JP2011003864A - 基板搬送装置、基板搬送方法、塗布、現像装置及び記憶媒体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】平面レイアウトで見て直線状の搬送路に沿って互いに離間する第1のモジュール及び第2のモジュールの間で基板を搬送し、前記第2のモジュールは前記搬送路の延長線上に位置する基板搬送装置において、前記搬送路に沿って移動する移動基体と、この移動基体に少なくとも進退自在に設けられ、基板を保持するための保持体と、前記第2のモジュールとの間で基板の受け渡しを行うために前記移動基体が当該第2のモジュールに向かって搬送路に沿って移動するときに、当該移動と保持体の前進動作とを同時に行うように制御信号を出力する制御部と、を備えるように基板搬送装置を構成する。
【選択図】図7
Description
前記搬送路に沿って移動する移動基体と、
この移動基体に少なくとも進退自在に設けられ、基板を保持するための保持体と、
前記第2のモジュールとの間で基板の受け渡しを行うために前記移動基体が当該第2のモジュールに向かって搬送路に沿って移動するときに、当該移動と保持体の前進動作とを同時に行うように制御信号を出力する制御部と、を備えたことを特徴とする。
移動基体を前記搬送路に沿って移動させる工程と、
この移動基体に設けられた、基板を保持するための保持体を進退させる工程と、
前記第2のモジュールとの間で基板の受け渡しを行うために前記移動基体が当該第2のモジュールに向かって搬送路に沿って移動するときに、当該移動と保持体の前進動作とを同時に行う工程と、
を備えたことを特徴とする。
前記キャリアブロックとの間で基板を受け渡し、当該基板にレジストを塗布する塗布モジュールと、露光後の前記レジストを現像する現像モジュールと、を含む多数のモジュールを備えた処理ブロックと、
前記処理ブロックと、前記露光を行うための露光装置との間で基板を受け渡すためのインターフェイスブロックと、
上述の基板搬送装置と、
を備えたことを特徴とする。例えばキャリアブロックとインターフェイスブロックとが処理ブロックを挟むように設けられ、前記基板搬送装置は、処理ブロックにてキャリアブロック側、インターフェイス側に夫々設けられたモジュール間で基板を受け渡す。
前記コンピュータプログラムは、上述の基板搬送方法を実施するためのものであることを特徴とする。
本発明の基板搬送装置が設けられた塗布、現像装置1について説明する。図1は塗布、現像装置1に露光装置C4が接続されたレジストパターン形成システムの平面図を示しており、図2は同システムの斜視図である。また、図3は塗布、現像装置1の縦断面図、図4は塗布、現像装置1におけるモジュール配置を示した展開図である。ここでは基板例えばウエハWの載置される場所をモジュールと呼ぶ。
図11は、キャリアブロックC1から露光装置C4側に見て、インターフェイスブロックC3の左右両端及びキャリアブロックC1の左右両端に夫々モジュール61、62、63、64が設けられている。インターフェイスブロックC3に設けられたモジュール61、62は例えば夫々露光前のウエハ表面の各膜厚、露光前のウエハWのパーティクル数を検査する検査モジュールとして構成されている。キャリアブロックC1に設けられたモジュール63、64は、例えば現像後のウエハWのレジストパターンの線幅、前記ウエハWのパーティクル数を夫々検査する検査モジュールとして構成されている。
A1〜A4 ウエハ搬送ユニット
1 塗布、現像装置
12 ウエハ搬送ユニット
16 ウエハ搬送ユニット
1A 制御部
C1 キャリアブロック
C2 処理ブロック
C3 インターフェイスブロック
50 搬送部
51 ガイド
52 フレーム
53 昇降台
54 回動台
55 アーム体
Claims (12)
- 平面レイアウトで見て直線状の搬送路に沿って互いに離間する第1のモジュール及び第2のモジュールの間で基板を搬送し、前記第2のモジュールは前記搬送路の延長線上に位置する基板搬送装置において、
前記搬送路に沿って移動する移動基体と、
この移動基体に少なくとも進退自在に設けられ、基板を保持するための保持体と、
前記第2のモジュールとの間で基板の受け渡しを行うために前記移動基体が当該第2のモジュールに向かって搬送路に沿って移動するときに、当該移動と保持体の前進動作とを同時に行うように制御信号を出力する制御部と、を備えたことを特徴とする基板搬送装置。 - 前記制御部は、前記第2のモジュールとの間で基板の受け渡しを終了した後、移動基体が当該第2のモジュールから離れる方向に搬送路に沿って移動するときに、当該移動と保持体の後退動作とを同時に行うように制御信号を出力することを特徴とする請求項1記載の基板搬送装置。
- 前記保持体を鉛直軸周りに回動させる回動手段または保持体を昇降させる昇降手段を備えることを特徴とする請求項1または2記載の基板搬送装置。
- 前記保持体が第2のモジュールとの間で基板を受け渡すための前記前進位置への移動は、第1のモジュールとの間での基板受け渡し後、保持体の昇降動作及び保持体の回動動作のうち、遅い方の動作終了後に開始されることを特徴とする請求項3記載の基板搬送装置。
- 前記第1のモジュールと第2のモジュールとは互いに搬送路の延長線上に位置することを特徴とする請求項1ないし4のいずれか一つに記載の基板搬送装置。
- 平面レイアウトで見て直線状の搬送路に沿って互いに離間する第1のモジュール及び第2のモジュールの間で基板を搬送し、前記第2のモジュールは前記搬送路の延長線上に位置する基板搬送方法において、
移動基体を前記搬送路に沿って移動させる工程と、
この移動基体に設けられた、基板を保持するための保持体を進退させる工程と、
前記第2のモジュールとの間で基板の受け渡しを行うために前記移動基体が当該第2のモジュールに向かって搬送路に沿って移動するときに、当該移動と保持体の前進動作とを同時に行う工程と、
を備えたことを特徴とする基板搬送方法。 - 前記第2のモジュールとの間で基板の受け渡しを終了した後、移動基体が当該第2のモジュールから離れる方向に搬送路に沿って移動するときに、当該移動と保持体の後退動作とを同時に行う工程を含むことを特徴とする請求項6記載の基板搬送方法。
- 前記保持体を鉛直軸周りに回動させるか、または保持体を昇降させる工程を含むことを特徴とする請求項6または7記載の基板搬送装置。
- 前記保持体が第2のモジュールとの間で基板を受け渡すために前記前進位置へ移動する工程は、第1のモジュールとの間での基板受け渡し後、保持体の昇降及び保持体の回動のうち、遅い方の動作終了後に開始されることを特徴とする請求項8記載の基板搬送方法。
- 基板を複数枚格納したキャリアが搬入されるキャリアブロックと、
前記キャリアブロックとの間で基板を受け渡し、当該基板にレジストを塗布する塗布モジュールと、露光後の前記レジストを現像する現像モジュールと、を含む多数のモジュールを備えた処理ブロックと、
前記処理ブロックと、前記露光を行うための露光装置との間で基板を受け渡すためのインターフェイスブロックと、
請求項1ないし5のいずれか一つに記載の基板搬送装置と、
を備えたことを特徴とする塗布、現像装置。 - キャリアブロックとインターフェイスブロックとが処理ブロックを挟むように設けられ、前記基板搬送装置は、処理ブロックにてキャリアブロック側、インターフェイス側に夫々設けられたモジュール間で基板を受け渡すことを特徴とする請求項10記載の塗布、現像装置。
- 基板搬送装置に用いられるコンピュータプログラムが記憶された記憶媒体であって、
前記コンピュータプログラムは、請求項6ないし11のいずれか一つに記載の基板搬送方法を実施するためのものであることを特徴とする記憶媒体。
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