JP5462907B2 - 水洗装置 - Google Patents
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Description
(1)全体構成
図1は本発明の第1実施形態の水洗装置を備えたワークの表面処理システムを示す斜視図である。このシステム1は、搬送装置2と、搬入搬出装置3と、表面処理装置4と、ワーク回収装置5と、剥離装置6と、本発明の水洗装置7と、を備えている。ワークは、例えばチップコンデンサーである。表面処理は、例えばニッケルめっき処理である。
図3は搬入搬出装置3を示す斜視図である。搬入搬出装置3は、搬送装置2の一端に設けられた受取部32と、受取部32へ連結可能な搬送カート31と、を備えている。受取部32は、立設された支持柱33と、支持柱33に沿って上下動可能な載置部34と、搬送カート31を支持柱33近傍の所定位置へガイドするガイド部35と、を備えている。
図5は搬送装置2の斜視部分図である。搬送装置2は、作動部21及びレール部22を備えている。レール部22は、水平な下レール221と、水平な上レール222とを、有している。
図10は作動前の表面処理装置4の縦断面図である。表面処理装置4は、処理容器9を図11に示されように載せるための水平な受板411と、受板411を水平面内で回転させる回転駆動機構42と、受板411の下方に位置し、表面処理液及び洗浄水を受ける、受槽412と、受板411上の処理容器9を上方から覆うためのカバー体413と、カバー体413を図11に示されるように処理容器9に対して開閉させる開閉機構43と、受板411上の処理容器9に対して表面処理液と洗浄水とを別々に供給する供給機構44と、受槽412に連通したドレイン機構45と、を備えている。
(a)底板94、電極リング91、又はカバー95に、処理容器9の内から外へ通じる溝を形成する。この溝が上記間隙通路となる。溝の深さは、ワークの径よりも浅く設定する。この構成によれば、処理容器9を分解して洗浄することができ、したがって、処理容器9のメンテナンスを簡素化できる。
(b)電極リング91と底板94との間に、又は、電極リング91とカバー95との間に、多孔質材料でできたリングを挟む。リングの多数の孔が、上記間隙通路となる。この構成によれば、間隙通路の大きさが10μm程度であっても、表面処理液が流出するので、より小さなワークを扱うことができる。これに対して、上述したシート部材91を挟む場合、及び、上記構成(a)の場合には、間隙通路の大きさが30μm以下であると、表面処理液の流出が少なく、流出機構として機能しない。
図16はワーク回収装置5の斜視図、図17は図16のXVII矢視図、図18は図16のXVIII矢視図である。ワーク回収装置5は、処理容器9が載せられる水平な受板51と、ホッパ52と、受板51上の処理容器9とホッパ52とを共に上下反転させる反転機構53と、ワークを回収するための回収槽54と、を備えている。なお、受板51には、処理容器9の凸部902が嵌合する凹部が形成されているので、処理容器9を受板51の中心に置くことができる。したがって、搬送装置2に対する処理容器9の位置を高精度で決めることができ、それ故、搬送装置2によって処理容器9を確実に把持できる。
剥離装置6は、一部のみが表面処理装置4と異なるだけである。すなわち、剥離装置6は、表面処理液供給管443の代わりに剥離液供給管443を備えている。
図19は水洗装置7の斜視図、図20は図19のXX矢視図である。水洗装置7は、処理容器9が載せられる水平な受板71と、受板71上に処理容器9を固定する固定機構72と、受板71と共に処理容器9を反転させる反転機構73と、ホッパ74と、を備えている。なお、受板71には、処理容器9の凸部902が嵌合する凹部が形成されているので、処理容器9を受板71の中心に置くことができる。したがって、搬送装置2に対する処理容器9の位置を高精度で決めることができ、それ故、搬送装置2によって処理容器9を確実に把持できる。
まず、搬送カート31の4本の支持片313上に処理容器9を載せる。次に、処理容器9にワークを入れる。そして、搬送カート31を、移動させて、受取部32へ連結させる。その後、システムの作動開始ボタンを押す。これにより、まず、受取部32が作動する。
受取部32が作動すると、載置部34が、搬送カート31に載せられている処理容器9を下方から支持して、図4において矢印Cで示されるように、上昇する。このとき、処理容器9は、凸部902が垂直アーム342の上端の凹部に嵌合するので、垂直アーム342の中央に案内される。そして、載置部34は、搬送装置2の保持部29の高さ位置で停止する。
次に、搬送装置2が作動を開始する。まず、保持部29が載置部34上の処理容器9を把持する。そして、作動部21が、図2の経路[1-1]に示されるように、レール部22に沿って横方向に移動する。
次に、作動部21の把持部26が、図2の経路[1-2]に示されるように、下降して、表面処理装置4の受板411に処理容器9を載せた後、処理容器9より低い位置まで下降して停止する。その停止位置は、把持部26の把持具293、294が水平移動する際に、ガイド板2932、2933、2942、2943が処理容器9に衝突しない高さ位置である。その後、作動部21は、図2の経路[1-3]に示されるように、レール部22に沿って横方向に少しだけ移動し、これにより、把持部26が待機位置となる。
(C-1)カバー体閉工程
把持部26が待機位置となると、表面処理装置4が作動を開始する。まず、開閉機構43が作動して、カバー体413が閉じる。すなわち、カバー体413が受板411上の処理容器9を覆う。
次に、ドレイン機構45が作動して、ホース452の先端部4521が、分別槽453の、洗浄水を回収する部屋4534上に、位置する。
次に、供給機構44において、垂直柱441が水平に移動した後、アーム442が下降して、ヘッド部445が、受板411上の処理容器9の開口951中に位置する。
次に、供給機構44の洗浄水供給管444から処理容器9内に洗浄水が投入されるとともに、回転駆動機構42が作動して、処理容器9が回転する。これにより、処理容器9内が洗浄される。一定時間後、洗浄水の供給は停止されるが、処理容器9は回転を続ける。これにより、脱水処理が行われる。
次に、カバー体413の洗浄機構47が作動する。これにより、カバー体413の内面及び処理容器9のカバー95の外面が、洗浄される。一定時間後、洗浄機構47は停止し、処理容器9の回転も停止する。
次に、ドレイン機構45が作動して、ホース452の先端部4521が、分別槽453の、表面処理液を回収する部屋4533上に、位置する。
次に、供給機構44の表面処理液供給管443から処理容器9内に表面処理液が投入されるとともに、回転駆動機構42が作動して、処理容器9が回転する。また、カバー体413の吸気機構48が作動して、吸気口482から吸気が行われる。このとき、表面処理液の成分を含んだミストが吸気口482から吸引されるので、表面処理装置4の周辺の空気が汚染されるのを防止できる。また、表面処理が電解処理である場合には、処理容器9の電極リング91への通電が行われる。そして、一定時間後、表面処理液の投入が停止され、更に、一定時間後、処理容器9の回転が停止される。これにより、脱液処理が行われる。
次に、ドレイン機構45が作動して、ホース452の先端部4521が、分別槽453の、洗浄水を回収する部屋4534上に、位置する。
次に、供給機構44の洗浄水供給管444から処理容器9内に洗浄水が投入されるとともに、回転駆動機構42が作動して、処理容器9が回転する。これにより、処理容器9内が洗浄される。一定時間後、洗浄水の供給は停止されるが、処理容器9は回転を続ける。これにより、脱水処理が行われる。
次に、カバー体413の洗浄機構47が作動する。これにより、カバー体413の内面及び処理容器9のカバー95の外面が、洗浄される。一定時間後、洗浄機構47は停止し、処理容器9の回転も停止する。
そして、吸気機構48も停止する。
そして、開閉機構43が作動して、カバー体413が開く。
次に、搬送装置2が作動する。まず、作動部21が、図2の経路[2-1]に示されるように、レール部22に沿って横方向に少しだけ移動する。すなわち、把持部26が、待機位置から受板411上の処理容器9の位置まで移動する。そして、把持部26が処理容器9を保持する。
次に、作動部21の把持部26が、図2の経路[2-2]に示されるように、上昇する。次に、作動部21が、図2の経路[2-3]に示されるように、レール部22に沿って横方向に移動し、ワーク回収装置5の位置で停止する。
次に、作動部21の把持部26が、図2の経路[2-4]に示されるように、下降して、ワーク回収装置5の受板51に処理容器9を載せた後、処理容器9より低い位置まで下降して停止する。その停止位置は、把持部26の把持具293、294が水平移動する際に、ガイド板2932、2933、2942、2943が処理容器9に衝突しない高さ位置である。このとき、処理容器9は、凸部902が受板51の凹部に嵌合するので、受板51の中央に案内される。その後、作動部21は、図2の経路[2-5]に示されるように、レール部22に沿って横方向に少しだけ移動し、これにより、把持部26が待機位置となる。
受板51上に処理容器9が載せられたこと、及び、バスケット56が所定の回収位置にあることが、センサー(図示せず)によって検知されると、回動機構55が作動して、ホッパ52が処理容器9に装着されるとともに、チャイムが鳴る。
次に、反転機構53が作動して、処理容器9及びホッパ52が反転される。
次に、スプリンクラー525から水が噴出され、その直後に、シリンダ機構57が作動して、蓋524が開かれる。このとき、水はスプリンクラー525から噴出されるので、処理容器9の内面全体に水を吹きかけることができ、したがって、処理容器9内のワークを確実に流れ落とすことができる。これにより、処理容器9内のワークが、水と共に処理容器9から流出し、ホッパ52の排出口523から排出される。排出されたワークは、バスケット56に貯まる。
一定時間後、スプリンクラー525が停止し、その後、シリンダ機構57が作動して、蓋524が閉じられる。
次に、反転機構53が作動して、処理容器9及びホッパ52が再び反転されて、元の状態に戻る。そして、回動機構55が作動して、ホッパ52が非装着状態となるとともに、チャイムが鳴る。
なお、ワークは、バスケット56をカート561によって手前に移動させて、バスケット56を取り出して、回収する。
次に、搬送装置2が作動する。まず、作動部21が、図2の経路[3-1]に示されるように、レール部22に沿って横方向に少しだけ移動する。すなわち、把持部26が、待機位置から受板51上の処理容器9の位置まで移動する。そして、把持部26が処理容器9を保持する。
次に、作動部21の把持部26が、図2の経路[3-2]に示されるように、上昇する。次に、作動部21が、図2の経路[3-3]に示されるように、レール部22に沿って横方向に移動し、剥離装置6の位置で停止する。
次に、作動部21の把持部26が、図2の経路[3-4]に示されるように、下降して、剥離装置6の受板411に処理容器9を載せた後、処理容器9より低い位置まで下降して停止する。その停止位置は、把持部26の把持具293、294が水平移動する際に、ガイド板2932、2933、2942、2943が処理容器9に衝突しない高さ位置である。その後、作動部21は、図2の経路[3-5]に示されるように、レール部22に沿って横方向に少しだけ移動し、これにより、把持部26が待機位置となる。
(G-1)カバー体閉工程
把持部26が待機位置となると、剥離装置6が作動を開始する。まず、開閉機構43が作動して、カバー体413が閉じる。すなわち、カバー体413が受板411上の処理容器9を覆う。
次に、ドレイン機構45が作動して、ホース452の先端部4521が、分別槽453の、剥離液を回収する部屋(図示せず)上に位置する。
次に、供給機構44において、垂直柱441が水平に移動した後、アーム442が下降して、ヘッド部445が、受板411上の処理容器9の開口951中に位置する。
次に、供給機構44の剥離液供給管443から処理容器9内に剥離液が投入されるとともに、回転駆動機構42が作動して、処理容器9が回転する。また、カバー体413の吸気機構48が作動して、吸気口482から吸気が行われる。これにより、処理容器9の内面への付着物(例えばめっき被膜)が剥離される。一定時間後、剥離液の供給は停止されるが、処理容器9は回転を続ける。これにより、脱液処理が行われる。そして、処理容器9の回転が停止する。
次に、ドレイン機構45が作動して、ホース452の先端部4521が、分別槽453の、洗浄水を回収する部屋4534上に、位置する。
次に、供給機構44の洗浄水供給管444から処理容器9内に洗浄水が投入されるとともに、回転駆動機構42が作動して、処理容器9が回転する。これにより、処理容器9内が洗浄される。一定時間後、洗浄水の供給は停止されるが、処理容器9は回転を続ける。これにより、脱水処理が行われる。
次に、カバー体413の洗浄機構47が作動する。これにより、カバー体413の内面及び処理容器9のカバー95の外面が、洗浄される。一定時間後、洗浄機構47は停止し、処理容器9の回転も停止する。
そして、吸気機構48も停止する。
そして、開閉機構43が作動して、カバー体413が開く。
次に、搬送装置2が作動する。まず、作動部21が、図2の経路[4-1]に示されるように、レール部22に沿って横方向に少しだけ移動する。すなわち、把持部26が、待機位置から受板411上の処理容器9の位置まで移動する。そして、把持部26が処理容器9を保持する。
次に、作動部21の把持部26が、図2の経路[4-2]に示されるように、上昇する。次に、作動部21が、図2の経路[4-3]に示されるように、レール部22に沿って横方向に移動し、水洗装置7の位置で停止する。
次に、作動部21の把持部26が、図2の経路[4-4]に示されるように、下降して、水洗装置7の受板71に処理容器9を載せた後、処理容器9より低い位置まで下降して停止する。その停止位置は、把持部26の把持具293、294が水平移動する際に、ガイド板2932、2933、2942、2943が処理容器9に衝突しない高さ位置である。このとき、処理容器9は、凸部902が受板71の凹部に嵌合するので、受板71の中央に案内される。その後、作動部21は、図2の経路[4-5]に示されるように、レール部22に沿って横方向に少しだけ移動し、これにより、把持部26が待機位置となる。
把持部26が待機位置となると、水洗装置7が作動を開始する。まず、固定機構72が作動して、受板71上に処理容器9が固定される。
次に、反転機構73が作動して、受板71と共に処理容器9が反転される。
次に、昇降機構75が作動して、ホッパ74が処理容器9の直近まで上昇する。
次に、スプリンクラー742から水が噴出される。これにより、処理容器9の内面全体に水が吹きかけられ、処理容器9内に残留している剥離液や付着物の全てが、確実に、処理容器9から流出して、ホッパ74を通って受槽76へ回収される。
一定時間後、スプリンクラー742が停止する。
次に、昇降機構75が作動して、ホッパ74が下降する。
次に、反転機構73が作動して、受板71と共に処理容器9が再び反転されて、元の状態に戻る。
そして、固定機構72が作動して、処理容器9の固定が解除される。
次に、搬送装置2が作動する。まず、作動部21が、図2の経路[5-1]に示されるように、レール部22に沿って横方向に少しだけ移動する。すなわち、把持部26が、待機位置から受板71上の処理容器9の位置まで移動する。そして、把持部26が処理容器9を保持する。
次に、作動部21の把持部26が、図2の経路[5-2]に示されるように、上昇する。次に、作動部21が、図2の経路[5-3]に示されるように、レール部22に沿って横方向に移動し、受取部32の位置で停止する。
そして、受取部32が作動する。まず、載置部34が、搬送装置2の保持部29の処理容器9を下方から支持するよう、上昇する。
次に、搬送装置2の作動部21が少しだけ横方向に移動して、保持部29が載置部34から退避する。
次に、載置部34が、処理容器9を載せたまま下降していく。この途中、処理容器9は、搬送カート31の4本の支持片313上に載る。
そして、搬送カート31を、受取部32から移動させて、処理容器9を搬送カート31から取り外し、新たな処理容器9を搬送カート31に載せる。
そして、上述したのと同様の作動を行う。
上記構成のシステム1は、次のような変形構成を採用してもよい。
(1)図21では、上記構成のシステム1において、剥離装置6及び水洗装置7を省略している。図22は、その場合における処理容器9の搬送経路を示している。このシステムによっても、表面処理されたワークを得ることができる。
Claims (1)
- 処理容器を載せる受板と、
受板に処理容器を固定する固定機構と、
受板及び処理容器を共に上下反転させる反転機構と、
上下反転された処理容器を下方から覆うホッパと、を備えており、
上下反転された処理容器内に、噴出部から水を吹きかけて、処理容器内を水洗するよう、構成されていることを特徴とする水洗装置。
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