JPH02197599A - 金属表面の化学処理装置 - Google Patents
金属表面の化学処理装置Info
- Publication number
- JPH02197599A JPH02197599A JP1015767A JP1576789A JPH02197599A JP H02197599 A JPH02197599 A JP H02197599A JP 1015767 A JP1015767 A JP 1015767A JP 1576789 A JP1576789 A JP 1576789A JP H02197599 A JPH02197599 A JP H02197599A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cell line
- workpiece
- section
- cell lines
- cell
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000002184 metal Substances 0.000 title claims description 9
- 238000011282 treatment Methods 0.000 claims abstract description 13
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 claims abstract description 10
- 230000007723 transport mechanism Effects 0.000 claims description 13
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 7
- 230000032258 transport Effects 0.000 claims description 5
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 abstract description 20
- 238000007747 plating Methods 0.000 abstract description 15
- 238000005406 washing Methods 0.000 abstract description 15
- 238000005530 etching Methods 0.000 abstract description 13
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 abstract description 8
- 238000001035 drying Methods 0.000 abstract description 7
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 7
- 239000000969 carrier Substances 0.000 abstract description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 11
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 2
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D17/00—Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
- C25D17/16—Apparatus for electrolytic coating of small objects in bulk
- C25D17/28—Apparatus for electrolytic coating of small objects in bulk with means for moving the objects individually through the apparatus during treatment
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
この発明はメツキ等に代表される金属表面の化学処理装
置に関する。
置に関する。
[従来の技術]
例えば、車両の構成部品であるワークをメツキ処理する
場合に、複数のワークをかごに入れて電解イクに浸して
、メツキを施すことが行なわれていこの方法では、−度
に大量のワークを処理できる利点があるが、電解槽にワ
ークを入れるときや出すときに、メツキ液が飛散するこ
とがあり、環境上問題がある。
場合に、複数のワークをかごに入れて電解イクに浸して
、メツキを施すことが行なわれていこの方法では、−度
に大量のワークを処理できる利点があるが、電解槽にワ
ークを入れるときや出すときに、メツキ液が飛散するこ
とがあり、環境上問題がある。
このため、例えば第5図に示すように、電解液タンク1
00をバイブ101でセル電解槽102と連結し、循環
ポンプ103の駆動で電解液を循環させ、この密閉され
たセル電解槽102にチャック104でワーク105を
保持して供給し、セル電解槽102とチャック104と
を通電させ、メツキを施すものがある。
00をバイブ101でセル電解槽102と連結し、循環
ポンプ103の駆動で電解液を循環させ、この密閉され
たセル電解槽102にチャック104でワーク105を
保持して供給し、セル電解槽102とチャック104と
を通電させ、メツキを施すものがある。
[発明が解決しようとする課題]
このように、ワークをチャックで保持して、密閉された
セル電解槽に供給してメツキを施す場合、−度に大量の
ワークを処理することが困難である。このため、例えば
密閉されたセル電解槽を?l数借えたセルラインを設け
、さらにこのセルラインを複数配置することにより、ワ
ークを大量に処理することが可能になるが、この場合ワ
ークは個々のセル電解槽で処理されるため、セルライン
の増加や設置によって、処理液槽や配管、ポンプ等の駆
動機構等の付帯設備の数が増加したり大きくなる。
セル電解槽に供給してメツキを施す場合、−度に大量の
ワークを処理することが困難である。このため、例えば
密閉されたセル電解槽を?l数借えたセルラインを設け
、さらにこのセルラインを複数配置することにより、ワ
ークを大量に処理することが可能になるが、この場合ワ
ークは個々のセル電解槽で処理されるため、セルライン
の増加や設置によって、処理液槽や配管、ポンプ等の駆
動機構等の付帯設備の数が増加したり大きくなる。
また、ワークの搬送機構もセルライン毎に設けると、搬
送機構が複数必要となりコストが高くなる。一方ワーク
を搬送するキャリヤは1つの処理工程に2つ、すなわち
前工程からセルラインにセットするものと、セルライン
から外して次工程に送るものが設けられていた。搬送機
構を簡単にするために、キャリヤを1つの処理工程につ
き1つとすることが考えられるが、単に数を減らしただ
けではワークをセルラインにセットし、処理を終了した
後に、このワークを外して次の処理工程に搬送し、再び
ワークをセルラインにセットする必要がある。従って、
この処理したワークを次の処理工程に搬送して再びセッ
トする間、セルラインの処理が停止され、処理時間のロ
スが生じて短時間に大量の処理を行なうことができない
等の問題がある。
送機構が複数必要となりコストが高くなる。一方ワーク
を搬送するキャリヤは1つの処理工程に2つ、すなわち
前工程からセルラインにセットするものと、セルライン
から外して次工程に送るものが設けられていた。搬送機
構を簡単にするために、キャリヤを1つの処理工程につ
き1つとすることが考えられるが、単に数を減らしただ
けではワークをセルラインにセットし、処理を終了した
後に、このワークを外して次の処理工程に搬送し、再び
ワークをセルラインにセットする必要がある。従って、
この処理したワークを次の処理工程に搬送して再びセッ
トする間、セルラインの処理が停止され、処理時間のロ
スが生じて短時間に大量の処理を行なうことができない
等の問題がある。
この発明は、かかる実状に鑑みなされたもので、付帯設
備の共通化を図り、小型で設置スペースの確保が容易で
、ざらにIA埋時間のロスをなくし、低コストで生産効
率を向上させる金属表面の化学処理装置を提供すること
を目的としている。
備の共通化を図り、小型で設置スペースの確保が容易で
、ざらにIA埋時間のロスをなくし、低コストで生産効
率を向上させる金属表面の化学処理装置を提供すること
を目的としている。
[課題を解決するための手段]
前記課題を解決するために、この発明の金属表面の化学
処理装置は、複数のワークに所定の表面処理を行なうセ
ルラインを水平にして複数段に配置し、この複数のセル
ラインを共通の付帯設備で切換えて駆動可能にすると共
に、複数のセルラインから空のセルラインを選択してワ
ークをセットする一方、表面処理をしたセルラインを選
択してワークを外し、次の処理工程へ搬送する搬送機構
を備えたことを特徴としている。
処理装置は、複数のワークに所定の表面処理を行なうセ
ルラインを水平にして複数段に配置し、この複数のセル
ラインを共通の付帯設備で切換えて駆動可能にすると共
に、複数のセルラインから空のセルラインを選択してワ
ークをセットする一方、表面処理をしたセルラインを選
択してワークを外し、次の処理工程へ搬送する搬送機構
を備えたことを特徴としている。
[作用]
この発明の金属表面の化学処理装置では、複数のワーク
に所定の表面処理を行なうセルラインを水平にして複数
段に配置し、このセルラインで一度に大量のワークの処
理が可能となりている。しかも、セルラインが水平にし
て複数段に配置されており、設置スペースの確保が容易
である。
に所定の表面処理を行なうセルラインを水平にして複数
段に配置し、このセルラインで一度に大量のワークの処
理が可能となりている。しかも、セルラインが水平にし
て複数段に配置されており、設置スペースの確保が容易
である。
さらに、この複数のセルラインを共通の付帯設備で切換
えて駆動させているから、その分装置が小型になる。
えて駆動させているから、その分装置が小型になる。
また、切換えて駆動される複数のセルラインから空のセ
ルラインを選択してワークをセットして処理し、表面処
理をしたセルラインを選択してワークを外して、次の処
理工程へ搬送する作業を単一のキャリヤにより行なうた
め、セルラインに対応して搬送機構を備える必要がなく
なると共に搬送機構が簡単になる。しかも、複数のセル
ラインがロス時間なく、ワークの処理が行なうことがで
き、低コストで生産効率が向上する。
ルラインを選択してワークをセットして処理し、表面処
理をしたセルラインを選択してワークを外して、次の処
理工程へ搬送する作業を単一のキャリヤにより行なうた
め、セルラインに対応して搬送機構を備える必要がなく
なると共に搬送機構が簡単になる。しかも、複数のセル
ラインがロス時間なく、ワークの処理が行なうことがで
き、低コストで生産効率が向上する。
[実施例コ
次に、この発明の一実施例を添付図面に基づいて詳細に
説明する。
説明する。
第1図は金属表面の化学処理装置の正面図、第2図はそ
の平面図、第3図はその左側面図、第4図はワーク処理
の作動チャートである。
の平面図、第3図はその左側面図、第4図はワーク処理
の作動チャートである。
図において符号1はワーク投入部、2は脱脂部、3は水
洗部、4はエツチング部、5は水洗部、6はメツキ部、
)は水洗部である。また、この水洗部7の後段に乾燥部
8を配置することもできる。これらの各処理工程をワー
クが搬送機構9によって搬送して処理される。
洗部、4はエツチング部、5は水洗部、6はメツキ部、
)は水洗部である。また、この水洗部7の後段に乾燥部
8を配置することもできる。これらの各処理工程をワー
クが搬送機構9によって搬送して処理される。
ワーク没入部1にはワーク10が供給され、このワーク
10は搬送機構9のキャリヤ91で把持可能に載置され
る。
10は搬送機構9のキャリヤ91で把持可能に載置され
る。
脱脂部2ではワークの表面の油を除去する処理が、エツ
チング部4では通電してワークの表面を粗くする処理が
行なわれ、またメツキ部6は通電してワークにメツキを
施す処理が行なわれる。また、乾燥部8を設けると、メ
ツキを施したワークが乾燥される。
チング部4では通電してワークの表面を粗くする処理が
行なわれ、またメツキ部6は通電してワークにメツキを
施す処理が行なわれる。また、乾燥部8を設けると、メ
ツキを施したワークが乾燥される。
脱脂部2、エツチング部4及びメツキ部6はそれぞれ複
数のワークに所定の表面処理を行なうセルライン21.
22,41,42,61.62を有しており、これらは
一対づつ水平方向に対向させて配置されている。このそ
れぞれのセルライン21.22,41,42,61.8
2には6個の処理槽Zooが水平方向に配置され、この
処理槽200内には処理液が充填され、内蔵したワーク
取付治具201と、このワーク取付治具201に対向し
て配置されたワーク取付治具202とでワークを支持す
るようになフている。このワーク取付治具202はガイ
ドロッド203を介して、処理槽200側のエアシリン
ダ204のロッド205と連結されており、このエアシ
リンダ204の作動で移動し、ワークを処理槽200に
設けられたワーク取付治具201とでワークを支持して
処理槽200内に供給し、それぞれの表面処理を行なう
ようになっている。
数のワークに所定の表面処理を行なうセルライン21.
22,41,42,61.62を有しており、これらは
一対づつ水平方向に対向させて配置されている。このそ
れぞれのセルライン21.22,41,42,61.8
2には6個の処理槽Zooが水平方向に配置され、この
処理槽200内には処理液が充填され、内蔵したワーク
取付治具201と、このワーク取付治具201に対向し
て配置されたワーク取付治具202とでワークを支持す
るようになフている。このワーク取付治具202はガイ
ドロッド203を介して、処理槽200側のエアシリン
ダ204のロッド205と連結されており、このエアシ
リンダ204の作動で移動し、ワークを処理槽200に
設けられたワーク取付治具201とでワークを支持して
処理槽200内に供給し、それぞれの表面処理を行なう
ようになっている。
この脱脂部2、エツチング部4及びメツキ部6の間には
それぞれ水洗部3,5.7が配置され、この水洗部3,
5.7にワークを入れて水洗することができるようにな
っている。
それぞれ水洗部3,5.7が配置され、この水洗部3,
5.7にワークを入れて水洗することができるようにな
っている。
脱脂部2、エツチング部4、メツキ部6及び水洗部3,
5.7には付帯設備220,240,260がそれぞれ
対応して配置され、この付帯設備は処理液タンク、配管
、バルブ、ポンプ及び制御機構等で構成されている。こ
の付帯設備220゜240.260は各セルライン21
,22、各セルライン41.42及び各セルライン61
.62を交互に駆動し、一方のセルラインで処理が行な
われているときには、他方のセルラインは休止しており
、これにより共通化されて装置の小型化が可能になって
いる。
5.7には付帯設備220,240,260がそれぞれ
対応して配置され、この付帯設備は処理液タンク、配管
、バルブ、ポンプ及び制御機構等で構成されている。こ
の付帯設備220゜240.260は各セルライン21
,22、各セルライン41.42及び各セルライン61
.62を交互に駆動し、一方のセルラインで処理が行な
われているときには、他方のセルラインは休止しており
、これにより共通化されて装置の小型化が可能になって
いる。
搬送機構9には第3図に示すようにキャリヤ91.92
.93が脱脂部2、エツチング部4及びメツキ部6にそ
れぞれ対応して、レール97に走行可能に設けられてい
る。また、乾燥部8を備える場合にはキャリヤ94が対
応して設けられる。
.93が脱脂部2、エツチング部4及びメツキ部6にそ
れぞれ対応して、レール97に走行可能に設けられてい
る。また、乾燥部8を備える場合にはキャリヤ94が対
応して設けられる。
このそれぞれのキャリヤ91〜94はロッド95で連結
され、モータの駆動で走行する駆動機構96で連動して
レール97上を移動する。
され、モータの駆動で走行する駆動機構96で連動して
レール97上を移動する。
それぞれのキャリヤ91〜94はチャック98が6個水
平方向に設けられており、このチャック98でワークを
保持し、所定の位置に連動して搬送するようになってい
る。このチャック98はシリンダ99aで上下動し、シ
リンダ99bで前後進して所定の位置に移動する。
平方向に設けられており、このチャック98でワークを
保持し、所定の位置に連動して搬送するようになってい
る。このチャック98はシリンダ99aで上下動し、シ
リンダ99bで前後進して所定の位置に移動する。
この実施例の作動を第1図及び第4図に基づいて説明す
る。
る。
第4図において、実線で示したラインが先に処理される
ワークの流れを示し、破線で示したラインが次に処理さ
れるワークの流れを示しており、また四角で囲まれる箇
所が駆動している部分であり、このとき他方のラインは
休止している。
ワークの流れを示し、破線で示したラインが次に処理さ
れるワークの流れを示しており、また四角で囲まれる箇
所が駆動している部分であり、このとき他方のラインは
休止している。
即ち、搬送機構9のモータで駆動する駆動機構96で、
脱脂部2に対応して配置されたキャリヤ91がワーク投
入部1のワーク10を保持して脱脂部2のセルライン2
1に供給し、ここでワーク10の脱脂処理が行なわれる
。
脱脂部2に対応して配置されたキャリヤ91がワーク投
入部1のワーク10を保持して脱脂部2のセルライン2
1に供給し、ここでワーク10の脱脂処理が行なわれる
。
このとき、キャリヤ91はワーク投入部1に供給されて
いるワーク10を保持して、脱脂部2のセルライン22
に供給し、セルライン22での脱脂処理に備える。セル
ラインz1での脱脂lA理が完了すると、セルライン2
2で同様にワーク10の脱脂処理が行なわれる。
いるワーク10を保持して、脱脂部2のセルライン22
に供給し、セルライン22での脱脂処理に備える。セル
ラインz1での脱脂lA理が完了すると、セルライン2
2で同様にワーク10の脱脂処理が行なわれる。
この間に、キャリヤ91は脱脂処理が完了した脱脂部2
のセルライン21からワーク10を外し、水洗部3に搬
送し、ワークlOは水洗される。このとき、キャリヤ9
1はワーク投入部1まで移動して、次のワーク10をワ
ークを外した脱脂部2のセルライン21に供給し、これ
と同時にエツチング部4に対応して配置されたキャリヤ
92が水洗部3のワーク10を保持して、エツチング部
4のセルライン41に供給する。
のセルライン21からワーク10を外し、水洗部3に搬
送し、ワークlOは水洗される。このとき、キャリヤ9
1はワーク投入部1まで移動して、次のワーク10をワ
ークを外した脱脂部2のセルライン21に供給し、これ
と同時にエツチング部4に対応して配置されたキャリヤ
92が水洗部3のワーク10を保持して、エツチング部
4のセルライン41に供給する。
ついで、キャリヤ91が後に脱脂部2のセルライン22
に搬送されたワーク10を保持して、水洗部3に供給し
て水洗する。そして、同様にキャリヤ91はワーク投入
部1まで移動してワーク10をワークを外した脱脂部2
のセルライン22に供給し、これと同時にエツチング部
4に対応して配置されたキャリヤ92が水洗部3のワー
ク10を保持して、他のエツチング部4のセルライン4
2に供給する。このようにして、各キャリヤ91.92
,93.94は連動しており、脱脂部2、水洗部3、エ
ツチング部4、水洗部5、メッキ部6及び水洗部7の各
処理工程において同じ作動をして連続的に搬送して処理
し、処理が終了すると、キャリヤ94が連動して水洗部
7から乾燥部8へ供給し、さらに乾燥部8から取出して
完成品置場に置く。
に搬送されたワーク10を保持して、水洗部3に供給し
て水洗する。そして、同様にキャリヤ91はワーク投入
部1まで移動してワーク10をワークを外した脱脂部2
のセルライン22に供給し、これと同時にエツチング部
4に対応して配置されたキャリヤ92が水洗部3のワー
ク10を保持して、他のエツチング部4のセルライン4
2に供給する。このようにして、各キャリヤ91.92
,93.94は連動しており、脱脂部2、水洗部3、エ
ツチング部4、水洗部5、メッキ部6及び水洗部7の各
処理工程において同じ作動をして連続的に搬送して処理
し、処理が終了すると、キャリヤ94が連動して水洗部
7から乾燥部8へ供給し、さらに乾燥部8から取出して
完成品置場に置く。
[発明の効果]
前記したように、この発明の金属表面の化学処理装置で
は、複数ワークに所定の表面処理を行なうセルラインを
水平にし複数段状に配置したから、セルラインで大量の
ワークの処理が可能となる。また、セルラインの数を増
加させても水平方向にして複数段状に配するから、設置
スペースの確保が容易である。
は、複数ワークに所定の表面処理を行なうセルラインを
水平にし複数段状に配置したから、セルラインで大量の
ワークの処理が可能となる。また、セルラインの数を増
加させても水平方向にして複数段状に配するから、設置
スペースの確保が容易である。
さらに、複数のセルラインを共通の付帯設備で切換えて
駆動させているから、その分装置が小型になる。また、
切換えて駆動される複数のセルラインから空のセルライ
ンを選択してワークをセットし処理し、表面処理をした
セルラインを選択してワークを次の処理工程へ搬送する
ようになしたから、セルラインに対応して搬送機構を備
える必要がなく、またFJ車な搬送機構でロス時間なく
ワークの搬送が行なわれて処理することができ、製作コ
ストを上げることなく、生産効率が向上することができ
る。
駆動させているから、その分装置が小型になる。また、
切換えて駆動される複数のセルラインから空のセルライ
ンを選択してワークをセットし処理し、表面処理をした
セルラインを選択してワークを次の処理工程へ搬送する
ようになしたから、セルラインに対応して搬送機構を備
える必要がなく、またFJ車な搬送機構でロス時間なく
ワークの搬送が行なわれて処理することができ、製作コ
ストを上げることなく、生産効率が向上することができ
る。
第1図は金属表面の化学処理装置の正面図、第2図はそ
の平面図、第3図はその左側面図、第4図はワーク処理
の作動チャート、第5図はセル処理の構成図である。 図中符号1はワーク投入部、2は脱脂部、3゜5.7は
水洗部、4はエツチング部、6はメツキ部、8は乾燥部
、9は搬送機構、21,22.41.42,61.62
はセルライン、91,92.93.94はキャリヤ、2
20,240.260は付帯設備である。 第 図 手 糸売 補 正 書
の平面図、第3図はその左側面図、第4図はワーク処理
の作動チャート、第5図はセル処理の構成図である。 図中符号1はワーク投入部、2は脱脂部、3゜5.7は
水洗部、4はエツチング部、6はメツキ部、8は乾燥部
、9は搬送機構、21,22.41.42,61.62
はセルライン、91,92.93.94はキャリヤ、2
20,240.260は付帯設備である。 第 図 手 糸売 補 正 書
Claims (1)
- 複数のワークに所定の表面処理を行なうセルラインを水
平にして複数段に配置し、この複数のセルラインを共通
の付帯設備で切換えて駆動可能にすると共に、複数のセ
ルラインから空のセルラインを選択してワークをセット
する一方、表面処理をしたセルラインを選択してワーク
を外し、次の処理工程へ搬送する搬送機構を備えたこと
を特徴とする金属表面の化学処理装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1015767A JPH02197599A (ja) | 1989-01-25 | 1989-01-25 | 金属表面の化学処理装置 |
DE4001721A DE4001721A1 (de) | 1989-01-25 | 1990-01-22 | Vorrichtung zur chemischen behandlung von metalloberflaechen |
US07/468,947 US5100516A (en) | 1989-01-25 | 1990-01-23 | High volume workpiece handling and chemical treating system |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1015767A JPH02197599A (ja) | 1989-01-25 | 1989-01-25 | 金属表面の化学処理装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02197599A true JPH02197599A (ja) | 1990-08-06 |
Family
ID=11897950
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1015767A Pending JPH02197599A (ja) | 1989-01-25 | 1989-01-25 | 金属表面の化学処理装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5100516A (ja) |
JP (1) | JPH02197599A (ja) |
DE (1) | DE4001721A1 (ja) |
Families Citing this family (27)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6375741B2 (en) * | 1991-03-06 | 2002-04-23 | Timothy J. Reardon | Semiconductor processing spray coating apparatus |
US5257897A (en) * | 1990-06-05 | 1993-11-02 | Murata Kikai Kabushiki Kaisha | Can conveying system |
US5222856A (en) * | 1990-06-05 | 1993-06-29 | Murata Kikai Kabushiki Kaisha | Can conveying system |
KR970011065B1 (ko) * | 1992-12-21 | 1997-07-05 | 다이닛뽕 스크린 세이조오 가부시키가이샤 | 기판처리장치와 기판처리장치에 있어서 기판교환장치 및 기판교환방법 |
US5312532A (en) * | 1993-01-15 | 1994-05-17 | International Business Machines Corporation | Multi-compartment eletroplating system |
JP3579802B2 (ja) * | 1994-12-27 | 2004-10-20 | 秋田製錬株式会社 | 陰極板の自動搬送処理装置 |
US5863408A (en) * | 1995-06-06 | 1999-01-26 | Yamaha Hatsudoki Kabushiki Kaisha | Method and device for surface treatment |
JP3219371B2 (ja) * | 1996-03-21 | 2001-10-15 | 日本ペイント株式会社 | 金属成型物の塗装方法 |
DE19706175A1 (de) * | 1997-02-17 | 1998-08-27 | Eisenmann Kg Maschbau | Durchlaufanlage für die Behandlung von Werkstücken |
US6276072B1 (en) * | 1997-07-10 | 2001-08-21 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus for heating and cooling substrates |
US6994776B2 (en) * | 1998-06-01 | 2006-02-07 | Semitool Inc. | Method and apparatus for low temperature annealing of metallization micro-structure in the production of a microelectronic device |
US6136163A (en) * | 1999-03-05 | 2000-10-24 | Applied Materials, Inc. | Apparatus for electro-chemical deposition with thermal anneal chamber |
US6358128B1 (en) * | 1999-03-05 | 2002-03-19 | Ebara Corporation | Polishing apparatus |
US7192494B2 (en) * | 1999-03-05 | 2007-03-20 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus for annealing copper films |
US20040079633A1 (en) * | 2000-07-05 | 2004-04-29 | Applied Materials, Inc. | Apparatus for electro chemical deposition of copper metallization with the capability of in-situ thermal annealing |
US6544391B1 (en) * | 2000-10-17 | 2003-04-08 | Semitool, Inc. | Reactor for electrochemically processing a microelectronic workpiece including improved electrode assembly |
US7311810B2 (en) * | 2003-04-18 | 2007-12-25 | Applied Materials, Inc. | Two position anneal chamber |
DE102004043203A1 (de) * | 2004-09-03 | 2006-03-09 | Diva-Tec Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zum elektrochemischen Bearbeiten von Werkstücken |
JP5006122B2 (ja) | 2007-06-29 | 2012-08-22 | 株式会社Sokudo | 基板処理装置 |
JP5128918B2 (ja) * | 2007-11-30 | 2013-01-23 | 株式会社Sokudo | 基板処理装置 |
JP5160204B2 (ja) * | 2007-11-30 | 2013-03-13 | 株式会社Sokudo | 基板処理装置 |
JP5001828B2 (ja) * | 2007-12-28 | 2012-08-15 | 株式会社Sokudo | 基板処理装置 |
JP5179170B2 (ja) | 2007-12-28 | 2013-04-10 | 株式会社Sokudo | 基板処理装置 |
KR101333037B1 (ko) * | 2011-12-29 | 2013-11-26 | 한전원자력연료 주식회사 | 산세액 희석화 방지기능이 향상된 핵 연료봉용 클래딩 튜브 산세처리장치 |
DE102020208248A1 (de) * | 2020-07-01 | 2022-01-05 | Dürr Systems Ag | Behandlungsstation, Behandlungsanlage und Verfahren zum Behandeln von Werkstücken |
DE102020208250A1 (de) | 2020-07-01 | 2022-01-05 | Dürr Systems Ag | Behandlungsstation, Behandlungsanlage und Verfahren zum Behandeln von Werkstücken |
DE102020208251A1 (de) | 2020-07-01 | 2022-01-05 | Dürr Systems Ag | Behandlungsstation, Behandlungsanlage und Verfahren zum Behandeln von Werkstücken |
-
1989
- 1989-01-25 JP JP1015767A patent/JPH02197599A/ja active Pending
-
1990
- 1990-01-22 DE DE4001721A patent/DE4001721A1/de not_active Withdrawn
- 1990-01-23 US US07/468,947 patent/US5100516A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5100516A (en) | 1992-03-31 |
DE4001721A1 (de) | 1990-07-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH02197599A (ja) | 金属表面の化学処理装置 | |
JP3328481B2 (ja) | 処理方法および装置 | |
JP3357032B2 (ja) | めっき処理装置およびめっき処理方法 | |
KR101372508B1 (ko) | 자동도금장치 | |
JP3165435B2 (ja) | 洗浄装置 | |
CN107283259A (zh) | 一种光学镜头抛光机的自动上下料设备及方法 | |
KR102035233B1 (ko) | 도금 시스템 | |
JPS6362599B2 (ja) | ||
JPH0799177A (ja) | 基板の浸漬処理装置 | |
JPH02197600A (ja) | 金属表面の化学処理装置 | |
KR102057507B1 (ko) | 도금 시스템 | |
JPH02194199A (ja) | 金属表面の化学処理装置 | |
JPS59124620A (ja) | 自動メツキ装置 | |
JP4217074B2 (ja) | ウエット処理装置 | |
GB1475686A (en) | Process equipment | |
JP5153544B2 (ja) | 電解リン酸塩化成処理方法およびそのための装置 | |
CN213652692U (zh) | 一种电金机 | |
JPH0518916B2 (ja) | ||
JPH09195092A (ja) | 連続電解装置 | |
JPS58125857A (ja) | リ−ドフレ−ムのめつき処理装置 | |
JP2001207295A (ja) | 表面処理方法及び装置 | |
CN217941147U (zh) | 一种清洗机 | |
JPH06163506A (ja) | 基板洗浄装置 | |
JPH06275594A (ja) | 自動処理装置 | |
KR20220082444A (ko) | 용융 아연 도금 부재 이송 장치 |