JP6292155B2 - 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 - Google Patents
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Description
前記中間ブロックは、
前記キャリアブロックから払い出されて前記エンドブロックに向かう前記基板、及び前記エンドブロックから前記キャリアブロックに戻される前記基板のうちの一方のみを各々処理するために、互いに積層されて設けられた複数の第1の処理モジュールと、
前記キャリアブロック及び前記エンドブロックのうちの一方から当該中間ブロックに搬送された前記基板を前記各第1の処理モジュールに搬送し、前記キャリアブロック及びエンドブロックのうちの他方に受け渡すために昇降する第1の基板搬送機構と、
前記キャリアブロック及び前記エンドブロックのうち他方から一方に前記第1の処理モジュールを素通りするように基板を搬送する、前記第1の基板搬送機構とは別体の第2の基板搬送機構と、
を備え、
前記キャリアブロックと前記エンドブロックとの間には処理ブロックが介在すると共に前記中間ブロック及び前記処理ブロックのうちの一方が前記キャリアブロック側に、他方が前記エンドブロック側に夫々設けられ、
前記処理ブロックは、上下に互いに区画されると共に、前記キャリアブロックと前記エンドブロックとの間で基板を搬送するための第3の基板搬送機構を夫々備えた複数の単位ブロックにより構成され、
前記各単位ブロックには、前記第3の基板搬送機構により搬送される前記第1の処理モジュールによる処理前あるいは処理後の基板を処理するための第2の処理モジュールが設けられ、
前記中間ブロックは、前記第1の基板搬送機構と前記第2の基板搬送機構と第3の基板搬送機構との間で基板を受け渡すために上下方向に配置される複数の載置モジュールにより構成される受け渡し部を備え、
前記第1の基板搬送機構は、前記複数の載置モジュール間で前記基板を搬送する載置モジュール間搬送機構を備え、
前記中間ブロックは、前記受け渡し部に対して側方から気体を供給する側方気体供給部と、前記側方気体供給部と共に前記受け渡し部を側方から挟むように前記載置モジュール間搬送機構に設けられた、前記気体を排気する側方排気部と、により構成される前記各載置モジュール間を横方向に流れる気流を形成する側方気流形成部を備える。
前記中間ブロックに設けられ、互いに積層されて設けられた複数の処理モジュールにて、前記キャリアブロックから払い出されて前記エンドブロックに向かう前記基板、及び前記エンドブロックから前記キャリアブロックに戻される前記基板のうちの一方のみを各々処理する工程と、
前記中間ブロックに設けられ、昇降可能な第1の基板搬送機構により、前記キャリアブロック及びエンドブロックのうちの一方から当該中間ブロックに搬送された前記基板を前記各処理モジュールに搬送し、前記キャリアブロック及びエンドブロックのうちの他方に受け渡す工程と、
前記中間ブロックに設けられる前記第1の基板搬送機構とは別体の第2の基板搬送機構により、前記キャリアブロック及びエンドブロックのうち他方から一方に前記処理モジュールを素通りするように基板を搬送する工程と、
を含み、
前記キャリアブロックと前記エンドブロックとの間には処理ブロックが介在すると共に前記中間ブロック及び前記処理ブロックのうちの一方が前記キャリアブロック側に、他方が前記エンドブロック側に夫々設けられ、
前記処理ブロックは、上下に互いに区画されると共に、前記キャリアブロックと前記エンドブロックとの間で基板を搬送するための第3の基板搬送機構を夫々備えた複数の単位ブロックにより構成され、
前記第3の基板搬送機構により搬送される前記第1の処理モジュールによる処理前あるいは処理後の基板を、前記各単位ブロックに設けられる第2の処理モジュールにより処理する工程と、
上下方向に配置される複数の載置モジュールにより構成されるように前記中間ブロックに設けられる受け渡し部を介して前記第1の基板搬送機構と前記第2の基板搬送機構と第3の基板搬送機構との間で基板を受け渡す工程と、
前記第1の基板搬送機構が備える載置モジュール間搬送機構により、前記複数の載置モジュール間で前記基板を搬送する工程と、
前記中間ブロックに設けられる側方気体供給部により、前記受け渡し部に対して側方から気体を供給する工程と、
前記側方気体供給部と共に前記受け渡し部を側方から挟むように前記載置モジュール間搬送機構に設けられた側方排気部により前記気体を排気し、前記各載置モジュール間を横方向に流れる気流を形成する工程と、
を備えたことを特徴とする。
前記コンピュータプログラムは、本発明の基板処理方法を実施するためのものであることを特徴とする。
本発明の第1の実施形態に係る基板処理装置である塗布、現像装置1について図1〜図3を参照しながら説明する。図1、図2、図3は、夫々当該塗布、現像装置1の平面図、斜視図、概略縦断側面図である。塗布、現像装置1には、例えば液浸露光を行う露光装置A6が接続されている。塗布、現像装置1及び露光装置A6により、基板であるウエハWの表面におけるレジスト膜の形成、レジスト膜の露光、レジスト膜の現像を順次行い、レジスト膜にレジストパターンを形成するレジストパターン形成システムが構成されている。
続いて、第2の実施形態に係る塗布、現像装置7について、塗布、現像装置1との差異点を中心に説明する。図8、図9は夫々塗布、現像装置7の平面図、概略縦断側面図である。また、図10は、塗布、現像装置7の中間ブロックA4における概略縦断背面図である。この塗布、現像装置7の中間ブロックA4には、保護膜形成モジュールITC1〜ITC6の代わりに現像モジュールNTD1〜NTD6が設けられている。
受け渡しモジュールTRS14に搬送されたウエハWは、搬送機構C4により、加熱モジュール22に搬送されて現像後加熱処理を受けた後、温度調整モジュールSCPL4→受け渡しモジュールTRS4の順で搬送される。
第3の実施形態の塗布、現像装置71について、第1の実施形態の塗布、現像装置1との差異点を中心に、図12の平面図を参照しながら説明する。この塗布、現像装置71においては、処理ブロックA3とインターフェイスブロックA5との間に、前方から後方に向かって中間ブロックA41、A42、A43が設けられている。中間ブロックA41、A42、A43、インターフェイスブロックA5は、互いに隣接して設けられると共に、互いに区画されている。中間ブロックA41、A42、A43は、塗布、現像装置1における中間ブロックA4と同様に形成されている。
第4の実施形態の塗布、現像装置72について、塗布、現像装置1との差異点を中心に、図14の平面図を参照しながら説明する。この塗布、現像装置72に関しては、中間ブロックA4の配置が塗布、現像装置1とは異なっており、受け渡しブロックA2と処理ブロックA3との間に中間ブロックA4が設けられている。また、中間ブロックA4において、保護膜形成モジュールITC1〜6の代わりに裏面洗浄モジュール64と同様に構成された裏面洗浄モジュール73が複数積層されて設けられ、現像処理が行われたウエハWはキャリア11に戻される前に、当該裏面洗浄モジュール73に搬送されて洗浄される。
A2 受け渡しブロック
A3 処理ブロック
A4 中間ブロック
B1〜B6 単位ブロック
ITC 保護膜形成モジュール
NTD 現像モジュール
SCPL 温度調整モジュール
TRS 受け渡しモジュール
W ウエハ
1、7、71、72 塗布、現像装置
31 上下共用搬送機構
51 下側搬送機構
52 上側搬送機構
57 シャトル
73 裏面洗浄モジュール
Claims (11)
- キャリアに格納された基板を払い出すためのキャリアブロックと、当該キャリアブロックから払い出された基板を当該キャリアブロックに戻し、前記キャリアブロックに対して横方向に設けられるエンドブロックと、前記キャリアブロックと前記エンドブロックとの間に介在する中間ブロックと、を備える基板処理装置において、
前記中間ブロックは、
前記キャリアブロックから払い出されて前記エンドブロックに向かう前記基板、及び前記エンドブロックから前記キャリアブロックに戻される前記基板のうちの一方のみを各々処理するために、互いに積層されて設けられた複数の第1の処理モジュールと、
前記キャリアブロック及び前記エンドブロックのうちの一方から当該中間ブロックに搬送された前記基板を前記各第1の処理モジュールに搬送し、前記キャリアブロック及びエンドブロックのうちの他方に受け渡すために昇降する第1の基板搬送機構と、
前記キャリアブロック及び前記エンドブロックのうち他方から一方に前記第1の処理モジュールを素通りするように基板を搬送する、前記第1の基板搬送機構とは別体の第2の基板搬送機構と、
を備え、
前記キャリアブロックと前記エンドブロックとの間には処理ブロックが介在すると共に前記中間ブロック及び前記処理ブロックのうちの一方が前記キャリアブロック側に、他方が前記エンドブロック側に夫々設けられ、
前記処理ブロックは、上下に互いに区画されると共に、前記キャリアブロックと前記エンドブロックとの間で基板を搬送するための第3の基板搬送機構を夫々備えた複数の単位ブロックにより構成され、
前記各単位ブロックには、前記第3の基板搬送機構により搬送される前記第1の処理モジュールによる処理前あるいは処理後の基板を処理するための第2の処理モジュールが設けられ、
前記中間ブロックは、前記第1の基板搬送機構と前記第2の基板搬送機構と第3の基板搬送機構との間で基板を受け渡すために上下方向に配置される複数の載置モジュールにより構成される受け渡し部を備え、
前記第1の基板搬送機構は、前記複数の載置モジュール間で前記基板を搬送する載置モジュール間搬送機構を備え、
前記中間ブロックは、前記受け渡し部に対して側方から気体を供給する側方気体供給部と、前記側方気体供給部と共に前記受け渡し部を側方から挟むように前記載置モジュール間搬送機構に設けられた、前記気体を排気する側方排気部と、により構成される前記各載置モジュール間を横方向に流れる気流を形成する側方気流形成部を備えることを特徴とする基板処理装置。 - 前記複数の載置モジュールは、前記各単位ブロックに対応する高さに設けられ、前記第3の基板搬送機構に対して基板の受け渡しを行うために当該基板が載置される複数の第1の載置モジュールと、前記第2の基板搬送機構に対して基板の受け渡しを行うために当該基板が載置される第2の載置モジュールと、を含み、
前記載置モジュール間搬送機構は、第1の載置モジュールと、第2の載置モジュールとの間で基板を搬送することを特徴とする請求項2記載の基板処理装置。 - 前記側方排気部は、前記基板を支持する支持体を昇降させるためのガイドにより構成されることを特徴とする請求項2記載の基板処理装置。
- 前記第2の基板搬送機構の基板搬送領域と、前記第1の基板搬送機構の基板搬送領域とは、上下方向に重なることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1つに記載の基板処理装置。
- 前記第1の基板搬送機構は、積層された前記複数の第1の処理モジュールのうち上側の第1の処理モジュールに対して基板を受け渡すための上側搬送領域にて基板を搬送する上側搬送機構と、下側の第1の処理モジュールに対して基板を受け渡すために前記上側搬送領域に重なるように設けられる下側搬送領域にて基板を搬送する下側搬送機構と、を含み、
前記第2の基板搬送機構の基板搬送領域は、前記上側搬送領域と下側搬送領域との間に設けられることを特徴とする請求項4記載の基板処理装置。 - 前記上側搬送領域、前記下側搬送領域に、夫々上方から気体を供給する気体供給部と、前記上側搬送領域の下部側方、下側搬送領域の下部側方から夫々前記気体を排気する排気口と、により構成され、上側搬送領域、下側搬送領域に夫々下降気流を形成する下降気流形成部を備えたことを特徴とする請求項5記載の基板処理装置。
- 前記第2の処理モジュールとしては、基板にレジスト膜を形成するためのレジスト膜形成モジュールが含まれ、
前記中間ブロックまたは前記処理ブロックは、露光装置により露光されたレジスト膜を現像する現像モジュールを備え、
前記エンドブロックは前記露光装置との間で基板を受け渡すためのインターフェイスブロックであることを特徴とする請求項1記載の基板処理装置。 - 前記処理ブロックがキャリアブロック側に、前記中間ブロックがエンドブロック側に夫々設けられ、
複数の単位ブロックのうち、第1の単位ブロックには第2の処理モジュールとして前記レジスト膜形成モジュールが設けられ、第1の単位ブロックと異なる第2の単位ブロックには第2の処理モジュールとして前記現像モジュールが設けられ、
前記第1の処理モジュールは、前記レジスト膜形成後の露光前の基板を液処理するモジュールであり、
前記第1の基板搬送機構は、前記第1の単位ブロックから前記受け渡し部に搬送された前記基板を前記第1の処理モジュールに搬送した後、当該基板を前記エンドブロックに受け渡し、
前記第2の基板搬送機構は、前記第2の単位ブロックを介してキャリアブロックに前記基板を受け渡すために前記エンドブロックから前記受け渡し部に基板を搬送することを特徴とする請求項7記載の基板処理装置。 - 前記処理ブロックがキャリアブロック側に、前記中間ブロックがエンドブロック側に夫々設けられ、
複数の単位ブロックのうち、第1の単位ブロックには第2の処理モジュールとして前記レジスト膜形成モジュールが設けられ、
前記第1の処理モジュールは、前記現像モジュールであり、
前記第2の基板搬送機構は、前記エンドブロックに基板を搬送し、
前記第1の基板搬送機構は、前記エンドブロックから前記中間ブロックに搬送された前記基板を前記第1の処理モジュールに搬送した後、前記受け渡し部に搬送し、
前記第1の単位ブロックと異なる第2の単位ブロックの第1の基板搬送機構が前記受け渡し部から前記キャリアブロックに基板を搬送することを特徴とする請求項8記載の基板処理装置。 - キャリアに格納された基板を払い出すためのキャリアブロックと、当該キャリアブロックから払い出された基板を当該キャリアブロックに戻し、前記キャリアブロックに対して横方向に設けられるエンドブロックと、前記キャリアブロックと前記エンドブロックとの間に介在する中間ブロックと、を備える基板処理装置を用いた基板処理方法において、
前記中間ブロックに設けられ、互いに積層されて設けられた複数の処理モジュールにて、前記キャリアブロックから払い出されて前記エンドブロックに向かう前記基板、及び前記エンドブロックから前記キャリアブロックに戻される前記基板のうちの一方のみを各々処理する工程と、
前記中間ブロックに設けられ、昇降可能な第1の基板搬送機構により、前記キャリアブロック及びエンドブロックのうちの一方から当該中間ブロックに搬送された前記基板を前記各処理モジュールに搬送し、前記キャリアブロック及びエンドブロックのうちの他方に受け渡す工程と、
前記中間ブロックに設けられる前記第1の基板搬送機構とは別体の第2の基板搬送機構により、前記キャリアブロック及びエンドブロックのうち他方から一方に前記処理モジュールを素通りするように基板を搬送する工程と、
を含み、
前記キャリアブロックと前記エンドブロックとの間には処理ブロックが介在すると共に前記中間ブロック及び前記処理ブロックのうちの一方が前記キャリアブロック側に、他方が前記エンドブロック側に夫々設けられ、
前記処理ブロックは、上下に互いに区画されると共に、前記キャリアブロックと前記エンドブロックとの間で基板を搬送するための第3の基板搬送機構を夫々備えた複数の単位ブロックにより構成され、
前記第3の基板搬送機構により搬送される前記第1の処理モジュールによる処理前あるいは処理後の基板を、前記各単位ブロックに設けられる第2の処理モジュールにより処理する工程と、
上下方向に配置される複数の載置モジュールにより構成されるように前記中間ブロックに設けられる受け渡し部を介して前記第1の基板搬送機構と前記第2の基板搬送機構と第3の基板搬送機構との間で基板を受け渡す工程と、
前記第1の基板搬送機構が備える載置モジュール間搬送機構により、前記複数の載置モジュール間で前記基板を搬送する工程と、
前記中間ブロックに設けられる側方気体供給部により、前記受け渡し部に対して側方から気体を供給する工程と、
前記側方気体供給部と共に前記受け渡し部を側方から挟むように前記載置モジュール間搬送機構に設けられた側方排気部により前記気体を排気し、前記各載置モジュール間を横方向に流れる気流を形成する工程と、
を備えたことを特徴とする基板処理方法。 - 基板処理装置に用いられるコンピュータプログラムが記憶された記憶媒体であって、
前記コンピュータプログラムは、請求項10に記載の基板処理方法を実施するためのものであることを特徴とする記憶媒体。
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