JPH07321079A - 基板洗浄用キャリア及び基板洗浄方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 基板処理装置の大型化を抑制し、基板Ｗの移
し替えのための高い整合精度を緩和し、基板Ｗのチャッ
クミスや基板受け渡し具の近接側凸部の破損を防止しつ
つ、基板の処理能力を高める。 【構成】 複数の基板Ｗを起立姿勢で前後に並列させて
収容する左右一対の側部保持枠４１と、基板Ｗの左右両
下縁を受け止める左右一対の下縁保持枠４５と、側部保
持枠４１及び下縁保持枠４５の前後端部にそれぞれ固着
された前後一対の端部固定枠４８と、上記側部保持枠４
１及び下縁保持枠４５に一体に架設した中間リブ５０と
から成る。キャリアチャック１５Ｃの鉤持用鍔部４４は
左右一対の側部保持枠４１に一体に形成し、上記中間リ
ブ５０は基板搬送用キャリア１個分の基板収納溝及び基
板受止溝を単位溝群Ｄとして各単位溝群Ｄ間に配置す
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、半導体ウエハや液晶
用ガラス基板等の薄板状基板を収容して処理槽内に浸漬
し、多数の基板を一括して洗浄処理するのに用いられる
基板洗浄用キャリア及びそのキャリアを使用する基板洗
浄方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来の基板洗浄処理においては、複数の
基板を収納した基板洗浄用キャリアをキャリアチャック
により処理槽に浸漬して洗浄するキャリアバッチ方式
や、基板搬送用キャリアから取り出した複数の基板をウ
エハチャックにより保持して処理槽に浸漬するキャリア
レス方式が採用されている。上記キャリアバッチ方式に
よる基板の洗浄処理装置としては、例えば特開平２−１
０７２８号に開示されたもの（以下従来例１という）
が、また、上記キャリアレス方式による基板の洗浄処理
装置としては、例えば本出願人の提案によるもので、特
開平４−２９４５３５号に開示されたもの（以下従来例
２という）が知られている。

【０００３】上記従来例１は、例えば図８に示すよう
に、２個の基板洗浄用キャリア１０４をキャリアチャッ
ク１５Ｃで同時に搬送するとともに、それらの基板洗浄
用キャリア１０４を処理槽２８内に浸漬して基板Ｗの表
面処理をするものである。上記基板洗浄用キャリア１０
４としては例えば図１０又は図１１に示すものがある。

【０００４】図１０に示す基板洗浄用キャリア１０４と
しては、例えば実開平２−３５４４８号に開示されたも
ので、複数の基板Ｗを起立姿勢で前後に並列させて収容
する基板収納溝１４２を有し、この基板収納溝１４２同
士が左右に対向するように配置した左右一対の側部保持
枠１４１と、上記基板収納溝１４２と同一ピッチで同一
垂直面内に形成した基板受止溝１４６を有し、この基板
受止溝１４６で基板の左右両下縁を受け止めるようにそ
れぞれ配置された左右一対の下縁保持杆１４５ａと、上
記一対の側部保持枠１４１及び一対の下縁保持杆１４５
ａの前後端部にそれぞれ固着された前後一対の端部固定
枠１４８とから成り、左右一対の側部保持枠１４１の上
端部にキャリアチャックの鉤持用鍔部１４４を一体に形
成して構成されている。

【０００５】図１１に示す基板洗浄用キャリア１０４と
しては、例えば実開平４−１０３６４４号に開示された
もので、上記下縁保持杆１４５ａに代えて下縁保持枠１
４５ｂとし、この下縁保持枠１４５ｂと上記側部保持枠
１４１と端部固定枠１４７とを一体に形成して構成され
ている。また、側部保持枠１４１の中間高さ位置と、側
部保持枠１４１と下縁保持枠１４５ｂとの間にそれぞれ
縦向きのスリット状の開口１４３・１４７が設けられて
いる。

【０００６】一方、従来例２は図９に示すように、２個
の基板搬送用キャリア１から２群の基板Ｗ₁・Ｗ₂を基板
受け渡し具６で取り出し、全ての基板Ｗを整列方向へ略
等ピッチに配列し、これらの基板Ｗをウエハチャック１
５Ｂで一括保持して処理槽２８内の基板保持具（図示せ
ず）へ移し替えて基板Ｗの洗浄処理をするものである。
ここで基板受け渡し具６はキャリア載置台２の水平移動
位置よりも下方に固定配置され、各基板搬送用キャリア
１内の基板Ｗを相対的に押上げて一括保持し、ウエハチ
ャック１５Ｂに引き渡すように構成されている。

【０００７】図９において、符号２はキャリア載置台、
５はキャリア１内の各基板Ｗのオリエンテーションフラ
ットを整合するための整合用ローラ、１３は基板受け渡
し具６の架台１０を相互に接離自在に連結するリンク、
１５Ｂは基板受け渡し具６で保持したキャリア２個分
（５０枚）の基板Ｗを一括保持して搬送するウエハチャ
ックである。なお、矢印Ａ〜Ｃはキャリア載置台２の動
作を、矢印Ｅ〜Ｇはウエハチャック１５Ｂの動作を示
す。この装置によれば、リンク1３で２群の基板Ｗ₁・Ｗ
₂を相互に接近させることにより、図１２に示すよう
に、全ての基板を整列方向へ略等ピッチＰに配列し、上
記ウエハチャック１５Ｂで一括保持することができる。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】上記従来例１（図８）
は、２個の基板洗浄用キャリア１０４を同時に処理槽２
８内に浸漬するので、各基板洗浄用キャリア１０４間に
一定のスペースを設けざるを得ないことより、大きな処
理槽が必要になる。このため複数の処理槽を並設する場
合には洗浄処理装置が大型になる。一方、上記従来例２
（図９）は、基板Ｗを相互に接近させていることより、
従来例１に比較して処理槽２８は小さくて済むが、基板
Ｗをウエハチャック１５Ｂで一括保持して処理槽２８内
のへ移し替えて洗浄処理することから、ウエハチャック
１５Ｂと処理槽２８内に設置した基板保持具との間の基
板受け渡しのための極めて高い整合精度が要求される。
また、これらの相互の調整に手間取るため製作コストが
高くつく。

【０００９】さらに、複数の処理槽を並設して基板の移
し替えの頻度が多くなる場合には、基板のチャックミス
や、基板を挟持する際の当接ショックによる基板の破損
が生じるおそれがある。しかも、基板の挟持を確実にす
る必要があることから、その挟持動作はゆっくりしたも
のとなるため、移し替えに手間取り単位時間当たりの基
板の処理能力が低下する。また、従来例２では図１２に
示すように、基板受け渡し具６を相互に近接させて基板
の配列ピッチＰを一定にするためには、基板受け渡し具
６の基板保持部６ａを構成する凸部６３のうち、近接側
凸部６３ａの厚さ寸法を他の凸部６３の半分にする必要
があるため、これらの近接側凸部６３ａの破損が生じ易
くなる。

【００１０】本発明はこのような事情に鑑みてなされた
もので、上記従来例１と上記従来例２の問題点を同時に
解消すること、即ち、基板処理装置の大型化を抑制して
ランニングコストの低減を図るとともに、基板の移し替
えのための高い整合精度を緩和し、基板のチャックミス
や基板受け渡し具６の近接側凸部６３ａの破損を防止し
つつ、基板の処理能力を高めることを技術課題とする。

【００１１】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明は以下のように構成される。即ち、請求項１
の発明は、複数の基板を起立姿勢で前後に並列させて収
容する基板収納溝を有し、この基板収納溝同士が左右に
対向するように配置した左右一対の側部保持枠と、上記
基板収納溝と同一ピッチで同一垂直面内に形成した基板
受止溝を有し、この基板受止溝で基板の左右両下縁を受
け止めるように側部保持枠の下方にそれぞれ配置された
左右一対の下縁保持枠と、上記一対の側部保持枠及び一
対の下縁保持枠の前後端部にそれぞれ固着された前後一
対の端部固定枠とから成り、左右一対の側部保持枠にキ
ャリアチャックの鉤持用鍔部を一体に形成して構成した
基板洗浄用キャリアにおいて、上記基板洗浄用キャリア
は、基板搬送用キャリアの基板収納溝と同一ピッチで基
板搬送用キャリア複数個分の基板収納溝及び基板受止溝
を有し、当該キャリア１個分の基板収納溝及び基板受止
溝を単位溝群として各単位溝群間に中間リブを配置し、
この中間リブを上記一対の側部保持枠及び一対の下縁保
持枠に一体に架設したことを特徴とする基板洗浄用キャ
リアである。

【００１２】請求項２の発明は請求項１に記載した基板
洗浄用キャリアにおいて、上記鉤持用鍔部が前半鍔部と
後半鍔部とから成り、上記キャリアチャックの前側チャ
ックで前半鍔部を、後側チャックで後半鍔部をそれぞれ
鉤持可能に構成した基板洗浄用キャリアである。

【００１３】請求項３の発明は請求項１に記載した基板
洗浄用キャリアにおいて、上記側部保持枠を、その上端
部が内部に収納した基板の背丈よりも低く、その下端部
が当該基板の直径部分付近を支える高さに設定した基板
洗浄用キャリアである。

【００１４】請求項４の発明は、基搬送用キャリア複数
個分の基板を請求項１に記載の基板洗浄用キャリアに移
し替え、この基板洗浄用キャリアをキャリアチャックで
基板洗浄槽に浸漬して基板の洗浄処理をすることを特徴
とする基板洗浄方法である。

【００１５】

【発明の作用】請求項１の発明では、基板洗浄用キャリ
アは、基板搬送用キャリアの基板収納溝と同一ピッチで
基板搬送用キャリア複数個分の基板収納溝及び基板受止
溝を有し、基板搬送用キャリア複数個分の基板を収納で
きる。つまり、１個の基板洗浄用キャリアは、基板搬送
用キャリア複数個分の基板を収納して処理槽内に浸漬可
能で、処理槽内への浸漬に際して基板の移し替えは不要
になる。また、当該キャリア１個分の基板収納溝及び基
板受止溝を単位溝群として各単位溝群間に中間リブを設
けることにより、基板搬送用キャリア複数個分の基板の
処理に必要な強度が得られる。

【００１６】請求項２の発明では、上記基板洗浄用キャ
リアの鉤持用鍔部が前半鍔部と後半鍔部とから成り、上
記キャリアチャックの前側チャックで前半鍔部を、後側
チャックで後半鍔部をそれぞれ鉤持可能に構成したこと
から、従来例１のキャリアチャックを利用して基板洗浄
用キャリアを搬送・浸漬することができる。

【００１７】請求項３の発明では、基板洗浄用キャリア
の側部保持枠を、その上端部が内部に収納した基板の背
丈よりも低く、その下端部が当該基板の直径部分付近を
支える高さに設定したことから、当該キャリアは贅肉を
極力無くしてスリムに形成され、側部保持枠と下縁保持
枠との間の開口も大きく形成することが可能になり、基
板の洗浄処理において円滑な洗浄液の上昇流が形成され
る。

【００１８】請求項４の発明では、請求項１の基板洗浄
用キャリアを使用して洗浄処理をすることから、請求項
１の発明と同様に処理槽内への浸漬に際して基板の移し
替えは不要になる。また、基搬送用キャリア複数個分の
基板を単一の基板洗浄用キャリアに収納して処理するの
で、その処理に必要な洗浄処理装置は大型化しない。

【００１９】

【実施例】以下本発明を、８インチのウエハを収納する
８インチ用基板洗浄用キャリアに適用した場合の実施例
を図面に基づいてさらに詳しく説明する。図１は請求項
１〜請求項３の発明に係る基板洗浄用キャリアをキャリ
アチャックで保持した状態を示す斜視図、図２は当該キ
ャリアの縦断正面図、図３は当該キャリアの正面図、図
４は当該キャリアの一部を破断した側面図、図５は当該
キャリアの平面図である。

【００２０】この基板洗浄用キャリア４は、複数の８イ
ンチウエハＷを起立姿勢で前後に並列させて収容する基
板収納溝４２を有し、左右に対向して配置された一対の
側部保持枠４１と、上記基板収納溝４２と同一ピッチで
同一垂直面内に形成した基板受止溝４６を有し、この基
板受止溝４６でウエハＷの左右両下縁を受け止めるよう
に配置された左右一対の下縁保持枠４５と、上記一対の
側部保持枠４１及び一対の下縁保持枠４５の前後端部に
それぞれ固着された前後一対の端部固定枠４８と、上記
一対の側部保持枠４１及び一対の下縁保持枠４５に一体
に架設した中間リブ５０とから成り、上部及び下部は開
放状に形成されている。

【００２１】この基板洗浄用キャリア４は、前記基板搬
送用キャリア１の基板収納溝と同一ピッチＰで基板搬送
用キャリア２個分の基板収納溝４１及び基板受止溝４６
を有している。即ち、８インチのウエハＷを前半部に２
５枚と後半部に２５枚を収納可能に構成されている。こ
れにより、後述する処理槽内への浸漬に際してウエハＷ
の移し替えは不要になり、単位時間当たりの処理能力も
高まる。

【００２２】また、側部保持枠４１の上端部には、キャ
リアチャック１５Ｃの鉤持用鍔部４４が一体に形成さ
れ、この鉤持用鍔部４４は、前半鍔部４４ａと後半鍔部
４４ｂとから成り、キャリアチャック１５Ｃの前側チャ
ック１５ａで前半鍔部４４ａを、後側チャック１５ｂで
後半鍔部４４ｂをそれぞれ鉤持可能に構成されている。
ここで、前半鍔部４４ａと後半鍔部４４ｂの寸法は、図
８に示す従来例１の２個の基板洗浄用キャリア１０４の
各鍔部の寸法と同一であり、また、前半鍔部４４ａと後
半鍔部４４ｂの間のピッチは、図８の状態における２個
の基板洗浄用キャリア１０４の各鍔部の間のピッチと同
一になっている。これにより、従来例１の６インチ用の
キャリアチャック１５Ｃの開閉角度もしくはチャック間
ピッチを調整することにより、６インチ用キャリアチャ
ック１５Ｃをそのまま利用して８インチ用の基板洗浄用
キャリア４を搬送することができる。

【００２３】また、キャリア内にウエハＷを整列させて
収納する際のウエハ間ピッチは、ＳＥＭＩ（Semiconduc
tor Equipment and Materials International）等で規
格化されており、当該規格では８インチウエハの場合は
６インチウエハの場合より大きいピッチとなっている。
しかしながら、基板洗浄用キャリア４においては、２個
の基板搬送用キャリア１に収納されていた２５枚のウエ
ハＷを互いに近接させて収納していることより、その長
手方向の寸法Ｌ₁（図４参照）は、図８の状態において
２個の基板洗浄用キャリア１０４が占める寸法Ｌ₂ と同
程度の寸法とすることができる。このため、従来例１の
６インチ用キャリアチャック１５Ｃで搬送した８インチ
用の基板洗浄用キャリア４を６インチ用の洗浄槽に浸漬
することができる。従って、この基板洗浄用キャリア４
を使用することにより、６インチ用に設計された従来例
１の基板処理装置を利用して、８インチのウエハＷを処
理することも可能となる。

【００２４】なお、上記鉤持用鍔部４４は側部保持枠４
１の上端部に限らず、図３中の仮想線４４ｃで示すよう
に、側部保持枠４１の中間高さ又は下端部に一体に形成
し、当該側部保持枠４１の強度を高めるようにしてもよ
い。また、仮想線４４ｄで示すように、側部保持枠４１
を下方にのばして鉤持用鍔部を形成してもよい。

【００２５】上記中間リブ５０は、当該基板搬送用キャ
リア１個分の基板収納溝４１及び基板受止溝４６を単位
溝群Ｄとしてこれらの単位溝群Ｄ間に配置され、側部保
持枠４１と下縁保持枠４５とに一体に架設されている。
後述するように、基板をキャリアに収納して遠心式の基
板乾燥装置で液切り乾燥する場合等においては、通常、
側部保持枠４１の中央部が互いに離隔する方向に変形す
る。特に、基板洗浄用キャリア４やウエハＷが大型化し
た場合には、側部保持枠４１の変形量が大きくなること
より、そこに保持したウエハＷが基板収納溝から外れて
破損することとなる。

【００２６】この実施例では中間リブ５０は、基板洗浄
用キャリア４の前後方向の中間位置に固設配置されてお
り、当該キャリア４の機械的強度を十分に確保するよう
に設定してある。これにより搬送用キャリア２個分の基
板を単一の基板洗浄用キャリア４に収納して基板を処理
する場合であっても、基板の処理に十分耐用できる強度
を得ることができる。なお、図２及び図３に示すよう
に、端部固定枠４８及び中間リブ５０には、それぞれ洗
浄液の抜け孔４９・５１が開口形成されている。また、
図２及び図４に示すように、側部保持枠４１の基板収納
溝４２に対向する部位には、洗浄液の抜け孔４３が縦長
のスリット状に形成されている。

【００２７】また、上記中間リブ５０は当該基板洗浄用
キャリア４を後述する処理槽内に浸漬してウエハＷの洗
浄処理をする場合において、当該中間リブ５０の位置に
配列ピッチを崩さずにウエハＷを配列した場合と実質的
に同等の機能を有し、各単位溝群Ｄ間でウエハＷの配列
ピッチが崩れるのを防止する作用をする。さらに、上記
中間リブ５０を設けることにより、図１３に示すよう
に、相互に接近した基板受け渡し具６の近接側凹部６３
・６３間の中間位置Ｍは、基板洗浄用キャリア４の中間
リブ５０に対応する位置となり、ウエハＷは存在しない
こととなることより、基板受け渡し具６の基板保持部６
ａを構成する凸部６３のうち、近接側凸部６３の厚さ寸
法を他の凸部６３と同じ厚さ寸法に設定できる。これに
より、近接側凸部６３・６３の機械的強度が十分に確保
され、破損のおそれがなくなる。従って上記中間リブ５
０は、基板洗浄用キャリア４の強度の確保のみならず、
ウエハＷの処理の均一化と複数の基板搬送用キャリア１
からの単一の基板洗浄用キャリア４へのウエハＷの移し
替え作業の容易化とに貢献する。

【００２８】また、基板洗浄用キャリア４の側部保持枠
４１は、図２に示すように、その上端部が内部に収納し
たウエハＷの背丈よりも低く、その下端部が当該ウエハ
Ｗの直径部分付近を支える高さに合わせて設定されてい
る。つまり、図１０や図１１の基板洗浄用キャリアに比
較して、贅肉を極力無くしてスリムに形成され、側部保
持枠４１と下縁保持枠４５との間の開口４７を大きく形
成することが可能になり、ウエハの洗浄処理において円
滑な洗浄液の上昇流が形成される。なお、図４中の符号
５５及び５６は、後述する処理槽内における基板洗浄用
キャリア４の位置決め部材である。

【００２９】図６は請求項４に係る基板洗浄方法を実施
するための基板洗浄装置の概要図である。この基板洗浄
装置は図６に示すように、搬送用キャリア１を搬入搬出
するキャリア搬入搬出部２０Ａと、搬送用キャリア１か
らウエハＷを取り出して洗浄用キャリア４へ移し替える
基板移し替え部２０Ｂと、ウエハＷの洗浄処理部２０Ｃ
と、ウエハＷの乾燥部２０Ｄと、搬送用キャリア１を洗
浄するキャリア洗浄部（図示せず）とを配置して構成さ
れている。また、キャリア搬入搬出部２０Ａに沿ってキ
ャリア移載ロボット１５Ａが、基板移し替え部２０Ｂに
沿ってウエハチャック１５Ｂが、基板移し替え部２０Ｂ
からウエハＷの洗浄処理部２０Ｃとウエハ乾燥部２０Ｄ
とにわたりキャリアチャック１５Ｃが、それぞれ移動可
能に設けられている。以下順次各部の説明をする。

【００３０】上記キャリア搬入搬出部２０Ａは、図６に
示すように、先行工程から搬入されてきた複数の搬送用
キャリア１を載置するステージ２１と、このステージ２
１の下側に設けられた整合用ローラ５と、ステージ２１
に沿って移動可能・回動可能・かつ昇降可能に設けられ
たキャリア移載ロボット１５Ａとを具備して成り、ステ
ージ２１の一端側に搬入されてきた搬送用キャリア１内
のウエハＷのオリエンテーションフラットを上記整合用
ローラ５で整合し、その搬送用キャリア１をキャリア移
載ロボット１５Ａで基板移し替え部２０Ｂのターンテー
ブル２３上に移載するとともに、処理済みウエハＷを収
納した搬送用キャリア１を、キャリア移載ロボット１５
Ａでステージ２１の他端側に移載し、その搬送用キャリ
ア１を後続処理工程に向けて搬出するように構成されて
いる。

【００３１】上記基板移し替え部２０Ｂは、キャリア載
置テーブル２２と、このキャリア載置テーブル２２の下
側にそれぞれ設置された第１の基板受け渡し装置３０
と、第２の基板受け渡し装置５０と、キャリア載置テー
ブル２２の一側に設けられ、キャリア載置テーブル２２
に沿って移動可能なウエハチャック１５Ｂとを備えて成
り、上記キャリア移載ロボット１５Ａで搬送されてきた
２個の搬送用キャリア１から基板Ｗを取り出してその配
列ピッチを一定に揃え、別の基板洗浄用キャリア４内に
移し替えるように構成されている。

【００３２】図７は上記第１の基板受け渡し装置３０の
概要を示す正面図である。この基板受け渡し装置３０
は、図６及び図７に示すように、キャリア載置テーブル
２２に設けられた２個一対の各ターンテーブル２３を水
平回転させるために設けられた駆動モータ３１と、各タ
ーンテーブル２３の下側に配置され、ターンテーブル２
３の中央開口部を貫通して昇降する２個の基板受け渡し
具６と、昇降基枠３３を介して各基板受け渡し具６を昇
降駆動する昇降駆動手段３４と、２個の基板受け渡し具
６・６を相互に近接・離間させるリンク駆動手段３５と
から構成されている。なお、上記ターンテーブル２３
は、キャリア移載ロボット１５Ａによりターンテーブル
２３上に移載された搬送用キャリア１の方向を９０゜回
転させることにより、ウエハＷの収容方向を後続の各種
装置に対応させるためのもので、後続の装置の配列によ
っては必ずしもターンテーブル２３は必要でない。

【００３３】上記基板受け渡し装置３０によれば、各基
板受け渡し具６を上昇させ、その基板保持部６ａで複数
のウエハＷを起立整列状態のまま保持させる。つまり、
各基板受け渡し具６は相互に離間した状態で各基板搬送
用キャリア１・１から各２５枚の基板Ｗを起立姿勢で受
け取る。従って、この段階では２個の基板受け渡し具６
で保持したキャリア２個分のウエハＷは、図７において
実線で示すように、それぞれ前群のウエハＷ₁と後群の
ウエハＷ₂とに分離した状態になっている。

【００３４】次いで、基板受け渡し具６・６を基板整列
方向へ相互に近接させる。この状態では、図１３に示す
ように、相互に接近した基板受け渡し具６の近接側凸部
６３・６３間の中間位置ＭにはウエハＷは存在しない。
つまり、図７において二点鎖線で示すように、前群Ｗ₁
と後群Ｗ₂に分離していたウエハＷは近接部のスペース
Ｓを除いて等ピッチＰで整列し、ウエハチャック１５Ｂ
のチャックハンド１６の基板保持溝に対して位置整合す
る。これにより基板受け渡し具６で保持したキャリア２
個分の合計５０枚のウエハＷをウエハチャック１５Ｂで
一括保持することができ、引き続きそれらのウエハＷを
第２の基板受け渡し装置５０を介して基板洗浄用キャリ
ア４に移し替えることができる。

【００３５】第２の基板受け渡し装置５０は、単一の基
板受け渡し具３２を昇降手段５４で上昇して、その基板
保持部５２ａで５０枚のウエハＷを起立整列状態のま
ま、ウエハチャック１５Ｂから一括して受け取り、基板
洗浄用キャリア４に収容するように構成されている。こ
の基板洗浄用キャリア４には、前記のように基板搬送用
キャリア１の基板収納溝と同一ピッチの基板収納溝が刻
設され、前後方向中央部に中間リブ５０が設けられてい
る。

【００３６】上記ウエハＷの洗浄処理部２０Ｃは、図６
に示すように、オーバーフローさせないで酸洗浄等を行
う処理槽２８ａとオーバーフロー型の純水洗浄槽２８ｂ
とを備えて成り、洗浄用キャリア４をキャリアチャック
１５Ｃにより順次各処理槽２８ａ・２８ｂ内に浸漬して
基板Ｗの洗浄処理をするように構成されている。なお、
各処理槽２８ａ・２８ｂの下側には処理液回収部２９ａ
と処理液供給部２９ｂが設けられている。

【００３７】上記ウエハ乾燥部２０Ｄは、基板洗浄用キ
ャリア４を収容して遠心力で液切り乾燥する遠心式の脱
水乾燥機６０を備えている。この基板洗浄用キャリア４
は前記のように中間リブ５０を有しており、遠心力によ
る変形に対しても十分に強度が高く、遠心式の基板乾燥
装置で液切り乾燥する場合でも十分に耐用できる。な
お、この遠心式の脱水乾燥機６０に代えて、溶剤を用い
て乾燥を促進するものや、減圧方式により乾燥を促進す
るものを採用することもできる。また、図示しないキャ
リア洗浄部では、ウエハＷの洗浄処理が行われている間
にウエハＷを取り出して空になった搬送用キャリア１を
洗浄する。洗浄処理を終えたウエハＷは、上記基板移し
替え部２０Ｂにおいて洗浄用キャリア４から基板搬送用
キャリア１に移し替えられる。

【００３８】上記のように、基板洗浄用キャリア４内に
は基板搬送用キャリア２個分の５０枚のウエハＷが収容
され、これを処理槽内２８ａ・２８ｂに浸漬してウエハ
の洗浄処理をすることにより、２個のキャリアを浸漬す
る場合に比較して各処理槽２８ａ・２８ｂの容積は小さ
くて済む。これにより、処理液や純水等の消費量も節約
でき、ランニングコストの低減に貢献する。また、当該
洗浄用キャリア４を各処理槽内に浸漬してウエハＷの洗
浄処理をするので、キャリアチャック１５Ｃによるキャ
リアの搬送・浸漬動作を迅速にしても、ウエハのチャッ
クミスやウエハを挟持する際の当接ショックによる破損
が生じるおそれがなくなる。これにより、単位時間当た
りの処理能力も高まる。

【００３９】なお、上記実施例においては、２５枚のウ
エハＷを収納する２個の基板搬送用キャリア１より５０
枚のウエハＷを収納し得る洗浄用キャリア４に５０枚の
ウエハＷを移し替えるものについて説明したが、洗浄用
キャリア４として５２枚のウエハＷを収納し得るものを
使用し、当該洗浄用キャリア４に基板搬送用キャリア１
より移し替えた５０枚のウエハＷとテスト用の２枚のウ
エハとを収納して処理するようにしてもよい。

【００４０】また、上記実施例においては、基板処理装
置の一端にキャリア搬入搬出部２０Ａを配置したものに
ついて説明したが、基板処理装置の一端に搬送用キャリ
アの搬入部を配置するとともに他端に搬出部を配置し、
これらの間において、ウエハを洗浄用キャリア４で搬送
して処理するようにしてもよい。さらに、基板搬送用キ
ャリア１をキャリア搬入搬出部２０Ａから基板移し替え
部２０Ｂへ移載するキャリア移載ロボット１５Ａ、基板
搬送用キャリア１からウエハＷを取り出して洗浄用キャ
リア４へ移し替えるための第１の基板受け渡し装置３
０、ウエハチャック１５Ｂ、第２の基板受け渡し装置５
０等についても、上記実施例に限るものではなく、適宜
変更を加えて実施することができる。

【００４１】

【発明の効果】請求項１の発明は、以下の効果を奏す
る。 複数個の洗浄用キャリアを浸漬する場合に比較して
容積が小さい処理槽を使用することができるので、処理
液や純水等の消費量も節約でき、ランニングコストの低
減を図ることができる。 基板搬送用キャリア複数個分の基板を収納して処理
できるので、簡易なキャリアチャックで高速に搬送でき
る。 また、基板搬送用キャリア１個分の基板収納溝及び
基板受止溝を単位溝群として各単位溝群間に中間リブを
設けることにより、基板搬送用キャリア複数個分の処理
に必要な強度を得ることができる。

【００４２】請求項２の発明は、以下の効果を奏する。 上記基板洗浄用キャリアの鉤持用鍔部が前半鍔部と
後半鍔部とから成り、上記キャリアチャックの前側チャ
ックで前半鍔部を、後側チャックで後半鍔部をそれぞれ
鉤持可能に構成したことから、従来例１のキャリアチャ
ックをそのまま利用して処理を行うことが可能となる。

【００４３】請求項３の発明は、以下の効果を奏する。 基板洗浄用キャリアの側部保持枠を、その上端部が
内部に収納した基板の背丈よりも低く、その下端部が当
該基板の直径部分付近を支える高さに設定したことか
ら、当該キャリアは贅肉を極力無くしてスリムに形成す
ることができ、また、側部保持枠と下縁保持枠との間の
開口も大きく形成することが可能になり、基板の洗浄処
理において円滑な洗浄液の上昇流を形成することができ
る。

【００４４】請求項４の発明は、以下の効果を奏する。 複数個の洗浄用キャリアを浸漬する場合に比較して
処理槽の容積が小さくて済むので、処理液や純水等の消
費量も節約でき、ランニングコストの低減を図ることが
できる。 基板搬送用キャリア複数個分の基板を収納した基板
洗浄用キャリアをキャリアチャックで基板洗浄槽に浸漬
することにより、高速な搬送が可能となり、また、基板
の移し替えが不要で、単位時間当たりの処理能力も高ま
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る基板洗浄用キャリアをキャリアチ
ャックで保持した状態を示す斜視図である。

【図２】基板洗浄用キャリアの縦断正面図である。

【図３】基板洗浄用キャリアの正面図である。

【図４】基板洗浄用キャリアの一部を破断した側面図で
ある。

【図５】基板洗浄用キャリアの平面図である。

【図６】本発明に係る基板洗浄方法を実施するための基
板洗浄装置の概要図である。

【図７】第１の基板受け渡し装置の概要を示す正面図で
ある。

【図８】従来例１の基板処理装置の概要を示す正面図で
ある。

【図９】従来例２の基板処理装置の概要を示す斜視図で
ある。

【図１０】従来例１に係る基板洗浄用キャリアの１例を
示す斜視図である。

【図１１】従来例１に係る基板洗浄用キャリアの別の１
例を示す縦断面図である。

【図１２】従来例２に係る基板受け渡し具の近接状態を
示す要部拡大図である。

【図１３】本発明に関連する基板受け渡し具の近接状態
を示す要部拡大図である。

【符号の説明】

１…基板搬送用キャリア、４…基板洗浄用キャリア、１
５Ｃ…キャリアチャック、１５ａ…キャリアチャックの
前側チャック、１５ｂ…キャリアチャックの後側チャッ
ク、４１…側部保持枠、４２…基板収納溝、４４…鉤持
用鍔部、４４ａ…前半鍔部、４４ｂ…後半鍔部、４５…
下縁保持枠、４６…基板受止溝、４８…端部固定枠、５
０…中間リブ、Ｄ…単位溝群、Ｗ…基板（ウエハ）、Ｐ
…基板の配列ピッチ。

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/68 Ｔ

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 複数の基板を起立姿勢で前後に並列させ
   て収容する基板収納溝を有し、この基板収納溝同士が左
   右に対向するように配置した左右一対の側部保持枠と、 上記基板収納溝と同一ピッチで同一垂直面内に形成した
   基板受止溝を有し、この基板受止溝で基板の左右両下縁
   を受け止めるように側部保持枠の下方にそれぞれ配置さ
   れた左右一対の下縁保持枠と、 上記一対の側部保持枠及び一対の下縁保持枠の前後端部
   にそれぞれ固着された前後一対の端部固定枠とから成
   り、 左右一対の側部保持枠にキャリアチャックの鉤持用鍔部
   を一体に形成して構成した基板洗浄用キャリアにおい
   て、 上記基板洗浄用キャリアは、基板搬送用キャリアの基板
   収納溝と同一ピッチで基板搬送用キャリア複数個分の基
   板収納溝及び基板受止溝を有し、 当該キャリア１個分の基板収納溝及び基板受止溝を単位
   溝群として各単位溝群間に中間リブを配置し、この中間
   リブを上記一対の側部保持枠及び一対の下縁保持枠に一
   体に架設したことを特徴とする基板洗浄用キャリア。
2. 【請求項２】 鉤持用鍔部は前半鍔部と後半鍔部とから
   成り、キャリアチャックの前側チャックで前半鍔部を、
   後側チャックで後半鍔部をそれぞれ鉤持可能に構成した
   請求項１に記載の基板洗浄用キャリア。
3. 【請求項３】 側部保持枠を、その上端部が内部に収納
   した基板の背丈よりも低く、その下端部が当該基板の直
   径部分付近を支える高さに設定した請求項１に記載の基
   板洗浄用キャリア。
4. 【請求項４】 基搬送用キャリア複数個分の基板を請求
   項１に記載の基板洗浄用キャリアに移し替え、この基板
   洗浄用キャリアをキャリアチャックで基板洗浄槽に浸漬
   して基板の洗浄処理をすることを特徴とする基板洗浄方
   法。