JPH11111836A - 浸漬式ワーク収納方法及び装置 - Google Patents
浸漬式ワーク収納方法及び装置Info
- Publication number
- JPH11111836A JPH11111836A JP28598997A JP28598997A JPH11111836A JP H11111836 A JPH11111836 A JP H11111836A JP 28598997 A JP28598997 A JP 28598997A JP 28598997 A JP28598997 A JP 28598997A JP H11111836 A JPH11111836 A JP H11111836A
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- work
- arm
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- immersion
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 カセットに収容した加工済ワークを、液の抵
抗力により浮遊してカセットから飛び出すことがないよ
うに安定的且つ確実に液中に浸漬させ得るようにする。 【解決手段】 水平な取付軸1を中心に鉛直面内を回動
自在のカセットアーム2にカセット3を取り付け、上記
カセットアーム2をカセット3が横を向く第1位置Aに
回動させた状態で該カセット3内に複数の加工済ワーク
Wを横向きに収容したあと、上記カセットアーム2を下
方に90度回動させて第2位置Bに変移させることによ
り、上記カセット3及びワークWを縦向きに姿勢変更し
ながら浸漬槽4内の液5中に浸漬させる。
抗力により浮遊してカセットから飛び出すことがないよ
うに安定的且つ確実に液中に浸漬させ得るようにする。 【解決手段】 水平な取付軸1を中心に鉛直面内を回動
自在のカセットアーム2にカセット3を取り付け、上記
カセットアーム2をカセット3が横を向く第1位置Aに
回動させた状態で該カセット3内に複数の加工済ワーク
Wを横向きに収容したあと、上記カセットアーム2を下
方に90度回動させて第2位置Bに変移させることによ
り、上記カセット3及びワークWを縦向きに姿勢変更し
ながら浸漬槽4内の液5中に浸漬させる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、研磨等の加工が施
されたあとの半導体ウエハや磁気ディスク基板のような
ワークを、液中に浸漬した状態で収納するための方法及
び装置に関するものである。
されたあとの半導体ウエハや磁気ディスク基板のような
ワークを、液中に浸漬した状態で収納するための方法及
び装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】例えばラッピングマシンやポリッシング
マシン等の平面研磨装置においては、研磨が終わったワ
ークを研磨部から取り出して一旦カセットに収容し、バ
ッチ式に次工程に送るようにしているが、その間に乾燥
による研磨剤の固着や酸化、染み等が発生し易い。この
ため、それらを防止する目的で、例えば特開平5−24
3199号公報に開示されているように、ワークをカセ
ットに収容した状態で液中に浸漬させるようにしてい
る。
マシン等の平面研磨装置においては、研磨が終わったワ
ークを研磨部から取り出して一旦カセットに収容し、バ
ッチ式に次工程に送るようにしているが、その間に乾燥
による研磨剤の固着や酸化、染み等が発生し易い。この
ため、それらを防止する目的で、例えば特開平5−24
3199号公報に開示されているように、ワークをカセ
ットに収容した状態で液中に浸漬させるようにしてい
る。
【0003】ところが、従来は、カセットを横向きにし
てウエハを水平に収容した後、その姿勢のままカセット
を液中に真っ直ぐ降下させていたため、水平を向くウエ
ハの下面全面に水の抵抗力が直角に作用し、この抵抗力
によって該ウエハが浮き上がってカセット内を浮遊して
位置ずれしたり、カセットから飛び出すなどの不都合を
生じ易かった。
てウエハを水平に収容した後、その姿勢のままカセット
を液中に真っ直ぐ降下させていたため、水平を向くウエ
ハの下面全面に水の抵抗力が直角に作用し、この抵抗力
によって該ウエハが浮き上がってカセット内を浮遊して
位置ずれしたり、カセットから飛び出すなどの不都合を
生じ易かった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明の技術的課題
は、簡単な手段により、ワークに作用する液の抵抗力を
軽減して該ワークを安定的且つ確実に液中に浸漬させる
ことができるようにすることにある。
は、簡単な手段により、ワークに作用する液の抵抗力を
軽減して該ワークを安定的且つ確実に液中に浸漬させる
ことができるようにすることにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
本発明の収納方法は、水平な取付軸を中心に鉛直面内を
回動自在のカセットアームにワークを収容するためのカ
セットを取り付け、上記カセットアームをカセットが横
を向く第1位置に回動させた状態で該カセット内に複数
の加工済ワークを横向きに収容したあと、上記カセット
アームを下方に90度回動させて第2位置に変移させる
ことにより、上記カセット及びワークを縦向きに姿勢変
更しながら浸漬槽内の液中に浸漬させることを特徴とす
るものである。
本発明の収納方法は、水平な取付軸を中心に鉛直面内を
回動自在のカセットアームにワークを収容するためのカ
セットを取り付け、上記カセットアームをカセットが横
を向く第1位置に回動させた状態で該カセット内に複数
の加工済ワークを横向きに収容したあと、上記カセット
アームを下方に90度回動させて第2位置に変移させる
ことにより、上記カセット及びワークを縦向きに姿勢変
更しながら浸漬槽内の液中に浸漬させることを特徴とす
るものである。
【0006】また、本発明の収納装置は、水平な取付軸
を中心に鉛直面内を回動自在の少なくとも1つのカセッ
トアーム;上記カセットアームに取り付けられた、複数
のワークを並列状に収容するためのカセット;ワークが
収容されたカセットを液中に浸漬させるための浸漬槽;
上記カセットアームを、浸漬槽外においてカセットが横
を向く、ワークを横向きに収容するための第1位置と、
上記カセット及びワークが縦向きの姿勢で浸漬槽内の液
中に浸漬する第2位置との間を回動させる駆動手段;を
有することを特徴とするものである。
を中心に鉛直面内を回動自在の少なくとも1つのカセッ
トアーム;上記カセットアームに取り付けられた、複数
のワークを並列状に収容するためのカセット;ワークが
収容されたカセットを液中に浸漬させるための浸漬槽;
上記カセットアームを、浸漬槽外においてカセットが横
を向く、ワークを横向きに収容するための第1位置と、
上記カセット及びワークが縦向きの姿勢で浸漬槽内の液
中に浸漬する第2位置との間を回動させる駆動手段;を
有することを特徴とするものである。
【0007】本発明の具体的な実施態様によれば、上記
収納装置が、複数のカセットアームと、これらのカセッ
トアームを個別に駆動する複数の駆動手段とを有する。
上記カセットアームを第1位置に緩衝的に停止させるた
め、緩衝手段を設けることが望ましい。
収納装置が、複数のカセットアームと、これらのカセッ
トアームを個別に駆動する複数の駆動手段とを有する。
上記カセットアームを第1位置に緩衝的に停止させるた
め、緩衝手段を設けることが望ましい。
【0008】上記構成を有する本発明によれば、カセッ
トを取り付けたカセットアームを回動させてワークを液
中に浸漬させるという簡単な手段により、液による抵抗
力を軽減して該ワークの浮遊を防止し、該ワークを安定
的且つ確実に液中に浸漬させることがきる。
トを取り付けたカセットアームを回動させてワークを液
中に浸漬させるという簡単な手段により、液による抵抗
力を軽減して該ワークの浮遊を防止し、該ワークを安定
的且つ確実に液中に浸漬させることがきる。
【0009】
【発明の実施の形態】図1及び図2は本発明に係る収納
装置の一実施例を示すもので、この収納装置は、ラッピ
ングマシンやポリッシングマシンのような図示しない加
工装置に付設されている。そしてこの収納装置は、機体
に取り付けられた水平な取付軸1と、該取付軸1に基端
部を支持されて鉛直面内を回動自在のカセットアーム2
と、該カセットアーム2に着脱自在に取り付けられたワ
ーク収容用のカセット3と、該カセット3に収容された
ワークWを水等の液5中に浸漬するための浸漬槽4とを
有している。
装置の一実施例を示すもので、この収納装置は、ラッピ
ングマシンやポリッシングマシンのような図示しない加
工装置に付設されている。そしてこの収納装置は、機体
に取り付けられた水平な取付軸1と、該取付軸1に基端
部を支持されて鉛直面内を回動自在のカセットアーム2
と、該カセットアーム2に着脱自在に取り付けられたワ
ーク収容用のカセット3と、該カセット3に収容された
ワークWを水等の液5中に浸漬するための浸漬槽4とを
有している。
【0010】上記カセットアーム2は、取付軸1に回動
自在に取り付けるための取付部2bと、該取付部2bに
一端をボルト6で直角に固定された主体部2aとによっ
て構成され、全体として略L字形をしている。液5中に
浸漬する上記主体部2aは、液の抵抗を小さくするため
空隙部の多い矩形枠状に形成されており、その先端には
棚部材7を有し、この棚部材7上に上記カセット3が係
止状態に取り付けられている。
自在に取り付けるための取付部2bと、該取付部2bに
一端をボルト6で直角に固定された主体部2aとによっ
て構成され、全体として略L字形をしている。液5中に
浸漬する上記主体部2aは、液の抵抗を小さくするため
空隙部の多い矩形枠状に形成されており、その先端には
棚部材7を有し、この棚部材7上に上記カセット3が係
止状態に取り付けられている。
【0011】一方、上記取付部2bの一方の側面にはプ
ーリ9が固定され、該プーリ9と、機体に取り付けられ
たモータ10のプーリ11との間にタイミングベルト1
2が巻き掛けられ、これらのモータ10とタイミングベ
ルト12とによって上記カセットアーム2が、図1に鎖
線で示すように、ワークWを横向きに収容するための位
置である、浸漬槽4外においてカセット3を横向きにす
る第1位置Aと、同図に実線で示すように、カセット3
及びワークWを縦向きにした状態で浸漬槽4内の液5中
に浸漬させる第2位置Bとの間を、90度回動させられ
るようになっている。
ーリ9が固定され、該プーリ9と、機体に取り付けられ
たモータ10のプーリ11との間にタイミングベルト1
2が巻き掛けられ、これらのモータ10とタイミングベ
ルト12とによって上記カセットアーム2が、図1に鎖
線で示すように、ワークWを横向きに収容するための位
置である、浸漬槽4外においてカセット3を横向きにす
る第1位置Aと、同図に実線で示すように、カセット3
及びワークWを縦向きにした状態で浸漬槽4内の液5中
に浸漬させる第2位置Bとの間を、90度回動させられ
るようになっている。
【0012】上記第1位置Aは、上述したように空のカ
セット3内にワークWを収容するための位置であると同
時に、液5中から持ち上げられたワーク入りのカセット
3を次工程に送るためカセットアーム2から取り外し、
そのあとに空のカセット3をセットするための位置でも
ある。
セット3内にワークWを収容するための位置であると同
時に、液5中から持ち上げられたワーク入りのカセット
3を次工程に送るためカセットアーム2から取り外し、
そのあとに空のカセット3をセットするための位置でも
ある。
【0013】図中14は、上記第1位置Aにあるカセッ
ト3にワークWを収容するためのロボットアームの一部
を示すもので、このロボットアーム14の先端には、複
数の吸着孔15aを備えたチャックヘッド15が設けら
れ、このチャックヘッド15によりワークWを吸着して
カセット3内に順次収容するようになっている。
ト3にワークWを収容するためのロボットアームの一部
を示すもので、このロボットアーム14の先端には、複
数の吸着孔15aを備えたチャックヘッド15が設けら
れ、このチャックヘッド15によりワークWを吸着して
カセット3内に順次収容するようになっている。
【0014】図示の例では、上記カセットアーム2が複
数設けられていて、それぞれがモータ10で個別に駆動
されるようになっているが、一部又は全部のカセットア
ーム2を相互に連結して、共通のモータで駆動するよう
にしても良い。全部のカセットアーム2を1つのモータ
で駆動する場合は、各カセットアーム2を取付軸1に固
定して該取付軸1を回転自在とし、この取付軸1を上記
モータで駆動するようにすれば良い。
数設けられていて、それぞれがモータ10で個別に駆動
されるようになっているが、一部又は全部のカセットア
ーム2を相互に連結して、共通のモータで駆動するよう
にしても良い。全部のカセットアーム2を1つのモータ
で駆動する場合は、各カセットアーム2を取付軸1に固
定して該取付軸1を回転自在とし、この取付軸1を上記
モータで駆動するようにすれば良い。
【0015】また、上記カセット3は、液5の抵抗を小
さくするため空隙の多い骨組み状の構成を有しており、
その内側面の相対する位置には、板状のワークWを並列
状に収容するための複数組の支持桟17が形成されてい
る。上記浸漬槽4は、全部のカセットアーム2を浸漬さ
せ得るだけの横方向長さを有し、その上端部外周には、
オーバーフローした液5を受けて回収するための回収溝
18が形成されている。
さくするため空隙の多い骨組み状の構成を有しており、
その内側面の相対する位置には、板状のワークWを並列
状に収容するための複数組の支持桟17が形成されてい
る。上記浸漬槽4は、全部のカセットアーム2を浸漬さ
せ得るだけの横方向長さを有し、その上端部外周には、
オーバーフローした液5を受けて回収するための回収溝
18が形成されている。
【0016】上記構成を有する収納装置において、前段
の加工装置でワークが加工されているとき、カセットア
ーム2は図1に鎖線で示す上方の第1位置Aに回動し、
カセット3は浸漬槽4外において横を向いた状態で待機
している。上記ワークの加工が終了すると、各ワークW
は、ロボットアーム14により順次取り出されてカセッ
ト3内に水平に収容される。
の加工装置でワークが加工されているとき、カセットア
ーム2は図1に鎖線で示す上方の第1位置Aに回動し、
カセット3は浸漬槽4外において横を向いた状態で待機
している。上記ワークの加工が終了すると、各ワークW
は、ロボットアーム14により順次取り出されてカセッ
ト3内に水平に収容される。
【0017】決められた枚数のワークWがカセット3内
に収容されると、モータ10により上記カセットアーム
2が下方に90度回動して図1に実線で示す第2位置B
に変移し、カセット3及びワークWを縦向きの状態で浸
漬槽4内の液5中に徐々に浸漬させる。このとき該カセ
ット3及びワークWは、カセットアーム2の回動と共に
姿勢を水平から鉛直へと徐々に変えていき、図3に示す
ように液5中に浸漬していく過程では斜めを向いている
ため、液による抵抗力も各ワークWに斜めに作用するこ
とになる。この結果、従来のようにワークを水平に向け
たまま液中に浸漬させる場合に比べて上向きの抵抗力は
非常に小さくなるため、液の抵抗力によってワークWが
浮き上るおそれはない。仮に若干浮き上がったとして
も、該ワークW及びカセット3は縦向きに近い角度に傾
斜しているため、浮遊して左右に遊動したりカセット3
から飛び出したりすることはない。
に収容されると、モータ10により上記カセットアーム
2が下方に90度回動して図1に実線で示す第2位置B
に変移し、カセット3及びワークWを縦向きの状態で浸
漬槽4内の液5中に徐々に浸漬させる。このとき該カセ
ット3及びワークWは、カセットアーム2の回動と共に
姿勢を水平から鉛直へと徐々に変えていき、図3に示す
ように液5中に浸漬していく過程では斜めを向いている
ため、液による抵抗力も各ワークWに斜めに作用するこ
とになる。この結果、従来のようにワークを水平に向け
たまま液中に浸漬させる場合に比べて上向きの抵抗力は
非常に小さくなるため、液の抵抗力によってワークWが
浮き上るおそれはない。仮に若干浮き上がったとして
も、該ワークW及びカセット3は縦向きに近い角度に傾
斜しているため、浮遊して左右に遊動したりカセット3
から飛び出したりすることはない。
【0018】上記ワークWを次工程に搬送するときは、
カセットアーム2が上方に90度回動して第1位置Aに
変移することによりカセット3が液中から持ち上げら
れ、この第1位置Aで図示しない搬送手段により該カセ
ット3がカセットアーム2から取り外されて搬送され
る。そして、そのあとに空のカセットが設置されて上記
工程が繰り返される。
カセットアーム2が上方に90度回動して第1位置Aに
変移することによりカセット3が液中から持ち上げら
れ、この第1位置Aで図示しない搬送手段により該カセ
ット3がカセットアーム2から取り外されて搬送され
る。そして、そのあとに空のカセットが設置されて上記
工程が繰り返される。
【0019】なお、上記カセットアーム2が第2位置B
から第1位置Aに回動して停止するときワークWにショ
ックが伝わらないように、該カセットアーム2を回動終
端に緩衝的に停止させるための適宜の緩衝手段を設ける
ことが望ましい。この緩衝手段として図1には、カセッ
トアーム2が回動終端で当接する伸縮自在の接触子21
と、該接触子21を介して衝撃を吸収する圧縮ばね22
とを有する緩衝手段20が示されているが、このような
ものに限定されない。図示したようにカセットアーム2
を駆動する手段がモータ10である場合には、上述した
ような緩衝手段20を設ける代わりに、該モータ10を
徐々に減速することによってカセットアーム2を緩衝的
に停止させるようにしても良い。
から第1位置Aに回動して停止するときワークWにショ
ックが伝わらないように、該カセットアーム2を回動終
端に緩衝的に停止させるための適宜の緩衝手段を設ける
ことが望ましい。この緩衝手段として図1には、カセッ
トアーム2が回動終端で当接する伸縮自在の接触子21
と、該接触子21を介して衝撃を吸収する圧縮ばね22
とを有する緩衝手段20が示されているが、このような
ものに限定されない。図示したようにカセットアーム2
を駆動する手段がモータ10である場合には、上述した
ような緩衝手段20を設ける代わりに、該モータ10を
徐々に減速することによってカセットアーム2を緩衝的
に停止させるようにしても良い。
【0020】また、上記実施例ではカセットアーム2を
駆動する手段としてモータ10を使用しているが、エア
シリンダを使用することもでき。このようにエアシリン
ダを使用した場合には、上述したような緩衝手段20を
設けるのが有効である。
駆動する手段としてモータ10を使用しているが、エア
シリンダを使用することもでき。このようにエアシリン
ダを使用した場合には、上述したような緩衝手段20を
設けるのが有効である。
【0021】
【発明の効果】このように本発明によれば、カセットを
取り付けたカセットアームを回動させてワークを液中に
浸漬させるという簡単な手段により、液による抵抗力を
軽減して該ワークの浮遊を防止し、該ワークを安定的且
つ確実に液中に浸漬させることがきる。
取り付けたカセットアームを回動させてワークを液中に
浸漬させるという簡単な手段により、液による抵抗力を
軽減して該ワークの浮遊を防止し、該ワークを安定的且
つ確実に液中に浸漬させることがきる。
【図1】本発明に係る収納装置の一実施例を示す断面図
である。
である。
【図2】図1をII−II線の方向から見た場合の一部破断
正面図である。
正面図である。
【図3】図1の収納装置の動作途中の断面図である。
【符号の説明】 W ワーク 1 取付軸 2 カセットアーム 3 カセット 4 浸漬槽 5 液 10 モータ A 第1位置 B 第2位置
Claims (4)
- 【請求項1】水平な取付軸を中心に鉛直面内を回動自在
のカセットアームに、ワークを収容するためのカセット
を取り付け、上記カセットアームをカセットが横を向く
第1位置に回動させた状態で該カセット内に複数の加工
済ワークを横向きに収容したあと、上記カセットアーム
を下方に90度回動させて第2位置に変移させることに
より、上記カセット及びワークを縦向きに姿勢変更しな
がら浸漬槽内の液中に浸漬させることを特徴とする浸漬
式ワーク収納方法。 - 【請求項2】水平な取付軸を中心にして鉛直面内を回動
自在の少なくとも1つのカセットアーム;上記カセット
アームに取り付けられた、複数のワークを並列状に収容
するためのカセット;ワークが収容されたカセットを液
中に浸漬させるための浸漬槽;上記カセットアームを、
浸漬槽外においてカセットが横を向く、ワークを横向き
に収容するための第1位置と、上記カセット及びワーク
が縦向きの姿勢で浸漬槽内の液中に浸漬する第2位置と
の間を回動させる駆動手段;を有することを特徴とする
浸漬式ワーク収納装置。 - 【請求項3】請求項2に記載の収納装置において、複数
のカセットアームと、これらのカセットアームを個別に
駆動する複数の駆動手段とを有することを特徴とするも
の。 - 【請求項4】請求項2又は3に記載の収納装置におい
て、上記カセットアームを第1位置に緩衝的に停止させ
るための緩衝手段を有することを特徴とするもの。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28598997A JPH11111836A (ja) | 1997-10-02 | 1997-10-02 | 浸漬式ワーク収納方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28598997A JPH11111836A (ja) | 1997-10-02 | 1997-10-02 | 浸漬式ワーク収納方法及び装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11111836A true JPH11111836A (ja) | 1999-04-23 |
Family
ID=17698580
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP28598997A Pending JPH11111836A (ja) | 1997-10-02 | 1997-10-02 | 浸漬式ワーク収納方法及び装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH11111836A (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009283869A (ja) * | 2008-05-26 | 2009-12-03 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | ウェーハ収納装置、ウェーハ収納方法、及びウェーハ研磨装置 |
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CN107346753A (zh) * | 2016-05-06 | 2017-11-14 | 亿力鑫系统科技股份有限公司 | 浸泡设备 |
JP2019071425A (ja) * | 2018-11-29 | 2019-05-09 | ピコサン オーワイPicosun Oy | Ald反応炉における基板の装填 |
-
1997
- 1997-10-02 JP JP28598997A patent/JPH11111836A/ja active Pending
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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