】したがって、例えば具体的な搬送例として
カセット4に収納されている基板を受取り、搬入部11
に搬送する場合、カセット4から基板を受取るために基
板搬送装置3はカセット4の前まで移動するが、この
時、ハンド3aは基板を保持しておらず、高速移動され
る。また、カセット4から基板を受取った後、ハンド3
aが基板を保持したまま搬入部11まで移動する際に
は、ハンド3aは基板の破損を防止すべく低速移動す
る。
【0032】以上のように、この実施形態にかかる基板
搬送装置によれば、第1基板位置にある基板を受取り、
第1基板位置とは異なる第2基板位置に搬送するのに際
して、ハンド(基板保持手段)31が基板を保持してい
るか否かをセンサ104によって検出し、その検出結果
に基づき、基板を保持している時には基板を振り落とさ
ない程度の速度でインデクサー部2内を移動するため、
基板を破損させることなく確実に搬送することができ
る。しかも、基板を保持しない時には、ハンド3aの移
動速度を、基板を保持している時の移動速度よりも高く
なるように制御しているので、基板搬送に要する時間を
短縮して基板処理装置のスループットを向上させること
ができる。
【0033】図5は、この発明にかかる基板搬送装置の
他の実施形態を示すフローチャートである。この実施形
態では、基板搬送装置の機械的および電気的構成はほぼ
同一であり、インデクサー制御部101から搬送命令に
基づくロボットコントローラ103による制御動作が異
なっている。すなわち、この実施形態では、同図に示す
ように、インデクサー制御部101から搬送命令がロボ
ットコントローラ103に与えられる(ステップS1
1)と、その搬送命令に相当する搬送動作を複数の運転
ステップに分割し、各ステップの運転パターンを決定
し、ロボットコントローラ103中のRAM(図示省
略)に一時的に記憶する(ステップS12)。例えば、
先に説明した実施形態における具体的な搬送例と同様
に、カセット4を第1基板位置とし、搬入部11の基板
載置部11a(後の図6〜図8参照)を第2基板位置と
し、カセット4に収納されている基板を受取り、搬入部
11の基板載置部11aに搬送する搬送命令がインデク
サー制御部101からロボットコントローラ103に与
えられると、図6〜図8に示すように、A〜Iの9つの
運転ステップに分割する。なお、これらの図中の「運転
ステップ」の欄中のパターン(1)、(2)、…は各運転ステ
ップを実行する運転パターンを示すものであり、〔高
速〕および〔低速〕は、各運転ステップにおいてハンド
3aが高速移動するのか、低速移動するのかを示してお
り、この切換制御は後で説明するステップS13の判断
結果に基づいて行われる。さらに、「動作概要」の欄は
各運転ステップにおける基板搬送装置3の動作を模式的
に示している。
【0034】・運転ステップA:カセット4から基板S
を受取るためにハンド3aをカセット4の前まで移動す
る。
【0035】・運転ステップB:アーム3g,3hをカ
セット4側に伸ばしてハンド3aを基板Sの直下位置に
位置決めする。
【0036】・運転ステップC:ハンド3aが基板Sの
裏面と当接するまで、ハンド3aを上昇させる。
【0037】・運転ステップD:ハンド3aをさらに上
昇させてカセット4から基板Sをハンド3a上に受取
る。
【0038】・運転ステップE:アーム3g,3hを収
縮させた後、ハンド3aを搬入部11の前まで移動す
る。
【0039】・運転ステップF:アーム3g,3hを搬
入部11側に伸ばしてハンド3aを搬入部11の基板載
置部11aの直上位置に位置決めする。
【0040】・運転ステップG:ハンド3aに保持され
ている基板Sの裏面が基板載置部11aと当接するま
で、ハンド3aを降下させる。
【0041】・運転ステップH:ハンド3aをさらに降
下させてハンド3a上の基板Sを基板載置部11aに移
す。
【0042】・運転ステップI:アーム3g,3hを収
縮させてハンド3aを搬入部11から退避する。
【0043】このようにステップS12で運転ステップ
に対応する運転パターンが決定されると、ステップS1
3で次に実行すべき運転ステップに対応する運転パター
ンを選択する。そして、その選択されたパターンに応じ
てステップS14,S15が選択的に実行される。つま
り、例えば運転ステップAに対応する運転パターンはパ
ターン(1)であり、この運転パターン(1)ではハンド3a
上に基板Sは保持されておらないため、基板搬送装置3
の各部に高速で動作する旨の指令を与える(ステップS
15)一方、例えば運転ステップDに対応する運転パタ
ーンはパターン(4)であり、この運転パターン(4)ではハ
ンド3a上に基板Sが保持されているため、基板搬送装
置3の各部に低速で動作する旨の指令を与える(ステッ
プS14)。
【0044】こうして、動作指令が与えられる(ステッ
プS14,S15)と、ステップS16で動作指令に応
じて基板搬送装置3の各部(モータなど)を駆動してハ
ンド3aを移動させる。ここで、低速動作指令が与えら
れた場合(ステップS14)には、基板Sを保持したハ
ンド3aは基板Sを振り落とさない程度の速度でインデ
クサー部2内を移動するため、基板Sを破損させること
なく確実に、運転ステップD〜Gが実行される一方、高
速動作指令が与えられた場合(ステップS15)には、
基板Sを保持していないハンド3aは低速移動させる場
合(ステップS14)よりも速い速度で移動し、運転ス
テップA〜C、HおよびIが実行される。
【0045】こうして1つの運転ステップが実行される
と、次に運転ステップに進み(ステップS17)、搬送
完了が判断したか否かがステップS18で判断される。
そして、このステップS18で「NO」、つまり搬送が
未だ完了していないと判断される間、運転ステップごと
に上記一連の処理(ステップS13〜S16)が繰り返
されて、インデクサー制御部101からの搬送命令に対
応する基板搬送がハンド3aによって行われる。
【0046】以上のように、この実施形態においても、
先に説明した実施形態と同様に、第1基板位置にある基
板を受取り、第1基板位置とは異なる第2基板位置に搬
送するのに際して、ハンド(基板保持手段)31が基板
を保持しているか否かに応じて基板を保持している時に
は基板を振り落とさない程度の速度でインデクサー部2
内を移動するため、基板を破損させることなく確実に搬
送することができる。しかも、基板を保持しない時に
は、ハンド3aの移動速度を、基板を保持している時の
移動速度よりも高くなるように制御しているので、基板
搬送に要する時間を短縮して基板処理装置のスループッ
トを向上させることができる。
【0047】また、この実施形態では、センサ104に
よってハンド3a上の基板の有無を検出する必要がない
ため、センサ104を設ける必要はなくなり、基板搬送
装置3の低コスト化を図ることができる。
【0048】なお、この実施形態では、カセット4を第
1基板位置とし、搬入部11を第2基板位置としてカセ
ット4に収納されている基板を受取り、搬入部11に搬
送する場合を具体例として挙げて説明しているが、搬出
部94を第1基板位置とし、カセット4を第2基板位置
として搬出部94の基板載置部(図示省略)にある基板
を受取り、カセット4に戻す場合についても、その基板
搬送動作を複数の運転ステップに分割し、各運転ステッ
プにおいてハンド3aの移動速度を切換制御すること
で、同様の効果が得られる。
【0049】また、この実施形態では、カセット4に収
納されている基板を受取り、搬入部11に搬送する基板
搬送を9つの運転ステップA〜Iに分割しているが、分
割数および分割態様については任意である。
【0050】以上、実施の形態に即してこの発明を説明
したが、この発明は上記実施の形態に限定されるもので
はない。例えば、上記実施形態では、運転ステップCと
Dとを区分けして異なるパターンで制御しているが、こ
れらはハンド3aが上昇するという一連の動作であるの
で、これらをあわせて一つの運転ステップとして取り扱
ってもよい。この場合、運転ステップの後半部分でハン
ド3a上に基板Sを受け取って動作することになるの
で、当該運転ステップでは安全のため低速動作とするの
が好ましい。運転ステップGとHとに関しても同様に一
つの運転ステップとして取り扱うことができる。なお、
これら以外の運転ステップについても連続する動作にお
ける運転ステップの区分けを変更することができるが、
このような区分けにあたってはできる限り細かく区分け
するほうが、よりそれぞれの動作に適した制御をきめ細
かく行うことができて好ましい。
【0051】また、上記実施形態では、基板にレジスト
塗布前の洗浄処理からレジスト塗布・露光・現像までを
連続して順次行う基板処理装置に本発明を適用している
が、これとは異なる装置にも本発明にかかる基板搬送装
置を適用することができる。例えば、処理部の間で基板
搬送装置によって基板を搬送する場合にも、当該装置に
本発明を適用することができる。
【0052】また、上記実施形態では、ハンド3aの移
動速度を2段階に設定しているが、3段階以上に設定す
る、あるいは連続的に可変するようにしてもよい。
【0053】
【発明の効果】以上のように、この発明によれば、基板
保持手段によって第1基板位置にある基板を受け取った
後に第2基板位置に搬送する基板搬送処理において、基
板保持手段の動作状況に応じて基板保持手段の移動速度
を変更する、より具体的には基板を有している時には基
板が基板保持手段から脱落しない範囲内で基板保持手段
を最高速度で移動させる一方、基板を有していない時に
は基板の脱落を考慮することなく装置の最大能力で基板
保持手段を移動させることができ、基板を有していない
時の基板保持手段の移動速度がより一層高速化されて基
板搬送に要する時間を短縮することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明にかかる基板搬送装置の一の実施形態が
適用された基板処理装置の一例を示す図である。
【図2】本発明にかかる基板搬送装置の機械的構成を示
す斜視図である。
【図3】インデクサ−部全体を制御する制御ユニットの
電気的構成を示すブロック図である。
【図4】図2の基板搬送装置の動作を示すフローチャー
トである。
【図5】この発明にかかる基板搬送装置の他の実施形態
を示すフローチャートである。
【図6】この発明にかかる基板搬送装置の他の実施形態
におけるハンドの動作説明図である。
【図7】この発明にかかる基板搬送装置の他の実施形態
におけるハンドの動作説明図である。
【図8】この発明にかかる基板搬送装置の他の実施形態
におけるハンドの動作説明図である。
【符号の説明】
1…基板処理装置 2…インデクサー部 3…基板搬送装置 3a…ハンド(基板保持手段) 3d…搬送ロボット 3g,3h…アーム 4…カセット 11…搬入部 11a…基板載置部 94…搬出部 100…制御ユニット 101…インデクサー制御部 103…ロボットコントローラ 104…センサ

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 第1基板位置にある基板を、前記第1基
    板位置とは異なる第2基板位置に搬送する基板搬送装置
    において、 基板を保持可能な基板保持手段と、 前記基板保持手段を移動させる移動機構と、 前記移動機構を制御して前記基板保持手段によって前記
    第1基板位置にある基板を受け取り、前記第2基板位置
    に搬送する制御手段とを備え、 前記制御手段は、基板受取から第2基板位置までの基板
    搬送中、前記基板保持手段の動作状況に応じて前記基板
    保持手段の移動速度を変更することを特徴とする基板搬
    送装置。
  2. 【請求項2】 前記基板保持手段が基板を保持している
    か否かを検出する検出手段をさらに備え、 前記制御手段は、前記検出手段による検出結果に基づ
    き、基板を保持しない時の前記基板保持手段の移動速度
    が基板を保持している時の移動速度よりも高くなるよう
    に、制御する請求項1記載の基板搬送装置。
  3. 【請求項3】 基板受取から第2基板位置までの基板搬
    送を複数の運転ステップに分割し、記憶する記憶手段を
    備え、 前記制御手段は各運転ステップ毎に前記基板保持手段の
    移動速度を制御する請求項1記載の基板搬送装置。
  4. 【請求項4】 前記制御手段は、基板を保持しないで前
    記基板保持手段を移動させる運転ステップにおける前記
    基板保持手段の移動速度が、基板を保持して前記基板保
    持手段を移動させる運転ステップにおける移動速度より
    も高くなるように、制御する請求項3記載の基板搬送装
    置。
  5. 【請求項5】 基板保持手段によって第1基板位置にあ
    る基板を受け取り、前記第1基板位置とは異なる第2基
    板位置に搬送する基板搬送方法において、 基板受取から第2基板位置までの基板搬送中、前記基板
    保持手段の動作状況に応じて前記基板保持手段の移動速
    度を変更することを特徴とする基板搬送方法。
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