JP7211142B2 - 基板処理装置及び基板処理方法 - Google Patents
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Description
前記基板を各々処理する複数の基板処理部と、前記基板が搬送される搬送路と、を各々備え、互いに積層される第1~第4の単位ブロックと、
移動自在な基台と、当該基台を前後に独立して移動自在に設けられると共に、前記基板の左右の縁部が開放されるように当該基板の左右の中央部寄りの位置を下方から各々支持する第1の基板保持部及び第2の基板保持部と、を備える第1の基板搬送機構と、
前記各単位ブロックの基板処理部に前記基板を受け渡すために前記基板が各々載置されるように前記単位ブロック毎に設けられ、互いに積層された複数の第1の基板載置部と、
前記第1の基板搬送機構の動作を制御する制御部と、
を備え、
前記第1の単位ブロック、前記第2の単位ブロックに各々対応する前記第1の基板載置部は、一の第1の基板載置部と、他の第1の基板載置部と、を含み、
前記制御部は、
前記第1及び第2の基板保持部を前記基台において共に前進させて前記収容容器から前記基板を揃って受け取り、続いて第1及び第2の基板保持部を前記基台において個別に前進させて、前記第1及び第2の単位ブロックに各々対応する前記一の第1の基板載置部に前記基板を搬送するステップと、
前記第1及び第2の基板保持部を前記基台において個別に前進させて前記第1及び第2の単位ブロックに各々対応する前記他の第1の基板載置部から前記基板を受け取り、続いて前記第1及び第2の基板保持部を前記基台において個別に前進させて前記第3及び第4の単位ブロックに各々対応する前記第1の基板載置部に前記基板を搬送するステップと、
を実行するように制御信号を出力する。
本開示の他の基板処理装置は、複数の基板が収容される収容容器が載置される容器載置部と、
前記基板を各々処理する複数の基板処理部と、前記基板が搬送される搬送路と、を各々備え、互いに積層される第1~第4の単位ブロックと、
移動自在な基台と、当該基台を前後に独立して移動自在に設けられると共に、前記基板の左右の縁部が開放されるように当該基板の左右の中央部寄りの位置を下方から各々支持する第1の基板保持部及び第2の基板保持部と、を備える第1の基板搬送機構と、
前記各単位ブロックの基板処理部に前記基板を受け渡すために前記基板が各々載置されるように前記単位ブロック毎に設けられる互いに積層された複数の第1の基板載置部と、
前記第1の基板搬送機構の動作を制御する制御部と、
を備え、
前記第3の単位ブロック、前記第4の単位ブロックに各々対応する前記第1の基板載置部は、一の第1の基板載置部と、他の第1の基板載置部と、を含み、
前記制御部は、
前記第1及び第2の基板保持部を前記基台において個別に前進させて前記第3及び第4の単位ブロックに各々対応する前記一の第1の基板載置部から前記基板を受け取り、続いて前記第1及び第2の基板保持部を前記基台において共に前進させて前記収容容器に前記基板を揃って搬送するステップと、
前記第1及び第2の基板保持部を前記基台において個別に前進させて前記第1及び第2の単位ブロックに各々対応する前記第1の基板載置部から前記基板を受け取り、続いて前記第1及び第2の基板保持部を前記基台において個別に前進させて前記第3及び第4の単位ブロックに各々対応する前記他の第1の基板載置部に前記基板を搬送するステップと、
を実行するように制御信号を出力する。
本開示のさらに他の基板処理装置は、複数の基板が収容される収容容器が載置される容器載置部と、
前記基板を各々処理する複数の基板処理部と、前記基板が搬送される搬送路と、を各々備え、互いに積層される第1~第6の単位ブロックと、
移動自在な基台と、当該基台を前後に独立して移動自在に設けられると共に、前記基板の左右の縁部が開放されるように当該基板の左右の中央部寄りの位置を下方から各々支持する第1の基板保持部及び第2の基板保持部と、を備える第1の基板搬送機構と、
前記各単位ブロックの基板処理部に前記基板を受け渡すために前記基板が各々載置されるように前記単位ブロック毎に設けられ、前記第1の基板保持部及び第2の基板保持部が個別に前記基台を前進して前記基板が受け渡される、互いに積層された複数の第1の基板載置部と、
前記第1の基板搬送機構の動作を制御する制御部と、
を備え、
前記第1~第6の単位ブロックに各々対応する前記第1の基板載置部は、一の第1の基板載置部と、他の第1の基板載置部と、を含み、
前記第1の基板搬送機構は、一の第1の基板搬送機構と、他の第1の基板搬送機構とを含み、
前記制御部は、
前記一の第1の基板搬送機構を用いて、
前記第1及び第2の基板保持部を前記基台において共に前進させて前記収容容器から前記基板を揃って受け取り、続いて第1及び第2の基板保持部を前記基台において個別に前進させて、前記第1及び第2の単位ブロックに各々対応する前記一の第1の基板載置部に前記基板を搬送するステップと、
前記第1及び第2の基板保持部を前記基台において個別に前進させて前記第1及び第2の単位ブロックに各々対応する前記他の第1の基板載置部から前記基板を受け取り、続いて前記第1及び第2の基板保持部を前記基台において個別に前進させて前記第3及び第4の単位ブロックに各々対応する前記一の第1の基板載置部に前記基板を搬送するステップと、
前記他の第1の基板搬送機構を用いて、
前記第1及び第2の基板保持部を前記基台において個別に前進させて前記第5及び第6の単位ブロックに各々対応する前記一の第1の基板載置部から前記基板を受け取り、続いて前記基台において前記第1及び第2の基板保持部を共に前進させて前記収容容器に前記基板を揃って搬送するステップと、
前記第1及び第2の基板保持部を前記基台において個別に前進させて前記第3及び第4の単位ブロックに各々対応する前記他の第1の基板載置部から前記基板を受け取り、続いて前記第1及び第2の基板保持部を前記基台において個別に前進させて前記第5及び第6の単位ブロックに各々対応する前記他の第1の基板載置部に前記基板を搬送するステップと、
を実行するように制御信号を出力する。
本開示の基板処理装置の第1の実施形態である塗布装置1について、図1の横断平面図及び図2の縦断側面図を参照しながら説明する。塗布装置1は、キャリアブロックD1と、処理ブロックD2とを横方向に接続して構成されている。説明の便宜上、キャリアブロックD1と処理ブロックD2との接続方向をX方向とし、接続方向に直交する横方向をY方向とする。キャリアブロックD1については、塗布装置1に対してウエハWを搬入出するために、収容容器10が載置される。収容容器10は、例えばFOUP(Front-Opening United Pod)と呼ばれる、25枚のウエハWを格納して搬送するためのキャリアである。処理ブロックD2は、キャリアブロックD1から搬入されたウエハWを処理する。
各単位ブロックEで行う液処理としては、レジスト膜の形成に限られない。単位ブロックEの他の構成例について説明する。例えば各単位ブロックE1~E6において、レジスト膜形成モジュール12の代わりに現像モジュールを設ける。当該現像モジュールは、ウエハWに現像液を供給し、当該ウエハWの表面に形成された露光済みのレジスト膜を現像する。そして各搬送機構FがウエハWを、加熱モジュール13→温度調整モジュールSCPL→現像モジュールの順で搬送するようにしてもよい。この加熱モジュール13は、第1の実施形態とは異なり、ポストエクスポージャベークを行うために用いられる。このような点を除き、この第2の実施形態の基板処理装置は、第1の実施形態の装置と同様の構成である。即ち、この第2の実施形態では、基板処理装置は現像装置として構成されている。そのように現像装置として構成した場合も、塗布装置1と同様にウエハWが搬送され、塗布装置1で説明した効果と同様の効果が得られる
続いて第2の実施形態の塗布装置5について、図26を参照しながら塗布装置1との差異点を中心に説明する。塗布装置5は、ウエハWに反射防止膜、レジスト膜、保護膜を順番に、これらの各膜が互いに積層されるように形成する。保護膜は、液浸露光時におけるレジスト膜の保護用である。
続いて、第4の実施形態の基板処理装置について、第3の実施形態の塗布装置5との差異点を中心に説明する。単位ブロックE2~E4は、塗布装置5における単位ブロックE1、E2と同様に構成されており、反射防止膜をウエハWに各々形成する。また、単位ブロックE5、E6は、第2の実施形態における単位ブロックEと同様に構成されており、ウエハWに各々現像を行う。単位ブロックE1については、例えば液処理モジュール及び加熱モジュールが設けられず、他の単位ブロックEにおいて加熱モジュールが設けられる位置に撮像モジュールが設けられる。撮像モジュールは例えば、ウエハWを載置するステージと、ステージ上のウエハWの表面を撮像するカメラとを備える。カメラは制御部100に取得した画像を送信し、制御部100がウエハWの表面における異常の有無を判定する検査を行う。
続いて、第5の実施形態である塗布、現像装置6について、図28の平面図、図29の縦断側面図を参照しながら、塗布装置5との差異点を中心に説明する。塗布、現像装置6は、キャリアブロックD1、処理ブロックD2、インターフェイスブロックD3が、この順にX方向に接続されている。インターフェイスブロックD3において、処理ブロックD2が接続される側とは逆側に、露光機D4が接続されている。
W ウエハ
10 収容容器
12 レジスト膜形成モジュール
23 載置台
31、32 搬送機構
36、37 保持部
Claims (17)
- 複数の基板が収容される収容容器が載置される容器載置部と、
前記基板を各々処理する複数の基板処理部と、前記基板が搬送される搬送路と、を各々備え、互いに積層される第1~第4の単位ブロックと、
移動自在な基台と、当該基台を前後に独立して移動自在に設けられると共に、前記基板の左右の縁部が開放されるように当該基板の左右の中央部寄りの位置を下方から各々支持する第1の基板保持部及び第2の基板保持部と、を備える第1の基板搬送機構と、
前記各単位ブロックの基板処理部に前記基板を受け渡すために前記基板が各々載置されるように前記単位ブロック毎に設けられ、互いに積層された複数の第1の基板載置部と、
前記第1の基板搬送機構の動作を制御する制御部と、
を備え、
前記第1の単位ブロック、前記第2の単位ブロックに各々対応する前記第1の基板載置部は、一の第1の基板載置部と、他の第1の基板載置部と、を含み、
前記制御部は、
前記第1及び第2の基板保持部を前記基台において共に前進させて前記収容容器から前記基板を揃って受け取り、続いて第1及び第2の基板保持部を前記基台において個別に前進させて、前記第1及び第2の単位ブロックに各々対応する前記一の第1の基板載置部に前記基板を搬送するステップと、
前記第1及び第2の基板保持部を前記基台において個別に前進させて前記第1及び第2の単位ブロックに各々対応する前記他の第1の基板載置部から前記基板を受け取り、続いて前記第1及び第2の基板保持部を前記基台において個別に前進させて前記第3及び第4の単位ブロックに各々対応する前記第1の基板載置部に前記基板を搬送するステップと、
を実行するように制御信号を出力する基板処理装置。 - 複数の基板が収容される収容容器が載置される容器載置部と、
前記基板を各々処理する複数の基板処理部と、前記基板が搬送される搬送路と、を各々備え、互いに積層される第1~第4の単位ブロックと、
移動自在な基台と、当該基台を前後に独立して移動自在に設けられると共に、前記基板の左右の縁部が開放されるように当該基板の左右の中央部寄りの位置を下方から各々支持する第1の基板保持部及び第2の基板保持部と、を備える第1の基板搬送機構と、
前記各単位ブロックの基板処理部に前記基板を受け渡すために前記基板が各々載置されるように前記単位ブロック毎に設けられる互いに積層された複数の第1の基板載置部と、
前記第1の基板搬送機構の動作を制御する制御部と、
を備え、
前記第3の単位ブロック、前記第4の単位ブロックに各々対応する前記第1の基板載置部は、一の第1の基板載置部と、他の第1の基板載置部と、を含み、
前記制御部は、
前記第1及び第2の基板保持部を前記基台において個別に前進させて前記第3及び第4の単位ブロックに各々対応する前記一の第1の基板載置部から前記基板を受け取り、続いて前記第1及び第2の基板保持部を前記基台において共に前進させて前記収容容器に前記基板を揃って搬送するステップと、
前記第1及び第2の基板保持部を前記基台において個別に前進させて前記第1及び第2の単位ブロックに各々対応する前記第1の基板載置部から前記基板を受け取り、続いて前記第1及び第2の基板保持部を前記基台において個別に前進させて前記第3及び第4の単位ブロックに各々対応する前記他の第1の基板載置部に前記基板を搬送するステップと、
を実行するように制御信号を出力する基板処理装置。 - 複数の基板が収容される収容容器が載置される容器載置部と、
前記基板を各々処理する複数の基板処理部と、前記基板が搬送される搬送路と、を各々備え、互いに積層される第1~第6の単位ブロックと、
移動自在な基台と、当該基台を前後に独立して移動自在に設けられると共に、前記基板の左右の縁部が開放されるように当該基板の左右の中央部寄りの位置を下方から各々支持する第1の基板保持部及び第2の基板保持部と、を備える第1の基板搬送機構と、
前記各単位ブロックの基板処理部に前記基板を受け渡すために前記基板が各々載置されるように前記単位ブロック毎に設けられ、前記第1の基板保持部及び第2の基板保持部が個別に前記基台を前進して前記基板が受け渡される、互いに積層された複数の第1の基板載置部と、
前記第1の基板搬送機構の動作を制御する制御部と、
を備え、
前記第1~第6の単位ブロックに各々対応する前記第1の基板載置部は、一の第1の基板載置部と、他の第1の基板載置部と、を含み、
前記第1の基板搬送機構は、一の第1の基板搬送機構と、他の第1の基板搬送機構とを含み、
前記制御部は、
前記一の第1の基板搬送機構を用いて、
前記第1及び第2の基板保持部を前記基台において共に前進させて前記収容容器から前記基板を揃って受け取り、続いて第1及び第2の基板保持部を前記基台において個別に前進させて、前記第1及び第2の単位ブロックに各々対応する前記一の第1の基板載置部に前記基板を搬送するステップと、
前記第1及び第2の基板保持部を前記基台において個別に前進させて前記第1及び第2の単位ブロックに各々対応する前記他の第1の基板載置部から前記基板を受け取り、続いて前記第1及び第2の基板保持部を前記基台において個別に前進させて前記第3及び第4の単位ブロックに各々対応する前記一の第1の基板載置部に前記基板を搬送するステップと、
前記他の第1の基板搬送機構を用いて、
前記第1及び第2の基板保持部を前記基台において個別に前進させて前記第5及び第6の単位ブロックに各々対応する前記一の第1の基板載置部から前記基板を受け取り、続いて前記基台において前記第1及び第2の基板保持部を共に前進させて前記収容容器に前記基板を揃って搬送するステップと、
前記第1及び第2の基板保持部を前記基台において個別に前進させて前記第3及び第4の単位ブロックに各々対応する前記他の第1の基板載置部から前記基板を受け取り、続いて前記第1及び第2の基板保持部を前記基台において個別に前進させて前記第5及び第6の単位ブロックに各々対応する前記他の第1の基板載置部に前記基板を搬送するステップと、
を実行するように制御信号を出力する基板処理装置。 - 前記複数の単位ブロックは、当該基板処理部と前記第1の基板載置部との間で前記基板を搬送する第2の基板搬送機構を備える請求項1ないし3のいずれか一つに記載の基板処理装置。
- 前記第2の基板搬送機構は、前記基板を側方から囲む囲み部と、この囲み部の内周縁に設けられて前記基板の下面を支持する爪部と、により構成される第3の基板保持部を備える請求項4記載の基板処理装置。
- 前記第1の基板搬送機構及び前記第2の基板搬送機構のうち、第2の基板搬送機構のみにより前記基板が受け渡され、前記第1の基板載置部に対して縦方向に並んで設けられる第2の基板載置部を備える請求項4または5記載の基板処理装置。
- 前記第2の基板載置部は、前記基板の温度を調整する温度調整部である請求項6記載の基板処理装置。
- 前記第1の基板搬送機構は、
前記第1の基板保持部及び/または前記第2の基板保持部に保持された前記基板の位置を検出するための検出部を備える請求項1ないし7のいずれか一つに記載の基板処理装置。 - 前記検出部は、
前記基板の周縁部に投光する投光部と、前記投光部により投光されて当該基板の側方を通過する光を受光する受光部と、により構成され、
前記受光部から出力される検出信号に基づいて前記基板の周端の位置を検出する検出機構が設けられる請求項8記載の基板処理装置。 - 前記第1の基板保持部及び前記第2の基板保持部が前記基板を保持しているときの前記検出部による検出結果に応じて、前記各基板を当該第1の基板保持部及び前記第2の基板保持部により保持し直すために前記基板が仮置きされると共に、仮置きされた当該基板の位置が調整される位置調整部が設けられる請求項8または9記載の基板処理装置。
- 前記位置調整部は、前記第1の基板載置部に対して縦方向に並んで設けられる請求項10記載の基板処理装置。
- 前記制御部は、前記前記第1の基板保持部または前記第2の基板保持部が前記基板を保持しているときの前記検出部による検出結果に応じて、前記第1の基板載置部に対する前記基板が受け渡される位置が調整されるように前記制御信号を出力する請求項8ないし11のいずれか一つに記載の基板処理装置。
- 前記制御部は、前記収容容器から前記第1の基板搬送機構が受け取った前記複数の基板を、複数の前記第1の基板載置部に連続して搬送するように制御信号を出力する請求項1ないし12のいずれか一つに記載の基板処理装置。
- 前記制御部は、
前記第1の基板搬送機構が、複数の前記第1の基板載置部から連続して前記基板を受け取り、受け取った各基板を前記収容容器に搬送するように制御信号を出力する請求項1ないし13のいずれか一つに記載の基板処理装置。 - 複数の基板が収容される収容容器を容器載置部に載置する工程と、
複数の基板処理部により前記基板を各々処理する工程と、
第1の基板搬送機構を構成する基台を移動させる工程と、
前記第1の基板搬送機構を構成し、前記基台を前後に独立して移動自在に設けられる第1の基板保持部及び第2の基板保持部を、前記基板の左右の縁部が開放されるように当該基板の左右の中央部寄りの位置を下方から各々支持する工程と、
前記第1の基板保持部及び第2の基板保持部を、前記収容容器に前記基板を揃って受け渡すために共に前進させる工程と、
互いに積層された複数の第1の基板載置部に基板を各々載置する工程と、
前記複数の第1の基板載置部に載置された基板を、前記複数の基板処理部に各々受け渡す工程と、
前記第1の基板保持部及び第2の基板保持部を個別に前記基台を前進させて、前記複数の第1の基板載置部に前記基板を受け渡す工程と、
を備え、
前記基板を各々処理する複数の基板処理部と、前記基板が搬送される搬送路と、を各々備え、互いに積層される第1~第4の単位ブロックと、前記各単位ブロックの基板処理部に前記基板を受け渡すために前記基板が各々載置されるように前記単位ブロック毎に設けられる、互いに積層された複数の第1の基板載置部と、が設けられ、
前記第1の単位ブロック、前記第2の単位ブロックに各々対応する前記第1の基板載置部は、一の第1の基板載置部と、他の第1の基板載置部と、を含み、
前記第1及び第2の基板保持部を前記基台において共に前進させて前記収容容器から前記基板を揃って受け取り、続いて第1及び第2の基板保持部を前記基台において個別に前進させて、前記第1及び第2の単位ブロックに各々対応する前記一の第1の基板載置部に前記基板を搬送する工程と、
前記第1及び第2の基板保持部を前記基台において個別に前進させて前記第1及び第2の単位ブロックに各々対応する前記他の第1の基板載置部から前記基板を受け取り、続いて前記第1及び第2の基板保持部を前記基台において個別に前進させて前記第3及び第4の単位ブロックに各々対応する前記第1の基板載置部に前記基板を搬送する工程と、
を備える基板処理方法。 - 複数の基板が収容される収容容器を容器載置部に載置する工程と、
複数の基板処理部により前記基板を各々処理する工程と、
第1の基板搬送機構を構成する基台を移動させる工程と、
前記第1の基板搬送機構を構成し、前記基台を前後に独立して移動自在に設けられる第1の基板保持部及び第2の基板保持部を、前記基板の左右の縁部が開放されるように当該基板の左右の中央部寄りの位置を下方から各々支持する工程と、
前記第1の基板保持部及び第2の基板保持部を、前記収容容器に前記基板を揃って受け渡すために共に前進させる工程と、
互いに積層された複数の第1の基板載置部に基板を各々載置する工程と、
前記複数の第1の基板載置部に載置された基板を、前記複数の基板処理部に各々受け渡す工程と、
前記第1の基板保持部及び第2の基板保持部を個別に前記基台を前進させて、前記複数の第1の基板載置部に前記基板を受け渡す工程と、
を備え、
前記基板を各々処理する複数の基板処理部と、前記基板が搬送される搬送路と、を各々備え、互いに積層される第1~第4の単位ブロックと、前記各単位ブロックの基板処理部に前記基板を受け渡すために前記基板が各々載置されるように前記単位ブロック毎に設けられる、互いに積層された複数の第1の基板載置部と、が設けられ、
前記第3の単位ブロック、前記第4の単位ブロックに各々対応する前記第1の基板載置部は、一の第1の基板載置部と、他の第1の基板載置部と、を含み、
前記第1及び第2の基板保持部を前記基台において個別に前進させて前記第3及び第4の単位ブロックに各々対応する前記一の第1の基板載置部から前記基板を受け取り、続いて前記第1及び第2の基板保持部を前記基台において共に前進させて前記収容容器に前記基板を揃って搬送する工程と、
前記第1及び第2の基板保持部を前記基台において個別に前進させて前記第1及び第2の単位ブロックに各々対応する前記第1の基板載置部から前記基板を受け取り、続いて前記第1及び第2の基板保持部を前記基台において個別に前進させて前記第3及び第4の単位ブロックに各々対応する前記他の第1の基板載置部に前記基板を搬送する工程と、
を備える基板処理方法。 - 複数の基板が収容される収容容器を容器載置部に載置する工程と、
複数の基板処理部により前記基板を各々処理する工程と、
第1の基板搬送機構を構成する基台を移動させる工程と、
前記第1の基板搬送機構を構成し、前記基台を前後に独立して移動自在に設けられる第1の基板保持部及び第2の基板保持部を、前記基板の左右の縁部が開放されるように当該基板の左右の中央部寄りの位置を下方から各々支持する工程と、
前記第1の基板保持部及び第2の基板保持部を、前記収容容器に前記基板を揃って受け渡すために共に前進させる工程と、
互いに積層された複数の第1の基板載置部に基板を各々載置する工程と、
前記複数の第1の基板載置部に載置された基板を、前記複数の基板処理部に各々受け渡す工程と、
前記第1の基板保持部及び第2の基板保持部を個別に前記基台を前進させて、前記複数の第1の基板載置部に前記基板を受け渡す工程と、
を備え、
前記基板を各々処理する複数の基板処理部と、前記基板が搬送される搬送路と、を各々備え、互いに積層される第1~第6の単位ブロックと、前記各単位ブロックの基板処理部に前記基板を受け渡すために前記基板が各々載置されるように前記単位ブロック毎に設けられる、互いに積層された複数の第1の基板載置部と、が設けられ、
前記第1~6の単位ブロックに各々対応する前記第1の基板載置部は、一の第1の基板載置部と、他の第1の基板載置部と、を含み、
前記一の第1の基板搬送機構を用いて、
前記第1及び第2の基板保持部を前記基台において共に前進させて前記収容容器から前記基板を揃って受け取り、続いて第1及び第2の基板保持部を前記基台において個別に前進させて、前記第1及び第2の単位ブロックに各々対応する前記一の第1の基板載置部に前記基板を搬送するステップと、
前記第1及び第2の基板保持部を前記基台において個別に前進させて前記第1及び第2の単位ブロックに各々対応する前記他の第1の基板載置部から前記基板を受け取り、続いて前記第1及び第2の基板保持部を前記基台において個別に前進させて前記第3及び第4の単位ブロックに各々対応する前記一の第1の基板載置部に前記基板を搬送するステップと、
前記他の第1の基板搬送機構を用いて、
前記第1及び第2の基板保持部を前記基台において個別に前進させて前記第5及び第6の単位ブロックに各々対応する前記一の第1の基板載置部から前記基板を受け取り、続いて前記基台において前記第1及び第2の基板保持部を共に前進させて前記収容容器に前記基板を揃って搬送する工程と、
前記第1及び第2の基板保持部を前記基台において個別に前進させて前記第3及び第4の単位ブロックに各々対応する前記他の第1の基板載置部から前記基板を受け取り、続いて前記第1及び第2の基板保持部を前記基台において個別に前進させて前記第5及び第6の単位ブロックに各々対応する前記他の第1の基板載置部に前記基板を搬送する工程と、
を備える基板処理方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019025712A JP7211142B2 (ja) | 2019-02-15 | 2019-02-15 | 基板処理装置及び基板処理方法 |
CN202020169585.0U CN211654775U (zh) | 2019-02-15 | 2020-02-14 | 基板处理装置 |
CN202010092530.9A CN111584392A (zh) | 2019-02-15 | 2020-02-14 | 基板处理装置和基板处理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019025712A JP7211142B2 (ja) | 2019-02-15 | 2019-02-15 | 基板処理装置及び基板処理方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020136397A JP2020136397A (ja) | 2020-08-31 |
JP7211142B2 true JP7211142B2 (ja) | 2023-01-24 |
Family
ID=72111393
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019025712A Active JP7211142B2 (ja) | 2019-02-15 | 2019-02-15 | 基板処理装置及び基板処理方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7211142B2 (ja) |
CN (2) | CN111584392A (ja) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006229183A (ja) | 2005-01-21 | 2006-08-31 | Tokyo Electron Ltd | 塗布、現像装置及びその方法 |
JP2009260087A (ja) | 2008-04-17 | 2009-11-05 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
JP2013243406A (ja) | 2013-08-13 | 2013-12-05 | Tokyo Electron Ltd | 塗布、現像装置、塗布、現像方法及び記憶媒体 |
JP2016122710A (ja) | 2014-12-24 | 2016-07-07 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板搬送装置および基板搬送方法 |
-
2019
- 2019-02-15 JP JP2019025712A patent/JP7211142B2/ja active Active
-
2020
- 2020-02-14 CN CN202010092530.9A patent/CN111584392A/zh active Pending
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Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2006229183A (ja) | 2005-01-21 | 2006-08-31 | Tokyo Electron Ltd | 塗布、現像装置及びその方法 |
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JP2013243406A (ja) | 2013-08-13 | 2013-12-05 | Tokyo Electron Ltd | 塗布、現像装置、塗布、現像方法及び記憶媒体 |
JP2016122710A (ja) | 2014-12-24 | 2016-07-07 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板搬送装置および基板搬送方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN111584392A (zh) | 2020-08-25 |
CN211654775U (zh) | 2020-10-09 |
JP2020136397A (ja) | 2020-08-31 |
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