JPS6362599B2 - - Google Patents

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Publication number
JPS6362599B2
JPS6362599B2 JP3511385A JP3511385A JPS6362599B2 JP S6362599 B2 JPS6362599 B2 JP S6362599B2 JP 3511385 A JP3511385 A JP 3511385A JP 3511385 A JP3511385 A JP 3511385A JP S6362599 B2 JPS6362599 B2 JP S6362599B2
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JP
Japan
Prior art keywords
liquid tank
line
barrel
processing
processing liquid
Prior art date
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Expired
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JP3511385A
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English (en)
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JPS61194198A (ja
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Publication date
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  • Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は鍍金等の表面処理設備に於て、処理工
程が並列する場合、この並列する工程間の移動を
円滑に行なわしめるようになした表面処理に於け
る被処理物の移送装置に関するものである。
〔従来の技術とその問題点〕
各種物品を鍍金、その他の表面処理をする場
合、これらの被処理物をバレル内に所要量投入
し、脱脂・水洗・酸洗の前処理工程と鍍金工程と
中和・水洗等の後処理工程を順次移送して所望の
処理を行なつている。しかし処理工場の建屋の制
限から、あるいは処理工程や種別によつて各工程
を一連に配設することは困難なときがある。かか
る場合、各工程を2又は3列以上に並行して配設
し、この工程間をトラバーサにて移行させるよう
にしている。しかしこのトラバーサによる移行
時、被処理物を投入したバレルを一旦液中より引
き揚げて行なうのが一般的で、処理に於ては被処
理物を液中に浸した状態であるいは液に浸す必要
はないが液とともに移送することが望まれる場合
がある。
〔問題点の解決手段〕
本発明はこれに鑑みて表面処理設備に於て、並
列される各処理工程間にトラバーサを介して被処
理物を移送するようになすと共に被処理物を液中
に浸した状態で工程間を移送することが望まれる
位置にあるいは液中に浸されなくとも液とともに
移送することが望まれる工程間の位置に、この各
工程間を移動するようして処理液槽を配設すると
共にこの処理液槽の下部に工程間を移動する車輪
及び駆動装置を備え、かつ該槽にバレルを載架せ
しめる手段を備えてなることを特徴とし、これに
より被処理物の移動を並設される工程間に於ても
円滑に、しかも簡単な構造で行なえるようにす
る。
〔実施例〕
以下本発明を図面に示した実施例にもとづいて
説明する。
第1図は本発明の概略を説明する平面図、第2
図は要部の正面図、第3図はその側面図である。
第1図の実施例では前処理工程Aと第1の鍍金
工程B1とを一列に配置し、この前処理鍍金ライ
ンと第2の鍍金工程B1、後処理工程Cとを一
列に配置した鍍金後処理ラインと脱水乾燥工程
Dの脱水乾燥ラインとを並列配置し、このライ
ンとの端部間にはトラバーサ、E1,E2を配
設し、かつラインととの間には本発明の移動
式処理液槽装置が配設されるものである。そして
この処理ラインに於てラインの始端側投入位置
Iaでバレル内に被処理物を所要量投入し、このバ
レルを移送手段(図示省略したがキヤリヤ等)に
てラインの前処理工程A、第1の鍍金工程B1
(例えば銅鍍金)を経るようにする。そしてライ
ンの終端に達した時トラバーサE1にてライン
へ移送され、このラインにて第2の鍍金工程
B2(例えばニツケル鍍金)、後処理工程Cを経て、
移動式処理液槽装置Fへ移して次の脱水乾燥ライ
ンへ移動せしめる。そして処理完了後空になつ
たバレルはトラバーサE2を介してラインへ返
送されるものである。
この移動式処理液槽装置Fは処理液槽を備えた
トラバーサでその構成は第2図、第3図に示すも
のである。次に第2図、第3図について説明す
る。
図に於て1は架台で、処理液槽2が一体に設け
られこの槽2の上部は開口されて、内部に所要量
の水、洗浄液、その他処理液が充填される。そし
てこの架台1の上部にはラインを終了したバレ
ルBを載架するが、この時バレルは槽内の液面位
置あるいはそれより少し上方位置にバレルシリン
ダがあつて液中に没しないようにすると共にこの
バレルは必要によつて回転させるよう架台にはバ
レル回転装置3が設けられる。また架台上部には
レール4が配設され、このレールにそつて移動可
能なようにしてしかもバレル開口面が下向となつ
たとき、このバレル内に向つて噴射するノズルN
を設けたホツパー5が設けられる。このホツパー
5は架台上に載架されたバレルのシリンダが少な
くとも挿入されるようにして槽2内に配設される
と共に前記レールに駆動装置6にて移動可能なよ
うに吊垂されている。また槽2の内底部にはバス
ケツト7を支持するバスケツト受台11が配設さ
れるが、このバスケツト受台は固定式あるいは昇
降式いずれでもよく、この受台11上に載置され
たバスケツト7の上方を前記ホツパーが横行でき
るようになす。バスケツト7はキヤリヤ(図示省
略)にて吊り上げられ、次のラインへ移送され
るものである。
また架台1の下部には車輪8が設けられ、ライ
ンとの端部間に敷設されたレール9上を転動
して移動可能とし、この移動は架台に設けた走行
駆動装置10にて車輪8を駆動せしめて行なうも
のである。
従つてラインを終了したバレルがキヤリヤ等
にて移動式処理液槽装置の架台に載架されると、
このバレルシリンダを回転させ、その開口面を下
向きにして停止させ、この状態でノズルNより水
又は液を噴射することによりバレルシリンダ内壁
面に附着していた被処理物はすべて完全に排出さ
れると共にバレル内の洗浄も同時に行なわれる。
このバレルが架台に載架されると上述の被処理物
の排出動作と同調してあるいは単独で、この架台
に設けた走行駆動装置10が駆動され、移動式処
理液槽装置Fはレール9上を走行し、ラインよ
りラインへ移動し、ラインの定位置で停止す
る。この装置Fの走行と同時あるいはその後に於
て、しかも被処理物が完全に排出された後、バレ
ルはキヤリヤ等にてラインのトラバーサE2
移され、さらにラインへ戻る。そしてホツパー
5が横行し、バスケツトがキヤリヤ等にて吊り上
げられラインへ移動されるとこの装置Fは走行
駆動装置にてラインよりラインへ走行して元
の位置に戻され一工程を終了するものである。
〔発明の効果〕
而して本発明による時は並列された処理ライン
間に処理液槽を備えた架台を移動自在に設けてい
るため、従来両ライン間を結ぶ大きな槽を必要と
していたが、小さな槽でよく、しかも駆動部分が
すべて液槽外に設けられるため、液中を駆動する
方式に比べ駆動部分の部品が特殊な材質を用いる
ことなくしかもその寿命を長くすることが可能と
なり、製作費並びにランニングコストを低減で
き、しかも液槽とともに移送する箇所に於て使用
するのに適し、処理効率を向上せしめられる利点
を有する。
【図面の簡単な説明】
第1図は概略を示す一実施例の平面図、第2図
は正面図、第3図は側面図である。 Aは前処理工程、B1,B2は鍍金工程、Cは後
処理工程、Dは脱水乾燥工程、E1,E2はトラバ
ーサ、Fは移動式洗浄液槽装置、,,は処
理ライン、1は架台、2は処理液槽、3はバレル
回転装置、4はレール、5はホツパー、6は駆動
装置、7はバスケツト、8は車輪、9はレール、
10は走行駆動装置、11はバスケツト受台、B
はバレル、Nはノズル。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 並列して各処理ラインが配置される表面処理
    設備に於て、ラインの端部間に敷設したレール上
    を走行自在にした処理液槽を備えた移動式処理液
    槽装置を配設すると共に該処理液槽装置を処理液
    槽を備えた架台と、この架台をライン間のレール
    上を往復走行せしめる車輪及び走行駆動装置と、
    上部に載架されたバレル内の被処理物を受ける横
    行自在なホツパーと、このホツパー下部でバスケ
    ツトを支持するバスケツト受けとを備えライン間
    の被処理物の移送を液槽とともに行なえるように
    なしたことを特徴とする表面処理に於ける被処理
    物の移送装置。
JP3511385A 1985-02-23 1985-02-23 表面処理に於ける被処理物の移送装置 Granted JPS61194198A (ja)

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JP3511385A JPS61194198A (ja) 1985-02-23 1985-02-23 表面処理に於ける被処理物の移送装置

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JPS61194198A JPS61194198A (ja) 1986-08-28
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5038024B2 (ja) * 2007-06-06 2012-10-03 上村工業株式会社 ワークの表面処理システム
JP5121481B2 (ja) * 2008-02-01 2013-01-16 上村工業株式会社 表面処理装置
JP5462907B2 (ja) * 2012-05-17 2014-04-02 上村工業株式会社 水洗装置
JP5512742B2 (ja) * 2012-05-17 2014-06-04 上村工業株式会社 ワーク回収装置
JP5579805B2 (ja) * 2012-08-31 2014-08-27 上村工業株式会社 ワーク回収機
JP5651658B2 (ja) * 2012-08-31 2015-01-14 上村工業株式会社 乾燥機
JP2012229495A (ja) * 2012-08-31 2012-11-22 C Uyemura & Co Ltd 供給機
JP5651657B2 (ja) * 2012-08-31 2015-01-14 上村工業株式会社 表面処理機

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JPS61194198A (ja) 1986-08-28

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