JP3328481B2 - 処理方法および装置 - Google Patents

処理方法および装置

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JP3328481B2 JP29217795A JP29217795A JP3328481B2 JP 3328481 B2 JP3328481 B2 JP 3328481B2 JP 29217795 A JP29217795 A JP 29217795A JP 29217795 A JP29217795 A JP 29217795A JP 3328481 B2 JP3328481 B2 JP 3328481B2
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    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S134/00—Cleaning and liquid contact with solids
    • Y10S134/902—Semiconductor wafer

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウェハやＬ
ＣＤ基板などの被処理体を処理液に浸漬して処理する方
法と装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】例えばＬＳＩ等の半導体デバイスの製造
工程における洗浄処理を例にとって説明すると、従来か
ら半導体ウェハ（以下、「ウェハ」という）の表面のパ
ーティクル、有機汚染物、金属不純物等のコンタミネー
ションを除去するために種々の洗浄装置が使用されてい
る。その中でもとりわけ、ウェット型の洗浄装置は、ウ
ェハに付着したパーティクルを効果的に除去でき、しか
もバッチ処理による洗浄が可能なため、広く普及してい
る。
【０００３】かかるウェット型の洗浄装置は、所定枚数
のウェハ、例えば２５枚のウェハを収納したキャリア単
位で納入するロード機構と、このロード機構によってロ
ードされたキャリア２個分のウェハ、例えば５０枚のウ
ェハを一括して搬送する搬送装置と、この搬送装置によ
って搬送された複数枚のウェハ、例えば５０枚のウェハ
を一括して洗浄、乾燥等を行うように配列された複数の
処理槽と、各処理槽によって洗浄されたウェハをアンロ
ードするアンロード機構とを備えている。そして、洗浄
装置内に搬入されたキャリアは、適宜の移動装置によっ
て搬入位置から第一の所定位置に移動させられ、この第
一の所定位置から他の第二の所定位置、例えば前記のロ
ード機構のある位置へと移送装置によって移送され、そ
の後、例えば突き上げ装置によってキャリアからウェハ
のみが取り出され、これを前記搬送装置におけるウェハ
チャックなどの保持装置によって保持して処理槽へと搬
送する。そして処理槽においては、複数枚のウェハを所
定の間隔を持って平行に並べた状態で例えば洗浄液など
の処理液中に浸漬することにより洗浄処理が行われるの
である。
【０００４】ところでウェハは、その表面がデバイス形
成のための滑らかな処理面に形成されており、ウェハの
表面は通常はパーティクルなどの付着のない鏡面に形成
されている。他方、ウェハの裏面は鏡面には形成されて
おらず、裏面は通常は表面に比べると粗面になってい
る。ウェハの裏面には、表面に比べるとパーティクルな
どの付着が比較的多いのが通常である。そしてキャリア
内には、各ウェハの表面がすべて同じ方向（通常はキャ
リアの把手側）に向かうように、複数枚のウェハが所定
の間隔を持って平行に並べた状態で収納されている。即
ち、複数枚のウェハは互いに隣接する被処理体同士の表
面と裏面がそれぞれ向かい合うようにして配列されてい
る。こうしてキャリア内に収納された複数枚のウェハは
すべて手前方向に表面を向けた状態で、例えば搬送ロボ
ットなどによってキャリアごと洗浄装置内に搬入され
る。従って、前記した移送装置、突き上げ装置、ウェハ
チャックにおけるプロセス中はもちろんのこと、各処理
槽内においても、各ウェハは全てその表面が同一方向に
向けられたまま洗浄に付されるのが一般的である。
【０００５】一方、前記処理槽における洗浄処理は、例
えば硫酸等の処理液を処理槽底部から処理槽内に供給し
て処理槽の上部からオーバーフローさせることにより処
理槽内に処理液流を生じさせ、この処理液流の中に複数
枚のウェハを浸漬させて行われる。こうして処理液で洗
浄されたウェハは、次いで水洗槽に搬送・投入され、水
洗槽内においてリンス液をオーバーフローさせながらリ
ンスが行われる。しかしながら既述の如く、各ウェハ
は、その表面が隣接するウェハの裏面に向かい合った状
態で洗浄されるから、洗浄中や水洗槽への投入時などに
ウェハの裏面から剥離したパーティクルが隣接するウェ
ハの表面に転写してしまうこと（ウェハの裏面に付着し
ていたパーティクルが処理液中を浮遊して隣のウェハの
表面に再付着してしまうこと）が多かった。このように
ウェハの表面がパーティクルで汚染されると、その分、
即歩留まりの低下につながってしまう。
【０００６】そこで、このようなパーティクルの転写を
防止するために、特開平６−１６３５００号では、以上
のように複数枚のウェハを一括して洗浄する際に、隣接
するウェハ同士の表面と表面、裏面と裏面をそれぞれ対
向させる洗浄方法が開示されている。また、特開平６−
１６３５０１号には、隣接するウェハ同士の表面と表
面、裏面と裏面をそれぞれ対向させることに加えて、更
に、通常の配列ピッチの半分の配列ピッチでウェハを配
列させる洗浄方法が開示されている。
【０００７】これらの洗浄方法によれば、ウェハの表面
同士が向かい合っているので、洗浄中にウェハの裏面か
ら剥離したパーティクルがウェハの表面に転写すること
がなく、パーティクル汚染による歩留まりの低下を防止
することが可能である。特に、特開平６−１６３５０１
号の方法は特開平６−１６３５００号の方法に比べて配
列されたウェハ全体の幅が半分となるから、ウェハチャ
ックや処理槽の大きさを小さくでき、処理液量も少なく
て済むので経済的であり、洗浄装置全体の小型化が図れ
るといった利点がある。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】上記したように、処理
槽における洗浄処理は、処理槽内において処理槽底部か
ら処理槽上部に向かう処理液の流れを生じさせ、その流
れの中に複数枚のウェハを浸漬させて行われるのが一般
的である。ところが、特開平６−１６３５０１号の方法
によると、ウェハ同士の間隔が狭いために処理液がウェ
ハ同士の間に良好に流れ込まなくなり、洗浄処理能力が
低下する心配があった。洗浄処理能力が低下すると、ウ
ェハの表面の汚染が十分に除去できなくなって歩留まり
が低くなってしまうことになる。このように、特開平６
−１６３５０１号の方法は、ウェハの配列を小さくでき
る反面、洗浄処理能力が低下する心配があった。
【０００９】従って、本発明の目的は、ウェハの如き被
処理体の配列を小さくでき、かつ、処理能力が低下しな
い処理方法と装置を提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、表面を
すべて同じ方向に向けて等間隔Ｌをもって平行に配列さ
れた第一の被処理体をキャリアから取り出す工程と、表
面をすべて同じ方向に向けて等間隔Ｌをもって平行に配
列された第二の被処理体をキャリアから取り出す工程
と、等間隔Ｌをもって平行に配列された第一の被処理体
の間に、等間隔Ｌをもって平行に配列された第二の被処
理体をそれぞれ挿入して、または、等間隔Ｌをもって平
行に配列された第二の被処理体の間に、等間隔Ｌをもっ
て平行に配列された第一の被処理体をそれぞれに挿入し
て、複数枚数Ｎの被処理体を、キャリアから出された状
態で、隣接する被処理体同士の表面と表面、裏面と裏面
をそれぞれ向かい合わせ、かつ、表面と表面が向かい合
っている被処理体同士の間隔Ｌ １ に比べて、裏面と裏面
が向かい合っている被処理体同士の間隔Ｌ ２ が狭くなる
ように配列させる工程と、この配列された複数枚数Ｎの
被処理体を、キャリアから出された状態で、配列させた
状態を維持して搬送する工程と、この配列された複数枚
数Ｎの被処理体を、キャリアから出された状態で、配列
させた状態を維持して処理液に浸漬して処理する工程、
を備える処理方法が提供される。
【００１１】被処理体同士の間隔Ｌ１が処理液を流通さ
せるに十分な長さを有するように前記複数枚数Ｎの被処
理体が配列されていることが好ましい。なお、前記複数
枚数Ｎの被処理体を、キャリアから出された状態で、隣
接する被処理体同士の表面と表面、裏面と裏面をそれぞ
れ向かい合わせ、かつ、表面と表面が向かい合っている
被処理体同士の間隔Ｌ １ に比べて、裏面と裏面が向かい
合っている被処理体同士の間隔Ｌ ２ が狭くなるように配
列させる工程において、前記第一の被処理体の表面と前
記第二の被処理体の表面が互いに反対の方向に向くよう
に、前記第一の被処理体を前記第二の被処理体に対して
相対的に回転させ、または前記第二の被処理体を前記第
一の被処理体に対して相対的に回転させ、その後、第一
の被処理体の間に第二の被処理体をそれぞれ挿入する
か、第二の被処理体の間に第一の被処理体をそれぞれに
挿入することが好ましい。
【００１２】また本発明によれば、複数枚数Ｎの被処理
体を平行に配置した状態で処理液に浸漬して処理する処
理装置において、キャリア単位で搬入された被処理体を
キャリアから取り出し、キャリアから出された状態で、
隣接する被処理体同士の表面と表面、裏面と裏面をそれ
ぞれ向かい合わせ、かつ、表面と表面が向かい合ってい
る被処理体同士の間隔Ｌ １ に比べて、裏面と裏面が向か
い合っている被処理体同士の間隔Ｌ ２ が狭くなるように
複数枚数Ｎの被処理体を配列させる搬入部と、複数枚数
Ｎの被処理体を、前記配列された状態を維持して、キャ
リアから出された状態で一括して搬送する搬送装置と、
複数枚数Ｎの被処理体を、前記配列された状態を維持し
て、キャリアから出された状態で一括して処理する処理
部を備えることを特徴とする、処理装置が提供される。
【００１３】キャリアから出された状態で、隣接する被
処理体同士の表面と表面、裏面と裏面をそれぞれ向かい
合わせ、かつ、表面と表面が向かい合っている被処理体
同士の間隔Ｌ １ に比べて、裏面と裏面が向かい合ってい
る被処理体同士の間隔Ｌ ２ が狭くなるように配列させた
状態で複数枚数Ｎの被処理体を保持する整列部材を、前
記搬入部に備えることが好ましい。また、前記処理部は
処理槽を備え、キャリアから出された状態で、隣接する
被処理体同士の表面と表面、裏面と裏面をそれぞれ向か
い合わせ、かつ、表面と表面が向かい合っている被処理
体同士の間隔Ｌ １ に比べて、裏面と裏面が向かい合って
いる被処理体同士の間隔Ｌ ２ が狭くなるように配列させ
た状態で複数枚数Ｎの被処理体を保持する保持具を、前
記処理槽に備えることが好ましい。なお、被処理体同士
の間隔Ｌ １ が処理液を流通させるに十分な長さを有する
ように、前記複数枚数Ｎの被処理体がキャリアから出さ
れた状態で配列されていることが好ましい。
【００１４】本発明を、例えば５０枚のウェハを洗浄処
理する場合について説明すれば、５０枚のウェハが表面
と表面、裏面と裏面がそれぞれ向かい合うように配列さ
れているので、洗浄処理中にウェハの裏面から剥離した
パーティクル等が隣接するウェハの表面に転写すること
が防止される。しかも、表面と表面が向かい合っている
ウェハ同士の間隔Ｌ1は洗浄処理液を流通させるに十分
なものとすることによって、洗浄処理液がウェハの表面
同士の間に良好に流れ込むようになるので、洗浄処理液
によりウェハの表面を良好に洗浄することが可能であ
る。また、裏面と裏面が向かい合っているウェハ同士の
間隔Ｌ2を表面と表面が向かい合っているウェハ同士の
間隔Ｌ1よりも狭くしたことにより、配列されたウェハ
全体の幅を狭くすることができ、処理装置全体の小型化
が図れ、洗浄処理液量も少なくて済むので経済的であ
る。
【００１５】
【発明の実施の形態】以下、本発明の好ましい実施の形
態を添付図面に基づいて説明する。なお、以下に説明す
る実施の形態は、本発明を５０枚の半導体ウェハ（以
下、「ウェハ」という）を一括して洗浄する洗浄装置に
対して適用した例である。
【００１６】先ず、洗浄装置１全体について説明する。
洗浄装置１は、図１に示したように、洗浄処理前のウェ
ハＷをキャリアＣ単位で投入するための搬入部２と、複
数枚数ＮのウェハＷ、即ち、この実施の形態においては
５０枚のウェハＷを一括して洗浄する洗浄処理部３と、
洗浄処理後のウェハＷをキャリアＣ単位で取り出すため
の搬出部４の、三つのゾーンによって構成されている。
【００１７】図２はキャリアＣの斜視図であり、前記複
数枚数Ｎの半分の枚数のウェハＷ、即ち、この実施の形
態においては、２５枚のウェハＷが一つのキャリアＣに
収納されている。キャリアＣには、ウェハＷを垂直に立
てた状態で保持するための溝１０が左右対称の位置に２
５箇所ずつ形成されている。これら溝１０の間隔は、何
れも等間隔Ｌ（８インチウェハを保持する場合であれば
例えば６．３５mmの等間隔）になっていて、この実施の
形態においては、キャリアＣによって２５枚のウェハＷ
を等間隔Ｌで平行に配列した状態で保持するようになっ
ている。また、キャリアＣに収納されたウェハＷの表面
Ｗａはすべて同じ方向を向いており、図２に示す状態で
は、ウェハＷの表面Ｗａはすべて前方（図２において手
前側）に向き、ウェハＷの裏面Ｗｂはすべて後方（図２
において後ろ側）に向いている。キャリアＣの底部は開
口部１１になっており、後述する整列部６において突き
上げ部材３１がこの開口部１１から相対的に上昇して進
入することにより、２５枚のウェハＷをキャリアＣの上
方に一括して押し上げることができるようになってい
る。図１に示す洗浄装置１の搬入部２には、この図２で
説明したキャリアＣに保持された２５枚のウェハＷがキ
ャリアＣ単位でまとめて投入され、また、搬出部４から
はキャリアＣによって保持された２５枚のウェハＷがキ
ャリアＣ単位でまとめて取り出される。
【００１８】前記搬入部２には、これから洗浄処理を行
うための、この実施の形態においては２５枚のウェハＷ
を収納したキャリアＣを搬入、載置させる載置部５と、
載置部５に載置されたキャリアＣを整列部６へ移送する
ための移送装置７が設けられている。また前記洗浄処理
部３には、その前面側（図１における手前側）に３つの
搬送装置１５、１６、１７が配置されており、これら各
搬送装置１５、１６、１７には夫々対応するウェハチャ
ック１８、１９、２０が設けられている。
【００１９】さらに前記搬出部４においても、前記載置
部５とほぼ同様な構成を有す載置部８、前記整列部６と
同一構成の整列部９、前記移送装置７と同一構成の移送
装置（図示せず）が夫々設けられている。そして、後述
するように、前記搬送装置１５、１６、１７のウェハチ
ャック１８、１９、２０によって、キャリアＣ２つ分の
複数枚のウェハＷ、即ち、この実施の形態においては５
０枚のウェハＷを、整列部６から洗浄処理部３の各処理
槽を経て整列部９まで一括して順次搬送していくように
構成されている。
【００２０】そこで先ず、整列部６の詳細を図３に基づ
いて説明すると、この実施の形態において、整列部６の
ステージ３０には、突き上げ部材３１と整列部材３２が
横に並んで配置されている。突き上げ部材３１の上面に
は、図４に示すように、ウェハＷを垂直に立てた状態で
保持するための溝３３が、前述のキャリアＣの溝１０と
同じく、合計で２５本設けられている。これら溝３３は
すべて平行に配置されており、隣接する溝３３同士の間
隔も、すべてキャリアＣの溝１０と同じ等間隔Ｌになっ
ている。一方、整列部材３２の上面には、図５に示すよ
うに、ウェハＷを垂直に立てた状態で保持するための溝
３４と溝３５が交互に設けられている。これら溝３４、
３５は、何れも整列部材３２の上面に２５本ずつ設けら
れており、従って、整列部材３２の上面には、前述のキ
ャリアＣの溝１０の二倍の（キャリアＣ二個分の）合計
で５０本の溝３４、３５が設けられている。また、これ
ら溝３４、３５は、何れもすべて平行に配置されてお
り、隣接する溝３４同士の間隔および溝３５同士の間隔
は、すべてキャリアＣの溝１０と同じ等間隔Ｌになって
いる。そして、溝３４と溝３５の間隔は、交互に間隔Ｌ
1、間隔Ｌ2に形成されている。間隔Ｌ1は、後述するよ
うに、ウェハＷを平行に配列した状態で各処理槽６１〜
６９内において処理液に浸漬して洗浄処理する際に、ウ
ェハＷの間に処理液を流通させるに十分な長さになって
いる。一方、間隔Ｌ2は前記間隔Ｌ1よりも狭くなってい
る。そして、これら間隔Ｌ1と間隔Ｌ2の和（Ｌ1＋Ｌ2）
は、上記等間隔Ｌに等しい。
【００２１】図示しない昇降機構の稼働により、ステー
ジ３０に形成された窓穴３９を通って突き上げ部材３１
が相対的に上方に突出可能に支持されている。この突き
上げ部材３１のステージ３０に対する相対的な上昇は、
図示の例においては、突き上げ部材３１を固定した状態
でステージ３０が上下動することに行われるようになっ
ている。前述の載置部５から移送装置７によって移送さ
れてきたキャリアＣは、整列部６に搬入された際に、こ
の窓穴３９を丁度塞ぐ位置に置かれる。窓穴３９の左右
両側にはガイドストッパ３６とプッシャ３７が対向して
配置されており、載置部５から移送装置７により移送さ
れてきたキャリアＣがステージ３０上に置かれるとプッ
シャ３７が伸張し、キャリアＣの底部をガイドストッパ
３６に押し付けることにより、キャリアＣの位置決めが
行われる。このようにキャリアＣが位置決めされた際に
は、キャリアＣ底部の開口部１１が前記突き上げ部材３
１の丁度真上の位置に来るようになっている。そして、
このようにキャリアＣが位置決めされた状態で突き上げ
部材３１がステージ３０に対して相対的に上昇すると
（ステージ３０が相対的に下がると）、後述するよう
に、キャリアＣの溝１０によって保持されていた２５枚
のウェハＷが、突き上げ部材３１の上面の溝３３に保持
された状態となり、２５枚のウェハＷはキャリアＣの上
方に持ち上げられる。
【００２２】一方、整列部材３２は、ステージ３０上に
設けられたレール４０上に支持されており、整列部材３
２はレール４０に沿って前後方向（図３においてＹ方
向）に移動自在であり、アクチュエータ４１の稼働によ
り、整列部材３２は洗浄装置１の前後方向（Ｙ方向）に
前記間隔Ｌ2の幅で往復移動する構成になっている。後
述するように、アクチュエータ４１が伸張稼働して整列
部材３２が洗浄装置１の後方（図３において奥側）に移
動した際には、突き上げ部材３１上面の溝３３と整列部
材３２上面の溝３５とが同一直線状に位置し、一方、ア
クチュエータ４１が短縮稼働して整列部材３２が洗浄装
置１の前方（図３において手前側）に移動した際には、
突き上げ部材３１上面の溝３３と整列部材３２上面の溝
３４とが同一直線状に位置するようになっている。
【００２３】整列部６において、ステージ３０の上方に
は、突き上げ部材３１によって保持した２５枚のウェハ
Ｗを一括して把持して整列部材３２に受け渡す搬送チャ
ック装置４５が設けられている。この搬送チャック装置
４５を構成する搬送チャック本体４６の下面には、図示
しない駆動機構によって開閉される左右一対の開閉チャ
ック４７ａ、４７ｂが設けられている。図６は、これら
開閉チャック４７ａ、４７ｂの拡大正面図であり、図７
は、開閉チャック４７ａ、４７ｂの拡大平面図である。
図６において、実線４７ａ’、４７ｂ’は開閉チャック
４７ａ、４７ｂが閉じた状態を示し、一点鎖線４７
ａ”、４７ｂ”は開閉チャック４７ａ、４７ｂが開いた
状態を示している。開閉チャック４７ａ、４７ｂの内側
には、開閉チャック４７ａ、４７ｂが閉じたときにウェ
ハＷを垂直に立てた状態で保持するための溝４８ａ、４
８ｂが左右対称の位置に２５箇所ずつ形成されている。
これら溝４８ａ同士の間隔と溝４８ｂ同士の間隔は、何
れもキャリアＣの溝１０と同じ等間隔Ｌになっており、
開閉チャック４７ａ、４７ｂが閉じた状態において２５
枚のウェハＷを開閉チャック４７ａ、４７ｂの間で等間
隔Ｌで平行に配列した状態で保持できるようになってい
る。そして、隣接する溝４８ａ同士の間と隣接する４８
ｂ同士の間は、何れも開閉チャック４７ａ、４７ｂが閉
じた状態においてもウェハＷを通過させるのに十分な大
きさを持った空間部４９ａ、４９ｂにそれぞれ形成され
ている。
【００２４】以上のように構成される搬送チャック装置
４５全体は、搬送チャック本体４６の上面を支持してい
る軸５０を中心にして図示しない回転機構の駆動によっ
て回転し、かつ、突き上げ部材３１の上方と整列部材３
２の上方の間を図示しない往復動機構の駆動によって左
右方向（図３においてＸ方向）に往復移動するように構
成されている。図３において、実線４５’は搬送チャッ
ク装置４５が突き上げ部材３１の上方に移動した状態を
示し、一点鎖線４５”は搬送チャック装置４５が整列部
材３２の上方に移動した状態を示している。そして更
に、搬送チャック装置４５は、図示しない昇降機構の駆
動によって上下方向（図３においてＺ方向）に昇降移動
するように構成されている。なお、搬送チャック装置４
５全体の回転中心となる軸５０は、搬送チャック装置４
５が突き上げ部材３１の上方に移動した際に、ガイドス
トッパ３６とプッシャ３７で位置決めされたキャリアＣ
の中心軸に一致する。
【００２５】後述するように、この整列部６において
は、先ず一つのキャリアＣより取り出した２５枚のウェ
ハＷを整列部材３２上面の溝３５に表面Ｗａを手前側に
向けて等間隔Ｌで垂直に立てた状態で保持し、次いで、
これら溝３５に保持した２５枚のウェハＷの間に、別の
一つのキャリアＣより取り出した２５枚のウェハＷを向
きを反対にして（表面Ｗａを後ろ側に向けて）それぞれ
挿入し、それらを整列部材３２上面の溝３４に垂直に立
てることにより、合計で５０枚のウェハＷを整列させる
工程が行われる。これにより、整列部材３２上面におい
て、５０枚のウェハＷを隣接するウェハＷ同士の表面Ｗ
ａと表面Ｗａ、裏面Ｗｂと裏面Ｗｂがそれぞれ向かい合
い、かつ、表面Ｗａと表面Ｗａが向かい合っているウェ
ハＷ同士の間隔はＬ1で、裏面Ｗｂと裏面Ｗｂが向かい
合っているウェハＷ同士の間隔はＬ2となるように配列
させる工程が行われる。
【００２６】次に、前記洗浄処理部３には、載置部５側
から順に、前記搬送装置１５のウェハチャック１８を洗
浄、乾燥するチャック洗浄・乾燥処理槽６１、ウェハＷ
表面Ｗａの有機汚染物、金属不純物、パーティクル等の
不純物質を薬液によって洗浄処理する薬液洗浄処理槽６
２、前記薬液洗浄処理槽６２で洗浄されたウェハＷを例
えば純水によって洗浄する二つの水洗洗浄処理槽６３、
６４、前記薬液洗浄処理槽６２における薬液とは異なっ
た薬液で洗浄処理する薬液洗浄処理槽６５、前記薬液洗
浄処理槽６５で洗浄されたウェハＷを例えば純水によっ
て洗浄する二つの水洗洗浄処理槽６６、６７、前記搬送
装置１７のウェハチャック２０を洗浄、乾燥するチャッ
ク洗浄・乾燥処理槽６８、及び前記不純物質が除去され
たウェハＷを、例えばＩＰＡ（イソプロピルアルコー
ル）等で蒸気乾燥させるための乾燥処理槽６９が、夫々
配設されている。
【００２７】上記搬送装置１５、１６、１７は何れも同
様の構成を備えているので、例えば水洗洗浄処理槽６
４、薬液洗浄処理槽６５、及び水洗洗浄処理槽６６相互
間でウェハＷを搬送させる搬送装置１６を例にして説明
すると、搬送装置１６のウェハチャック１９は、図８に
示すように、キャリアＣ二つ分の複数枚のウェハＷ、即
ち、この実施の形態においては５０枚のウェハＷを一括
して把持する左右一対の把持部材７０ａ、７０ｂを備え
ている。
【００２８】前記把持部材７０ａ、７０ｂは左右対称形
であり、これら各把持部材７０ａ、７０ｂは各々対応す
る回動軸７１ａ、７１ｂによって、搬送装置１６におけ
る支持部７２に支持されている。この支持部７２は、駆
動機構７３によって上下方向（Ｚ方向）に移動し、また
前出ウェハチャック１９自体は支持部７２に内蔵された
駆動機構（図示せず）によって前後方向（Ｙ方向）に移
動自在となるように構成され、さらに前記駆動機構７３
自体は、洗浄処理部３の長手方向（Ｘ方向）に沿って移
動自在な搬送ベース７４（図１において図示される）の
上部に設けられている。そして前記支持部７３内に設け
られたモータなどの駆動体（図示せず）によって、前記
回動軸７１ａ、７１ｂは、図８中の往復回動矢印θに示
されたように、往復回動自在となるように構成されてい
る。また支持部７２自体も水平面内においてその角度を
微調整できるように構成されている。
【００２９】ウェハチャック１９を構成する一対の把持
部材７０ａ、７０ｂは左右対称形であり、例えば把持部
材７０ａの構成について図９を基にして詳述すると、こ
の把持部材７０ａは、その上端に前出回動軸７１ａに固
定される取付部材７５と、この取付部材７５の前後端部
から垂設されるステイ７６、７７と、このステイ７６、
７７の中央略上部に渡される補強バー７８と、ステイ７
６、７７の下端間に渡される略棒形状の下側支持体７９
と、この下側支持体７９の上方に平行に渡される略棒形
状の上側支持体８０とによって構成されている。
【００３０】前記下側保持体７９と上側支持体８０の表
面には、対向する把持部材７１ｂの下側保持体７９と上
側支持体８０側に向けて保持溝８１、８２と保持溝８
３、８４がそれぞれ２５個ずつ、合計で前記下側保持体
７９と上側支持体８０の表面にそれぞれ５０個の保持溝
８１、８２と保持溝８３、３４が形成されている。これ
ら保持溝８１、８２と保持溝８３、３４の配置は、何れ
も先に説明した整列部材３２上面の溝３４、３５の配置
と同じであり、隣接する保持溝８１同士の間隔および保
持溝８２同士の間隔と隣接する保持溝８３同士の間隔お
よび保持溝８４同士の間隔は、すべてキャリアＣの溝１
０と同じ等間隔Ｌになっている。また、保持溝８１と保
持溝８２の間隔および保持溝８３と保持溝８４の間隔
は、交互に間隔Ｌ1、間隔Ｌ2になっている。
【００３１】このようにして構成される把持部材７０ａ
と対向する他方の把持部材７０ｂも、前記の保持溝８
１、８２が形成された上側保持体８０、保持溝８３、８
４が形成された下側保持体７９を夫々有している。そし
て、ウエハチャック１９における把持部材７０ａ、７０
ｂは各回動軸７１ａ、７１ｂの回動により開閉し、被処
理体である５０枚のウエハＷを一括して把持できるよう
になっている。また、前述したように、保持溝８１、８
２および保持溝８３、８４の配置が整列部材３２上面の
溝３４、３５の配置と同じであることから、こうしてウ
エハチャック１９の把持部材７０ａ、７０ｂで把持され
た５０枚のウェハＷは、隣接するウェハＷ同士の表面Ｗ
ａと表面Ｗａ、裏面Ｗｂと裏面Ｗｂがそれぞれ向かい合
い、かつ、表面Ｗａと表面Ｗａが向かい合っているウェ
ハＷ同士の間隔はＬ1で、裏面Ｗｂと裏面Ｗｂが向かい
合っているウェハＷ同士の間隔がＬ2となる配列を維持
するようになっている。そして、搬送装置１６は、水洗
洗浄処理槽６４、薬液洗浄処理槽６５、及び水洗洗浄処
理槽６６相互の間において、以上のような配列を維持し
た状態で５０枚のウェハＷを一括して搬送するように構
成されている。
【００３２】なお、その他の搬送装置１５、１７及びそ
のウエハチャック１８、２０も前記した、搬送装置１
６、ウエハチャック１９と同一の構成を有しており、上
記と同様に、隣接するウェハＷ同士の表面Ｗａと表面Ｗ
ａ、裏面Ｗｂと裏面Ｗｂをそれぞれ向かい合わせ、か
つ、表面Ｗａと表面Ｗａが向かい合っているウェハＷ同
士の間隔がＬ1となり、裏面Ｗｂと裏面Ｗｂが向かい合
っているウェハＷ同士の間隔がＬ2となる配列を維持し
た状態で５０枚のウェハＷを一括して把持し、搬送でき
るように構成されている。
【００３３】前述の各処理槽６１〜６９の底部には、各
処理槽内でウエハＷを保持するための保持具となるボー
ト９１が設置されている。ここで、図８、図１０を基に
して処理槽６５に設置されているボート９１について説
明すると、このボート９１は、処理槽６５内に垂設され
た支持体９２の下端に水平に取り付けられた三本の平行
な保持棒９３、９４、９５を備えている。これら保持棒
９３、９４、９５の内、中央の保持棒９４の高さが最も
低く、保持棒９３、９５は保持棒９４を中心に左右の位
置に、かつ、保持棒９４よりも高い位置に配置されてい
る。これら保持棒９３、保持棒９４、および保持棒９５
の上面には、保持溝９６、９７、保持溝９８、９９、お
よび保持溝１００、１０１がそれぞれ２５個ずつ、合計
で前記保持棒９３、保持棒９４、および保持棒９５の上
面にそれぞれ５０個の保持溝９６、９７、保持溝９８、
９９、および保持溝１００、１０１が形成されている。
これら保持溝９６、９７、保持溝９８、９９、および保
持溝１００、１０１の配置は、何れも先に説明した整列
部材３２上面の溝３４、３５、およびウェハチャック１
９の保持溝８１、８２と保持溝８３、８４の配置と同じ
であり、図１１に示すように、隣接する保持溝９６同士
の間隔、保持溝９７同士の間隔、保持溝９８同士の間
隔、保持溝９９同士の間隔、保持溝１００同士の間隔、
および保持溝１０１同士の間隔は、すべてキャリアＣの
溝１０と同じ等間隔Ｌになっている。また、保持溝９６
と保持溝９７の間隔、保持溝９８と保持溝９９の間隔、
および保持溝１００と保持溝１０１の間隔は、何れも交
互に間隔Ｌ1、間隔Ｌ2になっている。
【００３４】そして、前述のウエハチャック１９によっ
て一括して把持された５０枚のウエハＷは、搬送装置１
６の駆動機構７３による支持部７２の下降に伴って処理
槽６５内に挿入され、５０枚のウエハＷの下端がボート
９１の保持棒９３、９４、９５の保持溝９６、９７、保
持溝９８、９９、および保持溝１００、１０１にそれぞ
れ嵌入すると、搬送装置１６の駆動機構７３による支持
部７２の下降が停止するように構成されている。こうし
て、５０枚のウエハＷはボート９１の保持棒９３、９
４、９５の保持溝９６〜１０１によって一括して保持さ
れた状態となり、その後、ウエハチャック１９は回動軸
７１ａ、７１ｂの回動により把持部材７０ａ、７０ｂに
よるウエハＷの把持状態を開放し、搬送装置１６の駆動
機構７３による支持部７２の上昇に伴ってウエハチャッ
ク１９は処理槽６５の上方に退避するようになってい
る。また、前述したように、保持溝９６、９７、保持溝
９８、９９、および保持溝１００、１０１の配置が整列
部材３２上面の溝３４、３５およびウエハチャック１９
の保持溝８１、８２と保持溝８３、８４の配置と同じで
あることから、こうしてウエハチャック１９からボート
９１の保持棒９３、９４、９５上に受け渡された５０枚
のウェハＷは、隣接するウェハＷ同士の表面Ｗａと表面
Ｗａ、裏面Ｗｂと裏面Ｗｂがそれぞれ向かい合い、か
つ、表面Ｗａと表面Ｗａが向かい合っているウェハＷ同
士の間隔はＬ1で、裏面Ｗｂと裏面Ｗｂが向かい合って
いるウェハＷ同士の間隔がＬ2となる配列を維持するよ
うになっている。
【００３５】そして、後述するように処理槽６５におけ
る所定の処理が終了すると、再び搬送装置１６の駆動機
構７３による支持部７２の下降に伴ってウエハチャック
１９が処理槽６５内に挿入され、回動軸７１ａ、７１ｂ
の回動により把持部材７０ａ、７０ｂが閉じられてボー
ト９１の保持棒９３、９４、９５上に保持された５０枚
のウエハＷを一括して把持するようになっている。その
後、支持部７２が上昇することによってウエハチャック
１９が処理槽６５内から上方に退避し、それに伴って５
０枚のウエハＷは一括して処理槽６５から取り出され、
次の処理槽６６に搬送される。
【００３６】なお、処理槽６５以外の各処理槽６１〜６
４および各処理槽６６〜６９にも、以上に説明したボー
ト９１と同じものが設置されており、上記と同様に、各
処理槽６１〜６４および各処理槽６６〜６９において
も、隣接するウェハＷ同士の表面Ｗａと表面Ｗａ、裏面
Ｗｂと裏面Ｗｂをそれぞれ向かい合わせ、かつ、表面Ｗ
ａと表面Ｗａが向かい合っているウェハＷ同士の間隔が
Ｌ1となり、裏面Ｗｂと裏面Ｗｂが向かい合っているウ
ェハＷ同士の間隔がＬ2となる配列を維持した状態で５
０枚のウェハＷを一括して保持できるように構成されて
いる。
【００３７】次に、図１０および図１２を参照しなが
ら、各処理槽６１〜６９の構成について処理槽６５を例
に挙げて説明する。なお、他の処理槽６１〜６４および
処理槽６６〜６９の基本的構造は、ここで説明する処理
槽６５のものと変わらないため詳細な説明は省略する。
【００３８】図示のように、処理槽６５は、例えば洗浄
用の薬液、リンス用の純水などの処理液を収容する箱形
の処理槽本体１１０を備えている。処理槽本体１１０の
底面１１１には処理液の供給口１１２が開口しており、
この供給口１１２より槽内に導入された洗浄液は、上記
ボート９１の保持棒９３、９４、９５と底面１１１との
間に介装された整流板１１３を介して、乱流を生じるこ
となく均等にウェハＷの周囲に供給される。
【００３９】すなわち、この整流板１１３は、処理槽本
体１１０内を上下に水平に区画し、整流板１１３の全体
には多数の小孔１１４が穿設されており、供給口１１２
より処理槽本体１１０内に導入された薬液は、整流板１
１３の小孔１１４を通過して、上記ボート９１の保持棒
９３、９４、９５により保持されたウェハＷの周囲に供
給されるので、乱流を生じることなく均等な流速でウェ
ハＷを包み込み、ウェハＷ全体をむら無く均等に洗浄す
ることが可能なように構成されている。
【００４０】また、上記処理槽本体１１０は、上記ボー
ト９１の保持棒９３、９４、９５により保持された５０
枚のウェハＷを処理液中に浸漬することが可能な容積を
有しており、この処理槽本体１１０の上端からオーバー
フローする処理液を受けとめる外槽１１５を備えてい
る。そして、上記処理槽本体１１０の底面１１１に設け
られた供給口１１２と外槽１１５の底部に設けられた排
出口１１６との間には、薬液循環経路１１７が接続され
る。そして、この薬液循環経路１１７に、図示しない循
環ポンプとフィルタとが介装されて、上記処理槽本体１
１０よりオーバーフローした処理液を清浄化して再び上
記処理槽本体１１０に循環供給することができるように
構成されている。
【００４１】本実施の形態にかかる洗浄装置１の主要部
は以上のように構成されており、次にこの洗浄装置１を
使用したウェハの洗浄処理を説明すると、先ず、搬送ロ
ボット（図示せず）によって載置部５にキャリアＣが搬
入される。キャリアＣには２５枚のウェハＷが、その表
面Ｗａをすべて同じ方向に向けて、等間隔Ｌで平行に並
べて配列された状態で収納されている。こうして搬入さ
れたキャリアＣが載置部５において所定のステーション
に移動すると、そのキャリアＣは移送装置７によって整
列部６へと移送され、図１３に示すように、キャリアＣ
は、整列部６のステージ３０に形成された窓穴３９を丁
度塞ぐ位置に置かれることとなる。このようにキャリア
Ｃが整列部６のステージ３０上に搬入された際には、キ
ャリアＣに収納された２５枚のウェハＷの表面Ｗａがす
べて洗浄装置１の前方（図１において手前側、図１３に
おいて紙面表側）に向くようになる。
【００４２】こうしてキャリアＣが整列部６のステージ
３０上に搬入されると、プッシャ３７が伸張し、キャリ
アＣの底部をガイドストッパ３６に押し付けることによ
り、キャリアＣの位置決めが行われる。これにより、キ
ャリアＣ底部の開口部１１が突き上げ部材３１の丁度真
上の位置に来るようになる。次いで、突き上げ部材３１
がステージ３０に対して相対的に上昇し（ステージ３０
が相対的に下降し）、キャリアＣ内に保持されていた２
５枚のウェハＷは、突き上げ部材３１の上面の溝３３に
それぞれ保持されて、図１３において一点鎖線Ｗで示し
たように、キャリアＣの上方に持ち上げられた状態とな
る。こうして、２５枚のウェハＷは、表面Ｗａをすべて
洗浄装置１の前方に向けて、等間隔Ｌで平行に並べて配
列された状態を維持したまま、キャリアＣの上方におい
て突き上げ部材３１の上面に保持されることとなる。
【００４３】次に、突き上げ部材３１の上方に位置して
いる搬送チャック装置４５の開閉チャック４７ａ、４７
ｂが閉じられることにより、突き上げ部材３１の上面に
保持されている２５枚のウェハＷは、開閉チャック４７
ａ、４７ｂの内側に形成された溝４８ａ、４８ｂにそれ
ぞれ嵌入し、こうして、２５枚のウェハＷは搬送チャッ
ク装置４５の開閉チャック４７ａ、４７ｂによって一括
して把持された状態となる。その後、突き上げ部材３１
はステージ３０に対して相対的に下降し（ステージ３０
が相対的に上昇し）、再び、突き上げ部材３１はステー
ジ３０上に載置されているキャリアＣの底部に引っ込ん
だ状態に戻る。また、空になったキャリアＣは、適宜の
図示しない搬送手段によりステージ３０上から取り除か
れ、洗浄装置１の前記整列部９に搬送される。
【００４４】一方、こうして開閉チャック４７ａ、４７
ｂによってウェハＷを一括して把持した搬送チャック装
置４５は図１３において右方向に移動し、搬送チャック
装置４５は整列部材３２の上方に移動した状態（図１３
において一点鎖線４５’で示す状態）となり、これに伴
って開閉チャック４７ａ、４７ｂに把持されているウェ
ハＷも整列部材３２の上方に移動した状態（図１３にお
いて一点鎖線Ｗ’で示す状態）となる。その後、搬送チ
ャック装置４５は整列部材３２の上方において下降を開
始するが、この時、前記アクチュエータ４１は伸張稼働
して整列部材３２が洗浄装置１の後方（前述の図３にお
いて奥側）に移動しており、突き上げ部材３１上面の溝
３３と整列部材３２上面の溝３５とが同一直線状に位置
した状態となっている。これにより、搬送チャック装置
４５の下降に伴って開閉チャック４７ａ、４７ｂに把持
されているウェハＷは、整列部材３２上面の溝３５にそ
れぞれ嵌入し、こうして、２５枚のウェハＷは、その表
面Ｗａをすべて洗浄装置１の前方に向け、かつ等間隔Ｌ
で平行に並んだ状態（図１３において二点鎖線４５”、
Ｗ”で示す状態）で、整列部材３２上面の溝３５に保持
されることとなる。こうして２５枚のウェハＷを整列部
材３２上面の溝３５に受け渡すと、搬送チャック装置４
５の開閉チャック４７ａ、４７ｂが開かれ、その後、搬
送チャック装置４５は上昇して図１３において一点鎖線
４５’で示す状態に戻る。こうして、先ず整列部材３２
上面の溝３５に対する２５枚のウェハＷの受け渡しが終
了する。
【００４５】次に、以上のように整列部材３２上面の溝
３５に対するウェハＷの受け渡しが行われている間に、
２５枚のウェハＷを収納した次のキャリアＣが移送装置
７により整列部６へと移送され、先と同様に、整列部６
のステージ３０に形成された窓穴３９を丁度塞ぐ位置に
次のキャリアＣが置かれることになる。先と同様に、こ
のように次のキャリアＣが整列部６のステージ３０上に
搬入された際にも、キャリアＣに収納された２５枚のウ
ェハＷの表面Ｗａがすべて洗浄装置１の前方（図１にお
いて手前側、図１３において紙面表側）に向くようにな
る。そして、先と同様にプッシャ３７とガイドストッパ
３６により次のキャリアＣの位置決めが行われ、次のキ
ャリアＣ底部の開口部１１が突き上げ部材３１の丁度真
上の位置に来るようになる。
【００４６】一方、整列部材３２上面の溝３５への２５
枚のウェハＷの受け渡しを終了した搬送チャック装置４
５は、図１３において左方向に移動して突き上げ部材３
１の上方に戻る。そして、再び突き上げ部材３１が上昇
し、次のキャリアＣ内に保持されていた２５枚のウェハ
Ｗが、突き上げ部材３１の上面の溝３３にそれぞれ保持
されて、図１３において一点鎖線Ｗで示したように、キ
ャリアＣの上方に持ち上げられた状態となる。こうし
て、次のキャリアＣに収納されていた２５枚のウェハＷ
は、表面Ｗａをすべて洗浄装置１の前方に向けて、等間
隔Ｌで平行に並べて配列された状態を維持したまま、次
のキャリアＣの上方において突き上げ部材３１の上面に
保持されることとなる。
【００４７】次に、先と同様に搬送チャック装置４５の
開閉チャック４７ａ、４７ｂが閉じられることにより、
突き上げ部材３１の上面に保持されていた２５枚のウェ
ハＷは搬送チャック装置４５の開閉チャック４７ａ、４
７ｂによって一括して把持された状態となる。その後、
突き上げ部材３１は先と同様に下降し、空になった次の
キャリアＣは洗浄装置１の前記整列部９に搬送される。
一方、こうして開閉チャック４７ａ、４７ｂによって２
５枚のウェハＷを一括して把持した搬送チャック装置４
５は、突き上げ部材３１の上方において軸５０を中心に
して１８０゜回転してから図１３において右方向に整列
部材３２の上方位置まで移動し、もしくは、図１３にお
いて右方向に整列部材３２の上方位置まで移動してから
整列部材３２の上方において軸５０を中心にして１８０
゜回転し、こうして開閉チャック４７ａ、４７ｂの間に
把持された２５枚のウェハＷは、整列部材３２の上方に
移動した状態（図１３において一点鎖線Ｗ’で示す状
態）となる。
【００４８】ここで、以上のように突き上げ部材３１の
上方において開閉チャック４７ａ、４７ｂでウェハＷを
把持した後、そのウェハＷが整列部材３２の上方に移動
されるまでの間に、搬送チャック装置４５が軸５０を中
心にして１８０゜回転したことによって、２５枚のウェ
ハＷは、その表面Ｗａがすべて洗浄装置１の後方（図１
において後ろ側、図１３において紙面裏側）に向くよう
になる。
【００４９】また、前記アクチュエータ４１は短縮稼働
し、整列部材３２が洗浄装置１の前方（前述の図３にお
いて手前側）に間隔Ｌ2の幅だけ移動する。こうして、
突き上げ部材３１上面の溝３３と整列部材３２上面の溝
３４とが同一直線状に位置した状態となる。
【００５０】その後、搬送チャック装置４５は整列部材
３２の上方において下降を開始し、これにより、開閉チ
ャック４７ａ、４７ｂに把持されている２５枚のウェハ
Ｗは、表面Ｗａをすべて洗浄装置１の後ろ側に向けて、
等間隔Ｌで平行に並べて配列された状態を保ちつつ、既
に整列部材３２上面において表面Ｗａをすべて洗浄装置
１の手前側に向けて、等間隔Ｌで平行に並べて配列され
ている２５枚のウェハＷの間にそれぞれ嵌入し、整列部
材３２上面の溝３４に保持された状態となる。こうして
新たに２５枚のウェハＷを整列部材３２上面の溝３４に
受け渡すと、搬送チャック装置４５の開閉チャック４７
ａ、４７ｂが開き、その後、搬送チャック装置４５は上
昇して図１３において一点鎖線４５’で示す状態に戻
る。こうして、整列部材３２上面の溝３４、３５に対す
る合計で５０枚のウェハＷの受け渡しが完了する。
【００５１】ここで、図１４と図１６は以上の工程を経
て整列部材３２上面の溝３４と溝３５に対して合計で５
０枚のウェハＷが受け渡される状態を、側方（図１３に
おいて左方）から見た図面である。先ず図１４に示すよ
うに、一つめのキャリアＣから取り出した２５枚のウェ
ハＷを、その表面Ｗａをすべて洗浄装置１の手前側に向
けた状態で整列部材３２上面の溝３５に受け渡す際に
は、前記アクチュエータ４１が伸張稼働して整列部材３
２は洗浄装置１の後方（図１４において左方）に移動し
ており、搬送チャック装置４５の開閉チャック４７ａ、
４７ｂの内側に形成された溝４８ａ、４８ｂと整列部材
３２上面の溝３５とが同一直線状に位置した状態となっ
ている。従って、搬送チャック装置４５によって搬送さ
れたウェハＷは、搬送チャック装置４５の下降に伴って
整列部材３２上面の溝３５にそれぞれ嵌入し、保持され
ることとなる。こうして整列部材３２上面の溝３５によ
って保持されたウェハＷは、図１５に示すように、その
表面Ｗａがすべて洗浄装置１の前方（図１５において左
方）に向いて、等間隔Ｌで平行に並べて配列された状態
となる。
【００５２】次に、搬送チャック装置４５が軸５０を中
心にして１８０゜回転することにより、次のキャリアＣ
から取り出した２５枚のウェハＷを、その表面Ｗａをす
べて洗浄装置１の後ろ側に向けた状態で整列部材３２上
面の溝３４に受け渡す際には、図１６に示すように、前
記アクチュエータ４１が短縮稼働して整列部材３２は洗
浄装置１の手前側（図１６において右方）に移動してお
り、搬送チャック装置４５の開閉チャック４７ａ、４７
ｂの内側に形成された溝４８ａ、４８ｂと整列部材３２
上面の溝３４とが同一直線状に位置した状態となってい
る。従って、搬送チャック装置４５によって搬送された
ウェハＷは、搬送チャック装置４５の下降に伴って整列
部材３２上面の溝３４にそれぞれ嵌入し、保持されるこ
ととなる。こうして整列部材３２上面の溝３４によって
保持されたウェハＷは、その表面Ｗａがすべて洗浄装置
１の後ろ方（図１６において左方）に向いて、等間隔Ｌ
で平行に並べて配列された状態となる。これにより、整
列部材３２上面において、図１７に示すように、５０枚
のウェハＷを隣接するウェハＷ同士の表面Ｗａと表面Ｗ
ａ、裏面Ｗｂと裏面Ｗｂがそれぞれ向かい合い、かつ、
表面Ｗａと表面Ｗａが向かい合っているウェハＷ同士の
間隔はＬ1で、裏面Ｗｂと裏面Ｗｂが向かい合っている
ウェハＷ同士の間隔はＬ2となるように配列させること
が可能となる。
【００５３】こうして５０枚のウェハＷを整列させる工
程が終了すると、今度は搬送装置１５のウェハチャック
１８によって５０枚のウェハＷが一括して保持されて各
処理槽６１、６２、６３へと搬送され、更に、搬送装置
１６のウェハチャック１９、および搬送装置１７のウェ
ハチャック２０によって５０枚のウェハＷが各処理槽６
４〜６９へと一括して搬送され、各処理槽６１〜６９で
処理液中に浸漬されて順次所定の処理がなされていく。
ここで、先に説明したように、各ウェハチャック１８、
１９、２０を構成する一対の把持部材７０ａ、７０ｂの
下側保持体７９と上側支持体８０の表面に形成された保
持溝８１、８２と保持溝８３、８４の配置と、各処理槽
６１〜６９内に設置されているボート９１の保持棒９
３、９４、９５に形成された保持溝９６、９７、保持溝
９８、９９、および保持溝１００、１０１の配置の何れ
もが、整列部材３２上面の溝３４、３５の配置と同じで
あることから、以上のように各処理槽６１〜６９で処理
がなされる間を通して整列部材３２上面において形成さ
れた配列、即ち、５０枚のウェハＷの隣接するウェハＷ
同士の表面Ｗａと表面Ｗａ、裏面Ｗｂと裏面Ｗｂがそれ
ぞれ向かい合い、かつ、表面Ｗａと表面Ｗａが向かい合
っているウェハＷ同士の間隔はＬ1で、裏面Ｗｂと裏面
Ｗｂが向かい合っているウェハＷ同士の間隔はＬ2とな
っている配列が保たれることとなるのである。
【００５４】従って、以上に説明した本実施の形態によ
れば、ウェハＷの表面Ｗａ同士が向かい合っているの
で、ウェハＷの裏面Ｗｂから処理液中に浮遊したパーテ
ィクルがウェハＷの表面Ｗａに転写することがなく、パ
ーティクル汚染による歩留まりの低下を防止することが
可能である。ウェハＷの表面Ｗａ同士の間隔Ｌ1は処理
液を流通させるに十分なものとなっているので、各処理
槽６１〜６９において処理を行うに際し、処理液がウェ
ハＷの表面Ｗａ同士の間に良好に流れ込み、洗浄処理能
力が低下する心配がない。そして、ウェハＷの裏面Ｗｂ
同士が向かい合っている間隔Ｌ2は前記間隔Ｌ1よりも狭
くなっているので、５０枚のウェハＷ全体の幅は従来の
約半分で済むようになり、ウェハチャック１５、１６、
１７や各処理槽６１〜６９の大きさを小さくでき、処理
液量も少なくて済むので経済的であり、洗浄装置１全体
の小型化が図れるといった利点がある。
【００５５】なお各処理槽６１〜６９での処理が終了し
た後、ウェハＷをキャリアＣ内に収納する場合には、前
記整列部６における工程と逆の手順の工程が行われ、載
置部８から搬出されるキャリアＣには、すべて同じ方向
にウェハＷの表面Ｗａが向いた状態で２５枚ずつ収納さ
れることになる。従って、以後の搬送、処理に支障をき
たすことはない。
【００５６】以上、本発明の実施の形態を、搬送チャッ
ク装置４５が軸５０を中心にして回転することによって
ウェハＷの表面同士と裏面同士を向かい合わせるように
構成した例に基づいて説明したが、ウェハＷの表面同士
と裏面同士を向かい合わせる方法として、その他、載置
部５でキャリアＣごと１８０゜回転させてウェハＷを反
転させる方法、突き上げ部材３１が回転してウェハＷを
反転させる方法なども考えられる。なお、キャリアＣや
突き上げ部材３１を回転させる場合は、搬送チャック装
置４５を回転させる必要はない。
【００５７】
【発明の効果】本発明によれば、複数枚数Ｎの被処理体
が表面と表面、裏面と裏面がそれぞれ向かい合うように
配列されているので、処理中に被処理体の裏面から剥離
したパーティクル等が隣接する被処理体の表面に転写す
ることを防止できる。しかも、表面と表面が向かい合っ
ている被処理体同士の間隔Ｌ1を処理液を流通させるに
十分な長さにすることによって、処理液が被処理体の表
面同士の間に良好に流れ込み、処理液により被処理体の
表面を良好に処理することができるようになる。また、
裏面と裏面が向かい合っている被処理体同士の間隔Ｌ2
を表面と表面が向かい合っている被処理体同士の間隔Ｌ
1よりも狭くしたことにより、配列された被処理体全体
の幅を狭くすることができ、処理装置全体の小型化が図
れ、処理液量も少なくて済むので経済的である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態にかかる洗浄装置の概観を
示す斜視図である。
【図２】キャリアの斜視図である。
【図３】図１の洗浄装置における整列部の斜視図であ
る。
【図４】突き上げ部材の上面を部分的に示す拡大図であ
る。
【図５】整列部材の上面を部分的に示す拡大図である。
【図６】整列部に設けられた搬送チャック装置の開閉チ
ャックの拡大正面図である。
【図７】整列部に設けられた搬送チャック装置の開閉チ
ャックの拡大平面図である。
【図８】図１の洗浄装置における搬送装置の斜視図であ
る。
【図９】図１の洗浄装置における把持部材の正面図であ
る。
【図１０】図１の洗浄装置における処理槽の斜視図であ
る。
【図１１】処理槽内に設置されたボートの保持棒の上面
を部分的に示す拡大図である。
【図１２】図１の洗浄装置における処理槽の縦断面図で
ある。
【図１３】図１の洗浄装置における整列部の動作説明図
である。
【図１４】整列部において一つめのキャリアから取り出
したウェハを整列部材の上面受け渡す状態の説明図であ
る。
【図１５】表面がすべて洗浄装置の前方に向いて配列さ
れた状態のウェハの側面図である。
【図１６】整列部において次のキャリアから取り出した
ウェハを整列部材上面受け渡す状態の説明図である。
【図１７】隣接するウェハ同士の表面と表面、裏面と裏
面がそれぞれ向かい合うように配列された状態のウェハ
の側面図である。
【符号の説明】
１ 洗浄装置 ２ 搬入部 ５ 載置部 ６ 整列部 １５、１６、１７ 搬送装置 １８、１９、２０ ウェハチャック ３０ ステージ ３１ 突き上げ部材 ３２ 整列部材 ３３、３４、３５ 溝 ３６ ガイドストッパ ３７ プッシャ ３９ 窓穴 ４０ レール ４１ アクチュエータ ４５ 搬送チャック装置 ４６ 搬送チャック本体 ４７ａ、４７ｂ 開閉チャック ４８ａ、４８ｂ 溝 ４９ａ、４９ｂ 空間部 ５０ 軸 ６１〜６９ 処理槽 Ｗ ウェハ Ｃ キャリア
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H01L 21/304

Claims (7)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 表面をすべて同じ方向に向けて等間隔Ｌ
    をもって平行に配列された第一の被処理体をキャリアか
    ら取り出す工程と、 表面をすべて同じ方向に向けて等間隔Ｌをもって平行に
    配列された第二の被処理体をキャリアから取り出す工程
    と、 等間隔Ｌをもって平行に配列された第一の被処理体の間
    に、等間隔Ｌをもって平行に配列された第二の被処理体
    をそれぞれ挿入して、または、等間隔Ｌをもって平行に
    配列された第二の被処理体の間に、等間隔Ｌをもって平
    行に配列された第一の被処理体をそれぞれに挿入して、
    複数枚数Ｎの被処理体を、キャリアから出された状態
    で、隣接する被処理体同士の表面と表面、裏面と裏面を
    それぞれ向かい合わせ、かつ、表面と表面が向かい合っ
    ている被処理体同士の間隔Ｌ １ に比べて、裏面と裏面が
    向かい合っている被処理体同士の間隔Ｌ ２ が狭くなるよ
    うに配列させる工程と、 この配列された複数枚数Ｎの被処理体を、キャリアから
    出された状態で、配列させた状態を維持して搬送する工
    程と、 この配列された複数枚数Ｎの被処理体を、キャリアから
    出された状態で、配列させた状態を維持して処理液に浸
    漬して処理する工程、を備える処理方法。
  2. 【請求項２】 被処理体同士の間隔Ｌ１が処理液を流通
    させるに十分な長さを有するように前記複数枚数Ｎの被
    処理体が配列されている請求項１に記載の処理方法。
  3. 【請求項３】 前記複数枚数Ｎの被処理体を、キャリア
    から出された状態で、隣接する被処理体同士の表面と表
    面、裏面と裏面をそれぞれ向かい合わせ、かつ、表面と
    表面が向かい合っている被処理体同士の間隔Ｌ １ に比べ
    て、裏面と裏面が向かい合っている被処理体同士の間隔
    Ｌ ２ が狭くなるように配列させる工程において、 前記第一の被処理体の表面と前記第二の被処理体の表面
    が互いに反対の方向に向くように、前記第一の被処理体
    を前記第二の被処理体に対して相対的に回転させ、また
    は前記第二の被処理体を前記第一の被処理体に対して相
    対的に回転させ、 その後、第一の被処理体の間に第二の被処理体をそれぞ
    れ挿入するか、第二の被処理体の間に第一の被処理体を
    それぞれに挿入する請求項１又は２に記載の処理方法。
  4. 【請求項４】 複数枚数Ｎの被処理体を平行に配置した
    状態で処理液に浸漬して処理する処理装置において、 キャリア単位で搬入された被処理体をキャリアから取り
    出し、キャリアから出された状態で、隣接する被処理体
    同士の表面と表面、裏面と裏面をそれぞれ向かい合わ
    せ、かつ、表面と表面が向かい合っている被処理体同士
    の間隔Ｌ １ に比べて、裏面と裏面が向かい合っている被
    処理体同士の間隔Ｌ ２ が狭くなるように複数枚数Ｎの被
    処理体を配列させる搬入部と、 複数枚数Ｎの被処理体を、前記配列された状態を維持し
    て、キャリアから出された状態で一括して搬送する搬送
    装置と、 複数枚数Ｎの被処理体を、前記配列された状態を維持し
    て、キャリアから出された状態で一括して処理する処理
    部を備えることを特徴とする、処理装置。
  5. 【請求項５】 キャリアから出された状態で、隣接する
    被処理体同士の表面と表面、裏面と裏面をそれぞれ向か
    い合わせ、かつ、表面と表面が向かい合っている被処理
    体同士の間隔Ｌ １ に比べて、裏面と裏面が向かい合って
    いる被処理体同士の間隔Ｌ ２ が狭くなるように配列させ
    た状態で複数枚数Ｎの被処理体を保持する整列部材を、
    前記搬入部に備えることを特徴とする請求項４に記載の
    処理装置。
  6. 【請求項６】 前記処理部は処理槽を備え、 キャリアから出された状態で、隣接する被処理体同士の
    表面と表面、裏面と裏面をそれぞれ向かい合わせ、か
    つ、表面と表面が向かい合っている被処理体同士の間隔
    Ｌ １ に比べて、裏面と裏面が向かい合っている被処理体
    同士の間隔Ｌ ２ が狭くなるように配列させた状態で複数
    枚数Ｎの被処理体を保持する保持具を、前記処理槽に備
    えることを特徴とする請求項４又は５に記載の処理装
    置。
  7. 【請求項７】 被処理体同士の間隔Ｌ １ が処理液を流通
    させるに十分な長さを有するように、前記複数枚数Ｎの
    被処理体がキャリアから出された状態で配列されている
    請求項４、５又は６に記載の処理装置。
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